JP2002133612A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JP2002133612A
JP2002133612A JP2001284360A JP2001284360A JP2002133612A JP 2002133612 A JP2002133612 A JP 2002133612A JP 2001284360 A JP2001284360 A JP 2001284360A JP 2001284360 A JP2001284360 A JP 2001284360A JP 2002133612 A JP2002133612 A JP 2002133612A
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Japan
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magnetic
head
magnetic pole
layer
recording
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JP2001284360A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Koyama
直樹 小山
Koji Takano
公史 高野
Hidetoshi Moriwaki
英稔 森脇
Kazuo Shiiki
一夫 椎木
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a head structure such that both characteristics of a magnetic shielding layer and a magnetic pole layer for recording can be satisfied, concerning a magnetic layer used as the magnetic shielding layer and also as the magnetic pole layer. SOLUTION: In the magnetic head compounding a recording head and a reproducing head which have been optimized, respectively, a film thickness difference is given to the magnetic layer used as the magnetic pole and also as the magnetic shielding layer of both heads, and a convex part of the upper side of a step generated by this film thickness difference is made to be a lower magnetic pole which faces an upper magnetic pole. It is possible thereby to improve the off-track overwriting characteristics and to decrease the crosstalk between tracks.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

【従来の技術】磁気記録の高密度化を進めるため、記録
ヘッドと再生ヘッドを分離して、それぞれを最適化して
高性能化を図った録再分離型の磁気ヘッドの検討がすす
められている。このヘッドの一つとして記録ヘッドに誘
導型、再生ヘッドに磁気抵抗効果型を用い、両者を複合
化した構造が知られている。このようなヘッドにおい
て、磁気シールド層として用いる磁性層の一方または両
方を誘導型ヘッドの磁極と兼用する構造が知られてい
る。このような構造の例としては特公昭59−3508
8をはじめとして数多くの公知例がある。
2. Description of the Related Art In order to increase the density of magnetic recording, studies are being made on a recording / reproducing separation type magnetic head in which a recording head and a reproducing head are separated and each of them is optimized for high performance. . As one of the heads, a structure in which an inductive type is used as a recording head and a magnetoresistive effect type is used as a reproducing head, and both are combined is known. In such a head, a structure is known in which one or both of the magnetic layers used as the magnetic shield layer also serve as the magnetic pole of the induction type head. An example of such a structure is disclosed in JP-B-59-3508.
There are a number of known examples, including No. 8.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気シール
ド層が記録ヘッドの磁極を兼ねる場合にはそのトラック
幅方向の寸法が問題となる。一般に、磁気抵抗効果素子
はトラック幅方向に異方性を付与するため、その長さは
トラック幅よりも長くする必要がある。この場合、トラ
ック幅以外の部分で生じるノイズを抑えるため、磁気シ
ールド層としては、磁気抵抗効果素子全体を覆う必要が
ある。一方、記録用の磁極としては、その寸法はトラッ
ク幅と一致させる必要がある。このように、従来のヘッ
ドでは磁性層のトラック幅方向の寸法に関して両者を満
足することはできなかった。このため、磁気抵抗効果素
子の上に記録用ヘッドを積層した分離型ヘッドの場合、
折衷案として、上部磁極はトラック幅に一致させ、下部
磁極は磁気抵抗効果素子全体を覆えるような長さとする
構造が知られている。しかしながら、この場合、記録用
磁極としては上部磁極と下部磁極のトラック幅は一致し
ないので、磁極端部で記録にじみが生じやすく、良好な
記録特性を得ることは難しかった。
When the magnetic shield layer also functions as the magnetic pole of the recording head, its dimension in the track width direction becomes a problem. Generally, a magnetoresistive effect element needs to be longer than the track width in order to provide anisotropy in the track width direction. In this case, in order to suppress noise generated in a portion other than the track width, the magnetic shield layer needs to cover the entire magnetoresistive element. On the other hand, the dimensions of the recording magnetic pole need to match the track width. As described above, the conventional head cannot satisfy both of the dimensions of the magnetic layer in the track width direction. For this reason, in the case of the separation type head in which the recording head is stacked on the magnetoresistive effect element,
As a compromise, there is known a structure in which the upper magnetic pole is made equal to the track width and the lower magnetic pole is long enough to cover the entire magnetoresistive element. However, in this case, as the recording magnetic pole, the upper magnetic pole and the lower magnetic pole do not have the same track width, so that recording bleeding is likely to occur at the magnetic pole end, and it has been difficult to obtain good recording characteristics.

【0003】本発明の目的は磁気シールド層と記録用の
磁極層を兼用した磁性層に関して、両者の特性を満足で
きるようなヘッド構造を与えるものである。
An object of the present invention is to provide a head structure which satisfies the characteristics of a magnetic layer which also functions as a magnetic shield layer and a magnetic pole layer for recording.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記問題点は、兼用する
磁性層の下部および上部の寸法をそれぞれシールド層お
よび磁極に必要な幅に一致させる。すなわち、磁性層の
断面にテーパーまたは段差を設けて、磁性層の上部と下
部で寸法を変えることにより解決することができる。
The problem is that the dimensions of the lower portion and the upper portion of the magnetic layer, which is also used as the magnetic layer, match the widths required for the shield layer and the magnetic pole, respectively. That is, the problem can be solved by providing a taper or a step in the cross section of the magnetic layer and changing the dimensions of the upper and lower portions of the magnetic layer.

【0005】上記構造にすることにより、一方の記録用
磁極に対面する鍵の磁性層の幅はトラック幅と一致させ
ることができるので、書き込み時の磁束はトラック幅部
に集中する。このため、記録ヘッドの記録にじみを低減
することができる。一方、磁気抵抗効果素子に対面する
側の磁極の幅は素子を十分覆うように長くすることがで
きる。このため、隣接トラックからの信号磁束によって
生じる磁気抵抗効果素子のノイズを低減することができ
る。
With the above structure, the width of the key magnetic layer facing one recording magnetic pole can be made equal to the track width, so that the magnetic flux at the time of writing concentrates on the track width portion. For this reason, it is possible to reduce recording blur of the recording head. On the other hand, the width of the magnetic pole on the side facing the magnetoresistive element can be increased to sufficiently cover the element. Therefore, it is possible to reduce noise of the magnetoresistive effect element caused by the signal magnetic flux from the adjacent track.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】実施例1本発明の一実施例を図1
を用いて説明する。同図(a)は本発明による磁気ヘッ
ドの平面図、(b)は媒体対抗面から見た断面図をそれ
ぞれ示す。ヘッド基体1上に下部磁気シールド層2を積
層し、その上に絶縁層3を介して磁気抵抗効果素子4を
積層する。続いて、絶縁層5を介して上部磁気シールド
層6を積層する。このとき、下部の寸法は下部の磁気シ
ールド層2と同等にし、上部の寸法は上部磁極7の寸法
と同等になるように加工する。さらに、その上に絶縁層
8を介してコイルとなる導体層9を積層し、さらに、ま
た、絶縁層10を介して、上部磁極7を積層する。この
ような構造の磁気ヘッドにおいて、シールド層2,6お
よび磁極層7にはスパッタリング法により作製したパー
マロイ(組成82Ni−18Fe)を用い、その膜厚は
いずれも2.0μmとした。その媒体対抗面における寸
法は下部シールド層2が100μm、下部磁極を兼ねた
上部シールド層6の下部が90μm、上部が10μm、
上部磁極7が8μmである。なお、2段になった下部磁
極6における段差16は0.7μmとした。また、積層
するときの各層のあわせに余裕を持たせるため、各層の
寸法は上に行くほど小さくなるようにした。絶縁層3,
5,8,10にはすべてアルミナを用いた。磁極にはさ
まれた部分における各絶縁層3,5,8,10の膜厚は
それぞれ、0.3μm、0.4μm、0.7μm、0.7μ
mである。これらの絶縁層の平坦化は通常用いられるエ
ッチバック法を用いておこなった。導体層9には膜厚
2.0μmの銅を用い、1ターンのコイルを形成した。
磁気抵抗効果素子4には真空蒸着により形成した膜厚4
0nmのパーマロイ(組成82Ni−18Fe)をもち
い、その形状は、トラック幅方向の長さが50μmで、
その高さは10μmである。この素子の両端には電極層
11を設け、Ti(膜厚:50nm)/Au(150n
m)の2層膜を用いた。また、磁気抵抗効果素子のバイ
アス方法として、ここではバーバーポール法を用いた。
このため、感磁部12における電極端部は素子に対して
45°傾けた。また、トラック幅方向の電極間隔は6μ
mとし、この間隔が実効的なトラック幅に相当する。な
お、上記実施例ではエッチバック法を用いて絶縁層の平
坦化を図った。しかしながら、磁気抵抗効果素子による
段差は0.3μm以下であり、その上に形成する磁気シ
ールド層の膜厚2.0μmに比べて小さい。また、磁極
上の段差(0.7μm)もコイル導体の厚さ(2μm)
に比べれば小さい。このため、絶縁層の平坦化は必ずし
も必要ではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 An embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. FIG. 1A is a plan view of a magnetic head according to the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view as viewed from a surface facing a medium. A lower magnetic shield layer 2 is laminated on a head base 1, and a magnetoresistive element 4 is laminated thereon with an insulating layer 3 interposed therebetween. Subsequently, the upper magnetic shield layer 6 is laminated via the insulating layer 5. At this time, the lower dimension is made equal to that of the lower magnetic shield layer 2, and the upper dimension is worked so as to be equal to the dimension of the upper magnetic pole 7. Further, a conductor layer 9 serving as a coil is laminated thereon with an insulating layer 8 interposed therebetween, and the upper magnetic pole 7 is further laminated via an insulating layer 10. In the magnetic head having such a structure, permalloy (composition 82Ni-18Fe) produced by a sputtering method was used for the shield layers 2 and 6 and the pole layer 7, and the thickness of each was 2.0 μm. The dimensions of the lower surface of the lower shield layer 2 are 100 μm, the lower part of the upper shield layer 6 also serving as the lower magnetic pole is 90 μm, the upper part is 10 μm,
The upper magnetic pole 7 is 8 μm. The step 16 in the two-stage lower magnetic pole 6 was 0.7 μm. In addition, in order to provide a margin for alignment of the respective layers when laminating, the dimensions of the respective layers are made smaller as going upward. Insulating layer 3,
Alumina was used for 5, 8, and 10 in all cases. The thickness of each of the insulating layers 3, 5, 8, and 10 in the portion sandwiched between the magnetic poles is 0.3 μm, 0.4 μm, 0.7 μm, and 0.7 μm, respectively.
m. The planarization of these insulating layers was performed by using a commonly used etch back method. The conductor layer 9 was made of copper having a thickness of 2.0 μm to form a one-turn coil.
The magnetoresistance effect element 4 has a film thickness 4 formed by vacuum evaporation.
Using 0 nm permalloy (composition 82Ni-18Fe), its shape is 50 μm in the track width direction,
Its height is 10 μm. Electrode layers 11 are provided at both ends of this element, and Ti (film thickness: 50 nm) / Au (150 n
m) was used. The Barber pole method was used here as a bias method for the magnetoresistive element.
For this reason, the end of the electrode in the magnetic sensing part 12 was inclined by 45 ° with respect to the element. The electrode spacing in the track width direction is 6 μm.
m, and this interval corresponds to the effective track width. In the above embodiment, the insulating layer was planarized by using the etch-back method. However, the step due to the magnetoresistive element is 0.3 μm or less, which is smaller than the thickness of the magnetic shield layer formed thereon of 2.0 μm. The step on the magnetic pole (0.7 μm) is also the thickness of the coil conductor (2 μm).
Smaller than. Therefore, planarization of the insulating layer is not always necessary.

【0007】実施例2図2は上記ヘッドのオフトラック
オーバーライト特性と隣接トラックによるクロストーク
特性を示す。パラメータは下部磁極の段差(d)とその
膜厚(t)の比である。同図の上に、それぞれの比率に
おける媒体対抗面から見た記録ヘッドの磁極携帯の模式
図を示す。磁極の側面は加工時にテーパ状となるため、
その断面は台形状になる。同図の結果においてオフトラ
ック量はトラック幅の10%にした。段差量(d)が増
加するとオフトラックオーバーライト特性が改善され
る。これは段差の増加に伴い記録時の磁束が記録トラッ
ク幅部分に集中し、記録にじみが減少するためである。
また隣接トラックによるクロストーク特性も、段差量に
依存し、段差が大きくなると、S/Nが低下する。これ
は、dが厚くなるとシールド層の厚さが薄くなるのでシ
ールド効果が低下するためである。特に、d/tが1の
場合、すなわち、磁気シールド層の幅が上部磁極と一致
する場合には、磁気抵抗効果素子の端部はシールドされ
ないためS/Nは著しく劣化する。ここで、磁気ヘッド
の動作に必要なS/Nの下限として26dBをとると図
のようになる。したがって、段差量(d)には最適値が
あり、上記実施例の2μm厚さのパーマロイの場合は、
約0.6μmから1.4μmの範囲にあることがわかる。
なお、この値はテーパ状の断面の角度に依存する。すな
わち、側面が急峻なほど記録にじみは減少するため、オ
フトラックオーバーライト特性は向上する。さらに、上
部磁極をメッキ法で形成する場合には断面は逆テーパ状
になる。この場合には、さらに記録にじみを低減するこ
とができる。ここで、当然のことながら、上記の値は磁
極に用いる磁性膜の磁気特性(飽和磁束密度BS,透磁
率η)や膜厚に依存する。
Embodiment 2 FIG. 2 shows off-track overwrite characteristics of the head and crosstalk characteristics due to adjacent tracks. The parameter is the ratio between the step (d) of the lower magnetic pole and its thickness (t). Above the figure, schematic diagrams of the magnetic pole carrying of the recording head viewed from the medium facing surface at each ratio are shown. Since the side surface of the magnetic pole is tapered during processing,
Its cross section is trapezoidal. In the results shown in the figure, the off-track amount is set to 10% of the track width. When the step amount (d) increases, the off-track overwrite characteristics are improved. This is because the magnetic flux at the time of recording concentrates on the recording track width portion as the step increases, and the recording bleeding decreases.
Further, the crosstalk characteristic of the adjacent track also depends on the amount of the step, and as the step increases, the S / N ratio decreases. This is because the shield effect is reduced since the thickness of the shield layer is reduced as d increases. In particular, when d / t is 1, that is, when the width of the magnetic shield layer matches the upper magnetic pole, the end of the magnetoresistive element is not shielded, so that the S / N is significantly deteriorated. Here, if 26 dB is taken as the lower limit of the S / N required for the operation of the magnetic head, the result is as shown in the figure. Therefore, the step amount (d) has an optimum value. In the case of the permalloy having a thickness of 2 μm in the above embodiment,
It can be seen that it is in the range of about 0.6 μm to 1.4 μm.
Note that this value depends on the angle of the tapered cross section. That is, as the side surface becomes steeper, the recording blur decreases, and the off-track overwrite characteristics are improved. Further, when the upper magnetic pole is formed by a plating method, the cross section has an inversely tapered shape. In this case, recording blur can be further reduced. Here, naturally, the above value depends on the magnetic properties (saturation magnetic flux density BS, magnetic permeability η) and the film thickness of the magnetic film used for the magnetic pole.

【0008】実施例3本発明の他の実施例を図3を用い
て説明する。同図(a)は磁気ヘッドの平面図,(b)
はその媒体対抗面から見た断面図で、記録用の上下磁極
の間に磁気抵抗効果型素子をはさんだ構造のヘッドを示
す。はじめに基体1上に磁気シールド層を兼ねた記録ヘ
ッド用の下部磁極13を形成する。次に、絶縁層14を
形成し、その上に磁気抵抗効果素子4を設ける。続い
て、記録ヘッドのコイルとなる導体層9を設ける。その
上に絶縁層15を積層後、記録トラック幅に相当する溝
17を形成する。続いて磁性膜を積層し上部磁極兼磁気
シールド膜18とする。ここで、磁性膜としては、飽和
磁束密度1.3TのCo系アモルファス合金を用いた。
膜厚はいずれも1.5μmである。トラック幅方向の下
部磁極の寸法が50μm、上部磁極の幅が45μmでそ
の溝の幅は6μmである。絶縁層14,15にはスパッ
タ法で形成したアルミナを用いた。それぞれの膜厚は、
上下の磁極間で0.4μm、0.4μmとなるようにし
た。磁気抵抗効果素子4は膜厚40nmのパーマロイで
形成した。バイアス方法は実施例の1と同じようにバー
バーポール法をもちいた。素子の形状は、長さが30μ
mで高さが12μmである。磁気抵抗効果素子の電極層
11には膜厚0.2μmのA1を用いた。トラック幅方
向の電極間距離、すなわち、トラック幅は4μmであ
る。なお、溝の深さを種々変えるため、深さに応じて絶
縁層15の膜厚をあらかじめ変えておく必要がある。
Embodiment 3 Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1A is a plan view of a magnetic head, and FIG.
Is a cross-sectional view taken from the surface facing the medium, showing a head having a structure in which a magnetoresistive element is interposed between upper and lower magnetic poles for recording. First, a lower magnetic pole 13 for a recording head, which also serves as a magnetic shield layer, is formed on the base 1. Next, the insulating layer 14 is formed, and the magnetoresistance effect element 4 is provided thereon. Subsequently, a conductor layer 9 serving as a coil of the recording head is provided. After laminating the insulating layer 15 thereon, a groove 17 corresponding to the recording track width is formed. Subsequently, magnetic films are laminated to form an upper magnetic pole / magnetic shield film 18. Here, as the magnetic film, a Co-based amorphous alloy having a saturation magnetic flux density of 1.3 T was used.
Each film thickness is 1.5 μm. The dimension of the lower magnetic pole in the track width direction is 50 μm, the width of the upper magnetic pole is 45 μm, and the width of the groove is 6 μm. Alumina formed by a sputtering method was used for the insulating layers 14 and 15. Each film thickness is
The distance between the upper and lower magnetic poles was set to 0.4 μm and 0.4 μm. The magnetoresistance effect element 4 was formed of permalloy having a thickness of 40 nm. As the bias method, the Barber pole method was used as in the first embodiment. The element shape is 30μ long
m and a height of 12 μm. A1 having a thickness of 0.2 μm was used for the electrode layer 11 of the magnetoresistive element. The distance between the electrodes in the track width direction, that is, the track width is 4 μm. In order to change the depth of the groove, the thickness of the insulating layer 15 needs to be changed in advance according to the depth.

【0009】本ヘッドを用いて溝の深さをパラメータに
実施例2と同じようにオフトラックオーバーライト特性
と隣接トラッククロストーク特性を評価した。その結
果、溝の深さが0.5μmから1.0μmの範囲で26d
B以上のS/Nが得られることがわかった。このように
磁気シールド層に溝、すなわち段差を設けることによ
り、オフトラックオーバーライト特性、隣接トラックク
ロストークとも改善される。なお本実施例では、下部磁
極を兼ねた磁気シールド層13に段差を設けていない
が、この層にも段差を設けることができる。この場合に
も段差の効果が表れ、オフトラックオーバーライト特
性、隣接トラッククロストークとも改善される。但し、
磁気抵抗効果素子は平坦部に形成する必要が有るため、
絶縁層14をエッチバック法により平坦化することが必
要になる。
Using this head, off-track overwrite characteristics and adjacent track crosstalk characteristics were evaluated in the same manner as in Example 2 using the groove depth as a parameter. As a result, when the depth of the groove is in the range of 0.5 μm to 1.0 μm, 26 d
It was found that an S / N of B or more was obtained. By providing a groove, that is, a step, in the magnetic shield layer, the off-track overwrite characteristics and the adjacent track crosstalk are improved. In this embodiment, no step is provided in the magnetic shield layer 13 also serving as the lower magnetic pole, but a step can be provided in this layer. Also in this case, the effect of the step appears, and the off-track overwrite characteristics and the adjacent track crosstalk are improved. However,
Since the magnetoresistive element must be formed on a flat part,
It is necessary to flatten the insulating layer 14 by an etch-back method.

【0010】実施例4本発明の他の実施例として他のバ
イアス法を用いた磁気抵抗効果素子を使用することもで
きる。例えば、従来知られているような相互バイアス、
電流バイアス、永久磁石バイアスを用いた磁気抵抗効果
素子を使用することもできる。さらに、素子の形状とし
ては本実施例で述べた矩形状だけでなく、微小なギャッ
プを持つ閉磁路構造の素子も用いることができる。
Embodiment 4 As another embodiment of the present invention, a magnetoresistance effect element using another bias method can be used. For example, a mutual bias as conventionally known,
A magnetoresistive element using a current bias or a permanent magnet bias can also be used. Further, as the shape of the element, not only the rectangular shape described in the present embodiment but also an element having a closed magnetic circuit structure having a small gap can be used.

【0011】なお、上記の実施例ではいずれも再生ヘッ
ドとして再生効率のよい磁気抵抗効果素子を用いた場合
を示したが、従来の誘導型のヘッドを用いることもでき
る。この場合は、記録ヘッドのトラック幅を広く、再生
ヘッドのトラック幅を狭くすることによって、オフトラ
ックオーバライト特性およびトラック間クロストークを
減少することができる。したがって、記録用と再生用と
を兼ねる磁極に段差を設け、段差の上下の寸法をそれぞ
れのトラック幅に一致させることによって特性向上を図
ることができる。
In each of the above embodiments, a case is shown in which a magnetoresistive element having high reproduction efficiency is used as a reproduction head, but a conventional inductive head may be used. In this case, by increasing the track width of the recording head and narrowing the track width of the reproducing head, it is possible to reduce off-track overwrite characteristics and crosstalk between tracks. Therefore, by providing a step in the magnetic pole serving both for recording and reading, and by matching the upper and lower dimensions of the step with the respective track widths, the characteristics can be improved.

【0012】実施例5次に、共用する磁性膜の上部と下
部で比透磁率や飽和磁束密度が異なる場合の実施例につ
いて述べる。図4は磁気抵抗効果型再生ヘッドの上に記
録用の磁極が積層されたものである。再生ヘッドは先の
実施例1の場合と同様でパーマロイで形成したシールド
層2、6のあいだに絶縁層を介して薄膜パーマロイから
なる磁気抵抗効果素子4を形成する。次に、上部磁気シ
ールド層6のうえに記録ヘッドの下部磁極19を形成す
る。このとき、磁気シールドは膜厚0.7μmのパーマ
ロイである。磁極19には飽和磁束密度1.3TのCo
TaZrを用いた。膜厚は0.8μmとした。その後、
絶縁層8を介してコイルを形成し、そのうえに上部磁極
7を形成する。この磁極は膜厚1.5μmのCoTaZ
rで形成する。ここで、各磁性層のトラック幅方向の寸
法は下部シールド層2が100μm、上部シールド層6
が90μm、下部磁極19が8μm、上部磁極7が6μ
mである。なお、絶縁層の膜厚や磁気抵抗効果素子の構
造などは実施例1と同様である。
Embodiment 5 Next, an embodiment in which the relative magnetic permeability and the saturation magnetic flux density are different between the upper part and the lower part of the shared magnetic film will be described. FIG. 4 shows a recording magnetic pole laminated on a magnetoresistive read head. As in the case of the first embodiment, the reproducing head forms the magnetoresistive element 4 made of a thin-film permalloy between the shield layers 2 and 6 made of permalloy through an insulating layer. Next, the lower magnetic pole 19 of the recording head is formed on the upper magnetic shield layer 6. At this time, the magnetic shield is permalloy having a thickness of 0.7 μm. The magnetic pole 19 has a saturation magnetic flux density of 1.3 T of Co.
TaZr was used. The film thickness was 0.8 μm. afterwards,
A coil is formed via an insulating layer 8, and an upper magnetic pole 7 is formed thereon. This magnetic pole is a 1.5 μm thick CoTaZ
r. Here, the dimension of each magnetic layer in the track width direction is 100 μm for the lower shield layer 2 and 100 μm for the upper shield layer 6.
Is 90 μm, the lower magnetic pole 19 is 8 μm, and the upper magnetic pole 7 is 6 μm.
m. The thickness of the insulating layer and the structure of the magnetoresistive element are the same as in the first embodiment.

【0013】このように、記録ヘッド側の磁極の飽和磁
束密度を大きくすることによって、記録磁界のにじみだ
しが抑えられるので、記録特性の向上を図ることができ
る。
As described above, since the bleeding of the recording magnetic field can be suppressed by increasing the saturation magnetic flux density of the magnetic pole on the recording head side, the recording characteristics can be improved.

【0014】実施例6次に、記録再生ヘッドとも誘導型
ヘッドをもちいた場合の実施例について、図5を用いて
説明する。はじめに、基体1上に記録用の磁極19、7
を形成する。このときのトラック幅はそれぞれ10μ
m、8μmである。また、膜厚はどちらも3μmであ
る。材料は飽和磁束密度が1.3TのCoTaZrであ
る。その上に、再生ヘッド用の磁極20、21としてパ
ーマロイを積層する。膜厚はどちらも1μmである。再
生ヘッドのトラック幅方向の寸法は、下部磁極20は5
μm,上部磁極21は、4μmである。このとき、比透
磁率はCoTaZrでは1200、パーマロイでは20
00である。ギャップ層となる絶縁3,5の膜厚は、そ
れぞれ1.5μm,0.2μmである。また記録と再生ヘ
ッドのコイルの巻数は、それぞれ8ターン、24ターン
である。
Embodiment 6 Next, an embodiment in which an inductive head is used as the recording / reproducing head will be described with reference to FIG. First, the recording magnetic poles 19 and 7 are formed on the base 1.
To form The track width at this time is 10 μm each.
m, 8 μm. The film thickness is 3 μm in each case. The material is CoTaZr having a saturation magnetic flux density of 1.3T. Permalloy is stacked thereon as the magnetic poles 20 and 21 for the reproducing head. The thickness of each film is 1 μm. The dimension of the read head in the track width direction is 5
μm, and the upper magnetic pole 21 is 4 μm. At this time, the relative magnetic permeability was 1200 for CoTaZr and 20 for Permalloy.
00. The thicknesses of the insulating layers 3 and 5 serving as the gap layers are 1.5 μm and 0.2 μm, respectively. The number of turns of the recording and reproducing head coils is 8 turns and 24 turns, respectively.

【0015】このように、記録ヘッド側の磁極の飽和磁
束密度を大きくし、再生ヘッド側の磁極の透磁率を大き
くすることにより、記録磁界のにじみだしが抑えられ、
記録特性の向上を図ることができる。また、再生時の磁
束が再生用の磁極に集中するので効率良く再生すること
ができる。
As described above, by increasing the saturation magnetic flux density of the magnetic pole on the recording head side and increasing the magnetic permeability of the magnetic pole on the reproducing head side, bleeding of the recording magnetic field can be suppressed.
The recording characteristics can be improved. Further, since the magnetic flux at the time of reproduction is concentrated on the magnetic pole for reproduction, the reproduction can be performed efficiently.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明によれば記録ヘッドの磁極端部に
生じる記録にじみが抑えられるため、オフトラックオー
バライト特性が向上する。また、磁気抵抗素子の端部ま
で磁気シールド層でカバーできるため、トラック間クロ
ストークを減少することができる。
According to the present invention, the recording bleeding at the magnetic pole tip of the recording head is suppressed, and the off-track overwrite characteristics are improved. Further, since the magnetic shield layer can cover the end of the magnetoresistive element, crosstalk between tracks can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明する磁気ヘッドの平面
図と断面図。
FIG. 1 is a plan view and a cross-sectional view of a magnetic head illustrating an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の磁気ヘッドにおけるオフトラックオー
バライト特性および隣接トラッククロストーク特性を示
すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing off-track overwrite characteristics and adjacent track crosstalk characteristics in the magnetic head of the present invention.

【図3】異なる他の実施例を示すヘッドの平面図と断面
図。
FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view of a head showing another different embodiment.

【図4】異なる他の実施例を示すヘッドの断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view of a head showing another different embodiment.

【図5】異なる他の実施例を示すヘッドの断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view of a head showing another different embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基体、2,6,13,18…磁極兼磁気シールド
層、3,5,8,10,14,15…絶縁層、4…磁気
抵抗効果素子、7…上部磁極、9…コイル導体、11…
電極層、12…感磁部、16…段差部、17…溝、1
9,20,21…磁極。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base | substrate, 2,6,13,18 ... Magnetic pole and magnetic shield layer, 3,5,8,10,14,15 ... Insulating layer, 4 ... Magnetoresistance effect element, 7 ... Upper pole, 9 ... Coil conductor, 11 ...
Electrode layer, 12: magnetic sensing part, 16: stepped part, 17: groove, 1
9, 20, 21 ... magnetic poles.

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年10月17日(2001.10.
17)
[Submission date] October 17, 2001 (2001.10.
17)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0015】実施例5次に、上部シールド用と下部磁極
用の磁性膜で比透磁率や飽和磁束密度が異なる場合の実
施例について述べる。図4は磁気抵抗効果型再生ヘッド
の上に記録用の磁極が積層されたものである。再生ヘッ
ドは先の実施例1の場合と同様でパーマロイで形成した
シールド層2、6のあいだに絶縁層を介して薄膜パーマ
ロイからなる磁気抵抗効果素子4を形成する。次に、上
部磁気シールド層6のうえに記録ヘッドの下部磁極19
を形成する。このとき、磁気シールドは膜厚0.7μm
のパーマロイである。磁極19には飽和磁束密度1.3
TのCoTaZrを用いた。膜厚は0.8μmとした。
その後、絶縁層8を介してコイルを形成し、そのうえに
上部磁極7を形成する。この磁極は膜厚1.5μmのC
oTaZrで形成する。ここで、各磁性層のトラック幅
方向の寸法は下部シールド層2が100μm、上部シー
ルド層6が90μm、下部磁極19が8μm、上部磁極
7が6μmである。
Embodiment 5 Next, for the upper shield and the lower magnetic pole
Examples in which the relative magnetic permeability and the saturation magnetic flux density are different between magnetic films for use will be described. FIG. 4 shows a recording magnetic pole laminated on a magnetoresistive read head. As in the case of the first embodiment, the reproducing head forms the magnetoresistive element 4 made of a thin-film permalloy between the shield layers 2 and 6 made of permalloy through an insulating layer. Next, the lower magnetic pole 19 of the recording head is placed on the upper magnetic shield layer 6.
To form At this time, the thickness of the magnetic shield was 0.7 μm.
Permalloy. The magnetic pole 19 has a saturation magnetic flux density of 1.3.
CoTaZr of T was used. The film thickness was 0.8 μm.
Thereafter, a coil is formed via the insulating layer 8, and the upper magnetic pole 7 is formed thereon. This magnetic pole is a 1.5 μm thick C
It is formed of oTaZr. Here, the dimensions of each magnetic layer in the track width direction are 100 μm for the lower shield layer 2, 90 μm for the upper shield layer 6, 8 μm for the lower magnetic pole 19, and 6 μm for the upper magnetic pole 7.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森脇 英稔 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 椎木 一夫 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 Fターム(参考) 5D033 BA07 BA13 BB43 CA02 5D034 BA02 BA19 BB09 BB12  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hidetoshi Moriwaki 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside the Hitachi, Ltd. Central Research Laboratory (72) Inventor Kazuo Shiiki 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Central Research Laboratory F-term (reference) 5D033 BA07 BA13 BB43 CA02 5D034 BA02 BA19 BB09 BB12

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】記録ヘッドと再生ヘッドを分離して複合化
した磁気ヘッドにおいて、該記録ヘッド磁極及び再生ヘ
ッドの磁気シールド層を共用する磁性層のトラック幅方
向の寸法が該磁性層の膜厚方向の上部と下部で異なるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。
In a magnetic head in which a recording head and a reproducing head are separated and combined, a dimension in a track width direction of a magnetic layer sharing a magnetic pole of the recording head and a magnetic shield layer of the reproducing head is determined by a film thickness of the magnetic layer. A magnetic head characterized by being different in an upper part and a lower part in a direction.
【請求項2】前記共用する磁性層が段差を有し、この段
差の上部側と下部側のトラック幅方向の寸法によって、
磁気ヘッドのトラック幅または磁気シールド層の幅が規
定されていることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッ
ド。
2. The common magnetic layer has a step, and the upper and lower sides of the step have a dimension in a track width direction.
2. The magnetic head according to claim 1, wherein a track width of the magnetic head or a width of the magnetic shield layer is defined.
【請求項3】前記再生素子が磁気抵抗効果素子であるこ
とを特徴とする請求項2に記載の磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 2, wherein said reproducing element is a magneto-resistance effect element.
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