JP2002135027A - Manufacturing method of chip-type antenna - Google Patents

Manufacturing method of chip-type antenna

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JP2002135027A
JP2002135027A JP2000319305A JP2000319305A JP2002135027A JP 2002135027 A JP2002135027 A JP 2002135027A JP 2000319305 A JP2000319305 A JP 2000319305A JP 2000319305 A JP2000319305 A JP 2000319305A JP 2002135027 A JP2002135027 A JP 2002135027A
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electrodes
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chip antenna
chip
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JP2000319305A
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Hiroshi Aoyama
博志 青山
Keiko Kikuchi
慶子 菊地
Kazufumi Miyata
一史 宮田
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Hitachi Metals Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for inhibiting the resonance frequency of a chip-type antenna. SOLUTION: In the chip-type antenna where a plurality of electrodes such as radiating, grounding, and power-feeding electrodes are installed in an insulating base material, the outer enclosure of the electrodes is machined and finished by a mechanical or physical/chemical method. The separation distance between the electrodes or the position relationship is adjusted, thus drastically restraining the variation in a resonance frequency.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アンテナ素子の製
造方法に係わり、特に絶縁基体上に配設される電極等の
加工仕上げ方法の改善に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an antenna element, and more particularly to an improvement in a method for finishing an electrode or the like provided on an insulating substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話等に搭載されるアンテナはチッ
プ型が主に使用されている。このアンテナは、面実装が
可能な構成となっているため、実装回路基板に直接他の
部品と共に組み込むことができ、アンテナ装置をコンパ
クトに製造することができる。図9は、本発明者等が特
願2000−113686号にて出願したチップ型アン
テナの斜視図である。このアンテナは、図示するように
絶縁基体11の主面中央に略台形状の放射電極13、両
側に接地電極15、17、さらに給電電極12を配設す
る構成である。放射電極13は両側の接地電極15、1
7によって囲まれるが、放射電極13と対向する反対側
主面に接地電極を持たない構造であるため、接地電極1
5および17による側面側の遮蔽が効果的となり、安定
したアンテナ動作が得られるものである。
2. Description of the Related Art A chip type antenna is mainly used for a cellular phone or the like. Since this antenna is configured to be surface-mountable, it can be directly assembled with other components on a mounting circuit board, and the antenna device can be manufactured compactly. FIG. 9 is a perspective view of a chip antenna filed by the present inventors in Japanese Patent Application No. 2000-113686. This antenna has a configuration in which a substantially trapezoidal radiating electrode 13 is provided at the center of the main surface of an insulating base 11, and ground electrodes 15, 17 and a feeding electrode 12 are provided on both sides as shown in the figure. The radiation electrode 13 is connected to the ground electrodes 15, 1 on both sides.
7, but has no ground electrode on the opposite main surface facing the radiation electrode 13, so that the ground electrode 1
The shielding on the side surface by 5 and 17 is effective, and a stable antenna operation can be obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】一般に、アンテナ素子
の放射電極等はスクリーン印刷法によって絶縁基体に形
成される。周知のようにスクリーン印刷法では、導電性
ペーストの電極パターンをスクリーンを使って基体上に
印刷し、加熱焼成工程を経て電極を形成する製法であ
り、厚膜回路の製造などに用いられる汎用的な製造法で
ある。この方法では、スクリーン自体の熱伸縮あるいは
機械的な伸び、加えて導電性ペーストと基板との濡れ性
の不安定さのため、電極パターンを高精度に配置形成す
ることが困難であった。電極パターンの形状寸法誤差
は、共振周波数のバラツキの原因として以前から認識さ
れていたが、従来の携帯電話ではこの程度の誤差は仕様
の許容範囲内であり、実用上問題なく使われてきた。
Generally, a radiation electrode and the like of an antenna element are formed on an insulating substrate by a screen printing method. As is well known, the screen printing method is a method in which an electrode pattern of a conductive paste is printed on a base using a screen, and an electrode is formed through a heating and firing process. Manufacturing method. According to this method, it is difficult to arrange and form the electrode pattern with high accuracy due to thermal expansion and contraction or mechanical expansion of the screen itself and instability of wettability between the conductive paste and the substrate. An error in the shape and size of the electrode pattern has been recognized as a cause of the variation in the resonance frequency, but in a conventional mobile phone, such an error is within the allowable range of the specification and has been used without any practical problem.

【0004】しかし、携帯無線機器分野において高周波
化の動きが急速に進み、800MHzから現在周波数の
割り当てがない5GHz帯に移行することが、既に発表
されている。例えば、ブルートゥースでは2.4〜2.
5GHzの周波数帯が割り与えられている。また、ブル
ートゥース用のアンテナとしては、帯域幅は100MH
z以上が必要であるとされている。
[0004] However, it has already been announced that in the field of portable radio equipment, the trend toward higher frequencies has progressed rapidly, and a shift from 800 MHz to a 5 GHz band to which no frequency is currently assigned has been performed. For example, in Bluetooth, 2.4-2.
A frequency band of 5 GHz is allocated. Also, the bandwidth for a Bluetooth antenna is 100 MHz.
It is said that z or more is required.

【0005】従来技術によるアンテナは、帯域幅が10
0MHz強を有するが、共振時の中心周波数2.45G
Hzに対して±30MHzとバラツキが大きく、これを
対策する必要があった。中心周波数が下限または上限値
に近いもの程、前述した目標仕様から外れてしまう場合
が発生する。これを回避するためには、スクリーン印刷
法の改良が考えられるが、時間と費用の点で問題が大き
く、また抜本的な対策にならない。このため、電極パタ
ーン形成後の仕上げ加工工程を加えることが、現実的な
選択肢の一つである。当然、この仕上げ加工方法は量産
性のあることを満足しなければならない。
Prior art antennas have a bandwidth of 10
Although having a little over 0 MHz, the center frequency at resonance 2.45G
There is a large variation of ± 30 MHz with respect to Hz, and it is necessary to take measures against this. As the center frequency is closer to the lower limit or the upper limit, there is a case where the target frequency deviates from the target specification described above. In order to avoid this, an improvement of the screen printing method can be considered, but it has a serious problem in terms of time and cost, and is not a drastic measure. Therefore, adding a finishing step after forming the electrode pattern is one of the realistic options. Naturally, this finishing method must satisfy mass production.

【0006】チップ型アンテナの電極加工方法として、
電極トリミングが知られている。図10はトリミング加
工が施された放射電極の模式図である。図中、トリミン
グ部は放射電極13と接地電極15の間にある凹部29
である。デューター23等が使用されると、絶縁基体1
1の一部が電極と共に取り除かれ、図のような不規則な
外観の凹部29となる。一方、放射電極13の頭部をト
リミングすることは、図11の等価回路にて示す放射電
極と接地電極間の静電容量Cを、効率的に変えること
になる。Cが微調されると、Lrとで構成される共振
回路の共振周波数が僅かに変化する。しかし、この凹部
29は手作業によるため生産性が悪く、さらに凹部29
自体の深さや外形が一定しないことによって、ゲインあ
るいは帯域幅特性が微妙に変化してしまい、アンテナ特
性が一定とならないと言う問題がある。
As an electrode processing method of a chip type antenna,
Electrode trimming is known. FIG. 10 is a schematic diagram of a radiation electrode that has been subjected to a trimming process. In the figure, a trimming portion is a concave portion 29 between the radiation electrode 13 and the ground electrode 15.
It is. When the deuter 23 or the like is used, the insulating substrate 1
A part of 1 is removed together with the electrode, resulting in a recess 29 having an irregular appearance as shown. Meanwhile, trimming the head of the radiation electrode 13, the capacitance C G between the radiation electrode and the ground electrode indicated by the equivalent circuit of FIG. 11, the effectively altering. When CG is finely adjusted, the resonance frequency of the resonance circuit composed of Lr slightly changes. However, the productivity of the recess 29 is low because it is manually worked.
When the depth or outer shape of the antenna itself is not constant, the gain or the bandwidth characteristic is slightly changed, and there is a problem that the antenna characteristic is not constant.

【0007】以上述べた以外の電極のトリミング方法を
図12および図13に示す。まず、図12は、特開平1
0−256825号公報に記載の方法であり、共振周波
数の調整と同時にインピーダンス整合を目的にする方法
である。接地電極15および放射電極13に切り欠き4
9-1,49-2が設けられ、共振周波数が調整される。前
述した図10に示す方法と同じ手法である。しかし、切
り欠き49-3はインピーダンス整合のため設けられ、多
目的な方法であると言える。なお、これ以降の図面等に
おいて、同一もしくは同等の部分には同じ記号を付し、
一貫性を持たせることにする。
[0007] An electrode trimming method other than that described above is shown in FIGS. First, FIG.
This is a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-256825, in which impedance matching is performed simultaneously with adjustment of the resonance frequency. Notch 4 in ground electrode 15 and radiation electrode 13
9-1 and 49-2 are provided to adjust the resonance frequency. This is the same method as the method shown in FIG. However, the notch 49-3 is provided for impedance matching and can be said to be a versatile method. In the following drawings and the like, the same or equivalent parts are denoted by the same symbols,
I want to be consistent.

【0008】さらに、図13に示す電極のトリミング
は、周波数帯域を広げる方法であり、ループ状放射導体
51の内側コーナー部に2ヶ所の切り欠き53−1,5
3−2を設け、ループ状放射導体51内の電流分布を変
える方法である。特開平10−274839号公報にそ
の詳しい動作原理が開示されている。
Further, the trimming of the electrodes shown in FIG. 13 is a method of expanding the frequency band, and two notches 53-1 and 5-5 are formed at the inner corners of the loop-shaped radiating conductor 51.
3-2 is a method of changing the current distribution in the loop-shaped radiation conductor 51. Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-274839 discloses the detailed operation principle.

【0009】さらに、トリミング専用の電極を備えた特
殊な場合を図14に示す。これは特開平10−2478
08号公報に記載されている発明であり、螺旋状の導体
61を誘電基体11中に形成後、誘電基体11の上面に
導体61に導通したトリミング専用電極63を別に配設
する方法である。必要に応じてトリミング専用電極63
の一部を削除してその面積を変えることにより、共振周
波数を調整することが開示されている。以上、言及した
従来の方法は、アンテナ素子毎の手作業による電極のト
リミングであるため量産性に乏しく、安価に製造するこ
とができないという別の課題がある。
FIG. 14 shows a special case in which an electrode dedicated to trimming is provided. This is disclosed in JP-A-10-2478.
No. 08 is a method of forming a spiral conductor 61 in the dielectric substrate 11 and then separately disposing a trimming-dedicated electrode 63 electrically connected to the conductor 61 on the upper surface of the dielectric substrate 11. Trimming electrode 63 as necessary
It is disclosed that the resonance frequency is adjusted by removing a part of the area and changing its area. As described above, the conventional method mentioned above has another problem in that since the electrode is manually trimmed for each antenna element, mass productivity is poor and it cannot be manufactured at low cost.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述した従来
技術の課題を鑑みてなされたものであり、アンテナの共
振周波数のバラツキを大幅に低減できると共に、量産性
に優れる製造方法を提供するものである。以下、請求項
毎に発明の本質を詳しく説明することにする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and provides a manufacturing method capable of greatly reducing the variation of the resonance frequency of an antenna and having excellent mass productivity. Things. Hereinafter, the essence of the invention will be described in detail for each claim.

【0011】まず、請求項1に記載の発明は、アンテナ
の放射電極、接地電極あるい給電電極等の電極外郭部に
対する仕上げ加工に関するもので、電極パターンを目的
とする形状寸法に仕上げようとするものである。従来、
電極外郭部に対して行われていた唯一の加工法はトリミ
ングであった。本発明ではトリミングの場合とは全く異
なり、加工後の電極外郭は不規則性を持つことなく、本
来持つべき電極形状を維持するものである。したがっ
て、電極形状は加工前後では顕著な変化がなく、絶縁基
体側に変化が見られる程度である。しかし、電極外郭全
体を加工する必要はなく、当然ながら目的に応じた選択
と加工が行われる。
First, the first aspect of the present invention relates to finishing of an outer electrode portion such as a radiation electrode, a ground electrode, or a feed electrode of an antenna, and attempts to finish an electrode pattern to a desired shape and size. Things. Conventionally,
The only processing method performed on the outer electrode part was trimming. In the present invention, unlike the case of trimming, the outer shape of the electrode after processing does not have irregularities and maintains the electrode shape that should be originally possessed. Therefore, there is no significant change in the electrode shape before and after the processing, and only a change can be seen on the insulating substrate side. However, it is not necessary to process the entire electrode outer shell, and selection and processing are naturally performed according to the purpose.

【0012】また、この発明を実施するに当り、電極パ
ターンを絶縁基体に配置形成する工程が先行するが、ス
クリーンの誤差を加味した程度以上に電極パターンを作
製する必要がある。形成された電極パターンに加工代が
ない場合、発明の効果を充分享受することはできない。
しかしながら、本発明の厳密な意味では上述の如くであ
るが、本発明を適用して帯域幅を制御する場合には、こ
の制約条件はかなりの程度緩めることができる。これに
ついては、後の請求項にて触れることにする。
In practicing the present invention, a process of arranging and forming an electrode pattern on an insulating substrate precedes, but it is necessary to manufacture the electrode pattern to an extent that takes into account the screen error. If there is no processing allowance in the formed electrode pattern, the effects of the invention cannot be sufficiently enjoyed.
However, as described above in the strict sense of the present invention, this constraint can be relaxed to a considerable extent when applying the present invention to control bandwidth. This will be mentioned in a later claim.

【0013】請求項2に記載の発明は、複数の電極間の
相互位置関係を調整することを目的としている。請求項
1では個々の電極自体に対する加工方法であるが、本発
明は電極間の相対位置を調整するものである。これはそ
れぞれの電極の相対位置がアンテナ特性に重大な影響を
持つためで、総合的により高性能なアンテナを製造する
ことができる手掛かりとなる考え方である。さらに、電
極の印刷ズレでは電極間の相対位置誤差は本来生じない
ものとして考えられるが、個別的に見れば調整の必要な
場合があり、本発明の実施対象に含まれる。
Another object of the present invention is to adjust a mutual positional relationship between a plurality of electrodes. In the first aspect, a processing method for each electrode itself is used, but the present invention adjusts a relative position between the electrodes. This is because the relative position of each electrode has a significant influence on the antenna characteristics, and is a key to be able to manufacture a higher-performance antenna overall. Further, it is considered that the relative positional error between the electrodes does not originally occur in the printing misalignment of the electrodes, but there is a case where the adjustment is necessary when viewed individually, which is included in the embodiment of the present invention.

【0014】請求項3では、前述の電極配置の中で、共
振周波数に最も影響が大きい放射電極と接地電極を規定
するための発明である。図11に示す等価回路図から明
らかなように、放射電極と接地電極間で形成する静電容
量Cが共振周波数を決めるため、バラツキの少ないC
を得るには放射電極と接地電極間の離隔距離を精確に
規定することが最も有効である。しかし、両電極は2次
元的な配置ではなく、3次元として考える必要があるた
め、上記のことは短に離隔距離に止まらず、配置関係に
もその考えを拡大できることはいうまでもない。尚、放
射電極と接地電極の形状構成は例えば図9に示し特願2
000−113686号に開示されたチップ型アンテナ
を対象とすることができる。
According to a third aspect of the present invention, in the above-described electrode arrangement, a radiation electrode and a ground electrode having the greatest influence on the resonance frequency are defined. As apparent from the equivalent circuit diagram shown in FIG. 11, the capacitance C G to form between the radiation electrode and the ground electrode is to determine the resonant frequency, less variation C
To obtain G , it is most effective to precisely define the separation distance between the radiation electrode and the ground electrode. However, since both electrodes need to be considered as three-dimensional rather than two-dimensional arrangement, it goes without saying that the above can be extended not only to the separation distance but also to the arrangement relation. The configuration of the radiation electrode and the ground electrode is shown in FIG.
000-113686 can be targeted.

【0015】請求項4に記載の発明は、前述した加工を
母基板上で一括処理しようとする方法で、量産性を配慮
した方法である。広い基板に多数の素子を同時に形成
し、一括処理した後ダイシングしてチップ化する方法
は、LSIを始めとする電子部品製造に通常の製造方法
であるが、アンテナ素子の製造に関してはこのような技
術を開示している文献は見当たらない。電極の局部を対
象とする従来のトリミングとは異なり、本発明は電極構
成の全体を加工対象とするものであるため、母基板上で
処理することは、第一に満たさなければならない必要条
件である。従来技術では、放射電極を形成後外郭を加工
する考えは全くなく、電極の一部をトリミングする方法
で充分足りていた。さらに、数GHz帯の高周波用アン
テナを必要としていなかったことも一因である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of performing the above-described processing on a mother substrate at a time, and taking into account mass productivity. The method of simultaneously forming a large number of elements on a wide substrate, performing batch processing, and then dicing into chips is a normal manufacturing method for the production of electronic components such as LSIs. There are no references disclosing the technology. Unlike the conventional trimming that targets the local part of the electrode, the present invention is intended to process the entire electrode configuration, so that processing on the mother substrate is a necessary condition that must first be satisfied. is there. In the prior art, there is no idea of processing the outer shell after forming the radiation electrode, and a method of trimming a part of the electrode is sufficient. Another reason is that a high-frequency antenna of several GHz band is not required.

【0016】基板上のチップ型アンテナの電極を加工す
る手段として、回転式カッター、サンドブラスト、レー
ザー照射等による方法、あるいはリソグラフィ技術の適
用などが可能である。前者の方法は、電極材と共に基板
材も同時に除去されるが、後者では主として電極材に対
する反応を利用するため、加工後の基板の表面が相違す
る。しかしながら、いずれの方法においても加工性およ
び作業性を配慮した母基板上の素子配列が行われる。例
えば、機械的な方法ではカッターのワンパスが可能な配
列などである。また、レジストマスクを使う方法では、
素子間の距離を充分空けることが必要である。
As a means for processing the electrodes of the chip antenna on the substrate, a method using a rotary cutter, sand blast, laser irradiation, or the like, or application of a lithography technique can be used. In the former method, the substrate material is also removed together with the electrode material. However, the latter method mainly uses a reaction to the electrode material, so that the surface of the processed substrate is different. However, in any of the methods, the elements are arranged on the mother substrate in consideration of workability and workability. For example, an arrangement in which one pass of the cutter is possible by a mechanical method is used. Also, with the method using a resist mask,
It is necessary to keep a sufficient distance between the elements.

【0017】請求項5の発明は、電極の加工が同時に共
振周波数の調整を兼ねる方法であり、生産合理化の手立
てとなる発明である。被加工アンテナ素子が基板上に整
列形成され、且つ測定用の配線が行われていれば、加工
と同時に特性検査が可能である。ダイシングによるチッ
プ化工程では、上記の測定用引き出し線、測定用端子等
は除去されて残ることはない。次に、発明の実施例につ
いて詳細に説明することにする。
A fifth aspect of the present invention is a method in which the machining of the electrodes also serves to adjust the resonance frequency at the same time. If the antenna element to be processed is aligned on the substrate and the wiring for measurement is provided, the characteristic inspection can be performed simultaneously with the processing. In the step of forming chips by dicing, the above-mentioned lead wires for measurement, terminals for measurement, and the like are not removed and remain. Next, embodiments of the invention will be described in detail.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は本発明によるチップ型アン
テナの斜視図である。図示のように放射電極13、接地
電極15,17および給電電極12に対する実施例であ
る。従来のアンテナと比べると、アンテナ表面の外観は
歴然と異なっている。すなわち、本発明による加工方法
では、不要な電極パターンを機械的あるいは物理化学的
な加工手段を用いて基体材と共に取り除くことが含ま
れ、その結果、必要のない電極周囲が取り除かれて低く
なり、逆に必要とする電極パターンがアイランド状に残
る。加工手段は後述の実施例で詳しく説明するが、回転
式カッター等の機械加工装置を用いる方法、リソグラフ
ィー、プラズマエッチング、ケミカルエッチング、サン
ドブラスト等、物理化学的な方法が有効である。しか
し、実施例に示すように全ての電極に対して加工する必
要はなく、必要に応じた選択がとられることはいうまで
もない。
FIG. 1 is a perspective view of a chip antenna according to the present invention. This is an embodiment for the radiation electrode 13, the ground electrodes 15, 17 and the feed electrode 12 as shown. The appearance of the antenna surface is significantly different from that of the conventional antenna. That is, the processing method according to the present invention includes removing unnecessary electrode patterns together with the base material using mechanical or physicochemical processing means. As a result, unnecessary electrode surroundings are removed and lowered, Conversely, the required electrode pattern remains in an island shape. The processing means will be described in detail in the embodiments described later, but a method using a mechanical processing device such as a rotary cutter, a physicochemical method such as lithography, plasma etching, chemical etching, and sand blast is effective. However, it is not necessary to process all the electrodes as shown in the embodiment, and it goes without saying that selection can be made as needed.

【0019】上記の手段は加工原理からμm程度の精度
を充分確保でき、スクリーン印刷による場合と比べる
と、1桁以上の精度向上が図れる。また、絶縁基体から
の除去量、すなわち図示するD1、D2等は数μmから
mm程度が好適であるが、限りなくゼロに近い場合も可
能である。一方、D1、D2等は帯域幅特性に影響する
ため、目標特性を勘案して適宜その値を選ぶことが肝要
である。この実施例では、放射電極13と接地電極15
とのギャップGdが設計値通りに規定され、共振周波数
のバラツキ幅を従来の半分以下にすることができた。
The above means can sufficiently secure an accuracy of about μm from the processing principle, and can improve the accuracy by one digit or more compared to the case of screen printing. Further, the removal amount from the insulating base, that is, D1, D2, etc. shown in the figure is preferably about several μm to mm, but may be as close to zero as possible. On the other hand, since D1, D2, and the like affect the bandwidth characteristics, it is important to appropriately select the values in consideration of the target characteristics. In this embodiment, the radiation electrode 13 and the ground electrode 15
And the gap Gd is determined as designed, and the variation width of the resonance frequency can be reduced to half or less of the conventional value.

【0020】図2および図3は誘電基体の除去量と帯域
幅の関係である。まず、図2は溝等の凹部深さDに対す
る帯域幅BW特性である。溝等の凹部は、図1における
放射電極13と接地電極との対向部分とし、図中Gdで
示される箇所の深さD1であるが、一般性を持たせるた
めにDと表示した。図2に示すようにDの増加と共にB
Wも広がり、D=0.6mm付近でBWは約3倍の7%
に拡大する。一方、図3は溝等凹部幅Gd’対BW特性
である。BWはGd’にほぼ比例し、図2の場合と比べ
ると、DよりGd’のほうがBWに対する影響が大きい
ことがわかる。以上の結果から、DあるいはGd’を適
宜組み合わせることにすれば、帯域幅BWの制御が可能
である。
FIGS. 2 and 3 show the relationship between the removal amount of the dielectric substrate and the bandwidth. First, FIG. 2 shows a bandwidth BW characteristic with respect to a depth D of a concave portion such as a groove. A concave portion such as a groove is a portion facing the radiation electrode 13 and the ground electrode in FIG. 1 and has a depth D1 at a location indicated by Gd in the figure, but is denoted by D for generality. As shown in FIG.
W also spreads, BW is about 3 times 7% around D = 0.6mm
To expand. On the other hand, FIG. 3 shows the width Gd 'of the concave portion such as the groove versus the BW characteristic. BW is almost proportional to Gd ', and it can be seen that Gd' has a greater effect on BW than D in comparison with the case of FIG. From the above results, the bandwidth BW can be controlled by appropriately combining D or Gd '.

【0021】さらに、使用環境によっては電極の切断面
の酸化腐食が進行することが考えられる。この対策とし
て、本発明の実施後に電極部にコーティングを施すこと
ができる。コーティングとして、ガラスなどを400〜500
℃で焼き付けるか、あるいは樹脂膜を200℃程度で処理
するものが適用可能であるが、電極の腐食を遅らせる材
質のものであれば、上述の材料に限定する必要はない。
Further, it is conceivable that oxidative corrosion of the cut surface of the electrode progresses depending on the use environment. As a countermeasure, a coating can be applied to the electrode part after implementation of the present invention. 400 ~ 500 glass etc. as coating
Although it is possible to apply a material which is baked at a temperature of ° C. or a resin film is treated at a temperature of about 200 ° C., the material is not limited to the above-mentioned material as long as it is a material which delays the corrosion of the electrode.

【0022】多数個のチップ型アンテナを一括処理する
場合の実施概念を図4に示す。チップ型アンテナ10を
母基板80に多数配列して形成する。必要な処理を終え
た後、横方向に切断し板片82とする。さらに、切断面
に電極を形成してから所定の位置を切断してチップ型ア
ンテナ10が得られる。この実施例では、放射電極13
と接地電極15間の離隔距離Gdを高精度に調整するた
めに、溝19を放射電極13と接地電極15間に挿入す
る方法を示す。例えば、溝19を設ける方法として、図
5に示すような回転式カッター21を備える機械装置が
用いられる。溝19の加工時には、図4(a)において
カッターが図示の縦方向の入ることになる。回転式カッ
ター21の幅はGdに等しく選ばれるため、溝19を数
μmの幅精度で加工することは容易である。当然なが
ら、加工前の放射電極13と接地電極15間は、Gdよ
り狭く形成されている。
FIG. 4 shows an implementation concept in the case where a large number of chip-type antennas are collectively processed. A large number of chip antennas 10 are arranged on a mother substrate 80. After completing the necessary processing, the sheet is cut in the horizontal direction to obtain a plate piece 82. Further, a chip-shaped antenna 10 is obtained by cutting a predetermined position after forming an electrode on the cut surface. In this embodiment, the radiation electrode 13
A method of inserting a groove 19 between the radiation electrode 13 and the ground electrode 15 in order to adjust the separation distance Gd between the radiation electrode 13 and the ground electrode 15 with high accuracy will be described. For example, as a method for providing the groove 19, a mechanical device having a rotary cutter 21 as shown in FIG. 5 is used. At the time of machining the groove 19, the cutter enters in the vertical direction shown in FIG. Since the width of the rotary cutter 21 is selected to be equal to Gd, it is easy to machine the groove 19 with a width accuracy of several μm. Naturally, the gap between the radiation electrode 13 and the ground electrode 15 before processing is formed narrower than Gd.

【0023】図6はマスクパターン膜を用いる方法であ
る。必要な電極65部分をマスク膜67で覆い、高速の
荷電粒子あるいはエッチング液を作用させ、マスクで覆
われていない部分を取り除くものである。一般に、PV
D,CVD等として知られている方法である。LSI等
の製造に用いられるリソグラフィー技術であり、μmオ
ーダー以下の精度が簡単に得られ、複数のアンテナを同
時に処理加工できるため、チップ型アンテナのように小
形部品の加工には最適である。図7は電気メッキの逆作
用を使うもので、マスク膜65で覆われていない部分を
電気化学的にエッチングする方法である。
FIG. 6 shows a method using a mask pattern film. A necessary portion of the electrode 65 is covered with a mask film 67, and high-speed charged particles or an etchant is applied to remove a portion not covered with the mask. Generally, PV
D, CVD, etc. This is a lithography technique used in the manufacture of LSIs and the like, and can easily obtain a precision of the order of μm or less and can process a plurality of antennas simultaneously. Therefore, it is most suitable for processing small components such as chip-type antennas. FIG. 7 shows a method using the reverse action of electroplating, in which a portion not covered with the mask film 65 is electrochemically etched.

【0024】さらに、量産性を追求する製造方法の概念
を図8に示す。2点鎖線で囲まれたダイシングライン内
に、引き出し線86および88、測定用端子84を形成
し、所要の電気的性能のチェックを可能とする方法であ
る。溝加工後にこのような測定を行う工程を含めること
によって、加工工程数を低減すると共に自動測定のライ
ン化が可能となり、大幅なコスト低減に寄与するもので
ある。また、図4の製造方法に比べ測定後に溝を深くす
る等の微調整が可能となるし、品質のばらつきがなくな
り歩留まりが向上する等の利点がある。
FIG. 8 shows the concept of a manufacturing method for pursuing mass productivity. In this method, lead lines 86 and 88 and a measuring terminal 84 are formed in a dicing line surrounded by a two-dot chain line, and required electric performance can be checked. By including the step of performing such a measurement after the groove processing, the number of processing steps can be reduced, and a line for automatic measurement can be realized, thereby contributing to significant cost reduction. Further, as compared with the manufacturing method shown in FIG. 4, fine adjustments such as deepening the groove after the measurement can be performed, and there is an advantage that there is no variation in quality and the yield is improved.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によって従来技術の課題であったチップ型アンテナの共
振周波数のバラツキを大幅に低減することが可能とな
る。加えて,本発明による製造方法は、量産性に優れる
ものであるからその波及効果は大きなものである。
As is apparent from the above description, the present invention makes it possible to greatly reduce the variation in the resonance frequency of the chip antenna, which has been a problem of the prior art. In addition, since the manufacturing method according to the present invention is excellent in mass productivity, its ripple effect is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による一実施例であるチップ型アンテナ
の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a chip antenna according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の溝等の凹部深さと帯域幅の関係であ
る。
FIG. 2 shows the relationship between the depth of a concave portion such as a groove and the bandwidth of the present invention.

【図3】本発明の溝等の凹部幅と帯域幅の関係である。FIG. 3 shows the relationship between the width of a concave portion such as a groove and the bandwidth of the present invention.

【図4】本発明を母基板に実施する場合の適用例であ
る。
FIG. 4 is an application example when the present invention is applied to a mother board.

【図5】本発明による機械加工例を示す概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram showing a machining example according to the present invention.

【図6】本発明によるエッチング方法を示す概念図であ
る。
FIG. 6 is a conceptual diagram showing an etching method according to the present invention.

【図7】本発明による電気的なエッチング方法を示す概
念図である。
FIG. 7 is a conceptual diagram illustrating an electrical etching method according to the present invention.

【図8】本発明による測定と切断方法を示す実施方法の
概念である。
FIG. 8 is a concept of an embodiment method showing a measuring and cutting method according to the present invention.

【図9】本発明を実施する一例のアンテナ素子の斜視図
である。
FIG. 9 is a perspective view of an example of an antenna element embodying the present invention.

【図10】従来方法によるトリミングが施されたアンテ
ナ素子の斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view of an antenna element trimmed by a conventional method.

【図11】チップ型アンテナの等価回路図である。FIG. 11 is an equivalent circuit diagram of a chip antenna.

【図12】従来の共振周波数とインピーダンスの調整方
法である。
FIG. 12 shows a conventional method of adjusting the resonance frequency and impedance.

【図13】従来の共振周波数の調整方法である。FIG. 13 shows a conventional method of adjusting the resonance frequency.

【図14】トリミング専用電極を用いる従来方法であ
る。
FIG. 14 shows a conventional method using an electrode dedicated to trimming.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:チップ型アンテナ、11:絶縁基体、12:給電
電極、13:放射電極、15,17:接地電極、19:
溝、21:カッター、23:デューダ、29:凹部、4
9:切り欠き、51:ループ状放射導体、53:切り欠
き、61:螺旋状導体、63:トリミング専用電極、6
5:電極膜、67:マスク膜、75:電解液、77:負
極、80:母基板、82:列配列された基板、84:測
定用端子、86、88:引き出し線
10: chip antenna, 11: insulating base, 12: feed electrode, 13: radiation electrode, 15, 17: ground electrode, 19:
Groove, 21: cutter, 23: duda, 29: concave, 4
9: Notch, 51: Loop radiation conductor, 53: Notch, 61: Spiral conductor, 63: Trimming dedicated electrode, 6
5: Electrode film, 67: Mask film, 75: Electrolyte, 77: Negative electrode, 80: Mother substrate, 82: Substrate arranged in row, 84: Measurement terminal, 86, 88: Lead wire

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基体に放射電極、接地電極、給電電
極等の複数の電極を配置してなるチップ型アンテナにお
いて、少なくとも1個以上の前記電極の外郭に対し配置
形成後、所要形状寸法に仕上げる加工工程を含むことを
特徴とするチップ型アンテナの製造方法。
1. A chip antenna comprising a plurality of electrodes, such as a radiation electrode, a ground electrode, and a feed electrode, disposed on an insulating substrate. A method of manufacturing a chip antenna, comprising a finishing step.
【請求項2】 絶縁基体に放射電極、接地電極、給電電
極等の複数の電極を配置してなるチップ型アンテナにお
いて、前記電極の配置形成後に、所要の電極間離隔距離
または相対位置関係となるように、前記電極の外郭を仕
上げる加工工程を含むことを特徴とするチップ型アンテ
ナの製造方法。
2. In a chip antenna in which a plurality of electrodes such as a radiation electrode, a ground electrode, and a power supply electrode are arranged on an insulating base, a required electrode separation distance or a relative positional relationship is obtained after the formation of the electrodes. As described above, the method for manufacturing a chip antenna includes a processing step of finishing the outer contour of the electrode.
【請求項3】 請求項2において、前記電極は少なくと
も放射電極と接地電極であることを特徴とするチップ型
アンテナの製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the electrodes are at least a radiation electrode and a ground electrode.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかにおいて、母基
板に形成された前記チップ型アンテナをダイシングする
前に、所要の電極外郭の加工工程を含むことを特徴とす
るチップ型アンテナの製造方法。
4. The method of manufacturing a chip antenna according to claim 1, further comprising a step of processing a required electrode outer shell before dicing the chip antenna formed on the motherboard. Method.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかにおいて、所要
電極の加工中もしくは終了後、共振周波数および/また
は帯域幅を計測することを特徴とするチップ型アンテナ
の製造方法。
5. The method for manufacturing a chip antenna according to claim 1, wherein a resonance frequency and / or a bandwidth is measured during or after processing required electrodes.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009004852A (en) * 2007-06-19 2009-01-08 Toppan Forms Co Ltd Antenna forming method
KR100979746B1 (en) 2009-06-29 2010-09-02 (주)삼우이피씨 Small sized ceramic coupling antenna for a-gps
WO2021192560A1 (en) * 2020-03-26 2021-09-30 株式会社ヨコオ Planar antenna and high-frequency module comprising same

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