JP2002116361A - Method and device for manufacturing laser diode unit - Google Patents

Method and device for manufacturing laser diode unit

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JP2002116361A
JP2002116361A JP2000308746A JP2000308746A JP2002116361A JP 2002116361 A JP2002116361 A JP 2002116361A JP 2000308746 A JP2000308746 A JP 2000308746A JP 2000308746 A JP2000308746 A JP 2000308746A JP 2002116361 A JP2002116361 A JP 2002116361A
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JP
Japan
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light
semiconductor laser
collimator lens
unit
adjusting
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Application number
JP2000308746A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Fukui
厚司 福井
Kazumasa Takada
和政 高田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To overcome the problem of a prior art such that errors caused by the increase of tact or attachment are easily generated because a measuring device has to be replaced every adjusting process in the assembling of an optical pickup. SOLUTION: This device is composed of a collimator lens 7 which forms emitting light from a semiconductor laser 1 into parallel beams, a plurality of half mirrors 8, 10 and 11 which branch light from the collimator lens 7, a light quantity distribution measuring camera 18 which measures the distribution of light quantity, an image pickup camera 15 which is arranged at a focal position of an image forming lens 14, and a lighting source 13 which lights a light receiving part 2. The collimator lens 7 is adjusted so as to be focused on the light receiving part 2, the semiconductor laser 1 is adjusted by shifting so that the center of gravity is positioned at the center of the light quantity distribution measuring camera 18, and the position of the light receiving part is adjusted so that the center of the light receiving part 2 becomes the center of the image pickup camera 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク方式の
情報記憶媒体、例えばDVD(DigitalVers
atile Disk)に情報を読み書きする光ピック
アップにおいて、半導体レーザと受光部からなるレーザ
ダイオードユニットの製造方法及び装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information storage medium of an optical disk system, for example, a DVD (Digital Vers).
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a laser diode unit including a semiconductor laser and a light receiving unit in an optical pickup for reading / writing information from / to an optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光ピックアップの組み立ては、半
導体レーザ、ミラー、レンズ、受光部を1つの光学基台
の中に組み込み、光軸測定、光量分布測定を行い、レー
ザ、ミラー、レンズの調整を行い、そして信号再生しな
がら受光部調整を行なっていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in assembling an optical pickup, a semiconductor laser, a mirror, a lens, and a light receiving unit are incorporated in one optical base, and an optical axis measurement and a light amount distribution measurement are performed to adjust a laser, a mirror, and a lens. And adjusting the light receiving section while reproducing the signal.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、各々の調整工程ごとに測定器、調整器を切り
替えなければならず、タクトの増加、測定器、調整器へ
の基台の取り付けによる誤差が生じやすかった。
However, in the above-mentioned method, the measuring device and the adjusting device must be switched for each adjusting step, and the tact time is increased, and the mounting of the base to the measuring device and the adjusting device is required. Errors were easy to occur.

【0004】本発明は、半導体レーザと受光部を1つの
ユニットとし、あらかじめ光学調整することで、光ピッ
クアップの組み立て調整タクトの短縮、調整精度の向上
を図ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to shorten the tact time for assembling and adjusting an optical pickup and improve the accuracy of the adjustment by optically adjusting the semiconductor laser and the light receiving unit as one unit in advance.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、受光部の像をコリメータレンズと結像レン
ズを介して撮像カメラで撮像し、焦点が合うようにこの
コリメータレンズの位置を調整し、前記受光部の像が前
記撮像カメラの所定の位置となるように前記受光部の位
置を調整し、半導体レーザの射出光を前記コリメータレ
ンズと前記結像レンズを介して前記撮像カメラで撮像
し、前記所定の位置でかつ、焦点が合うように前記半導
体レーザの位置を調整し、前記半導体レーザの射出光を
前記コリメータレンズを介して平行光化させ、光量重心
を測定して、この光量重心が所定の位置となるように前
記半導体レーザの姿勢を調整するものである。
According to the present invention, an image of a light receiving section is captured by an imaging camera via a collimator lens and an imaging lens, and the position of the collimator lens is adjusted so as to be in focus. And adjusting the position of the light receiving unit so that the image of the light receiving unit is at a predetermined position of the imaging camera. The light emitted from the semiconductor laser is transmitted through the collimator lens and the imaging lens to the imaging camera. In the above, at the predetermined position, and adjust the position of the semiconductor laser so that the focus is adjusted, the emitted light of the semiconductor laser is collimated through the collimator lens, the light amount centroid is measured, The attitude of the semiconductor laser is adjusted so that the center of gravity of the light quantity is at a predetermined position.

【0006】これにより、レーザダイオードユニットの
調整を、速やかに行うことができ、さらに、光ピックア
ップの調整タクトの短縮や、調整精度の向上を図ること
ができる。
Thus, the adjustment of the laser diode unit can be performed promptly, and the tact time for adjusting the optical pickup can be shortened and the adjustment accuracy can be improved.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施形態に
係るレーザダイオードユニットの製造装置について、図
1を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An apparatus for manufacturing a laser diode unit according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0008】図1において、1は半導体レーザ、2は受
光部、3は偏光ビームスプリッタであり、半導体レーザ
1の射出光を透過させ、ディスクからの戻り光を反射さ
せ、受光部2への入射光とするためのものである。6は
ベースであり、偏光ビームスプリッター3を配置し、位
置及び姿勢を調整した半導体レーザ1と、位置調整した
受光部2とを接着剤などで固定される。このようにレー
ザダイオードユニットは、半導体レーザ1、受光部2、
偏光ビームスプリッタ3、ベース6より構成される。チ
ャック4は、半導体レーザ1を保持し、半導体レーザ1
の位置と姿勢を調整するためのものであり、XYZ方向
への移動、x軸回りのあおりθx、y軸回りのあおりθ
yが可能であり、あおり中心は半導体レーザ1の発光点
となっている。チャック5は、受光部2を保持し、受光
部2の位置を調整するためのものであり、YZ方向への
移動が可能である。ここで、受光部2と偏光ビームスプ
リッタとのX方向の間隔については、予め所定の位置に
決められているので、調整の必要はない。コリメータレ
ンズ7は、Z方向に可動であり、半導体レーザ1の射出
光を平行光化する。ハーフミラー8、10、11は、入
射光を透過光と反射光に2分割する。光ピックアップに
よる信号再生光学系9は、普通の光ピックアップから、
光源とコリメータレンズを除いたものと、溝の形成され
ていない光ディスクで構成される。結像レンズ14は、
ハーフミラー11の反射光を、焦点位置に配置されたカ
メラ15に結像させる。ファイバー照明13は、集光レ
ンズ12を介して受光部2を照明するものであり、ファ
イバー照明13は、ファイバー光射出面がレンズ12に
よりコリメータレンズ7において結像するように配置さ
れる。カメラ18は、半導体レーザ1の光量重心を測定
する。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor laser, reference numeral 2 denotes a light receiving unit, and reference numeral 3 denotes a polarization beam splitter, which transmits the light emitted from the semiconductor laser 1, reflects the return light from the disk, and enters the light receiving unit 2. It is for making light. Reference numeral 6 denotes a base on which the polarization beam splitter 3 is arranged, and the semiconductor laser 1 whose position and orientation are adjusted and the light-receiving unit 2 whose position is adjusted are fixed with an adhesive or the like. As described above, the laser diode unit includes the semiconductor laser 1, the light receiving unit 2,
It comprises a polarizing beam splitter 3 and a base 6. The chuck 4 holds the semiconductor laser 1 and holds the semiconductor laser 1.
For adjusting the position and orientation of the camera, the movement in the XYZ directions, the tilt θx about the x-axis, and the tilt θ about the y-axis.
y is possible, and the center of the tilt is the light emitting point of the semiconductor laser 1. The chuck 5 holds the light receiving unit 2 and adjusts the position of the light receiving unit 2, and can move in the YZ directions. Here, the distance in the X direction between the light receiving unit 2 and the polarization beam splitter is predetermined at a predetermined position, and therefore does not need to be adjusted. The collimator lens 7 is movable in the Z direction and converts the light emitted from the semiconductor laser 1 into parallel light. The half mirrors 8, 10, and 11 split the incident light into transmitted light and reflected light. The signal reproducing optical system 9 using an optical pickup is different from an ordinary optical pickup,
It consists of an optical disc without a light source and a collimator lens, and an optical disc without a groove. The imaging lens 14
The reflected light from the half mirror 11 is imaged on a camera 15 disposed at the focal position. The fiber illumination 13 illuminates the light receiving unit 2 via the condenser lens 12, and the fiber illumination 13 is arranged such that the fiber light exit surface forms an image on the collimator lens 7 by the lens 12. The camera 18 measures the center of gravity of the light quantity of the semiconductor laser 1.

【0009】以上のように構成されたレーザダイオード
ユニットの製造装置の動作について、図2、3を用いて
説明する。
The operation of the laser diode unit manufacturing apparatus configured as described above will be described with reference to FIGS.

【0010】まず、図2に示すように、受光部2をチャ
ック5で保持し、ファイバー照明13で受光部2を照明
する。受光部2のパターンに、カメラ15の焦点が合う
ように、コリメータ7をZ方向に移動させて、調整を行
なう。そして、受光部2のパターンの中心が、カメラ1
5の中心にくるように、チャック5で受光部2をY、Z
方向に移動させて、調整を行なう。
First, as shown in FIG. 2, the light receiving unit 2 is held by the chuck 5 and the fiber illuminating unit 13 illuminates the light receiving unit 2. The adjustment is performed by moving the collimator 7 in the Z direction so that the camera 15 is focused on the pattern of the light receiving unit 2. The center of the pattern of the light receiving unit 2 is the camera 1
5, the light receiving unit 2 is positioned in the Y, Z
Direction to make adjustments.

【0011】次に、図3に示すように、半導体レーザ1
をチャック4で保持し、半導体レーザ1を点灯させる。
半導体レーザ1の発光点位置がカメラ15の中心とな
り、発光点のスポットサイズが最小となるように、チャ
ック4で半導体レーザ1のX、Y、Z方向に移動させて
調整しながら、カメラ18で光量重心を測定し、光量重
心がカメラの中心にくるよう、チャック4で半導体レー
ザ1の姿勢を変え、あおりθx、θyの調整を行なう。
Next, as shown in FIG.
Is held by the chuck 4 and the semiconductor laser 1 is turned on.
The position of the light emitting point of the semiconductor laser 1 becomes the center of the camera 15, and the position of the light emitting point is minimized by moving the semiconductor laser 1 in the X, Y, and Z directions with the chuck 4 so as to minimize the spot size of the light emitting point. The center of the light amount is measured, and the attitude of the semiconductor laser 1 is changed by the chuck 4 so that the tilt θx and θy are adjusted so that the center of the light amount is at the center of the camera.

【0012】最後に、光ピックアップ9に正弦波状の信
号を入力し、光ピックアップの対物レンズをフォーカス
方向に振動させる。このとき、光ピックアップ9からの
戻り光を、受光部2に受光させ、フォーカスのS字信号
振幅が最大となるように受光部2のY、Z方向の微調整
を行なう。
Finally, a sine wave signal is input to the optical pickup 9, and the objective lens of the optical pickup is vibrated in the focus direction. At this time, the return light from the optical pickup 9 is received by the light receiving unit 2, and fine adjustment in the Y and Z directions of the light receiving unit 2 is performed so that the S-shaped signal amplitude of the focus becomes maximum.

【0013】そして調整後、半導体レーザ1および受光
部2をベース6に接着、固定する。
After the adjustment, the semiconductor laser 1 and the light receiving section 2 are bonded and fixed to the base 6.

【0014】以上のフローを図4に示す。FIG. 4 shows the above flow.

【0015】以上のように本発明による第1の実施形態
によれば、半導体レーザの位置調整と姿勢調整、受光部
の位置調整を一度に行なえるので、チャックの掴み代
え、調整器の切り替えによるタクト増加、ばらつき、精
度低下を防ぐことができる。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, the position adjustment and the posture adjustment of the semiconductor laser and the position adjustment of the light receiving section can be performed at one time, so that the chuck can be gripped and the adjuster can be switched. It is possible to prevent an increase in tact, a variation, and a decrease in accuracy.

【0016】また、予め半導体レーザと受光部の調整を
してユニット化することで、光ピックアップの組み立て
調整での調整軸数を低減でき、調整タクトが低減でき
る。
In addition, by adjusting the semiconductor laser and the light receiving unit in advance to form a unit, the number of adjustment axes in the assembly adjustment of the optical pickup can be reduced, and the adjustment tact can be reduced.

【0017】なお、ハーフミラー8、10はキューブ型
でもプレート型でもよく、ファイバー照明13は、LE
D照明でもよい。また、コリメータレンズ7は、単レン
ズや顕微鏡対物レンズなどの組レンズでもよい。
The half mirrors 8 and 10 may be of a cube type or a plate type.
D illumination may be used. Further, the collimator lens 7 may be a group lens such as a single lens or a microscope objective lens.

【0018】次に、本発明の第2の実施形態に係るレー
ザダイオードユニットの製造装置について、図5を参照
しながら説明する。図5において、図1と同番号のもの
は、第1の実施形態と同じものである。
Next, an apparatus for manufacturing a laser diode unit according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 5, those having the same numbers as those in FIG. 1 are the same as those in the first embodiment.

【0019】レンズ17は、コリメータレンズ7で平行
光化された半導体レーザ1の射出光をカメラ18に結像
する。コリメータレンズ7の焦点距離をf1、レンズ1
7の焦点距離をf2とし、コリメータレンズ7のカメラ
側焦点位置からレンズ17までの距離をc、レンズ17
からカメラ18までの距離をdとすると、(数1)の関
係が成り立つようにレンズ17は配置される。
The lens 17 forms an image on the camera 18 of the emitted light of the semiconductor laser 1 that has been made parallel by the collimator lens 7. The focal length of the collimator lens 7 is f1, the lens 1
7, the distance from the camera-side focal position of the collimator lens 7 to the lens 17 is c, and the focal length of the lens 17 is
Assuming that the distance from to the camera 18 is d, the lens 17 is arranged so that the relationship of (Equation 1) holds.

【0020】[0020]

【数1】 (Equation 1)

【0021】次に、レンズ17の効果について図6、図
7を用いて説明する。
Next, the effect of the lens 17 will be described with reference to FIGS.

【0022】図6は、第1の実施形態での光量分布測定
光学系であり、半導体レーザ1からの射出光をコリメー
タレンズ7で平行光化し、そのときの光量分布をカメラ
18で測定している。コリメータレンズ7の焦点距離を
f1、コリメータレンズ7からカメラ18までの距離を
Lとし、半導体レーザ1が光量分布測定光学系の光軸か
らaだけずれたときを考えると、カメラ位置では、b=
a×L/f1だけ、光量分布がずれることになり、測定
誤差となる。コリメータレンズ7とカメラ18との距離
Lを十分小さくできるときは、測定誤差は小さいが、た
とえば、f1=10mm、L=200mm、a=10μ
mとすると、カメラ18では、b=200μmのずれと
なり、半導体レーザのあおりが20mrad(約1°)
ずれたことになる。このため、第1の実施形態では、半
導体レーザのあおり調整を行なうときには、半導体レー
ザの発光点の位置を常に光学系の中心に持ってくる必要
がある。
FIG. 6 shows a light amount distribution measuring optical system according to the first embodiment. The light emitted from the semiconductor laser 1 is collimated by a collimator lens 7, and the light amount distribution at that time is measured by a camera 18. I have. Considering the case where the focal length of the collimator lens 7 is f1, the distance from the collimator lens 7 to the camera 18 is L, and the semiconductor laser 1 is deviated by a from the optical axis of the optical system for measuring the light amount distribution, b =
The light amount distribution is shifted by a × L / f1, resulting in a measurement error. When the distance L between the collimator lens 7 and the camera 18 can be made sufficiently small, the measurement error is small, but for example, f1 = 10 mm, L = 200 mm, a = 10 μ
Assuming that m, the camera 18 has a shift of b = 200 μm, and the tilt of the semiconductor laser is 20 mrad (about 1 °).
It has shifted. For this reason, in the first embodiment, when adjusting the tilt of the semiconductor laser, the position of the light emitting point of the semiconductor laser must be always brought to the center of the optical system.

【0023】一方、図5に示す第2の実施形態では、集
光レンズ17を入れることで、コリメータレンズ7のカ
メラ18側焦点面の像が、カメラ18に写る。ここで、
コリメータレンズ7のカメラ18側焦点位置では、半導
体レーザの発光点の位置が動いても光量分布は変化しな
いという特性があるため、カメラ18での光量分布のず
れは0となる。
On the other hand, in the second embodiment shown in FIG. 5, the image of the focal plane on the camera 18 side of the collimator lens 7 is reflected on the camera 18 by inserting the condenser lens 17. here,
At the focal position of the collimator lens 7 on the camera 18 side, there is a characteristic that the light amount distribution does not change even if the position of the light emitting point of the semiconductor laser moves, so that the shift of the light amount distribution at the camera 18 becomes zero.

【0024】以上、第2の実施形態によれば、第1の実
施形態と同様な効果が得られ、さらに、半導体レーザの
あおり調整において、発光点の位置ずれによる測定誤差
がなく、精度の高い調整ができる。また、半導体レーザ
のあおり調整での測定誤差がないので、半導体レーザ1
のあおり調整と発光点の位置調整の繰り返し回数を低減
でき、調整時間を短くできる。
As described above, according to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, in the tilt adjustment of the semiconductor laser, there is no measurement error due to the displacement of the light emitting point, and the accuracy is high. Can be adjusted. Further, since there is no measurement error in the tilt adjustment of the semiconductor laser, the semiconductor laser 1
The number of repetitions of the tilt adjustment and the position adjustment of the light emitting point can be reduced, and the adjustment time can be shortened.

【0025】なお、図7では、1枚のレンズとしたが、
図8のように、レンズ19,20のように2枚のレンズ
を用い、コリメータレンズ7の焦点位置とレンズ19の
焦点位置を重ね合わせ、さらにレンズ19の焦点位置と
レンズ20の焦点位置を重ね合わせ、コリメータ7のカ
メラ18側焦点位置の像をカメラ18に結像されても良
い。
In FIG. 7, one lens is used.
As shown in FIG. 8, two lenses such as lenses 19 and 20 are used, the focal position of the collimator lens 7 and the focal position of the lens 19 are overlapped, and the focal position of the lens 19 and the focal position of the lens 20 are overlapped. In addition, an image of the focal position of the collimator 7 on the camera 18 side may be formed on the camera 18.

【0026】次に、本発明のレーザダイオードユニット
調整装置の第3の実施形態について、図9を参照しなが
ら説明する。図9において、図5と同番号のものについ
ては、第2の実施形態と同じものである。
Next, a third embodiment of the laser diode unit adjusting apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 9, the components having the same numbers as those in FIG. 5 are the same as those in the second embodiment.

【0027】くさび型の透明基板21は、ハーフミラー
16の反射光に対して、面の法線がほぼ22.5°とな
るように配置される。くさび型基板21では、表面およ
び裏面で反射が生じ、光の干渉が生じる。ミラー31
は、くさび型基板21での反射光に対して、面の法線方
向がほぼ22.5°の角度に配置される。従って、くさ
び型基板21への入射光に対して、ミラー22の射出光
は直角となる。カメラ32は、ミラー31で反射した光
を入射する。
The wedge-shaped transparent substrate 21 is arranged such that the normal to the surface is approximately 22.5 ° with respect to the light reflected by the half mirror 16. In the wedge-shaped substrate 21, reflection occurs on the front surface and the rear surface, and light interference occurs. Mirror 31
Is arranged at an angle of approximately 22.5 ° with respect to the light reflected by the wedge-shaped substrate 21. Therefore, the light emitted from the mirror 22 is perpendicular to the light incident on the wedge-shaped substrate 21. The camera 32 receives the light reflected by the mirror 31.

【0028】図10は、くさび型基板21を図9と同方
向から見た図であり、図11は、くさび型基板21を図
9において矢印30の方向から見た図である。くさび型
基板21は、図9において、矢印30の方向から見た時
にくさび形状となっている。図11において、光線23
は、くさび型基板21に垂直に入射する。一方、図9の
紙面に平行な方向での断面は、長方形であり、光線23
は、基板21に対して22.5°の角度で入射する。
FIG. 10 is a view of the wedge-shaped substrate 21 viewed from the same direction as FIG. 9, and FIG. 11 is a view of the wedge-shaped substrate 21 viewed from the direction of arrow 30 in FIG. The wedge-shaped substrate 21 has a wedge shape when viewed from the direction of the arrow 30 in FIG. In FIG.
Are perpendicularly incident on the wedge-shaped substrate 21. On the other hand, the cross section in the direction parallel to the paper of FIG.
Enter the substrate 21 at an angle of 22.5 °.

【0029】くさび型基板21に光線23が入射する
と、一部は表面で反射し、光線24となる。残りの光線
25は、基板21内を進み、その一部が再び裏面で反射
し、光線26となる。図11では、くさび型基板21
は、形状がくさび型となっているので、表面反射光24
に対して裏面反射光26は方向がわずかに異なる。この
ため、光線24と光線26とが重なると、周期的な強度
分布の縞となる干渉縞が生じる。
When the light beam 23 is incident on the wedge-shaped substrate 21, a part thereof is reflected on the surface and becomes a light beam 24. The remaining light ray 25 travels inside the substrate 21, and a part of the light ray 25 is reflected again on the back surface, and becomes a light ray 26. In FIG. 11, the wedge-shaped substrate 21
Is wedge-shaped, so that the surface reflected light 24
On the other hand, the direction of the back surface reflected light 26 is slightly different. For this reason, when the light beam 24 and the light beam 26 overlap, an interference fringe which is a fringe of a periodic intensity distribution is generated.

【0030】また、図10では、くさび型基板21の形
状が長方形であり、光線23は、基板21に対して、2
2.5°の斜め方向から入射するため、表面反射光24
と裏面反射光26とは平行であるが、互いにわずかに横
ずれする。このとき、入射光線23が平行光であれば、
光線24と光線26とが重なっても、縞は生じない。し
かし、入射光線23が発散光、あるいは、収束光である
と、光線24と光線26との重なりで周期的な強度分布
が生じる。
In FIG. 10, the shape of the wedge-shaped substrate 21 is rectangular, and
Since the light enters from an oblique direction of 2.5 °, the surface reflected light 24
And the back surface reflected light 26 are parallel to each other, but slightly deviate from each other. At this time, if the incident light beam 23 is parallel light,
Even if the light beam 24 and the light beam 26 overlap, no stripes occur. However, when the incident light beam 23 is divergent light or convergent light, a periodic intensity distribution occurs due to the overlap of the light beam 24 and the light beam 26.

【0031】図9の紙面垂直方向の光強度分布と紙面水
平方向の光強度分布を足し合わせた状態、すなわち、カ
メラ32で観測すると、光線23が平行光のとき、図1
2(b)のように水平方向の縞となり、光線24が発散
光となると、図12(a)のように縞が傾き、また、収
束光となると、逆方向(図12(c))のように傾く。
半導体レーザ1の発光点位置とコリメータレンズ7の焦
点位置とのずれが小さいとき、すなわち、くさび型基板
21への入射光が平行光に近い状態では、半導体レーザ
1の発光点位置とコリメータレンズ7の焦点位置とのず
れと、くさび型基板21での干渉縞の傾きとはほぼ比例
する。したがって、干渉縞の傾きから半導体レーザ1の
位置を求めることができる。
When the light intensity distribution in the direction perpendicular to the plane of FIG. 9 and the light intensity distribution in the direction horizontal to the plane of FIG.
2 (b), the stripes are inclined as shown in FIG. 12 (a) when the light beam 24 is divergent light, and the stripes are inclined in the opposite direction (FIG. 12 (c)) when the light beam 24 is convergent light. Lean like so.
When the difference between the light emitting point position of the semiconductor laser 1 and the focal position of the collimator lens 7 is small, that is, when the light incident on the wedge-shaped substrate 21 is close to parallel light, the light emitting point position of the semiconductor laser 1 and the collimator lens 7 Is substantially proportional to the inclination of the interference fringes on the wedge-shaped substrate 21. Therefore, the position of the semiconductor laser 1 can be obtained from the inclination of the interference fringes.

【0032】光線23の径が小さいときに、基板21へ
の光線23の入射角が大きくなると、図10における光
線24に対する光線26の横ずれ量が大きくなり、干渉
領域が小さくなり、縞の方向をカメラ32で観察できな
くなる。たとえば、光ディスクなどでは、半導体レーザ
1とコリメータレンズ7との組合せで、ビーム径は5m
m程度になる。くさび型基板21への光線23の入射角
を45°、基板21の厚みを3mmとすると、横ずれ量
は、2.3mmにもなり、ビームの1/3程度しか干渉
しない。
If the angle of incidence of the light ray 23 on the substrate 21 increases when the diameter of the light ray 23 is small, the amount of lateral shift of the light ray 26 with respect to the light ray 24 in FIG. 10 increases, the interference area decreases, and the direction of the stripes decreases. Observation with the camera 32 becomes impossible. For example, in the case of an optical disc or the like, the beam diameter is 5 m by a combination of the semiconductor laser 1 and the collimator lens 7.
m. Assuming that the angle of incidence of the light beam 23 on the wedge-shaped substrate 21 is 45 ° and the thickness of the substrate 21 is 3 mm, the amount of lateral displacement becomes 2.3 mm, and only about 1/3 of the beam interferes.

【0033】くさび型基板21の厚みを薄くすれば、横
ずれ量を小さくできるが、くさび型基板21の強度が弱
くなり、たわみが生じやすくなり、精度よく光の平行度
を測定できなくなる。そこで、くさび型基板21への光
線入射角を小さくすることで、くさび型基板21を薄く
せずに、干渉領域を増やすことができる。くさび型基板
21への入射角を22.5°とすることで、横ずれ量を
1.1mmに低減できる。また、ミラー31により、さ
らに光線方向を45°変更することにより、くさび型基
板21への入射光に対して、ミラー31の射出光方向を
90°とすることで、光学系の小型化ができる。
If the thickness of the wedge-shaped substrate 21 is reduced, the amount of lateral displacement can be reduced. However, the strength of the wedge-shaped substrate 21 is weakened, the deflection is liable to occur, and the parallelism of light cannot be measured accurately. Thus, by reducing the angle of incidence of the light beam on the wedge-shaped substrate 21, the interference area can be increased without making the wedge-shaped substrate 21 thinner. By setting the angle of incidence on the wedge-shaped substrate 21 to 22.5 °, the amount of lateral displacement can be reduced to 1.1 mm. Further, by changing the direction of the light beam by 45 ° by the mirror 31 and setting the direction of the emitted light of the mirror 31 to 90 ° with respect to the light incident on the wedge-shaped substrate 21, the optical system can be downsized. .

【0034】次に、第1、第2の実施形態と、第3の実
施形態との差異について説明する。第1、第2の実施形
態では、半導体レーザ1のZ方向の位置測定をカメラ1
5に写ったスポット径が最小となる位置を探す必要があ
った。スポット径から直接、半導体レーザ1のZ方向の
位置はわからないので、広い範囲で探索し、さらに、ス
ポット径が最小となるように半導体レーザ1のZ位置を
微調整しながら追い込んでいく必要がある。
Next, differences between the first and second embodiments and the third embodiment will be described. In the first and second embodiments, the position of the semiconductor laser 1 in the Z direction is measured by the camera 1.
It was necessary to find a position where the spot diameter shown in FIG. Since the position of the semiconductor laser 1 in the Z direction is not directly known from the spot diameter, it is necessary to search in a wide range and further drive in while fine-adjusting the Z position of the semiconductor laser 1 so as to minimize the spot diameter. .

【0035】一方、第3の実施形態では、くさび型基板
21での干渉縞の傾きから、半導体レーザ1のZ位置が
わかるため、半導体レーザ1のZ調整は、一度で行なう
ことができ、調整時間を短くできる。
On the other hand, in the third embodiment, since the Z position of the semiconductor laser 1 can be determined from the inclination of the interference fringes on the wedge-shaped substrate 21, the Z adjustment of the semiconductor laser 1 can be performed at one time. Time can be shortened.

【0036】以上、第3の実施形態によれば、第1、第
2の実施形態と同様な効果が得られ、さらに、くさび型
基板21での干渉縞の傾きから、半導体レーザ1のZ位
置がわかるため、半導体レーザ1のZ調整は、一度で行
なうことができ、調整時間を短くできる。
As described above, according to the third embodiment, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained. Further, from the inclination of the interference fringe on the wedge-shaped substrate 21, the Z position of the semiconductor laser 1 can be obtained. Therefore, the Z adjustment of the semiconductor laser 1 can be performed at once, and the adjustment time can be shortened.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の第1の実施形態によれば、半導
体レーザの位置調整とあおり調整、受光部の位置調整を
一度に行なえるので、チャックの掴み代え、調整器の切
り替えによるタクト増加、ばらつき、精度低下を防ぐこ
とができる。また、予め半導体レーザと受光部の調整を
し、ユニット化することで、光ピックアップの組み立て
調整での調整軸数を低減でき、調整タクトが低減でき
る。
According to the first embodiment of the present invention, the adjustment of the position of the semiconductor laser, the adjustment of the tilt and the adjustment of the position of the light receiving portion can be performed at one time. , Variation, and decrease in accuracy can be prevented. In addition, by adjusting the semiconductor laser and the light receiving unit in advance and unitizing them, the number of adjustment axes in the assembly adjustment of the optical pickup can be reduced, and the adjustment tact can be reduced.

【0038】第2の実施形態によれば、第1の実施形態
と同様な効果が得られ、さらに、半導体レーザのあおり
調整において、発光点の位置ずれによる測定誤差がな
く、精度の高い調整ができる。さらに、半導体レーザの
あおり調整での測定誤差がないので、半導体レーザのあ
おり調整と発光点の位置調整の繰り返し回数を低減で
き、調整時間を短くできる。
According to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. In addition, in the tilt adjustment of the semiconductor laser, there is no measurement error due to the displacement of the light emitting point, and a highly accurate adjustment can be performed. it can. Furthermore, since there is no measurement error in the tilt adjustment of the semiconductor laser, the number of repetitions of the tilt adjustment of the semiconductor laser and the position adjustment of the light emitting point can be reduced, and the adjustment time can be shortened.

【0039】また、本発明の第3の実施形態によれば、
第1、第2の実施形態と同様な効果が得られ、さらに、
くさび型基板での干渉縞の傾きから、半導体レーザのZ
位置がわかるため、半導体レーザのZ調整を、一度で行
なうことができ、調整時間を短くできる。
According to the third embodiment of the present invention,
The same effects as those of the first and second embodiments can be obtained.
From the inclination of the interference fringes on the wedge-shaped substrate,
Since the position is known, the Z adjustment of the semiconductor laser can be performed at once, and the adjustment time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造装置の模式図
FIG. 1 is a schematic diagram of a laser diode unit manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造装置の調整方法を説明する図
FIG. 2 is a diagram illustrating an adjustment method of the laser diode unit manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造装置の調整方法を説明する図
FIG. 3 is a diagram for explaining an adjustment method of the laser diode unit manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造方法のフロー図
FIG. 4 is a flowchart of a method for manufacturing a laser diode unit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造装置の模式図
FIG. 5 is a schematic view of a laser diode unit manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施形態にかかる光量分布測定
光学系の説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram of a light amount distribution measuring optical system according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施形態にかかる光量分布測定
光学系の説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram of a light amount distribution measuring optical system according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態にかかる光量分布測定
光学系の説明図
FIG. 8 is an explanatory diagram of a light amount distribution measuring optical system according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第3の実施形態にかかるレーザダイオ
ードユニット製造装置の模式図
FIG. 9 is a schematic view of a laser diode unit manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図10】くさび型基板での光線の反射を説明する図FIG. 10 is a diagram illustrating light reflection on a wedge-shaped substrate.

【図11】くさび型基板での光線の反射を説明する図FIG. 11 is a view for explaining light ray reflection on a wedge-shaped substrate.

【図12】本発明の第3の実施形態にかかるレーザダイ
オードユニット製造装置のくさび型基板による干渉縞を
示す図
FIG. 12 is a view showing interference fringes formed by a wedge-shaped substrate in the laser diode unit manufacturing apparatus according to the third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザ 2 受光部 3 偏光ビームスプリッタ 7 コリメータレンズ 8 ハーフミラー 13 照明装置 14 結像レンズ 15 CCDカメラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser 2 Light-receiving part 3 Polarization beam splitter 7 Collimator lens 8 Half mirror 13 Illumination device 14 Imaging lens 15 CCD camera

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/22 G11B 7/22 H01S 5/022 H01S 5/022 Fターム(参考) 2F065 AA03 AA17 BB03 CC03 DD03 FF42 FF44 FF51 GG04 HH04 JJ03 JJ26 LL00 LL02 LL12 LL37 MM02 QQ28 QQ32 2H043 AD02 AD11 AD12 AD20 5D119 AA38 BA01 BB01 BB04 FA05 FA37 LB07 NA04 NA06 5F073 AB21 AB25 AB27 BA05 FA30──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 7/22 G11B 7/22 H01S 5/022 H01S 5/022 F-term (Reference) 2F065 AA03 AA17 BB03 CC03 DD03 FF42 FF44 FF51 GG04 HH04 JJ03 JJ26 LL00 LL02 LL12 LL37 MM02 QQ28 QQ32 2H043 AD02 AD11 AD12 AD20 5D119 AA38 BA01 BB01 BB04 FA05 FA37 LB07 NA04 NA06 5F073 AB21 AB25 AB27 BA05 FA30

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザダイオードユニットの半導体レー
ザと受光部の位置と姿勢を調整してレーザダイオードユ
ニットを製造する方法であって、前記受光部の像をコリ
メータレンズと結像レンズを介して撮像カメラで撮像
し、焦点が一致するようにこのコリメータレンズの位置
を調整する工程と、前記受光部の像が撮像カメラの所定
の位置となるように前記受光部の位置を調整する工程
と、前記半導体レーザの射出光を前記コリメータレンズ
と前記結像レンズを介して前記撮像カメラで撮像し、前
記所定の位置でかつ、焦点が合うように前記半導体レー
ザの位置を調整する工程と、前記半導体レーザの射出光
を前記コリメータレンズを介して平行光化させ、光量重
心を測定して、この光量重心が所定の位置となるように
前記半導体レーザの姿勢を調整する工程とを有したこと
を特徴とするレーザダイオードユニットの製造方法。
1. A method of manufacturing a laser diode unit by adjusting a position and a posture of a semiconductor laser and a light receiving unit of a laser diode unit, wherein an image of the light receiving unit is captured via a collimator lens and an imaging lens. A step of adjusting the position of the collimator lens so that the focal point matches; a step of adjusting the position of the light receiving unit so that the image of the light receiving unit is at a predetermined position of the imaging camera; and Imaging the emitted light of the laser by the imaging camera via the collimator lens and the imaging lens, and adjusting the position of the semiconductor laser so as to be in focus at the predetermined position; and The emitted light is collimated through the collimator lens, the center of gravity of the light amount is measured, and the attitude of the semiconductor laser is adjusted so that the center of gravity of the light amount is at a predetermined position. And a step of adjusting the laser diode unit.
【請求項2】 半導体レーザの姿勢を調整する工程は、
前記半導体レーザの射出光を前記コリメータレンズを介
して平行光化させ、この平行光化した光を、集光レンズ
で集光して光量重心を測定して、この光量重心が所定の
位置となるように調整することを特徴とする請求項1記
載のレーザダイオードユニットの製造方法。
2. The step of adjusting the attitude of the semiconductor laser,
The emitted light of the semiconductor laser is collimated through the collimator lens, the collimated light is condensed by a condenser lens, and the light quantity centroid is measured, and the light quantity centroid becomes a predetermined position. 2. The method for manufacturing a laser diode unit according to claim 1, wherein the adjustment is performed as described above.
【請求項3】 半導体レーザの位置を調整する工程は、
前記半導体レーザの射出光を前記コリメータレンズを介
して平行光化させ、くさび型基板の表面側と裏面側の反
射光の光干渉により、前記半導体レーザの光軸方向の位
置を調整することを特徴とする請求項1、2のいずれか
に記載のレーザダイオードユニットの製造方法。
3. The step of adjusting the position of the semiconductor laser,
The emitted light of the semiconductor laser is collimated through the collimator lens, and the position of the semiconductor laser in the optical axis direction is adjusted by optical interference of reflected light on the front side and the back side of the wedge-shaped substrate. The method for manufacturing a laser diode unit according to claim 1.
【請求項4】 レーザダイオードユニットの半導体レー
ザと受光部の位置と姿勢を調整してレーザダイオードユ
ニットを製造する装置であって、前記受光部の像と前記
半導体レーザの射出光をコリメータレンズと結像レンズ
を介して撮像する撮像カメラと、前記半導体レーザの射
出光を前記コリメータレンズを介して平行光化させ、光
量重心を測定する光量重心測定手段と、前記コリメータ
レンズの位置を調整するコリメータレンズ位置調整部
と、前記半導体レーザの位置・姿勢を調整する半導体レ
ーザ位置・姿勢調整部と、前記受光素子の位置を調整す
る受光素子位置調整部とを有したことを特徴とするレー
ザダイオードユニットの製造装置。
4. An apparatus for manufacturing a laser diode unit by adjusting a position and a posture of a semiconductor laser and a light receiving section of a laser diode unit, wherein an image of the light receiving section and emission light of the semiconductor laser are connected to a collimator lens. An imaging camera that captures an image via an image lens, a light amount centroid measuring unit that converts the emitted light of the semiconductor laser into a parallel light through the collimator lens, and measures a light amount centroid, and a collimator lens that adjusts the position of the collimator lens A position adjusting unit, a semiconductor laser position / posture adjusting unit for adjusting the position / posture of the semiconductor laser, and a light receiving element position adjusting unit for adjusting the position of the light receiving element; manufacturing device.
【請求項5】 コリメータレンズ位置調整部は、前記撮
像カメラで撮像した前記受光素子データを元に位置調整
を行うコリメータレンズ位置制御部を有し、前記受光素
子位置調整部は、前記撮像カメラで撮像した前記受光素
子データを元に位置調整を行う受光素子位置制御部を有
し、前記半導体レーザ位置・姿勢調整部は、前記半導体
レーザの射出光を前記コリメータレンズと前記結像レン
ズを介して前記撮像カメラで撮像したデータを元に位置
調整を行い、前記光量重心測定手段で測定したデータを
元に姿勢調整を行う半導体レーザ位置・姿勢制御部を有
することを特徴とする請求項4記載のレーザダイオード
ユニットの製造装置。
5. A collimator lens position adjustment unit includes a collimator lens position control unit that performs position adjustment based on the light receiving element data imaged by the imaging camera, and the light receiving element position adjustment unit includes a light receiving element position adjustment unit. A light-receiving element position control unit that performs position adjustment based on the imaged light-receiving element data, wherein the semiconductor laser position / posture adjustment unit outputs the emission light of the semiconductor laser through the collimator lens and the imaging lens. 5. The apparatus according to claim 4, further comprising a semiconductor laser position / posture control unit that performs position adjustment based on data captured by the imaging camera, and performs attitude adjustment based on the data measured by the light quantity centroid measurement unit. Equipment for manufacturing laser diode units.
【請求項6】 光量重心測定手段は、前記コリメータレ
ンズで平行光化された光をこの光量重心測定手段に集光
する集光レンズを有したことを特徴とする請求項4、5
のいずれかに記載のレーザダイオードユニットの製造装
置。
6. The light quantity centroid measuring means has a condensing lens for condensing the light collimated by the collimator lens to the light quantity centroid measuring means.
An apparatus for manufacturing a laser diode unit according to any one of the above.
【請求項7】 半導体レーザ位置・姿勢調整部は、前記
半導体レーザの射出光を前記コリメータレンズで平行光
化させた光を反射させるくさび型基板と、このくさび型
基板の表面側と裏面側で反射する光の干渉を測定する光
干渉測定手段とを有し、この光干渉測定手段で測定した
データを元に、前記半導体レーザの光軸方向の位置調整
を行うことを特徴とする請求項5、6のいずれかに記載
のレーザダイオードユニットの製造装置。
7. A wedge-shaped substrate that reflects light emitted from the semiconductor laser and made collimated by the collimator lens, and a wedge-shaped substrate having a front surface and a back surface. 6. An optical interference measuring means for measuring interference of reflected light, wherein the position of the semiconductor laser in the optical axis direction is adjusted based on data measured by the optical interference measuring means. 7. The apparatus for manufacturing a laser diode unit according to any one of claims 1 to 6.
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