JP2002107852A - Radiographic image conversion panel and radiographic image information reading method - Google Patents

Radiographic image conversion panel and radiographic image information reading method

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JP2002107852A
JP2002107852A JP2000299003A JP2000299003A JP2002107852A JP 2002107852 A JP2002107852 A JP 2002107852A JP 2000299003 A JP2000299003 A JP 2000299003A JP 2000299003 A JP2000299003 A JP 2000299003A JP 2002107852 A JP2002107852 A JP 2002107852A
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Japan
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radiation image
panel
phosphor layer
image conversion
conversion panel
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JP2000299003A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Isoda
勇治 礒田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiographic image conversion panel which is superior damp-proof and generates radiation image of high image quality and a radiation image information reading method. SOLUTION: This radiation image conversion panel has a base, a phosphor layer which is formed by vapor-phase deposition, and a protective layer. Here, the base is formed in the shape of a frame body, having a projection part at its peripheral edge part, and the phosphor layer is formed inside the frame body; and the projection layer is jointed with at least the projection part and the phosphor layer is held airtight and shielded from the outside atmosphere. Furthermore, the radiation image information reading method uses combination of the radiation image conversion panel and a line sensor.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体の輝
尽発光を利用する放射線像記録再生方法に用いられる放
射線像変換パネルおよび放射線画像情報読取方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation image conversion panel and a radiation image information reading method used in a radiation image recording / reproducing method using stimulable light emission of a stimulable phosphor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法が知ら
れている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線
像変換パネル(蓄積性蛍光体シート)を利用するもの
で、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた
放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に
輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波(励起
光)で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光
光)として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電
気信号を得て、得られた電気信号に基づいて被写体ある
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。読み取りを終えた該パネルは、残存する画像の消
去が行われた後、次の撮影のために備えられる。すなわ
ち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。
2. Description of the Related Art A radiation image recording / reproducing method using a stimulable phosphor is known as an alternative to the conventional radiographic method. This method uses a radiation image conversion panel (a stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and transmits radiation transmitted through a subject or emitted from a subject to the stimulable phosphor of the panel. The radiation energy stored in the stimulable phosphor is absorbed by the body in a time-series manner by exciting the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared rays. The fluorescent light is emitted as (stimulated emission light), the fluorescence is read photoelectrically to obtain an electric signal, and a radiation image of a subject or a subject is reproduced as a visible image based on the obtained electric signal. After the reading, the panel is prepared for the next photographing after the remaining image is erased. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.

【0003】放射線像記録再生方法に用いられる放射線
像変換パネルは、基本構造として、支持体と輝尽性蛍光
体層とからなるものである。ただし、輝尽性蛍光体層が
自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としな
い。また、輝尽性蛍光体層の上面(支持体に面していな
い側の面)には通常、保護層が設けられていて、蛍光体
層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護してい
る。
The radiation image conversion panel used in the radiation image recording / reproducing method has, as a basic structure, a support and a stimulable phosphor layer. However, when the stimulable phosphor layer is self-supporting, a support is not necessarily required. Also, a protective layer is usually provided on the upper surface of the stimulable phosphor layer (the side not facing the support) to protect the phosphor layer from chemical alteration or physical impact. ing.

【0004】輝尽性蛍光体層は、通常は輝尽性蛍光体と
これを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。ただ
し、輝尽性蛍光体層としては、蒸着法や焼結法によって
形成される結合剤を含まないで輝尽性蛍光体の凝集体の
みから構成されるものや、輝尽性蛍光体の凝集体の間隙
に高分子物質が含浸されているものも知られている。こ
れらのいずれの蛍光体層でも、輝尽性蛍光体はX線等の
放射線を吸収した後、励起光の照射を受けると輝尽発光
を示す性質を有するものであるから、被写体を透過した
或は被検体から発せられた放射線は、その放射線量に比
例して放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収さ
れ、パネルには被写体或は被検体の放射線画像が放射線
エネルギーの蓄積像(潜像)として形成される。この蓄
積像は、上記励起光を照射することにより輝尽発光光と
して放出させることができ、この輝尽発光光を光電的に
読み取って電気信号に変換することにより、放射線エネ
ルギーの蓄積像を画像化することが可能となる。
The stimulable phosphor layer usually comprises a stimulable phosphor and a binder containing and supporting the stimulable phosphor in a dispersed state. However, the stimulable phosphor layer may be composed of only an aggregate of the stimulable phosphor without a binder formed by a vapor deposition method or a sintering method, or may be formed of a stimulable phosphor. It is also known that a polymer substance is impregnated in the gap of the aggregate. In any of these phosphor layers, the stimulable phosphor has a property of exhibiting stimulable emission when irradiated with excitation light after absorbing radiation such as X-rays. The radiation emitted from the subject is absorbed in the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel in proportion to the amount of the radiation, and the radiation image of the subject or the subject is stored in the panel as an accumulated image of radiation energy ( (Latent image). This accumulated image can be emitted as stimulated emission light by irradiating the excitation light, and the accumulated image of radiation energy is imaged by photoelectrically reading the stimulated emission light and converting it into an electric signal. Can be realized.

【0005】輝尽発光光として放出される放射線画像情
報を読み取る方法としては、励起光の走査によって画素
分割を行い、広い受光面を有する光電子増倍管や光導電
素子などの受光素子によって輝尽発光光を検出する方法
が知られている。その後、この方法に伴う装置の複雑
化、大型化および長い処理時間といった問題を解消する
ために、画素分割を二次元固体撮像素子や半導体ライン
センサなどの受光素子により行い、電気回路によって時
系列画像信号を形成する方法が提案されている。例えば
特公平5−32945号公報には、蛍光灯等から発せら
れた光をスリットを通して放射線像変換パネルに照射す
ることにより励起光を線状に照射し(いわゆる「ライン
励起」)、そしてパネルから放出される輝尽発光光を励
起光照射部分に対向して配置された多数の固体光電変換
素子からなるラインセンサにより検出する(いわゆる
「ライン検出」)ための装置が記載されている。この装
置によれば、高速で読み取ることが可能となり、画像信
号のS/N比が改善され、さらには読取装置の製造、取
扱いを簡便化、低コスト化することができる。
As a method of reading radiation image information emitted as stimulating light, pixel division is performed by scanning with excitation light, and stimulating is performed by a light receiving element such as a photomultiplier tube or a photoconductive element having a wide light receiving surface. Methods for detecting emitted light are known. Then, in order to solve the problems such as the complicated and large-sized device and the long processing time associated with this method, pixel division is performed by a light-receiving element such as a two-dimensional solid-state imaging device or a semiconductor line sensor, and a time-series image is formed by an electric circuit. A method for forming a signal has been proposed. For example, Japanese Patent Publication No. 5-32945 discloses that a radiation image conversion panel is irradiated with light emitted from a fluorescent lamp or the like through a slit to irradiate excitation light in a linear manner (so-called “line excitation”). An apparatus for detecting emitted stimulating light by a line sensor including a large number of solid-state photoelectric conversion elements arranged opposite to an excitation light irradiation portion (so-called “line detection”) is described. According to this apparatus, reading can be performed at high speed, the S / N ratio of the image signal is improved, and the manufacturing and handling of the reading apparatus can be simplified and the cost can be reduced.

【0006】また、上記放射線像記録再生方法の別法と
して本出願人による特願平11−372978号明細書
には、輝尽性蛍光体を含有する蓄積性蛍光体層(および
放射線吸収性蛍光体層)を有する放射線像変換パネル
と、放射線を吸収して紫外乃至可視領域に発光を示す蛍
光体を含有する放射線吸収性蛍光体層を有する蛍光スク
リーンとの組合せを用いる放射線画像形成方法、並びに
それらの組合せからなる放射線画像形成材料が記載され
ている。この方法は、被検体を透過した、被検体により
回折または散乱された、もしくは被検体から放射された
放射線をまず、蛍光スクリーンまたは放射線像変換パネ
ルの放射線吸収性蛍光体層にて紫外乃至可視領域の光に
変換した後、その光をパネルの蓄積性蛍光体層にて潜像
として蓄積記録する。次いで、このパネルに励起光を照
射して蓄積性蛍光体層からの輝尽発光光を光電的に読み
取って画像信号に変換し、そして画像信号より放射線の
空間的エネルギー分布に対応した画像を再構成するもの
である。本発明の放射線像変換パネルには、上記方法に
用いられるような画像形成材料、すなわち輝尽性蛍光体
と放射線を吸収して紫外乃至可視領域に発光を示す蛍光
体の両方を含有するパネル、および蛍光スクリーンも包
含される。
As another method of the above-mentioned radiation image recording / reproducing method, Japanese Patent Application No. 11-372978 by the present applicant discloses a stimulable phosphor-containing stimulable phosphor layer (and a radiation-absorbing phosphor layer). A radiation image forming method using a combination of a radiation image conversion panel having a body layer) and a phosphor screen having a radiation absorbing phosphor layer containing a phosphor that absorbs radiation and emits light in the ultraviolet to visible region, and Radiation imaging materials comprising combinations thereof are described. In this method, radiation transmitted through a subject, diffracted or scattered by the subject, or emitted from the subject is first applied to a fluorescent screen or a radiation absorbing phosphor layer of a radiation image conversion panel in an ultraviolet to visible region. After that, the light is accumulated and recorded as a latent image in the stimulable phosphor layer of the panel. Next, the panel is irradiated with excitation light to photoelectrically read the stimulated emission light from the stimulable phosphor layer to convert it into an image signal, and reconstruct an image corresponding to the spatial energy distribution of radiation from the image signal. Make up. The radiation image conversion panel of the present invention, the image forming material used in the above method, that is, a panel containing both a stimulable phosphor and a phosphor that absorbs radiation and emits light in the ultraviolet to visible region, And fluorescent screens.

【0007】放射線像記録再生方法(および放射線画像
形成方法)は上述したように数々の優れた利点を有する
方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネ
ルにあっても、できる限り高感度であってかつ画質(鮮
鋭度、粒状性など)の良好な画像を与えるものであるこ
とが望まれている。
The radiation image recording / reproducing method (and the radiation image forming method) has many excellent advantages as described above, but the radiation image conversion panel used in this method has as high a sensitivity as possible. It is desired to provide an image with good image quality (sharpness, granularity, etc.).

【0008】感度および画質を高めることを目的とし
て、例えば特開昭62−47600号公報に記載されて
いるように、放射線像変換パネルの製造方法として、輝
尽性蛍光体層を気相堆積法の一種である電子線蒸着法に
より形成する方法が提案されている。この方法は、蒸着
源として輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体の原料を用い
て、蒸着源に電子銃で電子線を照射して蒸発源を蒸発、
飛散させ、支持体表面にその蒸発物を堆積させることに
より、輝尽性蛍光体の柱状結晶からなる層を形成するも
のである。電子線蒸着法などの気相堆積法により形成さ
れた蛍光体層は、結合剤を含有せず、輝尽性蛍光体のみ
からなり、輝尽性蛍光体の柱状結晶と柱状結晶の間には
空隙(クラック)が存在する。このため、励起光の進入
効率や発光光の取出し効率を高めることができ、高感度
であって、高鮮鋭度の画像を得ることができる。
For the purpose of improving sensitivity and image quality, as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-47600, as a method for manufacturing a radiation image conversion panel, a stimulable phosphor layer is formed by a vapor deposition method. A method of forming by an electron beam evaporation method, which is one of the methods, has been proposed. This method uses a stimulable phosphor or a raw material of a stimulable phosphor as an evaporation source, and irradiates an electron beam with an electron gun to the evaporation source to evaporate the evaporation source.
By scattering and depositing the evaporated substance on the surface of the support, a layer composed of columnar crystals of the stimulable phosphor is formed. The phosphor layer formed by a vapor deposition method such as an electron beam evaporation method does not contain a binder, and is composed of only a stimulable phosphor, and between the columnar crystals of the stimulable phosphor. There are voids (cracks). For this reason, the entrance efficiency of the excitation light and the extraction efficiency of the emission light can be improved, and an image with high sensitivity and high sharpness can be obtained.

【0009】しかしながら、一般に気相堆積法により形
成された蛍光体層では蛍光体が樹脂などの結合剤で覆わ
れていないので吸湿し易く、パネルを長期間に渡って繰
り返し使用あるいは保存しているうちに蛍光体の発光特
性が変化(劣化)したり、吸湿が著しい場合には蛍光体
自体が潮解してしまうことがある。よって、蛍光体の吸
湿をできる限り防ぐことが望まれている。
However, in general, a phosphor layer formed by a vapor deposition method is not easily covered with a binder such as a resin, so that it is easy to absorb moisture, and the panel is repeatedly used or stored for a long period of time. During this time, the emission characteristics of the phosphor may change (deteriorate), or if the moisture absorption is significant, the phosphor itself may deliquesce. Therefore, it is desired to prevent the phosphor from absorbing moisture as much as possible.

【0010】例えば実開昭62−173100号公報に
は、蛍光体層の耐湿性を高める目的で、輝尽性蛍光体層
を支持体および保護層よりも内側に形成し、保護層を接
着剤を用いて蛍光体層および支持体に接着することによ
り、蛍光体層の全表面を支持体と保護層とで覆った放射
線像変換パネルが記載されている。また、支持体と保護
層との間に蛍光体層の側面を覆うようにスペーサーを設
けることも提案されている。
For example, Japanese Utility Model Application Laid-Open No. Sho 62-173100 discloses that a stimulable phosphor layer is formed on the inner side of a support and a protective layer, and the protective layer is formed of an adhesive in order to increase the moisture resistance of the phosphor layer. Describes a radiation image conversion panel in which the entire surface of the phosphor layer is covered with a support and a protective layer by adhering to the phosphor layer and the support using the above method. It has also been proposed to provide a spacer between the support and the protective layer so as to cover the side surface of the phosphor layer.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、耐湿
性に優れ、高画質の放射線画像を与える放射線像変換パ
ネルを提供することにある。また本発明は、高速で、高
画質の放射線画像が得られる放射線画像情報読取方法を
提供することにもある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel which is excellent in moisture resistance and gives a high quality radiation image. Another object of the present invention is to provide a radiation image information reading method capable of obtaining a high-quality radiation image at high speed.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、気相堆積法
により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネル
の耐湿性について検討した結果、支持体の形状を周縁部
に凸部を有する枠体とし、保護層をその枠上部に接合し
て蛍光体層を封じ込めることにより、パネルの耐湿性が
顕著に高められることを見い出した。
The present inventor studied the moisture resistance of a radiation image conversion panel having a phosphor layer formed by a vapor deposition method, and found that the shape of the support was changed to a convex at the periphery. It has been found that the moisture resistance of the panel can be remarkably enhanced by forming a frame having the protective layer bonded to the upper portion of the frame and sealing the phosphor layer.

【0013】従って、支持体、気相堆積法により形成さ
れた蛍光体層、および保護層をこの順に有する放射線像
変換パネルにおいて、支持体が周縁部に凸部を有する枠
体の形状を有し、蛍光体層が該枠体の内側に形成され、
そして保護層が少なくとも該凸部に接合されて、蛍光体
層を外部雰囲気から遮蔽して気密状態としているいるこ
とを特徴とする放射線像変換パネルにある。
Accordingly, in a radiation image conversion panel having a support, a phosphor layer formed by a vapor deposition method, and a protective layer in this order, the support has a shape of a frame having a convex portion at a peripheral edge. A phosphor layer is formed inside the frame,
The radiation image conversion panel is characterized in that a protective layer is bonded to at least the projections to shield the phosphor layer from an external atmosphere and to keep the phosphor layer airtight.

【0014】また、本発明は、放射線画像情報が蓄積記
録されている上記放射線像変換パネルを、その平面方向
に移動させながら、該パネルに励起光を該移動方向と異
なる方向に線状に照射し、該パネルの励起光照射部分か
ら放出される輝尽発光光を、多数の固体光電変換素子を
線状に配置してなるラインセンサを用いて一次元的に受
光して光電変換を行い、そして該ラインセンサからの出
力を該パネルの移動に応じて順次読み取って、放射線画
像情報を電気的画像信号として得ることからなる放射線
画像情報読取方法にもある。
Further, according to the present invention, while the radiation image conversion panel in which the radiation image information is stored is moved in the plane direction, the panel is irradiated with excitation light linearly in a direction different from the moving direction. Then, the stimulated emission light emitted from the excitation light irradiation portion of the panel is one-dimensionally received and photoelectrically converted using a line sensor in which a number of solid-state photoelectric conversion elements are linearly arranged, There is also a radiation image information reading method that sequentially reads the output from the line sensor according to the movement of the panel and obtains radiation image information as an electric image signal.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の放射線像変換パ
ネルの好ましい態様を挙げる。 (1)支持体が石英または金属からなる放射線像変換パ
ネル。 (2)保護層がガラスからなる放射線像変換パネル。 (3)蛍光体層が輝尽性蛍光体からなる放射線像変換パ
ネル。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the radiation image storage panel of the present invention will be described below. (1) A radiation image conversion panel whose support is made of quartz or metal. (2) A radiation image conversion panel in which the protective layer is made of glass. (3) A radiation image conversion panel in which the phosphor layer is made of a stimulable phosphor.

【0016】本発明の放射線像変換パネルの構成を添付
図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の放射線
像変換パネルの構成の例を示す概略断面図である。
The configuration of the radiation image conversion panel of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the configuration of the radiation image conversion panel of the present invention.

【0017】図1において、放射線像変換パネル10
は、下から順に、支持体1、蛍光体層2、および保護層
3から構成される。支持体1はその周縁部に凸部(枠)
4を有し、保護層3は蛍光体層2と凸部4の上に密着状
態で設けられている。よって、蛍光体層2は支持体1と
保護層3との間に封じ込められ、外部雰囲気から遮蔽さ
れている。
In FIG. 1, a radiation image conversion panel 10
Is composed of a support 1, a phosphor layer 2, and a protective layer 3 in this order from the bottom. The support 1 has a protrusion (frame) on its peripheral edge.
4, and the protective layer 3 is provided on the phosphor layer 2 and the protrusions 4 in close contact with each other. Therefore, the phosphor layer 2 is sealed between the support 1 and the protective layer 3 and is shielded from an external atmosphere.

【0018】図2の(1)は、本発明に係る支持体を示
す概略上面図であり、図2の(2)は、(1)のI−I
線に沿った断面図である。図2の(1)および(2)に
おいて、支持体1の周縁部には一定の幅および高さで凸
部(枠)4が設けられている。枠4の幅a、c、d、f
はそれぞれ、放射線像変換パネルに要求される耐湿性、
剛性、読み取り時の搬送方法および枠材料などによって
決まるが、一般には1〜100mmの範囲にあり、好ま
しくは10〜30mmの範囲にある。支持体1の内側の
横bおよび縦eの長さは、パネルに要求される画像領域
によって決まるが、実際には画像領域より広い領域が必
要であり、通常は縦、横それぞれ1.1倍以上(例え
ば、1.2倍)である。よって、横bおよび縦eの長さ
はそれぞれ、一般には10〜100cmの範囲にある。
枠4の高さgは、蛍光体層の層厚に対応するので蛍光体
層の放射線吸収率によって決まるが、一般には50〜1
000μmの範囲にあり、好ましくは200μm〜70
0mmの範囲にある。支持体の中央部の厚みhは、パネ
ルに要求される剛性、耐湿性および支持体材料などによ
って決まるが、一般には0.1〜10mmの範囲にあ
り、好ましくは0.5〜5mmの範囲にある。
FIG. 2A is a schematic top view showing a support according to the present invention, and FIG. 2B is a sectional view taken on line II of FIG.
It is sectional drawing along the line. In (1) and (2) of FIG. 2, a convex portion (frame) 4 having a constant width and height is provided on a peripheral portion of the support 1. Width a, c, d, f of frame 4
Are the moisture resistance required for the radiation image conversion panel,
It depends on the rigidity, the conveyance method at the time of reading, the frame material, etc., but is generally in the range of 1 to 100 mm, preferably in the range of 10 to 30 mm. The length of the horizontal b and the vertical e inside the support 1 is determined by the image area required for the panel. However, in practice, an area larger than the image area is required. This is the above (for example, 1.2 times). Therefore, the lengths of the horizontal b and the vertical e are generally in the range of 10 to 100 cm.
The height g of the frame 4 is determined by the radiation absorptivity of the phosphor layer since it corresponds to the thickness of the phosphor layer.
000 μm, preferably 200 μm to 70 μm.
It is in the range of 0 mm. The thickness h of the central portion of the support is determined by the rigidity, moisture resistance and support material required for the panel, but is generally in the range of 0.1 to 10 mm, preferably in the range of 0.5 to 5 mm. is there.

【0019】次に、本発明の放射線像変換パネルを製造
する方法について、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層を有
する場合を例にとって詳細に述べる。上述したような枠
体形状を有する支持体の材料としては、従来の放射線像
変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶこ
とができるが、気相堆積法により蛍光体層を形成する際
の基板となることおよび耐湿性を考慮して、石英、アル
ミニウムなどの金属またはセラミックを用いることが好
ましい。支持体の枠部分は、支持体材料と異なる材料で
形成されていてもよいが、強度や耐湿性などの点から同
一材料であることが好ましい。支持体は、上記材料を成
形加工することにより始めから一体化して作製してもよ
いし、あるいは上記材料をシート状に加工した後、これ
に枠部分を貼合せ、蒸着、塗布などにより設けてもよ
い。支持体材料は、支持体側から二次励起光を照射する
場合、あるいは輝尽発光光を検出する場合は、各々の光
を透過する材料(例えば石英ガラス)が好ましい。
Next, the method for producing the radiation image storage panel of the present invention will be described in detail by taking as an example a case where a phosphor layer comprising a stimulable phosphor is provided. The material of the support having the frame shape as described above can be arbitrarily selected from the materials known as the support of the conventional radiation image conversion panel, but when forming the phosphor layer by the vapor deposition method. It is preferable to use a metal such as quartz or aluminum or a ceramic in consideration of the substrate and the moisture resistance. The frame portion of the support may be formed of a material different from the material of the support, but is preferably made of the same material in terms of strength and moisture resistance. The support may be integrally formed from the beginning by molding the above material, or after the above material is processed into a sheet, a frame portion is attached thereto, provided by vapor deposition, coating, or the like. Is also good. When irradiating secondary excitation light from the support side or detecting stimulated emission light, the support material is preferably a material that transmits each light (for example, quartz glass).

【0020】公知の放射線像変換パネルにおいて、パネ
ルとしての感度もしくは画質(鮮鋭度、粒状性)を向上
させるために、二酸化チタンなどの光反射性物質からな
る光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性
物質からなる光吸収層などを設けることが知られてい
る。本発明で用いられる支持体についても、枠の内側に
これらの各種の層を設けることができ、それらの構成は
所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任
意に選択することができる。さらに特開昭58−200
200号公報に記載されているように、得られる画像の
鮮鋭度を向上させる目的で、支持体の枠内部表面(枠内
部表面に下塗層(接着性付与層)、光反射層あるいは光
吸収層などの補助層が設けられている場合には、それら
の補助層の表面であってもよい)には微小な凹凸が形成
されていてもよい。
In a known radiation image conversion panel, in order to improve the sensitivity or image quality (sharpness, granularity) of the panel, a light reflecting layer made of a light reflecting material such as titanium dioxide, or a light reflecting material such as carbon black. It is known to provide a light absorbing layer or the like made of an absorbing substance. Also for the support used in the present invention, these various layers can be provided inside the frame, and the configuration thereof can be arbitrarily selected according to the purpose, use, etc. of the desired radiation image conversion panel. . Further, JP-A-58-200
As described in JP-A-200, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image, the inner surface of the frame of the support (an undercoat layer (adhesion-imparting layer) on the inner surface of the frame, a light reflecting layer or a light absorbing layer) When an auxiliary layer such as a layer is provided, the surface of the auxiliary layer may be provided).

【0021】この支持体の枠内には気相堆積法により蛍
光体層が設けられる。輝尽性蛍光体としては、波長が4
00〜900nmの範囲の励起光の照射により、300
〜500nmの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体
が好ましい。そのような輝尽性蛍光体の例は、特公平7
−84588号、特開平2−193100号および特開
平4−310900号の各公報に詳しく記載されてい
る。
A phosphor layer is provided in the frame of the support by a vapor deposition method. As a stimulable phosphor, the wavelength is 4
Irradiation of excitation light in the range of 00 to 900 nm results in 300
A stimulable phosphor that emits stimulable light in the wavelength range of from 500 nm to 500 nm is preferred. An example of such a stimulable phosphor is described in
No. 84588, JP-A-2-193100 and JP-A-4-310900.

【0022】これらのうちでも、基本組成式(I): MIX・aMIIX’2・bMIIIX”3:zA ‥‥(I) で代表されるアルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体
は特に好ましい。ただし、MIはLi、Na、K、Rb
及びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアル
カリ金属を表し、MIIはBe、Mg、Ca、Sr、B
a、Ni、Cu、Zn及びCdからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属又は二価金属を表
し、MIIIはSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、P
m、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群より選
ばれる少なくとも一種の希土類元素又は三価金属を表
し、そしてAはY、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、N
a、Mg、Cu、Ag、Tl及びBiからなる群より選
ばれる少なくとも一種の希土類元素又は金属を表す。
X、X’およびX”はそれぞれ、F、Cl、Br及びI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表
す。a、bおよびzはそれぞれ、0≦a<0.5、0≦
b<0.5、0≦z<0.2の範囲内の数値を表す。
[0022] Among these, the basic formula (I): M I X · aM II X '2 · bM III X "3: zA ‥‥ alkali metal halide stimulable phosphor represented by (I) Is particularly preferred, provided that M I is Li, Na, K, Rb
And represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Cs, M II is Be, Mg, Ca, Sr, B
a, at least one kind of alkaline earth metal or divalent metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Zn and Cd, and M III is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, P
m, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, T
m represents at least one rare earth element or trivalent metal selected from the group consisting of Lu, Al, Ga and In, and A represents Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, G
d, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, N
a, at least one rare earth element or metal selected from the group consisting of Mg, Cu, Ag, Tl and Bi.
X, X ′ and X ″ are F, Cl, Br and I, respectively.
Represents at least one halogen selected from the group consisting of a, b and z are respectively 0 ≦ a <0.5, 0 ≦
b <0.5, 0 ≦ z <0.2.

【0023】上記基本組成式(I)中のMIとしては少
なくともCsを含んでいることが好ましい。Xとしては
少なくともBrを含んでいることが好ましい。Aとして
は特にEu又はBiであることが好ましい。また、基本
組成式(I)には、必要に応じて、酸化アルミニウム、
二酸化珪素、酸化ジルコニウムなどの金属酸化物を添加
物として、MI1モルに対して、0.5モル以下の量で
加えてもよい。
It is preferable that M I in the above basic composition formula (I) contains at least Cs. It is preferable that X contains at least Br. A is particularly preferably Eu or Bi. In addition, the basic composition formula (I) includes, if necessary, aluminum oxide,
A metal oxide such as silicon dioxide or zirconium oxide may be added as an additive in an amount of 0.5 mol or less based on 1 mol of M I.

【0024】また、基本組成式(II): MIIFX:zLn ‥‥(II) で代表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン
化物系輝尽性蛍光体も好ましい。ただし、MIIはBa、
Sr及びCaからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ土類金属を表し、LnはCe、Pr、Sm、E
u、Tb、Dy、Ho、Nd、Er、Tm及びYbから
なる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表
す。Xは、Cl、Br及びIからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンを表す。zは、0<z≦0.2
の範囲内の数値を表す。
Further, a rare earth-activated alkaline earth metal fluorinated halide stimulable phosphor represented by the basic composition formula (II): M II FX: zLn ‥‥ (II) is also preferable. However, M II is Ba,
Ln represents at least one kind of alkaline earth metal selected from the group consisting of Sr and Ca, and Ln represents Ce, Pr, Sm, E
represents at least one rare earth element selected from the group consisting of u, Tb, Dy, Ho, Nd, Er, Tm and Yb. X represents at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I. z is 0 <z ≦ 0.2
Represents a numerical value within the range.

【0025】上記基本組成式(II)中のMIIとしては、
Baが半分以上を占めることが好ましい。Lnとして
は、特にEu又はCeであることが好ましい。また、基
本組成式(II)では表記上F:X=1:1のように見え
るが、これはBaFX型の結晶構造を持つことを示すも
のであり、最終的な組成物の化学量論的組成を示すもの
ではない。一般に、BaFX結晶においてX-イオンの
空格子点であるF+(X-)中心が多く生成された状態
が、600〜700nmの光に対する輝尽効率を高める
上で好ましい。このとき、FはXよりもやや過剰にある
ことが多い。
In the above basic composition formula (II), M II represents
Ba preferably accounts for more than half. Ln is particularly preferably Eu or Ce. In addition, in the basic composition formula (II), F: X = 1: 1 appears in the notation, which indicates that it has a BaFX type crystal structure, and the stoichiometry of the final composition It does not indicate the composition. In general, a state in which many F + (X ) centers, which are vacancies of X ions, are generated in the BaFX crystal is preferable from the viewpoint of increasing the photostimulation efficiency with respect to light of 600 to 700 nm. At this time, F is often slightly more than X.

【0026】なお、基本組成式(II)では省略されてい
るが、必要に応じて下記のような添加物を一種もしくは
二種以上を基本組成式(II)に加えてもよい。 bA, wNI, xNII, yNIII ただし、AはAl23、SiO2及びZrO2などの金属
酸化物を表す。MIIFX粒子同士の焼結を防止する上で
は、一次粒子の平均粒径が0.1μm以下の超微粒子で
IIFXとの反応性が低いものを用いることが好まし
い。NIは、Li、Na、K、Rb及びCsからなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を
表し、NIIは、Mg及び/又はBeからなるアルカリ土
類金属の化合物を表し、NIIIは、Al、Ga、In、
Tl、Sc、Y、La、Gd及びLuからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属の化合物を表す。これ
らの金属化合物としては、特開昭59−75200号公
報に記載のようなハロゲン化物を用いることが好ましい
が、それらに限定されるものではない。
Although omitted in the basic composition formula (II), one or more of the following additives may be added to the basic composition formula (II) as necessary. bA, wN I , xN II , yN III where A represents a metal oxide such as Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2 . In preventing sintering between M II FX particles, it is preferable to use an average particle size of the primary particles has low reactivity with M II FX in the following ultrafine particles 0.1 [mu] m. N I represents at least one kind of alkali metal compound selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; N II represents an alkaline earth metal compound consisting of Mg and / or Be; III is Al, Ga, In,
It represents a compound of at least one trivalent metal selected from the group consisting of Tl, Sc, Y, La, Gd and Lu. As these metal compounds, it is preferable to use halides as described in JP-A-59-75200, but it is not limited thereto.

【0027】また、b、w、x及びyはそれぞれ、MII
FXのモル数を1としたときの仕込み添加量であり、0
≦b≦0.5、0≦w≦2、0≦x≦0.3、0≦y≦
0.3の各範囲内の数値を表す。これらの数値は、焼成
やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関しては
最終的な組成物に含まれる元素比を表しているわけでは
ない。また、上記化合物には最終的な組成物において添
加されたままの化合物として残留するものもあれば、M
IIFXと反応する、あるいは取り込まれてしまうものも
ある。
B, w, x and y are each M II
This is the charged addition amount when the number of moles of FX is 1, and 0
≦ b ≦ 0.5, 0 ≦ w ≦ 2, 0 ≦ x ≦ 0.3, 0 ≦ y ≦
Represents a numerical value within each range of 0.3. These figures do not represent the element ratios contained in the final composition for additives that are reduced by baking or subsequent cleaning. Some of the above compounds may remain as added in the final composition.
Some react with II FX or are incorporated.

【0028】その他、上記基本組成式(II)には更に必
要に応じて、特開昭55−12145号公報に記載のZ
n及びCd化合物;特開昭55−160078号公報に
記載の金属酸化物であるTiO2、BeO、MgO、C
aO、SrO、BaO、ZnO、Y23、La23、I
23、GeO2、SnO2、Nb25、Ta25、Th
2;特開昭56−116777号公報に記載のZr及
びSc化合物;特開昭57−23673号公報に記載の
B化合物;特開昭57−23675号公報に記載のAs
及びSi化合物;特開昭59−27980号公報に記載
のテトラフルオロホウ酸化合物;特開昭59−4728
9号公報に記載のヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオ
ロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の1価
もしくは2価の塩からなるヘキサフルオロ化合物;特開
昭59−56480号公報に記載のV、Cr、Mn、F
e、Co及びNiなどの遷移金属の化合物などを添加し
てもよい。さらに、本発明においては上述した添加物を
含む蛍光体に限らず、基本的に希土類付活アルカリ土類
金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成
を有するものであれば如何なるものであってもよい。
In addition, if necessary, the basic composition formula (II) may further include, as necessary, Z Z described in JP-A-55-12145.
n and Cd compounds; TiO 2 , BeO, MgO, C which are metal oxides described in JP-A-55-160078.
aO, SrO, BaO, ZnO, Y 2 O 3, La 2 O 3, I
n 2 O 3 , GeO 2 , SnO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , Th
O 2 ; Zr and Sc compounds described in JP-A-56-116777; B compounds described in JP-A-57-23673; As described in JP-A-57-23675.
And Si compounds; tetrafluoroboric acid compounds described in JP-A-59-27980; JP-A-59-4728.
No. 9, hexafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid, and hexafluorozirconic acid, a hexafluoro compound comprising a monovalent or divalent salt of hexafluorozirconic acid; V, Cr, Mn, F
e, a compound of a transition metal such as Co and Ni, or the like may be added. Further, the present invention is not limited to the phosphor containing the above-described additive, and any phosphor having a composition which is basically regarded as a rare earth activated alkaline earth metal fluorinated halide-based stimulable phosphor can be used. It may be.

【0029】ただし、本発明において蛍光体は輝尽性蛍
光体に限定されるものではなく、X線などの放射線を吸
収して紫外乃至可視領域に(瞬時)発光を示す蛍光体で
あってもよい。そのような蛍光体の例としては、LnT
aO4:(Nb,Gd)系、Ln2SiO5:Ce系、L
nOX:Tm系(Lnは希土類元素である)、CsX系
(Xはハロゲンである)、Gd22S:Tb、Gd22
S:Pr,Ce、ZnWO4、LuAlO3:Ce、Gd
3Ga512:Cr,Ce、HfO2等を挙げることがで
きる。
However, in the present invention, the phosphor is not limited to a stimulable phosphor, but may be a phosphor that absorbs radiation such as X-rays and emits (instantaneously) light in the ultraviolet to visible region. Good. Examples of such phosphors include LnT
aO 4 : (Nb, Gd) system, Ln 2 SiO 5 : Ce system, L
nOX: Tm system (Ln is a rare earth element), CsX system (X is a halogen), Gd 2 O 2 S: Tb, Gd 2 O 2
S: Pr, Ce, ZnWO 4 , LuAlO 3 : Ce, Gd
3 Ga 5 O 12 : Cr, Ce, HfO 2 and the like.

【0030】本発明において蛍光体層は、例えば気相堆
積法の一種である電子線蒸着法により、以下のようにし
て支持体上に形成することができる。電子線蒸着法で
は、形状が良好で配列の整った柱状結晶が得られると同
時に、蒸着源を局所的に加熱して瞬時に蒸発させるの
で、蒸着源のうち蒸気圧の高い物質が優先的に蒸発して
(例えば、付活剤が蛍光体母体よりも先行して蒸発す
る)、蒸発源として仕込んだ蛍光体の組成と形成された
蛍光体層中の蛍光体の組成とが不一致となるようなこと
が殆どない。
In the present invention, the phosphor layer can be formed on a support by, for example, an electron beam evaporation method, which is a kind of vapor deposition method, as follows. In the electron beam evaporation method, a columnar crystal having a good shape and a well-aligned array is obtained, and at the same time, the evaporation source is locally heated and evaporated instantaneously. After evaporation (for example, the activator evaporates before the phosphor matrix), the composition of the phosphor charged as the evaporation source does not match the composition of the phosphor in the formed phosphor layer. There is almost nothing.

【0031】まず、蒸発源である輝尽性蛍光体、および
被蒸着物である基板を蒸着装置内に設置し、装置内を排
気して3×10-7〜3×10-4Pa程度の真空度とす
る。このとき、真空度をこの程度に保持しながら、Ar
ガス、Neガスなどの不活性ガスを導入してもよい。
First, a stimulable phosphor as an evaporation source and a substrate as an object to be deposited are placed in a deposition apparatus, and the inside of the apparatus is evacuated to about 3 × 10 −7 to 3 × 10 −4 Pa. Degree of vacuum. At this time, while maintaining the degree of vacuum at this level, Ar
An inert gas such as a gas or a Ne gas may be introduced.

【0032】輝尽性蛍光体は、加圧圧縮により錠剤(ペ
レット)の形状に加工しておくことが好ましい。加圧圧
縮は、一般に800〜1000kg/cm2の範囲の圧
力を掛けて行う。圧縮の際に、50〜200℃の範囲の
温度に加温してもよく、また圧縮後、得られた錠剤に脱
ガス処理を施してもよい。これにより、蒸発源の相対密
度を高めることができる。蒸発源の相対密度が低いと、
蛍光体が均一に蒸発しないで蒸着膜の膜厚が不均一とな
ったり、突沸物が基板に付着したり、更には蛍光体自体
が不均一に蒸発して蒸着膜中に蛍光体の付活剤や添加物
が偏析したりする。さらに、輝尽性蛍光体の代わりにそ
の原料もしくは原料混合物を用いることも可能である。
It is preferable that the stimulable phosphor is processed into a tablet (pellet) shape by pressure compression. The compression under pressure is generally performed by applying a pressure in the range of 800 to 1000 kg / cm 2 . During compression, the tablet may be heated to a temperature in the range of 50 to 200 ° C., and after compression, the resulting tablet may be subjected to a degassing treatment. Thereby, the relative density of the evaporation source can be increased. If the relative density of the evaporation source is low,
If the phosphor does not evaporate uniformly, the film thickness of the deposited film becomes uneven, bumps adhere to the substrate, and the phosphor itself evaporates unevenly, and the phosphor is activated in the deposited film. Agents and additives may segregate. Further, it is also possible to use the raw material or the raw material mixture instead of the stimulable phosphor.

【0033】次に、電子銃から電子線を発生させて、蒸
発源に照射する。このとき、電子線の加速電圧を1.5
kV以上で、5.0kV以下に設定することが望まし
い。加速電圧が1.5kVより低いと、電圧が不安定に
なって、電子線のビームポジションが変動してしまった
り、蒸発源の電子線による走査面の形状が変化して蒸発
面を平坦に保つことが困難となる。反対に、加速電圧が
5.0kVより高い場合には、蒸発により気相成長する
蛍光体の柱状結晶が不揃いとなる。
Next, an electron beam is generated from the electron gun and irradiated to the evaporation source. At this time, the electron beam acceleration voltage is set to 1.5
It is desirable to set the voltage to not less than kV and not more than 5.0 kV. If the acceleration voltage is lower than 1.5 kV, the voltage becomes unstable, the beam position of the electron beam fluctuates, or the shape of the scanning surface by the electron beam of the evaporation source changes to keep the evaporation surface flat. It becomes difficult. On the other hand, when the acceleration voltage is higher than 5.0 kV, the columnar crystals of the phosphor that grows in vapor phase by evaporation become uneven.

【0034】電子線の照射により、蒸発源である輝尽性
蛍光体は加熱されて蒸発、飛散し、基板表面に堆積す
る。蛍光体の堆積する速度、すなわち蒸着速度は一般に
は0.1〜1000μm/分の範囲にあり、好ましくは
1〜100μm/分の範囲にある。なお、電子線の照射
を複数回に分けて行って2層以上の蛍光体層を形成して
もよいし、あるいは複数の電子銃を用いて異なる蛍光体
を共蒸着させてもよい。また、蛍光体の原料を用いて基
板上で蛍光体を合成すると同時に蛍光体層を形成するこ
とも可能である。さらに、蒸着の際に必要に応じて被蒸
着物(基板)を冷却または加熱してもよいし、あるいは
蒸着終了後に蛍光体層を加熱処理(アニール処理)して
もよい。
The stimulable phosphor, which is an evaporation source, is heated by the irradiation of the electron beam, evaporates and scatters, and deposits on the substrate surface. The deposition rate of the phosphor, that is, the deposition rate, is generally in the range of 0.1 to 1000 μm / min, preferably in the range of 1 to 100 μm / min. The irradiation of the electron beam may be performed a plurality of times to form two or more phosphor layers, or different phosphors may be co-evaporated using a plurality of electron guns. Further, it is also possible to synthesize a phosphor on a substrate using the phosphor raw material and simultaneously form the phosphor layer. Further, the object to be deposited (substrate) may be cooled or heated as necessary during the vapor deposition, or the phosphor layer may be subjected to a heat treatment (annealing treatment) after the vapor deposition.

【0035】なお、本発明に用いられる気相堆積法は上
記の電子腺蒸着法に限定されるものではなく、抵抗加熱
法等の他の蒸着法あるいはスパッタ法など公知の各種の
方法を利用することができる。
The vapor phase deposition method used in the present invention is not limited to the above-mentioned electron gland deposition method, but employs other deposition methods such as a resistance heating method or various known methods such as a sputtering method. be able to.

【0036】このようにして、輝尽性蛍光体の柱状結晶
がほぼ厚み方向に成長した蛍光体層が得られる。蛍光体
層は、結合剤を含有せず、輝尽性蛍光体のみからなり、
輝尽性蛍光体の柱状結晶と柱状結晶の間には空隙(クラ
ック)が存在する。蛍光体層の層厚は、通常は50〜1
000μmの範囲にあり、好ましくは200μm〜70
0mmの範囲にある。なお、蛍光体層は、必ずしも上記
のように支持体上に直接蛍光体を気相成長させて形成す
る必要はなく、例えば、別に、ガラス板、金属板、プラ
スチックシートなどの基板上に蛍光体を気相成長させて
蛍光体層を形成した後、接着剤を用いるなどして支持体
上に蛍光体層を接合する方法を利用してもよいし、ある
いは保護層上に形成してもよい。
In this manner, a phosphor layer in which the columnar crystals of the stimulable phosphor have grown substantially in the thickness direction is obtained. The phosphor layer does not contain a binder and consists only of a stimulable phosphor,
Voids (cracks) exist between the columnar crystals of the stimulable phosphor. The thickness of the phosphor layer is usually 50 to 1
000 μm, preferably 200 μm to 70 μm.
It is in the range of 0 mm. Note that the phosphor layer does not necessarily need to be formed by vapor phase growth of the phosphor directly on the support as described above. For example, the phosphor layer may be separately formed on a substrate such as a glass plate, a metal plate, or a plastic sheet. After the phosphor layer is formed by vapor-phase growth, a method of bonding the phosphor layer on a support using an adhesive or the like may be used, or the phosphor layer may be formed on a protective layer. .

【0037】この蛍光体層を有する支持体上には、保護
層が設けられる。保護層としては、従来の放射線像変換
パネルの保護層として公知の材料から任意に選ぶことが
できるが、耐湿性を考慮して透明な無機質膜、特に透明
なガラスまたはセラミックを用いることが好ましい。保
護層は、このような材料を蛍光体層および支持体の枠上
に蒸着させることにより形成することができる。あるい
は、このような材料からなるシートを支持体の枠上部、
更には蛍光体層上に適当な接着剤を用いて接着すること
により設けることができる。また、保護層中には酸化マ
グネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、アルミナ等の光
散乱性微粒子、パーフルオロオレフィン樹脂粉末、シリ
コーン樹脂粉末等の滑り剤、およびポリイソシアネート
等の架橋剤など各種の添加剤が分散含有されていてもよ
い。保護層の厚みは、放射線画像のボケ防止のためには
薄い方が好ましいが、あまり薄いと透湿度が高くなるの
で好ましくない。一般に保護層の厚みは100〜100
0μmの範囲にあり、好ましくは200μm〜500μ
mの範囲にある。これにより、蛍光体層上に保護層を付
設すると同時に、支持体と保護層とで蛍光体層を封じ込
めて外部雰囲気より遮断することができる。
On the support having the phosphor layer, a protective layer is provided. The protective layer can be arbitrarily selected from known materials as a protective layer of a conventional radiation image conversion panel, but it is preferable to use a transparent inorganic film, particularly transparent glass or ceramic in consideration of moisture resistance. The protective layer can be formed by depositing such a material on the frame of the phosphor layer and the support. Alternatively, a sheet made of such a material is placed on the upper frame of the support,
Further, it can be provided by adhering on the phosphor layer using an appropriate adhesive. In the protective layer, various additives such as light scattering fine particles such as magnesium oxide, zinc oxide, titanium dioxide, and alumina, slip agents such as perfluoroolefin resin powder and silicone resin powder, and cross-linking agents such as polyisocyanate. May be dispersedly contained. The thickness of the protective layer is preferably thin in order to prevent blurring of the radiation image, but too thin is not preferred because the moisture permeability increases. Generally, the thickness of the protective layer is 100 to 100
0 μm, preferably 200 μm to 500 μm
m. Thus, the protective layer can be provided on the phosphor layer, and at the same time, the phosphor layer can be sealed by the support and the protective layer, thereby shielding the phosphor layer from the external atmosphere.

【0038】保護層の表面にはさらに、保護層の耐汚染
性を高めるためにフッ素樹脂塗布層を設けてもよい。フ
ッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解(また
は分散)させて調製したフッ素樹脂溶液を保護層の表面
に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹
脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。ま
た、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパー
フルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することも
できる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて
更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィ
ラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚
は通常は0.5μm乃至20μmの範囲にある。フッ素
樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防
止剤などのような添加成分を用いることができる。特に
架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有
利である。
A fluorine resin coating layer may be further provided on the surface of the protective layer in order to increase the stain resistance of the protective layer. The fluororesin coating layer can be formed by applying a fluororesin solution prepared by dissolving (or dispersing) a fluororesin in an organic solvent on the surface of the protective layer and drying.
The fluororesin may be used alone, but is usually used as a mixture of the fluororesin and a resin having a high film forming property. Further, an oligomer having a polysiloxane skeleton or an oligomer having a perfluoroalkyl group can be used in combination. The fluororesin coating layer may be filled with a particulate filler in order to reduce interference unevenness and further improve the quality of a radiographic image. The thickness of the fluororesin coating layer is usually in the range of 0.5 μm to 20 μm. In forming the fluororesin coating layer, additional components such as a crosslinking agent, a hardening agent, an anti-yellowing agent and the like can be used. In particular, the addition of a crosslinking agent is advantageous for improving the durability of the fluororesin coating layer.

【0039】上述のようにして本発明の放射線像変換パ
ネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各
種のバリエーションを含むものであってもよい。たとえ
ば、得られる画像の鮮鋭度を向上させることを目的とし
て、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し
輝尽発光光は吸収しないような着色剤によって着色して
もよい(特公昭59−23400号公報参照)。
Although the radiation image conversion panel of the present invention is obtained as described above, the configuration of the panel of the present invention may include various known variations. For example, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image, at least one of the above-mentioned layers may be colored with a coloring agent that absorbs excitation light but does not absorb stimulating light (Japanese Patent Publication No. No. 59-23400).

【0040】次に、上記の放射線像変換パネルを用いる
本発明の放射線画像情報読取方法について図面を参照し
ながら説明する。
Next, the radiation image information reading method of the present invention using the above radiation image conversion panel will be described with reference to the drawings.

【0041】図3は、本発明の方法に用いる放射線画像
情報読取装置の例を示す構成図であり、図4は、図3の
I−I線に沿った断面図である。図3において、放射線
像変換パネル10は、図1に示したように支持体1、輝
尽性蛍光体からなる蛍光体層2および保護膜3からなる
構造を有し、被写体を透過したX線等の放射線が照射さ
れるなどして被写体の放射線画像情報が蓄積記録されて
いる。走査ベルト40上に載置された放射線像変換パネ
ル10は、走査ベルト40が矢印Y方向に移動すること
により矢印Y方向に搬送される。パネル10の搬送速度
はベルト40の移動速度に等しく、ベルト40の移動速
度は画像読取手段30に入力される。
FIG. 3 is a configuration diagram showing an example of a radiation image information reading apparatus used in the method of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line II of FIG. 3, the radiation image conversion panel 10 has a structure including a support 1, a phosphor layer 2 made of a stimulable phosphor, and a protective film 3 as shown in FIG. Radiation image information of the subject is accumulated and recorded, for example, by irradiation with radiation. The radiation image conversion panel 10 placed on the scanning belt 40 is conveyed in the arrow Y direction as the scanning belt 40 moves in the arrow Y direction. The conveying speed of the panel 10 is equal to the moving speed of the belt 40, and the moving speed of the belt 40 is input to the image reading means 30.

【0042】一方、ブロードエリアレーザ(以下、BL
Dという)11から、パネル10表面に対して略平行に
発せられた線状の励起光Lは、その光路上に設けられた
コリメータレンズとトーリックレンズとからなる光学系
12により平行ビームとされ、パネル10に対して45
度の角度で傾けて配され、そして励起光を反射し輝尽発
光光を透過するように設定されたダイクロイックミラー
14により、反射されてパネル10表面に対して垂直に
入射する方向に進行し、屈折率分布形レンズアレイ(多
数の屈折率分布形レンズが配列されてなるレンズであ
り、以下、第一のセルフォックレンズアレイという)1
5により、パネル10上に矢印X方向に沿って延びる線
状に集光される。
On the other hand, a broad area laser (hereinafter referred to as BL
D), a linear excitation light L emitted substantially parallel to the surface of the panel 10 is converted into a parallel beam by an optical system 12 including a collimator lens and a toric lens provided on the optical path, 45 for panel 10
The dichroic mirror 14 is arranged to be inclined at an angle of degree, and is set to reflect the excitation light and transmit the stimulating light. Gradient index lens array (a lens in which a number of gradient index lenses are arranged, hereinafter referred to as a first selfoc lens array) 1
5, the light is condensed on the panel 10 in a linear shape extending along the arrow X direction.

【0043】パネル10に入射した線状の励起光Lの励
起により、パネル10の集光域およびその近傍から、蓄
積記録されている放射線画像情報に応じた強度の輝尽発
光光Mが発せられる。この輝尽発光光Mは、第一のセル
フォックレンズアレイ15により平行光束とされ、ダイ
クロイックミラー14を透過し、第二のセルフォックレ
ンズアレイ16により、ラインセンサ20を構成する各
光電変換素子21の受光面に集光される。ラインセンサ
20は、少なくとも上記線状の励起光照射部分の長さに
整列配置された多数の固体光電変換素子21を有するも
のであり、各素子が1画素に対応している。
Excitation of the linear excitation light L incident on the panel 10 causes the stimulated emission light M having an intensity corresponding to the accumulated and recorded radiation image information to be emitted from the condensing area of the panel 10 and its vicinity. . The stimulated emission light M is converted into a parallel light beam by the first selfoc lens array 15, passes through the dichroic mirror 14, and is converted by the second selfoc lens array 16 into each photoelectric conversion element 21 constituting the line sensor 20. Is collected on the light receiving surface of the. The line sensor 20 has a large number of solid-state photoelectric conversion elements 21 arranged at least along the length of the linear excitation light irradiation portion, and each element corresponds to one pixel.

【0044】ここで、ラインセンサの解像力を考える
と、はっきりした像が得られる受光面の位置の許容範囲
(これを「焦点深度」という)が小さいので、放射線像
変換パネル10とラインセンサ20との間の距離を一定
に保持することが要求される。従来においては、パネル
側の基準として気相堆積した蛍光体層上に更に接着など
により設けられた保護層表面を用いて、パネルとライン
センサの距離が一定となるように調整していたが、本発
明においては、予め精確に作製された支持体の枠上の保
護層表面を基準とすることができるので、その距離を一
定に保つことが容易となる。
Here, considering the resolving power of the line sensor, the allowable range of the position of the light receiving surface (which is called "depth of focus") at which a clear image can be obtained is small. It is required to keep the distance between them constant. In the past, the distance between the panel and the line sensor was adjusted to be constant by using a protective layer surface further provided by bonding or the like on the vapor-phase deposited phosphor layer as a reference on the panel side. In the present invention, since the surface of the protective layer on the frame of the support that has been accurately prepared in advance can be used as a reference, it is easy to keep the distance constant.

【0045】なおこの際、第二のセルフォックレンズア
レイ16を透過した輝尽発光光Mに僅かに混在する、パ
ネル10表面で反射した励起光Lは、励起光をカットし
輝尽発光光を透過する励起光カットフィルタ17により
カットされる。
At this time, the excitation light L slightly reflected in the stimulated emission light M transmitted through the second selfoc lens array 16 and reflected on the surface of the panel 10 cuts the excitation light to generate the stimulated emission light. It is cut by the transmitted excitation light cut filter 17.

【0046】各光電変換素子21により受光された輝尽
発光光Mは光電変換され、そして光電変換して得られた
各信号Sは、画像情報読取手段30に入力される。画像
情報読取手段30にて各信号Sは、走査ベルト40の移
動速度に基づいてパネル10の部位に対応して演算処理
され、画像データとして画像処理装置(図示なし)に出
力される。
The stimulated emission light M received by each photoelectric conversion element 21 is photoelectrically converted, and each signal S obtained by the photoelectric conversion is input to the image information reading means 30. Each signal S is processed by the image information reading means 30 in accordance with the position of the panel 10 based on the moving speed of the scanning belt 40, and is output as image data to an image processing device (not shown).

【0047】なお、本発明に用いる放射線画像情報読取
装置は、図3および4に示した態様に限定されるもので
はなく、光源、光源とパネルとの間の集光光学系、パネ
ルとラインセンサとの間の光学系、およびラインセンサ
はそれぞれ、公知の種々の構成を採用することができ
る。例えば、ライン光源は、光源自体がライン状であっ
てもよく、蛍光灯、冷陰極蛍光灯、LED(発光ダイオ
ード)アレイ、LD(半導体レーザー)アレイなども用
いるができる。ライン光源から発せられる励起光は、連
続的に出射するものであってもよいし、あるいは出射と
停止を繰り返すパルス光であってもよい。ノイズ低減の
観点からは、高出力のパルス光であることが好ましい。
The radiation image information reading apparatus used in the present invention is not limited to the embodiments shown in FIGS. 3 and 4, but includes a light source, a condensing optical system between the light source and the panel, a panel and a line sensor. Various known configurations can be employed for the optical system and the line sensor. For example, as the line light source, the light source itself may be linear, and a fluorescent lamp, a cold cathode fluorescent lamp, an LED (light emitting diode) array, an LD (semiconductor laser) array, or the like can also be used. The excitation light emitted from the line light source may be one that emits continuously, or may be pulse light that repeats emission and stop. From the viewpoint of noise reduction, it is preferable that the light is a high-output pulse light.

【0048】ラインセンサとしては、アモルファスシリ
コンセンサ、CCDセンサ、バックイルミネータ付きの
CCD、MOSイメージセンサなどを用いることができ
る。
As the line sensor, an amorphous silicon sensor, a CCD sensor, a CCD with a back illuminator, a MOS image sensor, or the like can be used.

【0049】放射線像変換パネルを移動させる方向は、
ライン光源およびラインセンサの長さ方向に略直交する
方向であることが望ましいが、例えばパネルの略全面に
渡って均一に励起光を照射することができる範囲内で、
長さ方向から外れた斜め方向やジグザグ状に方向を変化
させて移動させてもよい。
The direction in which the radiation image conversion panel is moved is
It is desirable that the direction is substantially perpendicular to the length direction of the line light source and the line sensor, but, for example, within a range where the excitation light can be uniformly irradiated over substantially the entire surface of the panel,
It may be moved in an oblique direction deviating from the length direction or in a zigzag manner.

【0050】また、上記実施態様においては説明を簡単
化するために、パネル10とラインセンサ20との間の
光学系を1:1結像系に設定したが、拡大縮小光学系を
利用してもよい。ただし、集光効率を高めるためには等
倍または拡大光学系を用いることが好ましい。また、上
記実施態様では励起光Lの光路と輝尽発光光Mの光路と
が一部分重複するような構成として、装置のコンパクト
化を図ったが、励起光Lの光路と輝尽発光光Mの光路が
全く異なる構成を採用してもよい。あるいはまた、画像
情報読取手段から出力されたデータ信号に対して種々の
信号処理を施す画像処理装置を更に備えた構成や、読み
取り終了後のパネルになお残存する放射線エネルギーを
適切に放出させるための消去手段を更に備えた構成を採
用することもできる。
In the above embodiment, the optical system between the panel 10 and the line sensor 20 is set to a 1: 1 image forming system for the sake of simplicity. Is also good. However, it is preferable to use a unity or magnifying optical system in order to increase the light collection efficiency. In the above-described embodiment, the device is made compact by adopting a configuration in which the optical path of the excitation light L and the optical path of the photostimulated light M partially overlap. A completely different optical path may be adopted. Alternatively, the image processing apparatus may further include an image processing device that performs various signal processing on the data signal output from the image information reading unit, or may appropriately emit radiation energy still remaining on the panel after the reading is completed. A configuration further including an erasing means may be employed.

【0051】[0051]

【実施例】[実施例1] (1)蒸着源の作製 臭化セシウム100g(CsBr、0.47モル)と臭
化ユーロピウム1.8404g(EuBr3、4.7×
10-3モル)とを乳鉢で粉砕混合した後、更に撹拌振動
器で15分間撹拌混合した。得られた混合物を炉内に置
いて、3分間排気した後、窒素雰囲気下、温度525℃
にて2時間焼成した。焼成後、炉内を15分間排気して
焼成物を冷却した。次いで、得られたユーロピウム付活
臭化セシウム(CsBr:0.01Eu)輝尽性蛍光体を乳
鉢で粉砕した後、圧力800kg/cm2にて加圧圧縮
して、蒸着用の錠剤を作製した。錠剤に、更に温度15
0℃で2時間排気して脱ガス処理を施した。
EXAMPLES Example 1 (1) Preparation of evaporation source 100 g of cesium bromide (CsBr, 0.47 mol) and 1.8404 g of europium bromide (EuBr 3 , 4.7 ×)
10 −3 mol) in a mortar, and then mixed by stirring with a stirring vibrator for 15 minutes. The resulting mixture was placed in a furnace, evacuated for 3 minutes, and then heated to 525 ° C. in a nitrogen atmosphere.
For 2 hours. After firing, the furnace was evacuated for 15 minutes to cool the fired product. Then, the obtained europium-activated cesium bromide (CsBr: 0.01 Eu) stimulable phosphor was pulverized in a mortar, and then press-compressed at a pressure of 800 kg / cm 2 to prepare a tablet for vapor deposition. Tablets with an additional temperature of 15
Evacuation was performed at 0 ° C. for 2 hours to perform a degassing treatment.

【0052】(2)蛍光体層の形成 支持体として、図2に示したような一体化された石英製
の枠体(枠幅a、c、d、f:20mm、枠高さg:5
00μm、枠内面積b×e:40cm×40cm、厚み
h:10mm)を用意した。この支持体および上記の蒸
発源を蒸着装置内の所定位置に置いた後、装置内を排気
して3.0×10-6Paの真空度とした。次いで、蒸着
源に電子銃で加速電圧4.0kV、60Wの電子線を照
射して、支持体の枠内に輝尽性蛍光体を25μm/分の
速度で堆積させた。その後、電子線の照射を止め、装置
内を大気圧に戻し、装置から支持体を取り出した。支持
体上には、幅が約10μm、長さが約480μmの蛍光
体の柱状結晶がほぼ垂直方向に密に林立した構造の蒸着
膜(膜厚:480μm)が形成されていた。
(2) Formation of Phosphor Layer An integrated quartz frame (frame width a, c, d, f: 20 mm, frame height g: 5) as shown in FIG. 2 was used as a support.
00 μm, the area in the frame b × e: 40 cm × 40 cm, and the thickness h: 10 mm). After placing the support and the evaporation source at predetermined positions in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus was evacuated to a degree of vacuum of 3.0 × 10 −6 Pa. Then, an electron gun was irradiated with an electron beam having an acceleration voltage of 4.0 kV and 60 W using an electron gun to deposit a stimulable phosphor at a rate of 25 μm / min in the frame of the support. Thereafter, the irradiation of the electron beam was stopped, the inside of the apparatus was returned to the atmospheric pressure, and the support was taken out of the apparatus. On the support, a vapor-deposited film (film thickness: 480 μm) having a structure in which columnar crystals of a phosphor having a width of about 10 μm and a length of about 480 μm were densely formed almost vertically in a vertical direction was formed.

【0053】(3)保護層の形成 ガラス材料を上記の蛍光体層および支持体の枠上に蒸着
させて、保護層(層厚:50μm)を形成すると同時
に、蛍光体層を封じ込めた状態で支持体と保護層とを接
合した。このようにして、支持体、蛍光体層および保護
層から構成された本発明の放射線像変換パネルを得た
(図1参照)。
(3) Formation of Protective Layer A glass material is vapor-deposited on the above-mentioned phosphor layer and the frame of the support to form a protective layer (thickness: 50 μm), and at the same time the phosphor layer is sealed. The support and the protective layer were bonded. Thus, a radiation image conversion panel of the present invention comprising the support, the phosphor layer and the protective layer was obtained (see FIG. 1).

【0054】[比較例1]実施例1において、支持体と
して石英シート(厚み:10mm)を用い、そして保護
層(層厚:50μm)を、二酸化ケイ素(SiO2)を蛍
光体層および支持体上に蒸着させて形成したこと以外は
実施例1と同様にして、図5に示すような放射線像変換
パネルを製造した。
Comparative Example 1 In Example 1, a quartz sheet (thickness: 10 mm) was used as a support, a protective layer (layer thickness: 50 μm) was used, a silicon dioxide (SiO 2 ) phosphor layer and a support were used. A radiation image conversion panel as shown in FIG. 5 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the radiation image conversion panel was formed by vapor deposition on the above.

【0055】図5は、比較例1の放射線像変換パネルの
構成を示す概略断面図である。図5において、放射線像
変換パネルは、下から順に、支持体51、蛍光体層5
2、および保護層53から構成される。保護層53は蛍
光体層を覆うようにその周縁部で支持体51に接合され
て、蛍光体層52は支持体51と保護層53との間に封
じ込められている。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing the configuration of the radiation image conversion panel of Comparative Example 1. In FIG. 5, the radiation image conversion panel includes a support 51 and a phosphor layer 5 in this order from the bottom.
2 and a protective layer 53. The protective layer 53 is joined to the support body 51 at the periphery thereof so as to cover the phosphor layer, and the phosphor layer 52 is sealed between the support body 51 and the protective layer 53.

【0056】[比較例2]支持体として石英シート(厚
み:10mm)を用い、その上に蛍光体層を実施例1と
同様にして形成した。次いで、支持体上であって蛍光体
層の周囲に、蛍光体層の層厚と同じ高さであってガラス
製のスペーサー(幅:20mm)を配置した後、ポリエ
チレンテレフタレートシート(厚み:50μm)を、接
着剤を用いて蛍光体層およびスペーサーに接着して保護
層を設けた。このようにして、図6に示すような放射線
像変換パネルを製造した。
Comparative Example 2 A quartz sheet (thickness: 10 mm) was used as a support, and a phosphor layer was formed thereon in the same manner as in Example 1. Next, a glass spacer (width: 20 mm) having the same height as the thickness of the phosphor layer is disposed on the support and around the phosphor layer, and then a polyethylene terephthalate sheet (thickness: 50 μm) is placed. Was bonded to a phosphor layer and a spacer using an adhesive to form a protective layer. Thus, a radiation image conversion panel as shown in FIG. 6 was manufactured.

【0057】図6は、比較例2の放射線像変換パネルの
構成を示す概略断面図である。図6において、放射線像
変換パネルは、下から順に、支持体61、蛍光体層6
2、および保護層63から構成される。支持体61と保
護層63との間には、その周縁部に沿ってスペーサー6
5が配置され接合されて、蛍光体層62は支持体61と
保護層63とスペーサー65とで形成された空間に封じ
込められている。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing the configuration of the radiation image conversion panel of Comparative Example 2. In FIG. 6, the radiation image conversion panel includes a support 61 and a phosphor layer 6 in this order from the bottom.
2 and a protective layer 63. A spacer 6 is provided between the support 61 and the protective layer 63 along the periphery thereof.
5 are arranged and joined, and the phosphor layer 62 is sealed in a space formed by the support 61, the protective layer 63, and the spacer 65.

【0058】[比較例3]比較例2において、ポリエチ
レンテレフタレートシートを接着する代わりに、二酸化
ケイ素(SiO2)を蛍光体層およびスペーサー上に蒸着
させて保護層(層厚:50μm)を形成したこと以外は
比較例2と同様にして、図6に示すような放射線像変換
パネルを製造した。
Comparative Example 3 In Comparative Example 2, instead of bonding a polyethylene terephthalate sheet, silicon dioxide (SiO 2 ) was vapor-deposited on the phosphor layer and the spacer to form a protective layer (layer thickness: 50 μm). Except for this, a radiation image conversion panel as shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as in Comparative Example 2.

【0059】[放射線像変換パネルの性能評価]得られ
た各放射線像変換パネルについて耐湿性試験を行い、そ
の性能を評価した。
[Evaluation of Performance of Radiation Image Conversion Panel] Each of the obtained radiation image conversion panels was subjected to a moisture resistance test to evaluate its performance.

【0060】放射線像変換パネルを40℃、80%RH
の高温高湿室に1週間放置した後、放置前後におけるパ
ネルからの輝尽発光の発光量の変化を測定し、以下の基
準にて評価した。 A:5%未満の発光量低下。 B:5%以上10%未満の発光量低下。 C:10%以上の発光量低下。 得られた結果をまとめて表1に示す。
The radiation image conversion panel was operated at 40 ° C. and 80% RH.
After one week of standing in a high-temperature, high-humidity room, the change in the amount of stimulated emission from the panel before and after the standing was measured and evaluated according to the following criteria. A: A decrease in luminescence of less than 5%. B: A decrease in luminescence of 5% or more and less than 10%. C: A decrease in luminescence of 10% or more. Table 1 summarizes the obtained results.

【0061】[0061]

【表1】 表1 ────────────────────── 耐湿性 ────────────────────── 実施例1 A ────────────────────── 比較例1 B 比較例2 C 比較例3 D ──────────────────────[Table 1] Table 1 湿 Moisture resistance ──────────────────── ── Example 1 A 比較 Comparative Example 1 B Comparative Example 2 C Comparative Example 3 D ────────── ────────────

【0062】表1に示した結果から明らかなように、本
発明の放射線像変換パネル(実施例1)は、公知の種々
の放射線像変換パネル(比較例1〜3)に比べて、耐湿
性が顕著に優れていた。比較例1では、SiO2保護層
の接着性があまり良くないために、不十分な耐湿性を示
したと考えられる。比較例2および3では、スペーサー
と支持体との間の密着が完全ではないために、不十分な
耐湿性を示したと考えられる。また、実施例1に比べ
て、比較例2および3では別にスペーサーを設ける工程
を必要とし、製造の工程が煩雑となっている。
As is clear from the results shown in Table 1, the radiation image conversion panel of the present invention (Example 1) has a higher moisture resistance than the various known radiation image conversion panels (Comparative Examples 1 to 3). Was significantly better. It is considered that Comparative Example 1 exhibited insufficient moisture resistance because the adhesion of the SiO 2 protective layer was not so good. It is considered that Comparative Examples 2 and 3 exhibited insufficient moisture resistance because the adhesion between the spacer and the support was not perfect. Further, compared with Example 1, Comparative Examples 2 and 3 require a step of separately providing a spacer, and the manufacturing steps are complicated.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明では、支持体を枠体とすることに
より、スペーサーが不要となり、放射線像変換パネルの
構成を単純化して耐湿性を顕著に向上させることができ
る。同時に、製造工程を簡略化することができる。ま
た、スペーサー無しで保護層を気相堆積法により蛍光体
層の上部および側面に設ける場合には、蛍光体層を完全
に封じ込めるのに充分な厚みで保護層を形成する必要が
あり、そのため画像がぼけ易いという問題があったが、
本発明においてはそのような問題が生じることもない。
According to the present invention, the use of the frame as the support eliminates the need for spacers, simplifies the structure of the radiation image conversion panel, and significantly improves the moisture resistance. At the same time, the manufacturing process can be simplified. When a protective layer is provided on the upper and side surfaces of the phosphor layer by a vapor deposition method without a spacer, it is necessary to form the protective layer with a thickness sufficient to completely contain the phosphor layer. There was a problem that it was easily blurred,
Such a problem does not occur in the present invention.

【0064】さらに、本発明の放射線像変換パネルをラ
インセンサを使用する放射線画像情報読取方法に用いる
と、支持体の枠上部を利用してパネルとラインセンサと
の距離を調整することにより、その距離を一定に保つこ
とが容易となり、ラインセンサのクリアランスを高めて
より一層高画質の放射線画像を得ることができる。この
ため、本発明の放射線像変換パネルおよび読取方法は、
医療診断用ラジオグラフィーや工業用ラジオグラフィ
ー、並びにフルオロスコピーに利用した場合に有利とな
る。
Further, when the radiation image conversion panel of the present invention is used in a radiation image information reading method using a line sensor, the distance between the panel and the line sensor is adjusted by utilizing the upper frame of the support. It is easy to keep the distance constant, and a higher quality radiation image can be obtained by increasing the clearance of the line sensor. Therefore, the radiation image conversion panel and the reading method of the present invention
It is advantageous when used for medical diagnostic radiography, industrial radiography, and fluoroscopy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の放射線像変換パネルの構成の例を示す
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the configuration of a radiation image conversion panel of the present invention.

【図2】(1)は本発明に係る支持体を示す概略上面図
であり、(2)は(1)のI−I線に沿った断面図であ
る。
FIG. 2A is a schematic top view showing a support according to the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line II of FIG.

【図3】本発明の方法に用いる放射線画像情報読取装置
の例を示す構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an example of a radiation image information reading apparatus used in the method of the present invention.

【図4】図3に示した放射線画像情報読取装置のI−I
線に沿った断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of the radiation image information reading apparatus shown in FIG.
It is sectional drawing along the line.

【図5】比較例1の放射線像変換パネルの構成の例を示
す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing an example of the configuration of a radiation image conversion panel of Comparative Example 1.

【図6】比較例2及び3の放射線像変換パネルの構成の
別の例を示す概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another example of the configuration of the radiation image conversion panels of Comparative Examples 2 and 3.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 2 蛍光体層 3 保護層 4 凸部(枠) 10 放射線像変換パネル 11 ブロードエリアレーザ(BLD) 12 コリメータレンズとトーリックレンズからなる光
学系 14 ダイクロイックミラー 15、16 セルフォックレンズアレイ 17 励起光カットフィルタ 20 ラインセンサ 21 固体光電変換素子 30 画像情報読取手段 40 走査ベルト L 励起光 M 輝尽発光光 S 信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support 2 Phosphor layer 3 Protective layer 4 Convex part (frame) 10 Radiation image conversion panel 11 Broad area laser (BLD) 12 Optical system consisting of a collimator lens and a toric lens 14 Dichroic mirror 15, 16 Selfoc lens array 17 Excitation Light cut filter 20 Line sensor 21 Solid-state photoelectric conversion element 30 Image information reading means 40 Scanning belt L Excitation light M Stimulated emission light S Signal

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体、気相堆積法により形成された蛍
光体層、および保護層をこの順に有する放射線像変換パ
ネルにおいて、支持体が周縁部に凸部を有する枠体の形
状を有し、蛍光体層が該枠体の内側に形成され、そして
保護層が少なくとも該凸部に接合されて、蛍光体層を外
部雰囲気から遮蔽して気密状態としているいることを特
徴とする放射線像変換パネル。
1. A radiation image conversion panel having a support, a phosphor layer formed by a vapor deposition method, and a protective layer in this order, wherein the support has a shape of a frame having a convex portion at a peripheral portion. A radiation image conversion device, wherein a phosphor layer is formed inside the frame, and a protective layer is bonded to at least the projections to shield the phosphor layer from an external atmosphere to be in an airtight state. panel.
【請求項2】 支持体が石英または金属からなる請求項
1に記載の放射線像変換パネル。
2. The radiation image storage panel according to claim 1, wherein the support is made of quartz or metal.
【請求項3】 保護層がガラスからなる請求項1または
2に記載の放射線像変換パネル。
3. The radiation image storage panel according to claim 1, wherein the protective layer is made of glass.
【請求項4】 蛍光体層が輝尽性蛍光体からなる請求項
1乃至3のうちのいずれかの項に記載の放射線像変換パ
ネル。
4. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the phosphor layer is made of a stimulable phosphor.
【請求項5】 請求項1乃至4のうちのいずれかの項に
記載の放射線像変換パネルであって、放射線画像情報が
蓄積記録された放射線像変換パネルをその平面方向に移
動させながら、該パネルに励起光を該移動方向と異なる
方向に線状に照射し、該パネルの励起光照射部分から放
出される輝尽発光光を、多数の固体光電変換素子を線状
に配置してなるラインセンサを用いて一次元的に受光し
て光電変換を行い、そして該ラインセンサからの出力を
該パネルの移動に応じて順次読み取って、放射線画像情
報を電気的画像信号として得ることからなる放射線画像
情報読取方法。
5. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the radiation image conversion panel on which the radiation image information is stored is moved in a plane direction thereof. A line formed by linearly irradiating the panel with excitation light in a direction different from the moving direction, and stimulating light emitted from an excitation light-irradiated portion of the panel to a large number of solid-state photoelectric conversion elements arranged linearly. A radiation image obtained by one-dimensionally receiving light using a sensor, performing photoelectric conversion, and sequentially reading the output from the line sensor according to the movement of the panel to obtain radiation image information as an electric image signal Information reading method.
【請求項6】 放射線像変換パネルの表面であって、該
パネルの移動方向に平行な支持体両側の凸部に対応した
位置を基準として、該パネルとラインセンサとの距離を
調整することを特徴とする請求項5に記載の放射線画像
情報読取方法。
6. A method for adjusting the distance between the panel and the line sensor based on a position on the surface of the radiation image conversion panel, the position corresponding to the protrusions on both sides of the support parallel to the moving direction of the panel. The radiation image information reading method according to claim 5, wherein:
【請求項7】 放射線像変換パネルの蛍光体層の面積
が、画像領域より大きいことを特徴とする請求項5また
は6に記載の放射線画像情報読取方法。
7. The radiation image information reading method according to claim 5, wherein an area of the phosphor layer of the radiation image conversion panel is larger than an image area.
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