JP2002135523A - Close contact sensor - Google Patents

Close contact sensor

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JP2002135523A
JP2002135523A JP2000328805A JP2000328805A JP2002135523A JP 2002135523 A JP2002135523 A JP 2002135523A JP 2000328805 A JP2000328805 A JP 2000328805A JP 2000328805 A JP2000328805 A JP 2000328805A JP 2002135523 A JP2002135523 A JP 2002135523A
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Japan
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chip
sensor
pixel
pixels
contact sensor
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JP2000328805A
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Japanese (ja)
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Seiichi Masuko
聖一 益子
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a close contact sensor that can prevent characteristics of pixels from being prevented. SOLUTION: The close contact sensor comprises sensor chips 12 each provided with pixels that are laid out in a way that the pixel array of each sensor chip 12 forms a straight line. Each of the sensor chips 12 is provided with a metallic layer located between a chip end opposed to the adjacent sensor chips 12 and the pixel at the end of the pixel array. The metallic layer protects the pixels from being damaged due to a chipped or cracked chip.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ファクシミリやス
キャナの入力部に用いられる密着センサの構造に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a contact sensor used for an input section of a facsimile or a scanner.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、PCの高速化に伴い、周辺機器の
高性能化が進んでいる。その中でも、特に、価格低下に
より急速に普及しているイメージスキャナの性能向上が
求まられている。PCが大容量の画像データ等も短時間
に処理できるようになり、このため、イメージスキャナ
の高解像度化によるデータ増大にもPCが十分対応でき
るようになったからである。
2. Description of the Related Art In recent years, with the speeding up of PCs, the performance of peripheral devices has been increasing. Above all, there is a need to improve the performance of image scanners, which are rapidly spreading due to price reductions. This is because the PC can process a large amount of image data and the like in a short time, and thus the PC can sufficiently cope with an increase in data due to an increase in resolution of the image scanner.

【0003】イメージスキャナの画像入力部に用いられ
るイメージセンサとしては、(1)レンズ縮小タイプと、
(2)密着モジュールタイプと、に大別されるが、特に、
(2)の密着タイプは、スキャナ本体に光学系システム
が不要で、製造が容易、焦点距離が短いロッドレンズ
の使用によって、イメージセンサと原稿面との距離が短
くなり、装置全体の大きさが小さくなる、等の理由から
広く利用されている。
Image sensors used in the image input section of an image scanner include (1) a lens reduction type,
(2) It is roughly divided into a contact module type.
The close-contact type (2) does not require an optical system in the scanner body, is easy to manufacture, and uses a rod lens with a short focal length. It is widely used because it becomes smaller.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】密着タイプのイメージ
センサは、通常、複数のチップを直線状に配置し、等倍
で原稿の読み取りを行う。この密着センサでは、各チッ
プの画素ピッチを短くするほど、読み取りの解像度を大
きくすることができる。したがって、高解像度の画像を
得るためには、各チップ内の画素ピッチのみならず、隣
接するチップ間での画素ピッチも小さくしなければなら
ない。このため、各チップの端画素はできるだけそのチ
ップ端に近づけて配置することが必要となる。
In the close contact type image sensor, a plurality of chips are usually arranged in a straight line, and an original is read at the same magnification. In this contact sensor, the resolution of reading can be increased as the pixel pitch of each chip is shortened. Therefore, in order to obtain a high-resolution image, not only the pixel pitch in each chip but also the pixel pitch between adjacent chips must be reduced. For this reason, it is necessary to arrange the end pixel of each chip as close to the chip end as possible.

【0005】しかしながら、チップ端部はウェハーのダ
イシングや組み立て時のダメージによるチップ欠けやク
ラックが発生しやすい場所である。このチップ欠けやク
ラック等の発生は、チップ端に配置された端画素の諸特
性を劣化させ、読み取り画像の異常を招く要因となる。
[0005] However, the chip end is a place where chips are likely to be chipped or cracked due to damage during dicing or assembling the wafer. The occurrence of chip chipping, cracks, and the like deteriorates various characteristics of end pixels arranged at the end of the chip, and becomes a factor of causing an abnormality in a read image.

【0006】本発明は、このような課題を解決し、ウェ
ハーダイシング時やモジュール組み立て時における端画
素に対するダメージを緩和することによって、端画素の
特性劣化を防止することができる密着センサを提供する
ことを目的とする。
An object of the present invention is to provide a contact sensor capable of solving the above-mentioned problems and reducing the damage to the edge pixels at the time of wafer dicing or module assembly, thereby preventing the characteristic deterioration of the edge pixels. With the goal.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の第1の特徴は、複数の画素が配置された複
数の半導体チップを、該半導体チップの画素列が一直線
となるように配列して成る密着センサであって、前記半
導体チップそれぞれは、隣接する半導体チップに対向す
るチップ端部と前記画素列の端部に位置する画素との間
に配置された金属層を具備する密着センサであることで
ある。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, a first feature of the present invention is that a plurality of semiconductor chips on which a plurality of pixels are arranged are arranged such that pixel rows of the semiconductor chips are aligned. A contact sensor comprising a metal layer disposed between an end of a chip facing an adjacent semiconductor chip and a pixel located at an end of the pixel column. It is a sensor.

【0008】本発明の第2の特徴は、第1の発明に係る
密着センサにおいて、前記金属層の幅は、前記画素列の
幅に実質的に等しい、若しくは前記画素列の幅よりも少
なくとも大きいことである。
According to a second feature of the present invention, in the contact sensor according to the first invention, the width of the metal layer is substantially equal to the width of the pixel column, or at least larger than the width of the pixel column. That is.

【0009】本発明の第3の特徴は、第1の発明に係る
密着センサにおいて、前記金属層は、前記画素列を囲む
ように前記半導体チップの外周に沿って配置されること
である。
A third feature of the present invention is that, in the contact sensor according to the first invention, the metal layer is arranged along the outer periphery of the semiconductor chip so as to surround the pixel column.

【0010】本発明の第4の特徴は、第1乃至第4の発
明に係る密着センサにおいて、 前記金属層は、前記半
導体チップ内の配線を構成する金属配線層から成ること
である。
According to a fourth feature of the present invention, in the contact sensor according to any one of the first to fourth aspects, the metal layer includes a metal wiring layer constituting a wiring in the semiconductor chip.

【0011】本発明の第5の特徴は、第4の発明に係る
密着センサにおいて、前記金属層は、多層配線構造を有
することである。
A fifth feature of the present invention is that in the contact sensor according to the fourth invention, the metal layer has a multilayer wiring structure.

【0012】第1乃至第5の発明において、「密着セン
サ」とは、読み取り原稿をセンサにほぼ密着させ、等倍
の光学像を撮像する撮像素子のことである。
In the first to fifth aspects of the present invention, the "contact sensor" refers to an image pickup device that brings a read original into close contact with the sensor and captures an optical image of the same magnification.

【0013】第1乃至第5の発明によれば、端画素とチ
ップ端との間に配置された金属層の存在によって、ウェ
ハーダイシング時やモジュール組み立て時における端画
素に対するダメージを緩和し、それにより、端画素の特
性劣化を防止することができる。
According to the first to fifth aspects, the presence of the metal layer disposed between the end pixel and the chip end reduces the damage to the end pixel at the time of wafer dicing or module assembly. In addition, it is possible to prevent the characteristic deterioration of the end pixel.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一
または類似の部分には同一または類似の符号を付してい
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals.

【0015】図1に、複数のCCDイメージセンサ等を
複数配列した、一般的な密着型イメージセンサの概略構
成を示す。図1において、この密着型イメージセンサ1
0では、たとえば、CCDイメージセンサから成る複数
のセンサチップ12を、センサチップ12の画素配列が
一直線となるように精度良く実装している。また、セン
サチップ12の継ぎ目での感度不均一や画素配列のずれ
を避けるために、チップ端で感度補正や画素ピッチ調整
が行われている。密着型イメージセンサ10は、8個の
センサチップ12から構成されている。そして、センサ
チップ12それぞれの画素数は、たとえば、1288個
である。もちろん、本発明は、これらの数の組み合わせ
に限られるものではなく、原稿サイズ等によって種々変
化するものである。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a general contact type image sensor in which a plurality of CCD image sensors and the like are arranged. In FIG. 1, this contact type image sensor 1
In the case of 0, for example, a plurality of sensor chips 12 composed of CCD image sensors are mounted with high accuracy so that the pixel array of the sensor chips 12 is aligned. In addition, sensitivity correction and pixel pitch adjustment are performed at the end of the chip in order to avoid non-uniformity of sensitivity at the joint of the sensor chip 12 and deviation of the pixel arrangement. The contact image sensor 10 includes eight sensor chips 12. The number of pixels of each sensor chip 12 is, for example, 1288. Of course, the present invention is not limited to the combination of these numbers, but can be variously changed depending on the document size and the like.

【0016】以下、図1の密着型イメージセンサ10の
動作を簡単に説明する。第1乃至第8のセンサチップ1
2はクロックパルスを入力し、そのクロックパルスに基
づいて、それぞれの出力信号を出力する。たとえば、第
1のセンサチップ12の信号が出力されている時は、第
2以降のセンサチップ12は、それぞれの出力端子をハ
イインピーダンス状態に設定する。第1のセンサチップ
12は、1288ビット出力される20ビット前になる
と、隣接する第2のセンサチップ12に対して、所定の
制御パルスを出力する。そして、全ビットの出力が終了
すると、第1のセンサチップ12は、その出力端子をロ
ーインピーダンス状態からハイインピーダンス状態に切
り換える。
Hereinafter, the operation of the contact type image sensor 10 of FIG. 1 will be briefly described. First to eighth sensor chips 1
2 receives a clock pulse and outputs each output signal based on the clock pulse. For example, when a signal from the first sensor chip 12 is being output, the second and subsequent sensor chips 12 set their output terminals to a high impedance state. The first sensor chip 12 outputs a predetermined control pulse to the adjacent second sensor chip 12 20 bits before the output of 1288 bits. When the output of all bits is completed, the first sensor chip 12 switches its output terminal from the low impedance state to the high impedance state.

【0017】一方、第2のセンサチップ12は、第1の
センサチップ12から制御パルスを入力すると、その入
力時点からカウント動作を開始する。そのカウント動作
に基づき、第1のセンサチップ12の全ビット出力が終
了すると同時に、第2のチップセンサ12は、その出力
端子をハイインピーダンス状態からローインピーダンス
状態に切り換えることになる。
On the other hand, when the control pulse is input from the first sensor chip 12, the second sensor chip 12 starts the counting operation from the input time. Based on the counting operation, the output of all the bits of the first sensor chip 12 ends, and at the same time, the second chip sensor 12 switches its output terminal from the high impedance state to the low impedance state.

【0018】第3のセンサチップ12以降、同様の動作
が順次行われる。このため、密着型イメージセンサ10
の出力端子には、第1のセンサチップ12から第8のセ
ンサチップ12それぞれの出力信号がシリアルに出力さ
れることになる。
The same operation is performed sequentially after the third sensor chip 12. For this reason, the contact type image sensor 10
Are output serially from the first sensor chip 12 to the eighth sensor chip 12, respectively.

【0019】次に、本発明の実施の形態に係る密着型イ
メージセンサの構造について説明する。図2に、本発明
の実施の形態に係る密着型イメージセンサの主要部の構
造を示す。図2は、隣接する2つのセンサチップ12
a,12bそれぞれのチップ端付近を示している。ま
た、比較例として、従来技術に係る密着型イメージセン
サの隣接する2つのセンサチップ12c,12dそれぞ
れのチップ端付近の様子を図3に示す。
Next, the structure of the contact type image sensor according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 shows a structure of a main part of the contact image sensor according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 shows two adjacent sensor chips 12.
The vicinity of the chip end of each of a and 12b is shown. As a comparative example, FIG. 3 shows a state near the chip ends of two adjacent sensor chips 12c and 12d of the contact type image sensor according to the related art.

【0020】まず図3に示した従来技術に係る密着型イ
メージセンサの場合、センサチップ12c,12d間の
つなぎ部の画素不存在による画素間隔周期の乱れは、そ
れぞれのチップ端から内部方向に向かって第3番目まで
の画素(No.1,No2,No.3)14c,14dを正規の画素位
置より偏位させることによって吸収している。第4番目
以降の画素14c,14dは正規の位置に配置されてい
る。このため、より高解像度化が進み、画素ピッチが短
くなった場合、端画素をよりチップ端に近づける必要が
ある。しかしながら、ダイシングライン16c,16d
と画素14c,14dとの間の距離が短くなり過ぎる
と、たとえば、ダイシング時のダメージによって、チッ
プ端に近接する端画素14c,14dにクラックやチッ
プ欠け等が発生し、その結果、端画素14c,14dの
特性を劣化させるおそれがある。また、組み立て時のダ
メージによっても同様なことが起こり得る。
First, in the case of the contact type image sensor according to the prior art shown in FIG. 3, the disturbance of the pixel interval period due to the absence of the pixel at the joint between the sensor chips 12c and 12d is directed inward from each chip end. Thus, the third pixels (No. 1, No. 2, No. 3) 14c and 14d are absorbed by deviating from the normal pixel positions. The fourth and subsequent pixels 14c and 14d are arranged at regular positions. For this reason, when the resolution is further improved and the pixel pitch is shortened, it is necessary to bring the end pixels closer to the chip end. However, the dicing lines 16c and 16d
If the distance between the pixel 14c and the pixel 14c becomes too short, for example, cracks or chipping may occur in the edge pixels 14c and 14d close to the chip edge due to damage during dicing, and as a result, the edge pixel 14c , 14d may deteriorate. The same may occur due to damage during assembly.

【0021】そこで、図2に示した本発明の実施の形態
に係る密着型イメージセンサでは、隣接するセンサチッ
プ12a,12bのチップ端に最近接する第1の画素1
4a,14bそれぞれと各チップ端との間に金属層18
a,18bを配置する構成を採用している。すなわち、
本発明の実施の形態では、この第1の画素14a,14
bのダイシングライン16a,16b側に配置された金
属層18a,18bの存在によって、ダイシング時や組
み立て時に加わる衝撃によって生じるクラックやチップ
欠けが画素14a,14bに到達することを抑制し、そ
れにより、画素14a,14bの特性劣化の防止を実現
することが可能となる。
Therefore, in the contact type image sensor according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 2, the first pixel 1 closest to the chip end of the adjacent sensor chips 12a and 12b is provided.
4a, 14b and a metal layer 18 between each chip end.
a, 18b are arranged. That is,
In the embodiment of the present invention, the first pixels 14a, 14a
b, the presence of the metal layers 18a and 18b disposed on the dicing lines 16a and 16b side prevents cracks and chipping caused by an impact applied at the time of dicing or assembly from reaching the pixels 14a and 14b. It is possible to prevent the characteristics of the pixels 14a and 14b from deteriorating.

【0022】本発明の実施の形態に係る金属層16a,
16bは、たとえば、各センサチップ12a,12bそ
れぞれのチップ内配線をそのまま利用すれば良い。余分
な製造工程を追加することなく、金属層16a,16b
を形成することができるからである。また、センサチッ
プ12a,12bが多層配線構造を有する場合には、金
属層16a,16baは、少なくとも1つの配線層で構
成すれば良い。もちろん、すべての配線層を用いても構
わない。金属層16a,16bおよび金属配線層の材料
としては、アルミニウム(Al)が一般的である。もちろ
ん、本発明はこれに限られるものではなく、たとえば、
銅(Cu)、タングステン(W)等であっても、もちろん構わ
ない。
The metal layer 16a according to the embodiment of the present invention,
16b may use, for example, the in-chip wiring of each of the sensor chips 12a and 12b as they are. The metal layers 16a, 16b can be formed without adding an extra manufacturing process.
Is formed. When the sensor chips 12a and 12b have a multilayer wiring structure, the metal layers 16a and 16ba may be formed of at least one wiring layer. Of course, all wiring layers may be used. As a material of the metal layers 16a and 16b and the metal wiring layer, aluminum (Al) is generally used. Of course, the invention is not limited to this, for example,
Of course, copper (Cu), tungsten (W) or the like may be used.

【0023】また、上述したように、金属層16a,1
6bは、センサチップ12a,12b内に配置されるチ
ップ内配線と同時に形成されるため、通常、ダイシング
ライン16a,16b上に残存することはない。このた
め、ウェハーダイシング時におけるダイヤモンドカッタ
やダイヤモンドブレードの磨耗が抑制され、それらの耐
用期間を短縮することもない。
As described above, the metal layers 16a, 1
Since 6b is formed at the same time as the wiring inside the chip arranged in the sensor chips 12a and 12b, it does not normally remain on the dicing lines 16a and 16b. Therefore, abrasion of the diamond cutter and diamond blade during wafer dicing is suppressed, and the service life of the diamond cutter and diamond blade is not shortened.

【0024】さらに、金属層16a,16bを構成する
アルミニウム等の金属は非常に高い加工精度を有してい
る。したがって、端画素14a,14bとチップ端との
間隔が狭く、金属層16a,16bに高い加工精度が要
求される場合であっても対応可能である。
Further, metals such as aluminum constituting the metal layers 16a and 16b have extremely high processing accuracy. Therefore, even when the distance between the end pixels 14a and 14b and the chip end is small and high processing accuracy is required for the metal layers 16a and 16b, it is possible to cope with the case.

【0025】なお、金属層16a,16bは、通常、浮
遊状態とならないように、基準電位、典型的には接地電
位に接続される。
The metal layers 16a and 16b are connected to a reference potential, typically a ground potential, so as not to be in a floating state.

【0026】以上、本発明者によってなされた発明を上
記実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす
論述および図面はこの発明を限定するものであると理解
すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実
施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
As described above, the invention made by the present inventor has been described by the above embodiments. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples, and operation techniques will be apparent to those skilled in the art.

【0027】上記の実施の形態では、金属層18a,1
8bの幅(高さ)を画素14a,14bよりも大きくな
るようにしている。しかしながら、たとえば、図4の金
属層18e,18fのように、画素14e,14fと幅
(高さ)が同じになるようにしてももちろん構わない。
基本的には、金属層の幅(高さ)が画素よりも小さくな
らなければ良い。
In the above embodiment, the metal layers 18a, 18a, 1
The width (height) of 8b is made larger than the pixels 14a and 14b. However, for example, as in the case of the metal layers 18e and 18f in FIG. 4, the width (height) may be the same as that of the pixels 14e and 14f.
Basically, it is sufficient that the width (height) of the metal layer is not smaller than that of the pixel.

【0028】また、図5に示す金属層18g,18hの
ように、センサチップ12g,12hを一回りするよう
に配置してももちろん構わない。
Further, like the metal layers 18g and 18h shown in FIG. 5, the sensor chips 12g and 12h may be arranged so as to go around once.

【0029】このように、本発明はここでは記載してい
ない様々な実施の形態等を包含するということを理解す
べきである。したがって、本発明はこの開示から妥当な
特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ限定さ
れるものである。
As described above, it should be understood that the present invention includes various embodiments and the like not described herein. Accordingly, the present invention is limited only by the matters specifying the invention according to the claims that are reasonable from this disclosure.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、ウェハーダイシング時
やモジュール組み立て時における端画素に対するダメー
ジの緩和によって、端画素の特性劣化を防止する密着セ
ンサを実現できる。
According to the present invention, it is possible to realize a contact sensor that prevents deterioration of characteristics of end pixels by reducing damage to end pixels during wafer dicing or module assembly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一般的な密着型イメージセンサの概略構成を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a general contact image sensor.

【図2】本発明の実施の形態に係る密着型イメージセン
サの主要部の構造を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a structure of a main part of the contact image sensor according to the embodiment of the present invention;

【図3】従来技術に係る密着型イメージセンサの主要部
の構造を示す図である。
FIG. 3 is a view showing a structure of a main part of a contact type image sensor according to the related art.

【図4】本発明の他の実施の形態に係る密着型イメージ
センサの主要部の構造を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a structure of a main part of a contact image sensor according to another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施の形態に係る密着型イメージ
センサの主要部の構造を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a structure of a main part of a contact image sensor according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 密着センサ(密着型イメージセンサ) 12 センサチップ 14 画素 16 ダイシングライン 18 金属層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Contact sensor (contact image sensor) 12 Sensor chip 14 Pixel 16 Dicing line 18 Metal layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4M118 AA08 AB01 BA03 HA40 5C024 AX01 BX00 CY47 EX01 EX21 GY01 5C051 AA01 BA04 DA03 DB01 DB04 DB05 DB06 DC02 DC07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 4M118 AA08 AB01 BA03 HA40 5C024 AX01 BX00 CY47 EX01 EX21 GY01 5C051 AA01 BA04 DA03 DB01 DB04 DB05 DB06 DC02 DC07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の画素が配置された複数の半導体チ
ップを、該半導体チップの画素列が一直線となるように
配列して成る密着センサであって、 前記半導体チップそれぞれは、隣接する半導体チップに
対向するチップ端部と前記画素列の端部に位置する画素
との間に配置された金属層を具備することを特徴とする
密着センサ。
1. A contact sensor in which a plurality of semiconductor chips on which a plurality of pixels are arranged are arranged so that pixel rows of the semiconductor chips are aligned, wherein each of the semiconductor chips is an adjacent semiconductor chip. A contact layer comprising a metal layer disposed between an end of the chip facing the pixel and a pixel located at an end of the pixel column.
【請求項2】 前記金属層の幅は、前記画素列の幅に実
質的に等しい、若しくは前記画素列の幅よりも少なくと
も大きいことを特徴とする請求項1に記載の密着セン
サ。
2. The contact sensor according to claim 1, wherein the width of the metal layer is substantially equal to the width of the pixel column, or at least larger than the width of the pixel column.
【請求項3】 前記金属層は、前記画素列を囲むように
前記半導体チップの外周に沿って配置されることを特徴
とする請求項1に記載の密着センサ。
3. The contact sensor according to claim 1, wherein the metal layer is disposed along an outer periphery of the semiconductor chip so as to surround the pixel column.
【請求項4】 前記金属層は、前記半導体チップ内の配
線を構成する金属配線層から成ることを特徴とする請求
項1乃至3に記載の密着センサ。
4. The contact sensor according to claim 1, wherein the metal layer is formed of a metal wiring layer forming a wiring in the semiconductor chip.
【請求項5】 前記金属層は、多層配線構造を有するこ
とを特徴とする請求項4に記載の密着センサ。
5. The contact sensor according to claim 4, wherein the metal layer has a multilayer wiring structure.
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