JP2002139638A - Optical element and method for manufacturing the same - Google Patents

Optical element and method for manufacturing the same

Info

Publication number
JP2002139638A
JP2002139638A JP2001250819A JP2001250819A JP2002139638A JP 2002139638 A JP2002139638 A JP 2002139638A JP 2001250819 A JP2001250819 A JP 2001250819A JP 2001250819 A JP2001250819 A JP 2001250819A JP 2002139638 A JP2002139638 A JP 2002139638A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
optical element
light
refractive index
optical waveguide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001250819A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mikihiro Shimada
幹大 嶋田
Tsuguhiro Korenaga
継博 是永
Masanori Iida
正憲 飯田
Hiroyuki Asakura
宏之 朝倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001250819A priority Critical patent/JP2002139638A/en
Publication of JP2002139638A publication Critical patent/JP2002139638A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of the difficulty in producing an optical element, such as optical wave guide or diffraction grating in a short period of time and at a low cost, due to a semiconductor process being used in the manufacture thereof. SOLUTION: In manufacturing the optical element, such as optical waveguide or diffraction grating, a resin 14 being a material for the optical element is filled into a groove 12 for the optical waveguide on a substrate 11. The refractive index of the resin 14 is varied periodically, while hardening the resin 14 by irradiating the resin 14 with ultraviolet rays by using a phase mask 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として光通信な
どに用いられる、回折、分波、フィルタ等の機能を有す
る光学素子及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical element mainly used in optical communications and the like, having functions such as diffraction, demultiplexing, and filtering, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、公衆通信やコンピュータネットワ
ーク等では高速化、高機能化を目的として、広帯域性を
もつ光通信を利用し、波長多重伝送や双方向伝送の機能
を付加した光通信システムが浸透しつつある。
2. Description of the Related Art In recent years, optical communication systems using wavelength-division multiplexing transmission and bidirectional transmission have been added to public communication and computer networks using optical communication having a wide band for the purpose of high speed and high functionality. Is infiltrating.

【0003】光通信分野において、高度な光信号処理を
行うために、各種機能を持つ光集積回路の研究が盛んに
行われている。光集積回路は光導波路を基本要素として
いるが、光導波路は屈折率の高いコア領域を相対的に屈
折率の低いクラッド層で覆うことによってコア領域に光
を閉じこめて伝搬させるものであり、コアをパターン化
して配列することで、回折、分波、フィルタ等の多種の
機能を実現している。特に石英系光導波路は低損失性、
物理的・化学的安定性、光ファイバとの整合性など数々
のメリットを有しており、代表的な受動光導波路となっ
ている。
In the field of optical communication, research on optical integrated circuits having various functions has been actively conducted in order to perform advanced optical signal processing. An optical integrated circuit uses an optical waveguide as a basic element, and the optical waveguide confines light to the core region by covering the core region with a high refractive index with a cladding layer having a relatively low refractive index, and propagates the light in the core region. By patterning and arranging, various functions such as diffraction, demultiplexing, and filtering are realized. In particular, silica-based optical waveguides have low loss,
It has many advantages such as physical and chemical stability and compatibility with optical fibers, and is a typical passive optical waveguide.

【0004】光導波路の製造方法としては、コア・クラ
ッド膜形成方法として火炎堆積法を用い、コアパターン
形成法として反応性イオンエッチング法を用いるものが
代表的である。コア・クラッドの形成方法としては、火
炎堆積法以外にCVD法、真空蒸着法、スパッタ法等も
提案されている。
A typical method of manufacturing an optical waveguide uses a flame deposition method as a method for forming a core / cladding film and a reactive ion etching method as a method for forming a core pattern. As a method of forming the core / cladding, a CVD method, a vacuum deposition method, a sputtering method, and the like have been proposed in addition to the flame deposition method.

【0005】ここで、図11に従来の火炎堆積法による
光学素子の製造方法の一例を示す。
Here, FIG. 11 shows an example of a method of manufacturing an optical element by a conventional flame deposition method.

【0006】最初に、基板111上にコアとなる石英系
材料114を火炎堆積法により堆積させる(図11
(a))。基板111よりも屈折率の高い材料を用いる
ことにより、石英系材料114が光導波路として機能す
る。次に石英系材料114上にフォトレジスト118を
塗布し(図11(b))、ベーキング後、所望のパター
ンを持つフォトマスクを用いて露光し、現像することで
フォトレジスト118をパターニングする(図11
(c))。
First, a quartz material 114 serving as a core is deposited on a substrate 111 by a flame deposition method (FIG. 11).
(A)). By using a material having a higher refractive index than the substrate 111, the quartz-based material 114 functions as an optical waveguide. Next, a photoresist 118 is applied on the quartz-based material 114 (FIG. 11B), and after baking, is exposed using a photomask having a desired pattern, and is developed to pattern the photoresist 118 (FIG. 11B). 11
(C)).

【0007】次に基板111ごと石英系材料114のエ
ッチングを行い、パターニングする。このときフォトレ
ジスト118はマスクとして働き、石英系材料114が
所望のパターンに残る(図11(d))。その後、マス
クとして働いたフォトレジスト118を取り除く(図1
1(e))。同様にして、パターン部分にフォトレジス
トを塗布し、周期的なパターンを有するフォトマスクを
用いて露光、現像した後、エッチングを行ってパターン
部分に周期的な溝を形成することにより所望の光学素子
が完成する(図11(f))。
Next, the quartz-based material 114 is etched together with the substrate 111 and patterned. At this time, the photoresist 118 functions as a mask, and the quartz-based material 114 remains in a desired pattern (FIG. 11D). Thereafter, the photoresist 118 serving as a mask is removed (FIG. 1).
1 (e)). Similarly, a photoresist is applied to the pattern portion, exposed and developed using a photomask having a periodic pattern, and then etched to form a periodic groove in the pattern portion, thereby forming a desired optical element. Is completed (FIG. 11F).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな光モジュールにおいてはコスト面、生産性で次のよ
うな課題を有していた。
However, such an optical module has the following problems in terms of cost and productivity.

【0009】多くの提案がなされているにも関わらず、
未だに性能、量産性、低コスト性を兼ね備えた光導波路
の製造方法は皆無である。これは各種膜形成方法が利点
と欠点を併せ持っているためである。例えば火炎堆積法
やCVD法では良質なコアが作製できるが、火炎堆積法
は1000℃以上の高温アニールが十数時間、複数回必
要であり、CVD法は成膜エリアが狭い等、量産面で難
点がある。また電子ビーム蒸着やスパッタ法でも低損失
な膜形成が可能であるが、膜の形成速度が遅いために、
通常10〜数十μm程度の膜厚を必要とする光導波路の
製造プロセスとしてはコスト的に問題がある。
[0009] Despite many proposals,
There is still no method for manufacturing an optical waveguide having both performance, mass productivity, and low cost. This is because various film forming methods have both advantages and disadvantages. For example, a flame deposition method or a CVD method can produce a good core, but the flame deposition method requires a high-temperature annealing at a temperature of 1000 ° C. or more for more than ten hours and several times. There are difficulties. Although low-loss film formation is also possible by electron beam evaporation or sputtering, the film formation speed is slow,
Usually, there is a problem in terms of cost as a manufacturing process of an optical waveguide requiring a film thickness of about 10 to several tens μm.

【0010】本発明は、従来の光学素子の製造方法が有
する上述した課題を鑑み、性能、量産性、低コスト性を
兼ね備えた光学素子、および光学素子の製造方法を提案
することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of a conventional method for manufacturing an optical element, and has as its object to propose an optical element having performance, mass productivity, and low cost, and a method for manufacturing an optical element. Things.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第1の本発明(請求項1に対応)は、光導波路用溝
を有する又は有しない基板と、前記光導波路用溝に充填
された又は前記基板上に配置された、前記基板より高屈
折率の材料とを備え、光の進行方向において、前記材料
の屈折率が実質上周期的に変化している部分、又は実質
上連続的に単調増加もしくは単調減少している部分が存
在する光学素子である。
In order to solve the above problems, a first invention (corresponding to claim 1) is to provide a substrate having or not having a groove for an optical waveguide and filling the groove for an optical waveguide with the substrate. Or a material having a higher refractive index than the substrate, wherein the refractive index of the material is substantially periodically changed in the traveling direction of light, or substantially continuous. This is an optical element having a monotonically increasing or monotonically decreasing portion.

【0012】第2の本発明(請求項2に対応)は、前記
光の進行方向と実質上直交する方向において、前記材料
の屈折率が実質上周期的に変化している部分、又は実質
上連続的に単調増加もしくは単調減少している部分が存
在する第1の本発明に記載の光学素子である。
A second aspect of the present invention (corresponding to claim 2) is that, in a direction substantially perpendicular to the traveling direction of the light, a portion where the refractive index of the material changes substantially periodically, or substantially. The optical element according to the first aspect of the present invention, in which a portion that continuously increases or decreases monotonously exists.

【0013】第3の本発明(請求項3に対応)は、光導
波路用溝を有する又は有しない基板と、前記光導波路用
溝に充填された又は前記基板上に配置された、前記基板
より高屈折率の材料とを備え、光の進行方向と実質上直
交する方向において、前記材料の屈折率が実質上周期的
に変化している部分、又は実質上連続的に単調増加もし
くは単調減少している部分が存在する光学素子である。
According to a third aspect of the present invention (corresponding to claim 3), a substrate having or not having a groove for an optical waveguide and a substrate filled in the groove for an optical waveguide or disposed on the substrate are provided. A material having a high refractive index, in a direction substantially orthogonal to the light traveling direction, a portion where the refractive index of the material changes substantially periodically, or substantially continuously monotonically increases or decreases. This is the optical element where the portion exists.

【0014】第4の本発明(請求項4に対応)は、光導
波路用溝を有する又は有しない基板と、前記光導波路用
溝に充填された又は前記基板上に配置された、前記基板
より高屈折率の樹脂とを備え、光の進行方向において、
及び/又は前記光の進行方向と実質上直交する方向にお
いて、前記樹脂の屈折率が異なっている部分が存在する
光学素子である。
According to a fourth aspect of the present invention (corresponding to claim 4), a substrate having or not having an optical waveguide groove and a substrate filled in the optical waveguide groove or disposed on the substrate are provided. With a high refractive index resin, in the light traveling direction,
And / or an optical element having a portion where the refractive index of the resin is different in a direction substantially orthogonal to the traveling direction of the light.

【0015】第5の本発明(請求項5に対応)は、前記
樹脂の屈折率が異なっている部分が、前記樹脂の光硬化
性又は熱硬化性の性質を利用して形成されている第4の
本発明に記載の光学素子である。
According to a fifth aspect of the present invention (corresponding to claim 5), the portion of the resin having a different refractive index is formed by utilizing the photocurable or thermosetting properties of the resin. 4 is an optical element according to the present invention.

【0016】第6の本発明(請求項6に対応)は、光導
波路用溝を有する又は有しない基板と、前記光導波路用
溝に充填された又は前記基板上に配置された、前記基板
より高屈折率の材料とを備え、光の進行方向において、
及び/又は前記光の進行方向と実質上直交する方向にお
いて、前記材料の上に配置され、前記材料の温度を部分
的に変化させるための温度制御素子をさらに備えた光学
素子である。
According to a sixth aspect of the present invention (corresponding to claim 6), a substrate having or not having a groove for an optical waveguide and a substrate filled in the groove for an optical waveguide or disposed on the substrate are provided. With a material having a high refractive index, in the light traveling direction,
And / or an optical element further provided with a temperature control element disposed on the material in a direction substantially orthogonal to a traveling direction of the light and configured to partially change a temperature of the material.

【0017】第7の本発明(請求項7に対応)は、光導
波路用溝を有する又は有しない基板と、前記光導波路用
溝に充填された又は前記基板上に配置された、前記基板
より高屈折率の材料とを備え、光の進行方向において、
及び/又は前記光の進行方向と実質上直交する方向にお
いて、前記材料の上に配置され、前記材料の電界を部分
的に変化させるための電極をさらに備えた光学素子であ
る。
According to a seventh aspect of the present invention (corresponding to claim 7), a substrate having or not having an optical waveguide groove and a substrate filled in the optical waveguide groove or disposed on the substrate are provided. With a material having a high refractive index, in the light traveling direction,
And / or an optical element further provided with an electrode disposed on the material in a direction substantially orthogonal to a traveling direction of the light and for partially changing an electric field of the material.

【0018】第8の本発明(請求項8に対応)は、光導
波路用溝を有する又は有しない基板と、前記光導波路用
溝に充填された又は前記基板上に配置された、前記基板
より高屈折率の材料とを備え、光の進行方向において、
及び/又は前記光の進行方向と実質上直交する方向にお
いて、前記材料が前記基板側に凸の部分及び/又は前記
基板が前記材料側に凸の部分を有する光学素子である。
According to an eighth aspect of the present invention (corresponding to claim 8), a substrate having or not having an optical waveguide groove and a substrate filled in the optical waveguide groove or disposed on the substrate are provided. With a material having a high refractive index, in the light traveling direction,
And / or an optical element having a portion in which the material is convex toward the substrate and / or a portion in which the substrate is convex toward the material in a direction substantially orthogonal to a traveling direction of the light.

【0019】第9の本発明(請求項9に対応)は、前記
凸の部分が実質上周期的に設けられている第8の本発明
に記載の光学素子である。
A ninth aspect of the present invention (corresponding to claim 9) is the optical element according to the eighth aspect of the present invention, wherein the convex portions are provided substantially periodically.

【0020】第10の本発明(請求項10に対応)は、
前記材料がガラス系材料、もしくは樹脂である第1、第
2、第3、第6、第7、第8、第9のいずれかの本発明
に記載の光学素子である。
A tenth aspect of the present invention (corresponding to claim 10) is:
The optical element according to any one of the first, second, third, sixth, seventh, eighth, and ninth aspects of the present invention, wherein the material is a glass-based material or a resin.

【0021】第11の本発明(請求項11に対応)は、
基板に光硬化性樹脂を形成し、前記光硬化性樹脂に光を
照射して前記光硬化性樹脂を硬化させる光学素子の製造
方法であって、前記光硬化性樹脂面上における前記光の
照射量を変化させる光学素子の製造方法である。
The eleventh invention (corresponding to claim 11) provides:
A method of manufacturing an optical element for forming a photo-curable resin on a substrate and irradiating the photo-curable resin with light to cure the photo-curable resin, wherein the irradiation of the light on the photo-curable resin surface is performed. This is a method for manufacturing an optical element that changes the amount.

【0022】第12の本発明(請求項12に対応)は、
前記光硬化性樹脂面上における所定の方向において、前
記光の照射量を実質上周期的に変化させる、又は実質上
連続的に単調増加もしくは単調減少させる第11の本発
明に記載の光学素子の製造方法である。
The twelfth invention (corresponding to claim 12) provides:
The optical element according to the eleventh aspect of the present invention, wherein the irradiation amount of the light is substantially periodically changed in a predetermined direction on the photocurable resin surface, or is monotonically increased or monotonously decreased substantially continuously. It is a manufacturing method.

【0023】第13の本発明(請求項13に対応)は、
前記光硬化性樹脂への光の照射強度を変化させることに
より、前記光硬化性樹脂面上における前記光の照射量を
変化させる第11又は第12の本発明に記載の光学素子
の製造方法である。
According to a thirteenth aspect of the present invention (corresponding to claim 13),
An optical element manufacturing method according to an eleventh or twelfth aspect of the present invention, wherein an irradiation amount of the light on the photocurable resin surface is changed by changing an irradiation intensity of light to the photocurable resin. is there.

【0024】第14の本発明(請求項14に対応)は、
部分的に光透過率の異なるマスクを用いて前記光硬化性
樹脂面上における前記光の照射強度を変化させる第13
の本発明に記載の光学素子の製造方法である。
The fourteenth invention (corresponding to claim 14) provides:
A thirteenth method for changing the irradiation intensity of the light on the photocurable resin surface by using a mask having a partially different light transmittance;
This is a method for producing an optical element according to the present invention.

【0025】第15の本発明(請求項15に対応)は、
遮光板を用いて前記光の照射領域を順次変化させて前記
照射量を変化させる第11又は第12の本発明に記載の
光学素子の製造方法である。
According to a fifteenth aspect of the present invention (corresponding to claim 15),
An eleventh or twelfth method of manufacturing an optical element according to the present invention, wherein the irradiation amount is changed by sequentially changing the light irradiation area using a light shielding plate.

【0026】第16の本発明(請求項16に対応)は、
基板に光硬化性樹脂を形成し、前記光硬化性樹脂に光を
照射して前記光硬化性樹脂を硬化させる光学素子の製造
方法であって、前記光硬化性樹脂に他の光学部品を接続
して前記光硬化性樹脂を硬化させ、前記光学部品を前記
光硬化性樹脂に固定する光学素子の製造方法である。
According to a sixteenth aspect of the present invention (corresponding to claim 16),
A method of manufacturing an optical element for forming a photocurable resin on a substrate, irradiating the photocurable resin with light, and curing the photocurable resin, wherein another optical component is connected to the photocurable resin. And curing the photo-curable resin to fix the optical component to the photo-curable resin.

【0027】第17の本発明(請求項17に対応)は、
第1から第7のいずれかの本発明に記載の光学素子を製
造する方法であって、前記基板の前記光導波路用溝を、
表面に凹凸が形成されている型材を用いて一括形成する
光学素子の製造方法である。
The seventeenth invention (corresponding to claim 17) provides:
The method for producing an optical element according to any one of the first to seventh aspects of the present invention, wherein the optical waveguide groove of the substrate is formed by:
This is a method for manufacturing an optical element that is formed collectively using a mold material having irregularities on the surface.

【0028】第18の本発明(請求項18に対応)は、
第8又は第9の本発明に記載の光学素子を製造する方法
であって、前記光学素子の前記基板の凹凸を、表面に凹
凸が形成されている型材を用いて一括形成する光学素子
の製造方法である。
The eighteenth invention (corresponding to claim 18) is:
The method for manufacturing an optical element according to the eighth or ninth aspect of the present invention, wherein the unevenness of the substrate of the optical element is collectively formed using a mold having unevenness on the surface. Is the way.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して本発
明の実施の形態を説明する。なお、図面で同一番号を付
した部品は同一のものを示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. Note that the parts denoted by the same reference numerals in the drawings indicate the same parts.

【0030】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態の光学素子を示す。
(First Embodiment) FIG. 1 shows an optical element according to a first embodiment of the present invention.

【0031】まず、図1のようにガラスもしくは透明樹
脂よりなる基板11の表面に、型(図示せず)を用いた
成形により光導波路用溝12を形成する。
First, as shown in FIG. 1, an optical waveguide groove 12 is formed on the surface of a substrate 11 made of glass or transparent resin by molding using a mold (not shown).

【0032】次に光導波路用溝形成面に紫外線硬化樹脂
14を塗布して溝内に充填し、その後、紫外線を照射す
ることで溝内の紫外線硬化樹脂14は硬化される。紫外
線硬化樹脂14として基板11よりも高い屈折率を有す
るものを用いることにより、溝内の紫外線硬化樹脂14
は光導波路コアとして機能する。
Next, the ultraviolet curable resin 14 is applied to the groove forming surface for the optical waveguide and filled in the groove, and then the ultraviolet curable resin 14 in the groove is cured by irradiating ultraviolet rays. By using a resin having a higher refractive index than that of the substrate 11 as the ultraviolet curable resin 14, the ultraviolet curable resin 14
Functions as an optical waveguide core.

【0033】紫外線硬化樹脂は照射する光量によって硬
化後の屈折率が0.001の範囲内で変化するため、溝
内の紫外線硬化樹脂14に周期的な強度分布を有する光
を照射することによって、紫外線硬化樹脂14に周期的
な屈折率分布を形成することができる(図1(a))。
光照射方法として位相マスク法を用い、光の干渉現象を
利用して周期的なパターンを形成する(図1(b))。
なお、紫外線硬化樹脂は、紫外線を照射することによっ
て重合反応が開始し固化するのであるが、照射する光量
の相違によって反応の度合いが異なるため屈折率が異な
る。
Since the refractive index after curing of the ultraviolet curable resin changes within the range of 0.001 depending on the amount of light to be irradiated, by irradiating the ultraviolet curable resin 14 in the groove with light having a periodic intensity distribution, A periodic refractive index distribution can be formed on the ultraviolet curable resin 14 (FIG. 1A).
A periodic pattern is formed by using a phase mask method as a light irradiation method and utilizing a light interference phenomenon (FIG. 1B).
The ultraviolet curable resin starts its polymerization reaction and is solidified by irradiation with ultraviolet rays, but has a different refractive index because the degree of reaction is different due to the difference in the amount of light irradiated.

【0034】屈折率の分布を周期的にすることで光導波
路型の回折格子となる。図2(a)のように、基板21
の表面に形成した光導波路用溝22に紫外線硬化樹脂2
4を充填・硬化させるに際し、屈折率変化の周期を1μ
m以下にすると、特定の波長を光の入射方向と逆方向に
反射する。なお、屈折率とその屈折率の変化の周期とか
ら上記の特定の波長が決まる。また、図2(b)のよう
に屈折率変化の周期を数十μmから数百μmにすると、
特定の波長の光をコア外に放出することで損失を生じさ
せるため、(a)、(b)の場合ともフィルタとして機
能する。なお図2(b)の場合においても、屈折率とそ
の屈折率の変化の周期とから上記の特定の波長が決ま
る。
By making the distribution of the refractive index periodic, an optical waveguide type diffraction grating can be obtained. As shown in FIG.
UV curable resin 2 in the optical waveguide groove 22 formed on the surface of
When filling and curing 4, the period of the change in the refractive index is 1μ.
When it is less than m, a specific wavelength is reflected in a direction opposite to the light incident direction. The above specific wavelength is determined from the refractive index and the period of change of the refractive index. When the period of the change in the refractive index is changed from several tens of μm to several hundred μm as shown in FIG.
Since light having a specific wavelength is emitted to the outside of the core to cause a loss, it functions as a filter in both cases (a) and (b). In the case of FIG. 2B as well, the specific wavelength is determined from the refractive index and the period of change in the refractive index.

【0035】なお、本実施の形態では光導波路コア材料
として紫外線硬化樹脂を用いたが、これに限るものでは
なく、例えば熱硬化樹脂を用い、硬化させる温度を部分
的に変化させて形成しても構わない。また、本実施の形
態では、光照射方法として位相マスク法を用いたが、こ
れに限るものではなく、例えば干渉露光法でも構わな
い。また、透過率が周期的に変化するフォトマスクを用
いてもよい。またレーザ光や電子ビームを走査して照射
してもよい。
In this embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the core material of the optical waveguide. However, the present invention is not limited to this. For example, a thermosetting resin may be used, and the curing temperature may be changed partially. No problem. Further, in the present embodiment, the phase mask method is used as the light irradiation method. However, the present invention is not limited to this. For example, an interference exposure method may be used. Alternatively, a photomask whose transmittance changes periodically may be used. Alternatively, laser light or an electron beam may be scanned for irradiation.

【0036】また、本実施の形態では、屈折率分布とし
て周期的な屈折率分布を用いたが、これに限るものでは
なく、非周期的に一部が変化する屈折率分布でも構わな
い。また、光導波路用溝については、本実施の形態で述
べたように成形で形成するのが生産上望ましいが、これ
に限るものでなく、必要に応じてエッチングにより形成
しても構わない。
In this embodiment, a periodic refractive index distribution is used as the refractive index distribution. However, the present invention is not limited to this, and a refractive index distribution that partially changes non-periodically may be used. The groove for the optical waveguide is desirably formed by molding as described in the present embodiment, but is not limited to this, and may be formed by etching as needed.

【0037】(第2の実施の形態)図3は、本発明の第
2の実施の形態の光学素子を示す。
(Second Embodiment) FIG. 3 shows an optical element according to a second embodiment of the present invention.

【0038】まず、図3(a)のようにガラスもしくは
透明樹脂よりなる基板31の表面に、紫外線硬化樹脂3
4を塗布し、薄膜を形成する。紫外線硬化樹脂34とし
て基板31よりも高い屈折率を有するものを用いること
により、薄膜の紫外線硬化樹脂34は光導波路コアとし
て機能する。
First, as shown in FIG. 3A, the surface of a substrate 31 made of glass or transparent resin is
4 is applied to form a thin film. By using a resin having a higher refractive index than the substrate 31 as the ultraviolet curing resin 34, the thin film ultraviolet curing resin 34 functions as an optical waveguide core.

【0039】次に、薄膜状の紫外線硬化樹脂34に光を
照射する。このとき、遮光板を順次移動させ、紫外線硬
化樹脂上の光が照射される領域を変化させることによっ
て、紫外線硬化樹脂上における光の照射量が変化するた
め、硬化後の樹脂に、屈折率が実質上単調増加する分布
が形成される。なお、遮光板の移動速度を変化させるこ
とによって任意の屈折率分布を形成することができる。
Next, light is applied to the ultraviolet curing resin 34 in the form of a thin film. At this time, by sequentially moving the light-shielding plate and changing the area on the ultraviolet-curable resin to which light is irradiated, the amount of light irradiation on the ultraviolet-curable resin changes. A substantially monotonically increasing distribution is formed. Note that an arbitrary refractive index distribution can be formed by changing the moving speed of the light shielding plate.

【0040】図3(b)のように、入射光として異なる
波長の光λ1、λ2を入射させるとき、光の進行方向に
屈折率が実質上単調減少する分布を形成することによ
り、基板と樹脂との屈折率差が大きい部分では導波して
いた光が、導波路中を進行していく間に屈折率差が小さ
くなるため、導波条件を満たせなくなり放射する。光の
波長により放射される条件が異なるため、放射される位
置が異なる。各波長の光が放射される位置に光ファイバ
を設置することにより、所望の波長の光を選択して取り
出すことができる。
As shown in FIG. 3B, when light beams λ1 and λ2 having different wavelengths are incident as incident light, a distribution in which the refractive index substantially monotonically decreases in the traveling direction of the light is formed. In a portion where the refractive index difference is large, the light that has been guided is radiated because the difference in the refractive index is reduced while traveling in the waveguide, so that the waveguide condition cannot be satisfied. Since the condition of emission differs depending on the wavelength of light, the position of emission differs. By arranging an optical fiber at a position where light of each wavelength is emitted, light of a desired wavelength can be selected and extracted.

【0041】また、図3(c)のように進行方向と実質
上直交する方向にも屈折率が実質上単調増加する分布を
形成することにより、光の進行方向を変化させ、導波さ
せたまま波長分離を行うことができる。薄膜の端面の光
が出射される位置に光ファイバを設置することにより、
所望の波長を選択して取り出すことができる。なお、図
3(c)では、光の進行方向と、その進行方向と実質上
直交する方向との2方向(方向は逆でもよい)におい
て、屈折率が実質上単調増加する分布を形成するとした
が、図3(d)に示すように、光の進行方向と実質上直
交する方向においてのみ、屈折率が実質上単調増加する
分布を形成するとしてもよい。
Further, as shown in FIG. 3 (c), by forming a distribution in which the refractive index substantially monotonically increases in a direction substantially perpendicular to the traveling direction, the traveling direction of light is changed and guided. Wavelength separation can be performed as it is. By installing an optical fiber at the position where the light is emitted from the end face of the thin film,
A desired wavelength can be selected and extracted. In FIG. 3 (c), it is assumed that a distribution in which the refractive index substantially monotonically increases is formed in two directions (the directions may be reversed) of the light traveling direction and the direction substantially orthogonal to the traveling direction. However, as shown in FIG. 3D, a distribution in which the refractive index increases substantially monotonically only in a direction substantially orthogonal to the traveling direction of light may be formed.

【0042】なお、屈折率分布については本実施の形態
で述べたように遮光板を用いた光照射で形成するのが生
産上望ましいが、これに限るものでなく必要に応じて連
続的な透過率を有するマスクにより形成しても構わな
い。
The production of the refractive index distribution is preferably performed by light irradiation using a light shielding plate as described in this embodiment, but is not limited to this. It may be formed using a mask having a ratio.

【0043】また、本実施の形態においては、基板上に
薄膜を堆積させたが、2枚の基板の間に樹脂を充填して
形成してもよい。つまり、第1の実施の形態と同様に、
光導波路用溝を有する基板の光導波路用溝に紫外線硬化
樹脂を充填し、その樹脂に照射する光の量を制御して、
光導波路用溝方向において樹脂の屈折率を実質上単調増
加または単調減少させ、その上に別の基板を配置しても
よい。
In this embodiment, a thin film is deposited on a substrate, but it may be formed by filling a resin between two substrates. That is, similar to the first embodiment,
Filling the optical waveguide groove of the substrate having the optical waveguide groove with an ultraviolet curable resin, controlling the amount of light applied to the resin,
The refractive index of the resin may be substantially monotonically increased or decreased in the direction of the optical waveguide groove, and another substrate may be disposed thereon.

【0044】また、本実施の形態においては、薄膜上の
一方向の全ての部分で連続的に屈折率を変化(実質上単
調増加または単調減少)させたが、屈折率が等しい部分
や離散的に変化する部分が存在してもよい。また、本実
施の形態においては、光が放射される位置に光ファイバ
を設置したが、フォトダイオードなどの受光素子を設置
してもよい。
Further, in this embodiment, the refractive index is continuously changed (substantially monotonically increased or monotonically decreased) in all portions in one direction on the thin film. May be present. Further, in the present embodiment, the optical fiber is provided at a position where light is emitted, but a light receiving element such as a photodiode may be provided.

【0045】(第3の実施の形態)図4は、本発明の第
3の実施の形態の光学素子を示す。
(Third Embodiment) FIG. 4 shows an optical element according to a third embodiment of the present invention.

【0046】まず、ガラスもしくは透明樹脂よりなる基
板41の表面に、型(図示せず)を用いた成形により光
導波路用溝42と、光導波路用溝底面に凹凸部43を形
成する。次に、光導波路用溝42に紫外線硬化樹脂44
を塗布して溝内に充填し、その後、紫外線を照射するこ
とで溝内の紫外線硬化樹脂44は硬化される。紫外線硬
化樹脂44として基板41よりも高い屈折率を有するも
のを用いることにより、溝内の紫外線硬化樹脂は光導波
路コアとして機能する。
First, an optical waveguide groove 42 is formed on the surface of a substrate 41 made of glass or transparent resin by molding using a mold (not shown), and an uneven portion 43 is formed on the bottom surface of the optical waveguide groove. Next, an ultraviolet curable resin 44 is formed in the optical waveguide groove 42.
Is applied to fill the groove, and then the ultraviolet curable resin 44 in the groove is cured by irradiating ultraviolet light. By using a resin having a higher refractive index than the substrate 41 as the ultraviolet curing resin 44, the ultraviolet curing resin in the groove functions as an optical waveguide core.

【0047】溝底面の凹凸部43により、コアの深さが
変化するため、紫外線硬化樹脂44の等価屈折率が周期
的に変化し、導波路型回折格子として機能する。凹凸部
43の周期を変化させることにより、第1の実施の形態
で述べたように反射型、長周期型の導波路型回折格子と
なる。
Since the depth of the core changes due to the uneven portion 43 on the bottom surface of the groove, the equivalent refractive index of the ultraviolet curable resin 44 changes periodically, and functions as a waveguide type diffraction grating. By changing the period of the concave-convex portions 43, a reflection-type or long-period waveguide-type diffraction grating is obtained as described in the first embodiment.

【0048】なお、本実施の形態では光導波路コア材料
として紫外線硬化樹脂を用いたがこれに限るものではな
く、例えば熱硬化樹脂でもかまわない。また、光導波路
用溝および凹凸部については本実施の形態で述べたよう
に型を用いて成形で形成するのが生産上望ましいが、こ
れに限るものでなく、必要に応じてエッチングにより形
成しても構わない。また、別の平板基板を上部に設置
し、上部クラッドとして用いてもよい。
In this embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the core material of the optical waveguide. However, the present invention is not limited to this. For example, a thermosetting resin may be used. Further, it is desirable from the viewpoint of production that the optical waveguide groove and the concave / convex portion are formed by molding using a mold as described in the present embodiment, but the present invention is not limited to this. It does not matter. Further, another flat substrate may be provided on the upper portion and used as an upper clad.

【0049】また、本実施の形態では、基板に光導波路
用溝を設けてその光導波路用溝底面に凹凸を形成すると
したが、光導波路用溝を設けることなく、基板表面に、
光の進行方向において凹凸を形成し、その上に紫外線硬
化樹脂を配置し、光の進行方向部分に紫外線を照射して
光学素子を形成してもよく、その場合も、図4に示す光
学素子と同様な機能を発揮させることができる。
Further, in this embodiment, the groove for the optical waveguide is provided on the substrate and the unevenness is formed on the bottom surface of the groove for the optical waveguide. However, without providing the groove for the optical waveguide,
An optical element may be formed by forming irregularities in the light traveling direction, arranging an ultraviolet curable resin thereon, and irradiating ultraviolet rays to the light traveling direction portion, in which case the optical element shown in FIG. The same function can be exhibited.

【0050】また、本実施の形態では、基板に設けられ
た光導波路用溝に又は基板表面に、光の進行方向におい
て凹凸を形成するとしたが、光の進行方向とともに光の
進行方向と実質上直交する方向において、又は光の進行
方向と実質上直交する方向においてのみ、基板に設けら
れた光導波路用溝に又は基板表面に凹凸を形成するとし
てもよい。
Further, in the present embodiment, irregularities are formed in the light traveling direction in the optical waveguide groove provided on the substrate or on the substrate surface. Irregularities may be formed in the optical waveguide groove provided on the substrate or on the surface of the substrate only in the direction orthogonal to or in the direction substantially orthogonal to the traveling direction of light.

【0051】(第4の実施の形態)図5は、本発明の第
4の実施の形態の光学素子を示す。
(Fourth Embodiment) FIG. 5 shows an optical element according to a fourth embodiment of the present invention.

【0052】図5(a)のように、まず、ガラスもしく
は透明樹脂よりなる基板51の表面に、紫外線硬化樹脂
54を塗布し、薄膜を形成する。紫外線硬化樹脂54と
して基板51よりも高い屈折率を有するものを用いるこ
とにより、薄膜の紫外線硬化樹脂54は光導波路コアと
して機能する。
As shown in FIG. 5A, first, an ultraviolet curing resin 54 is applied to the surface of a substrate 51 made of glass or transparent resin to form a thin film. By using a material having a higher refractive index than the substrate 51 as the ultraviolet curing resin 54, the thin film ultraviolet curing resin 54 functions as an optical waveguide core.

【0053】次に、紫外線硬化樹脂54に紫外線を照射
して硬化させる。このとき薄膜の一部540に紫外線の
強度を変化させて照射させることにより、その他の部分
より相対的に屈折率が高い部分540が形成される。こ
のため周りより屈折率の高い部分540に光が閉じこめ
られ、3次元光導波路として機能する。
Next, the ultraviolet curable resin 54 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. At this time, by irradiating a portion 540 of the thin film with varying ultraviolet intensity, a portion 540 having a relatively higher refractive index than the other portions is formed. Therefore, light is confined in a portion 540 having a higher refractive index than the surroundings, and functions as a three-dimensional optical waveguide.

【0054】最後に、温度制御素子55を薄膜上の屈折
率が高い部分540に設置する。そして本実施の形態の
光学素子を使用するときに、温度制御素子55を用いて
光導波路となっている紫外線硬化樹脂540を加熱し、
紫外線硬化樹脂540の温度を変化させることにより、
樹脂の屈折率が変化する。導波路上の温度制御素子55
を用いて加熱すると、その直下の導波路の屈折率が変化
するため、温度制御素子55のON/OFFにより光ス
イッチや光偏向器として機能する。
Finally, the temperature control element 55 is placed on the portion 540 of the thin film having a high refractive index. Then, when using the optical element of the present embodiment, the ultraviolet curable resin 540 serving as the optical waveguide is heated using the temperature control element 55,
By changing the temperature of the ultraviolet curing resin 540,
The refractive index of the resin changes. Temperature control element 55 on waveguide
When the heating is performed by using the optical waveguide, the refractive index of the waveguide immediately below the optical waveguide changes, so that the temperature control element 55 functions as an optical switch or an optical deflector by ON / OFF.

【0055】なお、本実施の形態では光学素子は、直線
の光導波路を例に挙げて説明したが、これに限るもので
はなく、一般に使用されている光導波路パターンすべて
に適用することができる。また、周期的に温度を変化さ
せることにより、回折格子として機能する。
In this embodiment, the optical element has been described by taking a linear optical waveguide as an example. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to all commonly used optical waveguide patterns. In addition, it functions as a diffraction grating by periodically changing the temperature.

【0056】また、上述した実施の形態では、屈折率が
異なった紫外線硬化樹脂540の上に温度制御素子55
を設置するとしたが、図5(b)のように、屈折率が異
なっていない紫外線硬化樹脂54の上に温度制御素子5
5を配置し、その温度制御素子55を介して紫外線硬化
樹脂54を加熱すると、紫外線硬化樹脂54には屈折率
が異なる部分が生じる。
In the above-described embodiment, the temperature control element 55 is placed on the ultraviolet curing resin 540 having a different refractive index.
However, as shown in FIG. 5B, the temperature control element 5 is placed on the ultraviolet curable resin 54 having the same refractive index.
5 is disposed, and when the ultraviolet curable resin 54 is heated via the temperature control element 55, a portion having a different refractive index occurs in the ultraviolet curable resin 54.

【0057】なお、上述した実施の形態では、温度制御
素子55を介して紫外線硬化樹脂54を加熱することに
より、紫外線硬化樹脂54に屈折率の異なる部分を生じ
させたが、屈折率の異なる部分は、光の進行方向におい
てのみ生じさせると限定することはなく、光の進行方向
とともに光の進行方向と実質上直交する方向において生
じさせてもよいし、光の進行方向と実質上直交する方向
においてのみ生じさせてもよい。
In the above-described embodiment, the UV curable resin 54 is heated via the temperature control element 55 to generate a portion having a different refractive index in the UV curable resin 54. Is not limited to being generated only in the traveling direction of light, and may be produced in a direction substantially perpendicular to the traveling direction of light together with the traveling direction of light, or in a direction substantially perpendicular to the traveling direction of light. May occur only at

【0058】(第5の実施の形態)図6は、本発明の第
5の実施の形態の光学素子を示す。
(Fifth Embodiment) FIG. 6 shows an optical element according to a fifth embodiment of the present invention.

【0059】図6(a)のように、まず、ガラスもしく
は透明樹脂よりなる基板61の表面に、紫外線硬化樹脂
64を塗布し、薄膜を形成する。紫外線硬化樹脂64と
して基板61よりも高い屈折率を有するものを用いるこ
とにより、薄膜の紫外線硬化樹脂64は光導波路コアと
して機能する。
As shown in FIG. 6A, first, an ultraviolet curable resin 64 is applied to the surface of a substrate 61 made of glass or transparent resin to form a thin film. By using a resin having a higher refractive index than the substrate 61 as the ultraviolet curing resin 64, the thin film ultraviolet curing resin 64 functions as an optical waveguide core.

【0060】次に、紫外線硬化樹脂64に紫外線を照射
して硬化させる。このとき薄膜の一部640に紫外線の
強度を変化させて照射させることにより、その他の部分
より相対的に屈折率が高い部分640が形成される。周
りより屈折率の高い部分640に光が閉じこめられ、3
次元光導波路として機能する。
Next, the ultraviolet curable resin 64 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. At this time, by irradiating a portion 640 of the thin film with varying ultraviolet intensity, a portion 640 having a relatively higher refractive index than other portions is formed. Light is confined in a portion 640 having a higher refractive index than the surroundings, and 3
It functions as a two-dimensional optical waveguide.

【0061】最後に、電極66を薄膜上の屈折率が高い
部分640に設置する。そして本実施の形態の光学素子
を使用するときに、電極66を用いて光導波路となって
いる紫外線硬化樹脂640に電圧を印加し、紫外線硬化
樹脂640の電界を変化させることにより、樹脂の屈折
率が変化する。このように、本実施の形態の光学素子
は、薄膜の屈折率が変化するため、光導波路型の光変調
器、光スイッチとして機能する。
Finally, the electrode 66 is placed on the portion 640 where the refractive index is high on the thin film. When the optical element of the present embodiment is used, a voltage is applied to the ultraviolet curable resin 640 serving as an optical waveguide using the electrode 66 to change the electric field of the ultraviolet curable resin 640, so that the resin is refracted. The rate changes. Thus, the optical element of the present embodiment functions as an optical waveguide type optical modulator and optical switch because the refractive index of the thin film changes.

【0062】なお、電極66の対向電極は、基板61と
樹脂64との界面や、基板61の樹脂64が配置されて
いる面と反対側の面に設けることができる。
The counter electrode of the electrode 66 can be provided on the interface between the substrate 61 and the resin 64 or on the surface of the substrate 61 opposite to the surface on which the resin 64 is arranged.

【0063】また、本実施の形態では、光学素子は、直
線の光導波路を例に挙げて説明したが、これに限るもの
ではなく、一般に使用されている光導波路パターンすべ
てに適用することができ、分岐や方向性結合器を用いて
もよい。また、本実施の形態では、光導波路上に電極を
設置したが、これに限るものではなく、光導波路の両側
に設置してもよい。電極としてマイクロストリップライ
ンやコプレナー線路を用いてもよい。
In this embodiment, the optical element has been described by taking a linear optical waveguide as an example. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to all commonly used optical waveguide patterns. Alternatively, a branch or a directional coupler may be used. Further, in the present embodiment, the electrodes are provided on the optical waveguide. However, the present invention is not limited to this, and electrodes may be provided on both sides of the optical waveguide. A microstrip line or coplanar line may be used as an electrode.

【0064】また、上述した実施の形態では、屈折率が
異なった紫外線硬化樹脂640の上に電極66を設置す
るとしたが、図6(b)のように、屈折率が異なってい
ない紫外線硬化樹脂64の上に電極66を配置し、その
電極66を介して紫外線硬化樹脂64に電界を印加する
と、紫外線硬化樹脂64には屈折率が異なる部分が生じ
る。
In the above-described embodiment, the electrode 66 is provided on the ultraviolet curable resin 640 having a different refractive index. However, as shown in FIG. When an electrode 66 is disposed on the electrode 64 and an electric field is applied to the ultraviolet curable resin 64 via the electrode 66, a portion having a different refractive index is generated in the ultraviolet curable resin 64.

【0065】なお、上述した実施の形態では、電極66
を介して紫外線硬化樹脂64に電界を印加することによ
り、紫外線硬化樹脂64に屈折率の異なる部分を生じさ
せたが、屈折率の異なる部分は、光の進行方向において
のみ生じさせると限定することはなく、光の進行方向と
ともに光の進行方向と実質上直交する方向において生じ
させてもよいし、光の進行方向と実質上直交する方向に
おいてのみ生じさせてもよい。
In the above-described embodiment, the electrode 66
By applying an electric field to the ultraviolet curable resin 64 through the above, a portion having a different refractive index is generated in the ultraviolet curable resin 64, but the portion having a different refractive index is limited to be generated only in the traveling direction of light. However, it may be generated in a direction substantially orthogonal to the light traveling direction together with the light traveling direction, or may be generated only in a direction substantially orthogonal to the light traveling direction.

【0066】(第6の実施の形態)図7は、本発明の第
6の実施の形態の光学素子の製造方法を示す。
(Sixth Embodiment) FIG. 7 shows a method for manufacturing an optical element according to a sixth embodiment of the present invention.

【0067】まず、ガラスもしくは透明樹脂よりなる基
板71の表面に、紫外線硬化樹脂74を塗布し、薄膜を
形成する。紫外線硬化樹脂74として基板71よりも高
い屈折率を有するものを用いることにより、薄膜の紫外
線硬化樹脂74は光導波路コアとして機能する。
First, an ultraviolet curable resin 74 is applied to the surface of a substrate 71 made of glass or transparent resin to form a thin film. By using a resin having a refractive index higher than that of the substrate 71 as the ultraviolet-curable resin 74, the thin-film ultraviolet-curable resin 74 functions as an optical waveguide core.

【0068】次に、紫外線硬化樹脂74に紫外線を照射
して硬化させる。紫外線硬化樹脂は照射する光量によっ
て、硬化後の屈折率が0.001の範囲内で変化するた
め、薄膜の一部に紫外線の強度を変化させて照射させる
ことにより、紫外線硬化樹脂74は硬化され、かつ、そ
の他の部分より相対的に屈折率が高い部分740が形成
される。このため周りより屈折率の高い部分740に光
が閉じこめられ、3次元光導波路として機能する。
Next, the ultraviolet curable resin 74 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. Since the refractive index after curing of the ultraviolet curable resin changes within the range of 0.001 depending on the amount of light to be irradiated, the ultraviolet curable resin 74 is cured by irradiating a part of the thin film with the intensity of the ultraviolet light changed. In addition, a portion 740 having a relatively higher refractive index than other portions is formed. Therefore, light is confined in a portion 740 having a higher refractive index than the surroundings, and functions as a three-dimensional optical waveguide.

【0069】なお、本実施の形態においては、1本の直
線の導波路を例に挙げて説明したが、これに限るもので
はなく、一般に使用されている光導波路パターンすべて
に応用することができ、光波の曲がり、分岐、結合の制
御もできる。また、上部クラッドとして別の平板基板を
設置してもよい。
In the present embodiment, a single linear waveguide has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to all commonly used optical waveguide patterns. It can also control the bending, branching and coupling of light waves. Further, another flat substrate may be provided as the upper clad.

【0070】(第7の実施の形態)図8は、本発明の第
7の実施の形態の光学素子の製造方法を示す。
(Seventh Embodiment) FIG. 8 shows a method of manufacturing an optical element according to a seventh embodiment of the present invention.

【0071】本実施の形態が上述した第6の実施の形態
と異なる点は、基板81上に形成された紫外線硬化樹脂
84に照射される紫外線が周期的な強度分布を有するこ
とである。したがって、本実施の形態において、特に説
明のないものについては、第6の実施の形態と同じとす
る。紫外線硬化樹脂84に周期的な強度分布を有する光
を照射することによって、紫外線硬化樹脂84面上にお
ける光の照射量を周期的に変化させ、紫外線硬化樹脂8
4に周期的な屈折率分布を形成する。
This embodiment is different from the above-described sixth embodiment in that the ultraviolet light applied to the ultraviolet curable resin 84 formed on the substrate 81 has a periodic intensity distribution. Therefore, in the present embodiment, components that are not particularly described are the same as those in the sixth embodiment. By irradiating the ultraviolet curable resin 84 with light having a periodic intensity distribution, the irradiation amount of light on the surface of the ultraviolet curable resin 84 is periodically changed, and
4, a periodic refractive index distribution is formed.

【0072】屈折率の分布を周期的にすることで光導波
路型の回折格子として機能する。光照射方法としては位
相マスク法、干渉露光法などを用いてもよい。また、透
過率が周期的に変化するフォトマスクを用いてもよい。
またレーザ光や電子ビームを走査して照射してもよい。
By making the distribution of the refractive index periodic, it functions as an optical waveguide type diffraction grating. As a light irradiation method, a phase mask method, an interference exposure method, or the like may be used. Alternatively, a photomask whose transmittance changes periodically may be used.
Alternatively, laser light or an electron beam may be scanned for irradiation.

【0073】(第8の実施の形態)図9は、本発明の第
8の実施の形態の光学素子の製造方法を示す。
(Eighth Embodiment) FIG. 9 shows a method for manufacturing an optical element according to an eighth embodiment of the present invention.

【0074】まず、ガラスもしくは透明樹脂よりなる基
板91の表面に、紫外線硬化樹脂94を塗布し、薄膜を
形成する。紫外線硬化樹脂94として基板91よりも高
い屈折率を有するものを用いることにより、薄膜の紫外
線硬化樹脂94は光導波路コアとして機能する。
First, an ultraviolet curable resin 94 is applied to the surface of a substrate 91 made of glass or transparent resin to form a thin film. By using a resin having a higher refractive index than the substrate 91 as the ultraviolet-curable resin 94, the thin-film ultraviolet-curable resin 94 functions as an optical waveguide core.

【0075】次に、紫外線硬化樹脂94に紫外線を照射
して硬化させる。紫外線硬化樹脂と光源との間に遮光板
93を挿入し、遮光板93を基板91と実質上平行状態
を保たせながら順次移動させることによって、紫外線硬
化樹脂94に照射される光の領域を変化させることがで
き、紫外線硬化樹脂94への光照射量を実質上連続的に
単調減少させ、連続的な屈折率分布を形成することがで
きる。
Next, the ultraviolet curing resin 94 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. The light-shielding plate 93 is inserted between the ultraviolet-curable resin and the light source, and the light-shielding plate 93 is sequentially moved while keeping the light-shielding plate 93 substantially parallel to the substrate 91, thereby changing the region of the light applied to the ultraviolet-curable resin 94. The amount of light irradiation on the ultraviolet curable resin 94 can be reduced substantially continuously and monotonously, and a continuous refractive index distribution can be formed.

【0076】なお、遮光板の移動速度を変化させること
によって任意の屈折率分布を形成することができる。
Incidentally, an arbitrary refractive index distribution can be formed by changing the moving speed of the light shielding plate.

【0077】また、本実施の形態では、1枚の遮光板を
用いたが、複数の遮光板を用いて、複数の方向に連続的
に変化する屈折率分布を形成してもよい。また、本実施
の形態では、遮光板93を移動させ照射領域を変化させ
ることにより照射量を変化させたが、透過率が連続的に
変化するマスクを用いて紫外線を照射させてもよい。ま
た、本実施の形態では、照射量を連続的に変化させた
が、照射量が等しい部分や離散的に変化する部分が存在
してもよい。
Although one light-shielding plate is used in this embodiment, a plurality of light-shielding plates may be used to form a refractive index distribution that continuously changes in a plurality of directions. Further, in the present embodiment, the irradiation amount is changed by moving the light-shielding plate 93 to change the irradiation area. However, the ultraviolet irradiation may be performed using a mask whose transmittance continuously changes. Further, in this embodiment, the irradiation amount is continuously changed, but there may be a portion where the irradiation amount is equal or a portion which changes discretely.

【0078】(第9の実施の形態)図10は、本発明の
第9の実施の形態の光学素子の製造方法を示す。
(Ninth Embodiment) FIG. 10 shows a method of manufacturing an optical element according to a ninth embodiment of the present invention.

【0079】まず、図10のようにガラスもしくは透明
樹脂よりなる基板101の表面に光ファイバ107の一
端をのせ、その上に紫外線硬化樹脂104を塗布する。
その後、紫外線を照射することで紫外線硬化樹脂104
は硬化され、光ファイバ107が基板101上に固定さ
れる。紫外線硬化樹脂104として基板101よりも高
い屈折率を有するものを用いることにより、紫外線硬化
樹脂104は光導波路コアとして機能する。
First, as shown in FIG. 10, one end of an optical fiber 107 is placed on the surface of a substrate 101 made of glass or transparent resin, and an ultraviolet curable resin 104 is applied thereon.
After that, by irradiating ultraviolet rays, the ultraviolet curable resin 104 is irradiated.
Is cured, and the optical fiber 107 is fixed on the substrate 101. By using a material having a higher refractive index than the substrate 101 as the ultraviolet-curable resin 104, the ultraviolet-curable resin 104 functions as an optical waveguide core.

【0080】紫外線硬化樹脂は照射する光量によって硬
化後の屈折率が変化するため、紫外線硬化樹脂104に
周期的な強度分布を有する光を照射することによって、
紫外線硬化樹脂104に周期的な屈折率分布を形成する
ことができる。屈折率の分布を周期的にすることで回折
格子として機能する。このため光学素子を形成し、かつ
同時に光ファイバを接続することができる。
Since the refractive index of the ultraviolet curable resin after curing changes depending on the amount of light to be irradiated, by irradiating the ultraviolet curable resin 104 with light having a periodic intensity distribution,
A periodic refractive index distribution can be formed in the ultraviolet curable resin 104. By making the refractive index distribution periodic, it functions as a diffraction grating. Therefore, an optical element can be formed and an optical fiber can be connected at the same time.

【0081】なお、本実施の形態では光導波路コア材料
として紫外線硬化樹脂を用いたが、これに限るものでは
なく、例えば熱硬化樹脂でもかまわない。また、本実施
の形態では他の光学部品として光ファイバを用いたが、
これに限るものではなく、例えば波長フィルタ、アイソ
レータ、ミラー、レンズ等でもかまわない。また、本実
施の形態では、回折格子を形成したが、これに限るもの
ではなく、一般の光導波路でもかまわない。また、発光
素子や受光素子、電極配線、半導体素子などの光、電子
部品を実装しても良い。
In this embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the core material of the optical waveguide. However, the present invention is not limited to this. For example, a thermosetting resin may be used. In this embodiment, an optical fiber is used as another optical component.
The present invention is not limited to this, and may be, for example, a wavelength filter, an isolator, a mirror, a lens, or the like. Further, in the present embodiment, the diffraction grating is formed, but the present invention is not limited to this, and a general optical waveguide may be used. Light and electronic components such as a light emitting element, a light receiving element, an electrode wiring, and a semiconductor element may be mounted.

【0082】[0082]

【発明の効果】以上述べたように、本発明は光学素子、
およびこれを製造する製造方法を提案するものであり、
光導波路などの光学素子を低コストで大量生産すること
が容易にできるものである。
As described above, the present invention provides an optical element,
And a manufacturing method for manufacturing the same,
An optical element such as an optical waveguide can be easily mass-produced at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における光学素子を
示す図
FIG. 1 is a diagram showing an optical element according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態における光導波路型
回折格子の機能を示す図
FIG. 2 is a diagram showing functions of an optical waveguide type diffraction grating according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態における光学素子を
示す図
FIG. 3 is a diagram showing an optical element according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態における光学素子を
示す図
FIG. 4 is a diagram showing an optical element according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4の実施の形態における光学素子を
示す図
FIG. 5 is a diagram showing an optical element according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5の実施の形態における光学素子を
示す図
FIG. 6 is a diagram showing an optical element according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第6の実施の形態における光学素子の
製造方法を示す図
FIG. 7 is a diagram showing a method for manufacturing an optical element according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第7の実施の形態における光学素子の
製造方法を示す図
FIG. 8 is a diagram illustrating a method of manufacturing an optical element according to a seventh embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第8の実施の形態における光学素子の
製造方法を示す図
FIG. 9 is a diagram illustrating a method of manufacturing an optical element according to an eighth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第9の実施の形態における光学素子
の製造方法を示す図
FIG. 10 is a diagram illustrating a method of manufacturing an optical element according to a ninth embodiment of the present invention.

【図11】従来の光学素子の製造方法を示す図FIG. 11 is a diagram showing a conventional optical element manufacturing method.

【符号の説明】 11、21、31、41、51、61、71、81、9
1、101、111基板 12、22、42 光導波路用溝 14、24、34、44、54、64、74、84、9
4、104 樹脂 15 位相マスク 43 凹凸部 55 温度制御素子 66 電極 93 遮光板 107 光ファイバ 114 石英系材料 118 フォトレジスト
[Description of Signs] 11, 21, 31, 41, 51, 61, 71, 81, 9
1, 101, 111 substrate 12, 22, 42 Optical waveguide groove 14, 24, 34, 44, 54, 64, 74, 84, 9
4, 104 Resin 15 Phase mask 43 Concavo-convex part 55 Temperature control element 66 Electrode 93 Light shield 107 Optical fiber 114 Quartz-based material 118 Photoresist

フロントページの続き (72)発明者 飯田 正憲 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 朝倉 宏之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H047 KA03 KA11 LA02 NA01 NA02 PA17 PA22 PA28 PA30 QA04 QA05 TA43 Continuing on the front page (72) Inventor Masanori Iida 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 2H047 KA03 KA11 LA02 NA01 NA02 PA17 PA22 PA28 PA30 QA04 QA05 TA43

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の材料とを備え、 光の進行方向において、前記材料の屈折率が実質上周期
的に変化している部分、又は実質上連続的に単調増加も
しくは単調減少している部分が存在する光学素子。
An optical waveguide comprising: a substrate having or not having an optical waveguide groove; and a material having a higher refractive index than the substrate filled in or disposed on the optical waveguide groove. An optical element in which, in a direction, there is a portion where the refractive index of the material changes substantially periodically, or a portion where the refractive index increases or decreases substantially continuously.
【請求項2】 前記光の進行方向と実質上直交する方向
において、前記材料の屈折率が実質上周期的に変化して
いる部分、又は実質上連続的に単調増加もしくは単調減
少している部分が存在する請求項1に記載の光学素子。
2. A portion where the refractive index of the material changes substantially periodically or a portion where the refractive index increases or decreases substantially continuously in a direction substantially orthogonal to the traveling direction of the light. The optical element according to claim 1, wherein
【請求項3】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の材料とを備え、 光の進行方向と実質上直交する方向において、前記材料
の屈折率が実質上周期的に変化している部分、又は実質
上連続的に単調増加もしくは単調減少している部分が存
在する光学素子。
3. A light propagation device comprising: a substrate having or not having an optical waveguide groove; and a material having a refractive index higher than that of the substrate, which is filled in the optical waveguide groove or disposed on the substrate. An optical element in which, in a direction substantially orthogonal to the direction, a portion where the refractive index of the material changes substantially periodically or a portion where the refractive index increases or decreases substantially continuously.
【請求項4】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の樹脂とを備え、 光の進行方向において、及び/又は前記光の進行方向と
実質上直交する方向において、前記樹脂の屈折率が異な
っている部分が存在する光学素子。
4. A substrate having or not having a groove for an optical waveguide, and a resin filled in the groove for an optical waveguide or disposed on the substrate and having a refractive index higher than that of the substrate. An optical element having a portion in which a refractive index of the resin is different in a direction and / or in a direction substantially orthogonal to a traveling direction of the light.
【請求項5】 前記樹脂の屈折率が異なっている部分
が、前記樹脂の光硬化性又は熱硬化性の性質を利用して
形成されている請求項4に記載の光学素子。
5. The optical element according to claim 4, wherein the portions of the resin having different refractive indices are formed by utilizing the photo-curing or thermosetting properties of the resin.
【請求項6】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の材料とを備え、 光の進行方向において、及び/又は前記光の進行方向と
実質上直交する方向において、前記材料の上に配置さ
れ、前記材料の温度を部分的に変化させるための温度制
御素子をさらに備えた光学素子。
6. A substrate having or not having a groove for an optical waveguide, and a material filled in or disposed on the substrate for the optical waveguide and having a higher refractive index than that of the substrate. An optical element disposed on the material in a direction and / or in a direction substantially orthogonal to the direction of travel of the light, further comprising a temperature control element for partially changing the temperature of the material.
【請求項7】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の材料とを備え、 光の進行方向において、及び/又は前記光の進行方向と
実質上直交する方向において、前記材料の上に配置さ
れ、前記材料の電界を部分的に変化させるための電極を
さらに備えた光学素子。
7. A light propagation device comprising: a substrate having or not having an optical waveguide groove; and a material having a higher refractive index than the substrate filled in or disposed on the optical waveguide groove. An optical element further comprising an electrode disposed on the material in a direction and / or in a direction substantially orthogonal to a direction of travel of the light, for partially changing an electric field of the material.
【請求項8】 光導波路用溝を有する又は有しない基板
と、前記光導波路用溝に充填された又は前記基板上に配
置された、前記基板より高屈折率の材料とを備え、 光の進行方向において、及び/又は前記光の進行方向と
実質上直交する方向において、前記材料が前記基板側に
凸の部分及び/又は前記基板が前記材料側に凸の部分を
有する光学素子。
8. An optical waveguide comprising: a substrate having or not having a groove for an optical waveguide; and a material filled in the groove for an optical waveguide or disposed on the substrate and having a higher refractive index than the substrate. An optical element having a portion in which the material is convex toward the substrate and / or a portion in which the substrate is convex toward the material, in a direction and / or in a direction substantially orthogonal to a traveling direction of the light.
【請求項9】 前記凸の部分が実質上周期的に設けられ
ている請求項8に記載の光学素子。
9. The optical element according to claim 8, wherein the convex portions are provided substantially periodically.
【請求項10】 前記材料がガラス系材料、もしくは樹
脂である請求項1、2、3、6、7、8、9のいずれか
に記載の光学素子。
10. The optical element according to claim 1, wherein the material is a glass-based material or a resin.
【請求項11】 基板に光硬化性樹脂を形成し、前記光
硬化性樹脂に光を照射して前記光硬化性樹脂を硬化させ
る光学素子の製造方法であって、前記光硬化性樹脂面上
における前記光の照射量を変化させる光学素子の製造方
法。
11. A method for producing an optical element, comprising: forming a photocurable resin on a substrate; and irradiating the photocurable resin with light to cure the photocurable resin. A method of manufacturing an optical element for changing an irradiation amount of light.
【請求項12】 前記光硬化性樹脂面上における所定の
方向において、前記光の照射量を実質上周期的に変化さ
せる、又は実質上連続的に単調増加もしくは単調減少さ
せる請求項11に記載の光学素子の製造方法。
12. The method according to claim 11, wherein the irradiation amount of the light is substantially periodically changed or substantially continuously monotonically increased or decreased in a predetermined direction on the photocurable resin surface. A method for manufacturing an optical element.
【請求項13】 前記光硬化性樹脂への光の照射強度を
変化させることにより、前記光硬化性樹脂面上における
前記光の照射量を変化させる請求項11又は12に記載
の光学素子の製造方法。
13. The production of the optical element according to claim 11, wherein an irradiation amount of the light on the photocurable resin surface is changed by changing an irradiation intensity of the light onto the photocurable resin. Method.
【請求項14】 部分的に光透過率の異なるマスクを用
いて前記光硬化性樹脂面上における前記光の照射強度を
変化させる請求項13に記載の光学素子の製造方法。
14. The method for manufacturing an optical element according to claim 13, wherein the irradiation intensity of the light on the photocurable resin surface is changed using a mask having a partially different light transmittance.
【請求項15】 遮光板を用いて前記光の照射領域を順
次変化させて前記照射量を変化させる請求項11又は1
2に記載の光学素子の製造方法。
15. The irradiation amount is changed by sequentially changing an irradiation area of the light using a light shielding plate.
3. The method for manufacturing an optical element according to item 2.
【請求項16】 基板に光硬化性樹脂を形成し、前記光
硬化性樹脂に光を照射して前記光硬化性樹脂を硬化させ
る光学素子の製造方法であって、前記光硬化性樹脂に他
の光学部品を接続して前記光硬化性樹脂を硬化させ、前
記光学部品を前記光硬化性樹脂に固定する光学素子の製
造方法。
16. A method of manufacturing an optical element, comprising: forming a photocurable resin on a substrate; and irradiating the photocurable resin with light to cure the photocurable resin. A method for manufacturing an optical element, wherein the optical component is connected to cure the photocurable resin, and the optical component is fixed to the photocurable resin.
【請求項17】 請求項1から7のいずれかに記載の光
学素子を製造する方法であって、前記基板の前記光導波
路用溝を、表面に凹凸が形成されている型材を用いて一
括形成する光学素子の製造方法。
17. The method for manufacturing an optical element according to claim 1, wherein the optical waveguide groove of the substrate is formed collectively by using a mold having an uneven surface. Of manufacturing an optical element.
【請求項18】 請求項8又は9に記載の光学素子を製
造する方法であって、前記光学素子の前記基板の凹凸
を、表面に凹凸が形成されている型材を用いて一括形成
する光学素子の製造方法。
18. The method for manufacturing an optical element according to claim 8, wherein the unevenness of the substrate of the optical element is collectively formed by using a mold having unevenness on the surface. Manufacturing method.
JP2001250819A 2000-08-23 2001-08-21 Optical element and method for manufacturing the same Pending JP2002139638A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001250819A JP2002139638A (en) 2000-08-23 2001-08-21 Optical element and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000252519 2000-08-23
JP2000-252519 2000-08-23
JP2001250819A JP2002139638A (en) 2000-08-23 2001-08-21 Optical element and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002139638A true JP2002139638A (en) 2002-05-17

Family

ID=26598312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001250819A Pending JP2002139638A (en) 2000-08-23 2001-08-21 Optical element and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002139638A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7515803B2 (en) 2004-03-31 2009-04-07 Kazuyuki Hirao Optical element, manufacturing method thereof, and optical device
US7521725B2 (en) 2004-03-17 2009-04-21 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical waveguide and the method of fabricating the same
JP2010271706A (en) * 2009-04-22 2010-12-02 Canon Inc Method for producing optical part
CN113985700A (en) * 2021-11-18 2022-01-28 业成科技(成都)有限公司 Method for manufacturing optical waveguide and display device and photomask used by same

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250607A (en) * 1987-04-08 1988-10-18 Seiko Epson Corp Production of light guide element
JPS6426806A (en) * 1987-07-23 1989-01-30 Canon Kk Production of light guide
JPH0497101A (en) * 1990-08-09 1992-03-30 Omron Corp Optical element and production thereof
JPH05188422A (en) * 1992-01-13 1993-07-30 Keisuke Sasaki Shg device
JPH05273427A (en) * 1991-09-18 1993-10-22 Carl Zeiss:Fa Optical waveguide having substantially flat substrate and treatment for its manufacture
EP0589268A1 (en) * 1992-09-17 1994-03-30 Robert Bosch Gmbh Integrated optical circuit with a Bragg structure
JPH08320420A (en) * 1995-03-23 1996-12-03 Toshiba Mach Co Ltd Production of optical waveguide
JPH08320422A (en) * 1994-06-22 1996-12-03 Fujitsu Ltd Production of optical waveguide system and optical device using the system
JPH1090539A (en) * 1996-09-11 1998-04-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical waveguide grating and its forming method
JPH10148729A (en) * 1996-11-21 1998-06-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Formation of ridge pattern of core part of polymer optical waveguide
JPH1123875A (en) * 1997-07-01 1999-01-29 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Optical integrated element
JPH11223735A (en) * 1998-02-05 1999-08-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Tunable polymer waveguide diffraction grating and its production

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250607A (en) * 1987-04-08 1988-10-18 Seiko Epson Corp Production of light guide element
JPS6426806A (en) * 1987-07-23 1989-01-30 Canon Kk Production of light guide
JPH0497101A (en) * 1990-08-09 1992-03-30 Omron Corp Optical element and production thereof
JPH05273427A (en) * 1991-09-18 1993-10-22 Carl Zeiss:Fa Optical waveguide having substantially flat substrate and treatment for its manufacture
JPH05188422A (en) * 1992-01-13 1993-07-30 Keisuke Sasaki Shg device
EP0589268A1 (en) * 1992-09-17 1994-03-30 Robert Bosch Gmbh Integrated optical circuit with a Bragg structure
JPH08320422A (en) * 1994-06-22 1996-12-03 Fujitsu Ltd Production of optical waveguide system and optical device using the system
JPH08320420A (en) * 1995-03-23 1996-12-03 Toshiba Mach Co Ltd Production of optical waveguide
JPH1090539A (en) * 1996-09-11 1998-04-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Optical waveguide grating and its forming method
JPH10148729A (en) * 1996-11-21 1998-06-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Formation of ridge pattern of core part of polymer optical waveguide
JPH1123875A (en) * 1997-07-01 1999-01-29 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Optical integrated element
JPH11223735A (en) * 1998-02-05 1999-08-17 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Tunable polymer waveguide diffraction grating and its production

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7521725B2 (en) 2004-03-17 2009-04-21 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical waveguide and the method of fabricating the same
US7515803B2 (en) 2004-03-31 2009-04-07 Kazuyuki Hirao Optical element, manufacturing method thereof, and optical device
JP2010271706A (en) * 2009-04-22 2010-12-02 Canon Inc Method for producing optical part
CN113985700A (en) * 2021-11-18 2022-01-28 业成科技(成都)有限公司 Method for manufacturing optical waveguide and display device and photomask used by same
CN113985700B (en) * 2021-11-18 2023-08-29 业成科技(成都)有限公司 Manufacturing method of optical waveguide and display device and photomask used by same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100415625B1 (en) Method for manufacturing a planar type waveguide using an ion exchange method
KR100288742B1 (en) Fabrication method for optical waveguide
KR100895148B1 (en) Fabrication method for polymeric waveguide grating
KR20070091288A (en) Methods and process of tapering waveguides and of forming optimized waveguide structures
JP3159433B2 (en) Method for manufacturing low-loss optical active device
JP2006106749A (en) Method of manufacturing mold for patterning lower cladding layer of wavelength filter and of manufacturing waveguide-type wavelength filter using the mold
JPH1048443A (en) Polymer waveguide and its production
JP2002139638A (en) Optical element and method for manufacturing the same
US6826344B2 (en) Optical element and method of fabrication thereof
Chiang Development of optical polymer waveguide devices
JPH10227930A (en) Temperature-independent optical waveguide and its manufacture
JP3343846B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide
KR20040104655A (en) Effective refractive index chirped bragg gratings
JP4095358B2 (en) Holy waveguide type optical circuit and manufacturing method thereof
KR100440763B1 (en) Optical waveguide-type filter device for flattening gain and method for manufacturing the same
JP2000147286A (en) Optical waveguide and its manufacture
Chen Introduction to Polymer Photonics for Information Technology
JP2000019337A (en) Optical waveguide and its production
JP2003222747A (en) Optical circuit board
JP2001159718A (en) Array waveguide type wavelength multiplexing/ demultiplexing circuit
Ghoumid et al. Multi-wavelength filtering wideband by cascade bragg reflectors in optical waveguides
JP2008158411A (en) Waveguide type optical switch and array waveguide type optical switch
WO2020158588A1 (en) Optical circuit
JP2005121696A (en) Optical waveguide
KR100772509B1 (en) Optical device having optical waveguide of organic Bragg grating sheet

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040413

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050719

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051115