JP2002117984A - Organic el display device and its manufacturing method - Google Patents

Organic el display device and its manufacturing method

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JP2002117984A
JP2002117984A JP2000311835A JP2000311835A JP2002117984A JP 2002117984 A JP2002117984 A JP 2002117984A JP 2000311835 A JP2000311835 A JP 2000311835A JP 2000311835 A JP2000311835 A JP 2000311835A JP 2002117984 A JP2002117984 A JP 2002117984A
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layer
light emitting
hole injection
organic
buffer layer
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Junichi Ono
純一 小野
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL(electroluminescent) display device having high injection efficiency for injecting holes into a luminescence layer from a buffer layer and efficient luminescence by efficiently increasing the boundary area between the buffer layer and the luminescence layer per unit luminescent face. SOLUTION: A transparent electrode layer 5 is formed as an anode layer 5 on a transparent substrate 3, a sponge-like hole injection layer 8 is formed on it, a luminescent layer 10 is formed on the hole injection layer 8 to fill and cover the hole injection layer 8, and a cathode layer 11 is formed on the luminescent layer 10 to form this organic EL display device 1. The boundary area between the buffer layer 8 and the luminescent layer 10 per unit luminescent face is efficiently increased by forming the hole injection layer 8 into a sponge shape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示、照明等に用
いられる有機EL表示装置及びその製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an organic EL display device used for display, illumination and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の有機EL表示装置100は、図6
に示すように、透明基板3上に順に透明電極層として形
成された陽極層5、バッファ層(ホール輸送層)7、発
光層9及び陰極層11が積層されると共に、陽極層5と
陰極層11との両層間に定電圧電源13が接続されて主
構成されており、特にバッファ層7と発光層9との界面
15が平面状に形成されている。
2. Description of the Related Art A conventional organic EL display device 100 is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, an anode layer 5, a buffer layer (hole transport layer) 7, a light emitting layer 9 and a cathode layer 11 are sequentially laminated on a transparent substrate 3 as a transparent electrode layer. A constant voltage power supply 13 is connected between the two layers 11 and 11 to form a main structure. In particular, an interface 15 between the buffer layer 7 and the light emitting layer 9 is formed in a planar shape.

【0003】そして、定電圧電源13の電圧印加により
電子が陰極層11から発光層9へ注入されて発光層9内
に貯留されると共に、同じく定電圧電源13の電圧印加
によりホールが陽極層5からバッファ層7に供給され、
バッファ層7に供給されたホールが界面15から発光層
9へ注入されることで、発光層9内に貯留された電子と
再結合し、発光が生じる。
[0003] Electrons are injected from the cathode layer 11 into the light emitting layer 9 by the application of a voltage from the constant voltage power supply 13 and are stored in the light emitting layer 9. Is supplied to the buffer layer 7 from
When the holes supplied to the buffer layer 7 are injected into the light emitting layer 9 from the interface 15, the holes are recombined with the electrons stored in the light emitting layer 9 to emit light.

【0004】その際の発光輝度は、単位発光面当たりに
おいてバッファ層7から発光層9に注入されるホールの
量に応じて強くなり、単位発光面当たりにおいてバッフ
ァ層7から発光層9に注入されるホールの量は、印加電
圧が一定の下では、単位発光面当たりの界面15の面積
の大きさに応じて増加する。ここで「発光面」とは、透
明基板3の底面3aにより与えられる。
[0004] At this time, the light emission luminance increases in accordance with the amount of holes injected from the buffer layer 7 into the light emitting layer 9 per unit light emitting surface, and is increased from the buffer layer 7 into the light emitting layer 9 per unit light emitting surface. The amount of holes increases according to the size of the area of the interface 15 per unit light emitting surface when the applied voltage is constant. Here, the “light emitting surface” is given by the bottom surface 3 a of the transparent substrate 3.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように、バッファ層7と発光層9との界面15が平面状
に形成された場合では、単位発光面当たりのバッファ層
7と発光層9との界面15の面積が効果的に取られてい
ないため、バッファ層7から発光層9へ注入されるホー
ルの注入率があまり良くなく、印加された電圧に対して
効率的に発光が行われていない。
However, as described above, when the interface 15 between the buffer layer 7 and the light emitting layer 9 is formed in a planar shape, the buffer layer 7 and the light emitting layer 9 per unit light emitting surface are not provided. Since the area of the interface 15 is not taken effectively, the injection rate of holes injected from the buffer layer 7 into the light emitting layer 9 is not so good, and light is efficiently emitted with respect to the applied voltage. Absent.

【0006】そこで、この発明の課題は、単位発光面当
たりのバッファ層と発光層との境界の面積を効率的に大
きく取ることで、バッファ層から発光層へ注入されるホ
ールの注入効率を高めて、効率的に発光が行われるよう
にした有機EL表示装置及びその製造方法を提供するこ
とにある。
Accordingly, an object of the present invention is to improve the efficiency of hole injection from the buffer layer to the light emitting layer by efficiently increasing the area of the boundary between the buffer layer and the light emitting layer per unit light emitting surface. Accordingly, an object of the present invention is to provide an organic EL display device capable of efficiently emitting light and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
には、この請求項1に記載の発明は、透明基板上に少な
くとも透明電極層、有機層及び背面電極層が順に積層さ
れた有機EL表示装置において、前記有機層が、前記透
明電極層上に形成されたスポンジ状のホール注入層と、
前記ホール注入層の内部に充填するようにして前記ホー
ル注入層上に積層された発光層とを備えて構成されるも
のである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is directed to an organic EL device in which at least a transparent electrode layer, an organic layer, and a back electrode layer are sequentially laminated on a transparent substrate. In the display device, the organic layer, a sponge-like hole injection layer formed on the transparent electrode layer,
A light emitting layer stacked on the hole injection layer so as to fill the inside of the hole injection layer.

【0008】請求項2の発明は、請求項1に記載の有機
EL表示装置を製造する製造方法であって、前記透明基
板上に形成された前記透明電極層上にホール注入層溶液
を塗布する工程と、塗布された前記ホール注入層溶液を
凍結させる工程と、凍結した前記ホール注入層溶液を凍
結した状態で真空乾燥させて前記スポンジ状のホール注
入層に形成する工程と、前記ホール注入層の内部に充填
するようにして前記ホール注入層上に発光層溶液を塗布
する工程と、塗布された前記発光層溶液を乾燥させて前
記発光層を形成する工程と、を含むものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing the organic EL display device according to the first aspect, wherein a hole injection layer solution is applied on the transparent electrode layer formed on the transparent substrate. A step of freezing the applied hole injection layer solution, a step of vacuum-drying the frozen hole injection layer solution in a frozen state to form the sponge-shaped hole injection layer, and a step of forming the hole injection layer. A step of applying a light emitting layer solution onto the hole injection layer so as to fill the inside of the substrate, and a step of drying the applied light emitting layer solution to form the light emitting layer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施の形態
を図1に基づいて説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態に係る有機EL表示装置の断面概略図であり、
図2乃至図5はそれぞれ、本発明の第1の実施の形態に
係る有機EL表示装置の要部の各製造工程を説明する図
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 2 to 5 are diagrams for explaining respective manufacturing steps of the main part of the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention.

【0010】この実施の形態に係る有機EL表示装置1
は、図1に示すように、ガラス基板等の透明基板3上
に、ITO(インジウム錫酸化物)等により透明電極層
として形成された陽極層5と、バッファ層(ホール輸送
層)8と、発光層10と、アルミニウムやカルシウム等
により形成された陰極層11とが順に積層されて有機E
L素子が形成され、それら陽極層5及び陰極層11にそ
れぞれ定電圧電源13の正極及び負極が接続されて主構
成される。なお、この実施の形態では、バッファ層8と
発光層10とにより有機層が形成されている。
[0010] The organic EL display device 1 according to this embodiment.
As shown in FIG. 1, an anode layer 5 formed as a transparent electrode layer of ITO (indium tin oxide) or the like on a transparent substrate 3 such as a glass substrate, a buffer layer (hole transport layer) 8, A light emitting layer 10 and a cathode layer 11 formed of aluminum, calcium, or the like are sequentially laminated to form an organic E layer.
An L element is formed, and the positive electrode and the negative electrode of the constant voltage power supply 13 are connected to the anode layer 5 and the cathode layer 11, respectively. In this embodiment, an organic layer is formed by the buffer layer 8 and the light emitting layer 10.

【0011】バッファ層8は、ポリエチレンジオキシチ
オフェン(PEDT)等の高分子系有機材料により、所
定の厚さ(例えば0.1μm程度)の多孔質海綿状(ス
ポンジ状)に形成されて成る。
The buffer layer 8 is formed of a high-molecular organic material such as polyethylene dioxythiophene (PEDT) into a porous sponge (sponge) having a predetermined thickness (for example, about 0.1 μm).

【0012】このバッファ層8は、多孔質海綿状に形成
されることで、その全表面がその外表面とその内部に形
成された無数の各孔の内表面との総和で与えられ、これ
により、単位発光面当たり内に、発光面3aの単位面積
よりも遙かに大きな面積のバッファ層表面が形成され
る。即ち、単位発光面当たりのバッファ層8の表面積が
効率的に大きく形成された状態となる。
Since the buffer layer 8 is formed in a porous sponge shape, its entire surface is given by the sum of its outer surface and the inner surface of countless holes formed therein. The surface of the buffer layer having an area much larger than the unit area of the light emitting surface 3a is formed within each unit light emitting surface. That is, the surface area of the buffer layer 8 per unit light emitting surface is efficiently formed to be large.

【0013】発光層10は、ポリフルオレンやポリフェ
ニレンビニレン等の有機発光材料により、バッファ層8
の内部に形成された無数の各孔内に充填されると共にバ
ッファ層8の外表面を被覆するようにしてバッファ層8
の上面に所定の厚さ(例えば0.1μm程度)に積層さ
れて形成される。
The light-emitting layer 10 is made of an organic light-emitting material such as polyfluorene or polyphenylenevinylene.
The buffer layer 8 is filled in the innumerable holes formed inside the buffer layer 8 and covers the outer surface of the buffer layer 8.
Is formed to have a predetermined thickness (for example, about 0.1 μm) on the upper surface of the substrate.

【0014】この状態で、発光層10は、バッファ層8
の外表面とその内部に形成された無数の各孔の内表面と
を介してバッファ層8と接合しており、これにより単位
発光面当たりのバッファ層8と発光層10との界面の面
積が効率的に大きく形成される。
In this state, the light emitting layer 10 includes the buffer layer 8
Is bonded to the buffer layer 8 via the outer surface of the substrate and the inner surfaces of the myriad of holes formed therein, whereby the area of the interface between the buffer layer 8 and the light emitting layer 10 per unit light emitting surface is reduced. It is efficiently formed large.

【0015】これにより、定電圧電源13の電圧印加に
よって陽極層5からバッファ層8に供給されたホール
は、発光層10に注入される際にバッファ層8の界面全
面から注入されることで、印可された電圧に対して効率
的に一度に多くの量が発光層10に注入されることとな
り注入効率が向上する。
As a result, the holes supplied from the anode layer 5 to the buffer layer 8 by the voltage application of the constant voltage power supply 13 are injected from the entire interface of the buffer layer 8 when injected into the light emitting layer 10. A large amount is efficiently injected into the light emitting layer 10 at once with respect to the applied voltage, and the injection efficiency is improved.

【0016】そして、界面全面から効率的に一度に多く
のホールが発光層10に注入されることで、同じく定電
圧電源13の電圧印加により陰極層11から発光層10
に注入されて発光層10に貯留されている電子と再結合
するホールの割合が増加し、効率的に発光が行われる。
Then, a large number of holes are efficiently injected into the light emitting layer 10 at once from the entire surface of the interface.
The ratio of holes injected into the light emitting layer 10 and recombined with electrons stored in the light emitting layer 10 increases, so that light is efficiently emitted.

【0017】次に、上記有機EL表示装置1の製造方法
を図2乃至図5に基づいて説明する。
Next, a method of manufacturing the organic EL display device 1 will be described with reference to FIGS.

【0018】まず、透明基板3上に陽極層5が適宜厚さ
に製膜形成されたものを準備し、図2に示すように、そ
の陽極層5上に、バッファ層溶液(ホール注入層溶液)
8aをスピンコート、印刷法、インジェクト塗布等の適
当な方法で所定の範囲に所定の厚さ(例えば0.1μm
程度)で塗布する。ここで、このバッファ層溶液8a
は、バッファ層8の材料となるポリエチレンジオキシチ
オフェン(PEDT)等の高分子系有機材料を、所定の
有機溶媒に溶解して作られたものが用いられている。
First, an anode layer 5 having an appropriate thickness formed on a transparent substrate 3 is prepared. As shown in FIG. 2, a buffer layer solution (hole injection layer solution) is formed on the anode layer 5. )
8a to a predetermined thickness (for example, 0.1 μm) in a predetermined range by an appropriate method such as spin coating, printing, or injection coating.
About). Here, this buffer layer solution 8a
For the buffer layer, a material obtained by dissolving a polymer organic material such as polyethylene dioxythiophene (PEDT) as a material of the buffer layer 8 in a predetermined organic solvent is used.

【0019】そして、陽極層5上に塗布された上記バッ
ファ層溶液8aを、それが乾燥する前に液体窒素等を用
いて凍結し、凍結した状態で真空乾燥(いわゆる凍結乾
燥させる)して溶媒を昇華させる。これにより、凍結し
たバッファ層溶液8aの中から、そのバッファ層溶液8
aに溶解した高分子系有機材料の分布状態が崩壊される
ことなく、溶媒だけが除去されて、図3に示すように、
多孔質海綿状のバッファ層8が形成される。
Then, the buffer layer solution 8a applied on the anode layer 5 is frozen using liquid nitrogen or the like before it is dried, and dried under vacuum (so-called freeze-drying) in a frozen state to remove the solvent. Sublimate. As a result, the buffer layer solution 8a is removed from the frozen buffer layer solution 8a.
As shown in FIG. 3, only the solvent is removed without disintegrating the distribution state of the high molecular organic material dissolved in a.
The porous spongy buffer layer 8 is formed.

【0020】そして、図4に示すように、発光層溶液1
0aを、スピンコート、印刷法、インジェクト塗布等の
適当な方法で、多孔質海綿状に形成されたバッファ層8
の内部に充填すると共にそのバッファ層8の外表面を被
覆するようにして、バッファ層8上に所定の厚さで塗布
し、乾燥させて発光層10を形成する。ここで、この発
光層溶液10aは、発光層10の材料となるポリフルオ
レンやポリフェニレンビニレン等の有機発光材料を、所
定の有機溶媒に溶解して作られたものが用いられてい
る。
Then, as shown in FIG.
0a is formed into a porous spongy buffer layer 8 by an appropriate method such as spin coating, printing, or injection coating.
Is coated on the buffer layer 8 with a predetermined thickness so as to cover the outer surface of the buffer layer 8 and is dried to form the light emitting layer 10. Here, as the light emitting layer solution 10a, a solution prepared by dissolving an organic light emitting material such as polyfluorene or polyphenylenevinylene as a material of the light emitting layer 10 in a predetermined organic solvent is used.

【0021】そして、図5に示すように、発光層10上
に、アルミニウムやカルシウム等の金属を真空蒸着法等
により蒸着させて陰極層11を形成する。
Then, as shown in FIG. 5, a metal such as aluminum or calcium is deposited on the light emitting layer 10 by a vacuum deposition method or the like to form a cathode layer 11.

【0022】このようにして、有機EL素子、特にバッ
ファ層8及び発光層10が形成される。
In this manner, the organic EL device, particularly, the buffer layer 8 and the light emitting layer 10 are formed.

【0023】以上のように構成された有機EL表示装置
1によれば、バッファ層8が多孔質海綿状に形成され、
発光層10がバッファ層8の内部に充填されると共にバ
ッファ層8の外表面を被覆するようにしてバッファ層8
上に積層されることで、単位発光面当たりのバッファ層
8と発光層10との界面の面積が効率的に大きく形成さ
れているため、定電圧電源13により印加された電圧に
対して効率的に一度に多くのホールをバッファ層8から
発光層10に注入できるようになる。これにより、印可
された電圧に対してバッファ層8から発光層10へのホ
ールの注入効率が高められ、低電圧で効率良く発光が行
えるようになる。
According to the organic EL display device 1 configured as described above, the buffer layer 8 is formed in a porous sponge shape,
The light emitting layer 10 is filled in the buffer layer 8 and covers the outer surface of the buffer layer 8 so as to cover the buffer layer 8.
By being stacked on the upper surface, the area of the interface between the buffer layer 8 and the light emitting layer 10 per unit light emitting surface is efficiently increased, so that it is efficient with respect to the voltage applied by the constant voltage power supply 13. Many holes can be injected from the buffer layer 8 into the light emitting layer 10 at one time. Accordingly, the efficiency of hole injection from the buffer layer 8 to the light emitting layer 10 with respect to the applied voltage is increased, and light emission can be performed efficiently at a low voltage.

【0024】また、上記の有機EL表示装置の製造方法
によれば、バッファ層8及び発光層10が高分子系有機
材料により形成されるため、それらの形成にスピンコー
ト塗布、印刷塗布、インジェクト塗布等の簡便な製膜法
を適用しており、これにより低コストで有機EL素子を
形成できる。
According to the above-described method for manufacturing an organic EL display device, the buffer layer 8 and the light-emitting layer 10 are formed of a high-molecular organic material. A simple film forming method such as coating is applied, whereby an organic EL element can be formed at low cost.

【0025】[0025]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、バッフ
ァ層が多孔質海綿状に形成されると共に、発光層がバッ
ファ層の内部に充填されるようにしてバッファ層上に積
層されることで、単位発光面当たりのバッファ層と発光
層との界面の面積が効率的に大きく形成されているた
め、定電圧電源により印加された電圧に対して効率的に
一度に多くのホールをホール輸送層から発光層に注入で
きるようになる。これにより、印可された電圧に対して
ホール輸送層から発光層へのホールの注入効率が高めら
れ、低電圧で効率良く発光が行えるようになる。
According to the first aspect of the present invention, the buffer layer is formed in a porous spongy shape, and the light emitting layer is stacked on the buffer layer so as to fill the inside of the buffer layer. Since the area of the interface between the buffer layer and the light-emitting layer per unit light-emitting surface is efficiently increased, many holes can be efficiently formed at once with respect to the voltage applied by the constant voltage power supply. Injection from the transport layer into the light emitting layer becomes possible. Accordingly, the efficiency of hole injection from the hole transport layer to the light emitting layer with respect to the applied voltage is increased, and light emission can be performed efficiently at a low voltage.

【0026】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載の有機EL表示装置を形成することができる。
According to the invention described in claim 2, according to claim 1
Can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、この発明の第1の実施の形態に係るE
L表示装置の断面概略図である。
FIG. 1 is a block diagram of an E according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a schematic sectional view of an L display device.

【図2】図2は、この発明の第1の実施の形態に係るE
L表示装置の製造工程のうちバッファ層溶液を塗布する
工程を説明する図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an E according to the first embodiment of the present invention;
It is a figure explaining the process of applying a buffer layer solution in the manufacturing process of an L display.

【図3】図3は、図2で塗布されたバッファ層溶液をス
ポンジ状のバッファ層に形成する工程を説明する図であ
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating a process of forming a buffer layer solution applied in FIG. 2 on a sponge-like buffer layer.

【図4】図4は、図3で形成されたバッファ層上に発光
層を形成する工程を説明する図である。
FIG. 4 is a view for explaining a step of forming a light emitting layer on the buffer layer formed in FIG. 3;

【図5】図5は、図4で形成されたバッファ層上に陰極
層を形成する工程を説明する図である。
FIG. 5 is a view for explaining a step of forming a cathode layer on the buffer layer formed in FIG. 4;

【図6】図6は、従来の有機EL表示装置の断面概略図
である。
FIG. 6 is a schematic sectional view of a conventional organic EL display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 有機EL表示装置 3 透明基板 5 陽極層 8 バッファ層 8a バッファ層溶液 9,10 発光層 10a 発光層溶液 11 陰極層 13 定電圧電源 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL display device 3 Transparent substrate 5 Anode layer 8 Buffer layer 8a Buffer layer solution 9,10 Light emitting layer 10a Light emitting layer solution 11 Cathode layer 13 Constant voltage power supply

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 純一 愛知県名古屋市南区菊住1丁目7番10号 株式会社ハーネス総合技術研究所内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB06 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Junichi Ono 1-7-10 Kikuzumi, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi F-term in Harness Research Institute, Inc. (reference) 3K007 AB02 AB06 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に少なくとも透明電極層、有
機層及び背面電極層が順に積層された有機EL表示装置
において、 前記有機層が、前記透明電極層上に形成されたスポンジ
状のホール注入層と、前記ホール注入層の内部に充填す
るようにして前記ホール注入層上に積層された発光層と
を備えて構成されることを特徴とする有機EL表示装
置。
1. An organic EL display device in which at least a transparent electrode layer, an organic layer, and a back electrode layer are sequentially laminated on a transparent substrate, wherein the organic layer has a sponge-like hole injection formed on the transparent electrode layer. An organic EL display device comprising: a layer; and a light emitting layer stacked on the hole injection layer so as to fill the inside of the hole injection layer.
【請求項2】 請求項1に記載の有機EL表示装置を製
造する製造方法であって、 前記透明基板上に形成された前記透明電極層上にホール
注入層溶液を塗布する工程と、 塗布された前記ホール注入層溶液を凍結させる工程と、 凍結した前記ホール注入層溶液を凍結した状態で真空乾
燥させて前記スポンジ状のホール注入層に形成する工程
と、 前記ホール注入層の内部に充填するようにして前記ホー
ル注入層上に発光層溶液を塗布する工程と、 塗布された前記発光層溶液を乾燥させて前記発光層を形
成する工程と、を含むことを特徴とする有機EL表示装
置の製造方法。
2. The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein a step of applying a hole injection layer solution onto the transparent electrode layer formed on the transparent substrate is performed. Freezing the hole injection layer solution, forming the sponge-like hole injection layer by vacuum drying the frozen hole injection layer solution, and filling the inside of the hole injection layer. A step of applying a light emitting layer solution on the hole injection layer as described above, and a step of drying the applied light emitting layer solution to form the light emitting layer. Production method.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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