JP2002098972A - Spacer-dispersing device - Google Patents

Spacer-dispersing device

Info

Publication number
JP2002098972A
JP2002098972A JP2000288518A JP2000288518A JP2002098972A JP 2002098972 A JP2002098972 A JP 2002098972A JP 2000288518 A JP2000288518 A JP 2000288518A JP 2000288518 A JP2000288518 A JP 2000288518A JP 2002098972 A JP2002098972 A JP 2002098972A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
spacer
spraying
shape
spray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000288518A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Mori
敏幸 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Kagoshima Ltd
NEC Kagoshima Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Kagoshima Ltd
NEC Kagoshima Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Kagoshima Ltd, NEC Kagoshima Ltd filed Critical Nippon Electric Kagoshima Ltd
Priority to JP2000288518A priority Critical patent/JP2002098972A/en
Publication of JP2002098972A publication Critical patent/JP2002098972A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly disperse a spacer material, even on a substrate having a large-sized diameter, without extending the length of a dispersing nozzle in a dispersing chamber by forming the shape of the dispersing nozzle not in a straight line shape, but in a two-segment shape having an angle or forming the shape of a dispersed side in a curved shape except at least the straight line shape. SOLUTION: The spacer material 2 can be dispersed uniformly even on the substrate 7 having the large-sized diameter, without extending the length of the dispersing nozzle in the dispersing chamber 9 by adopting a main nozzle 101 and a sub nozzle 102, which do not have straight line shape but have an angle as the shape of the dispersing nozzle 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造に際して用いられるスペーサ散布装置に関し、特に、
ガラス基板の大型化に対しても適用できるスペーサ散布
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spacer dispersing device used for manufacturing a liquid crystal display device,
The present invention relates to a spacer spraying apparatus that can be applied to an increase in the size of a glass substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のスペーサ散布装置においては、図
4の装置断面図に示すように、直線状の散布ノズル41
を散布ノズルXY駆動部50にて旋回させて散布させて
いた。散布チャンバー49内の散布ノズル41の露出長
は700mm程度で、散布ノズル41の先端部とガラス
基板47との距離は、均一な散布状態を保つため500
mm程度離して、散布ノズル41をガラス基板47の上
方において旋回させながらガラスビーズ等の粉体状のス
ペーサ材42をガラス基板47の表面全体に散布してい
た。
2. Description of the Related Art In a conventional spacer spraying apparatus, as shown in a sectional view of the apparatus in FIG.
Was spun by the spray nozzle XY drive unit 50 to spray. The exposure length of the spray nozzle 41 in the spray chamber 49 is about 700 mm, and the distance between the tip of the spray nozzle 41 and the glass substrate 47 is 500 to maintain a uniform spray state.
The powdery spacer material 42 such as glass beads was sprayed over the entire surface of the glass substrate 47 while the spray nozzle 41 was swung above the glass substrate 47 at a distance of about mm.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この手
法では、基板サイズが大型化されて散布エリアが拡大さ
れると、散布チャンバー内の散布ノズルの露出長を長く
して散布ノズルの旋回面積を大きくする必要があり、現
状の短い散布ノズルの露出長では、広範囲な散布エリア
を確保することは困難であった。
However, in this method, when the size of the substrate is increased and the spray area is enlarged, the exposure length of the spray nozzle in the spray chamber is lengthened to increase the swivel area of the spray nozzle. It is difficult to secure a wide spray area with the current short exposure length of the spray nozzle.

【0004】また、散布ノズル長を長くすることにより
装置高さが高くなり設置フロアーが制約されるという問
題も新たに生じることとなる。
[0004] In addition, increasing the length of the spray nozzle increases the height of the apparatus, which causes another problem that the installation floor is restricted.

【0005】本発明の目的は、現状の散布チャンバー及
び現状の長さの散布ノズルを用いて、基板表面に均一に
スペーサ材を散布することのできるスペーサ散布装置を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a spacer spraying apparatus capable of uniformly spraying a spacer material on a substrate surface using a current spraying chamber and a spray nozzle having a current length.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のスペーサ散布装
置は、回転及び旋回する機能を有する散布ノズルを通し
て散布チャンバー内に概略水平に支持された基板の表面
全体にスペーサ材を散布するスペーサ散布装置であっ
て、前記散布ノズルの長さ方向の形状が一直線以外の形
状であることを基本構成としている。本発明のスペーサ
散布装置は、以下のような適用形態を採る。
According to the present invention, there is provided a spacer spraying apparatus for spraying a spacer material over the entire surface of a substrate supported substantially horizontally in a spray chamber through a spray nozzle having a function of rotating and rotating. The basic configuration is that the shape in the length direction of the spray nozzle is a shape other than a straight line. The spacer application device of the present invention employs the following application forms.

【0007】まず、前記散布ノズルは、スペーサ材流入
側のメインノズル及びスペーサ材散布側のサブノズルか
らなり、前記メインノズル及び前記サブノズルは、互い
に角度を有して連結する線分状である、或いは、互いに
連結するスペーサ材流入側のメインノズル及びスペーサ
材散布側のサブノズルからなり、前記サブノズルが少な
くとも直線状以外の曲線状である。
First, the spraying nozzle comprises a main nozzle on the spacer material inflow side and a sub-nozzle on the spacer material spraying side, and the main nozzle and the sub-nozzle are linear segments connected at an angle to each other, or And a main nozzle on the spacer material inflow side and a sub-nozzle on the spacer material sprinkling side which are connected to each other, and the sub-nozzles are at least curved other than straight.

【0008】また、前記メインノズルは、前記概略水平
に支持された基板の垂線に対して所定の角度に設定され
た後、前記メインノズルの延長線と前記基板の表面との
交点の軌跡が楕円形状となるべく旋回する。
The main nozzle is set at a predetermined angle with respect to a perpendicular line of the substantially horizontally supported substrate, and then a locus of an intersection of an extension line of the main nozzle and the surface of the substrate is elliptical. Turn as much as possible.

【0009】また、前記メインノズルは、水平面に垂直
な平面において最大40°までの角度の範囲で回転す
る。
The main nozzle rotates in a plane perpendicular to a horizontal plane at an angle of up to 40 °.

【0010】最後に、前記サブノズルは、前記メインノ
ズルが前記基板の上方を旋回中に前記メインノズルを中
心として回転する。
Finally, the sub-nozzle rotates about the main nozzle while the main nozzle is swirling above the substrate.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明による液晶表示装置用のス
ペーサ散布装置は、図1に示すように、先端部を屈曲さ
せた散布ノズル1を散布ノズル回転駆動部11にて回転
させながら散布ノズルXY駆動部11にて旋回させて、
樹脂やガラスのビーズで構成される粉体状のスペーサ材
2を表示用の透明基板の一つであるガラス基板7の表面
全体に散布させることにより、広範囲に均一に散布でき
ることを特徴としている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A spacer spraying apparatus for a liquid crystal display device according to the present invention, as shown in FIG. Turned by the XY drive unit 11,
The powdery spacer material 2 made of resin or glass beads is spread over the entire surface of the glass substrate 7 which is one of the transparent substrates for display, so that it can be spread uniformly over a wide area.

【0012】以下、本発明の第1の実施形態について、
図1、2を参照して詳細に説明する。スペーサ散布装置
の中央を水平面に対して垂直に通る平面で切断したとき
の断面構成は図1のようになっている。
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 shows a cross-sectional configuration when the center of the spacer spraying device is cut along a plane passing perpendicular to the horizontal plane.

【0013】まず、散布チャンバー9の上部には、先端
部を屈曲させた管状の散布ノズル1が回転、旋回するよ
うに、散布チャンバー9の上部壁面を貫通させた状態で
取り付けてあり、散布チャンバー9の上部外側には散布
ノズル1を回転させる散布ノズル回転駆動部11及び回
転駆動伝達軸14と、散布ノズル1を旋回させる散布ノ
ズルXY駆動部10が設置された構成になっている。
First, a tubular spray nozzle 1 having a bent tip is attached to the upper part of the spray chamber 9 so as to penetrate the upper wall surface of the spray chamber 9 so as to rotate and turn. A spray nozzle rotation drive unit 11 and a rotation drive transmission shaft 14 for rotating the spray nozzle 1 and a spray nozzle XY drive unit 10 for rotating the spray nozzle 1 are installed on the upper outer side of the nozzle 9.

【0014】ここで、散布ノズル1は、散布ノズル回転
駆動部11側に接続される直線状のメインノズル101
及びスペーサ材2を射出する側の直線状のサブノズル1
02により構成される。
Here, the spray nozzle 1 is a linear main nozzle 101 connected to the spray nozzle rotation drive unit 11 side.
And a linear sub-nozzle 1 on the side where the spacer material 2 is injected
02.

【0015】また、散布チャンバー9内の散布ノズル1
の露出長さは700mm程度で、散布ノズル1の先端部
からガラス基板7までの距離は均一な散布状態を保つた
めに500mm程度離しており、散布ノズル1のうち、
メインノズル101が旋回角度θ1(40度程度迄)で
旋回し、サブノズル102はメインノズル101に対し
て屈曲角度θ2を有するようにメインノズル101と連
結され、これらの構成により、散布ノズル1によるスペ
ーサ材2の散布範囲が設定される。
The spraying nozzle 1 in the spraying chamber 9
Is about 700 mm, and the distance from the tip of the spray nozzle 1 to the glass substrate 7 is about 500 mm to keep a uniform spray state.
The main nozzle 101 is turned at a turning angle θ1 (up to about 40 degrees), and the sub-nozzle 102 is connected to the main nozzle 101 so as to have a bending angle θ2 with respect to the main nozzle 101. The spraying range of the material 2 is set.

【0016】次に、本第1の実施形態の動作について説
明する。
Next, the operation of the first embodiment will be described.

【0017】図1で示すように、散布チャンバー9内の
散布ステージ4にガラス基板7が搬入されると、散布チ
ャンバー9内の上部に設置された屈曲した散布ノズル1
は、散布チャンバー9の外側上部の散布ノズル回転駆動
部11及び回転駆動伝達軸14と散布ノズルXY駆動部
10により回転及び旋回する。
As shown in FIG. 1, when the glass substrate 7 is carried into the spraying stage 4 in the spraying chamber 9, the bent spraying nozzle 1 installed in the upper part of the spraying chamber 9 is formed.
Is rotated and swiveled by the spray nozzle rotation drive unit 11, the rotation drive transmission shaft 14, and the spray nozzle XY drive unit 10 on the upper outside of the spray chamber 9.

【0018】スペーサ材2は、上述した散布ノズル1が
回転、旋回動作中に、設定された時間だけ供給され、窒
素等の気体と混合された状態で散布ノズル1内を流れて
きて、散布ノズル1先端部から噴出される。
The spacer material 2 is supplied for a set time while the above-mentioned spray nozzle 1 is rotating and rotating, and flows through the spray nozzle 1 while being mixed with a gas such as nitrogen. 1 Spouted from the tip.

【0019】散布ノズル旋回角度θ1(40度程度迄)
と、散布ノズル屈曲角度θ2で設定された散布ノズル1
の先端部軌跡は、図2で示すように、ガラス基板7に対
して、サブノズル先端延長線回転軌跡13と、メインノ
ズル回転中心延長線軌跡12を複合して描かれ、散布ノ
ズル屈曲角度θ2を大きくすることにより、スペーサ材
2は広範囲に均一に散布することができる。
Spray nozzle swivel angle θ1 (up to about 40 degrees)
And the spray nozzle 1 set at the spray nozzle bending angle θ2
As shown in FIG. 2, the tip portion trajectory is drawn by combining the sub-nozzle tip extension line rotation trajectory 13 and the main nozzle rotation center extension line trajectory 12 with respect to the glass substrate 7. By increasing the size, the spacer material 2 can be spread uniformly over a wide range.

【0020】また、ガラス基板7の外に噴出されたスペ
ーサ材2は、散布チャンバー9下方に設置してある排気
ダクト5から排出される。この時の排気量はダンパー6
で調整されている。
The spacer material 2 jetted out of the glass substrate 7 is discharged from an exhaust duct 5 provided below the spray chamber 9. The displacement at this time is damper 6
Has been adjusted.

【0021】ガラス基板7の外に噴出されたスペーサ材
2が排出された後、ガラス基板7は散布チャンバー9か
ら搬出される。
After the spacer material 2 jetted out of the glass substrate 7 is discharged, the glass substrate 7 is carried out of the spray chamber 9.

【0022】以上の構成及び動作を有するスペーサ散布
装置は、第1の効果として、散布ノズルの旋回範囲に、
屈曲した散布ノズルの回転範囲を加算したエリアにスペ
ーサ材を散布できるため、ガラス基板サイズが大型化さ
れて散布エリアが拡大されても、ノズルの屈曲角度を大
きくすることにより、広範囲な散布エリアを容易に確保
できることである。
As a first effect, the spacer spraying apparatus having the above-described structure and operation has the following advantages.
Since the spacer material can be sprayed on the area where the rotation range of the bent spray nozzle is added, even if the size of the glass substrate is enlarged and the spray area is enlarged, the wide spray area can be expanded by increasing the bending angle of the nozzle. It is easy to secure.

【0023】次に、第2の効果として、屈曲した散布ノ
ズルが回転しながら旋回して散布するため、散布ノズル
の先端部軌跡が緻密になり、ガラス基板上にスペーサ材
をより均一に散布することができることである。
Next, as a second effect, since the dispersing nozzle is rotated while rotating and dispersing, the tip of the dispersing nozzle becomes finer and the spacer material is more uniformly distributed on the glass substrate. That is what you can do.

【0024】次に、本発明の第2の実施形態について、
図3を参照して説明する。図3に示すように、本実施形
態は、先端部が湾曲した散布ノズル21を有することを
特徴とし、その他の構成及び動作は第1の実施形態と同
一である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the present embodiment is characterized by having a spray nozzle 21 having a curved distal end, and the other configuration and operation are the same as those of the first embodiment.

【0025】本実施形態における効果は、窒素等の気体
と混合された状態のスペーサ材2が散布ノズル21内を
流れて行くとき、散布ノズル21を湾曲させることによ
り、散布ノズル21の配管内の屈曲部に蓄積するスペー
サ材の溜りを防げ、散布ノズルの寿命を延ばす効果があ
る。
The effect of the present embodiment is that when the spacer material 2 mixed with a gas such as nitrogen flows through the spray nozzle 21, the spray nozzle 21 is curved, so that the pipe in the pipe of the spray nozzle 21 is bent. This has the effect of preventing the accumulation of the spacer material that accumulates at the bent portion and extending the life of the spray nozzle.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明のスペー
サ散布装置は、散布ノズルの形状を一直線上ではなく、
角度を有する2つの線分状、或いは、散布側の形状が少
なくとも直線状以外の曲線状とすることにより、散布チ
ャンバー内の散布ノズル長を長くすることなく、大口径
化した基板に対しても均一にスペーサ材を散布すること
が可能となる。
As described above, according to the spacer spraying apparatus of the present invention, the shape of the spraying nozzle is not linear,
By forming two line segments having an angle, or a shape on the spraying side at least a curved shape other than a straight line, without increasing the length of the spraying nozzle in the spraying chamber, even for a substrate having a large diameter. It is possible to uniformly spread the spacer material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態のスペーサ散布装置の
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a spacer spraying device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態のスペーサ散布装置に
よる基板へのスペーサ材散布状況を示す基板平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of a substrate showing a state of dispersing a spacer material on a substrate by the spacer dispersing device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施形態のスペーサ散布装置の
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a spacer spraying device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来のスペーサ散布装置の断面図であるFIG. 4 is a sectional view of a conventional spacer spraying device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、21、41 散布ノズル 2、42 スペーサ材 4、44 散布ステージ 5、45 排気ダクト 6、46 ダンパー 7、47 ガラス基板 9、49 散布チャンバー 10、50 散布ノズルXY駆動部 11 散布ノズル回転駆動部 12 メインノズル回転中心延長線軌跡 13 サブノズル先端延長線回転軌跡 14 回転駆動伝達軸 101、121 メインノズル 102、122 サブノズル 1, 21, 41 Spray nozzle 2, 42 Spacer material 4, 44 Spray stage 5, 45 Exhaust duct 6, 46 Damper 7, 47 Glass substrate 9, 49 Spray chamber 10, 50 Spray nozzle XY drive unit 11 Spray nozzle rotation drive unit 12 Main nozzle rotation center extension line trajectory 13 Sub nozzle tip extension line rotation trajectory 14 Rotation drive transmission shaft 101, 121 Main nozzle 102, 122 Sub nozzle

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転及び旋回する機能を有する散布ノズ
ルを通して散布チャンバー内に概略水平に支持された基
板の表面全体にスペーサ材を散布するスペーサ散布装置
であって、前記散布ノズルの長さ方向の形状が一直線以
外の形状であることを特徴とするスペーサ散布装置。
1. A spacer spraying device for spraying a spacer material over the entire surface of a substrate supported substantially horizontally in a spray chamber through a spray nozzle having a function of rotating and swiveling, the spacer spray device having a lengthwise direction. A spacer spraying device characterized in that the shape is a shape other than a straight line.
【請求項2】 前記散布ノズルは、スペーサ材流入側の
メインノズル及びスペーサ材散布側のサブノズルからな
り、前記メインノズル及び前記サブノズルは、互いに角
度を有して連結する線分状である請求項1記載のスペー
サ散布装置。
2. The spraying nozzle comprises a main nozzle on a spacer material inflow side and a sub-nozzle on a spacer material sprinkling side, and the main nozzle and the sub-nozzles are linear segments connected at an angle to each other. 2. The spacer spraying device according to 1.
【請求項3】 前記散布ノズルは、互いに連結するスペ
ーサ材流入側のメインノズル及びスペーサ材散布側のサ
ブノズルからなり、前記サブノズルが少なくとも直線状
以外の曲線状である請求項1記載のスペーサ散布装置。
3. The spacer spraying apparatus according to claim 1, wherein the spraying nozzle comprises a main nozzle on the spacer material inflow side and a sub-nozzle on the spacer material spraying side connected to each other, and the sub-nozzle has at least a curved shape other than a linear shape. .
【請求項4】 前記メインノズルは、前記概略水平に支
持された基板の垂線に対して所定の角度に設定された
後、前記メインノズルの延長線と前記基板の表面との交
点の軌跡が楕円形状となるべく旋回する請求項2又は3
記載のスペーサ散布装置。
4. The main nozzle is set at a predetermined angle with respect to a vertical line of the substantially horizontally supported substrate, and a locus of an intersection of an extension line of the main nozzle and a surface of the substrate is an ellipse. 4. A swivel as far as possible to have a shape.
The spacer spraying device according to any one of the preceding claims.
【請求項5】 前記メインノズルは、水平面に垂直な平
面において最大40°までの角度の範囲で回転する請求
項2、3又は4記載のスペーサ散布装置。
5. The spacer spraying device according to claim 2, wherein the main nozzle rotates within a range of an angle of up to 40 ° in a plane perpendicular to a horizontal plane.
【請求項6】 前記サブノズルは、前記メインノズルが
前記基板の上方を旋回中に前記メインノズルを中心とし
て回転する請求項1乃至5のいずれかに記載のスペーサ
散布装置。
6. The spacer spraying apparatus according to claim 1, wherein said sub nozzle rotates around said main nozzle while said main nozzle is swirling above said substrate.
JP2000288518A 2000-09-22 2000-09-22 Spacer-dispersing device Withdrawn JP2002098972A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000288518A JP2002098972A (en) 2000-09-22 2000-09-22 Spacer-dispersing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000288518A JP2002098972A (en) 2000-09-22 2000-09-22 Spacer-dispersing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002098972A true JP2002098972A (en) 2002-04-05

Family

ID=18772095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000288518A Withdrawn JP2002098972A (en) 2000-09-22 2000-09-22 Spacer-dispersing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002098972A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103231460A (en) * 2013-05-10 2013-08-07 三角轮胎股份有限公司 Medicine dosing device of vulcanizing and open mixing roller

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103231460A (en) * 2013-05-10 2013-08-07 三角轮胎股份有限公司 Medicine dosing device of vulcanizing and open mixing roller

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6901938B2 (en) Substrate cleaning apparatus
US6267299B1 (en) Nutating sprinkler with gimbal bearing
WO2017152560A1 (en) Spraying apparatus
US6709699B2 (en) Film-forming method, film-forming apparatus and liquid film drying apparatus
EP2322291A1 (en) Cleaning device adapted to eject high-pressure cleaning liquid
US20070234951A1 (en) Methods and apparatus for cleaning a substrate
CN101770935B (en) Spinner and method of cleaning substrate using the spinner
JP2003092283A (en) Apparatus and method for processing substrate
JP2002098972A (en) Spacer-dispersing device
JPH06151397A (en) Wafer cleaning equipment
JP4393941B2 (en) Substrate processing equipment
JP2008159989A (en) Nozzle, substrate treatment apparatus, and substrate treatment method
KR20080062342A (en) Apparatus for processing substrate
JP3919340B2 (en) Fine powder spraying device
US7152613B2 (en) Cleaning apparatus having fluid mixing nozzle for manufacturing flat-panel display
JP2009277933A (en) High-pressure water-jet cleaning device
JP4053759B2 (en) Development processing equipment
JPH10237859A (en) Construction method for soil improvement and device therefor
KR200433682Y1 (en) The jet apparatus with jet nozzle that shake equality
KR20080101309A (en) Atmospheric pressure plasma cleaning device
KR102260571B1 (en) Rotary type vertical wet etching apparatus
JP3642892B2 (en) Processing liquid discharge nozzle and substrate processing apparatus
WO2005009623A1 (en) Fine powder spraying device
JPH02134813A (en) Application of resist
JP3338581B2 (en) Electrostatic coating machine

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050310

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20070124

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20070419

A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071204