JP2002127286A - Polymeric resin laminate and method for manufacturing the same - Google Patents

Polymeric resin laminate and method for manufacturing the same

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JP2002127286A
JP2002127286A JP2000328485A JP2000328485A JP2002127286A JP 2002127286 A JP2002127286 A JP 2002127286A JP 2000328485 A JP2000328485 A JP 2000328485A JP 2000328485 A JP2000328485 A JP 2000328485A JP 2002127286 A JP2002127286 A JP 2002127286A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a polymeric resin/hard coat laminate excellent in all of abrasion resistance, surface hardness, light fastness and water resistance. SOLUTION: An active ray curable layer, of which the thickness is 2-50 μm and pencil handness is F or more as an independent layer, and a hard coat layer, of which the thickness formed by a vapor deposition process is 1.5-10 μm, maximum displacement obtained when the surface of the layer is subjected to nano identation measurement under a maximum load condition of 100 μN is 120 nm or less, Young's modulus is 15 GPa or more and plastic deformation hardness is 3 GPa or more, are laminated on at least one surface of a polymeric resin substrate to produce the polymeric resin laminate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、表面の硬度に優
れた高分子樹脂積層体、その中でも特に表面の硬度に優
れたポリカーボネート成形物の積層体に関し、更にはこ
の積層体を用いた各種自動車の窓材(風防も含む)に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polymer resin laminate having an excellent surface hardness, and more particularly to a laminate of a polycarbonate molded product having an excellent surface hardness. Window material (including windshield).

【0002】尚、本願発明の高分子樹脂積層体は、前記
の用途以外、例えば、各種の建築物における窓材(ここ
で窓材とは少なくとも透視が可能であるものを示す)
や、高速道路等の透明遮音板、太陽電池パネルの表面保
護板、液晶表示装置(LCD)やプラズマディスプレー
(PDP)、エレクトロルミネセンスディスプレー(E
L)、CRT等の各種の画像/情報表示装置の表面保護
板、もしくは各種の携帯情報端末、タッチパネル入力装
置等で用いられる透明タブレットの透明電極基板等の用
途にも好適に用いる事が可能である。
[0002] The polymer resin laminate of the present invention may be used for, for example, window materials in various buildings other than the above-mentioned applications (here, window materials are those which can be seen through at least).
, Transparent sound insulation plates for highways, etc., surface protection plates for solar cell panels, liquid crystal displays (LCDs), plasma displays (PDPs), electroluminescence displays (E
L), it can be suitably used for surface protection plates of various image / information display devices such as CRTs, or transparent electrode substrates of transparent tablets used in various portable information terminals, touch panel input devices and the like. is there.

【0003】[0003]

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は透明性に優れ、
軽量で耐衝撃性が高いことから、各種の建築物、自動車
等の窓材や構造材等として、広く応用展開されてきた。
2. Description of the Related Art Polycarbonate resins have excellent transparency,
Because of its light weight and high impact resistance, it has been widely applied and developed as window materials and structural materials for various buildings, automobiles and the like.

【0004】しかしながら、硬度・耐擦傷性・耐侯性・
耐薬品性の観点でガラスに大幅に劣るという欠点があ
る。そのため、これらの性能をカバーする機能を有する
ハードコート層をポリカーボネート上にコーティングす
る方法(例えば特開昭48−81928号、特開昭52
−138565号、特開昭53−138476号)が提
案されている。
However, hardness, abrasion resistance, weather resistance,
There is a disadvantage that it is significantly inferior to glass from the viewpoint of chemical resistance. Therefore, a method of coating a hard coat layer having a function of covering these properties on polycarbonate (for example, JP-A-48-81928, JP-A-
138565, JP-A-53-138476) have been proposed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】これらのハードコート
層としては、珪素アルコキシドの加水分解縮合物もしく
は、それに加えて他種のアルコキシドや各種の超微粒子
等を適当な割合で混合した組成物を熱的に硬化してなる
層や、多官能アクリレートを紫外線や電子線等の活性光
線の照射等によって重合してなる層が多く用いられてい
る。
The hard coat layer is formed of a hydrolyzed condensate of silicon alkoxide or a composition obtained by mixing other types of alkoxides and various ultrafine particles in addition thereto in an appropriate ratio. Layers which are hardened dynamically and layers which are obtained by polymerizing a polyfunctional acrylate by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams are often used.

【0006】しかしながら前記の自動車や建築物の窓材
等の屋外で主に用いられる用途に高分子樹脂/ハードコ
ート積層体を用いようとする場合には、耐磨耗性、表面
硬度等の性能に非常に高度な特性が要求されると同時
に、耐光性(耐紫外線劣化性)や耐水性にも優れた性能
を示すことが必要になる。
However, when the polymer resin / hard coat laminate is to be used mainly for outdoor applications such as the above-mentioned window materials for automobiles and buildings, the properties such as abrasion resistance and surface hardness are required. In addition to the demand for extremely high properties, it is necessary to exhibit excellent performance in light resistance (resistance to ultraviolet ray deterioration) and water resistance.

【0007】本発明は、こうした事情に鑑み、積層体の
耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性のすべてに優れる
高分子樹脂/ハードコート積層体を実現することを目的
として為されたものである。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has been made with the object of realizing a polymer resin / hard coat laminate excellent in all of abrasion resistance, surface hardness, light resistance, and water resistance of the laminate. Things.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本願発明は次
の通りである。
That is, the present invention is as follows.

【0009】1.高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以
上である活性光線硬化層と、真空成膜プロセスを用いて
形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大
荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を
行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が
15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハ
ードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂
積層体。
1. On at least one surface of the polymer resin substrate, an actinic ray-cured layer having a thickness of 2 to 50 μm and having a pencil hardness of F or more by itself, and a thickness of 1.5 mm formed by using a vacuum film forming process. A hard coat layer having a maximum displacement of 120 nm or less, a Young's modulus of 15 GPa or more, and a plastic deformation hardness of 3 GPa or more when performing nanoindentation measurement on the surface of the layer at a maximum load of 100 μN under a condition of 10 μm to 10 μm. , A polymer resin laminate laminated in this order.

【0010】2.真空成膜プロセスは真空蒸着法である
事を特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
[0010] 2. The above polymer resin laminate, wherein the vacuum film formation process is a vacuum deposition method.

【0011】3.ハードコート層は、基板側から、真空
蒸着法により形成された層と、スパッタリング法により
形成された厚みが0.02〜0.5μmの層とを、この
順に積層した二層からなる層である事を特徴とする上記
の高分子樹脂積層体。
3. The hard coat layer is a layer composed of two layers in which a layer formed by a vacuum deposition method and a layer having a thickness of 0.02 to 0.5 μm formed by a sputtering method are laminated in this order from the substrate side. The polymer resin laminate described above, which is characterized in that:

【0012】4.ハードコート層は、酸化珪素を少なく
とも全体の50重量%以上含む層、もしくは各々が酸化
珪素を少なくとも全体の50重量%以上含む層を積層し
た二層からなる層である事を特徴とする上記の高分子樹
脂積層体。
4. The hard coat layer is a layer containing at least 50% by weight of silicon oxide at least or a layer composed of two layers in which each layer contains at least 50% by weight of silicon oxide. Polymer resin laminate.

【0013】5.活性光線硬化層は、分子内もしくは単
位繰り返し構造内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基
を有する1種もしくは2種以上の(メタ)アクリレート
成分を、不揮発成分中の50重量%以上含んでなる前駆
材料に、活性光線を照射して硬化してなる層である事を
特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
5. The actinic ray-curable layer contains 50% by weight or more of one or more (meth) acrylate components having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule or a unit repeating structure in a nonvolatile component. The polymer resin laminate described above, which is a layer formed by irradiating an actinic ray to a precursor material and curing the precursor material.

【0014】6.活性光線硬化層は、吸水率が2%以下
の層である事を特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
6. The above-mentioned polymer resin laminate, wherein the actinic ray-curable layer is a layer having a water absorption of 2% or less.

【0015】7.活性光線硬化層は、厚み7μmの活性
光線硬化層に波長295〜450nm、照度100mW
/cm2の光を100時間照射した前後における層の透
過光の日本工業規格Z8729号に定めるL***
色系のクロマティクネス指数b*値の増加、すなわち色
差△ b*の値が少なくとも2以下である活性光線硬化層
である事を特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
[0015] 7. The actinic ray-curable layer has a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 100 mW.
/ Cm 2 of the light transmitted through the layer before and after irradiation for 100 hours, the increase in the chromaticity index b * value of the L * a * b * color system specified in Japanese Industrial Standard Z8729, that is, the value of the color difference bb * Is an actinic ray-curable layer wherein is at least 2 or less.

【0016】8.活性光線硬化層として、ジシクロペン
タニルジアクリレートおよび/またはジシクロペンタニ
ルジメタクリレートを、不揮発成分中の50重量%以上
含んでなる前駆材料を硬化してなる層を用いたことを特
徴とする上記の高分子樹脂積層体。
8. As the actinic ray-curable layer, a layer obtained by curing a precursor material containing at least 50% by weight of dicyclopentanyl diacrylate and / or dicyclopentanyl dimethacrylate in a nonvolatile component is used. The above polymer resin laminate.

【0017】9.活性光線硬化層の前駆材料の不揮発成
分に対する紫外線吸収剤の添加量(重量%)と活性光線
硬化層の膜厚(μm)との積が、30〜300重量%・
μmの範囲にあることを特徴とする上記の高分子樹脂積
層体。
9. The product of the amount (% by weight) of the ultraviolet absorber added to the non-volatile component of the precursor of the actinic ray curable layer and the thickness (μm) of the actinic ray curable layer is 30 to 300% by weight.
The polymer resin laminate described above, which is in the range of μm.

【0018】10.活性光線硬化層の300〜350n
mの波長領域における光吸収率が99%以上であること
を特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
10. 300-350 n of actinic ray cured layer
The polymer resin laminate according to the above, wherein the light absorptivity in the wavelength region of m is 99% or more.

【0019】11.活性光線硬化層に混合する紫外線吸
収剤として、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−
トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]
−フェノールを、紫外線吸収剤の主成分として用いるこ
とを特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
11. As an ultraviolet absorber mixed with the actinic ray-curable layer, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-
Triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy]
-The above polymer resin laminate, wherein phenol is used as a main component of the ultraviolet absorbent.

【0020】12.高分子樹脂基板の厚みが0.2mm
以上である事を特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
[12] The thickness of the polymer resin substrate is 0.2mm
The polymer resin laminate according to the above, characterized in that:

【0021】13.高分子樹脂基板がポリカーボネート
の成形基板であることを特徴とする上記の高分子樹脂積
層体。
13. The above polymer resin laminate, wherein the polymer resin substrate is a molded substrate of polycarbonate.

【0022】14.高分子樹脂積層体のヘイズが5%以
下であることを特徴とする上記の高分子樹脂積層体。
14. The polymer resin laminate described above, wherein the haze of the polymer resin laminate is 5% or less.

【0023】15.活性光線硬化層の前駆材料を塗布し
た高分子樹脂基板を、50〜130℃の温度に昇温した
後に、活性光線を照射して高分子基板上に活性光線硬化
層を形成することを特徴とする上記の高分子樹脂積層体
の製造方法。
[15] After raising the temperature of the polymer resin substrate coated with the precursor of the actinic ray curable layer to a temperature of 50 to 130 ° C., the actinic ray is irradiated to form an actinic ray curable layer on the polymer substrate. The method for producing a polymer resin laminate described above.

【0024】16.活性光線硬化層を形成した高分子樹
脂基板を、該高分子基板のガラス転移温度付近の温度で
熱処理を施した後に、活性光線硬化層上にハードコート
層を積層する事を特徴とする上記の高分子樹脂積層体の
製造方法。
16. The polymer resin substrate on which the actinic ray-curable layer is formed is subjected to a heat treatment at a temperature near the glass transition temperature of the polymer substrate, and then a hard coat layer is laminated on the actinic ray-curable layer. A method for producing a polymer resin laminate.

【0025】17.上記の高分子樹脂積層体からなる自
動車用窓材。
17. An automotive window material comprising the above polymer resin laminate.

【0026】尚、ここで、真空成膜プロセスを用いて形
成したハードコート層のナノインデンテーション測定は
以下のようにして行った。
Here, the nanoindentation measurement of the hard coat layer formed by using the vacuum film forming process was performed as follows.

【0027】すなわち(株)エリオニクス製のナノ・イ
ンテンデーション・テスター ENT−1100を用
い、使用圧子として稜間隔115度の三角錐圧子を用
い、1μN/秒毎のステップ状に押し込み荷重を加え、
最大荷重到達後、同様にステップ状に押し込み荷重を徐
荷していく。測定は25℃の恒温条件下で行い、測定装
置とサンプルの温度を十分に安定させた後に、最大荷重
100μN、最大荷重保持時間30秒の条件で荷重/変
位曲線の測定を行い、10回の連続測定の平均値をもっ
て測定値とした。
That is, using a nano-intention tester ENT-1100 manufactured by Elionix Inc., using a triangular pyramid indenter with a ridge interval of 115 degrees as an indenter, applying a pushing load in steps of 1 μN / sec.
After reaching the maximum load, the pushing load is similarly gradually reduced in a step-like manner. The measurement was performed under a constant temperature condition of 25 ° C. After sufficiently stabilizing the temperature of the measurement device and the sample, the load / displacement curve was measured under the conditions of a maximum load of 100 μN and a maximum load holding time of 30 seconds, and the measurement was performed 10 times. The measured value was the average value of the continuous measurements.

【0028】尚、本方法によれば一般に、数μm以上の
膜厚を有する層に関して、その下地の機械特性の影響を
殆ど受けることなく機械物性の測定が可能であり、ハー
ドコート層の一定荷重に対する変位量、層のヤング率や
塑性変形性、および硬度等の評価が可能である。
In general, according to this method, it is possible to measure the mechanical properties of a layer having a thickness of several μm or more without being affected by the mechanical properties of the underlying layer. Of the layer, Young's modulus and plastic deformability of the layer, hardness and the like can be evaluated.

【0029】また活性光線硬化層の鉛筆硬度は、活性光
線硬化層を2mm厚みのガラス板上に7μm前後の膜厚
で積層硬化した後、層の表面について測定したものであ
る。
The pencil hardness of the actinic ray-curable layer was measured by laminating and curing the actinic ray-curable layer on a glass plate having a thickness of 2 mm to a thickness of about 7 μm, and then measuring the surface of the layer.

【0030】尚、これらの測定を行う際、活性光線硬化
層と石英板の密着性を向上する目的で、プライマー層を
活性光線硬化層と石英板との間に挟持して設けることが
好ましく行われる。これらのプライマー層としては、例
えばポリメチルメタクリレートや、メチルメタクリレー
トと2−ヒドロキシエチルメタクリレートとの共重合
物、メチルメタクリレートとγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシランとの共重合物による層等が好まし
く例示される。このプライマー層の厚みは鉛筆硬度の測
定結果への影響を防ぐ観点から1〜2μmの範囲とする
ことが好ましい。
In performing these measurements, it is preferable to provide a primer layer between the active light-cured layer and the quartz plate in order to improve the adhesion between the active light-cured layer and the quartz plate. Will be Preferred examples of the primer layer include polymethyl methacrylate, a layer of a copolymer of methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate, and a layer of a copolymer of methyl methacrylate and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. You. The thickness of the primer layer is preferably in the range of 1 to 2 μm from the viewpoint of preventing the pencil hardness from affecting the measurement result.

【0031】また活性光線硬化層の吸水率の測定は以下
のようにして行った。すなわちガラス板上に直接活性光
線硬化層を約20μmの厚みで形成した後に、硬化層を
刃物等でガラス板上から膜片状に約1gの量をかきと
る。次にこの膜片を真空乾燥機内で100℃で2時間の
熱乾燥(膜中の揮発性物質を揮発除去する)を行った後
に、膜片を正確に秤量する(ア)。次に膜片を30℃、
95%RHの恒温恒湿槽内に48時間保持した後に、膜
片を恒温恒湿槽から取り出してすぐにその重量を正確に
秤量し(イ)、{(イ)/(ア)}−1の値をもって、
活性光線硬化層の吸水率の値とした。尚、ここでは繰り
返し測定を5回行い、これらの測定値の平均値を採用し
た。
The measurement of the water absorption of the actinic ray cured layer was performed as follows. That is, after an actinic radiation-cured layer is formed directly on a glass plate with a thickness of about 20 μm, the cured layer is scraped off from the glass plate with a knife or the like in an amount of about 1 g. Next, the film piece is thermally dried in a vacuum dryer at 100 ° C. for 2 hours (to remove volatile substances in the film by volatilization), and then the film piece is accurately weighed (A). Next, the membrane piece was placed at 30 ° C,
After being kept in a thermo-hygrostat at 95% RH for 48 hours, the membrane piece was taken out of the thermo-hygrostat and immediately weighed accurately (a), {(a) / (a)}-1. With the value of
The value of the water absorption of the actinic ray cured layer was used. In addition, here, repeated measurement was performed five times, and the average value of these measured values was adopted.

【0032】すなわち本発明者らは、以下の三点を同時
に満たす高分子樹脂積層体を作成することによって、自
動車用窓材として特に好適な高度な耐磨耗性が発現され
る事を見出し、本願発明に至った。
That is, the present inventors have found that by producing a polymer resin laminate satisfying the following three points at the same time, a high abrasion resistance particularly suitable as a window material for automobiles is exhibited. The present invention has been achieved.

【0033】その一点は、積層体の最表面層として、真
空成膜プロセスにより形成され、ナノインデンテーショ
ン測定により層の表面を最大荷重100μNの条件で測
定した場合の、最大変位が120nm以下、かつヤング
率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上
であるようなハードコート層を積層すること。
One of the points is that the maximum displacement is 120 nm or less when the surface of the layer is formed as the outermost surface layer of the laminate by a vacuum film forming process and the surface of the layer is measured by a nanoindentation measurement under a maximum load of 100 μN. Laminating a hard coat layer having a Young's modulus of 15 GPa or more and a plastic deformation hardness of 3 GPa or more.

【0034】また二点目は、ハードコート層の膜厚は少
なくとも1.5μmであることこと。
Second, the thickness of the hard coat layer is at least 1.5 μm.

【0035】三点目は、ハードコート層と高分子樹脂基
板との間に挟持して、層自身の鉛筆硬度がF以上の膜厚
が2〜50μmの活性光線硬化層を積層すること、であ
る。
The third point is that an active light-cured layer having a pencil hardness of F or more and a film thickness of 2 to 50 μm is laminated between the hard coat layer and the polymer resin substrate. is there.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下において本発明を更に詳細に
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0037】前述のように、高分子樹脂積層体の最表面
層として、真空成膜プロセスにより形成され、ナノイン
デンテーション法により層の表面を最大荷重100μN
の条件で測定した場合の、最大変位が120nm以下、
かつヤング率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3
GPa以上であるようなハードコート層が積層される事
が好ましい。
As described above, the outermost layer of the polymer resin laminate is formed by a vacuum film forming process, and the surface of the layer is subjected to a maximum load of 100 μN by a nanoindentation method.
When measured under the conditions of the maximum displacement is 120nm or less,
And a Young's modulus of 15 GPa or more and a plastic deformation hardness of 3
It is preferable that a hard coat layer having a GPa or more is laminated.

【0038】尚、ここで前記のナノインデンテーション
による最大変位はより好ましくは100nm以下、ヤン
グ率はより好ましくは25GPa以上、塑性変形硬さは
より好ましくは5GPa以上である。
Here, the maximum displacement due to the nanoindentation is more preferably 100 nm or less, the Young's modulus is more preferably 25 GPa or more, and the plastic deformation hardness is more preferably 5 GPa or more.

【0039】真空成膜プロセスとしては、真空蒸着法、
スパッタリング法、化学的気相成長(堆積)法(CVD)
法等が挙げられるが、この中でも、一般に成膜速度が早
く経済性に優れる特長を有する真空蒸着法を主に用いる
ことが好ましい。
As the vacuum film forming process, a vacuum evaporation method,
Sputtering method, chemical vapor deposition (deposition) method (CVD)
Among them, it is preferable to mainly use a vacuum deposition method, which generally has a feature that the film forming speed is high and the cost is excellent.

【0040】真空蒸着法とは、通常は装置内の圧力が少
なくとも10-1Pa以下となるように真空排気した後
に、装置内において、加熱気化させた材料物質を基板上
に堆積させて層を得る方法である。尚、一般に材料の加
熱気化の方法としては、るつぼ等に充填した材料物質に
電子ビームもしくはイオンビーム等を当てて加熱する方
法、もしくは、タングステンボート等の抵抗線に充填し
た材料物質を抵抗線に電流を流して加熱する方式等が用
いられる。
In the vacuum deposition method, usually, after evacuation is performed so that the pressure in the apparatus becomes at least 10 -1 Pa or less, a heated and vaporized material is deposited on a substrate in the apparatus to form a layer. How to get. In general, as a method of heating and vaporizing a material, a material filled in a crucible or the like is heated by applying an electron beam or an ion beam, or a material filled in a resistance wire such as a tungsten boat is converted into a resistance wire. For example, a method of heating by applying an electric current is used.

【0041】特に、前者の電子ビームもしくはイオンビ
ームによる加熱方式を用いた場合には、ビームのエミッ
ション量をコントロールすることによって、堆積速度が
早く、かつ長時間安定した真空蒸着が可能であり、数μ
mを越える膜厚の層を比較的簡単に経済的に得ることが
できるので好ましい。
In particular, in the case of using the former heating method using an electron beam or an ion beam, by controlling the amount of beam emission, it is possible to achieve a high deposition rate and a stable vacuum deposition for a long time. μ
This is preferable because a layer having a thickness exceeding m can be obtained relatively easily and economically.

【0042】尚、ここでは、真空槽内で蒸着粒子を適当
な方法でイオン化させた後、電界加速して基板上に堆積
させる方法(イオン化蒸着法、電界アシスト蒸着等の名
称で呼ばれることが多い)等の、蒸着粒子に対してその
運動エネルギーを高める工程を付与した各種の真空蒸着
法も、必要に応じて用いることができる。
Here, a method of ionizing vapor-deposited particles in a vacuum chamber by an appropriate method, accelerating the electric field and depositing the particles on a substrate (often referred to as ionized vapor deposition, electric field assisted vapor deposition, etc.). ), Etc., various kinds of vacuum deposition methods in which a step of increasing the kinetic energy of the deposited particles is applied can be used as necessary.

【0043】さてハードコート層としては、前記の真空
蒸着法により形成された層(以下蒸着層と記す)と、ス
パッタリング法により形成された層(以下スパッタ層と
記す)とを、基板側からこの順に積層した二層から成る
層を用いても良い。
As the hard coat layer, a layer formed by the above-described vacuum deposition method (hereinafter, referred to as a vapor deposition layer) and a layer formed by the sputtering method (hereinafter, referred to as a sputter layer) are formed from the substrate side. A layer composed of two layers stacked in order may be used.

【0044】スパッタリング法(一般にマグネトロンス
パッタリング法と呼ばれる)は、真空蒸着法同様に、装
置内の圧力が少なくとも10-1Pa以下になるように真
空排気した後に、装置中に不活性ガス、もしくは若干の
反応性ガスを混合した不活性ガスを導入し、材料ターゲ
ットと基板間に高い電場(交流および/または直流)と
磁場をかけてプラズマ状態を誘起させ、プラズマ内で加
速したガスが材料ターゲットに衝突した衝撃でターゲッ
トの表面にある材料物質を原子/分子状の形態で発散さ
せて基板上に付着させて層を得る方法である。
In the sputtering method (generally called a magnetron sputtering method), similarly to the vacuum evaporation method, after the inside of the apparatus is evacuated to a pressure of at least 10 -1 Pa or less, an inert gas or slightly An inert gas mixed with a reactive gas is introduced, a high electric field (AC and / or DC) and a magnetic field are applied between the material target and the substrate to induce a plasma state, and the gas accelerated in the plasma is applied to the material target. In this method, the material on the surface of the target is scattered in the form of atoms / molecules by the impact of the collision and adheres to the substrate to obtain a layer.

【0045】一般的にスパッタリング法はより緻密で硬
度が高い層が得られやすいといった特長を有するが、先
の真空蒸着法よりもかなり堆積速度が遅く、0.5μm
を越える膜厚に層を形成するには非常に時間がかかる。
すなわち主に経済的な観点から、スパッタ層の膜厚は
0.5μm以下、より好ましくは0.25μm以下であ
る事が好ましい。
In general, the sputtering method has a feature that a denser and harder layer can be easily obtained. However, the deposition rate is much slower than that of the above-mentioned vacuum evaporation method, and 0.5 μm
It takes a very long time to form a layer having a thickness exceeding.
That is, the thickness of the sputtered layer is preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.25 μm or less, mainly from an economic viewpoint.

【0046】尚、スパッタ層の膜厚は、その積層による
特性向上効果を得るためには少なくとも0.02μm以
上必要であり、より好ましくは0.05μm以上、更に
好ましくは0.1μm以上である。
The thickness of the sputtered layer must be at least 0.02 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and still more preferably 0.1 μm or more in order to obtain the effect of improving the characteristics by the lamination.

【0047】このように蒸着層とスパッタ層の積層を行
う場合、真空蒸着の工程とスパッタリングの工程は、同
一の真空槽内、もしくは可動式の敷居板を隔てて連続す
る2つ以上の真空槽(真空チャンバー)中を、基板を移
動させながら連続的に行う事も可能であり、表面汚染の
防止効果、真空排気時間の短縮等の利点から好ましく行
われる。
When the deposition layer and the sputter layer are laminated as described above, the vacuum deposition step and the sputtering step may be performed in the same vacuum chamber or in two or more vacuum chambers continuous with a movable sill plate interposed therebetween. It is also possible to perform the process continuously while moving the substrate in the (vacuum chamber), and it is preferably performed from the advantages of preventing surface contamination and shortening the vacuum evacuation time.

【0048】このようなハードコート層の材料として
は、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化セリウ
ム、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素等の無機酸
化物、窒化物、炭化物等を挙げる事ができるが、この中
でもハードコート層が高い透明性と優れた機械物性を有
するようにするためには、主成分として酸化珪素を用い
る事が好ましく、酸化珪素が層全体の少なくとも50重
量%以上、より好ましくは75重量%を占めていること
が好ましい。
Examples of the material of such a hard coat layer include inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride, aluminum nitride, and silicon carbide, nitrides, and carbides. Among them, in order to make the hard coat layer have high transparency and excellent mechanical properties, it is preferable to use silicon oxide as a main component, and silicon oxide is at least 50% by weight or more of the whole layer, more preferably. It preferably accounts for 75% by weight.

【0049】尚、より高い透明性を得る目的において
は、酸化珪素の酸化数を示すSiOnのnの値はほぼ
2.0である事が好ましい。
For the purpose of obtaining higher transparency, the value of n of SiOn, which indicates the oxidation number of silicon oxide, is preferably about 2.0.

【0050】また、ハードコート層は、前記のように酸
化珪素を主成分として用いる事が好ましいが、必要に応
じて適当な割合で他種の無機酸化物を副成分として混合
した材料を用いる事も可能である。
As described above, the hard coat layer preferably uses silicon oxide as a main component, but if necessary, uses a material obtained by mixing other types of inorganic oxides as an auxiliary component at an appropriate ratio. Is also possible.

【0051】このような副成分としては、酸化マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が好ましく例示
され、ハードコート層の硬度上昇や脆性の改善、ならび
にハードコート層と活性光線硬化層との屈折率差に由来
する光干渉縞の低減を目的とした屈折率の調整等の目的
において混合される。
Preferred examples of such subcomponents include magnesium oxide, zirconium oxide, and titanium oxide, which increase the hardness and improve the brittleness of the hard coat layer and the refractive index difference between the hard coat layer and the actinic ray cured layer. Are mixed for the purpose of adjusting the refractive index for the purpose of reducing the optical interference fringes derived from the above.

【0052】さて、高分子樹脂積層体が優れた耐磨耗性
を得るためには、図1に例示したように、ハードコート
層の膜厚は1.5μm以上であることが好ましく、より
好ましくは2.5μm以上、更に好ましくは3.5μm
以上である。ただし膜厚が10μmを越えると、層にク
ラックを生じたり、密着性が低下する場合が多くなるの
で好ましくない。
In order to obtain excellent abrasion resistance of the polymer resin laminate, the thickness of the hard coat layer is preferably 1.5 μm or more, more preferably, as shown in FIG. Is 2.5 μm or more, more preferably 3.5 μm
That is all. However, when the film thickness exceeds 10 μm, cracks are generated in the layer and the adhesion is often decreased, which is not preferable.

【0053】尚、必要に応じて、ハードコート層の積層
の際中に、真空槽内で基板を適度に加熱する事が好まし
い場合がある。基板の加熱方法としては、ハロゲンラン
プ等を用いることができる。加熱温度としては、およそ
50〜120℃程度の範囲が好ましく、蒸着膜の残留応
力の緩和や、蒸着膜の密着性向上、特に積層体の周囲温
度変化に対する蒸着膜の密着性の悪化を防ぐ目的におい
て好ましい場合がある。
In some cases, it is preferable to appropriately heat the substrate in a vacuum chamber during the lamination of the hard coat layer, if necessary. As a method for heating the substrate, a halogen lamp or the like can be used. The heating temperature is preferably in the range of about 50 to 120 ° C., for the purpose of alleviating the residual stress of the deposited film, improving the adhesion of the deposited film, and particularly preventing the deterioration of the adhesion of the deposited film due to a change in the ambient temperature of the laminate. May be preferred.

【0054】前述したハードコート層の光干渉縞の低減
に関しては、活性光線硬化層とハードコート層との間に
挟持して、屈折率がハードコート層の屈折率と活性光線
硬化層の屈折率との幾何平均値の付近にある層を、層の
厚みと屈折率を乗じた値(光学膜厚)が100〜160
nm程度になるように積層する事によっても、効果が得
られる場合があり、必要に応じて行われる。
Regarding the reduction of the light interference fringes of the hard coat layer, the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the actinic light cured layer are sandwiched between the actinic light curing layer and the hard coat layer. The value (optical film thickness) obtained by multiplying the thickness of the layer by the refractive index is 100 to 160
The effect may also be obtained by laminating the layers to a thickness of about nm, and this is performed as necessary.

【0055】本発明における活性光線硬化層としては、
前述のように高分子樹脂積層体の耐磨耗性の向上効果を
得る上で、層単独での鉛筆硬度がF以上である層が好ま
しく用いられる。尚、活性光線硬化層の鉛筆硬度はより
好ましくは2H以上である。
As the actinic ray-curable layer in the present invention,
As described above, in order to obtain the effect of improving the abrasion resistance of the polymer resin laminate, a layer alone having a pencil hardness of F or more is preferably used. The pencil hardness of the actinic ray-curable layer is more preferably 2H or more.

【0056】尚、ここで鉛筆硬度がF以上の活性光線硬
化層を、高分子樹脂基板とハードコート層の間に挟持し
て積層する事によって、耐磨耗性が向上する理由につい
ては明らかではないが、本発明者らが実施した有限要素
法シミュレーションの結果を参考にして考えると、ハー
ドコート層表面の摩擦(ずり変形)に伴って発生する、
ハードコート層と活性光線硬化層の界面応力(層間剥離
力やせん断力)が減少する為ではないかと考えられる。
The reason why the wear resistance is improved by sandwiching and laminating an actinic ray-curable layer having a pencil hardness of F or more between the polymer resin substrate and the hard coat layer is not clear. However, considering the results of the finite element method simulation performed by the present inventors, it occurs with friction (shear deformation) of the hard coat layer surface,
It is considered that the interfacial stress (delamination force or shear force) between the hard coat layer and the actinic ray cured layer may be reduced.

【0057】活性光線硬化層の膜厚は、2〜50μmの
範囲にあることが好ましい。ここで膜厚が2μm未満で
あると、前述した耐磨耗性の向上効果が小さくなる傾向
が観られ、また活性光線硬化時に雰囲気酸素による硬化
障害の影響を受けやすくなるので好ましくない。また活
性光線硬化層の膜厚が50μmを越えると、硬化収縮に
よる内部応力が増大し、高分子樹脂基板と活性光線硬化
層間の密着性が低下したり、硬化層にクラックを生じや
すくなるので好ましくない。ただし活性光線硬化層の材
料組成によっては、50μmを越える膜厚に形成して
も、密着性の低下やクラックの発生が起こらない場合が
ある。このような場合には、必要に応じて50μmを越
える膜厚に層を形成しても構わない。
The thickness of the actinic ray-curable layer is preferably in the range of 2 to 50 μm. If the film thickness is less than 2 μm, the effect of improving the abrasion resistance described above tends to be reduced, and the film is liable to be affected by the curing failure due to atmospheric oxygen during the curing with active light rays, which is not preferable. When the thickness of the actinic ray-curable layer exceeds 50 μm, internal stress due to curing shrinkage increases, the adhesion between the polymer resin substrate and the actinic ray-curable layer is reduced, or cracks are easily generated in the cured layer. Absent. However, depending on the material composition of the actinic ray-curable layer, even if it is formed to a thickness exceeding 50 μm, the adhesion may not be reduced and cracks may not occur. In such a case, a layer having a thickness exceeding 50 μm may be formed as necessary.

【0058】活性光線硬化層は、層のガラス転移温度も
しくは軟化温度がおよそ120℃以上である事が好まし
い。これらの値は、例えば示差熱分析(DSC)におけ
る吸熱ピークや、熱走査による動的粘弾性の分析、その
他の方法(本願実施例においては簡易的な評価方法を採
用した)によって評価することができる。
The actinic ray-curable layer preferably has a glass transition temperature or softening temperature of about 120 ° C. or higher. These values can be evaluated by, for example, an endothermic peak in differential thermal analysis (DSC), analysis of dynamic viscoelasticity by thermal scanning, or another method (a simple evaluation method was employed in the examples of the present application). it can.

【0059】活性光線硬化層のガラス転移温度もしくは
軟化温度が高いことにより、ハードコート層の真空成膜
時にエネルギーを持った蒸着粒子の堆積やターゲットか
らの放熱によって、層の温度が上昇した場合でもハード
コート層を機械的にしっかりと支える事が可能になる。
Since the glass transition temperature or the softening temperature of the actinic ray-curable layer is high, even when the temperature of the hard coat layer increases due to the deposition of energetic deposited particles and the heat radiation from the target during vacuum deposition of the hard coat layer, It becomes possible to support the hard coat layer mechanically and firmly.

【0060】これに対し、活性光線硬化層のガラス転移
温度もしくは軟化温度が低い場合には、活性光線硬化層
とハードコート層との密着性不良やハードコート層のク
ラック発生等の問題を引き起こす場合が多い。
On the other hand, when the glass transition temperature or softening temperature of the actinic ray-curable layer is low, problems such as poor adhesion between the actinic ray-curable layer and the hard coat layer and cracks in the hard coat layer may be caused. There are many.

【0061】このような活性光線硬化層としては、例え
ば、分子内もしくは単位繰り返し構造内に2個以上の官
能基を有する(メタ)アクリレートの一種もしくは二種
以上を混合して用い、これらの成分を不揮発成分の50
重量%以上含む前駆材料を、紫外線、電子線等の活性光
線の照射によって硬化してなる層が好ましく用いられ
る。
As such an actinic ray-curable layer, for example, one or a mixture of two or more (meth) acrylates having two or more functional groups in a molecule or in a unit repeating structure is used. To the non-volatile component of 50
A layer obtained by curing a precursor material containing not less than% by weight by actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams is preferably used.

【0062】このような(メタ)アクリレートとして
は、ジシクロペンタニルジアクリレート、ジシクロペン
タニルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサ
イド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプ
ロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、イソシアヌール環を含む多官能(メタ)
アクリレート(官能基数3〜15程度)、イソシアネー
ト結合を有する多官能(メタ)アクリレート(官能基数
2〜6程度。これらは一般にウレタンアクリレートと呼
ばれる事が多い)、いわゆるポリエステルアクリレート
(例えば東亞合成化学製「アロニックスM8030、M
8060、M8100、M8530、M8560、M9
050」等)等が好ましく例示される。
Examples of such (meth) acrylates include dicyclopentanyl diacrylate, dicyclopentanyl dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, and trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate. , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, polyfunctional (meth) containing isocyanuric ring
Acrylate (number of functional groups: about 3 to 15), polyfunctional (meth) acrylate having an isocyanate bond (number of functional groups: about 2 to 6; these are often often referred to as urethane acrylates), so-called polyester acrylates (for example, "Toagosei Chemical" Aronix M8030, M
8060, M8100, M8530, M8560, M9
050 ") and the like.

【0063】尚、活性光線硬化層には必要に応じて、副
成分として不揮発成分中の50重量%未満の割合で、分
子内もしくは単位繰り返し構造内に含まれる官能基数が
1である(メタ)アクリレートや、ビニル基やアリル基
を有する化合物、珪素アルコキシドを始めとする各種の
アルコキシド成分、平均粒径(直径)が3〜30nmの
超微粒子、光重合開始剤等の硬化剤もしくは硬化触媒、
光重合開始助剤(増感剤)、レベリング剤、光吸収剤
(紫外線吸収剤)、光安定剤(酸化防止剤)、消泡剤、
増粘剤等が必要に応じて混合される。
In the actinic ray-curable layer, if necessary, the number of functional groups contained in the molecule or in the unit repeating structure is 1 in a proportion of less than 50% by weight of the nonvolatile component as a subcomponent (meth). Acrylates, compounds having a vinyl group or an allyl group, various alkoxide components including silicon alkoxides, ultrafine particles having an average particle diameter (diameter) of 3 to 30 nm, a curing agent or curing catalyst such as a photopolymerization initiator,
Photopolymerization initiation aid (sensitizer), leveling agent, light absorber (ultraviolet absorber), light stabilizer (antioxidant), defoamer,
A thickener and the like are mixed as necessary.

【0064】尚、副成分の添加量は、より好ましくは3
0%未満、更に好ましくは20%未満である。
The addition amount of the auxiliary component is more preferably 3
It is less than 0%, more preferably less than 20%.

【0065】ここで分子内もしくは単位繰り返し構造内
に含まれる官能基数が1である(メタ)アクリレートと
しては、例えばアクリロイルモルフォリン、イソボルニ
ル(メタ)アクリレート、N−ビニル−2−ピロリド
ン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン等が挙げられる。
The (meth) acrylate having one functional group in the molecule or in the unit repeating structure includes, for example, acryloylmorpholine, isobornyl (meth) acrylate, N-vinyl-2-pyrrolidone, γ- ( (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and the like.

【0066】また平均粒径が3〜30nmの超微粒子と
しては例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、塩化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸
化セリウム、酸化錫等の無機酸化物による超微粒子や、
メチルメタクリレートやジビニルベンゼンを酸やイミド
により架橋した有機架橋微粒子による超微粒子等が好適
である。これらの超微粒子は、その表面をあらかじめ各
種の有機基を含有する成分によって表面処理しておく事
が更に好ましい。特に有機基として(メタ)アクリロイ
ル基を含有していることが好ましいので、表面処理に用
いる成分としては特にγ−(メタ)アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン等が好ましく例示される。
Examples of the ultrafine particles having an average particle diameter of 3 to 30 nm include ultrafine particles made of inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum chloride, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and tin oxide.
Ultrafine particles of organic crosslinked fine particles obtained by crosslinking methyl methacrylate or divinylbenzene with an acid or imide are suitable. It is more preferable that the surface of these ultrafine particles is previously treated with a component containing various organic groups. Since it is particularly preferable that the organic group contains a (meth) acryloyl group as an organic group, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane is preferably exemplified as a component used for the surface treatment.

【0067】これらの副成分は活性光線硬化層の硬化収
縮率の低減や、基材もしくは真空蒸着法による酸化珪素
層との密着性の向上、耐候性の向上、耐水性の向上、表
面性の改善、および活性光線硬化層の硬度の向上や真空
蒸着法による酸化珪素層との屈折率のマッチング化等の
各種の機能を付与する目的で混合される。
These subcomponents reduce the curing shrinkage of the actinic ray-curable layer, improve the adhesion to the substrate or the silicon oxide layer by vacuum evaporation, improve the weather resistance, improve the water resistance, and improve the surface properties. It is mixed for the purpose of improving and improving the hardness of the actinic ray cured layer and imparting various functions such as matching of the refractive index with the silicon oxide layer by a vacuum deposition method.

【0068】さて、活性光線硬化層は層の吸水率が2%
以下であることが好ましく、より好ましくは1%以下で
ある。すなわち層の吸水率が2%を越える場合には、高
分子樹脂積層体の耐水性が不十分になる場合が多く観ら
れる。この理由は、おそらく水分吸着による層の体積膨
張による活性光線硬化層と蒸着層との界面応力の増加に
より両者の密着性が不良となる為ではないかと推定され
るが、本発明の高分子樹脂積層体を優れた耐水性を必要
とする用途(屋外使用用途等)に用いる場合には特に大
きな問題になる。
The active light-cured layer has a water absorption of 2%.
Or less, more preferably 1% or less. That is, when the water absorption of the layer exceeds 2%, the water resistance of the polymer resin laminate is often insufficient. It is presumed that the reason for this is probably that the adhesion between the active light-cured layer and the vapor-deposited layer becomes poor due to an increase in the interface stress between the active light-cured layer and the vapor-deposited layer due to the volume expansion of the layer due to moisture adsorption. This is a particularly serious problem when the laminate is used for applications requiring excellent water resistance (such as outdoor use).

【0069】また、これと同時に、活性光線硬化層の吸
水率が高い場合には、真空蒸着時の真空槽内への水分放
出が増加して、真空度の悪化および蒸着層の膜質の低下
を起こす場合が多く、好ましくない。
At the same time, when the water absorption of the actinic ray-cured layer is high, the release of water into the vacuum chamber during vacuum deposition increases, and the degree of vacuum deteriorates and the film quality of the deposited layer deteriorates. Often, it is undesirable.

【0070】また本発明の高分子樹脂積層体を優れた耐
光性(耐紫外線劣化性)を必要とする用途(屋外使用用
途等)に用いる場合には特に、活性光線硬化層は、厚み
7μmの活性光線硬化層に波長295〜450nm、照
度100mW/cm2の光を100時間照射した前後の
層の透過光の日本工業規格Z8729号に定めるL**
*表色系のクロマティクネス指数b*値の増加、すなわ
ち色差△ b*の値が2以下である活性光線硬化層である
事(エ)がより好ましい。尚、△ b*値はより好ましく
は1以下である。これは本発明の高分子樹脂積層体を特
に屋外環境で用いる場合に、長期の紫外線暴露により活
性光線硬化層の変色(着色)が起こると、積層体の外観
が著しく悪化することを考慮したものである。
When the polymer resin laminate of the present invention is used for applications requiring excellent light resistance (UV light resistance) (outdoor use, etc.), the actinic ray-curable layer having a thickness of 7 μm is particularly preferable. L * a * of the transmitted light of the layer before and after irradiating the actinic radiation cured layer with light having a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 100 mW / cm 2 for 100 hours as defined in Japanese Industrial Standard Z8729.
It is more preferable that the active light-cured layer has an increase in the b * value of the chromaticness index b * of the b * color system, that is, an actinic ray-curable layer having a color difference Δb * of 2 or less. Incidentally, the Δ b * value is more preferably 1 or less. This is because, when the polymer resin laminate of the present invention is used particularly in an outdoor environment, when the discoloration (coloring) of the actinic ray-curable layer occurs due to long-term exposure to ultraviolet light, the appearance of the laminate is significantly deteriorated. It is.

【0071】活性光線硬化層は、用途によってはかなら
ずしも、これら多種の特性のすべてを満たす必要がない
場合もあるが、少なくとも層単独での鉛筆硬度がF以上
である必要はある。更に、本発明の高分子樹脂積層体を
幅広い用途に用いる上においては、より好ましくは、こ
れらの多種の特性を同時に満たす層である事が好まし
い。
The actinic ray-curable layer does not necessarily have to satisfy all of these various properties depending on the application, but it is necessary that at least the layer alone has a pencil hardness of F or more. Further, when the polymer resin laminate of the present invention is used for a wide range of applications, it is more preferable that the layer satisfies these various properties at the same time.

【0072】このような観点から、前記の各種(メタ)
アクリレートの中でも、より好適に用いられるものとし
て、例えば、ジシクロペンタニルジアクリレートおよび
/またはジシクロペンタニルジメタクリレートは、これ
らを主成分として硬化させてなる活性光線硬化層の吸水
性が低く、耐水性に優れ、また層の透明性や硬度、耐光
性等の諸特性においても優れており、特に好ましく用い
られる。
From such a viewpoint, the various (meta)
Among the acrylates, as those more preferably used, for example, dicyclopentanyl diacrylate and / or dicyclopentanyl dimethacrylate have low water absorption of an actinic ray curable layer obtained by curing these as a main component, It is excellent in water resistance and also excellent in various properties such as transparency, hardness and light resistance of the layer, and is particularly preferably used.

【0073】また前記のポリエステルアクリレートも密
着性や耐水性の向上をもたらす場合が多く、またイソボ
ルニル(メタ)アクリレートは吸水率が低い特徴を有し
ており、好ましく用いられる。
The above-mentioned polyester acrylates often bring about an improvement in adhesion and water resistance, and isobornyl (meth) acrylate has a characteristic of low water absorption, and is preferably used.

【0074】前述のように活性光線硬化層は、前記の材
料を必要に応じて各種の溶剤で希釈した後に基板上にコ
ーティングし、電子線、紫外線(可視光を含んでいても
良い)等の活性光線を照射することによって材料の硬化
を進行させ、形成することができる。
As described above, the actinic ray-curable layer is prepared by diluting the above-mentioned material with various solvents as necessary, coating the material on a substrate, and applying an electron beam, ultraviolet light (which may contain visible light) or the like. Irradiation with actinic light allows the material to be cured and formed.

【0075】電子線硬化法は一般に電子の加速電圧と硬
化層の密度とによって浸入深さが決まり、硬化層自身の
光吸収(主に紫外域)の影響を受けない特徴を有してい
る。また紫外線の吸収波長領域を利用しないため、高分
子樹脂積層体の耐候性(例えば紫外線老化性)を向上さ
せる目的で硬化層内に紫外線吸収剤を混合する場合等に
特に有効な硬化方法となる。
The electron beam curing method generally has a feature that the penetration depth is determined by the electron acceleration voltage and the density of the cured layer, and is not affected by the light absorption (mainly in the ultraviolet region) of the cured layer itself. In addition, since the ultraviolet absorption wavelength region is not used, it is a particularly effective curing method when an ultraviolet absorber is mixed in the cured layer for the purpose of improving the weather resistance (for example, ultraviolet aging) of the polymer resin laminate. .

【0076】紫外線硬化を行う場合には、光重合開始剤
を副成分として適量添加することが好ましく、また硬化
反応の効率を向上する目的で各種の増感剤も必要に応じ
て適量添加される。
In the case of performing ultraviolet curing, it is preferable to add an appropriate amount of a photopolymerization initiator as an auxiliary component, and also to add various sensitizers as needed for the purpose of improving the efficiency of the curing reaction. .

【0077】また電子線硬化、紫外線硬化のいずれの方
法においても、酸素による硬化障害を抑制する目的で、
周囲雰囲気の酸素を窒素等の不活性気体で置換すること
も必要に応じて行われる。
In any of the electron beam curing method and the ultraviolet ray curing method, in order to suppress the curing failure due to oxygen,
Replacing oxygen in the surrounding atmosphere with an inert gas such as nitrogen is also performed as necessary.

【0078】光重合開始剤としては、例えばジエトキシ
アセトフェノン、2−メチル−1−{4−(メチルチ
オ)フェニル}−2−モルフォリノプロパン、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンジルジメチ
ルケタール等のベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、
ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物;チオ
キサンソン、2、4−ジクロロチオキサンソン等のチオ
キサンソン系化合物等が挙げられる。またこれらの骨格
にアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニ
ル基を付与した共重合性の光重合開始剤も好ましく用い
られ、例えばα−アリルベンゾイン、α−アリルベンゾ
インアリールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン等が
例示される。
Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropane and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1 Acetophenone compounds such as -one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; benzoin compounds such as benzoin and benzyldimethylketal; benzophenone;
Benzophenone compounds such as benzoylbenzoic acid; and thioxanthone compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, a copolymerizable photopolymerization initiator having an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group, or a vinyl group added to these skeletons is also preferably used.Examples thereof include α-allylbenzoin, α-allylbenzoin aryl ether, and acrylated benzophenone. Is exemplified.

【0079】光重合開始剤の添加量は、活性光線硬化層
の前駆材料の不揮発成分全体の0.1〜10重量%であ
ることが好ましい。ここで紫外線照射時に周囲雰囲気の
酸素を置換しない場合には1〜10重量%、不活性気体
による置換を行う場合には0.1〜3重量%の添加量が
好ましい。
The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the nonvolatile components of the precursor of the actinic ray-curable layer. Here, the amount of addition is preferably 1 to 10% by weight when oxygen in the surrounding atmosphere is not replaced at the time of ultraviolet irradiation, and 0.1 to 3% by weight when replacement with an inert gas is performed.

【0080】さて活性光線硬化層は、層自身が十分な紫
外線吸収性を有することが好ましい。すなわち活性光線
硬化層内に副成分として紫外線吸収剤を添加する方法を
用いる事が好ましい。これは基板に用いる高分子樹脂
が、屋外での長期の紫外線暴露により著しく変色(着
色)する問題への対策として最適な方法である。
The actinic ray-curable layer itself preferably has a sufficient ultraviolet absorbing property. That is, it is preferable to use a method of adding an ultraviolet absorber as a subcomponent in the actinic ray-curable layer. This is an optimal method as a countermeasure against the problem that the polymer resin used for the substrate is significantly discolored (colored) by long-term outdoor exposure to ultraviolet light.

【0081】このように活性光線硬化層に紫外線吸収剤
を副成分として添加する場合、少なくとも300〜35
0nmの波長範囲の波長領域に大きな吸収を有する紫外
線吸収剤が好ましく用いられ、その中でも分子内にベン
ゾトリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物が
特に好ましい。
When an ultraviolet absorber is added as an auxiliary component to the actinic ray-curable layer as described above, at least 300 to 35
An ultraviolet absorber having a large absorption in a wavelength range of a wavelength range of 0 nm is preferably used, and among them, a compound containing a benzotriazole skeleton or a triazine skeleton in a molecule is particularly preferable.

【0082】これらの例としては、例えば、2−(2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、
2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6
−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノー
ル、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−
tert−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2
H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−
6−(tert−ブチル)フェノール、2,4−ジ−t
ert−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール
−2−イル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ペンチルフ
ェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フ
ェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−
フェノール、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデ
シルオキシプロピル)オキシ]−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン等が好
ましく挙げられる。
Examples of these are, for example, 2- (2H
-Benzotriazol-2-yl) -p-cresol,
2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6
-Bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-
tert-butylphenol, 2- [5-chloro (2
H) -Benzotriazol-2-yl] -4-methyl-
6- (tert-butyl) phenol, 2,4-di-t
tert-butyl-6- (5-chlorobenzotriazol-2-yl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- (2H-benzotriazole -2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl ) Oxy]-
Phenol, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -4,6-bis (2,4
-Dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and the like.

【0083】尚、これらの中でも特にトリアジン系の紫
外線吸収剤である2−(4,6−ジフェニル−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキ
シ]−フェノールは、化学的分解を受けにくく、活性光
線硬化層内で安定に存在し続けるので非常に好ましく用
いられる。またこの紫外線吸収剤を用いた場合には、活
性光線硬化層を紫外線の照射により硬化させる場合(光
重合開始剤を共存させる場合が多い)にも、硬化阻害が
少なく、層を良好に硬化させる事ができる。
Among these, 2- (4,6-diphenyl-1,3,3), which is a triazine type ultraviolet absorber, is particularly preferred.
5-Triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol is very preferably used because it is less susceptible to chemical decomposition and remains stable in the actinic radiation-cured layer. When this ultraviolet absorber is used, even when the actinic ray-curable layer is cured by irradiation of ultraviolet rays (in many cases, a photopolymerization initiator coexists), curing inhibition is small and the layer is cured well. Can do things.

【0084】更には紫外線吸収剤として、前記のベンゾ
トリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物とメ
タクリロイル基、アクリロイル基もしくはビニル基を含
有する化合物を共重合してなる化合物(例えば2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる)は活性光
線硬化層を主に形成するアクリレート成分もしくはメタ
クリレート成分と架橋反応を起こすことが可能な反応型
紫外線吸収剤と呼ばれており、活性光線硬化層内に紫外
線吸収剤を安定に固定し、耐久性を高める目的のために
好ましく用いられる。
Further, as an ultraviolet absorber, a compound obtained by copolymerizing a compound having a benzotriazole skeleton or a triazine skeleton with a compound having a methacryloyl group, an acryloyl group or a vinyl group (for example, 2-
(2′-hydroxy-5′-methacryloxyphenyl)
-H-benzotriazole, etc.) is called a reactive ultraviolet absorber capable of causing a crosslinking reaction with an acrylate component or a methacrylate component mainly forming the actinic ray-curable layer. It is preferably used for the purpose of stably fixing an ultraviolet absorbent to improve durability.

【0085】高分子樹脂積層体の耐候性(紫外線老化
性)を充分なものにするためには、活性光線硬化層の3
00〜350nmの波長領域のいずれの波長においても
光吸収率が少なくとも99%以上、より好ましくは9
9.9%以上とすることが好ましい。なお、上記4.に
おける「活性光線硬化層(A)の300〜350nmの
波長領域における光吸収率が99%以上である」とは、
「300〜350nmの波長領域のいずれの波長におい
ても光吸収率が少なくとも99%以上」という意味であ
る。
In order to make the weather resistance (ultraviolet aging resistance) of the polymer resin laminate sufficient, the active light-cured layer 3
The light absorptance is at least 99% or more, more preferably 9 at any wavelength in the wavelength range of 00 to 350 nm.
It is preferred to be 9.9% or more. Note that 4. "The light absorption of the actinic radiation-curable layer (A) in the wavelength region of 300 to 350 nm is 99% or more"
This means that "the light absorption rate is at least 99% or more at any wavelength in the wavelength range of 300 to 350 nm".

【0086】この目的のためには、活性光線硬化層の前
駆材料の不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量(重量
%)と活性光線硬化層の膜厚(μm)との積が、30〜
300重量%・μmの範囲にあることが好ましく、より
好ましくは50〜150重量%・umである。
For this purpose, the product of the addition amount (% by weight) of the ultraviolet absorber in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer and the thickness (μm) of the actinic ray-curable layer is 30 to
It is preferably in the range of 300% by weight · μm, more preferably 50 to 150% by weight · um.

【0087】なお、活性光線硬化層の前駆材料に紫外線
吸収剤を混合し、紫外線照射により層の硬化を行う場合
には、硬化(光重合)を誘起する紫外線の波長と紫外線
吸収剤の吸収波長とが幾分相違していることが好まし
い。すなわち前述のように紫外線吸収剤としては300
〜350nmの波長領域に大きな吸収を持つものを用い
ることが好ましいので、光重合を誘起する紫外線の波長
は350nm以上もしくは300nm以下の波長とする
ことが好ましい。
In the case where an ultraviolet absorber is mixed with the precursor of the actinic ray curable layer and the layer is cured by irradiating ultraviolet rays, the wavelength of the ultraviolet light that induces curing (photopolymerization) and the absorption wavelength of the ultraviolet absorber are used. Is preferably somewhat different from That is, as described above, the ultraviolet absorber is 300
Since it is preferable to use a material having a large absorption in a wavelength region of from 350 nm to 350 nm, it is preferable that the wavelength of the ultraviolet light for inducing photopolymerization is 350 nm or more or 300 nm or less.

【0088】この目的では、大きな光吸収を有する波長
領域が350〜400nmおよび/または220〜30
0nmであるような光重合開始剤を用いる方法がある。
これらの例としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−
1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル
(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンゾイル安息香酸、ベンゾ
イル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジ
フェニルサルファイド、3,3’−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン、チオキサンソン、2−クロルチオ
キサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4ジメチ
ルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,
4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピル
チオキサンソン、ジベンゾスベロン、メチルフェニルグ
リオキシレート、1−フェニル−1,2−プロパンジオ
ン−2(O−エトキシカルボニル)オキシム等が例示さ
れる。
For this purpose, the wavelength region having large light absorption is 350 to 400 nm and / or 220 to 30 nm.
There is a method using a photopolymerization initiator having a thickness of 0 nm.
Examples of these include 2-hydroxy-2-methyl-1
-Phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-
1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoic acid, Methyl benzoylbenzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4 dimethylthioxanthone , Isopropylthioxanthone, 2,
4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, dibenzosuberone, methylphenylglyoxylate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2 (O-ethoxycarbonyl) oxime and the like are exemplified. .

【0089】また同様の目的で、220〜300nmお
よび/または350〜400nmに大きな光吸収性を有
する光重合開始助剤(増感剤)を、光重合開始剤と併用
して用いることも好ましく行われる。
For the same purpose, it is also preferable to use a photopolymerization initiation aid (sensitizer) having a large light absorption at 220 to 300 nm and / or 350 to 400 nm in combination with the photopolymerization initiator. Will be

【0090】このような光重合開始助剤としては、例え
ば2−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n
−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、4−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。
Examples of the photopolymerization initiation aid include, for example, ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid (n
-Butoxy) ethyl, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone and the like.

【0091】こうした光重合開始助剤は、光重合開始剤
の混合量に対して10〜40重量%の割合で混合される
ことが好ましい。
It is preferable that such a photopolymerization initiation aid is mixed at a ratio of 10 to 40% by weight based on the mixing amount of the photopolymerization initiator.

【0092】これら活性光線硬化層の高分子樹脂基板上
へのコーティング方法としては、例えば、(ドクター)
ナイフコート法、マイクログラビヤコート法、ダイレク
トグラビヤコート法、オフセットグラビヤ法、リバース
グラビヤ法、リバースロールコート法、(マイヤー)バ
ーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディッ
プコート法等の方法が好ましく適用できる。
The method for coating these actinic ray-curable layers on a polymer resin substrate includes, for example, (Doctor)
Knife coating, microgravure coating, direct gravure coating, offset gravure, reverse gravure, reverse roll coating, (Meier) bar coating, die coating, spray coating, dip coating, etc. are preferably applied. it can.

【0093】ここで活性光線硬化層の前駆材料を塗布し
た高分子樹脂基板は、前駆材料液のレベリング性の向上
や、活性光線硬化層と高分子樹脂基板との間の密着性の
向上等の目的で活性光線の照射を行う前に一度50〜1
30℃に昇温することが好ましい場合がある。
Here, the polymer resin substrate coated with the precursor of the actinic ray curable layer is used to improve the leveling property of the precursor material liquid and the adhesion between the actinic ray curable layer and the polymer resin substrate. 50-1 once before irradiating with actinic rays for the purpose
It may be preferable to raise the temperature to 30 ° C.

【0094】また活性光線硬化層を高分子樹脂基板を積
層した後、ハードコート層を積層する前に、この積層体
を該高分子樹脂基板のガラス転移温度付近の温度(好ま
しくはガラス転移温度より20℃程度低い温度)で熱処
理を行う事が好ましい。こうした熱処理の実施により、
活性光線硬化層を積層した高分子樹脂基板の残留応力が
熱的に緩和されて、層の密着性の向上が観られると同時
に、活性光線硬化層中に含まれる揮発性成分(主に光重
合開始剤の分解物)が揮発除去され、真空製膜時に揮発
成分の真空槽への放出量が減少するといった効果があ
り、好ましく実施される。
After laminating the actinic ray-curable layer on the polymer resin substrate and before laminating the hard coat layer, the laminate is heated to a temperature near the glass transition temperature of the polymer resin substrate (preferably from the glass transition temperature). The heat treatment is preferably performed at a temperature lower by about 20 ° C.). By performing such heat treatment,
The residual stress of the polymer resin substrate on which the actinic ray cured layer is laminated is thermally relaxed, and the adhesion of the layer is improved, and at the same time, the volatile components contained in the actinic ray cured layer (mainly photopolymerization) The decomposition product of the initiator is volatilized and removed, and the effect of reducing the amount of volatile components released into the vacuum chamber during vacuum film formation is reduced.

【0095】また同様に、活性光線硬化層を高分子樹脂
基板上に積層した後、ハードコート層を積層する前に、
この積層体に加熱成形(熱曲げ加工など)を施したり、
積層体を用いて真空成形、インサート成形等を行い、成
形後の活性光線硬化層上にハードコート層を積層する事
も可能である。
Similarly, after laminating the actinic ray-curable layer on the polymer resin substrate and before laminating the hard coat layer,
This laminate is subjected to heat molding (such as hot bending),
It is also possible to perform vacuum molding, insert molding or the like using the laminate, and to laminate a hard coat layer on the actinic radiation cured layer after molding.

【0096】尚、高分子樹脂基板上に活性光線硬化層を
積層するにあたって、もしくは活性光線硬化層上にハー
ドコート層を積層するにあたっては、必要に応じて高分
子樹脂基板上もしくは活性光線硬化層上に各種の表面処
理を施してもよい。このような表面処理としては、例え
ば公知のプラズマ処理、コロナ処理、UV−オゾン処理
等の方法が好ましく用いられ、表面の汚染物質の除去、
表面活性化による層の密着性向上、前駆材料の塗工性の
向上等の効果を得ることができる。
When laminating an actinic ray-curable layer on a polymer resin substrate or laminating a hard coat layer on an actinic ray-curable layer, it is necessary to form a layer on the polymer resin substrate or the actinic ray-curable layer. Various surface treatments may be performed thereon. As such a surface treatment, for example, known methods such as plasma treatment, corona treatment, and UV-ozone treatment are preferably used.
Effects such as improvement of the adhesion of the layer by the surface activation and improvement of the coating property of the precursor material can be obtained.

【0097】尚、主に高分子樹脂基板と活性光線硬化層
の密着性を向上する目的で、適当なプライマー層を両者
の間に挟持して積層する事も可能である。このようなプ
ライマー層としては、例えばポリメチルメタクリレート
やポリメチルメタクリレートにアクリレート成分を共重
合してなる層等が好ましく用いられる。
In order to mainly improve the adhesion between the polymer resin substrate and the actinic ray-curable layer, it is also possible to sandwich an appropriate primer layer between them and to laminate them. As such a primer layer, for example, polymethyl methacrylate or a layer obtained by copolymerizing an acrylate component with polymethyl methacrylate is preferably used.

【0098】高分子樹脂基板としては、例えばポリカー
ボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレートや各種のポリオレフィイ
ン樹脂(例えばJSR社の商品名「アートン」、日本ゼ
オン社の商品名「ゼオネックス」)等による基板が好ま
しく挙げられる。
As the polymer resin substrate, for example, polycarbonate, polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and various polyolefin resins (for example, trade name “ARTON” of JSR, trade name “ZEONEX” of Zeon Corporation) And the like.

【0099】高分子樹脂基板の厚みは、ハードコート層
積層時の内部応力に起因する高分子樹脂積層体のカーリ
ングを低減する観点から、少なくとも0.2mm以上で
ある事が好ましく、より好ましくは0.4mm以上、更
に好ましくは0.8mm以上である。
The thickness of the polymer resin substrate is preferably at least 0.2 mm, and more preferably 0 mm or more, from the viewpoint of reducing curling of the polymer resin laminate due to internal stress during lamination of the hard coat layer. 0.4 mm or more, more preferably 0.8 mm or more.

【0100】尚、高分子樹脂基板には必要に応じて、前
述の紫外線吸収剤や光安定剤(酸化防止剤)、各種の可
視光の吸収剤(顔料、染料等)、赤外光の吸収剤、帯電
防止剤(導電性物質)、難燃剤等が混合されても良い。
The above-mentioned ultraviolet absorbent, light stabilizer (antioxidant), various visible light absorbents (pigments, dyes, etc.), infrared light absorption, etc. An agent, an antistatic agent (conductive substance), a flame retardant, and the like may be mixed.

【0101】自動車や建築物の窓材等の用途においては
耐衝撃性、透明性、成形性等の観点からポリカーボネー
トが特に好ましい。ここでポリカーボネートとは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸結合形成性化合物との重縮
合物を意味する。
In applications such as window materials for automobiles and buildings, polycarbonate is particularly preferred from the viewpoints of impact resistance, transparency, moldability and the like. Here, the polycarbonate means a polycondensate of an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid bond-forming compound.

【0102】かかる芳香族ジヒドロキシ化合物として
は、具体的にはビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘ
プタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジク
ロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、4,4−ジヒド
ロキシフェニル−1,1’−m−ジイソプロピルベンゼ
ン、4,4’−ジヒドロキシフェニル−9,9−フルオ
レンなどのビス(4−ヒドロキシアリール)アルカン
類、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペ
ンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−(ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−シクロヘキサン、4−[1−〔3−(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−メチルシクロヘキシル〕−1−メチ
ルエチル]−フェノール、4,4’−〔1−メチル−4
−(1−メチルエチル)−1,3−シクロヘキサンジイ
ル〕ビスフェノール、2,2,2’,2’−テトラヒド
ロ−3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−ス
ピロビス−〔1H−インデン〕−6,6’−ジオールな
どのビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)エーテル、4,
4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルフェニルエー
テルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒ
ドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルフィドな
どのジヒドロキシジアリールスルフィド類、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’−ジヒ
ドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホキシド
などのジヒドロキシジアリールスルスルホキシド類、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’
−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホ
ン、などのジヒドロキシジアリールスルホン類、4,
4’−ジヒドロキシジフェニル−3,3’−イサチンな
どのジヒドロキシジアリールイサチン類、3,6−ジヒ
ドロキシ−9,9−ジメチルキサンテンなどのジヒドロ
キシジアリールキサンテン類、レゾルシン、3−メチル
レゾルシン、3−エチルレゾルシン、3−ブチルレゾル
シン、3−t−ブチルレゾルシン、3−フェニルレゾル
シン、3−クミルレゾルシン、ヒドロキノン、2−メチ
ルヒドロキノン、2−エチルヒドロキノン、2−ブチル
ヒドロキノン、2−t−ブチルヒドロキノン、2−フェ
ニルヒドロキノン、2−クミルヒドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキシジフ
ェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げられる。
Specific examples of the aromatic dihydroxy compound include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane,
2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl)
Propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) Propane, bis (4-
Bis (4-hydroxyaryl) alkanes such as hydroxyphenyl) phenylmethane, 4,4-dihydroxyphenyl-1,1′-m-diisopropylbenzene, and 4,4′-dihydroxyphenyl-9,9-fluorene; 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) -4- (dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl- Cyclohexane, 4- [1- [3- (4-hydroxyphenyl) -4-methylcyclohexyl] -1-methylethyl] -phenol, 4,4 ′-[1-methyl-4
-(1-methylethyl) -1,3-cyclohexanediyl] bisphenol, 2,2,2 ', 2'-tetrahydro-3,3,3', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobis- [ Bis (hydroxyaryl) cycloalkanes such as 1H-indene] -6,6′-diol, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ether,
Dihydroxyaryl ethers such as 4'-dihydroxy-3,3'-dimethylphenyl ether;
Dihydroxydiaryl sulfides such as -dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfide, and 4,4'-
Dihydroxydiarylsulfoxides such as dihydroxydiphenylsulfoxide and 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethyldiphenylsulfoxide;
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4 '
Dihydroxydiarylsulfones such as -dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenylsulfone;
Dihydroxydiarylisatins such as 4'-dihydroxydiphenyl-3,3'-isatin, dihydroxydiarylxanthenes such as 3,6-dihydroxy-9,9-dimethylxanthene, resorcinol, 3-methylresorcinol, and 3-ethylresorcinol , 3-butylresorcin, 3-t-butylresorcin, 3-phenylresorcin, 3-cumylresorcin, hydroquinone, 2-methylhydroquinone, 2-ethylhydroquinone, 2-butylhydroquinone, 2-t-butylhydroquinone, 2- Dihydroxybenzenes such as phenylhydroquinone and 2-cumylhydroquinone; and dihydroxydiphenyls such as 4,4′-dihydroxydiphenyl and 3,3′-dichloro-4,4′-dihydroxydiphenyl.

【0103】中でも2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンが好ましい。
Among them, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is preferred.

【0104】炭酸結合形成性化合物としては、具体的に
はホスゲンやトリクロロメチルクロロフォーメート、ビ
ス(トリクロロメチル)カーボネートなどのホスゲン
類、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネートな
どのジアリールカーボネート類、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネー
ト類、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカ
ーボネートなどのアルキルアリールカーボネート類など
を挙げることができる。
Specific examples of the compound capable of forming a carbonic acid bond include phosgene such as phosgene, trichloromethylchloroformate and bis (trichloromethyl) carbonate; diarylcarbonates such as diphenylcarbonate and ditolylcarbonate; dimethylcarbonate; Examples thereof include dialkyl carbonates such as carbonate, and alkylaryl carbonates such as methylphenyl carbonate and ethylphenyl carbonate.

【0105】ホスゲン類を用いる場合はポリカーボネー
トは溶液法で製造され、カーボネート結合を有する炭酸
エステル類を用いる場合は溶融法で製造される。
When phosgenes are used, polycarbonate is produced by a solution method, and when carbonates having a carbonate bond are used, they are produced by a melting method.

【0106】炭酸エステル類の中ではジフェニルカーボ
ネートが好ましく用いられる。
Among the carbonates, diphenyl carbonate is preferably used.

【0107】これらの化合物は単独または組み合わせて
用いることができる。
These compounds can be used alone or in combination.

【0108】なお、他の成分を共重合またはブレンド成
分として含むものも上記8.のポリカーボネートの範疇
に含まれる。
It should be noted that those containing other components as copolymerized or blended components may also be used. In the category of polycarbonate.

【0109】本願発明にもっとも適するものは芳香族ジ
ヒドロキシ化合物として、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンを使用し、炭酸結合形成性化合物
として、ホスゲン類やカーボネート結合を有する炭酸エ
ステル類を使用するポリカーボネートである。
The most suitable compound for the present invention uses 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane as the aromatic dihydroxy compound, and phosgenes or carbonates having a carbonate bond as the carbonate bond-forming compound. This is the polycarbonate used.

【0110】それ以外の成分の共重合率またはブレンド
率が高いとポリカーボネートの特徴が薄れるため、共重
合率またはブレンド率は20重量%以下が望ましく、1
0重量%以下が更に望ましい。
If the copolymerization ratio or the blending ratio of the other components is high, the characteristics of the polycarbonate are weakened. Therefore, the copolymerization ratio or the blending ratio is desirably 20% by weight or less.
0% by weight or less is more desirable.

【0111】高分子樹脂基板の形状に関しては特に限定
はないが、フィルム状、シート状の形状を有する成形物
は均一な層のコーティングが実現しやすいので特に好ま
しく用いられる。曲面や凹凸等の複雑な形状を有する成
形物も用いることができるが、層のコーティング方法に
制約を生じる(ディップコート法が主に用いられる)場
合もある。
The shape of the polymer resin substrate is not particularly limited, but a molded product having a film-like or sheet-like shape is particularly preferably used because a uniform layer can be easily coated. Although a molded product having a complicated shape such as a curved surface or unevenness can be used, there is a case where a coating method of a layer is restricted (a dip coating method is mainly used) in some cases.

【0112】なお、これらの高分子樹脂基板は前記の活
性光線硬化層を積層するに当たり、あらかじめ基板の表
面処理を施したり、適当なプライマー層を積層すること
も必要に応じて行われる。このような表面処理として
は、公知のプラズマ処理、コロナ処理、UV−オゾン処
理等の方法が好ましく用いられ、硬化層の密着性を向上
させたり、前駆材料の塗工性を向上するといった効果を
得ることができる。
When laminating the above-mentioned actinic ray-curable layer, these polymer resin substrates may be subjected to a surface treatment of the substrate in advance or a suitable primer layer may be laminated, if necessary. As such a surface treatment, a known plasma treatment, corona treatment, UV-ozone treatment, or the like is preferably used, and has an effect of improving the adhesion of the cured layer or improving the coatability of the precursor material. Obtainable.

【0113】プライマー層は、同様に硬化層の密着性を
向上させたり、積層体の耐候性(例えば耐紫外線老化
性)を向上させる機能を有するものが好ましく用いられ
る。
As the primer layer, those having a function of improving the adhesion of the cured layer and the weather resistance (for example, resistance to ultraviolet aging) of the laminate are preferably used.

【0114】このようなプライマー層としては、例えば
各種のメタクリル酸エステルやアクリル酸エステルによ
る重合物、もしくはそれらと他種成分との共重合物が好
ましく挙げられる。こうした共重合成分は分子内にアミ
ノ基、エポキシ基を有する成分であることが好ましい。
As such a primer layer, for example, polymers of various methacrylic esters and acrylic esters, or copolymers of these with other components are preferable. Such a copolymer component is preferably a component having an amino group and an epoxy group in the molecule.

【0115】また前記の耐候性向上の目的で、プライマ
ー層には必要に応じて各種の紫外線吸収剤や酸化防止剤
等の成分を適量含有させることも可能である。
For the purpose of improving the weather resistance, the primer layer may contain an appropriate amount of components such as various ultraviolet absorbers and antioxidants, if necessary.

【0116】プライマー層の膜厚は、0.1〜15μm
の範囲で塗布されるのが好ましく、0.3〜10μmの
範囲とすることがより好ましい。
The thickness of the primer layer is 0.1 to 15 μm
Is preferably applied, and more preferably 0.3 to 10 μm.

【0117】本願発明の高分子樹脂積層体は、積層体の
透視性が高いことが必要である。具体的には積層体のヘ
ーズ値が5%以下であることが好ましく、より好ましく
は3%以下、更に好ましくは2%以下である。
The polymer resin laminate of the present invention needs to have high transparency of the laminate. Specifically, the haze value of the laminate is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and further preferably 2% or less.

【0118】ただし高分子樹脂積層体の光透過率に関し
ては、一般的には高いことが望まれ、全光透過率は50
%以上である事が好ましく、より好ましくは70%以上
である。ただし用途によっては必ずしも高い光透過率が
望まれない場合もあり、例えば、自動車の後部座席用の
窓材においては太陽光線の直射による車内温度の上昇を
抑える目的等において、高分子樹脂基板内に可視光の吸
収剤(顔料、染料等)を混合する等の方法により、意図
的に積層体の光透過率を低下させる場合もある。
However, it is generally desired that the light transmittance of the polymer resin laminate is high, and the total light transmittance is 50%.
% Or more, and more preferably 70% or more. However, depending on the application, a high light transmittance may not always be desired.For example, in a window material for a rear seat of an automobile, for the purpose of suppressing a rise in the temperature inside the vehicle due to direct sunlight, for example, the inside of a polymer resin substrate is used. In some cases, the light transmittance of the laminate is intentionally reduced by a method such as mixing a visible light absorber (a pigment, a dye, or the like).

【0119】[0119]

【実施例】以下に発明の好適な実施例について説明す
る。ただし、本願発明はこれに限定されるものではな
い。また、「部」は特に断らない限り「重量部」であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to this. “Parts” are “parts by weight” unless otherwise specified.

【0120】なお、実施例における各種の特性評価は以
下の要領にて行った。
The evaluation of various characteristics in the examples was performed in the following manner.

【0121】(ナノインデンテーション測定)(株)エ
リオニクス製のナノ・インデンテーション・テスター
ENT−1100を用いて、ハードコート層の諸物性値
の測定を行った。すなわち、使用圧子として稜間隔11
5度の三角錐圧子を用い、1μN/秒毎のステップ状に
押し込み荷重を加え、最大荷重到達後、同様にステップ
状に押し込み荷重を徐荷していく。測定は25℃の恒温
条件下で行い、測定装置とサンプルの温度を十分に安定
させた後に、最大荷重100μN、最大荷重保持時間3
0秒の条件で荷重/変位曲線の測定を行い、10回の連
続測定の平均値をもって測定値とした。
(Nano Indentation Measurement) Nano Indentation Tester manufactured by Elionix Inc.
Using ENT-1100, various physical property values of the hard coat layer were measured. That is, the ridge spacing 11 is used as an indenter.
Using a 5-degree triangular pyramid indenter, an indentation load is applied in steps of 1 μN / sec, and after reaching the maximum load, the indentation load is similarly gradually reduced in steps. The measurement is performed under a constant temperature condition of 25 ° C. After sufficiently stabilizing the temperature of the measurement device and the sample, the maximum load is 100 μN, and the maximum load holding time is 3.
The load / displacement curve was measured under the condition of 0 second, and the average value of 10 consecutive measurements was taken as the measured value.

【0122】尚、圧子の先端摩耗等によって測定データ
の誤差を生じる場合があるので、各サンプルの測定を行
う前には、まず市販のシリコンウエハの測定を行い、最
大荷重1mNの条件下でシリコンウエハを押し込んだ時
の最大変位の値が55nm±3nmの範囲内にあること
を確認した後に、サンプルの測定を行う事とする。尚、
最大変位の値がこの範囲を逸脱した場合には、新しい圧
子に交換を行うものとする。
Since errors in the measurement data may occur due to wear of the tip of the indenter or the like, before measuring each sample, first measure a commercially available silicon wafer and measure the silicon under a maximum load of 1 mN. After confirming that the value of the maximum displacement when the wafer is pushed is within the range of 55 nm ± 3 nm, the sample is measured. still,
If the value of the maximum displacement deviates from this range, a new indenter shall be replaced.

【0123】尚、参考までに上記方法で板ガラスとポリ
カーボネートの成形板(実施例1で高分子樹脂基板とし
て用いたもの)を測定した結果を記すと、前者は、最大
変位18nm、ヤング率234.2GPa、塑性変形硬
さ61.1GPaであり、後者は、最大変位140n
m、ヤング率5.8GPa、塑性変形硬さ0.47GP
aであった。
For reference, the results of measuring a molded plate of plate glass and polycarbonate (used as a polymer resin substrate in Example 1) by the above method are described. The former shows a maximum displacement of 18 nm and a Young's modulus of 234. 2 GPa and plastic deformation hardness 61.1 GPa, the latter having a maximum displacement of 140 n
m, Young's modulus 5.8 GPa, plastic deformation hardness 0.47 GP
a.

【0124】(活性光線硬化層の吸水率の測定)ガラス
板上に直接活性光線硬化層を約20μmの厚みで形成し
た後に、硬化層を刃物等でガラス板上から膜片状に約1
gの量をかきとる。次にこの膜片を真空乾燥機内で10
0℃で2時間の熱乾燥(膜中の揮発性物質を揮発除去す
る)を行った後に、膜片を正確に秤量する(ア)。次に
膜片を30℃、95%RHの恒温恒湿槽内に48時間保
持した後に、膜片を恒温恒湿槽から取り出してすぐにそ
の重量を正確に秤量し(イ)、{(イ)/(ア)}−1
の値をもって、活性光線硬化層の吸水率の値とした。
尚、ここでは繰り返し測定を5回行い、これらの測定値
の平均値を採用した。
(Measurement of water absorption of actinic ray-cured layer) After forming an actinic ray-cured layer with a thickness of about 20 μm directly on a glass plate, the cured layer was cut into a piece of film from the glass plate with a knife or the like.
Take off the amount of g. Next, this film piece is placed in a vacuum dryer for 10 minutes.
After performing thermal drying (volatilization removal of volatile substances in the film) at 0 ° C. for 2 hours, the film pieces are accurately weighed (A). Next, after keeping the film piece in a thermo-hygrostat at 30 ° C. and 95% RH for 48 hours, the film piece is taken out of the thermo-hygrostat and immediately weighed accurately (a), Δ (a) ) / (A)}-1
Was used as the value of the water absorption of the actinic ray-curable layer.
In addition, here, repeated measurement was performed five times, and the average value of these measured values was adopted.

【0125】(活性光線硬化層の沸騰水浸せき試験前後
の重量減少率の測定)ガラス板上に直接活性光線硬化層
を20μm程度の厚みで形成した後に、硬化層を刃物等
を用いてガラス板上からかきとった膜片を0.5g計り
とり、常に水量が200cc以上になるように純水の補
給を行ったビーカー内で1時間沸騰水中に浸せきした
後、この膜片を含んだ液の全量を孔径5μmのメンブレ
ンフィルターを通して吸引ろ過を行い、メンブレンフィ
ルター上に残った固形物の乾燥重量を測定することによ
り、試験前後での重量減少分を求めた。
(Measurement of weight loss rate before and after boiling water immersion test of actinic ray cured layer) After forming an actinic ray curable layer with a thickness of about 20 μm directly on a glass plate, the cured layer was cut with a blade or the like. 0.5 g of a piece of the film scraped off from the top was weighed and immersed in boiling water for 1 hour in a beaker in which pure water was supplied so that the amount of water was always 200 cc or more. The whole amount was subjected to suction filtration through a membrane filter having a pore size of 5 μm, and the dry weight of the solid matter remaining on the membrane filter was measured to determine the weight loss before and after the test.

【0126】(鉛筆硬度の測定)日本工業規格K540
0に記載されている鉛筆硬度測定法に準拠して測定を行
ったが、本実施例においては測定の再現性を高める観点
から、サンプルを厚み2mmのガラス板上にエポキシ系
の接着剤(ニチバン社製商品名「アラルダイトラピッ
ド」)を用いて固定した状態において鉛筆を平面方向に
走査した。
(Measurement of Pencil Hardness) Japanese Industrial Standard K540
The measurement was carried out in accordance with the pencil hardness measurement method described in No. 0. In this example, from the viewpoint of improving the reproducibility of the measurement, the sample was placed on a glass plate having a thickness of 2 mm with an epoxy-based adhesive (Nichiban). The pencil was scanned in the plane direction in a state where the pencil was fixed using a product name of “Araldite Rapid”).

【0127】これはサンプルをしっかり固定することに
より鉛筆走査時のサンプルの歪みや曲がり等の影響を排
除できるためであり、特にサンプルの厚みが1mm以下
であるような場合に再現性の向上に効果がある。
This is because by firmly fixing the sample, it is possible to eliminate the influence of distortion or bending of the sample when scanning with a pencil, and it is particularly effective in improving the reproducibility when the thickness of the sample is 1 mm or less. There is.

【0128】なお、サンプルの傷付きの有無の判定は、
前記規格に準拠して測定者の肉眼にて行うが、傷つきの
判定が微妙となる場合には、傷(凹部)の深さを市販の
触針式表面粗さ計により測定し、異なる5個所で測定し
た深さの平均値が0.2μm以上である場合に「傷が発
生した」と判定することとした。
The determination of the presence or absence of scratches on the sample
The measurement is performed with the naked eye of the measurer in accordance with the above standard. If the judgment of the damage is delicate, the depth of the scratch (recess) is measured with a commercially available stylus-type surface roughness meter, and measured at five different locations. When the average value of the depth measured in the step is 0.2 μm or more, it was determined that “scratch occurred”.

【0129】尚、実施例中に記載の活性光線硬化層の鉛
筆硬度は、あらかじめ2mm厚のガラス板上に下記のプ
ライマー層形成用前駆液Pを1μmの厚みでコーティン
グし、130℃で10分間熱処理してプライマー層を積
層した後に、活性光線硬化層を7μmの厚みで積層した
サンプルについて測定を行ったものである。
The pencil hardness of the actinic ray-curable layer described in the examples was determined by coating the following precursor solution P for forming a primer layer on a glass plate having a thickness of 2 mm in a thickness of 1 μm in advance, and heating at 130 ° C. for 10 minutes. After the heat treatment to laminate the primer layer, the measurement was performed on a sample in which the actinic ray-curable layer was laminated to a thickness of 7 μm.

【0130】(プライマー層形成用前駆液Pの調製)還
流冷却器および撹拌装置を備え、窒素置換したフラスコ
中に、メチルメタクリレート95.1重量部、3−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン12.4重量
部、アゾビスイソブチロニトリル0.16重量部および
1、2−ジメトキシエタン200重量部を添加し、溶解
させた。
(Preparation of Precursor Liquid P for Forming Primer Layer) In a flask equipped with a reflux condenser and a stirring apparatus and purged with nitrogen, 95.1 parts by weight of methyl methacrylate, 12.4 parts by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane Parts, 0.16 parts by weight of azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of 1,2-dimethoxyethane were added and dissolved.

【0131】70℃で6時間撹拌して得られた反応系を
n−ヘキサンに投入して析出させ、共重合ポリマー95
重量部を得た。
The reaction system obtained by stirring at 70 ° C. for 6 hours was poured into n-hexane to cause precipitation, and the copolymer 95
Parts by weight were obtained.

【0132】このポリマーの重量平均分子量はGPC測
定から150000であった。
The weight average molecular weight of this polymer was 150,000 as measured by GPC.

【0133】このポリマー10重量部をメチルイソブチ
ルケトン63重量部、2−ブタノール27重量部からな
る混合溶媒に溶解した後に、3μmのフィルターでろ過
しプライマー層形成用前駆液Pを得た。
10 parts by weight of this polymer was dissolved in a mixed solvent consisting of 63 parts by weight of methyl isobutyl ketone and 27 parts by weight of 2-butanol, followed by filtration through a 3 μm filter to obtain a precursor liquid P for forming a primer layer.

【0134】(活性光線硬化層の軟化温度の評価)前記
の鉛筆硬度測定用にガラス上に活性光線硬化層を積層し
たものと全く同様の評価用試験片を作成し、試験片をヒ
ーターで加熱しながら、活性光線硬化層の表面をガラス
棒で軽く押して、層の柔軟性や粘着性(タック性)が著
しく変化し始める温度を調べ、この温度を活性光線硬化
層の軟化温度とした。
(Evaluation of Softening Temperature of Active Light Cured Layer) A test piece for evaluation was prepared in exactly the same manner as the above-described laminated active light curable layer on glass for measuring the pencil hardness, and the test piece was heated with a heater. While the surface of the actinic ray-curable layer was lightly pressed with a glass rod, the temperature at which the flexibility and tackiness (tackiness) of the layer began to change significantly was examined, and this temperature was taken as the softening temperature of the actinic ray-curable layer.

【0135】(テーバー摩耗性の測定)テーバー摩耗試
験機(東洋精機(株)製)を用い、摩耗輪CS−10
F、荷重4.9N、1000サイクルの条件で試験片表
面(酸化珪素層の積層されている面)を摩耗し、次式か
ら求められるヘーズ値の摩耗前後の差(ΔH)で評価し
た。
(Measurement of Taber Abrasion) Using a Taber abrasion tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), a wear wheel CS-10 was used.
F, the surface of the test piece (the surface on which the silicon oxide layer was laminated) was worn under the conditions of a load of 4.9 N and 1000 cycles, and the haze value obtained from the following equation was evaluated by the difference (ΔH) between before and after the wear.

【0136】ヘーズ(%)=(拡散透過率/全光線透過
率)×100(ヘーズ値および全光線透過率の測定) 日本電色工業社製の測定器(商品名「COH−300
A」)を用いて測定を行った。
Haze (%) = (diffuse transmittance / total light transmittance) × 100 (measurement of haze value and total light transmittance) A measuring instrument manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (trade name “COH-300”)
A ").

【0137】(活性光線硬化層の紫外線吸収率の測定)
日立製分光光度計U−3500を用いて測定を行った。
測定にあたっては、高分子樹脂基板等による紫外線吸収
の影響を排除するために、活性光線硬化層を2mm厚み
の2枚の石英板上にそれぞれ同一の膜厚(ただし実施例
で高分子樹脂基板上に形成した膜厚に形成する)で別途
に積層したサンプルを用い、[(活性光線硬化層を積層
していない場合の石英板の紫外線透過率)−(活性光線
硬化層を積層した場合の石英板の紫外線透過率)]/
(活性光線硬化層を積層していない場合の石英板の紫外
線透過率)の値を持って活性光線硬化層の紫外線吸収率
とした。尚、ここで石英板には活性光線硬化層を積層す
る前にあらかじめ前記のプライマー層形成用前駆液Pを
コーティングし、130℃で10分間乾燥し、厚み2μ
mのプライマー層を積層しておくものとする。
(Measurement of UV Absorbance of Active Light Cured Layer)
The measurement was performed using a Hitachi spectrophotometer U-3500.
In the measurement, in order to eliminate the influence of ultraviolet absorption by the polymer resin substrate or the like, the active light-cured layer was formed on two quartz plates having a thickness of 2 mm with the same film thickness (however, in the examples, Using a sample separately formed in the above manner, [((UV transmittance of quartz plate when no active light-cured layer is laminated)) − (quartz when active light-cured layer is laminated) UV transmittance of plate)] /
The ultraviolet ray absorbance of the actinic ray-curable layer was determined by taking the value of (ultraviolet transmittance of the quartz plate when no actinic ray-curable layer was laminated). Here, before laminating the actinic ray-curable layer on the quartz plate, the above-mentioned precursor solution P for forming a primer layer was coated in advance, dried at 130 ° C. for 10 minutes, and then 2 μm thick.
m of primer layers are laminated.

【0138】(密着性試験)日本工業規格K5400に
記載されている碁盤目テープ試験法に準拠して測定を行
った。
(Adhesion test) Measurement was carried out in accordance with the cross cut tape test method described in Japanese Industrial Standard K5400.

【0139】(耐水性試験)高分子樹脂積層体のサンプ
ルを沸騰水中(純水)に30分浸せきした後に室内で自
然乾燥させ、積層体の外観の悪化の有無について目視観
察し、更に前記方法に従って各層間の密着性の悪化の有
無を調べた。
(Water Resistance Test) A sample of the polymer resin laminate was immersed in boiling water (pure water) for 30 minutes, then dried naturally in a room, visually observed for deterioration of the appearance of the laminate, and further subjected to the method described above. Was checked for the deterioration of the adhesion between the respective layers.

【0140】(耐光性試験)岩崎電気(株)製アイスー
パーUVテスター SUV−F11にて295〜450
nmの紫外/可視領域の光を100mW/cm2の強度
で150時間照射する。この光照射前後でサンプルの光
透過スペクトルを測定し、この透過光の日本工業規格Z
8729号に定めるL***表色系のクロマティクネ
ス指数b*値の増加、すなわち色差△ b*の値を比較す
ることにより、サンプルの着色の程度を評価した。
(Light fastness test) I-Super UV tester SUV-F11 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. 295-450
Irradiation is performed for 150 hours at an intensity of 100 mW / cm 2 in the ultraviolet / visible region of nm. The light transmission spectrum of the sample was measured before and after the light irradiation, and the Japanese Industrial Standard Z of the transmitted light was measured.
The degree of coloring of the sample was evaluated by comparing the increase in the chromaticness index b * value of the L * a * b * color system defined in No. 8729, that is, the value of the color difference Δb * .

【0141】尚、透過スペクトルの測定は日立製分光光
度計U3500の入射角0度の積分球測定モードで行
い、またb*値の計算には日本工業規格Z8720に規
定される標準の光Cを採用し、2度視野の条件を用い
た。
The transmission spectrum was measured in a spectrophotometer U3500 manufactured by Hitachi in an integrating sphere measurement mode at an incident angle of 0 °. The b * value was calculated using standard light C specified in Japanese Industrial Standard Z8720. Adopted and used twice viewing conditions.

【0142】尚、活性光線硬化層の(単独)の耐光性の
評価については、2mm厚の石英板上にまず前記のプラ
イマー層形成用前駆液Pをコーティングし、130℃で
10分間乾燥し、厚み1μmのプライマー層を積層した
後に、活性光線硬化層を7μmの厚みで積層してなるサ
ンプルを用いるものとする。
The (single) light resistance of the actinic ray-curable layer was evaluated by coating the above-mentioned precursor solution P for forming a primer layer on a quartz plate having a thickness of 2 mm, followed by drying at 130 ° C. for 10 minutes. A sample obtained by laminating a 1 μm-thick primer layer and then laminating an actinic ray-curable layer to a thickness of 7 μm is used.

【0143】[実施例1]高分子樹脂基板として、ビス
フェノールAとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂による厚み1mm、縦横350
mm×250mmの成形板(帝人化成製「パンライトP
C−1151」を用いた。
Example 1 As a polymer resin substrate, a polycarbonate resin synthesized from bisphenol A and diphenyl carbonate was 1 mm thick, 350 mm long and 350 mm wide.
mm × 250 mm molded plate (“PANLITE P” manufactured by Teijin Chemicals Limited)
C-1151 "was used.

【0144】この基板上に下記の活性光線硬化層形成用
前駆材料をバーコーターを用いてコーティングし、70
℃で1分間乾燥した後に160W/cmの高圧水銀ラン
プにより積算光量1.2J/cm2の紫外線を照射し
て、厚み40μmの活性光線硬化層を積層した。
The substrate was coated with the following precursor for forming an actinic ray-curable layer using a bar coater.
After drying at a temperature of 1 ° C. for 1 minute, ultraviolet rays having an integrated light amount of 1.2 J / cm 2 were irradiated from a high-pressure mercury lamp of 160 W / cm to form an active light-cured layer having a thickness of 40 μm.

【0145】なお、活性光線硬化層形成用前駆材料とし
ては、ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学
製商品名「ライトアクリレートDCP−A」)90重量
部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共
栄社化学商品名「ライトアクリレートDPE−6E」)
10重量部、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカ
ルス製「イルガキュア184」)7重量部と、紫外線吸
収剤として2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−
フェノール(チバスペシャリティケミカルズ製商品名
「チヌビン1577FF」)を1.7重量部、更にレベ
リング剤(東レ・ダウシリコーン製「SH28PA」)
0.05重量部とノルマルプロピルアルコール80重量
部とを混合して用いた。尚、この活性光線硬化層の前駆
材料の不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量は約1.5
重量%であり、活性光線硬化層の膜厚(μm)との積は
約60重量%・μmであった。また300〜350nm
の波長領域の吸収率は99%以上であった。
The precursors for forming the actinic ray-curable layer were 90 parts by weight of dicyclopentanyl diacrylate (trade name “Light Acrylic DCP-A” manufactured by Kyoeisha Chemical) and dipentaerythritol hexaacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). Name "Light acrylate DPE-6E")
10 parts by weight, 7 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5 as an ultraviolet absorber -[(Hexyl) oxy]-
1.7 parts by weight of phenol (trade name “Tinuvin 1577FF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and a leveling agent (“SH28PA” manufactured by Dow Silicone Toray)
0.05 parts by weight and 80 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed and used. The addition amount of the ultraviolet absorber in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer was about 1.5.
%, And the product of the thickness and the thickness (μm) of the actinic ray-curable layer was about 60% by weight · μm. 300-350nm
Was 99% or more.

【0146】尚、この活性光線硬化層の鉛筆硬度は3H
であり、軟化温度は200℃以上、吸水率は0.7%で
あった。また耐光性は△b*値が約0.3で、殆ど変色
はなかった。
Incidentally, the pencil hardness of this actinic ray cured layer is 3H.
The softening temperature was 200 ° C. or higher, and the water absorption was 0.7%. As for light fastness, Δb * value was about 0.3, and there was almost no discoloration.

【0147】次にこの活性光線硬化層を積層したポリカ
ーボネートの成形板を10cm角の大きさに切り取り、
140℃で1時間の熱処理を施した後に、真空蒸着装置
の真空槽内にセットして3時間の真空排気を行い、圧力
2×10-3Paの真空度まで到達した後、電子線加熱蒸
着法(EB蒸着法)によって、るつぼ中に充填した酸化
珪素の溶融塊を昇華させ、前記のジシクロペンタニルジ
アクリレートによる硬化層上に膜厚3.2μmの酸化珪
素層を積層した。
Next, a polycarbonate molded plate on which the actinic ray-curable layer was laminated was cut into a size of 10 cm square.
After a heat treatment at 140 ° C. for 1 hour, the substrate was set in a vacuum chamber of a vacuum evaporation apparatus and evacuated for 3 hours. After reaching a degree of vacuum of 2 × 10 −3 Pa, electron beam evaporation was performed. The molten mass of silicon oxide filled in the crucible was sublimated by a method (EB evaporation method), and a 3.2 μm-thick silicon oxide layer was laminated on the cured layer of dicyclopentanyl diacrylate.

【0148】この時、るつぼとサンプルの距離は約60
cmとし、るつぼとサンプルとの間には可動のシャッタ
ーを配置して、サンプルへの蒸着時のみシャッターを開
くようにして成膜を行った。
At this time, the distance between the crucible and the sample is about 60
cm, and a movable shutter was arranged between the crucible and the sample, and the film was formed by opening the shutter only during vapor deposition on the sample.

【0149】この真空蒸着による酸化珪素層の、ナノイ
ンデンテーションによる測定結果は、最大変位が42n
m、ヤング率が42GPa、塑性変形硬さが8.2GP
aであった。
The result of measurement of the silicon oxide layer formed by vacuum deposition by nanoindentation shows that the maximum displacement is 42 n
m, Young's modulus is 42 GPa, plastic deformation hardness is 8.2 GP
a.

【0150】この高分子樹脂積層体の外観は非常に良好
であり、全光線透過率91.1%、ヘーズは0.9%、
鉛筆硬度はH、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は1.4
%、密着性は100/100であった。また耐水性試験
による外観の変化や密着性の悪化も観られなかった。更
に耐光性も△b*値が0.8と変色の程度は少なく、非
常に良好であった。
The appearance of this polymer resin laminate was very good, the total light transmittance was 91.1%, the haze was 0.9%,
Pencil hardness is H, haze rise due to Taber abrasion is 1.4
% And adhesion were 100/100. No change in appearance or deterioration in adhesion due to the water resistance test was observed. Further, the light fastness was very good with a Δb * value of 0.8 and a small degree of discoloration.

【0151】[実施例2]実施例1の高分子樹脂積層体
の真空蒸着法により形成した酸化珪素層の上に、更にス
パッタリング法により酸化珪素層を積層して、二層から
成るハードコート層を活性光線硬化層上に積層した。
[Example 2] A two-layer hard coat layer in which a silicon oxide layer was further laminated by a sputtering method on the silicon oxide layer formed by vacuum deposition of the polymer resin laminate of Example 1 Was laminated on the actinic ray-curable layer.

【0152】すなわち実施例1で作成したのと全く同様
の積層体を真空槽内にセットして3時間の真空排気を行
い、圧力2×10-3Paの真空度まで到達した後に、A
r/O2=95:5の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を
0.27Paにした。
That is, the same laminate as that prepared in Example 1 was set in a vacuum chamber, evacuated for 3 hours, and after reaching a degree of vacuum of 2 × 10 −3 Pa, A
A mixed gas of r / O 2 = 95: 5 was introduced, and the atmospheric pressure was set to 0.27 Pa.

【0153】スパッタリングのターゲットとしては、酸
化珪素(100%)のターゲットを用い、RFマグネト
ロンスパッタリング法により投入電力密度1W/cm2
の条件で膜厚0.18μmの酸化珪素層を形成した。
As a sputtering target, a target of silicon oxide (100%) was used, and the input power density was 1 W / cm 2 by RF magnetron sputtering.
Under the conditions described above, a silicon oxide layer having a thickness of 0.18 μm was formed.

【0154】この二層から成るハードコート層の、ナノ
インデンテーションによる測定結果は、最大変位が24
nm、ヤング率が134GPa、塑性変形硬さが44G
Paであった。
The measurement results of the two hard coat layers by nanoindentation show that the maximum displacement is 24
nm, Young's modulus is 134 GPa, plastic deformation hardness is 44 G
Pa.

【0155】このハードコート積層体の外観は非常に良
好であり、全光線透過率90.8%、ヘーズは0.9
%、鉛筆硬度はH、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は
0.8%、密着性は100/100であった。また耐水
性試験による外観の変化や密着性の悪化も観られなかっ
た。更に耐光性も△b*値が0.8と変色の程度は少な
く、非常に良好であった。
The appearance of this hard coat laminate was very good, with a total light transmittance of 90.8% and a haze of 0.9.
%, The pencil hardness was H, the haze increase due to Taber abrasion was 0.8%, and the adhesion was 100/100. No change in appearance or deterioration in adhesion due to the water resistance test was observed. Further, the light fastness was very good with a Δb * value of 0.8 and a small degree of discoloration.

【0156】[実施例3]実施例1で用いた高分子樹脂
基板に、下記の前駆材料をバーコーターによりコーティ
ングした後に、70℃で1分間乾燥した後にESI社製
の電子線照射装置TYPE:CB250/15/180
Lにより加速電圧150KV、照射線量300KGY・
m/分の条件で電子線を照射して、厚み30μmの活性
光線硬化層を積層し、続いて140℃で1時間の熱処理
を行った後、活性光線硬化層の表面に0.2J/cm2
の積算放電量でコロナ処理を施し、その後に実施例1と
全く同様に真空蒸着を行った以外は、実施例1と全く同
様にして高分子樹脂積層体を形成した。
Example 3 The following precursor materials were coated on the polymer resin substrate used in Example 1 with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then irradiated with an electron beam irradiator TYPE manufactured by ESI: CB250 / 15/180
L, acceleration voltage 150KV, irradiation dose 300KGY
After irradiating with an electron beam under the conditions of m / min, an actinic ray-cured layer having a thickness of 30 μm was laminated, followed by heat treatment at 140 ° C. for 1 hour, and then 0.2 J / cm Two
, And a polymer resin laminate was formed in exactly the same manner as in Example 1 except that the vacuum discharge was performed in the same manner as in Example 1.

【0157】活性光線硬化層を形成するための前駆材料
として、ジシクロペンタニルジメタクリレート(新中村
化学製商品名「DCP」)100重量部と、紫外線吸収
剤として2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリ
アジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フ
ェノール(チバスペシャリティケミカルズ製商品名「チ
ヌビン1577FF」)を2.3重量部、レベリング剤
(東レ・ダウシリコーン製「SH28PA」0.05重
量部とノルマルプロピルアルコール80重量部を混合し
た。
As a precursor material for forming an actinic ray-curable layer, 100 parts by weight of dicyclopentanyl dimethacrylate (trade name “DCP” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 2- (4,6-diphenyl) as an ultraviolet absorber were used. 2.3 parts by weight of -1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol (trade name “Tinuvin 1577FF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and a leveling agent (Dow Silicone Toray) 0.05 parts by weight of "SH28PA" and 80 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed.

【0158】この活性光線硬化層の前駆材料の不揮発成
分中の紫外線吸収剤の添加量は約2.2重量%であり、
活性光線硬化層の膜厚(μm)との積は約66重量%・
μmであった。また300〜350nmの波長領域の吸
収率は99%以上であった。
The addition amount of the ultraviolet absorber in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer was about 2.2% by weight.
The product of the actinic ray curable layer and the film thickness (μm) is about 66% by weight.
μm. The absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99% or more.

【0159】尚、この活性光線硬化層の鉛筆硬度は5H
であり、軟化温度は200℃以上、吸水率は0.5%で
あった。また耐光性は△b*値が約0.2で、殆ど変色
はなかった。
Incidentally, the pencil hardness of this actinic ray cured layer is 5H.
The softening temperature was 200 ° C. or higher, and the water absorption was 0.5%. As for light resistance, Δb * value was about 0.2, and there was almost no discoloration.

【0160】こうして得られた高分子樹脂積層体の外観
は非常に良好であり、全光線透過率は90.8%、ヘー
ズは1.0%、鉛筆硬度は2H、テーバー磨耗によるヘ
ーズ上昇は1.9%、密着性は100/100であっ
た。また耐水性試験による外観の変化や密着性の悪化も
観られなかった。更に耐光性も△b*値が0.9と変色
の程度は少なく、非常に良好であった。
The appearance of the polymer resin laminate thus obtained was very good, the total light transmittance was 90.8%, the haze was 1.0%, the pencil hardness was 2H, and the haze increase due to Taber abrasion was 1%. 0.9% and adhesion was 100/100. No change in appearance or deterioration in adhesion due to the water resistance test was observed. Further, the light fastness was very good with a Δb * value of 0.9 and a small degree of discoloration.

【0161】[実施例4]活性光線硬化層として下記の
材料を用いて厚み5μmの層を積層し、更に蒸着層の膜
厚を2μmとした以外は、実施例1と全く同様にして高
分子樹脂積層体を作成した。
Example 4 A polymer having a thickness of 5 μm was laminated as the actinic ray-curable layer using the following materials, and the thickness of the deposited layer was changed to 2 μm. A resin laminate was prepared.

【0162】活性光線硬化層形成用前駆材料としては、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化
学製商品名「DPE−6A」)100重量部と、光重合
開始剤(チバスペシャリティケミカルス製「イルガキュ
ア184」)3重量部、レベリング剤(東レ・ダウシリ
コーン製「SH28PA」0.05重量部とノルマルプ
ロピルアルコール80重量部を混合し、紫外線吸収剤は
添加しなかった。
As the precursor for forming the actinic ray-curable layer,
100 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name “DPE-6A” manufactured by Kyoeisha Chemical), 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (“IRGACURE 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and a leveling agent (“SH28PA” manufactured by Dow Silicone Toray Silicone) 0.05 parts by weight and 80 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed, and no ultraviolet absorber was added.

【0163】尚、この活性光線硬化層の鉛筆硬度は9H
であり、軟化温度は200℃以上、吸水率は1.3%、
耐光性は△b*値が約0.6であった。
Incidentally, the pencil hardness of this actinic ray cured layer is 9H.
The softening temperature is 200 ° C. or higher, the water absorption is 1.3%,
The light fastness was Δb * value of about 0.6.

【0164】こうして得られた高分子樹脂積層体の外観
は非常に良好であり、密着性は100/100、全光線
透過率は91.1%、ヘーズは0.7%、鉛筆硬度は
F、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は4.9%であっ
た。
The appearance of the polymer resin laminate thus obtained was very good, adhesion was 100/100, total light transmittance was 91.1%, haze was 0.7%, pencil hardness was F, The haze increase due to Taber abrasion was 4.9%.

【0165】[比較例1]実施例1においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層せずに直接蒸着層を
積層した以外は全く実施例1と同様にして、高分子樹脂
積層体を作成した。
Comparative Example 1 A polymer resin laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the vapor-deposited layer was directly laminated on the polycarbonate plate without laminating the actinic ray-curable layer. .

【0166】尚、この真空蒸着による酸化珪素層の、ナ
ノインデンテーションによる測定結果は、最大変位が4
6nm、ヤング率が39GPa、塑性変形硬さが7.6
GPaで、実施例1の蒸着膜との相違は殆どなかった。
Incidentally, the measurement result of the silicon oxide layer formed by vacuum deposition by nanoindentation shows that the maximum displacement is 4%.
6 nm, Young's modulus 39 GPa, plastic deformation hardness 7.6
In GPa, there was almost no difference from the deposited film of Example 1.

【0167】この高分子樹脂積層体の外観、光透過率は
良好で密着性も100/100であったが、テーバー磨
耗によるヘーズ上昇は20.8%、耐光性は△b*値で
32.9、耐水性試験では蒸着層が完全に剥離する等、
実施例1より性能が著しく劣っていた。
[0167] Appearance of the polymer resin laminate, the light transmittance was good adhesiveness 100/100, haze increases due to Taber abrasion 20.8%, light resistance by △ b * value 32. 9. In the water resistance test, the deposited layer is completely peeled off.
The performance was remarkably inferior to that of Example 1.

【0168】[比較例2]実施例2において、ポリカー
ボネート板上に活性光線硬化層を積層せずに直接蒸着層
とスパッタ層をこの順に積層した以外は全く実施例2と
同様にして、高分子樹脂積層体を作成した。
Comparative Example 2 A polymer was obtained in the same manner as in Example 2 except that the active light-cured layer was not laminated on the polycarbonate plate, and the vapor deposition layer and the sputtered layer were laminated in this order. A resin laminate was prepared.

【0169】この高分子樹脂積層体の外観は良好で密着
性も100/100であったが、鉛筆硬度はHB、テー
バー磨耗によるヘーズ上昇は15.8%、耐光性は△b
*値で33.2と実施例2より性能が著しく劣ってい
た。
The appearance of the polymer resin laminate was good and the adhesion was 100/100, but the pencil hardness was HB, the haze increase due to Taber abrasion was 15.8%, and the light resistance was Δb.
* Value was 33.2, which was significantly inferior to Example 2.

【0170】[比較例3]実施例2において、活性光線
硬化層と蒸着層とを積層せずに直接スパッタ層のみを積
層した以外は全く実施例2と同様にして、高分子樹脂積
層体を作成した。
Comparative Example 3 A polymer resin laminate was prepared in the same manner as in Example 2 except that the active light-cured layer and the vapor-deposited layer were not laminated and only the sputtered layer was directly laminated. Created.

【0171】この高分子樹脂積層体の外観は良好であっ
たが、密着性は0/100、鉛筆硬度は2B、テーバー
磨耗によるヘーズ上昇は35.7%、耐光性は△b*
で34.4と実施例2より著しく劣っていた。
Although the appearance of this polymer resin laminate was good, the adhesiveness was 0/100, the pencil hardness was 2B, the haze increase due to Taber abrasion was 35.7%, and the light resistance was Δb * value of 34. .4, which was significantly inferior to Example 2.

【0172】[比較例4]実施例2において、蒸着層を
積層せずに基板上に活性光線硬化層とスパッタ層をこの
順に積層した以外は全く実施例2と同様にして、高分子
樹脂積層体を作成した。
Comparative Example 4 The same procedure as in Example 2 was repeated except that the active light-cured layer and the sputtered layer were laminated on the substrate in this order without depositing the vapor-deposited layer. Created body.

【0173】この高分子樹脂積層体の外観は良好で、密
着性は100/100、鉛筆硬度はH、耐光性は△b*
値で1.0であったが、テーバー磨耗によるヘーズ上昇
は25.6%と実施例2より著しく劣っていた。
The appearance of this polymer resin laminate was good, the adhesion was 100/100, the pencil hardness was H, and the light resistance was Δb *.
Although the value was 1.0, the haze increase due to Taber abrasion was 25.6%, which was significantly inferior to Example 2.

【0174】[比較例5]実施例1において、活性光線
硬化層の前駆材料として下記の材料を用い、膜厚30μ
mの層を積層した以外は全く実施例1と同様にして、高
分子樹脂積層体を作成した。
[Comparative Example 5] In Example 1, the following materials were used as the precursor of the actinic ray-curable layer, and the film thickness was 30 μm.
A polymer resin laminate was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that m layers were laminated.

【0175】すなわち前駆材料として、トリエチレング
リコールジアクリレート(共栄社化学製商品名「ライト
アクリレート3EG−A」)100重量部と、光重合開
始剤(チバスペシャリティケミカルス製「イルガキュア
184」)7重量部と、紫外線吸収剤として2−(4,
6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)
−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール(チバスペ
シャリティケミカルズ製商品名「チヌビン1577F
F」)を2.5重量部、更にレベリング剤(東レ・ダウ
シリコーン製「SH28PA」)0.05重量部とノル
マルプロピルアルコール80重量部とを混合して用い
た。
That is, 100 parts by weight of triethylene glycol diacrylate (trade name “Light Acrylate 3EG-A” manufactured by Kyoeisha Chemical) and 7 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were used as precursor materials. , 2- (4,
6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)
-5-[(hexyl) oxy] -phenol (trade name “Tinuvin 1577F, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
F "), and 2.5 parts by weight of a leveling agent (" SH28PA "manufactured by Toray Dow Silicone) was mixed with 80 parts by weight of normal propyl alcohol.

【0176】尚、この活性光線硬化層の前駆材料の不揮
発成分中の紫外線吸収剤の添加量は約2.3重量%であ
り、活性光線硬化層の膜厚(μm)との積は約69重量
%・μmであった。また300〜350nmの波長領域
の吸収率は99%以上であった。尚、この活性光線硬化
層の鉛筆硬度は2B、軟化温度は90℃前後であり、吸
水率は2.8%、耐光性は△b*値が約0.8であっ
た。
The amount of the ultraviolet absorber added in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray curable layer was about 2.3% by weight, and the product of the actinic ray curable layer and the film thickness (μm) was about 69%. % By weight · μm. The absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99% or more. The actinic ray-cured layer had a pencil hardness of 2B, a softening temperature of about 90 ° C., a water absorption of 2.8%, and a light resistance of Δb * of about 0.8.

【0177】尚、この真空蒸着による酸化珪素層の、ナ
ノインデンテーションによる測定結果は、最大変位が4
8nm、ヤング率が37GPa、塑性変形硬さが7.3
GPaで、実施例1の蒸着層との相違は殆どなかった。
The measurement result of the silicon oxide layer formed by vacuum deposition by nanoindentation shows that the maximum displacement is 4%.
8 nm, Young's modulus 37 GPa, plastic deformation hardness 7.3
In GPa, there was almost no difference from the vapor deposition layer of Example 1.

【0178】このようにして作成した高分子樹脂積層体
の外観は良好で、密着性は100/100、耐光性は△
*値が約1.5であったが、鉛筆硬度はBで、テーバ
ー磨耗によるヘーズ上昇は22.3%であり、更に耐水
性試験においては活性光線硬化層と蒸着層間の密着性の
悪化や、蒸着膜の自然剥離等の不良が観察される等、実
施例1より性能が著しく劣っていた。
The appearance of the polymer resin laminate thus produced was good, the adhesion was 100/100, and the light resistance was Δ.
The b * value was about 1.5, but the pencil hardness was B, the haze increase due to Taber abrasion was 22.3%, and the adhesion between the actinic ray-cured layer and the deposited layer deteriorated in the water resistance test. In addition, the performance was remarkably inferior to that of Example 1 such that defects such as spontaneous peeling of the deposited film were observed.

【0179】[比較例6]実施例1において、活性光線
硬化層の前駆材料として下記の材料を用い、膜厚30μ
mの層を積層した以外は全く実施例1と同様にして、高
分子樹脂積層体を作成した。
[Comparative Example 6] In Example 1, the following materials were used as precursors for the actinic ray-curable layer, and the film thickness was 30 μm.
A polymer resin laminate was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that m layers were laminated.

【0180】すなわち前駆材料として、ビスフェノール
Aエチレンオキサイド変性ジアクリレート(共栄社化学
製商品名「ライトアクリレートBP−4EA」)80重
量部と、N−ビニル−2−ピロリドン(東亞合成化学製
「アロニックスM150」)20重量部と、光重合開始
剤(チバスペシャリティケミカルス製「イルガキュア1
84」)7重量部と、紫外線吸収剤として2−(4,6
−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−
5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール(チバスペシ
ャリティケミカルズ製商品名「チヌビン1577F
F」)を2.5重量部、更にレベリング剤(東レ・ダウ
シリコーン製「SH28PA」)0.05重量部とノル
マルプロピルアルコール80重量部とを混合して用い
た。
That is, as a precursor, 80 parts by weight of bisphenol A ethylene oxide-modified diacrylate (trade name “Light Acrylate BP-4EA” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and N-vinyl-2-pyrrolidone (“Aronix M150” manufactured by Toagosei Chemicals Co., Ltd.) ) 20 parts by weight and a photopolymerization initiator (“Irgacure 1” manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
84 ") 7 parts by weight and 2- (4,6
-Diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-
5-[(hexyl) oxy] -phenol (trade name “Tinuvin 1577F manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
F "), and 2.5 parts by weight of a leveling agent (" SH28PA "manufactured by Toray Dow Silicone) was mixed with 80 parts by weight of normal propyl alcohol.

【0181】尚、この活性光線硬化層の前駆材料の不揮
発成分中の紫外線吸収剤の添加量は約2.3重量%であ
り、活性光線硬化層の膜厚(μm)との積は約69重量
%・μmであった。また300〜350nmの波長領域
の吸収率は99%以上であった。
The amount of the ultraviolet absorber added in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer was about 2.3% by weight, and the product of the actinic ray-curable layer and the film thickness (μm) was about 69%. % By weight · μm. The absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99% or more.

【0182】また、この活性光線硬化層の鉛筆硬度は2
B、軟化温度は80℃前後、吸水率は1.7%、耐光性
は△b*値が約2.3であった。
Further, the pencil hardness of this actinic ray cured layer is 2
B, the softening temperature was about 80 ° C., the water absorption was 1.7%, and the light resistance was Δb * value of about 2.3.

【0183】尚、この真空蒸着による酸化珪素層の、ナ
ノインデンテーションによる測定結果は、最大変位が4
5nm、ヤング率が40GPa、塑性変形硬さが7.8
GPaで、実施例1の蒸着層との相違は殆どなかった。
The result of measurement of the silicon oxide layer formed by vacuum deposition by nanoindentation showed that the maximum displacement was 4%.
5 nm, Young's modulus 40 GPa, plastic deformation hardness 7.8
In GPa, there was almost no difference from the vapor deposition layer of Example 1.

【0184】このようにして作成した高分子樹脂積層体
の外観は良好で、密着性は100/100であったが、
鉛筆硬度はBで、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は2
1.4%であり、更に耐光性は△b*値が約5.3で肉
眼で積層体の変色が明確に確認され、実施例1より性能
が著しく劣っていた。
Although the appearance of the polymer resin laminate thus produced was good and the adhesion was 100/100,
Pencil hardness is B, haze rise due to Taber abrasion is 2
1.4%, and the light resistance was Δb * value of about 5.3, and the discoloration of the laminate was clearly confirmed with the naked eye.

【0185】[比較例7]実施例4において、蒸着層の
膜厚を1μmとした以外は全く実施例4と同様にして、
高分子樹脂積層体を作成した。
Comparative Example 7 The procedure of Example 4 was repeated, except that the thickness of the deposited layer was changed to 1 μm.
A polymer resin laminate was prepared.

【0186】この高分子樹脂積層体の外観は良好で密着
性も100/100、鉛筆硬度はFであったが、テーバ
ー磨耗によるヘーズ上昇は13.5%で実施例4より性
能が劣っていた。
The appearance of the polymer resin laminate was good, the adhesion was 100/100, and the pencil hardness was F. However, the haze increase due to Taber abrasion was 13.5%, which was inferior to that of Example 4. .

【0187】[0187]

【発明の効果】ポリカーボネート等の硬度や耐磨耗性の
低い樹脂成形物に対して、本願発明を適用することによ
り、優れた耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性を有す
る高分子樹脂積層体を得ることができ、自動車や建材等
の窓材や透視性を必要とする構造材、その他の幅広い用
途に利用することができるようになった。
According to the present invention, a polymer having excellent abrasion resistance, surface hardness, light resistance and water resistance can be obtained by applying the present invention to a resin molded product having low hardness and abrasion resistance such as polycarbonate. A resin laminate can be obtained, and can be used for window materials such as automobiles and building materials, structural materials requiring transparency, and other wide-ranging applications.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の高分子樹脂積層体の耐磨耗性能と、ハ
ードコート層(真空蒸着法により形成した酸化珪素層)
の膜厚との関係を示す実測データの一例である。
FIG. 1 shows the abrasion resistance of a polymer resin laminate of the present invention and a hard coat layer (a silicon oxide layer formed by a vacuum deposition method).
6 is an example of actual measurement data showing a relationship with a film thickness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩井 理直 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 (72)発明者 大森 智 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 (72)発明者 峯松 宏昌 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 Fターム(参考) 4F100 AA20C AA20D AA20E AH07B AH07H AK01A AK25B AK25E AK45A AR00B AT00A BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10C BA13 CA07B CC00C CC00E EH462 EH66C EH66D EH66E EH662 EJ52B EJ52E EJ522 EJ542 GB07 GB32 JA20A JA20B JA20C JA20D JA20E JB07 JB14B JB14E JD14B JD15B JD15E JK01C JK07C JK07E JK09 JK12 JK12B JK12C JK12E JK14 JN01 JN30 YY00 YY00A YY00B YY00C YY00D YY00E ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Rionao Iwai 2-1 Hinode-cho, Iwakuni-shi, Yamaguchi Prefecture Teijin Co., Ltd. Inside the Iwakuni Research Center (72) Inventor Satoshi Omori 2-1 Hinode-cho, Iwakuni-shi, Yamaguchi Prefecture Teijin Inside the Iwakuni Research Center Co., Ltd. (72) Inventor Hiromasa Minematsu 2-1 Hinodecho, Iwakuni-shi, Yamaguchi Prefecture Teijin Co., Ltd. F-term in the Iwakuni Research Center 4F100 AA20C AA20D AA20E AH07B AH07H AK01A AK25B AK25E AK45A AR00B AT00A BA03 BA04 BA03 BA04 BA06 BA07 BA10A BA10C BA13 CA07B CC00C CC00E EH462 EH66C EH66D EH66E EH662 EJ52B EJ52E EJ522 EJ542 GB07 GB32 JA20A JA20B JA20C JA20D JA20E JB07 JB14B JB14E JD14B JD15B JD15E JK01C JK07C JK07E JK09 JK12 JK12B JK12C JK12E JK14 JN01 JN30 YY00 YY00A YY00B YY00C YY00D YY00E

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以
上である活性光線硬化層と、真空成膜プロセスを用いて
形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大
荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を
行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が
15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハ
ードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂
積層体。
1. An active light-cured layer having a thickness of 2 to 50 μm and having a pencil hardness of F or more by itself on at least one surface of a polymer resin substrate, and a vacuum film forming process. When the thickness is 1.5 to 10 μm and the surface of the layer is subjected to nanoindentation measurement under the condition of a maximum load of 100 μN, the maximum displacement is 120 nm or less, the Young's modulus is 15 GPa or more, and the plastic deformation hardness is 3 GPa or more. A polymer resin laminate obtained by laminating a hard coat layer in this order.
【請求項2】 真空成膜プロセスは真空蒸着法である事
を特徴とする請求項1に記載の高分子樹脂積層体。
2. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the vacuum film forming process is a vacuum deposition method.
【請求項3】 ハードコート層は、基板側から、真空蒸
着法により形成された層と、スパッタリング法により形
成された厚みが0.02〜0.5μmの層とを、この順
に積層した二層からなる層である事を特徴とする請求項
1に記載の高分子樹脂積層体。
3. The hard coat layer is a two-layer structure in which a layer formed by a vacuum evaporation method and a layer having a thickness of 0.02 to 0.5 μm formed by a sputtering method are laminated in this order from the substrate side. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the polymer resin laminate is a layer comprising:
【請求項4】 ハードコート層は、酸化珪素を少なくと
も全体の50重量%以上含む層、もしくは各々が酸化珪
素を少なくとも全体の50重量%以上含む層を積層した
二層からなる層である事を特徴とする請求項1〜3のい
ずれかに記載の高分子樹脂積層体。
4. The hard coat layer is a layer containing at least 50% by weight of silicon oxide or at least 50% by weight of silicon oxide. The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein:
【請求項5】 活性光線硬化層は、分子内もしくは単位
繰り返し構造内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を
有する1種もしくは2種以上の(メタ)アクリレート成
分を、不揮発成分中の50重量%以上含んでなる前駆材
料に、活性光線を照射して硬化してなる層である事を特
徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高分子樹脂積
層体。
5. The actinic ray-curable layer comprises one or more (meth) acrylate components having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule or a unit repeating structure, and 50% by weight of a non-volatile component. %. The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the precursor material is a layer obtained by irradiating an actinic ray to a precursor material containing at least 10% of the precursor material.
【請求項6】 活性光線硬化層は、吸水率が2%以下の
層である事を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
の高分子樹脂積層体。
6. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the actinic ray-curable layer is a layer having a water absorption of 2% or less.
【請求項7】 活性光線硬化層は、厚み7μmの活性光
線硬化層に波長295〜450nm、照度100mW/
cm2の光を100時間照射した前後における層の透過
光の日本工業規格Z8729号に定めるL***表色
系のクロマティクネス指数b*値の増加、すなわち色差
△ b*の値が少なくとも2以下である活性光線硬化層で
ある事を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の高
分子樹脂積層体。
7. The actinic ray-curable layer has a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 100 mW /
An increase in the chromaticity index b * value of the L * a * b * color system defined in Japanese Industrial Standard Z8729 of the transmitted light of the layer before and after irradiation with light of 100 cm 2 for 100 hours, that is, the value of the color difference bb * The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the active light-cured layer is at least 2 or less.
【請求項8】 活性光線硬化層として、ジシクロペンタ
ニルジアクリレートおよび/またはジシクロペンタニル
ジメタクリレートを、不揮発成分中の50重量%以上含
んでなる前駆材料を硬化してなる層を用いたことを特徴
とする請求項1〜7のいずれかに記載の高分子樹脂積層
体。
8. A layer obtained by curing a precursor material containing at least 50% by weight of a nonvolatile component of dicyclopentanyl diacrylate and / or dicyclopentanyl dimethacrylate as an actinic ray-curable layer. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein:
【請求項9】 活性光線硬化層の前駆材料の不揮発成分
に対する紫外線吸収剤の添加量(重量%)と活性光線硬
化層の膜厚(μm)との積が、30〜300重量%・μ
mの範囲にあることを特徴とする請求項1〜8のいずれ
かに記載の高分子樹脂積層体。
9. The product of the amount (% by weight) of the ultraviolet absorber added to the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer and the thickness (μm) of the actinic ray-curable layer is 30 to 300% by weight · μ.
The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 8, wherein m is in the range of m.
【請求項10】 活性光線硬化層の300〜350nm
の波長領域における光吸収率が99%以上であることを
特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の高分子樹脂
積層体。
10. The actinic ray-curable layer has a thickness of 300 to 350 nm.
The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 9, wherein the light absorptance in the wavelength region of (a) is 99% or more.
【請求項11】 活性光線硬化層に混合する紫外線吸収
剤として、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−
フェノールを、紫外線吸収剤の主成分として用いること
を特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の高分子
樹脂積層体。
11. An ultraviolet absorber to be mixed with the actinic ray-curable layer, as 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy]-
The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein phenol is used as a main component of the ultraviolet absorber.
【請求項12】 高分子樹脂基板の厚みが0.2mm以
上である事を特徴とする請求項1〜11のいずれかに記
載の高分子樹脂積層体。
12. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the thickness of the polymer resin substrate is 0.2 mm or more.
【請求項13】 高分子樹脂基板がポリカーボネートの
成形基板であることを特徴とする請求項1〜12のいず
れかに記載の高分子樹脂積層体。
13. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the polymer resin substrate is a molded polycarbonate substrate.
【請求項14】 高分子樹脂積層体のヘイズが5%以下
であることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記
載の高分子樹脂積層体。
14. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the haze of the polymer resin laminate is 5% or less.
【請求項15】 活性光線硬化層の前駆材料を塗布した
高分子樹脂基板を、50〜130℃の温度に昇温した後
に、活性光線を照射して高分子基板上に活性光線硬化層
を形成することを特徴とする請求項1〜14のいずれか
に記載の高分子樹脂積層体の製造方法。
15. A polymer resin substrate coated with a precursor of an actinic ray curable layer is heated to a temperature of 50 to 130 ° C., and then irradiated with actinic light to form an actinic ray curable layer on the polymer substrate. The method for producing a polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 14, wherein:
【請求項16】 活性光線硬化層を形成した高分子樹脂
基板を、該高分子基板のガラス転移温度付近の温度で熱
処理を施した後に、活性光線硬化層上にハードコート層
を積層する事を特徴とする請求項1〜15のいずれかに
記載の高分子樹脂積層体の製造方法。
16. A method of laminating a hard coat layer on an actinic ray curable layer after subjecting a polymer resin substrate having an actinic ray curable layer formed thereon to a heat treatment at a temperature near the glass transition temperature of the polymer substrate. A method for producing a polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 15.
【請求項17】 請求項1〜14のいずれかに記載の高
分子樹脂積層体から成る自動車用窓材。
17. An automotive window material comprising the polymer resin laminate according to claim 1. Description:
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