JP2002139459A - Method and apparatus for x-ray imaging - Google Patents

Method and apparatus for x-ray imaging

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JP2002139459A
JP2002139459A JP2000334339A JP2000334339A JP2002139459A JP 2002139459 A JP2002139459 A JP 2002139459A JP 2000334339 A JP2000334339 A JP 2000334339A JP 2000334339 A JP2000334339 A JP 2000334339A JP 2002139459 A JP2002139459 A JP 2002139459A
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JP
Japan
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phase
ray
ray imaging
interferometer
intensity
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JP2000334339A
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Japanese (ja)
Inventor
Akio Yoneyama
明男 米山
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase contrast-type X-ray imaging method in which a phase image of satisfactory accuracy can be acquired without using a phase shifter by a method wherein the phase image of a subject is obtained on the basis of a plurality of images measured by changing the relative position of a dividing element to a coupling element. SOLUTION: The element which divides incident X-rays and the element which couples the divided X-rays are horizontally moved relatively or turned. A difference (phase difference) in an optical path length inside an interferometer is changed. On the basis of a plurality of interference images measured in each phase difference, the phase image is calculated and found.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はX線撮像法に係わ
り、物体の内部を非破壊に検査する撮像方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an X-ray imaging method, and more particularly to an imaging method for non-destructively inspecting the inside of an object.

【0002】[0002]

【従来の技術】X線が試料を透過する際、X線の振幅及
び位相が変化する。一般的に位相の変化は吸収の変化に
比べて顕著であるため、この変化を捉えることにより、
高感度に物体内部を観測することができる。この位相変
化を利用した位相コントラスト型X線撮像装置として
は、特開平4−348262号公報に記載されたもの
や、特開平10−248833号公報に記載されたもの
などがある。これらの撮像装置では、振幅の変化を利用
した従来のX線撮像装置では観察することができなかっ
た生体軟部組織等を無造影で観察することができる。
2. Description of the Related Art When an X-ray passes through a sample, the amplitude and the phase of the X-ray change. Generally, the change in phase is more remarkable than the change in absorption, so by capturing this change,
The inside of the object can be observed with high sensitivity. Examples of a phase contrast type X-ray imaging apparatus utilizing this phase change include those described in JP-A-4-348262 and those described in JP-A-10-248833. With these imaging apparatuses, it is possible to observe soft tissue of a living body or the like that cannot be observed with a conventional X-ray imaging apparatus using a change in amplitude without contrast.

【0003】上記公開公報ではいずれもX線用の干渉計
を用いて、位相変化を検出している。このうち、特開平
4−348262号公報に記載された特許では、図1に
示すようなボンゼ・ハート型干渉計(Appl. Phys. Let
t. 6,155(1965)に記載されたようなもの)を用い
ている。この干渉計は、等間隔で平行に配置されたスプ
リッタ1、ミラー2およびアナライザー3を持った結晶
ブロック4から構成される。入射X線5は、スプリッタ
1でラウエケースのX線回折により第1ビーム6aと第
2ビーム7aに分割される。ミラー2に入射した第1ビ
ーム6aは第3ビーム6bと第4ビーム6cに、第2ビ
ーム7aは第5ビーム7bと第6ビーム7cに再び分割
される。スプリッタ1、ミラー2およびアナライザー3
のそれぞれの間隔は等しいので、第4ビーム6cと第5
ビーム7bはアナライザー3上の同じ点に入射し、回折
により結合され第1干渉ビーム8a及び第2干渉ビーム
8bを形成する。
In each of the above publications, a phase change is detected using an X-ray interferometer. Among them, the patent described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-348262 discloses a Bonze-Hart interferometer (Appl. Phys. Let) as shown in FIG.
t. 6,155 (1965)). This interferometer is composed of a crystal block 4 having a splitter 1, a mirror 2, and an analyzer 3 arranged in parallel at equal intervals. The incident X-ray 5 is split by the splitter 1 into a first beam 6a and a second beam 7a by X-ray diffraction in a Laue case. The first beam 6a incident on the mirror 2 is split again into a third beam 6b and a fourth beam 6c, and the second beam 7a is split again into a fifth beam 7b and a sixth beam 7c. Splitter 1, mirror 2 and analyzer 3
Of the fourth beam 6c and the fifth beam
The beam 7b is incident on the same point on the analyzer 3 and is combined by diffraction to form a first interference beam 8a and a second interference beam 8b.

【0004】特開平10−248833号公報に記載さ
れた発明では、観察視野を広げるために図2に示すよう
に、スプリッタ11およびミラー12を持った第1結晶
ブロック9、及び、ミラー13およびアナライザー14
を持った第2結晶ブロック10から構成される干渉計を
用いている。入射X線15は第1結晶ブロック9のスプ
リッタ11でラウエケースのX線回折により第1ビーム
16aと第2ビーム17aに分割される。第1ビーム1
6aは第1結晶ブロック9のミラー12で第3ビーム1
6bと第4ビーム16cに、第2ビーム17aは第2結
晶ブロック10のミラー13で第5ビーム17bと第6
ビーム17cに再び分割される。このうち第4ビーム1
6cと第5ビーム17bは第2結晶ブロック10のアナ
ライザー14の同じ点に入射し、結合され第1干渉ビー
ム18a及び第2干渉ビーム18bを形成する。
In the invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-248833, a first crystal block 9 having a splitter 11 and a mirror 12, a mirror 13 and an analyzer as shown in FIG. 14
An interferometer composed of the second crystal block 10 having the following is used. The incident X-ray 15 is split by the splitter 11 of the first crystal block 9 into a first beam 16a and a second beam 17a by Laue-case X-ray diffraction. 1st beam 1
6a is a mirror 12 of the first crystal block 9 and a third beam 1
The second beam 17a is added to the fifth beam 17b and the sixth beam by the mirror 13 of the second crystal block 10 to the 6b and the fourth beam 16c.
It is split again into beams 17c. Fourth beam 1
6c and the fifth beam 17b are incident on the same point of the analyzer 14 of the second crystal block 10 and are combined to form a first interference beam 18a and a second interference beam 18b.

【0005】上記干渉計において、分割されたビームの
一方の光路、例えばビーム6cや16cに被写体を設置
すると、被写体の位相分布に応じてビームの位相がシフ
トし、他方のビーム(7b及び17b)と結合させると
干渉により位相の変化が干渉ビーム(8a,8b,18
a,18b)の強度変化となって現れる。したがって、
この強度変化から、被写体の位相分布情報を得ることが
できる。
In the above interferometer, when a subject is set on one optical path of the split beams, for example, beams 6c and 16c, the phase of the beam is shifted according to the phase distribution of the subject, and the other beams (7b and 17b) When it is combined with the interference beam, the phase change due to the interference causes interference beams (8a, 8b, 18).
a, 18b). Therefore,
From this intensity change, phase distribution information of the subject can be obtained.

【0006】しかし、1枚の干渉ビームの強度変化分布
像(干渉像)だけから精度の良い被写体の位相像を求め
ることはできない。そこで、上記のいずれの公開公報に
おいてもJ. Opt. Soc. Am., 156,72 (1982)に記
載されているような縞走査法という計測手法を用いて位
相像を求めている。この手法では、分割された他方の光
路、例えばビーム7bや17bなどに位相シフタを設置
し、分割されたビーム間の位相差を0から2π/Mづつ
変化させてM枚の干渉像を測定する。そして、測定した
これら複数の干渉像から計算で位相像を求める。
However, an accurate phase image of a subject cannot be obtained from only the intensity change distribution image (interference image) of one interference beam. Therefore, in each of the above publications, a phase image is obtained by using a measurement technique called a fringe scanning method as described in J. Opt. Soc. Am., 156, 72 (1982). In this method, a phase shifter is installed in the other split optical path, for example, beams 7b and 17b, and the M phase images are measured by changing the phase difference between the split beams from 0 to 2π / M at a time. . Then, a phase image is obtained by calculation from the plurality of measured interference images.

【0007】位相シフタには図3(a)に示したような
くさび形のアクリル19を、矢印に示すように、光路に
出し入れする構造ものや、図3(b)に示したような平
板のアクリル20を、矢印に示すように、回転させる構
造のものを用いる。被写体の位相像φ(x、y)は、測
定した干渉像の強度Ik(x、y)を用いて、(1)式
から得ることができる。但し、argは偏角の計算を示
す。
A wedge-shaped acrylic 19 as shown in FIG. 3A is inserted into or taken out of the optical path as shown by an arrow, or a flat plate as shown in FIG. The acryl 20 has a structure of rotating as shown by the arrow. The phase image φ (x, y) of the subject can be obtained from Expression (1) using the measured intensity Ik (x, y) of the interference image. Here, arg indicates the calculation of the argument.

【0008】[0008]

【数1】 (Equation 1)

【発明が解決しようとする課題】上述したように位相コ
ントラスト撮像法において、精度の良い位相像を求める
ためには、分割されたビーム間の位相差を変化させて測
定した複数の干渉像から位相像を求める縞走査法が必要
不可欠である。しかし、位相差を変化させるためには位
相シフタを新たに設けなければならないという問題があ
った。また、位相シフタの設置は位相の変化だけでなく
吸収による強度の減少も生じる。このため、測定時間の
延長或いは干渉像のVisibilityの低下を招く
という問題があった。
As described above, in the phase contrast imaging method, in order to obtain a high-accuracy phase image, the phase contrast is calculated from a plurality of interference images measured by changing the phase difference between the divided beams. A fringe scanning method for obtaining an image is indispensable. However, there is a problem that a new phase shifter must be provided to change the phase difference. Further, the installation of the phase shifter causes not only a change in phase but also a decrease in intensity due to absorption. Therefore, there is a problem that the measurement time is extended or the visibility of the interference image is reduced.

【0009】本発明の目的は、位相シフタを用いずに精
度の良い位相像を取得できる位相コントラスト型X線撮
像法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a phase-contrast X-ray imaging method capable of acquiring an accurate phase image without using a phase shifter.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】図4に示したX線干渉計
の模式図を用いて説明する。このX線干渉計において、
入射X線ビーム23は、分割素子21により第1ビーム
24と第2ビーム25に分割された後、結合素子22に
より再び1本ビームに結合される。ところで、図に示す
ように結合素子22を分割素子21に対して、矢印aで
示すように、相対的に平行移動させ、或いは、矢印bで
示すように、相対的に回転させると、干渉計の構成に関
わらず分割されたビーム24とビーム25の位相差が変
化する。このため、分割素子21と結合素子22の相対
的な平行移動或いは回転を制御することにより、位相シ
フタを用いることなく分割されたビーム間の位相差を任
意の値に設定することができる。したがって、分割素子
21と結合素子22を相対的に平行移動或いは回転する
ことにより位相を変化させて複数の干渉像を測定し、得
られた干渉像から位相像を求める縞走査法により上記課
題は解決される。
A description will be given with reference to the schematic diagram of the X-ray interferometer shown in FIG. In this X-ray interferometer,
The incident X-ray beam 23 is split into a first beam 24 and a second beam 25 by the splitting element 21, and then is split into one beam again by the splitting element 22. By the way, as shown in the figure, when the coupling element 22 is relatively translated with respect to the splitting element 21 as shown by the arrow a, or is relatively rotated as shown by the arrow b, the interferometer , The phase difference between the split beams 24 and 25 changes. Therefore, by controlling the relative translation or rotation of the splitting element 21 and the coupling element 22, the phase difference between the split beams can be set to an arbitrary value without using a phase shifter. Therefore, the above-described problem is solved by the fringe scanning method in which the phase is changed by relatively moving or rotating the splitting element 21 and the coupling element 22 to measure a plurality of interference images and obtain a phase image from the obtained interference images. Will be resolved.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
例について説明する。以下に示す図において、同じ機能
を有する部分には同じ符号を付し、重複する説明を省略
する。 (実施例1)図5は本発明で使用する位相コントラスト
型X線撮像装置の一例の構成図である。26はX線干渉
計であり、図1で説明したように、等間隔で平行に配置
されたスプリッタ1、ミラー2およびアナライザー3を
持った結晶ブロック4から構成されるが、結晶ブロック
4のミラー2とアナライザー3とを連結している部分は
大部分が切り欠かれて結合片で結合されたものとなって
いる。27は回転角調整機構であり、入射X線36とX
線干渉計26の相対的な入射角を調整する。100は回
転角調整機構27の上に載置された基板100であり、
X線干渉計26の支持基盤となる。101および102
は基板100の上に載置された支持板101および支持
板102であり、それぞれ、スプリッタ1およびミラー
2の部分およびアナライザー3の部分が載置される。2
8はX線干渉計26の試料ホルダー、29は試料ホルダ
ー位置決め機構である。30はX線検出器、31は制御
装置、32は画像処理用計算機、33および33’は表
示装置である。34は移動機構であり、制御装置31の
信号により支持板102を図に示す矢印aの方向に平行
移動させる。35は位置検出機構であり、支持板102
の変移を検出し、制御装置31にフィードバックする。
ここで、移動機構34による支持板102の変移は、厳
密には、アナライザー3の基部の結晶ブロック4の部分
がミラー2の結晶ブロック4の部分と実質的に一点で結
合されているから、回転移動となるが、その誤差は10
-8程度であり、X線干渉計26に必要な精度から言え
ば、平行移動と言って支障は無い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings shown below, portions having the same functions are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted. (Embodiment 1) FIG. 5 is a configuration diagram of an example of a phase contrast type X-ray imaging apparatus used in the present invention. Reference numeral 26 denotes an X-ray interferometer, which comprises a splitter 1, a mirror 2, and a crystal block 4 having an analyzer 3, which are arranged in parallel at equal intervals as described with reference to FIG. Most of the portion connecting the analyzer 2 and the analyzer 3 is cut out and connected by a connecting piece. Reference numeral 27 denotes a rotation angle adjusting mechanism, which controls the incident X-rays 36 and X
The relative angle of incidence of the line interferometer 26 is adjusted. 100 is a substrate 100 mounted on the rotation angle adjusting mechanism 27,
It becomes a support base of the X-ray interferometer 26. 101 and 102
Denotes a support plate 101 and a support plate 102 mounted on a substrate 100, on which a portion of the splitter 1, a mirror 2, and a portion of the analyzer 3 are mounted, respectively. 2
Reference numeral 8 denotes a sample holder of the X-ray interferometer 26, and reference numeral 29 denotes a sample holder positioning mechanism. 30 is an X-ray detector, 31 is a control device, 32 is a computer for image processing, and 33 and 33 'are display devices. Reference numeral 34 denotes a moving mechanism that moves the support plate 102 in the direction of arrow a shown in FIG. Reference numeral 35 denotes a position detecting mechanism,
Is detected and fed back to the control device 31.
Here, strictly speaking, the displacement of the support plate 102 by the moving mechanism 34 is performed because the crystal block 4 at the base of the analyzer 3 is substantially connected to the crystal block 4 at the mirror 2 at one point. Movement, but the error is 10
-8 , which means that there is no problem in terms of parallel movement in terms of the accuracy required for the X-ray interferometer 26.

【0012】X線干渉計26に入射したX線36は、図
1に示したボンゼ・ハート型干渉計と同様に干渉計内で
分割・反射・結合され、第1干渉ビーム37a及び第2
干渉ビーム37bを形成する。分割された一方のビーム
の光路に試料ホルダー位置決め機構29により位置決め
された試料ホルダー28を用いて被写体を設置すると、
被写体の位相分布に応じてビームの位相分布がシフト
し、干渉ビーム37a及び37bに強度変動(干渉像)
となって現れる。この干渉像をX線検出器30で検出す
る。
The X-ray 36 incident on the X-ray interferometer 26 is split, reflected, and combined in the interferometer in the same manner as the Bonze-Hart interferometer shown in FIG. 1, and the first interference beam 37a and the second
An interference beam 37b is formed. When an object is set using the sample holder 28 positioned by the sample holder positioning mechanism 29 on the optical path of one of the split beams,
The phase distribution of the beam shifts according to the phase distribution of the subject, and the interference beams 37a and 37b change in intensity (interference image).
Appears as. This interference image is detected by the X-ray detector 30.

【0013】図6にX線干渉計26の詳細な図を示す。
図1に示したボンゼ・ハート型干渉計は入射X線を分割
する分割素子と、分割されたビームを結合する結合素子
が一体の結晶ブロックで構成されていたために、分割素
子と結合素子を相対的に平行移動或いは回転することは
できなかった。そこで、本実施例1では図に示したよう
に干渉計26のブロック4に切り込みを入れ、スプリッ
タ38とミラー39からなる分割ブロック41と、アナ
ライザー40からなる分割ブロック42に分割する。た
だし、完全に分離するのではなくて、両者は切り残され
た薄い結合片44で連結されており、両ブロック41と
42とを、外力を加えないで平坦な面上におけば、ボン
ゼ・ハート型干渉計の基本の形を維持できる構造とされ
ている。基板100は、このための強固な支持基盤とし
て機能し、支持板101および102は分割ブロック4
1、分割ブロック42の支持板として機能する。この構
造において、分割ブロック42を搭載した支持板102
の側面をブロック移動機構34で押すと、切り残された
薄い結合片44が弾性変形し、分割ブロック42がx軸
に沿って、矢印aで示すように、分割ブロック41に対
して相対的に平行移動する。
FIG. 6 is a detailed view of the X-ray interferometer 26.
In the Bonse-Hart interferometer shown in FIG. 1, since the splitting element for splitting the incident X-ray and the coupling element for coupling the split beams are formed by an integral crystal block, the splitting element and the coupling element are relatively Could not be translated or rotated. Therefore, in the first embodiment, as shown in the drawing, a cut is made in the block 4 of the interferometer 26, and the block 4 is divided into a divided block 41 composed of the splitter 38 and the mirror 39 and a divided block 42 composed of the analyzer 40. However, instead of being completely separated, they are connected by a thin connecting piece 44 left uncut, and if the blocks 41 and 42 are placed on a flat surface without applying external force, Bonse- It is designed to maintain the basic shape of a heart-shaped interferometer. The substrate 100 functions as a solid support base for this purpose, and the support plates 101 and 102
1. It functions as a support plate for the divided block 42. In this structure, the support plate 102 on which the divided block 42 is mounted is
When the side surface is pressed by the block moving mechanism 34, the uncut thin connecting piece 44 is elastically deformed, and the divided block 42 moves along the x-axis relative to the divided block 41 as indicated by an arrow a. Translate in parallel.

【0014】この構成の干渉計において、分割ブロック
41と分割ブロック42の相対的なx軸の平行移動Δx
は、分割されたビーム間の位相差を変化させる。位相差
をΔΦだけ変化させるために必要なΔxは(2)式で与
えられる。ここで、dは回折格子面の面間隔である。
In the interferometer having this configuration, the relative movement x of the divided block 41 and the divided block 42 on the x-axis.
Changes the phase difference between the split beams. Δx required to change the phase difference by ΔΦ is given by equation (2). Here, d is the surface interval between the diffraction grating surfaces.

【0015】[0015]

【数2】 本実施例1において、走査数Mの縞走査法による位相像
の測定は以下の順に行う。 (1)分割されたビーム間の位相差Φが2π・m/Mと
なるように、ブロック移動機構34及び位置検出器35
を用いて、上記位相差Φに対応したΔx=m・d/Mに
調整する。 (2)検出器30を用いて干渉像Imを測定する。 (3)上記(1)〜(2)をm=0,-----,M−1ま
で繰り返し、M枚の干渉像を測定する。 (4)画像処理用計算機32において、(1)式に従っ
て干渉像Imから位相像を計算し、表示装置33で表示
する。
(Equation 2) In the first embodiment, the measurement of the phase image by the fringe scanning method with the number of scans M is performed in the following order. (1) The block moving mechanism 34 and the position detector 35 so that the phase difference Φ between the split beams becomes 2π · m / M.
Is adjusted to Δx = mdd / M corresponding to the above phase difference Φ. (2) The interference image Im is measured using the detector 30. (3) The above (1) and (2) are repeated until m = 0,..., M−1, and M interference images are measured. (4) The image processing computer 32 calculates a phase image from the interference image Im according to the equation (1), and displays the phase image on the display device 33.

【0016】また、上記測定における各装置の制御は制
御装置31で行うが、ブロック移動機構34及び位置検
出器35を用いて干渉像Imを測定する際、表示装置3
3’によるモニター像を参照することにより、操作を容
易にすることができる。
The control of each device in the above measurement is performed by the control device 31. However, when measuring the interference image Im using the block moving mechanism 34 and the position detector 35, the display device 3
The operation can be facilitated by referring to the monitor image by 3 '.

【0017】入射X線ビームを分割、反射、結合するX
線回折には、どのような回折格子面を用いてもよいが、
この実施例では回折角度幅が広く、回折時の強度損失の
少ないSi(220)面の回折を用いている。したがっ
て、結晶の方位は図に示したように、X軸は<1,1,
0>、Y軸は<0,0,1>となる。Si(220)の
格子面間隔dは0.192nmであるので、縞走査法に
おける走査数Mを例えば5としたときのΔxは38pm
と極めて小さな値となる。したがって、ブロック駆動機
構34には圧電素子のような極めて位置決め精度の高い
駆動素子を用いる。また、位置検出機構35にはヘテロ
ダイン検出のレーザー干渉計のような極めて測長精度の
高い測長器を用いるのが良い。
X for splitting, reflecting and combining an incident X-ray beam
Any diffraction grating surface may be used for line diffraction,
In this embodiment, diffraction of the Si (220) plane having a wide diffraction angle width and small intensity loss during diffraction is used. Therefore, as shown in the figure, the crystal orientation is <1,1,
0> and the Y axis are <0, 0, 1>. Since the lattice spacing d of Si (220) is 0.192 nm, Δx is 38 pm when the number of scans M in the fringe scanning method is 5, for example.
And an extremely small value. Therefore, a drive element having extremely high positioning accuracy, such as a piezoelectric element, is used for the block drive mechanism 34. Further, it is preferable to use a length measuring device having extremely high length measuring accuracy such as a laser interferometer for heterodyne detection as the position detecting mechanism 35.

【0018】X線が干渉計に入射できる角度幅は数秒程
度と極めて狭い。このため、入射X線36のX線干渉計
への入射角を調整するX線干渉計用位置調整機構27に
は、極めて高い回転位置決め精度(1/100秒程度)
を持ったステージを用いる。
The angle width at which X-rays can be incident on the interferometer is extremely narrow, on the order of several seconds. Therefore, the X-ray interferometer position adjustment mechanism 27 that adjusts the incident angle of the incident X-ray 36 to the X-ray interferometer has extremely high rotational positioning accuracy (about 1/100 second).
Use a stage with.

【0019】以上、本実施例によれば、分割素子と結合
素子を相対的に平行移動させ分割されたビーム間の位相
をシフトさせることができる。したがって、位相シフタ
を設置することなく縞走査法を用いて位相決定精度が高
い位相像を取得することができる。 (実施例2)実施例1において、分割ブロックと結合ブ
ロックのx軸の相対的な平行移動量Δxの検出は位置検
出機構35で行っていた。しかし、上述したように縞走
査法による測定で必要な位相差を生じるΔxは数10p
mと極めて小さい値である。このため、分解能の高い測
長器を用いても、正確にΔxを検出することは難しく、
位相差を精度良く調整することが難しい。ここでは、位
置検出機構35に代わり、干渉するビームの強度変化を
用いて位相差を調整する実施例を示す。
As described above, according to the present embodiment, the splitting element and the coupling element can be relatively moved in parallel to shift the phase between the split beams. Therefore, a phase image with high phase determination accuracy can be obtained by using the fringe scanning method without installing a phase shifter. (Second Embodiment) In the first embodiment, the relative parallel movement amount Δx of the x-axis of the divided block and the combined block is detected by the position detection mechanism 35. However, as described above, Δx that causes a necessary phase difference in the measurement by the fringe scanning method is several tens of p.
m, which is an extremely small value. For this reason, it is difficult to accurately detect Δx even with a length measuring device having a high resolution.
It is difficult to accurately adjust the phase difference. Here, an embodiment in which the phase difference is adjusted using the intensity change of the interfering beam instead of the position detection mechanism 35 will be described.

【0020】本実施例2における検出器近傍の装置構成
の一例を図7に示す。その他の装置構成は実施例1と同
じである。本実施例では図に示すように、2本ある干渉
ビームの一方を検出器30で検出し、他方の干渉ビーム
をビーム強度検出器45で検出する。このうち検出器4
5で検出した干渉ビームの強度を用いて、位相差の調整
を行う。尚、検出器の前面には開口幅及び位置の調整が
可能なスリット46が設置してあり、干渉ビーム内の任
意領域の強度を検出できるようになっている。
FIG. 7 shows an example of a device configuration near the detector in the second embodiment. Other device configurations are the same as those of the first embodiment. In this embodiment, as shown in the drawing, one of the two interference beams is detected by the detector 30 and the other interference beam is detected by the beam intensity detector 45. Detector 4
The phase difference is adjusted using the intensity of the interference beam detected in step 5. A slit 46 whose opening width and position can be adjusted is provided on the front surface of the detector so that the intensity of an arbitrary region in the interference beam can be detected.

【0021】実施例1で示したように、分割ブロック4
1と結合ブロック42のx軸の相対的な平行移動Δx
は、分割されたビーム間の位相差を変化させる。この位
相差の変化ΔΦは干渉像上において干渉縞のドリフトと
なって現れる。このため、スリット46の開口幅を干渉
縞の間隔より狭く設定しておくと、ビーム強度検出器4
5の出力すなわち干渉ビームの強度Iは、Δxすなわち
ΔΦの変化に伴って図8に示すように変動することにな
る。このとき、ビーム強度検出器45の出力Iと位相差
Φの関係は(3)式で与えられる。
As shown in the first embodiment, the divided block 4
1 and the relative translation Δx of the x-axis of the coupling block 42
Changes the phase difference between the split beams. This change ΔΦ in phase difference appears as a drift of interference fringes on the interference image. Therefore, if the opening width of the slit 46 is set smaller than the interval between the interference fringes, the beam intensity detector 4
5, that is, the intensity I of the interference beam fluctuates as shown in FIG. 8 with a change in Δx, that is, ΔΦ. At this time, the relationship between the output I of the beam intensity detector 45 and the phase difference Φ is given by equation (3).

【0022】[0022]

【数3】 ここで、Iaはバックグランドの強度、Ibは強度の振
動振幅であり、図8から求めることができる。
(Equation 3) Here, Ia is the intensity of the background and Ib is the amplitude of the intensity, which can be obtained from FIG.

【0023】したがって、数3を用いて位相差Φの値
を、強度Iから求めることができる。また、強度Iが目
的の位相差に対応した値となるようにブロック間の平行
移動量Δxを相対的に適当量調整することで、Δxを測
長することなく目的とする位相差Φに設定することがで
きる。
Therefore, the value of the phase difference Φ can be obtained from the intensity I by using the equation (3). In addition, by adjusting the parallel movement amount Δx between blocks relatively appropriately so that the intensity I becomes a value corresponding to the target phase difference, the target phase difference Φ can be set without measuring the length of Δx. can do.

【0024】本実施例における縞走査法を用いた位相像
の測定は、 (1)Δxを適当量掃引して、図8に相当するグラフを
求める。 (2)Φm=2π・m/Mに対応した強度Imを、
(1)で求めたグラフから求める。 (3)ブロック移動機構34を用いてブロック間を平行
移動させ、目的とする位相差Φmに対応した強度Imと
なるように調整する。 (4)検出器30で各位相差Φmにおける干渉像Imを
測定する。 (5)上記(2)〜(4)をm=0,-----,M−1ま
で繰り返し、M枚の干渉像を測定する。 の順に行う。(5)以降の測定手順は実施例1と同様に
して行う。
The measurement of the phase image using the fringe scanning method in this embodiment is as follows: (1) Sweep an appropriate amount of Δx to obtain a graph corresponding to FIG. (2) The intensity Im corresponding to Φm = 2π · m / M is
It is obtained from the graph obtained in (1). (3) The block is moved in parallel between the blocks using the block moving mechanism 34, and adjusted so as to have the intensity Im corresponding to the target phase difference Φm. (4) The detector 30 measures the interference image Im at each phase difference Φm. (5) The above (2) to (4) are repeated until m = 0,..., M−1, and M interference images are measured. In order. (5) The subsequent measurement procedure is performed in the same manner as in Example 1.

【0025】以上、本実施例によれば、干渉ビームの強
度変動を用いて分割されたビーム間の位相シフト量を精
度良く制御することができる。したがって、精度が高い
位相像を取得することができる。 (実施例3)実施例2においては、位相差は干渉ビーム
上のある任意領域の強度Iを用いて調整していた。この
場合、入射X線の強度が時間的に一定であれば問題ない
が、時間的に変動している場合には強度Iも当然変動す
ることになり、この変動が入射X線の強度変動によるも
のなのか、位相差の変動によるものか区別できない。こ
のため、位相差を正確に調整することができなくなって
しまう。また、(3)式からわかるように強度Iが最大
値や最小値の近傍となる位相差では、位相差の変化に対
して強度Iの変化が鈍感になるために、精度良く位相差
を調整することができない。ここでは、干渉ビームの強
度を複数の領域で検出することにより、上記課題を解決
する実施例の一例を示す。
As described above, according to the present embodiment, it is possible to accurately control the amount of phase shift between the divided beams using the intensity fluctuation of the interference beam. Therefore, a highly accurate phase image can be obtained. (Embodiment 3) In Embodiment 2, the phase difference is adjusted using the intensity I of an arbitrary area on the interference beam. In this case, there is no problem if the intensity of the incident X-ray is constant over time. However, if the intensity is temporally fluctuating, the intensity I naturally also fluctuates. It cannot be distinguished whether it is due to a change in phase difference. For this reason, the phase difference cannot be adjusted accurately. Further, as can be seen from the equation (3), in the phase difference where the intensity I is close to the maximum value or the minimum value, the change in the intensity I becomes insensitive to the change in the phase difference, so that the phase difference is adjusted with high accuracy. Can not do it. Here, an example of an embodiment that solves the above-described problem by detecting the intensity of the interference beam in a plurality of regions will be described.

【0026】本実施例における検出器近傍の装置構成の
一例を図9に示す。ここで検出器とは、実施例2におけ
るビーム強度検出器45に対応するものであり、その他
の装置の構成は実施例1、実施例2と同じである。この
図に示すように、検出器47,48,49はX線強度検
出器と、各検出器の前面に設置されたスリットと、各ス
リットを保持・位置決めする強度検出器位置決め機構か
ら構成される。各X線強度検出器と各検出器の前面に設
置されたスリットとの関係は図7で説明したX線強度検
出器45とスリット46との関係と同じである。分割さ
れたビームの一方の光路に被写体或いは適当な位相物体
を設置すると、干渉ビーム上の各点の位相が被写体の位
相分布にしたがってシフトし、均一でなくなる。このた
め、強度検出器位置決め機構及びスリットを用いて、そ
れぞれの検出器が検出する領域を適当に調整することに
より、各検出器の出力すなわち各検出器が検出している
領域のビームの間の位相差を適当量ずらすことができ
る。すなわち、Δxの変化に伴う各検出器からの出力を
図10に示すように調整することができる。
FIG. 9 shows an example of the device configuration near the detector in this embodiment. Here, the detector corresponds to the beam intensity detector 45 in the second embodiment, and the configuration of the other devices is the same as in the first and second embodiments. As shown in this figure, the detectors 47, 48 and 49 are composed of an X-ray intensity detector, slits provided on the front of each detector, and an intensity detector positioning mechanism for holding and positioning each slit. . The relationship between each X-ray intensity detector and the slit provided in front of each detector is the same as the relationship between the X-ray intensity detector 45 and the slit 46 described with reference to FIG. If a subject or an appropriate phase object is placed on one optical path of the split beam, the phase of each point on the interference beam shifts according to the phase distribution of the subject and becomes non-uniform. For this reason, by appropriately adjusting the area detected by each detector using the intensity detector positioning mechanism and the slit, the output of each detector, that is, the beam between the beams in the area detected by each detector is adjusted. The phase difference can be shifted by an appropriate amount. That is, the output from each detector according to the change in Δx can be adjusted as shown in FIG.

【0027】このように調整した場合、図10からわか
るように、位相が変化すると各検出器からの出力の比が
変化することになる。一方、入射X線強度が減少した場
合には、各検出器からの出力は比が一定のまま共に減少
することになる。したがって、この変化の違いを利用し
て、入射X線の強度変動と、ΔΦの変動とを区別するこ
とができる。
In such an adjustment, as can be seen from FIG. 10, when the phase changes, the ratio of the output from each detector changes. On the other hand, when the incident X-ray intensity decreases, the output from each detector decreases together with the ratio kept constant. Therefore, by utilizing the difference between these changes, it is possible to distinguish between the fluctuation of the intensity of the incident X-ray and the fluctuation of ΔΦ.

【0028】また、本実施例3における位相差ΔΦの制
御は、 (1)Δxを掃引して、予め各検出器間の位相差、各検
出器のバックグランドIaの強度及び振動振幅Ibを求
める。 (2)上記(1)の結果を用いて、目的とする位相Φに
対応した各検出器からの出力を計算する。 (3)各検出器からの出力が(2)で求めた値となるよ
うにΔxを調整する。このとき、強度Iが最大値や最小
値の近傍となっている検出器では、Δxの調整への寄与
(フィードバック量)を小さくする。例えば(4)式の
ように行う。
The control of the phase difference ΔΦ in the third embodiment is as follows: (1) Sweep Δx to obtain in advance the phase difference between the detectors, the intensity of the background Ia of each detector, and the vibration amplitude Ib. . (2) Using the result of the above (1), calculate the output from each detector corresponding to the target phase Φ. (3) Adjust Δx so that the output from each detector becomes the value obtained in (2). At this time, in the detector in which the intensity I is near the maximum value or the minimum value, the contribution (feedback amount) to the adjustment of Δx is reduced. For example, this is performed as in equation (4).

【0029】[0029]

【数4】 ここで、kmは検出器mの寄与率、ΔΦmは検出器mの
位相差である。として行う。また、縞走査法による位相
像の測定手順は実施例2と同様にして行う。
(Equation 4) Here, km is the contribution ratio of the detector m, and ΔΦm is the phase difference of the detector m. Do as. The procedure for measuring the phase image by the fringe scanning method is the same as in the second embodiment.

【0030】本実施例3では、複数個の検出器を用いた
が、代わりに2次元検出器を使用し、複数の適当なピク
セルの強度比の変化を利用しても入射X線の強度変動と
ΔΦの変動とを区別し、位相差を精度よく調整すること
ができる。
In the third embodiment, a plurality of detectors are used. However, a two-dimensional detector is used instead, and even if a change in the intensity ratio of a plurality of appropriate pixels is used, the intensity fluctuation of the incident X-rays is used. And the variation of ΔΦ, and the phase difference can be adjusted with high accuracy.

【0031】以上、本実施例3によれば、干渉ビーム上
の複数領域の強度を検出することにより、入射X線の強
度変動と干渉ビームの位相差の変動を区別し、より精度
良く干渉ビームの位相差を調整することができる。した
がって、入射X線の強度変動がある場合でも精度が高い
位相像を取得することができる。 (実施例4)実施例1から3で使用したX線干渉計は一
体の結晶ブロックで構成されているために、干渉計の大
きさが母材となる結晶インゴットの直径で制限されてし
まい、観察視野(試料の大きさ)を数cm以上確保する
ことができなかった。ここでは、図2に示した結晶分離
型X線干渉計を用いることにより、観察視野が2cm以
上確保可能な実施例を示す。
As described above, according to the third embodiment, by detecting the intensities of a plurality of regions on the interference beam, the intensity fluctuation of the incident X-ray and the fluctuation of the phase difference of the interference beam are distinguished, and the interference beam is more accurately detected. Can be adjusted. Therefore, a highly accurate phase image can be obtained even when the intensity of incident X-rays fluctuates. (Embodiment 4) Since the X-ray interferometer used in Embodiments 1 to 3 is constituted by an integral crystal block, the size of the interferometer is limited by the diameter of the crystal ingot serving as the base material. The observation visual field (size of the sample) could not be secured to several cm or more. Here, an example in which an observation visual field of 2 cm or more can be secured by using the crystal separation type X-ray interferometer shown in FIG. 2 will be described.

【0032】本実施例のX線干渉計は、図11に示すよ
うに、第1結晶ブロック51と第2結晶ブロック52の
z軸周りの相対的な回転が、分割されたビーム間の位相
を変化させる。この位相の変化量ΔΦは、相対的な回転
量をΔθ、回折格子面の間隔をd、歯と歯の間隔をL、
歯の厚さをxとしたとき(5)式で与えられることがB
eckerらによって示されている(J. Appl. Cryst.,
7,593(1974))。
In the X-ray interferometer of the present embodiment, as shown in FIG. 11, the relative rotation of the first crystal block 51 and the second crystal block 52 around the z axis changes the phase between the divided beams. Change. The phase change amount ΔΦ is a relative rotation amount Δθ, an interval between diffraction grating surfaces is d, an interval between teeth is L,
When the thickness of the tooth is x, it is given by equation (5) that B
Ecker et al. (J. Appl. Cryst.,
7,593 (1974)).

【0033】[0033]

【数5】 したがって、結晶ブロック間の回転量Δθを適当量制御
することで、分割されたビーム間の位相を任意の値に設
定することができる。
(Equation 5) Therefore, by controlling the rotation amount Δθ between crystal blocks by an appropriate amount, the phase between the divided beams can be set to an arbitrary value.

【0034】本実施例における装置の一例の構成図を図
11に示す。X線干渉計及び干渉計を搭載するX線干渉
計用位置決め機構以外は実施例1とほぼ同様な構成とな
っている。本実施例では、第2θステージ54に搭載さ
れた第2結晶ブロック52を、第1結晶ブロック51に
対して相対的にZ軸周りの回転をさせて、分割されたビ
ーム間の位相を変化させる。(5)式より2πの位相変
化に対応する結晶ブロック間の回転量は、Si(22
0)(d=0.192nm)の回折を利用したL=63
mm、x=1mmのX線干渉計の場合、約2nradと
なる。このため、例えば走査数5の縞走査法による位相
像の測定では、0.4nradと言う極めて高い精度で
結晶ブロック間の回転を制御する必要がある。
FIG. 11 shows a configuration diagram of an example of the apparatus according to the present embodiment. Except for the X-ray interferometer and the positioning mechanism for the X-ray interferometer equipped with the interferometer, the configuration is substantially the same as that of the first embodiment. In the present embodiment, the second crystal block 52 mounted on the second θ stage 54 is rotated around the Z axis relative to the first crystal block 51 to change the phase between the divided beams. . From equation (5), the amount of rotation between crystal blocks corresponding to a phase change of 2π is Si (22
0) L = 63 using diffraction of (d = 0.192 nm)
mm, x = 1 mm for an X-ray interferometer, about 2 nrad. For this reason, for example, in the measurement of a phase image by the fringe scanning method with five scans, it is necessary to control the rotation between crystal blocks with extremely high accuracy of 0.4 nrad.

【0035】そこで、位相差ΔΦの調整は、実施例3と
同様にビーム検出器55で検出した干渉ビームの強度を
用いて行う。また、第2θステージ54の位置制御機構
34には圧電素子など超高精度の位置決めが可能なもの
を用いる。
Therefore, the adjustment of the phase difference ΔΦ is performed using the intensity of the interference beam detected by the beam detector 55 as in the third embodiment. In addition, as the position control mechanism 34 of the second θ stage 54, a mechanism such as a piezoelectric element that can perform ultra-high-precision positioning is used.

【0036】位相像の取得は上記の実施例と同様に、結
晶ブロック間を回転させ位相差を調整し、各位相差で干
渉像を測定する。その後、位相像を画像処理機構32で
計算し、表示装置33で計算結果を表示する。
As in the above embodiment, the phase image is obtained by rotating the crystal blocks to adjust the phase difference, and measuring the interference image at each phase difference. After that, the phase image is calculated by the image processing mechanism 32 and the calculation result is displayed on the display device 33.

【0037】この分離型X線干渉計においても、X線が
干渉計に入射できる角度幅は数秒程度と極めて狭い。こ
のため、X線干渉計全体の回転位置を調整する第1θス
テージ27にも、極めて高い回転位置決め精度(1/1
00秒程度)を持ったステージを用いる。また、結晶ブ
ロック51と結晶ブロック52のy軸周りの回転の調整
不足は、干渉像にモアレ縞となって現れる。そこで、チ
ルトステージ101を用いて結晶ブロック51と結晶ブ
ロック52のy軸周りの回転を調整する。
Also in this separation type X-ray interferometer, the angle width at which X-rays can enter the interferometer is extremely narrow, about several seconds. For this reason, the first θ stage 27 for adjusting the rotational position of the entire X-ray interferometer also has extremely high rotational positioning accuracy (1/1).
(About 00 seconds). Insufficient adjustment of the rotation of the crystal blocks 51 and 52 around the y-axis appears as moire fringes in the interference image. Therefore, the rotation of the crystal blocks 51 and 52 around the y-axis is adjusted using the tilt stage 101.

【0038】以上、本実施例によれば、図2に示したよ
うな結晶分離型干渉計を用いることにより観察視野が2
cm以上の位相像を取得することができる。
As described above, according to this embodiment, the observation field of view can be increased by using the crystal separation type interferometer as shown in FIG.
cm or more can be obtained.

【0039】[0039]

【発明の効果】位相シフタを用いることなく位相決定精
度が高い位相像を得ることができる。
According to the present invention, a phase image with high phase determination accuracy can be obtained without using a phase shifter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一体型X線干渉計の一例のボンゼ・ハート型干
渉計の構成を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a Bonze-Hart interferometer as an example of an integrated X-ray interferometer.

【図2】結晶分離型X線干渉計のの構成の一例を示す斜
視図。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of the configuration of a crystal separation type X-ray interferometer.

【図3】位相シフタの例を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a phase shifter.

【図4】X線干渉計の概念を示す図。FIG. 4 is a view showing the concept of an X-ray interferometer.

【図5】本発明の実施例1のX線撮像装置の全体構成を
示す図。
FIG. 5 is a diagram illustrating an overall configuration of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例1のX線撮像装置の干渉計の部
分の構成を示す図。
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an interferometer of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施例2のX線撮像装置の干渉計の部
分の構成を示す図。
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of an interferometer of an X-ray imaging apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図8】位相差の変化に伴う実施例2のビーム強度検出
器の出力である干渉ビームの強度変化を示す図。
FIG. 8 is a diagram illustrating a change in the intensity of an interference beam, which is an output of the beam intensity detector according to the second embodiment, according to a change in a phase difference.

【図9】本発明の実施例3のX線撮像装置のビーム強度
検出器の部分の構成を示す図。
FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of a part of a beam intensity detector of an X-ray imaging apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図10】位相差の変化に伴う実施例3の各検出器の出
力である干渉ビームの強度変化を示す図。
FIG. 10 is a diagram illustrating a change in the intensity of an interference beam, which is an output of each detector according to the third embodiment, according to a change in a phase difference.

【図11】結晶分離型X線干渉計の構成例である本発明
の実施例4のX線撮像装置の全体構成を示す図。
FIG. 11 is a diagram illustrating an overall configuration of an X-ray imaging apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, which is a configuration example of a crystal separation type X-ray interferometer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:スプリッタ、2:ミラー、3:アナライザー、4:
結晶ブロック、5:入射X線、6a:第1ビーム、6
b:第3ビーム、6c:第4ビーム、7a:第2ビー
ム、7b:第5ビーム、7c:第6ビーム、8a:第1
干渉ビーム、8b:第2干渉ビーム、9:第1結晶ブロ
ック、10:第2結晶ブロック、11:第1歯、12:
第2歯、13:第3歯、14:第4歯、15:入射X
線、16a:第1ビーム、16b:第3ビーム2、16
c:第4ビーム、17a:第2ビーム、17b:第5ビ
ーム、17c:第6ビーム、18a:第1干渉ビーム、
18b:第2干渉ビーム、19:くさび形アクリル、2
0:平板アクリル、21:分割素子、22:結合素子、
23:入射X線、24:第1ビーム、25:第2ビー
ム、26:X線干渉計、27:X線干渉計用位置調整機
構、28:試料ホルダー、29:試料ホルダー位置決め
機構、30:X線検出器、31:制御装置、32:画像
処理機構、33,33’:表示装置、34:ブロック移
動機構、35:位置検出機構、36:入射X線、37
a:第1干渉ビーム、37b:第2干渉ビーム、38:
スプリッタ、39:ミラー、41:アナライザー、4
1:分割ブロック、42:結合ブロック、43:Xステ
ージ、44:切り欠け部分、45ビーム検出器、46:
スリット、47:検出器、48:検出器、49:検出
器、51:第1結晶ブロック、52:第2結晶ブロッ
ク、53:チルトステージ、54:第2θステージ、5
5:ビーム検出器、56:位置制御機構、57:第1θ
ステージ。
1: splitter, 2: mirror, 3: analyzer, 4:
Crystal block, 5: incident X-ray, 6a: first beam, 6
b: third beam, 6c: fourth beam, 7a: second beam, 7b: fifth beam, 7c: sixth beam, 8a: first beam
Interference beam, 8b: second interference beam, 9: first crystal block, 10: second crystal block, 11: first tooth, 12:
Second tooth, 13: Third tooth, 14: Fourth tooth, 15: Incident X
Line, 16a: first beam, 16b: third beam 2, 16
c: fourth beam, 17a: second beam, 17b: fifth beam, 17c: sixth beam, 18a: first interference beam,
18b: second interference beam, 19: wedge-shaped acrylic, 2
0: flat acrylic, 21: split element, 22: coupling element,
23: incident X-ray, 24: first beam, 25: second beam, 26: X-ray interferometer, 27: position adjusting mechanism for X-ray interferometer, 28: sample holder, 29: sample holder positioning mechanism, 30: X-ray detector, 31: control device, 32: image processing mechanism, 33, 33 ': display device, 34: block moving mechanism, 35: position detection mechanism, 36: incident X-ray, 37
a: first interference beam, 37b: second interference beam, 38:
Splitter, 39: mirror, 41: analyzer, 4
1: division block, 42: connection block, 43: X stage, 44: cutout portion, 45 beam detector, 46:
Slit, 47: detector, 48: detector, 49: detector, 51: first crystal block, 52: second crystal block, 53: tilt stage, 54: 2θ stage, 5
5: beam detector, 56: position control mechanism, 57: first θ
stage.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】入射するX線を分割素子により相互に干渉
する二つのビームに分割し、上記二つのビームの一つに
被写体を挿入して得られるビームと他の一つのビームと
を結合素子により結合して、上記被写体の像を得るX線
撮像法において、上記分割素子と上記結合素子の相対的
な位置を変化させて測定した複数の像から上記被写体の
位相像を得ることを特徴とするX線撮像法。
1. An incident X-ray is split by a splitting element into two beams that interfere with each other, and a beam obtained by inserting a subject into one of the two beams and another beam are combined. In the X-ray imaging method for obtaining the image of the subject, the phase image of the subject is obtained from a plurality of images measured by changing the relative position of the splitting element and the coupling element. X-ray imaging method.
【請求項2】上記分割素子と上記結合素子の相対的な位
置を、上記結合素子で結合されたビームの強度を用いて
調整することを特徴とする請求項1記載のX線撮像法。
2. The X-ray imaging method according to claim 1, wherein the relative positions of the splitting element and the coupling element are adjusted using the intensity of the beam combined by the coupling element.
【請求項3】上記の結合されたビーム強度を用いた調整
を、上記結合されたビームの任意の複数領域の強度を用
いて行うことを特徴とする請求項2記載のX線撮像法。
3. The X-ray imaging method according to claim 2, wherein the adjustment using the combined beam intensity is performed using the intensities of arbitrary plural regions of the combined beam.
【請求項4】上記分割素子及び上記結合素子が、それぞ
れ単結晶インゴットから一体で切り出して加工された二
つのハーフミラーとその基部から構成されることを特徴
とする請求項1から3のいずれかに記載のX線撮像法。
4. The device according to claim 1, wherein each of the splitting element and the coupling element is composed of two half mirrors, each of which is integrally cut out from a single crystal ingot and processed, and a base thereof. X-ray imaging method described in 1.
【請求項5】入射するX線を分割素子により相互に干渉
する二つのビームに分割するスプリッタ、該分割された
ビームをさらに二つのビームに分割するとともにそれぞ
れの一つが相互に干渉するようにするミラーおよび干渉
する二つのビームによる干渉像を形成するアナライザー
よりなる干渉計、上記二つのビームの一つに被写体を挿
入する手段、上記ミラーと上記アナライザーの相対的な
位置を変化させる手段よりなり、測定した複数の干渉像
から上記被写体の位相像を得ることを特徴とするX線撮
像装置。
5. A splitter for splitting an incident X-ray into two beams that interfere with each other by a splitting element. The splitter further splits the split beam into two beams, each of which interferes with each other. An interferometer consisting of a mirror and an analyzer for forming an interference image by two interfering beams, means for inserting a subject into one of the two beams, means for changing the relative position of the mirror and the analyzer, An X-ray imaging apparatus, wherein a phase image of the subject is obtained from a plurality of measured interference images.
【請求項6】前記スプリッタ、ミラーおよびアナライザ
ーからなる干渉計を、スプリッタとミラーを一体化した
ブロックと、ミラーとアナライザーを一体化したブロッ
クとより構成するものとして、各ブロック間のビームパ
スに試料を配置する請求項5記載のX線撮像装置。
6. An interferometer comprising said splitter, mirror and analyzer is constituted by a block in which a splitter and a mirror are integrated, and a block in which a mirror and an analyzer are integrated, and a sample is placed on a beam path between each block. The X-ray imaging apparatus according to claim 5, wherein the X-ray imaging apparatus is arranged.
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