JP2002090457A - Distance measuring apparatus - Google Patents

Distance measuring apparatus

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JP2002090457A
JP2002090457A JP2000280217A JP2000280217A JP2002090457A JP 2002090457 A JP2002090457 A JP 2002090457A JP 2000280217 A JP2000280217 A JP 2000280217A JP 2000280217 A JP2000280217 A JP 2000280217A JP 2002090457 A JP2002090457 A JP 2002090457A
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Japan
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light
distance measuring
wavelength
light emitting
distance
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Application number
JP2000280217A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Kimura
裕治 木村
Hisaya Kato
久弥 加藤
Yoshimi Suzuki
愛美 鈴木
Toshiyuki Morishita
敏之 森下
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a distance measuring apparatus which can measure the distance from a short range of several meters to a long range of more than 100 meters by satisfying a safety standard when incident light reaches eyes. SOLUTION: Light is made to irradiate an object to be measured from light emitting elements while the reflected light from the object is received by photo detectors to measure the distance from the object. The light emitting elements are arranged in plurality to emit light with different wavelengths and hence, have different detection regions. The photodetectors 110 and 120 are arranged in plurality corresponding to the respective light emitting elements and have sensitivities adaptive to light with the respective wavelengths. The photodetector 110 transmits the light with the first wavelength and has a sensitivity to the light with the second wavelength less than the first wavelength. The photodetector 120 has the sensitivity to the light with the first wavelength. The photodetectors 110 and 120 are arranged on the same optical path.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は距離測定装置に係
り、例えば、車間距離測定装置に用いることができるも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a distance measuring device, and can be used, for example, in an inter-vehicle distance measuring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体レーザや発光ダイオードを
用いて自動車間の距離を計測し、車間距離を一定に保っ
たり前方の車に接近しすぎた場合に警報を出すシステ
ム、車の駐停車時の車や障害物までの距離を計測し警報
を出すシステム、光を遮った場合に警報を出すセキュリ
ティシステム等が開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a system that measures the distance between automobiles using a semiconductor laser or a light emitting diode and issues a warning when the inter-vehicle distance is kept constant or the vehicle approaches the vehicle in front too much. Systems that measure the distance to a car or obstacle and issue an alarm, and security systems that issue an alarm when the light is blocked have been developed.

【0003】車間距離計測システムでは100m以上先
の物体を検知する必要があり、そのためには数10〜数
100n秒のパルス駆動で20〜80Wの光出力が要求
されている。このようなシステムでは出射光が目に入っ
た場合の安全性を考慮して光出力が決定されていた。ま
た、出射点から数mの範囲で安全基準を満たさない場合
や時速数10km以下になった場合には、発光を停止し
て安全性を確保していた。
In an inter-vehicle distance measuring system, it is necessary to detect an object at a distance of 100 m or more, and for that purpose, a light output of 20 to 80 W is required by pulse driving for several tens to several hundreds of nanoseconds. In such a system, the light output is determined in consideration of safety when the emitted light enters the eyes. Further, when the safety standard is not satisfied within a range of several meters from the emission point or when the speed becomes several tens km / h or less, the light emission is stopped to ensure safety.

【0004】しかし、このようなシステムでは低速での
前方車両への追従や、前方車両が停止した場合には対応
できないという問題点がある。また、特開平7−134
178号公報によれば、自車と測定対象車間の距離に応
じてレーザ光の発光パワーを制御する方法が提案されて
いるが、検知角(照射範囲)は一定であるため、例え
ば、自車と隣車線を走行する車との間の距離が、自車と
同じ車線で前方を走行する車よりも近い場合、隣車線の
車両に合わせて発光パワーを下げれば同一車線での前方
の車を見失ってしまうという問題があり、また、同一車
線で前方を走行する車を認識するために発光パワーを下
げずにいれば隣車線の車両に乗車している人の目に対し
て危険であるという問題がある。
[0004] However, such a system has a problem that it cannot follow a forward vehicle at a low speed or cope with a stop of the forward vehicle. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-134
According to Japanese Patent Publication No. 178, a method of controlling the emission power of laser light in accordance with the distance between the own vehicle and the vehicle to be measured is proposed. However, since the detection angle (irradiation range) is constant, for example, If the distance between the vehicle running in the adjacent lane is shorter than that of the vehicle traveling ahead in the same lane as your own vehicle, lowering the light emission power to match the vehicle in the adjacent lane will allow the vehicle ahead in the same lane There is a problem of losing sight, and it is dangerous to the eyes of a person in a vehicle in the next lane if the light emission power is not reduced in order to recognize a vehicle traveling ahead in the same lane. There's a problem.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情に鑑みなされたものであり、その目的は、出射光が目
に入った場合の安全基準を満たし、数mの近距離から1
00m以上の遠距離まで距離を誤認識なく測定すること
ができる距離測定装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to satisfy safety standards in the case where emitted light enters an eye, and to reduce the distance from a short distance of several meters to one.
An object of the present invention is to provide a distance measuring device capable of measuring a distance up to a distance of 00 m or more without erroneous recognition.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
よれば、光を用いた反射型距離測定装置において、異な
る波長の光を発光する複数の発光素子を有し、波長の異
なる各光を選択的に使用して距離を測定する。これによ
り、出射光が目に入った場合の安全基準を満たし、数m
の近距離から100m以上の遠距離まで距離を誤認識な
く測定することが可能となる。さらに、移動体にこの距
離測定装置を取り付け、移動体の速度により発光素子の
光出力や発光波長を変えるようにすると、例えば、車間
距離測定装置として好ましいものとなる。
According to the first aspect of the present invention, in a reflection type distance measuring device using light, a plurality of light emitting elements which emit light of different wavelengths are provided, and each of the light emitting elements having different wavelengths is used. The distance is measured using light selectively. This satisfies the safety standard when the emitted light enters the eyes, and
It is possible to measure a distance from a short distance to a long distance of 100 m or more without erroneous recognition. Further, when this distance measuring device is attached to a moving body and the light output and the emission wavelength of the light emitting element are changed according to the speed of the moving body, for example, it becomes preferable as an inter-vehicle distance measuring device.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本実施の形態は、発光素子を発光
させて物体に当て、その反射光を感知して距離を測定す
る距離測定装置であって、異なる波長を発光する複数の
光源(発光素子)を具備している。さらに、発光素子に
より異なる領域の距離を測定する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present embodiment is a distance measuring apparatus for measuring a distance by emitting a light emitting element to illuminate an object, sensing reflected light from the light emitting element, and comprising a plurality of light sources ( Light-emitting element). Further, the distance between different regions is measured depending on the light emitting element.

【0008】図1に、レーザのパルス幅1〜100ns
での安全基準MPE(最大許容露光量)の波長依存性を
示す。この図から分かるように、発光波長によりMPE
の値が変化する。特に、この図より発光波長が1.4μ
m以上ではMPEの値が大きくなっており、目に安全で
あることが分かる。従って、全ての測定領域において
1.4μm以上の波長の光を用いればよいことが分か
る、しかしながら、現在、1.4μm以上の発光波長を
持つ半導体レーザは、発光効率が低く、長距離を測定す
るためには出力を大きくする必要がある。そのために、
複数の発光素子を用いて異なる波長の光を発光させる。
FIG. 1 shows a laser pulse width of 1 to 100 ns.
3 shows the wavelength dependence of the safety standard MPE (maximum allowable exposure amount) in FIG. As can be seen from this figure, the MPE depends on the emission wavelength.
Changes. In particular, the figure shows that the emission wavelength is 1.4 μm.
At m or more, the value of MPE is large, indicating that the eye is safe. Therefore, it is understood that light having a wavelength of 1.4 μm or more may be used in all the measurement regions. However, currently, a semiconductor laser having an emission wavelength of 1.4 μm or more has low luminous efficiency and measures a long distance. Therefore, it is necessary to increase the output. for that reason,
Light of different wavelengths is emitted using a plurality of light emitting elements.

【0009】また、半導体レーザの寿命は発光強度と発
光周波数に逆比例するため半導体レーザの寿命を長くす
るには発光強度を低くして、発光時間を短くすることが
望ましい。一個の発光素子を具備する距離測定装置を用
いた場合よりも複数個の発光素子を具備する距離測定装
置を用いると、個々の素子の発光時間が短くなるので、
システムでの寿命は長くなり信頼性は高くなる。例え
ば、自動車用に用いられる距離測定装置では、隣車線の
車を認識するためには検知角は前方±20°以上が必要
であり、実質的には40°以上を測定することが望まし
い。しかし、長距離は前方±4°程度を測定すればよい
ため、中心部を測定する第1の発光素子と、それ以外を
測定する第2の発光素子とに分けることによりシステム
の信頼性を向上させることができる。
Further, the life of a semiconductor laser is inversely proportional to the light emission intensity and the light emission frequency. Therefore, in order to extend the life of the semiconductor laser, it is desirable to lower the light emission intensity and shorten the light emission time. When using a distance measuring device having a plurality of light emitting elements than when using a distance measuring device having one light emitting element, the light emitting time of each element is shortened,
The service life of the system is longer and the reliability is higher. For example, in a distance measuring device used for an automobile, a detection angle is required to be ± 20 ° or more in front to recognize a vehicle in an adjacent lane, and it is desirable to measure substantially 40 ° or more. However, since long distances need only be measured about ± 4 ° in front, the reliability of the system is improved by separating the first light-emitting element for measuring the central part and the second light-emitting element for measuring other parts. Can be done.

【0010】本実施の形態では、発光波長が1.4μm
以上の発光素子を近距離領域の範囲の測定に使用し、そ
れ以下の波長の発光素子を遠距離領域の測定に使用する
ことにより、距離測定装置として目に安全で長期信頼性
のある装置となる。
In this embodiment, the emission wavelength is 1.4 μm
By using the above light emitting element for the measurement of the range of the short distance area and using the light emitting element of the shorter wavelength for the measurement of the long distance area, it can be used as a distance measuring device that is safe for eyes and long-term reliable Become.

【0011】距離測定装置において、測定距離は発光素
子の光出力に比例する。このため、測定距離を長くする
ためには発光出力を大きくする必要がある。しかし、発
光出力を大きくすると、近距離での測定ではMPEの基
準を満足しなくなるという問題が発生する。
In the distance measuring device, the measured distance is proportional to the light output of the light emitting element. Therefore, it is necessary to increase the light emission output in order to increase the measurement distance. However, when the light emission output is increased, there arises a problem that the measurement at a short distance does not satisfy the MPE standard.

【0012】本実施の形態では、近距離測定のための光
として、遠距離測定のための光とは異なる波長の光を使
用し、近距離、遠距離両方の測定において目に安全なM
PEを満足させる。
In the present embodiment, light having a wavelength different from that of light for long-distance measurement is used as light for short-distance measurement, and M is safe for eyes in both short-distance and long-distance measurements.
Satisfies PE.

【0013】反射光の受光素子は感度に波長依存性があ
るため、波長の異なる発光素子を使用する場合、使用す
る波長毎に別の受光素子を用いるのが望ましい。詳しく
は、一つの受光素子において複数の波長の光を受ける場
合、波長依存性があるために十分な感度が得られず、そ
のために、各波長毎に受光素子を用いるのが望ましい。
Since the sensitivity of the light receiving element for reflected light has wavelength dependence, when light emitting elements having different wavelengths are used, it is desirable to use another light receiving element for each wavelength to be used. Specifically, when one light-receiving element receives light of a plurality of wavelengths, sufficient sensitivity cannot be obtained due to wavelength dependency, and therefore, it is desirable to use a light-receiving element for each wavelength.

【0014】異なる波長の光を使用する場合、それぞれ
の波長の光について別の光学系を用いることが考えられ
る。しかし、この場合、一つの波長の光を使用する場合
に比べ光学系は倍の体積が必要となる。また、駆動系も
別となるため、一つの波長を使用する場合に比べ回路の
体積が倍になる。本実施の形態においては、小型化のた
めに各波長の光学系を同一とした。このため、発光素子
は光を合成して同じ光学系に入れるか、又は同じパッケ
ージの中に異なる波長の発光素子を実装して同一の光学
系を用いる。しかし、発光部の光学系を同一にしても受
光素子は各波長毎に用いるため受光部分の光学系は同一
とならない。
When using light of different wavelengths, it is conceivable to use another optical system for light of each wavelength. However, in this case, the optical system requires twice as much volume as when using light of one wavelength. Further, since the driving system is also different, the volume of the circuit is doubled as compared with the case where one wavelength is used. In the present embodiment, the optical system of each wavelength is the same for miniaturization. For this reason, the light emitting element combines light into the same optical system or mounts light emitting elements of different wavelengths in the same package and uses the same optical system. However, even if the optical system of the light emitting section is the same, the optical system of the light receiving section is not the same because the light receiving element is used for each wavelength.

【0015】そこで、受光素子を複数持った場合、図2
に示すように、ハーフミラー100を用いて光を単純に
分離して受光素子101,102に入れるか、又は、ハ
ーフミラー100の代わりに波長フィルターを用いて光
を分離する方法が考えられる。前者の方法は、発光素子
の数により受光光量が落ちる。例えば、2つの波長の光
を使用した場合は光量が1/2となる。後者の方法は、
波長毎にフィルターを用いるため受光光量は落ちず感度
は低下しない。
Therefore, when a plurality of light receiving elements are provided, FIG.
As shown in (1), a method of simply separating light into the light receiving elements 101 and 102 using the half mirror 100 or separating the light using a wavelength filter instead of the half mirror 100 is considered. In the former method, the amount of received light decreases depending on the number of light emitting elements. For example, when light of two wavelengths is used, the amount of light is halved. The latter method is
Since a filter is used for each wavelength, the amount of received light does not decrease and the sensitivity does not decrease.

【0016】しかし、受光光学系が複数系統となるため
にシステム全体の体積は大きくなる。本実施の形態で
は、光量を電気信号に変換する受光素子において、図3
に示すように、第1の波長の光を透過し、第1の波長よ
り短い第2の波長の光に対して感度を有する第1の受光
素子110と、第1の波長の光に対して感度を有する第
2の受光素子120を具備し、第1,2の受光素子11
0,120が同一光路上に配置されている。このように
することにより、受光の光学系も同一にすることができ
る。
However, since a plurality of light receiving optical systems are provided, the volume of the entire system becomes large. In the present embodiment, in the light receiving element that converts the light amount into an electric signal, FIG.
As shown in (1), a first light receiving element 110 that transmits light of a first wavelength and has sensitivity to light of a second wavelength shorter than the first wavelength, and a light receiving element of the first wavelength A second light receiving element having sensitivity;
0 and 120 are arranged on the same optical path. By doing so, the light receiving optical system can be made the same.

【0017】この際、図4に示すように、第1の受光素
子110は、第1の波長の光を透過させるためにリング
状の電極111,112を設ける。つまり、母材113
に対し表裏両面に配置する電極として、円環状となった
電極111,112を用いる。また、第2の受光素子1
20は、母材123に対しリング状の電極121とプレ
ート状の電極122を設ける。なお、図4において符号
114は取り出し電極を表している。
At this time, as shown in FIG. 4, the first light receiving element 110 is provided with ring-shaped electrodes 111 and 112 for transmitting light of the first wavelength. That is, the base material 113
In contrast, annular electrodes 111 and 112 are used as electrodes arranged on both front and back surfaces. Also, the second light receiving element 1
20 is provided with a ring-shaped electrode 121 and a plate-shaped electrode 122 on a base material 123. In FIG. 4, reference numeral 114 denotes an extraction electrode.

【0018】長距離を測定する場合は大出力が必要とな
るが、ビームが広がってビーム径が大きくなるため、波
長に関係無く目に安全となる。近距離についてはビーム
径が小さくなり光パワー密度が大きくなるので、目への
危険性を回避するために波長が1.4μm以上の発光素
子を用いることが望ましい。受光素子の特性から短い波
長は1μm以下のものが望ましく、特に800nm〜9
00nmのものが望ましい。
When measuring a long distance, a large output is required. However, since the beam spreads and the beam diameter increases, the eye is safe regardless of the wavelength. At short distances, the beam diameter becomes smaller and the optical power density becomes larger. Therefore, it is desirable to use a light emitting element having a wavelength of 1.4 μm or more to avoid danger to the eyes. From the characteristics of the light receiving element, the short wavelength is desirably 1 μm or less, particularly 800 nm to 9 nm.
A thickness of 00 nm is desirable.

【0019】発光波長が1.4μm以上の発光素子を用
いる場合における受光素子としては、Geアバランシェ
フォトダイオード、InGaAs−PINフォトダイオ
ード、Geフォトダイオードなどを用いる。発光波長が
1μm以下の発光素子を用いる場合における受光素子と
しては、Siフォトダイオード、Si−PINフォトダ
イオードを用いる。これらの受光感度波長依存性を、図
5及び図6に示した。図5のSiフォトダイオードは、
1μm(1000nm)以上では感度を有せず、さらに
1μmよりも長い波長の光は透過する特性がある。図6
のInGaAs−PINフォトダイオードは、その特性
が1μm以下では感度が弱くなっているため長波は1μ
m〜1.65μmを用いるのが望ましい。また、人の目
への安全性を考慮すると、低速時及び停車時には長距離
を測定する必要があまりないため、1.4μm以上の波
長光だけを使用すればよい。
When a light emitting element having an emission wavelength of 1.4 μm or more is used, a Ge avalanche photodiode, an InGaAs-PIN photodiode, a Ge photodiode, or the like is used as a light receiving element. When a light emitting element having an emission wavelength of 1 μm or less is used, a Si photodiode or a Si-PIN photodiode is used as a light receiving element. The wavelength dependence of the light receiving sensitivity is shown in FIGS. The Si photodiode of FIG.
At a wavelength of 1 μm (1000 nm) or more, there is no sensitivity, and light having a wavelength longer than 1 μm is transmitted. FIG.
The InGaAs-PIN photodiode has a low sensitivity when its characteristic is 1 μm or less, so that a long wave is 1 μm.
It is desirable to use m to 1.65 μm. In consideration of safety to human eyes, it is not necessary to measure a long distance at low speed and at a stop, so that only light having a wavelength of 1.4 μm or more may be used.

【0020】さらに、この距離測定装置を車、オートバ
イ、電車等の移動体に取り付けることにより、移動体間
の距離の測定が可能となり、衝突や接触の予防が可能と
なる。特に、軌道上を走る電車と異なり自動車やオート
バイは前後だけでなく左右どの方向からも衝突や接触の
可能性が高いため、距離測定装置を取り付けることで走
行上の安全性が向上する。さらに、近距離の測定では車
の駐停車時の車や障害物までの距離を計測するシステム
にも有用である。
Further, by attaching this distance measuring device to a moving body such as a car, a motorcycle, a train, etc., the distance between the moving bodies can be measured, and collision and contact can be prevented. In particular, unlike a train running on a track, automobiles and motorcycles have a high possibility of collision or contact not only from the front and rear but also from any direction from the left and right. By installing a distance measuring device, safety in traveling is improved. Further, the short distance measurement is also useful for a system that measures the distance to a vehicle or an obstacle when the vehicle is parked or stopped.

【0021】次に、半導体レーザの作成方法を説明す
る。図7には、半導体レーザの断面構造の一例を示す。
半導体レーザは、GaAs、InP、サファイヤなどの
基板200の上にエピタキシャル成長を行い、結晶中に
各動作領域(バッファー層201、クラッド層202、
光ガイド層203、活性層204、光ガイド層205、
クラッド層206、キャップ層207)を設ける。一般
的に基板200にはn型の基板を使用する。材料系とし
ては、GaAs−AlGaAs系、InGaAsP−G
aAs系、InGaAsP−InP系、InGaP−I
nGaAlP系、GaInNAs−InAs系、GaI
nNAs−GaAs系、GaAs−GaN系等がある
が、特に限定されるものでない。エピタキシャル成長方
法は、液相エピタキシャル、分子線エピタキシ(MB
E:molecular beam epitaxy)、有機金属気相エピタキ
シ(MOCVD:metal organic chemical vapour depo
sition)等があるが、どの方法を用いてもよい。さら
に、活性層204の構造もダブルへテロ構造、量子井戸
構造等いずれの構造を用いてもよい。
Next, a method of manufacturing a semiconductor laser will be described. FIG. 7 shows an example of a cross-sectional structure of a semiconductor laser.
The semiconductor laser performs epitaxial growth on a substrate 200 such as GaAs, InP, sapphire, etc., and forms each operating region (buffer layer 201, cladding layer 202,
Light guide layer 203, active layer 204, light guide layer 205,
A cladding layer 206 and a cap layer 207) are provided. Generally, an n-type substrate is used as the substrate 200. As a material system, GaAs-AlGaAs system, InGaAsP-G
aAs system, InGaAsP-InP system, InGaP-I
nGaAlP system, GaInNAs-InAs system, GaI
There are an nNAs-GaAs system, a GaAs-GaN system, and the like, but there is no particular limitation. Epitaxial growth methods include liquid phase epitaxy and molecular beam epitaxy (MB
E: molecular beam epitaxy, MOCVD: metal organic chemical vapor depo
sition), but any method may be used. Further, the structure of the active layer 204 may be any structure such as a double hetero structure and a quantum well structure.

【0022】その後、オーミックコンタクト電極(p型
電極)208を形成する。このp型電極208は電子ビ
ーム蒸着、スパッタ法などにより所定の厚さに成膜す
る。そして、パターン化が必要な場合、フォトレジスト
加工、ケミカルエッチング、イオンビームエッチングな
どを用い所定のパターンに加工する。さらに、合金化の
必要な材料についてはアニール処理を行う。p型電極2
08としては、例えばAu−Zn/Au,Cr/Au,
Mo/Au,Ti/Pt/Au,Cr/Pt/Auなど
があるが、オーミックコンタクトが得られればこの限り
ではない。
Thereafter, an ohmic contact electrode (p-type electrode) 208 is formed. The p-type electrode 208 is formed to a predetermined thickness by electron beam evaporation, sputtering, or the like. Then, when patterning is required, it is processed into a predetermined pattern using photoresist processing, chemical etching, ion beam etching, or the like. Further, an annealing process is performed on materials that need to be alloyed. p-type electrode 2
08 is, for example, Au-Zn / Au, Cr / Au,
There are Mo / Au, Ti / Pt / Au, Cr / Pt / Au and the like, but this is not limited as long as an ohmic contact can be obtained.

【0023】その後、チップ化を容易にするために基板
裏面側を研磨しウエハー厚を100μm程度にする。こ
の厚さはキャビティ長(共振器長)の約1/3以下でよ
く、キャビティ長は300μm〜1mm程度であるが、
薄い方が放熱性がよいので加工性からも50μm〜20
0μmが望ましい。ただし、へき開面を使用せずドライ
エッチにより反射面を作製する場合はこの限りではな
い。
Thereafter, the back surface of the substrate is polished to make the thickness of the wafer about 100 μm to facilitate chip formation. This thickness may be about 1/3 or less of the cavity length (resonator length), and the cavity length is about 300 μm to 1 mm.
The thinner the better, the better the heat dissipation.
0 μm is desirable. However, this does not apply to the case where the reflection surface is manufactured by dry etching without using the cleavage surface.

【0024】引き続き、n型電極209を電子ビーム蒸
着、スパッタ法などにより所定の厚さに成膜する。n型
電極209としては、例えばAu−Ge/Ni/Au,
Au−Sn/Auなどがあり、成膜後アローイングを行
い、n型電極209とする。
Subsequently, an n-type electrode 209 is formed to a predetermined thickness by electron beam evaporation, sputtering, or the like. As the n-type electrode 209, for example, Au—Ge / Ni / Au,
There is Au-Sn / Au or the like, and after film formation, arrowing is performed to form an n-type electrode 209.

【0025】そして、気相成長によりハンダ層(図7で
は図示略)としての薄膜を設ける。成膜方法は電子ビー
ム蒸着、抵抗加熱蒸着、スパッタ法などによりハンダ層
を形成する。ハンダ層の材料としては、Au−Sn,P
b−Sn等が用いられる。
Then, a thin film as a solder layer (not shown in FIG. 7) is provided by vapor phase growth. As a film forming method, a solder layer is formed by electron beam evaporation, resistance heating evaporation, sputtering, or the like. Au-Sn, P
b-Sn or the like is used.

【0026】さらに、所定のサイズにチップ化する。こ
のとき、レーザ光の出力面は鏡面でないとレーザ発振が
起こらないので、へき開面とするか、ドライエッチング
により発光端面を作製する。発光端面には、端面の保護
と光出力の効率を向上させるために出力端面に低反射膜
を、また、他の一方の端面には高反射膜を設ける。反射
膜の反射率は、低反射膜が2〜25%程度、高反射膜が
80〜100%程度が望ましい。また、反射膜は単層膜
と多層膜のいずれでもよいが、低反射膜にはAl
2 3 ,Si02 ,SiNx ,SiC,C,MgO等の
単層膜を用い、高反射膜にはAl2 3 ,Si02 ,S
iNx ,C,MgO等とa−Si、Cr2 3,TiO
2 とするなど、屈折率差のある膜の組み合わせによる多
層膜構造とするのが望ましい。発光ダイオードの場合
は、へき開を必要とせず、端面に反射膜を形成する必要
もない。このため、チップ化もダイシングカットで行え
ばよい。
Further, chips are formed into a predetermined size. At this time, since laser oscillation does not occur unless the output surface of the laser beam is a mirror surface, a cleavage surface or a light emitting end surface is manufactured by dry etching. The light-emitting end face is provided with a low-reflection film on the output end face and a high-reflection film on the other end face in order to protect the end face and improve the efficiency of light output. The reflectivity of the reflection film is desirably about 2 to 25% for the low reflection film and about 80 to 100% for the high reflection film. The reflection film may be either a single-layer film or a multilayer film.
A single layer film of 2 O 3 , SiO 2 , SiN x , SiC, C, MgO, etc. is used, and the high reflection film is made of Al 2 O 3 , SiO 2 , S
iN x , C, MgO, etc. and a-Si, Cr 2 O 3 , TiO
It is desirable to have a multilayer film structure by a combination of films having a difference in refractive index, such as 2 . In the case of a light emitting diode, no cleavage is required, and there is no need to form a reflective film on the end face. Therefore, chips may be formed by dicing cut.

【0027】1.4μm以上の波長の半導体レーザを得
るためには、GaAs基板200上に活性層としてGa
InNAs層204を形成した構成の半導体素子、及び
InP基板(図7の符号200に相当する部材)上に活
性層としてInGaAsP層(同じく符号204に相当
する部材)を形成した構成の半導体素子が望ましい。
In order to obtain a semiconductor laser having a wavelength of 1.4 μm or more, an active layer is formed on a GaAs substrate 200 as an active layer.
A semiconductor element having a configuration in which the InNAs layer 204 is formed, and a semiconductor element having a configuration in which an InGaAsP layer (a member corresponding to the same reference numeral 204) is formed as an active layer on an InP substrate (a member corresponding to the reference numeral 200 in FIG. 7) are desirable. .

【0028】特に、GaAs基板200上に活性層とし
てGaInNAs層204を形成した構成の半導体素子
は、Nの組成を変化させることにより発光波長が1.4
μm以上に限らず800nmの波長から発光が可能であ
る。また、従来から、半導体レーザとしてよく使用され
ているGaAsを基板に用いることにより素子作製の工
程が容易に行える。さらに、GaInNAsはワイドバ
ンドギャップのAlGaAsやGaInPAsとヘテロ
接合を形成することにより、伝導帯のバンド不連続(バ
ンドオフセット)が非常に大きくなり、温度特性が非常
によい特性が得られるメリットがある。このため、大出
力にした場合でも光出力の低下はほとんど無く安定した
特性が得られる。
In particular, a semiconductor element having a structure in which a GaInNAs layer 204 is formed as an active layer on a GaAs substrate 200 has an emission wavelength of 1.4 by changing the composition of N.
Light emission is possible from a wavelength of 800 nm, not limited to μm or more. In addition, by using GaAs, which has been conventionally used as a semiconductor laser, for a substrate, an element manufacturing process can be easily performed. Further, GaInNAs has a merit that by forming a heterojunction with AlGaAs or GaInPAs having a wide band gap, the band discontinuity (band offset) of the conduction band becomes extremely large, and characteristics with very good temperature characteristics can be obtained. Therefore, even when the output is large, the optical output hardly decreases, and stable characteristics can be obtained.

【0029】図8(a),(b)には、GaInPAs
系とGaInNAs/GaAsにおける1.3μm帯で
のエネルギーバンド図を示す。半導体レーザの井戸層と
障壁層のコンダクションバンドのエネルギー差ΔEcが
大きいほど電子の閉じ込めエネルギーが大きくなる。電
子の閉じ込めエネルギーΔEc が小さいと、電子を発光
部分に注入しても一部の電子が熱エネルギーによりオー
バーフローして発光に寄与しなくなる。発光に寄与しな
い電子は高温動作時には急激に増加する。図8(b)に
示すGaInNAs/GaAs系では、十分にΔEc が
大きいため高温動作時においても電子と正孔の両方を完
全にGaInNAsの発光部分に閉じ込めることがで
き、温度特性のよい半導体レーザを実現できる。
FIGS. 8A and 8B show GaInPAs.
FIG. 2 shows an energy band diagram in a 1.3 μm band in a system and GaInNAs / GaAs. The larger the energy difference ΔEc between the conduction band of the well layer and the barrier layer of the semiconductor laser, the larger the electron confinement energy. If the electron confinement energy ΔEc is small, even if electrons are injected into the light emitting portion, some of the electrons will overflow due to thermal energy and will not contribute to light emission. Electrons that do not contribute to light emission increase rapidly during high-temperature operation. In the GaInNAs / GaAs system shown in FIG. 8B, since ΔEc is sufficiently large, both electrons and holes can be completely confined in the light emitting portion of GaInNAs even at the time of high-temperature operation, and a semiconductor laser having good temperature characteristics can be obtained. realizable.

【0030】前述の図7はGaInNAs/GaAs系
の素子構造であるが、GaAsの光ガイド層203,2
05は無くてもよく、また、GaAsの代りにAlGa
Asを用いてもよい。
FIG. 7 shows a GaInNAs / GaAs-based device structure.
05 may be omitted, and AlGa may be used instead of GaAs.
As may be used.

【0031】異なる波長の光を同一の光学系で発光する
方法は、図9に示すように、異なる発光素子301,3
02からの発光をミラー303,304を用いて合成す
る方法と、図10に示すように、1つのパッケージ40
0で複数の発光波長の光を発光させる方法がある。1つ
のパッケージ400で複数の発光波長の光を発光させる
方法には2つの方法があり、1つは図10に示すよう
に、発光波長の異なる発光素子401,402を同一パ
ッケージ400に実装する方法であり、もう1つは同一
基板上に波長の異なる発光素子を形成する方法である。
前者の方法は、異なる素子401,402を実装すれば
よいため、異なる波長を容易に同じパッケージ400に
入れることが可能である。後者については、基板との格
子整合の関係があるため、波長をコントロールすること
が難しい。
As shown in FIG. 9, different light emitting elements 301 and 3 emit light of different wavelengths by the same optical system.
02 and the mirrors 303 and 304, and one package 40 as shown in FIG.
There is a method of emitting light of a plurality of emission wavelengths at 0. There are two methods for emitting light having a plurality of emission wavelengths in one package 400. One is to mount light emitting elements 401 and 402 having different emission wavelengths in the same package 400 as shown in FIG. The other is a method of forming light emitting elements having different wavelengths on the same substrate.
In the former method, since different elements 401 and 402 may be mounted, different wavelengths can be easily put in the same package 400. In the latter case, it is difficult to control the wavelength because of the lattice matching with the substrate.

【0032】例えば、GaAs基板上にAlGaAs系
の半導体レーザを作製した場合、600nm〜900n
mの範囲で変化は可能であるが、それ以上の波長の素子
を作製することは難しい。前記したように1.4μmと
800nm〜900nmの半導体レーザを同一基板に作
製するためには、GaAs基板上にAlGaAs系の半
導体レーザとGaInNAs系の半導体レーザを用いる
ことにより作製が可能である。 (第1の実施例)距離測定装置を作製し、自動車に搭載
した。発光素子には、発光波長850nmのGaAs基
板上のAlGaAs系半導体レーザと、発光波長1.4
μmのInP基板上のInGaAsP系半導体レーザを
用いた。この素子を一つのパッケージに実装し発光素子
として用いた。受光素子は、図3の示したように、同一
光路上においてInGaAs−PINフォトダイオード
(図3の素子120に相当)の上流側にSiフォトダイ
オード(図3の素子110に相当)を配置したものを用
いた。
For example, when an AlGaAs-based semiconductor laser is manufactured on a GaAs substrate, the thickness of the semiconductor laser is 600 nm to 900 nm.
Although the change is possible in the range of m, it is difficult to produce an element having a wavelength longer than m. As described above, in order to manufacture a semiconductor laser of 1.4 μm and 800 nm to 900 nm on the same substrate, the semiconductor laser can be manufactured by using an AlGaAs semiconductor laser and a GaInNAs semiconductor laser on a GaAs substrate. (First Embodiment) A distance measuring device was manufactured and mounted on an automobile. The light emitting element includes an AlGaAs semiconductor laser on a GaAs substrate having an emission wavelength of 850 nm, and an emission wavelength of 1.4.
An InGaAsP-based semiconductor laser on a μm InP substrate was used. This device was mounted on one package and used as a light emitting device. As shown in FIG. 3, the light receiving element has a Si photodiode (corresponding to the element 110 in FIG. 3) disposed upstream of the InGaAs-PIN photodiode (corresponding to the element 120 in FIG. 3) on the same optical path. Was used.

【0033】また、図11に示すように、検知角(検知
範囲)に関して、発光波長850nmの発光素子は前方
±5°の範囲の距離を測定し、最大170mまで測定で
きるように光出力を40Wとしている。また、発光波長
1.4μmの発光素子は、前方±40°の範囲の距離を
測定し、最大40mまで測定できるように光出力を5W
としている。そして、時速30km以上では、発光波長
850nmの発光素子を駆動して前方±5°の範囲で距
離測定するとともに、発光波長1.4μmの発光素子を
駆動して前方±40°の範囲の距離を測定する。一方、
時速30km未満では、発光波長1.4μmの発光素子
を駆動して前方±40°の範囲で距離測定を行うが、発
光波長850nmの発光素子は駆動させない(発光させ
ない)ようになっている。
As shown in FIG. 11, with respect to the detection angle (detection range), the light emitting element having a light emission wavelength of 850 nm measures a distance within a range of ± 5 ° in front, and outputs a light output of 40 W so that a maximum of 170 m can be measured. And The light emitting element having a light emission wavelength of 1.4 μm measures a distance in a range of ± 40 ° in front of the light emitting element and outputs a light output of 5 W so that a maximum of 40 m can be measured.
And At a speed of 30 km / h or more, a light emitting element having an emission wavelength of 850 nm is driven to measure a distance in a range of ± 5 ° forward, and a light emitting element of 1.4 μm in emission wavelength is driven to measure a distance in a range of ± 40 ° forward. Measure. on the other hand,
When the speed is less than 30 km / h, the light emitting element having the emission wavelength of 1.4 μm is driven to measure the distance in a range of ± 40 ° in front, but the light emitting element having the emission wavelength of 850 nm is not driven (does not emit light).

【0034】測定範囲に光をスキャンする方法は、例え
ば図12に示すように、ポリゴンミラー603を用いる
公知の方法を採用している。つまり、発光素子600の
発する光をミラー601に反射させポリゴンミラー60
3に導く。このポリゴンミラー603を回転させること
により、ポリゴンミラー601からの光の向きを変更さ
せる。なお、スキャンする方法はこの方法に限定される
ことはない。
As a method of scanning light in the measurement range, a known method using a polygon mirror 603 is employed as shown in FIG. 12, for example. That is, the light emitted from the light emitting element 600 is reflected by the mirror 601 so that the polygon mirror 60
Lead to 3. By rotating the polygon mirror 603, the direction of light from the polygon mirror 601 is changed. Note that the scanning method is not limited to this method.

【0035】この実施例により、図13に示すように、
隣車線の前方約3mを走行する車を認識でき、且つ、1
00m前方を走行する自動車との車間距離を測定するこ
とができる。 (第2の実施例)発光素子に、発光波長800nmのG
aAs基板上のInGaAsP系半導体レーザと、発光
波長1.4μmのGaAs基板上のGaInNAs系半
導体レーザを用い、距離測定装置を作製した。受光素子
は、図3の示したように、Geフォトダイオード(図3
の素子120に相当)の上流側にSi−PINフォトダ
イオード(図3の素子110に相当)を同一光路上に配
置したものを用いた。
According to this embodiment, as shown in FIG.
A car traveling about 3 m ahead of the next lane can be recognized, and 1
It is possible to measure the inter-vehicle distance with a car traveling 00 m ahead. (Second embodiment) A light emitting device having a light emitting wavelength of 800 nm
A distance measuring device was manufactured using an InGaAsP-based semiconductor laser on an aAs substrate and a GaInNAs-based semiconductor laser on a GaAs substrate with a light emission wavelength of 1.4 μm. The light receiving element is a Ge photodiode (FIG. 3) as shown in FIG.
A device in which a Si-PIN photodiode (corresponding to the device 110 of FIG. 3) is arranged on the same optical path upstream of the device 120 of FIG.

【0036】以上のごとく、本実施形態は、発光素子か
ら測定対象に光を照射するとともに測定対象からの反射
光を受光素子にて受光して、測定対象までの距離を測定
する距離測定装置において、異なる波長の光を発光する
複数の発光素子を有する構成を採用し、波長の異なる各
光を選択的に使用して距離を測定するようにした。これ
により、出射光が目に入った場合の安全基準を満たし、
数mの近距離から100m以上の遠距離まで距離を誤認
識なく測定することが可能となる。
As described above, the present embodiment is directed to a distance measuring apparatus that irradiates light from a light emitting element to a measurement target, receives reflected light from the measurement target by a light receiving element, and measures the distance to the measurement target. A configuration having a plurality of light-emitting elements that emit light of different wavelengths is adopted, and the distance is measured by selectively using light of different wavelengths. This satisfies the safety standards when the emitted light enters the eyes,
It is possible to measure a distance from a short distance of several meters to a long distance of 100 m or more without erroneous recognition.

【0037】この場合、 ・図11に示すごとく各発光素子は、その検知領域が異
なるものとしたり、 ・各発光素子に対応する複数の受光素子を備え、各受光
素子は、図5,6に示すごとく、それぞれの波長の光に
適応した感度を有するものとしたり、 ・図3に示すごとく、第1の波長の光を透過し、第1の
波長より短い第2の波長の光に対して感度を有する第1
の受光素子110と、第1の波長の光に対して感度を有
する第2の受光素子120が同一光路上に配置されてい
るものとしたり、 ・図9,10に示すごとく、複数の発光素子301,3
02(401,402)が1つの光学系を使用したり、 ・距離測定装置を自動車等の移動体に搭載し、移動体の
移動速度に応じて複数の発光素子の中から適切な発光波
長を有する発光素子を選択して発光させたり、 ・同じく移動体の移動速度に応じて複数の発光素子の中
から適切な光出力を有する発光素子を選択して発光させ
たり、 ・図11に示すごとく、複数の発光素子は、それぞれ、
異なる検知角の範囲で光を照射するものであり、被測定
物体と移動体との間の距離が近距離の場合の検知角は、
被測定物体と移動体との間の距離が遠距離の場合の検知
角に比較して大きくしたり、 ・発光素子の発光波長が、少なくとも1.4μm以上で
あるとしたり、することができる。
In this case, as shown in FIG. 11, each light-emitting element has a different detection area. ・ A plurality of light-receiving elements corresponding to each light-emitting element are provided. As shown in the drawing, it has sensitivity adapted to light of each wavelength, and as shown in FIG. 3, it transmits light of the first wavelength and transmits light of the second wavelength shorter than the first wavelength. First with sensitivity
And the second light receiving element 120 having sensitivity to the light of the first wavelength is disposed on the same optical path. As shown in FIGS. 9 and 10, a plurality of light emitting elements 301,3
02 (401, 402) uses one optical system; ・ A distance measuring device is mounted on a moving body such as an automobile, and an appropriate emission wavelength is selected from a plurality of light emitting elements according to the moving speed of the moving body. A light-emitting element having an appropriate light output is selected from a plurality of light-emitting elements according to the moving speed of the moving body, and a light-emitting element is selected as shown in FIG. , A plurality of light emitting elements,
Light is emitted in the range of different detection angles, the detection angle when the distance between the measured object and the moving body is a short distance,
The detection angle can be made larger than the detection angle when the distance between the measured object and the moving body is long, or the emission wavelength of the light-emitting element can be at least 1.4 μm or more.

【0038】また他にも、各発光素子は、それぞれ、波
長の異なる複数の光を発光する構成とすることもでき
る。つまり、測定の際に各素子毎の使用する波長を切り
替えて、各発光素子毎に異なる領域に存在する物体と発
光素子との間の距離を測定するようにしてもよい。
In addition, each light emitting element may be configured to emit a plurality of lights having different wavelengths. In other words, the wavelength used for each element may be switched at the time of measurement, and the distance between an object existing in a different region for each light emitting element and the light emitting element may be measured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 波長に対するMPE(最大許容露光量)の関
係を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a relationship between MPE (maximum allowable exposure amount) and wavelength.

【図2】 受光素子を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a light receiving element.

【図3】 受光素子を示す図。FIG. 3 illustrates a light receiving element.

【図4】 受光素子を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a light receiving element.

【図5】 Siフォトダイオードの感度特性図。FIG. 5 is a sensitivity characteristic diagram of a Si photodiode.

【図6】 InGaAsフォトダイオードの感度特性
図。
FIG. 6 is a sensitivity characteristic diagram of an InGaAs photodiode.

【図7】 半導体レーザの縦断面図。FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a semiconductor laser.

【図8】 エネルギーバンド図。FIG. 8 is an energy band diagram.

【図9】 発光素子を示す図。FIG. 9 illustrates a light-emitting element.

【図10】 発光素子を示す図。FIG. 10 illustrates a light-emitting element.

【図11】 車間距離測定装置に適用した場合の平面
図。
FIG. 11 is a plan view when applied to an inter-vehicle distance measuring device.

【図12】 測定範囲に光をスキャンする方法を説明す
るための図。
FIG. 12 is a view for explaining a method of scanning a measurement range with light.

【図13】 車間距離測定装置に適用した場合の平面
図。
FIG. 13 is a plan view when applied to an inter-vehicle distance measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

110…受光素子、120…受光素子、121…リング
状電極、122…リング状電極、200…n−GaAs
基板、201…n−GaAsバッファー層、202…n
−AlGaAsクラッド層、203…GaAs光ガイド
層、204…GaInNAs活性層(量子井戸層)、2
05…GaAs光ガイド層、206…p−AlGaAs
クラッド層、207…p−GaAsキャップ層、301
…発光素子、302…発光素子、303…ミラー、30
4…ミラー、400…パッケージ、401…発光素子、
402…発光素子。
110: light receiving element, 120: light receiving element, 121: ring electrode, 122: ring electrode, 200: n-GaAs
Substrate, 201 ... n-GaAs buffer layer, 202 ... n
-AlGaAs cladding layer, 203 ... GaAs light guide layer, 204 ... GaInNAs active layer (quantum well layer), 2
05 ... GaAs light guide layer, 206 ... p-AlGaAs
Clad layer, 207... P-GaAs cap layer, 301
.., Light emitting element, 302, light emitting element, 303, mirror, 30
4 mirror, 400 package, 401 light emitting element,
402 ... Light-emitting element.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G08G 1/16 H01L 31/12 E 5J084 H01L 31/10 33/00 L 31/12 G01S 17/88 A 33/00 H01L 31/10 A (72)発明者 鈴木 愛美 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 森下 敏之 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 2F112 AD10 BA18 CA05 DA15 DA19 DA25 DA32 EA20 FA12 5F041 AA12 CA04 CA05 CA22 CA34 CA35 CA36 EE21 EE23 5F049 MA02 MA04 MB02 MB05 NB07 5F089 BA02 BB01 BC22 5H180 AA01 CC03 CC14 LL01 LL04 LL06 LL09 5J084 AA02 AA05 AB01 AC02 AD20 BA04 BA08 BA22 BA36 BA49 BB20 BB24 BB26 CA03 CA11 CA19 CA31 DA01 DA07 EA22 EA29 EA32 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G08G 1/16 H01L 31/12 E 5J084 H01L 31/10 33/00 L 31/12 G01S 17/88 A 33/00 H01L 31/10 A (72) Inventor Aimi Suzuki 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Inside Denso, Inc. (Ref.) BA36 BA49 BB20 BB24 BB26 CA03 CA11 CA19 CA31 DA01 DA07 EA22 EA29 EA32

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光素子から測定対象に光を照射すると
ともに測定対象からの反射光を受光素子にて受光して、
測定対象までの距離を測定する距離測定装置において、 異なる波長の光を発光する複数の発光素子を有すること
を特徴とする距離測定装置。
1. A light-emitting element irradiates light to a measurement target and receives light reflected from the measurement target by a light-receiving element.
A distance measuring device for measuring a distance to a measurement object, comprising a plurality of light emitting elements that emit light of different wavelengths.
【請求項2】 各発光素子は、その検知領域が異なるこ
とを特徴とする請求項1に記載の距離測定装置。
2. The distance measuring apparatus according to claim 1, wherein each light emitting element has a different detection area.
【請求項3】 各発光素子は、それぞれ、波長の異なる
複数の光を発光するものであることを特徴とする請求項
2に記載の距離測定装置。
3. The distance measuring apparatus according to claim 2, wherein each light emitting element emits a plurality of lights having different wavelengths.
【請求項4】 各発光素子に対応する複数の受光素子を
備え、各受光素子は、それぞれの波長の光に適応した感
度を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1
項に記載の距離測定装置。
4. The light-receiving device according to claim 1, further comprising a plurality of light-receiving elements corresponding to the respective light-emitting elements, wherein each of the light-receiving elements has a sensitivity adapted to light of each wavelength.
The distance measuring device according to the paragraph.
【請求項5】 第1の波長の光を透過し、第1の波長よ
り短い第2の波長の光に対して感度を有する第1の受光
素子と、第1の波長の光に対して感度を有する第2の受
光素子が同一光路上に配置されていることを特徴とする
請求項4に記載の距離測定装置。
5. A first light receiving element that transmits light of a first wavelength and has sensitivity to light of a second wavelength shorter than the first wavelength, and sensitivity to light of the first wavelength. The distance measuring apparatus according to claim 4, wherein the second light receiving elements having the following are arranged on the same optical path.
【請求項6】 複数の発光素子が1つの光学系を使用す
ることを特徴とする請求項1に記載の距離測定装置。
6. The distance measuring apparatus according to claim 1, wherein the plurality of light emitting elements use one optical system.
【請求項7】 移動体に搭載されていることを特徴とす
る請求項1〜6のいずれか1項に記載の距離測定装置。
7. The distance measuring device according to claim 1, wherein the distance measuring device is mounted on a moving body.
【請求項8】 前記移動体の移動速度に応じて前記複数
の発光素子の中から適切な発光波長を有する発光素子を
選択して発光させることを特徴とする請求項7に記載の
距離測定装置。
8. The distance measuring apparatus according to claim 7, wherein a light emitting element having an appropriate emission wavelength is selected from the plurality of light emitting elements according to a moving speed of the moving body to emit light. .
【請求項9】 前記移動体の移動速度に応じて前記複数
の発光素子の中から適切な光出力を有する発光素子を選
択して発光させることを特徴とする請求項7に記載の距
離測定装置。
9. The distance measuring apparatus according to claim 7, wherein a light emitting element having an appropriate light output is selected from the plurality of light emitting elements according to a moving speed of the moving body to emit light. .
【請求項10】 前記複数の発光素子は、それぞれ、異
なる検知角の範囲で光を照射するものであり、被測定物
体と前記移動体との間の距離が近距離の場合の検知角
は、被測定物体と前記移動体との間の距離が遠距離の場
合の検知角に比較して大きいことを特徴とする請求項7
〜9のいずれか1項に記載の距離測定装置。
10. The light-emitting elements each emit light in a range of different detection angles, and the detection angle when the distance between the measured object and the moving body is short is: 8. The apparatus according to claim 7, wherein a distance between the measured object and the moving body is larger than a detection angle in a case where the distance is long.
The distance measuring device according to any one of claims 9 to 9.
【請求項11】 前記発光素子の発光波長が、少なくと
も1.4μm以上であることを特徴とする請求項1〜1
0のいずれか1項に記載の距離測定装置。
11. The light emitting device according to claim 1, wherein a light emitting wavelength of the light emitting element is at least 1.4 μm or more.
0. The distance measuring device according to any one of 0.
【請求項12】 前記複数の受光素子は、第1の受光素
子がSiフォトダイオードであり、第2の受光素子がG
eフォトダイオード又はInGaAsフォトダイオード
であることを特徴とする請求項4〜10のいずれか1項
に記載の距離測定装置。
12. The plurality of light receiving elements, wherein the first light receiving element is a Si photodiode and the second light receiving element is a G photodiode.
The distance measuring device according to claim 4, wherein the distance measuring device is an e-photodiode or an InGaAs photodiode.
【請求項13】 前記発光素子は半導体レーザであるこ
とを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の
距離測定装置。
13. The distance measuring apparatus according to claim 1, wherein said light emitting element is a semiconductor laser.
【請求項14】 前記複数の素子を同一パッケージに実
装したことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項
に記載の距離測定装置。
14. The distance measuring apparatus according to claim 1, wherein the plurality of elements are mounted on a same package.
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