JP2002143850A - Device for treating waste water - Google Patents
Device for treating waste waterInfo
- Publication number
- JP2002143850A JP2002143850A JP2000348338A JP2000348338A JP2002143850A JP 2002143850 A JP2002143850 A JP 2002143850A JP 2000348338 A JP2000348338 A JP 2000348338A JP 2000348338 A JP2000348338 A JP 2000348338A JP 2002143850 A JP2002143850 A JP 2002143850A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wastewater
- water
- treated
- reverse osmosis
- osmosis membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、排水処理装置、と
りわけ液晶、半導体工業等の電子工業や、一般の製造業
におけるフッ素、アンモニアを含む排水の処理装置に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wastewater treatment apparatus, and more particularly to a treatment apparatus for wastewater containing fluorine and ammonia in the electronics industry such as the liquid crystal and semiconductor industries and the general manufacturing industry.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、工場の排水は、その性状により
次の処理を実施し、放流基準を満たす水質にして放流さ
れる。2. Description of the Related Art Generally, wastewater from factories is subjected to the following treatment depending on its properties, and is discharged to a water quality satisfying a discharge standard.
【０００３】無機排水の場合：ｐＨ調整→放流。または
凝集沈殿→ｐＨ調整→放流。In the case of inorganic wastewater: pH adjustment → discharge. Or coagulation sedimentation → pH adjustment → discharge.
【０００４】有機排水の場合：（油分分離）→生物処理
→濾過→放流。[0004] In the case of organic wastewater: (oil separation) → biological treatment → filtration → discharge.
【０００５】無機・有機排水の場合：凝集沈殿→ｐＨ調
整→生物処理→濾過→放流。[0005] In the case of inorganic / organic wastewater: coagulation sedimentation → pH adjustment → biological treatment → filtration → discharge.
【０００６】従来、液晶、半導体工業等の電子工業にお
けるフッ素、アンモニアを含有する排水は、上記の処理
により放流基準以下として放流していた。Conventionally, wastewater containing fluorine and ammonia in the electronics industry such as the liquid crystal and semiconductor industries has been discharged below the discharge standard by the above treatment.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】近年、環境問題への関
心の高まりから、工場からの産業廃棄物排出ゼロ（ゼロ
ミッション）化が求められている。工場で使用する水に
対してもこの考え方が適用されつつあり、工場全体での
水の効率的な使用が検討されつつある。In recent years, interest in environmental problems has increased, and there has been a demand for zero industrial waste emissions (zero mission) from factories. This concept is being applied to water used in factories, and efficient use of water throughout the factory is being studied.
【０００８】しかしながら、従来の技術では、フッ素、
アンモニアを高濃度に含む排水は、凝集沈殿処理し、放
流するのが一般的で、水を回収し、再利用することは実
施されていなかった。However, in the prior art, fluorine,
Generally, wastewater containing a high concentration of ammonia is subjected to coagulation sedimentation treatment and discharged, and water has not been recovered and reused.
【０００９】本発明は、上記のような実状に鑑み、産業
廃棄物を極力発生させず、フッ素、アンモニアおよび場
合によっては有機物を含有する排水を処理して、一次純
水として回収し、工場全体での水の効率的な使用が可能
である、排水処理装置を提供することを目的とするもの
である。In view of the above situation, the present invention treats wastewater containing fluorine, ammonia and, in some cases, organic matter, and collects it as primary pure water without generating industrial waste as much as possible. It is an object of the present invention to provide a wastewater treatment apparatus capable of efficiently using water in a wastewater treatment system.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の請求項１記載の排水処理装置は、フッ酸
（ＨＦ）を含む排水に、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）
を添加してフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とした後、逆浸
透膜（ＲＯ）装置で処理することを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a wastewater treatment apparatus comprising the steps of: adding sodium hydroxide (NaOH) to wastewater containing hydrofluoric acid (HF);
Is added to obtain sodium fluoride (NaF), and then treated with a reverse osmosis membrane (RO) device.
【００１１】本発明の請求項２記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）を含む排水に水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）を添加してフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とした後、
蒸発法造水装置で処理することを特徴としている。[0011] The wastewater treatment apparatus according to claim 2 of the present invention is characterized in that:
Sodium hydroxide (NaO) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF)
H) to give sodium fluoride (NaF),
It is characterized in that it is treated by an evaporative desalination apparatus.
【００１２】本発明の請求項３記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）を含む排水に水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）を添加してフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とした後、
蒸発法造水装置で処理し、さらに逆浸透膜（ＲＯ）装置
で処理し、一次純水として回収することを特徴としてい
る。[0012] The wastewater treatment apparatus according to claim 3 of the present invention is characterized in that:
Sodium hydroxide (NaO) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF)
H) to give sodium fluoride (NaF),
It is characterized in that it is treated with an evaporative fresh water generator, further treated with a reverse osmosis membrane (RO) device, and recovered as primary pure water.
【００１３】本発明の請求項４記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）を含む排水に水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）を添加してフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とした後、
逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、さらに蒸発法造水装置
で処理し、一次純水として回収することを特徴としてい
る。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a wastewater treatment apparatus,
Sodium hydroxide (NaO) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF)
H) to give sodium fluoride (NaF),
It is characterized in that it is processed by a reverse osmosis membrane (RO) device, further processed by an evaporative fresh water generator, and recovered as primary pure water.
【００１４】本発明の請求項５記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）とアンモニアを含む排水に、水酸化ナト
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理することを特徴とし
ている。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a wastewater treatment apparatus.
Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia to add sodium fluoride (Na
F), the wastewater is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, and then treated with a reverse osmosis membrane (RO) device.
【００１５】本発明の請求項６記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）とアンモニアを含む排水に、水酸化ナト
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、蒸発法造水装置で処理することを特徴としてい
る。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a wastewater treatment apparatus.
Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia to add sodium fluoride (Na
In addition to F), the wastewater is adjusted to an acidic pH of 4 to 5 and then treated by an evaporative freshener.
【００１６】本発明の請求項７記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）とアンモニアを含む排水に、水酸化ナト
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、蒸発法造水装置で処理し、さらに逆浸透膜（Ｒ
Ｏ）装置で処理し、一次純水として回収することを特徴
としている。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a wastewater treatment apparatus.
Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia to add sodium fluoride (Na
F) and the wastewater was adjusted to an acidic pH of 4 to 5 and then treated with an evaporative desalination apparatus.
O) It is characterized in that it is treated by an apparatus and recovered as primary pure water.
【００１７】本発明の請求項８記載の排水処理装置は、
フッ酸（ＨＦ）とアンモニアを含む排水に、水酸化ナト
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、さらに蒸発法造
水装置で処理し、一次純水として回収することを特徴と
している。The wastewater treatment apparatus according to claim 8 of the present invention comprises:
Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia to add sodium fluoride (Na
F), the wastewater is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, then treated with a reverse osmosis membrane (RO) device, further treated with an evaporative desalination device, and recovered as primary pure water. .
【００１８】本発明の請求項９記載の排水処理装置は、
アンモニアを含む排水をｐＨ４〜５の酸性に調整した
後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理することを特徴として
いる。[0018] The wastewater treatment apparatus according to claim 9 of the present invention comprises:
The method is characterized in that wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5 and then treated with a reverse osmosis membrane (RO) device.
【００１９】本発明の請求項１０記載の排水処理装置
は、アンモニアを含む排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、蒸発法造水装置で処理することを特徴としてい
る。The wastewater treatment apparatus according to a tenth aspect of the present invention is characterized in that the wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, and then treated by an evaporative desalination apparatus.
【００２０】本発明の請求項１１記載の排水処理装置
は、アンモニアを含む排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、蒸発法造水装置で処理し、さらに逆浸透膜（Ｒ
Ｏ）装置で処理し、一次純水として回収することを特徴
としている。In the wastewater treatment apparatus according to the eleventh aspect of the present invention, after adjusting the wastewater containing ammonia to an acidic pH of 4 to 5, the wastewater is treated by an evaporative desalination apparatus and further treated with a reverse osmosis membrane (R).
O) It is characterized in that it is treated by an apparatus and recovered as primary pure water.
【００２１】本発明の請求項１２記載の排水処理装置
は、アンモニアを含む排水をｐＨ４〜５の酸性に調整し
た後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、さらに蒸発法造
水装置で処理し、一次純水として回収することを特徴と
している。In the wastewater treatment apparatus according to the twelfth aspect of the present invention, the wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, then treated by a reverse osmosis membrane (RO) apparatus, and further treated by an evaporative desalination apparatus. And recovered as primary pure water.
【００２２】上記本発明の請求項１〜１２のうちのいず
れか１項記載の排水処理装置において、排水に、さらに
有機物が含まれている場合に、先に排水を砂濾過装置に
供給した後、活性炭濾過装置に供給し、排水中の有機物
を除去する。In the wastewater treatment apparatus according to any one of claims 1 to 12 of the present invention, when the wastewater further contains an organic substance, the wastewater is first supplied to a sand filtration device. To remove the organic matter from the wastewater.
【００２３】また、上記本発明の請求項１〜１２のうち
のいずれか１項記載の排水処理装置において、排水に、
さらにカルシウム（Ｃａ）分が含まれている場合に、排
水を軟水装置に通してカルシウム分を除去する。Further, in the wastewater treatment apparatus according to any one of claims 1 to 12 of the present invention,
If calcium (Ca) is further contained, the wastewater is passed through a water softener to remove the calcium.
【００２４】さらに、上記本発明の請求項１〜１２のう
ちのいずれか１項記載の排水処理装置において、逆浸透
膜（ＲＯ）装置からの濃縮水および／または蒸発器から
の濃縮水を凝集沈殿処理槽に集めて、凝集沈殿処理し、
浄化水を原水タンクに再循環して、再使用するものであ
る。Further, in the wastewater treatment apparatus according to any one of claims 1 to 12, the concentrated water from the reverse osmosis membrane (RO) apparatus and / or the concentrated water from the evaporator are aggregated. Collected in a sedimentation treatment tank, coagulated and sedimented,
The purified water is recirculated to the raw water tank and reused.
【００２５】なお、液晶、半導体工業等の電子工業や、
一般の製造業における排水には、フッ素（フッ酸のフッ
素イオンとして）、およびアンモニア（アンモニウムイ
オンとして）が混合して含まれる場合がほとんどである
が、分別回収を厳密に行なう場合は、フッ素、アンモニ
アをそれぞれ単独で含む排水を生じることがあり、本発
明による排水処理装置は、これらのすべての排水に適用
されるものである。The electronic industry such as liquid crystal and semiconductor industries,
Most of the wastewater in the general manufacturing industry contains a mixture of fluorine (as fluorine ion of hydrofluoric acid) and ammonia (as ammonium ion). Wastewater containing ammonia alone may be generated, and the wastewater treatment apparatus according to the present invention is applied to all of these wastewaters.
【００２６】なお、アンモニアを単独で含む排水を処理
する場合は、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）または塩酸（ＨＣｌ）
を添加して、排水をｐＨ４〜５の酸性に調整する。When treating wastewater containing ammonia alone, sulfuric acid (H 2 SO 4 ) or hydrochloric acid (HCl)
To adjust the effluent to an acidic pH of 4-5.
【００２７】[0027]
【発明の実施の形態】つぎに、本発明による排水処理装
置を、実施例に基いて具体的に説明する。Next, a wastewater treatment apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to embodiments.
【００２８】実施例１ この実施例の排水処理装置は、図１に示すように、半導
体製造過程で発生するフッ素イオンすなわちフッ酸（Ｈ
Ｆ）、およびアンモニア含有排水の処理に適用したもの
である。Embodiment 1 As shown in FIG. 1, the waste water treatment apparatus of this embodiment employs fluorine ions generated during the semiconductor manufacturing process, ie, hydrofluoric acid (H).
F), and the treatment of ammonia-containing wastewater.
【００２９】まず、排水の性状例は、下記の通りであ
る。First, examples of the properties of drainage are as follows.
【００３０】 ｐＨ：３ Ｃａ：３０ｐｐｍ Ｍｇ：１０ｐｐｍ Ｎａ：６０ｐｐｍ ＮＨ３ ：３ｐｐｍ Ｓｉ：２０ｐｐｍ Ｆ：１００ｐｐｍ 同図を参照すると、半導体製造過程で発生するフッ酸
（ＨＦ）およびアンモニアを含有する排水は、原水タン
ク(1) に供給される。この原水タンク(1) において、排
水中に水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化
ナトリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水をｐＨ４〜
５の酸性に調整する。PH: 3 Ca: 30 ppm Mg: 10 ppm Na: 60 ppm NH 3 : 3 ppm Si: 20 ppm F: 100 ppm Referring to the figure, waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia generated in the semiconductor manufacturing process is: It is supplied to the raw water tank (1). In this raw water tank (1), sodium hydroxide (NaOH) is added to the wastewater to make sodium fluoride (NaF), and the wastewater is pH4 ~.
Adjust to 5 acidity.
【００３１】ｐＨ調整後の排水は、ついで砂濾過装置
(2) に供給され、排水中の懸濁物質（ＳＳ成分）が除去
される。なお、排水の性状によって、ＳＳ成分濃度が少
ない場合には、砂濾過装置(2) の設置を省略することが
できる。The pH-adjusted wastewater is then passed through a sand filter.
(2), and the suspended solids (SS components) in the wastewater are removed. If the SS component concentration is low due to the properties of the wastewater, the installation of the sand filtration device (2) can be omitted.
【００３２】懸濁物質（ＳＳ成分）の除去後、排水は軟
水器(3) に供給され、そこで、供給水中のスケール成分
であるカルシウム、マグネシウムが選択的に吸着除去さ
れる。排水処理水中へはカルシウム、マグネシウムと同
じ当量のナトリウムが放出される。定期的に食塩（Ｎａ
Ｃｌ）で再生処理を行ない、再生処理の排水は、反応槽
(9) を経て凝集沈殿処理槽(10)に送られる。After removing the suspended solids (SS components), the waste water is supplied to a water softener (3), where calcium and magnesium, which are scale components in the feed water, are selectively adsorbed and removed. The same amount of sodium as calcium and magnesium is released into wastewater. Periodically salt (Na
Cl), and the wastewater from the regeneration process is supplied to the reaction tank.
After passing through (9), it is sent to the coagulation-sedimentation treatment tank (10).
【００３３】軟水器(3) においてスケール成分が除去さ
れた水は、給水第１タンク(4) に導入された後、さらに
脱気器(5) に供給される。この脱気器(5) では、負圧の
操作条件下で、供給水中のアンモニア、炭酸ガスおよび
揮発性の有機物が除去される。脱気器(5) では、例えば
供給水に対して所定比率でストリッピングスチームが流
される。このストリッピングスチームとしては、加熱用
のボイラ蒸気、蒸発法造水装置の蒸発器ベント蒸気等が
用いられる。The water from which the scale components have been removed in the water softener (3) is introduced into the first water supply tank (4), and then further supplied to the deaerator (5). The deaerator (5) removes ammonia, carbon dioxide, and volatile organics in the feed water under negative pressure operating conditions. In the deaerator (5), for example, stripping steam is flowed at a predetermined ratio to the supply water. As the stripping steam, boiler steam for heating, evaporator vent steam of an evaporative desalination apparatus and the like are used.
【００３４】アンモニア、炭酸ガスなどが除去された供
給水は、ついで蒸発法造水装置すなわち多重効用蒸発器
(6) に供給される。蒸発器(6) においては、負圧の操作
条件下で、供給水が多段でフラッシュ蒸発・凝縮せしめ
られ、熱の有効利用を計りつつ、蒸留水が生産される。
供給水の水質により、蒸留水（または濃縮水）の量が決
まる。The feed water from which ammonia, carbon dioxide and the like have been removed is then fed to an evaporative fresh water generator, ie, a multiple effect evaporator.
(6). In the evaporator (6), the feed water is flash-evaporated and condensed in multiple stages under a negative pressure operating condition, and distilled water is produced while effectively utilizing heat.
The quality of the feed water determines the amount of distilled water (or concentrated water).
【００３５】一般に、濃縮比は、下記式で表される。Generally, the concentration ratio is represented by the following formula.
【００３６】濃縮比＝（供給水）／（供給水−蒸留水）
＝（供給水）／（濃縮水） 上述の性状とする場合、濃縮比は約４〜５となる。Concentration ratio = (supply water) / (supply water−distilled water)
= (Supply water) / (concentrated water) In the case of the above properties, the concentration ratio is about 4 to 5.
【００３７】なお、蒸留のラボテストでは、ｐＨ４．５
で、フッ素：９９％、アンモニア：９２％の除去率を得
ている。In the laboratory test for distillation, pH 4.5 was measured.
Thus, a removal rate of 99% for fluorine and 92% for ammonia was obtained.
【００３８】蒸発器(6) からの濃縮水はブローダウンさ
れ、反応槽(9) を経て凝集沈殿処理槽(10)に送られる。The concentrated water from the evaporator (6) is blown down and sent to the coagulation / sedimentation treatment tank (10) through the reaction tank (9).
【００３９】蒸発器(6) からの蒸留水は、給水第２タン
ク(7) に導入され、さらに逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) に
供給され、そこで、イオン成分およびＴＯＣ成分がさら
に除去される。The distilled water from the evaporator (6) is introduced into a second feed water tank (7) and further supplied to a reverse osmosis membrane (RO) device (8) where ionic components and TOC components are further removed. Is done.
【００４０】上記の処理により、フッ素、アンモニアと
も９０％以上の除去率が期待できるとともに、抵抗率１
ＭΩ・ｃｍ（なお、この明細書において、抵抗率はすべ
て２５℃での測定値とする）以上の抵抗率を有し、ＴＯ
Ｃ値および溶存酸素濃度がきわめて低い一次純水が得ら
れ、これを回収水として再利用できる。By the above treatment, a removal rate of 90% or more can be expected for both fluorine and ammonia, and a resistivity of 1%.
MΩ · cm (in this specification, all resistivity values are measured at 25 ° C.)
Primary pure water having an extremely low C value and dissolved oxygen concentration is obtained, and can be reused as recovered water.
【００４１】逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) での濃縮水は、
給水第１タンク(4) へ返送される。The concentrated water in the reverse osmosis (RO) device (8)
It is returned to the first water supply tank (4).
【００４２】なお、凝集沈殿処理槽(10)においては、蒸
発器(6) の濃縮水および軟水器(3)からの再生排水を集
めて、凝集沈殿処理し、通常は、浄化水を放流基準以下
として放流するが、場合によっては、浄化水を原水タン
ク(1) に再循環して、再使用することができる。凝集沈
殿処理槽(10)の底部から排出される汚泥は、通常の廃棄
処理工程により廃棄されるものである。In the coagulation / sedimentation treatment tank (10), the concentrated water of the evaporator (6) and the reclaimed waste water from the water softener (3) are collected and subjected to coagulation / sedimentation treatment. It is discharged as follows, but in some cases, the purified water can be recycled to the raw water tank (1) and reused. The sludge discharged from the bottom of the coagulation / sedimentation treatment tank (10) is to be discarded in a normal disposal process.
【００４３】実施例２ この実施例の排水処理装置は、図２に示すように、半導
体製造過程で発生するフッ素イオンすなわちフッ酸（Ｈ
Ｆ）、およびアンモニア含有排水の処理に適用したもの
である。Embodiment 2 As shown in FIG. 2, the waste water treatment apparatus of this embodiment employs fluorine ions generated during the semiconductor manufacturing process, ie, hydrofluoric acid (H).
F), and the treatment of ammonia-containing wastewater.
【００４４】使用する排水の性状例は、上記実施例１の
場合と同様である。The properties of the waste water used are the same as those in the first embodiment.
【００４５】同図を参照すると、半導体製造過程で発生
するフッ酸（ＨＦ）およびアンモニアを含有する排水
は、原水タンク(1) に供給され、この原水タンク(1) に
おいて、排水中に水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加
してフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水
をｐＨ４〜５の酸性に調整する。Referring to the figure, waste water containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia generated in the semiconductor manufacturing process is supplied to a raw water tank (1). Sodium (NaOH) is added to make sodium fluoride (NaF) and the wastewater is adjusted to pH 4-5 acidity.
【００４６】ｐＨ調整後の排水は、ついで砂濾過装置
(2) に供給され、排水中の懸濁物質（ＳＳ成分）が除去
された後、さらに軟水器(3) に供給される。なお、排水
の性状によって、ＳＳ成分濃度が少ない場合には、砂濾
過装置(2) の設置を省略することができる。The pH-adjusted wastewater is then passed through a sand filter.
After the suspended solids (SS components) in the wastewater are removed, they are further supplied to the water softener (3). If the SS component concentration is low due to the properties of the wastewater, the installation of the sand filtration device (2) can be omitted.
【００４７】軟水器(3) においてスケール成分が除去さ
れた水は、給水第１タンク(4) に導入された後、カート
リッジフィルター(11)に供給される。カートリッジフィ
ルター(11)では、ポンプおよび次工程の逆浸透膜（Ｒ
Ｏ）装置(8) の逆浸透膜の保護のために、異物が除去さ
れる。The water from which the scale components have been removed in the water softener (3) is introduced into the first water supply tank (4) and then supplied to the cartridge filter (11). In the cartridge filter (11), a pump and a reverse osmosis membrane (R
O) Foreign matter is removed to protect the reverse osmosis membrane of the device (8).
【００４８】カートリッジフィルター(11)において異物
が除去された排水は、ついで逆浸透膜（ＲＯ）装置(8)
に供給され、そこで、イオン成分およびＴＯＣ成分が除
去される。上述の排水の性状では、回収率は約７５％程
度となる。逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) によれば、フッ
素、アンモニアとも９５％以上の除去率が期待できる。The waste water from which foreign matters have been removed in the cartridge filter (11) is then passed through a reverse osmosis membrane (RO) device (8).
Where the ionic and TOC components are removed. With the above-mentioned properties of wastewater, the recovery rate is about 75%. According to the reverse osmosis membrane (RO) device (8), a removal rate of 95% or more for both fluorine and ammonia can be expected.
【００４９】なお、逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) での濃縮
水は、反応槽(9) を経て凝集沈殿処理槽(10)に送られ
る。The concentrated water in the reverse osmosis membrane (RO) device (8) is sent to the coagulation / sedimentation treatment tank (10) via the reaction tank (9).
【００５０】つぎに、逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) で処理
された水は、給水第２タンク(7) に導入された後、さら
に脱気器(5) に供給される。この脱気器(5) では、負圧
の操作条件下で、供給水中のアンモニア、炭酸ガスおよ
び揮発性の有機物が除去される。Next, the water treated by the reverse osmosis membrane (RO) device (8) is introduced into the second water supply tank (7), and is further supplied to the deaerator (5). The deaerator (5) removes ammonia, carbon dioxide, and volatile organics in the feed water under negative pressure operating conditions.
【００５１】アンモニア、炭酸ガスなどが除去された供
給水は、ついで多重効用蒸発器(6)に供給される。蒸発
器(6) においては、負圧の操作条件下で、供給水が多段
でフラッシュ蒸発・凝縮せしめられ、熱の有効利用を計
りつつ、蒸留水が生産される。供給水の水質により、蒸
留水（または濃縮水）の量が決まる。The feed water from which ammonia, carbon dioxide and the like have been removed is then supplied to a multiple effect evaporator (6). In the evaporator (6), the feed water is flash-evaporated and condensed in multiple stages under a negative pressure operating condition, and distilled water is produced while effectively utilizing heat. The quality of the feed water determines the amount of distilled water (or concentrated water).
【００５２】一般に、濃縮比は、下記式で表される。Generally, the concentration ratio is represented by the following formula.
【００５３】濃縮比＝（供給水）／（供給水−蒸留水）
＝（供給水）／（濃縮水） 逆浸透膜（ＲＯ）装置(8) の透過水を供給水とする場
合、濃縮比は約１０となる。Concentration ratio = (supply water) / (supply water−distilled water)
= (Supply water) / (concentrated water) When the permeated water of the reverse osmosis membrane (RO) device (8) is used as the supply water, the concentration ratio is about 10.
【００５４】蒸発器(6) からの濃縮水はブローダウンさ
れ、給水第１タンク(4) に返送される。The concentrated water from the evaporator (6) is blown down and returned to the first water supply tank (4).
【００５５】上記の処理により、抵抗率１ＭΩ・ｃｍ以
上の抵抗率を有し、ＴＯＣ値および溶存酸素濃度がきわ
めて低い一次純水が得られ、これを回収水として再利用
できる。By the above-mentioned treatment, primary pure water having a resistivity of 1 MΩ · cm or more and having a very low TOC value and a very low dissolved oxygen concentration is obtained, and this can be reused as recovered water.
【００５６】なお、凝集沈殿処理槽(10)においては、逆
浸透膜（ＲＯ）装置からの濃縮水および軟水器(3) から
の再生排水を集めて、凝集沈殿処理し、通常は、浄化水
を放流基準以下として放流するが、場合によっては、浄
化水を原水タンク(1) に再循環して、再使用することが
できるものである。In the coagulation / sedimentation treatment tank (10), concentrated water from the reverse osmosis membrane (RO) device and regenerated wastewater from the water softener (3) are collected and subjected to coagulation / sedimentation treatment. The purified water is recirculated to the raw water tank (1) and can be reused in some cases.
【００５７】[0057]
【発明の効果】本発明による排水処理装置によれば、下
記のような効果を奏する。According to the wastewater treatment apparatus of the present invention, the following effects can be obtained.
【００５８】このシステムでは、液晶、半導体工業等の
電子工業や、一般の製造業において、今まで回収、再利
用されていなかったフッ素、アンモニア含有排水を、産
業廃棄物を極力発生させず、回収、再利用できるように
なる。In this system, the wastewater containing fluorine and ammonia, which has not been collected and reused in the electronic industry such as the liquid crystal and semiconductor industries and the general manufacturing industry, is recovered without generating industrial waste as much as possible. , Can be reused.
【００５９】また、処理水が純水製造装置の原水（一次
純水）として回収できる。Further, the treated water can be recovered as raw water (primary pure water) of the pure water producing apparatus.
【００６０】今まで放流していた排水を回収できるよう
になることにより、工場全体の水の有効利用が図れる。By being able to recover the wastewater that has been discharged so far, the water in the entire factory can be effectively used.
【図１】実施例１の半導体製造工程からの排水処理装置
を示すフローシートである。FIG. 1 is a flow sheet showing an apparatus for treating wastewater from a semiconductor manufacturing process according to a first embodiment.
【図２】実施例２の半導体製造工程からの排水処理装置
を示すフローシートである。FIG. 2 is a flow sheet showing an apparatus for treating wastewater from a semiconductor manufacturing process according to a second embodiment.
１ 原水タンク ２ 砂濾過装置 ３ 軟水器 ４ 給水第１タンク ５ 脱気器 ６ 多重効用蒸発器（蒸発法造水装置） ７ 給水第２タンク ８ 逆浸透膜（ＲＯ）装置 ９ 反応槽 １０ 凝集沈殿処理槽 １１ カートリッジフィルター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Raw water tank 2 Sand filtration device 3 Water softener 4 Water supply first tank 5 Deaerator 6 Multiple effect evaporator (evaporation method fresh water generator) 7 Water supply second tank 8 Reverse osmosis membrane (RO) device 9 Reaction tank 10 Coagulation sedimentation Processing tank 11 Cartridge filter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 1/42 Ｃ０２Ｆ 1/42 Ｅ ４Ｄ０６２ 1/52 1/52 Ｋ (72)発明者 吉田 和男 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 杉山 忠嗣 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 長尾 修治 大阪市住之江区南港北１丁目７番89号 日 立造船株式会社内 Ｆターム(参考） 4D006 GA03 KA01 KA03 KA72 KB12 KB13 KB15 KB18 KD11 KD12 KD17 MB02 PA01 PB08 PB25 PB26 PC03 4D015 BA19 BB01 CA20 FA02 FA12 4D024 AA04 AB04 BA02 DB01 DB03 DB05 DB06 DB21 4D025 AA02 AB19 BA08 DA01 DA03 DA10 4D034 AA11 BA03 CA14 4D062 BA19 BB01 CA20 FA02 FA12──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C02F 1/42 C02F 1/42 E 4D062 1/52 1/52 K (72) Inventor Kazuo Yoshida Suminoe, Osaka City 1-7-89, Minami-Kohoku-ku, Tokyo Nippon Shipbuilding Co., Ltd. (72) Inventor Tadashi Sugiyama 1-7,89, Minami-Kohoku, Suminoe-ku, Osaka-shi Inside Hitachi Capital Shipbuilding Co., Ltd. 1-7-89, Minami-Kohoku-ku, Tokyo F-Term (in reference) 4D006 GA03 KA01 KA03 KA72 KB12 KB13 KB15 KB18 KD11 KD12 KD17 MB02 PA01 PB08 PB25 PB26 PC03 4D015 BA19 BB01 CA20 FA02 FA12 4D024 AA04 AB04 DB02 DB05 DB06 DB21 4D025 AA02 AB19 BA08 DA01 DA03 DA10 4D034 AA11 BA03 CA14 4D062 BA19 BB01 CA20 FA02 FA12
Claims (15)
トリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎ
ａＦ）とした後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理すること
を特徴とする、排水処理装置。1. Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) to add sodium fluoride (N
aF), followed by treatment with a reverse osmosis membrane (RO) device.
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とした後、蒸発法造水装置で処理することを特徴と
する、排水処理装置。2. Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) to add sodium fluoride (Na).
A wastewater treatment device, wherein after the treatment in F), the mixture is treated by an evaporative desalination device.
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とした後、蒸発法造水装置で処理し、さらに逆浸透
膜（ＲＯ）装置で処理し、一次純水として回収すること
を特徴とする、排水処理装置。3. A wastewater containing hydrofluoric acid (HF) is added with sodium hydroxide (NaOH) to add sodium fluoride (Na).
A wastewater treatment apparatus, which is treated in F), treated in an evaporative desalination apparatus, further treated in a reverse osmosis membrane (RO) apparatus, and recovered as primary pure water.
リウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナトリウム（Ｎａ
Ｆ）とした後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、さらに
蒸発法造水装置で処理し、一次純水として回収すること
を特徴とする、排水処理装置。4. Sodium hydroxide (NaOH) is added to waste water containing hydrofluoric acid (HF) to add sodium fluoride (Na).
A wastewater treatment apparatus, which is treated in a reverse osmosis membrane (RO) apparatus after the treatment in F), further treated in an evaporative desalination apparatus, and recovered as primary pure water.
に、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナ
トリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５
の酸性に調整した後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理する
ことを特徴とする、排水処理装置。5. A wastewater containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia is added with sodium hydroxide (NaOH) to make sodium fluoride (NaF), and the wastewater is pH 4-5.
A wastewater treatment device, wherein the wastewater treatment device is treated with a reverse osmosis membrane (RO) device after adjusting the acidity of the wastewater.
に、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナ
トリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５
の酸性に調整した後、蒸発法造水装置で処理することを
特徴とする、排水処理装置。6. A wastewater containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia is added with sodium hydroxide (NaOH) to make sodium fluoride (NaF), and the wastewater is pH 4-5.
A wastewater treatment apparatus characterized in that the wastewater treatment apparatus is adjusted to an acidity and treated with an evaporative desalination apparatus.
に、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナ
トリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５
の酸性に調整した後、蒸発法造水装置で処理し、さらに
逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、一次純水として回収す
ることを特徴とする、排水処理装置。7. A wastewater containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia is added with sodium hydroxide (NaOH) to make sodium fluoride (NaF), and the wastewater has a pH of 4 to 5.
A wastewater treatment apparatus characterized in that after being adjusted to an acidity, the treated water is treated by an evaporative desalination apparatus, further treated by a reverse osmosis membrane (RO) apparatus, and recovered as primary pure water.
に、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してフッ化ナ
トリウム（ＮａＦ）とするとともに、排水をｐＨ４〜５
の酸性に調整した後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、
さらに蒸発法造水装置で処理し、一次純水として回収す
ることを特徴とする、排水処理装置。8. A wastewater containing hydrofluoric acid (HF) and ammonia is added with sodium hydroxide (NaOH) to make sodium fluoride (NaF), and the wastewater has a pH of 4 to 5.
After being adjusted to the acidity of the above, treated with a reverse osmosis membrane (RO) device,
A wastewater treatment device characterized by further processing by an evaporative desalination device and collecting it as primary pure water.
性に調整した後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理すること
を特徴とする、排水処理装置。9. A wastewater treatment apparatus, wherein wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, and then treated with a reverse osmosis membrane (RO) apparatus.
酸性に調整した後、蒸発法造水装置で処理することを特
徴とする、排水処理装置。10. A wastewater treatment apparatus characterized in that wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, and then treated with an evaporative freshwater generator.
酸性に調整した後、蒸発法造水装置で処理し、さらに逆
浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、一次純水として回収する
ことを特徴とする、排水処理装置。11. A method in which wastewater containing ammonia is adjusted to an acidic pH of 4 to 5, then treated by an evaporative desalination apparatus, further treated by a reverse osmosis membrane (RO) apparatus, and recovered as primary pure water. And wastewater treatment equipment.
酸性に調整した後、逆浸透膜（ＲＯ）装置で処理し、さ
らに蒸発法造水装置で処理し、一次純水として回収する
ことを特徴とする、排水処理装置。12. The method according to claim 1, wherein the wastewater containing ammonia is adjusted to an acidity of pH 4 to 5, then treated with a reverse osmosis membrane (RO) device, further treated with an evaporative fresh water generator, and recovered as primary pure water. And wastewater treatment equipment.
場合に、先に排水を砂濾過装置に供給した後、活性炭濾
過装置に供給し、排水中の有機物を除去する、請求項１
〜１２のうちのいずれか１項記載の排水処理装置。13. When the wastewater further contains an organic matter, the wastewater is first supplied to a sand filtration device and then supplied to an activated carbon filtration device to remove the organic matter in the wastewater.
The wastewater treatment device according to any one of claims 12 to 12.
が含まれている場合に、排水を軟水装置に通してカルシ
ウム分を除去する、請求項１〜１２のうちのいずれか１
項記載の排水処理装置。14. The method according to claim 1, wherein when the wastewater further contains calcium (Ca), the wastewater is passed through a water softener to remove the calcium.
The wastewater treatment device according to the item.
よび／または蒸発器からの濃縮水を凝集沈殿処理槽に集
めて、凝集沈殿処理し、浄化水を原水タンクに再循環し
て、再使用する、請求項１〜１２のうちのいずれか１項
記載の排水処理装置。15. Concentrated water from a reverse osmosis membrane (RO) device and / or concentrated water from an evaporator are collected in a coagulation and sedimentation treatment tank, subjected to coagulation and sedimentation treatment, and purified water is recirculated to a raw water tank. The wastewater treatment device according to any one of claims 1 to 12, which is reused.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000348338A JP2002143850A (en) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | Device for treating waste water |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000348338A JP2002143850A (en) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | Device for treating waste water |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002143850A true JP2002143850A (en) | 2002-05-21 |
Family
ID=18821941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000348338A Withdrawn JP2002143850A (en) | 2000-11-15 | 2000-11-15 | Device for treating waste water |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002143850A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003103260A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | Method for processing wastewater containing fluoride |
| CN103387297A (en) * | 2012-05-11 | 2013-11-13 | 康升环保(天津)有限公司 | Hydrofluoric acid wastewater reuse technology |
| WO2014083887A1 (en) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | オルガノ株式会社 | Device for treating ammonia-containing wastewater, and method for treating ammonia-containing wastewater |
| CN105036444A (en) * | 2015-09-16 | 2015-11-11 | 成都美富特膜科技有限公司 | Reduction and reclamation recycled water reuse zero emission treating technology |
| CN109502858A (en) * | 2017-09-15 | 2019-03-22 | 上海江柘环境工程技术有限公司 | A kind of photovoltaic industry fluorine-contained wastewater treatment system and its processing method |
| WO2020195894A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 栗田工業株式会社 | Water treatment apparatus and water treatment method |
-
2000
- 2000-11-15 JP JP2000348338A patent/JP2002143850A/en not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003103260A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | Method for processing wastewater containing fluoride |
| CN103387297A (en) * | 2012-05-11 | 2013-11-13 | 康升环保(天津)有限公司 | Hydrofluoric acid wastewater reuse technology |
| WO2014083887A1 (en) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | オルガノ株式会社 | Device for treating ammonia-containing wastewater, and method for treating ammonia-containing wastewater |
| JP2014104410A (en) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Japan Organo Co Ltd | Processing unit of ammonia inclusion discharge water and processing method of ammonia inclusion discharge water |
| CN104812705A (en) * | 2012-11-27 | 2015-07-29 | 奥加诺株式会社 | Device for treating ammonia-containing wastewater, and method for treating ammonia-containing wastewater |
| CN105036444A (en) * | 2015-09-16 | 2015-11-11 | 成都美富特膜科技有限公司 | Reduction and reclamation recycled water reuse zero emission treating technology |
| CN105036444B (en) * | 2015-09-16 | 2018-06-29 | 成都美富特环保产业集团有限公司 | Minimizing and recycling Treated sewage reusing Zero-discharge treating process |
| CN109502858A (en) * | 2017-09-15 | 2019-03-22 | 上海江柘环境工程技术有限公司 | A kind of photovoltaic industry fluorine-contained wastewater treatment system and its processing method |
| WO2020195894A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 栗田工業株式会社 | Water treatment apparatus and water treatment method |
| JP2020157273A (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 栗田工業株式会社 | Water treatment apparatus and water treatment method |
| KR20210124487A (en) * | 2019-03-28 | 2021-10-14 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | Water treatment device and water treatment method |
| KR102469846B1 (en) | 2019-03-28 | 2022-11-23 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | Water treatment device and water treatment method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU2008366066B2 (en) | Methods and systems for processing waste water | |
| US9719179B2 (en) | System and method for treatment of produced waters | |
| US8187464B2 (en) | Apparatus and process for desalination of brackish water using pressure retarded osmosis | |
| US20130313199A1 (en) | System and method for treatment of produced waters | |
| US6379548B1 (en) | System for recovering and treating waste water | |
| US20150014142A1 (en) | Method for processing waste water using zero process water discharge | |
| US20120097609A1 (en) | Methods and systems for treatment of aqueous oily solutions | |
| JP2001070989A (en) | Method and apparatus for treating organic wastewater containing high concentration of salts | |
| CN105906126A (en) | Salt-containing wastewater resource recycling and disposal system and method | |
| WO2010135561A2 (en) | Method for treatment and purification of seawater to recover high purity sodium chloride for industrial usage | |
| CN105906128A (en) | Method and system for recovering sodium chloride from high salinity wastewater | |
| JP4018667B2 (en) | Desalination method and apparatus for salt-containing treated water | |
| CN105906127A (en) | Desulfurization wastewater near-zero release treatment system and method | |
| CN106045168A (en) | Zero discharge method for desulfurization waste water | |
| CN104803531B (en) | Sym-closene mother liquor waste water processing method | |
| JPH10272494A (en) | Treatment of organic waste water containing salts of high concentration | |
| TW202229175A (en) | Methods and systems for zero liquid discharge recycling of waste generated from manufacturing operations | |
| JP2002143850A (en) | Device for treating waste water | |
| US8808547B2 (en) | Apparatus and processes for removing boron from liquids | |
| JP7226731B2 (en) | Processing method of the object to be processed | |
| JP2002346561A (en) | Treating method for wastewater containing salt of high concentration | |
| JP2006281174A (en) | Method, apparatus and system for recycling wastewater | |
| CN205856230U (en) | A kind of system reclaiming sodium chloride from high slat-containing wastewater | |
| JP3376639B2 (en) | Pure water recovery method from semiconductor cleaning wastewater | |
| JP2008229484A (en) | Treatment method of concentrated wastewater from pure water production apparatus, and treatment apparatus for the concentrated wastewater |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080205 |