JP2002076068A - Manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

Manufacturing method of semiconductor device

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JP2002076068A
JP2002076068A JP2000265110A JP2000265110A JP2002076068A JP 2002076068 A JP2002076068 A JP 2002076068A JP 2000265110 A JP2000265110 A JP 2000265110A JP 2000265110 A JP2000265110 A JP 2000265110A JP 2002076068 A JP2002076068 A JP 2002076068A
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JP
Japan
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chip
defective
tape carrier
mtcp
manufacturing
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Application number
JP2000265110A
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Japanese (ja)
Inventor
Kensuke Tokida
健祐 常田
Seiichiro Tsukui
誠一郎 津久井
Koji Nagaoka
講二 長岡
Atsushi Nakamura
淳 中村
Toshio Kanno
利夫 管野
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Tohbu Semiconductor Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the reduction of a production yield due to defective chips in MTCP ICs. SOLUTION: This manufacturing method of a MTCP IC comprises a process of bonding inner leads to a tape carrier, an inspection process of inspecting plural chips whose inner leads have been bonded, a failure area cut-off process of cutting off the area with which a failure chip on the tape carrier is connected, and a good chip unit connection process connecting a good chip unit mechanically and electrically with a hole which is made by cutting off the failure chip on the tape carrier. In this case, chip-exchange pads are formed in advance on the top surface and under surface of the chip-connection area of the tape carrier. By aligning the chip-exchange pads on the top surface of the tape carrier with the chip-exchange pads on the under surface of a good chip unit, and soldering them, attachment of the good chip unit is achieved. In this manner, since an MTCP IC in total can be rescued by exchanging a defective chip with a good chip unit, the reduction of a production yield due to defective chips can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
技術、特に、半導体素子を含む半導体集積回路が作り込
まれた半導体チップを複数個実装する技術に関し、例え
ば、メモリモジュールに利用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technology for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a technology for mounting a plurality of semiconductor chips on which a semiconductor integrated circuit including a semiconductor element is fabricated. Technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】記憶容量の増大の要求に応える従来のメ
モリモジュールとして、テープ・キャリア・パッケージ
(以下、TCPという。)を備えた半導体集積回路装置
(以下、ICという。)が複数個、矩形の平板形状に形
成されたモジュール基板に横に並べられて実装されてい
るものがある。
2. Description of the Related Art A plurality of semiconductor integrated circuit devices (hereinafter, referred to as ICs) each having a tape carrier package (hereinafter, referred to as TCP) are rectangular as conventional memory modules which meet a demand for an increase in storage capacity. Some are mounted side by side on a module substrate formed in a flat plate shape.

【0003】なお、TCPの基板への実装技術を述べて
いる例としては、日経BP社1993年5月31日発行
の「実践講座VLSIパッケージング技術(上)」P2
67〜P272、がある。
[0003] As an example describing the technology for mounting TCP on a board, see "Practical Course VLSI Packaging Technology (1)", published on May 31, 1993, Nikkei BP, p.
67 to P272.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、TCPを備え
たIC(以下、TCP・ICという。)がモジュール基
板に複数個横並びに実装されているメモリモジュールに
おいては、モジュール基板には各TCP・IC同士を連
絡する電気配線が複数箇所に敷設されることになるた
め、モジュール基板に対する実装密度の向上には限界が
ある。
However, in a memory module in which a plurality of ICs each having TCP (hereinafter referred to as TCP ICs) are mounted side by side on a module substrate, each TCP / IC is mounted on the module substrate. Since electric wirings that connect each other are laid at a plurality of locations, there is a limit in improving the mounting density on the module substrate.

【0005】そこで、本発明者は、メモリが作り込まれ
た複数個の半導体チップ(以下、チップという。)をT
CPのテープキャリアに横並びに機械的に接続した状態
のままで相互に電気的に接続(連携)した状態とし、こ
のマルチチップTCP(以下、MTCPという。)をモ
ジュール基板に実装させてなるメモリモジュールを、考
えた。すなわち、このMTCPを使用したメモリモジュ
ールによれば、モジュール基板には従来のTCP・IC
によるメモリモジュールにおけるTCP・IC同士を連
絡する複数箇所の電気配線敷設領域を省略することがで
きるため、実装密度を大幅に向上させることができる。
Therefore, the present inventor has referred to a plurality of semiconductor chips (hereinafter, referred to as chips) in which a memory is built as T.
A memory module in which the multi-chip TCP (hereinafter, referred to as MTCP) is mounted on a module substrate while being electrically connected (cooperated) with each other while being mechanically connected side by side to the tape carrier of the CP. I thought. That is, according to the memory module using the MTCP, the conventional TCP / IC
In the memory module, a plurality of electric wiring laying regions for connecting TCP / ICs can be omitted, so that the mounting density can be greatly improved.

【0006】ところが、MTCPにおいては、複数個の
チップのうちに一個でも不良品が有ると、MTCP全体
が不良品となってしまうため、製造歩留りがきわめて低
下してしまうという問題点があることが本発明者によっ
て明らかにされた。
However, the MTCP has a problem in that if at least one of the plurality of chips has a defective product, the entire MTCP becomes a defective product, so that the manufacturing yield is extremely reduced. Revealed by the inventor.

【0007】本発明の目的は、不良品の存在による製造
歩留りの低下を防止することができる半導体装置の製造
方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor device which can prevent a decrease in manufacturing yield due to the presence of a defective product.

【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0010】すなわち、半導体装置の製造方法は、テー
プキャリアに機械的かつ電気的に接続された複数個の半
導体チップを検査する検査工程と、前記テープキャリア
における不良の半導体チップが接続された領域を打ち抜
く不良箇所打ち抜き工程と、前記テープキャリアの不良
チップ打ち抜き孔に良品個片を機械的かつ電気的に接続
する良品個片付け工程とを備えていることを特徴とす
る。
That is, a method of manufacturing a semiconductor device includes an inspection step of inspecting a plurality of semiconductor chips mechanically and electrically connected to a tape carrier, and a step of inspecting a region of the tape carrier to which a defective semiconductor chip is connected. The method includes a step of punching out a defective portion to be punched out, and a step of mechanically and electrically connecting a non-defective product piece to a defective chip punching hole of the tape carrier.

【0011】前記した手段によれば、テープキャリアに
接続された複数個の半導体チップに不良品が発見された
場合においては、テープキャリアの不良箇所を打ち抜い
て良品個片と置換することにより、複数個の半導体チッ
プが機械的かつ電気的に接続されたテープキャリアパッ
ケージ全体を救うことができるため、不良の半導体チッ
プの存在による製造歩留りの低下を防止することができ
る。
According to the above-mentioned means, when a defective product is found in a plurality of semiconductor chips connected to the tape carrier, a defective portion of the tape carrier is punched out and replaced with a non-defective product. Since the entire tape carrier package in which the individual semiconductor chips are mechanically and electrically connected can be saved, it is possible to prevent a reduction in the manufacturing yield due to the presence of a defective semiconductor chip.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施の形態であ
る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。
図2以降はその各工程を示す図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 et seq. Show the respective steps.

【0013】本実施の形態において、本発明に係る半導
体装置の製造方法は、メモリモジュールに使用されるM
TCPを備えたIC(以下、MTCP・ICという。)
の製造方法として構成されており、図1に示されている
フローを備えている。以下、図1のフローに従って、本
実施の形態に係るMTCP・ICの製造方法を説明す
る。
In the present embodiment, the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is applied to a memory device used in a memory module.
IC with TCP (hereinafter referred to as MTCP IC)
And has the flow shown in FIG. Hereinafter, the method of manufacturing the MTCP / IC according to the present embodiment will be described with reference to the flow of FIG.

【0014】図1に示されているように、MTCP・I
Cの製造方法においては、チップ準備工程においてチッ
プ1(図3以降参照)が準備され、テープキャリア準備
工程において図2に示されているテープキャリア2が準
備される。
As shown in FIG. 1, MTCP · I
In the method of manufacturing C, a chip 1 (see FIG. 3 and subsequent figures) is prepared in a chip preparation step, and a tape carrier 2 shown in FIG. 2 is prepared in a tape carrier preparation step.

【0015】チップ1は所謂IC製造の前工程において
半導体ウエハの状態でアクティブ・エリア側に半導体集
積回路としてのメモリを作り込まれ、ダイシング工程に
おいて正方形の平板形状に分断されて製造される。チッ
プ1のアクティブ・エリア側の表面はパッシベーション
膜(図示せず)によって被覆されており、パッシベーシ
ョン膜に形成された開口部には複数個の電極パッド(図
示せず)が外部に露出する状態に形成されている。複数
個の電極パッドにはバンプ付け工程においてバンプ(突
起電極、Bump)1aがそれぞれ突設される。なお、
図1に示されているように、チップにバンプが突設され
ない場合には、チップはバンプ付け工程を経ずにインナ
リードボンディング工程に供給される。
The chip 1 is manufactured by forming a memory as a semiconductor integrated circuit on the active area side in the state of a semiconductor wafer in a pre-process of so-called IC manufacturing, and dividing it into a square flat plate shape in a dicing process. The surface of the chip 1 on the active area side is covered with a passivation film (not shown), and a plurality of electrode pads (not shown) are exposed in openings formed in the passivation film. Is formed. Bumps (protrusion electrodes, bumps) 1a are respectively provided on the plurality of electrode pads in a bumping step. In addition,
As shown in FIG. 1, when no bump is formed on the chip, the chip is supplied to the inner lead bonding step without going through the bumping step.

【0016】図2に示されているように、テープキャリ
ア2はTCP・ICの製造方法に使用されているTAB
(テープ・オートメイテッド・ボンディング)テープに
相当するものである。テープキャリア2は同一パターン
が長手方向に繰り返されている。テープキャリア2はポ
リイミド等の絶縁性樹脂が用いられて同一パターンが長
手方向に連続するテープ形状に一体成形されているキャ
リア本体3を備えており、キャリア本体3の幅方向の両
端部には正方形の小孔形状に形成されたパーフォレーシ
ョン4がそれぞれ長手方向に一列横隊に整列されてい
る。キャリア本体3の中間部には長孔形状に形成された
窓孔5が長手方向に等間隔に配列されて開口されてい
る。
As shown in FIG. 2, the tape carrier 2 is made of TAB used in the method of manufacturing a TCP / IC.
(Tape automated bonding) It is equivalent to a tape. The same pattern is repeated in the tape carrier 2 in the longitudinal direction. The tape carrier 2 includes a carrier body 3 in which an insulating resin such as polyimide is used and the same pattern is integrally formed in a tape shape that is continuous in the longitudinal direction. Both ends of the carrier body 3 in the width direction are square. The perforations 4 formed in a small hole shape are arranged in a row in the longitudinal direction. In the middle part of the carrier body 3, window holes 5 formed in a long hole shape are opened at regular intervals in the longitudinal direction.

【0017】キャリア本体3の片側主面(以下、上面と
する。)における各窓孔5の位置にはインナリード6が
複数本ずつ敷設されており、各インナリード6の先端部
は窓孔5に突出されている。各インナリード6の窓孔5
と反対側には各アウタリード7がそれぞれ一連に連設さ
れており、互いに一連になったインナリード6とアウタ
リード7とは機械的かつ電気的に一体の状態になってい
る。インナリード6群およびアウタリード7群は、銅や
金等の良好な導電性を有する金属材料が使用されて形成
されている。インナリード6群およびアウタリード7群
の形成方法としては、キャリア本体3に溶着や接着等の
固着手段によって固着させた 銅箔や金箔をリ
ソグラフィー処理およびエッチング処理によってパター
ニングする方法や、キャリア本体3にリソグラフィー処
理によって選択的に金めっき処理する方法等がある。
A plurality of inner leads 6 are laid at the position of each window hole 5 on one side main surface (hereinafter referred to as the upper surface) of the carrier body 3, and the tip of each inner lead 6 is provided at the window hole 5. It is projected to. Window hole 5 for each inner lead 6
On the opposite side, the outer leads 7 are connected in series, respectively, and the inner leads 6 and the outer leads 7 that are connected to each other are mechanically and electrically integrated. The group of inner leads 6 and the group of outer leads 7 are formed using a metal material having good conductivity, such as copper or gold. The inner lead 6 group and the outer lead 7 group can be formed by a method of patterning a copper foil or a gold foil fixed to the carrier body 3 by a fixing means such as welding or bonding by lithography and etching, or by lithography on the carrier body 3. There is a method of selectively performing a gold plating treatment by a treatment.

【0018】アウタリード7のインナリード6と反対側
の端部にはチップ置換用パッド8が矩形の平板形状に形
成されており、隣合うアウタリード7、7のチップ置換
用パッド8、8間は電気的に接続されている。アウタリ
ード7におけるインナリード6とチップ置換用パッド8
との間にはスルーホール導体9がキャリア本体3を下面
側に貫通して形成されている。キャリア本体3の下面に
は下面側チップ置換用パッド8Aが上面側のチップ置換
用パッド8と対応するように矩形の平板形状に形成され
ており、下面側チップ置換用パッド8Aはスルーホール
導体9を通じてアウタリード7に電気的に接続されてい
る。キャリア本体3の上面および下面にはソルダレジス
ト等の絶縁材料を使用された絶縁膜10が、インナリー
ド6およびアウタリード7を被覆するようにそれぞれ被
着されている。但し、絶縁膜10は上下のチップ置換用
パッド8、8Aを露出させた状態になっている。
At the end of the outer lead 7 opposite to the inner lead 6, a chip replacement pad 8 is formed in the shape of a rectangular flat plate, and between the chip replacement pads 8 of the adjacent outer leads 7, 7, an electric connection is provided. Connected. Inner lead 6 and chip replacement pad 8 in outer lead 7
A through-hole conductor 9 is formed through the carrier body 3 on the lower surface side. The lower surface side chip replacement pad 8A is formed on the lower surface of the carrier body 3 in a rectangular flat plate shape so as to correspond to the upper surface side chip replacement pad 8, and the lower surface side chip replacement pad 8A is formed with a through-hole conductor 9 Through the outer lead 7. An insulating film 10 using an insulating material such as a solder resist is applied to the upper and lower surfaces of the carrier body 3 so as to cover the inner leads 6 and the outer leads 7, respectively. However, the insulating film 10 is in a state where the upper and lower chip replacement pads 8 and 8A are exposed.

【0019】各窓孔5毎におけるチップ置換用パッド8
群の外側の四隅には位置合わせ孔11がキャリア本体3
および絶縁膜10を貫通するようにそれぞれ開設されて
おり、図1に想像線で示されているように、四個の位置
合わせ孔11が画定する略正方形の枠線12はチップ置
換用パッド8群列の中心を通過するようになっている。
Chip replacement pad 8 for each window hole 5
Positioning holes 11 are provided at the four outer corners of the group.
And an insulating film 10, each of which is formed so as to penetrate therethrough. As shown by imaginary lines in FIG. It passes through the center of the group.

【0020】以上のように構成されたテープキャリア2
には前記構成に係るチップ1が、図1に示されているイ
ンナリードボンディング工程において機械的かつ電気的
に接続される。すなわち、図3に示されているように、
チップ1はテープキャリア2の上面にバンプ1aが各イ
ンナリード6にそれぞれ整合するように配されて接着材
層13によって接着されて機械的に接続されるととも
に、インナリード6の先端部がバンプ1aにインナリー
ドボンディング装置のボンディングツール(図示せず)
によって熱圧着される。
The tape carrier 2 configured as described above
Is mechanically and electrically connected in the inner lead bonding step shown in FIG. That is, as shown in FIG.
The chip 1 is disposed on the upper surface of the tape carrier 2 such that the bumps 1a are aligned with the respective inner leads 6 and bonded by an adhesive layer 13 to be mechanically connected, and the tip of the inner leads 6 is connected to the bump 1a. Bonding tool (not shown) for inner lead bonding equipment
Thermocompression bonding.

【0021】その後、図1に示されている外観検査工程
において、テープキャリア2はチップ1のインナリード
ボンディング部等について外観検査される。すなわち、
インナリード6が所定のバンプ1aに適正にインナリー
ドボンディングされているか否か等が外観検査される。
Thereafter, in the appearance inspection step shown in FIG. 1, the appearance of the tape carrier 2 is inspected for the inner lead bonding portion of the chip 1 and the like. That is,
An appearance inspection is performed to determine whether the inner leads 6 are properly bonded to the predetermined bumps 1a.

【0022】外観検査が終了すると、図1に示されてい
るインナリード部レジン塗布・硬化工程において、図4
に示されているように、テープキャリア2の各窓孔5の
内部にエラストマやシリコンゴム等の絶縁性材料がポッ
ティングされることによって、インナリード6群が樹脂
封止部14によって樹脂封止される。
When the appearance inspection is completed, in the inner lead portion resin coating / curing step shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the inner lead 6 group is resin-sealed by the resin sealing portion 14 by potting an insulating material such as an elastomer or silicon rubber into each window hole 5 of the tape carrier 2. You.

【0023】図1に示されているように、樹脂封止部1
4が形成されたテープキャリア2はテープ切断工程にお
いて、複数個のチップ1から構成されるMTCP・IC
組立体15毎に切断される。すなわち、本実施の形態に
おいては、図5に示されているように、四個のチップ1
を一つの単位とするMTCP・IC組立体15が、キャ
リア本体3が四個のチップ1のうちの両端のチップ1、
1におけるチップ置換用パッド8群列のそれぞれの外側
で横断的に切断されることにより、順次製造されて行
く。
As shown in FIG. 1, the resin sealing portion 1
In the tape cutting step, the tape carrier 2 on which the tapes 4 are formed is composed of a plurality of MTCP ICs 1
Each assembly 15 is cut. That is, in the present embodiment, as shown in FIG.
And the MTCP / IC assembly 15 having one as a unit, the carrier body 3 is composed of the chips 1 at both ends of the four chips 1,
1 are sequentially manufactured by being cut transversely outside each of the rows of the chip replacement pads 8 in 1.

【0024】図1に示されているように、MTCP・I
C組立体15はオープン/ショート試験工程において、
オープン不良またはショート不良の有無を検査される。
そして、オープン不良またはショート不良が発見された
場合には不良箇所打ち抜き工程に送られ、オープン不良
またはショート不良が発見されなかった場合には、MT
CP・IC組立体15はバーンイン工程に送られる。
As shown in FIG. 1, MTCP · I
C assembly 15 is used in the open / short test process.
It is inspected for open or short defects.
If an open defect or a short defect is found, the process is sent to a defective portion punching step. If no open defect or a short defect is found, the MT is sent.
The CP / IC assembly 15 is sent to a burn-in process.

【0025】バーンインが実施されたMTCP・IC組
立体15は電気的特性試験工程において、四個のチップ
1について同時に電気的特性試験を実施される。電気的
特性試験において、不良が発見された場合には不良箇所
打ち抜き工程に送られ、不良が発見されなかった場合に
は外観検査工程に送られる。
In the electrical characteristics test step, the electrical characteristics test is simultaneously performed on the four chips 1 of the MTCP / IC assembly 15 on which the burn-in has been performed. In the electrical characteristic test, when a defect is found, it is sent to a defective portion punching step, and when no defect is found, it is sent to a visual inspection step.

【0026】外観検査工程において、外観不良が発見さ
れたMTCP・IC組立体15は不良箇所打ち抜き工程
に送られ、不良が発見されなかったMTCP・IC組立
体15は外形切断工程に送られる。
In the appearance inspection step, the MTCP / IC assembly 15 in which an appearance defect is found is sent to a defective portion punching step, and the MTCP / IC assembly 15 in which no defect is found is sent to an outer shape cutting step.

【0027】ここで、不良箇所打ち抜き工程およびそれ
に続く良品個片付け工程について説明する。
Here, the step of punching out a defective portion and the step of separating non-defective products will be described.

【0028】不良箇所打ち抜き工程に送られて来たMT
CP・IC組立体15には、図6に示されているよう
に、不良のチップ1が搭載された領域を四個の位置合わ
せ孔11の内側において打ち抜かれることにより、不良
チップ打ち抜き孔16が開設される。図6に示された実
施の形態においては、MTCP・IC組立体15の左側
から二番目の領域に不良チップ打ち抜き孔16が形成さ
れている。MTCP・IC組立体15のキャリア本体3
におけるチップ打ち抜き孔16の開口縁辺部の上面およ
び下面には、上面側チップ置換用パッド8および下面側
チップ置換用パッド8Aがそれぞれ配列された状態にな
っている。
MT sent to the defective portion punching process
As shown in FIG. 6, a defective chip punching hole 16 is formed in the CP / IC assembly 15 by punching a region where the defective chip 1 is mounted inside the four alignment holes 11. Be established. In the embodiment shown in FIG. 6, a defective chip punching hole 16 is formed in the second region from the left side of the MTCP / IC assembly 15. Carrier body 3 of MTCP / IC assembly 15
The upper surface side chip replacement pad 8 and the lower surface side chip replacement pad 8A are arranged on the upper surface and the lower surface of the edge of the opening of the chip punching hole 16 in FIG.

【0029】図1に示されているように、不良チップ打
ち抜き孔16が打ち抜かれたMTCP・IC組立体15
は良品個片付け工程に送られる。また、良品個片付け工
程には図7に示されている良品個片17が送られて来
る。
As shown in FIG. 1, the MTCP / IC assembly 15 in which a defective chip punching hole 16 has been punched out
Is sent to the non-defective item sorting process. In the non-defective item setting step, non-defective item pieces 17 shown in FIG. 7 are sent.

【0030】図7に示されているように、良品個片17
は不良チップ打ち抜き孔16よりも大きめの相似形のシ
ート形状に形成されており、良品個片17のキャリア本
体3における四隅には位置合わせ孔11がそれぞれ開設
された状態になっている。すなわち、良品個片17はM
TCP・IC組立体15における良品チップ搭載領域が
四個の位置合わせ孔11の外側において打ち抜かれるこ
とにより得られた略正方形のシートである。
As shown in FIG. 7, non-defective pieces 17
Are formed in a similar sheet shape larger than the defective chip punching hole 16, and the alignment holes 11 are opened at the four corners of the non-defective piece 17 in the carrier body 3. That is, the non-defective piece 17 is M
This is a substantially square sheet obtained by punching the non-defective chip mounting area in the TCP / IC assembly 15 outside the four alignment holes 11.

【0031】図7および図8に示されているように、良
品個片付け工程においては、良品個片17が不良チップ
打ち抜き孔16に機械的かつ電気的に接続される。すな
わち、MTCP・IC組立体15の不良チップ打ち抜き
孔16の外側の少なくとも二個の位置合わせ孔11に位
置合わせピン18(図7参照)が挿入され、その位置合
わせピン18に良品個片17の位置合わせ孔11が挿入
されると、不良チップ打ち抜き孔16の開口縁辺部に配
列された各上面側チップ置換用パッド8に良品個片17
の外周縁辺部に配列された各下面側チップ置換用パッド
8Aがそれぞれ整合された状態になる。この状態におい
て、リフロー半田付け処理が実施されると、図8に示さ
れているように、上面側チップ置換用パッド8と下面側
チップ置換用パッド8Aとが半田付け部19によって半
田付けされるため、良品個片17の良品チップ1はMT
CP・IC組立体15に機械的かつ電気的に接続された
状態になる。なお、半田材料としては、鉛−錫系半田や
銀系半田および金系半田等を使用することができる。
As shown in FIGS. 7 and 8, in the non-defective item attaching step, the non-defective item 17 is mechanically and electrically connected to the defective chip punching hole 16. That is, the positioning pins 18 (see FIG. 7) are inserted into at least two positioning holes 11 outside the defective chip punching holes 16 of the MTCP / IC assembly 15, and the non-defective pieces 17 are inserted into the positioning pins 18. When the alignment hole 11 is inserted, the non-defective piece 17 is placed in each of the upper surface side chip replacement pads 8 arranged on the edge of the opening of the defective chip punching hole 16.
Each of the lower surface side chip replacement pads 8A arranged on the outer peripheral edge portion of each of them is aligned. When the reflow soldering process is performed in this state, as shown in FIG. 8, the upper surface side chip replacement pad 8 and the lower surface side chip replacement pad 8A are soldered by the soldering portion 19. Therefore, the good chip 1 of the good piece 17 is MT
It is in a state of being mechanically and electrically connected to the CP / IC assembly 15. In addition, as a solder material, a lead-tin solder, a silver solder, a gold solder, or the like can be used.

【0032】以上のようにして良品個片17が不良チッ
プ打ち抜き孔16に整合されて機械的かつ電気的に接続
されたMTCP・IC組立体15は、図1に示されてい
るように、電気的特性試験工程に送られ、良品個片17
に搭載されたチップ1を含めて四個のチップ1について
同時に電気的特性試験を実施される。電気的特性試験に
おいて、不良が発見されたMTCP・IC組立体15は
不良箇所打ち抜き工程に再度送られ、不良チップの領域
を良品個片に置換される。不良が発見されなかったMT
CP・IC組立体15は外観検査工程に送られる。
As described above, the MTCP / IC assembly 15 in which the non-defective product pieces 17 are aligned with the defective chip punching holes 16 and are mechanically and electrically connected, as shown in FIG. Good quality test piece 17
The electrical characteristics test is simultaneously performed on four chips 1 including the chip 1 mounted on the chip. In the electrical characteristics test, the MTCP / IC assembly 15 in which a defect is found is sent again to the defective portion punching step, and the defective chip area is replaced with a good piece. MT for which no defect was found
The CP / IC assembly 15 is sent to a visual inspection process.

【0033】外観検査工程において、外観不良が発見さ
れたMTCP・IC組立体15は不良箇所打ち抜き工程
に再度送られ、不良チップの領域を良品個片に置換され
る。他方、不良が発見されなかったMTCP・IC組立
体15は外形切断工程に送られる。
In the appearance inspection step, the MTCP / IC assembly 15 in which the appearance defect has been found is sent again to the defective part punching step, and the defective chip area is replaced with a good piece. On the other hand, the MTCP / IC assembly 15 in which no defect is found is sent to the outer shape cutting step.

【0034】外形切断工程に送られたMTCP・IC組
立体15はキャリア本体3の不要部分を切断されて、図
9に示されているように、MTCP・IC20を形成さ
れる。すなわち、MTCP・IC組立体15のキャリア
本体3は四個のチップ1の外側付近で矩形に切断され
る。
The unnecessary portion of the carrier main body 3 is cut off from the MTCP / IC assembly 15 sent to the outer shape cutting step, so that the MTCP / IC 20 is formed as shown in FIG. That is, the carrier body 3 of the MTCP / IC assembly 15 is cut into a rectangular shape near the outside of the four chips 1.

【0035】図1に示されているように、外形切断工程
の切断によって製造されたMTCP・IC20は工程内
搬送トレイに収納されてモジュール実装工程に供給され
て行く。
As shown in FIG. 1, the MTCP / IC 20 manufactured by the cutting in the outer shape cutting step is stored in the in-process transfer tray and supplied to the module mounting step.

【0036】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.

【0037】1) MTCP・IC組立体において不良の
チップが発見された場合においては、テープキャリアの
不良箇所を打ち抜いて良品個片と置換することにより、
MTCP・IC組立体全体を救うことができるため、不
良チップの存在によるMTCP・ICの製造歩留りの低
下を防止することができる。
1) When a defective chip is found in the MTCP / IC assembly, a defective portion of the tape carrier is punched out and replaced with a good piece.
Since the entire MTCP / IC assembly can be saved, it is possible to prevent a reduction in the manufacturing yield of the MTCP / IC due to the presence of a defective chip.

【0038】2) 前記1)により、予め良品であることが
保証されたチップ(所謂KGDやWPP)を使用しない
でMTCP・ICを製造することができるため、予め良
品であることが保証されたチップを使用してMTCP・
ICを製造する場合に比べて、製造コストを低減するこ
とができる。
2) According to the above 1), it is possible to manufacture an MTCP / IC without using a chip (so-called KGD or WPP) which is previously guaranteed to be a non-defective product. MTCP using chip
The manufacturing cost can be reduced as compared with the case of manufacturing an IC.

【0039】3) 前記1)により、比較的に歩留りが低い
世代初期のチップによってMTCP・ICを製造するこ
とができるため、世代の初期から容易に製品戦略を立て
ることができる。
3) According to the above 1), the MTCP / IC can be manufactured using chips in the early generations having a relatively low yield, so that a product strategy can be easily established from the beginning of the generation.

【0040】4) 前記1)、2)および3)により、MTCP
・ICの製造コストを大幅に低減することができる。
4) According to the above 1), 2) and 3), MTCP
・ IC manufacturing cost can be significantly reduced.

【0041】5) MTCP・ICを製造してモジュール
基板に実装することにより、複数個のTCP・ICをモ
ジュール基板に実装する場合に比べて、各TCP・IC
同士を連絡する電気配線の敷設領域を省略することがで
きるため、メモリモジュールの実装密度を高めることが
でき、メモリモジュールの記憶容量を向上させることが
できる。
5) By manufacturing the MTCP / IC and mounting it on the module substrate, each TCP / IC is compared with a case where a plurality of TCP / ICs are mounted on the module substrate.
Since the laying area of the electrical wiring for connecting the two can be omitted, the mounting density of the memory module can be increased, and the storage capacity of the memory module can be improved.

【0042】以上本発明者によってなされた発明を実施
の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say, there is.

【0043】例えば、MTCP・ICは四個のチップに
よって構成するに限らず、二個以上の複数個のチップに
よって構成することができる。
For example, the MTCP • IC is not limited to being constituted by four chips, but can be constituted by two or more chips.

【0044】良品個片と不良チップ打ち抜き孔との位置
合わせは、位置合わせ孔によって実行するに限らず、チ
ップ置換用パッドを利用した画像認識法等の方法によっ
て実行してもよい。
The alignment between the good individual piece and the defective chip punching hole is not limited to the alignment using the alignment hole, but may be performed by a method such as an image recognition method using a chip replacement pad.

【0045】良品個片のチップ置換用パッドと不良チッ
プ打ち抜き孔のチップ置換用パッドとを機械的かつ電気
的に接続する手段としては、リフロー半田付け処理を使
用するに限らず、金−金共晶層や金−錫共晶層等による
熱圧着法、銀ペーストや異方導電性フィルム等による接
着法等を使用してもよい。
The means for mechanically and electrically connecting the chip replacement pad of the non-defective product piece and the chip replacement pad of the defective chip punching hole is not limited to the use of the reflow soldering process. A thermocompression bonding method using a crystal layer or a gold-tin eutectic layer, a bonding method using a silver paste or an anisotropic conductive film, or the like may be used.

【0046】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるメモリ
モジュールに使用されるMTCP・ICの製造方法に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく、その他の半導体装置の製造方法全般に適用す
ることができる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the method of manufacturing the MTCP / IC used in the memory module, which is the application field as the background, has been described. However, the present invention can be applied to other manufacturing methods of semiconductor devices.

【0047】[0047]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0048】テープキャリアに接続された複数個の半導
体チップに不良品が発見された場合においては、テープ
キャリアの不良箇所を打ち抜いて良品個片と置換するこ
とにより、複数個の半導体チップが機械的かつ電気的に
接続されたテープキャリアパッケージ全体を救うことが
できるため、不良の半導体チップの存在による製造歩留
りの低下を防止することができる。
When a defective product is found in a plurality of semiconductor chips connected to the tape carrier, a defective portion of the tape carrier is punched out and replaced with a non-defective product, whereby the plurality of semiconductor chips are mechanically removed. In addition, since the entire electrically connected tape carrier package can be saved, a decrease in manufacturing yield due to the presence of a defective semiconductor chip can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置の製造
方法を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】テープキャリアを示しており、(a)は一部省
略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図
である。
FIGS. 2A and 2B show a tape carrier, wherein FIG. 2A is a partially omitted plan view, and FIG. 2B is a front sectional view taken along line bb of FIG.

【図3】インナリードボンディング後を示しており、
(a)は一部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に
沿う正面断面図である。
FIG. 3 shows a state after inner lead bonding;
(A) is a partially omitted plan view, and (b) is a front sectional view taken along line bb of (a).

【図4】樹脂封止後を示しており、(a)は一部省略平
面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図であ
る。
4A and 4B show a state after resin sealing, in which FIG. 4A is a partially omitted plan view, and FIG. 4B is a front sectional view taken along line bb of FIG.

【図5】テープ切断後を示す一部省略平面図である。FIG. 5 is a partially omitted plan view showing a state after the tape is cut.

【図6】不良箇所打ち抜き後を示しており、(a)は一
部省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断
面図である。
6A and 6B show a state after punching out a defective portion, in which FIG. 6A is a partially omitted plan view, and FIG. 6B is a front sectional view taken along line bb of FIG.

【図7】良品個片付け工程を示しており、(a)は一部
省略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面
図である。
FIGS. 7A and 7B show a non-defective item separating step, in which FIG. 7A is a partially omitted plan view, and FIG. 7B is a front sectional view taken along line bb of FIG.

【図8】良品個片付け後を示しており、(a)は一部省
略平面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図
である。
FIGS. 8A and 8B show a state after the non-defective products are separated, in which FIG. 8A is a partially omitted plan view and FIG. 8B is a front sectional view taken along line bb of FIG.

【図9】外形切断後を示しており、(a)は一部省略平
面図、(b)は(a)のb−b線に沿う正面断面図であ
る。
9A and 9B show a state after the outer shape is cut, and FIG. 9A is a partially omitted plan view, and FIG. 9B is a front sectional view taken along line bb of FIG. 9A.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…チップ(半導体チップ)、1a…バンプ、2…テー
プキャリア、3…キャリア本体、4…パーフォレーショ
ン、5…窓孔、6…インナリード、7…アウタリード、
8、8A…チップ置換用パッド、9…スルーホール導
体、10…絶縁膜、11…位置合わせ孔、12…枠線、
13…接着材層、14…樹脂封止部、15…MTCP・
IC組立体、16…不良チップ打ち抜き孔、17…良品
個片、18…位置決めピン、19…半田付け部、20…
MTCP・IC(半導体装置)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chip (semiconductor chip), 1a ... Bump, 2 ... Tape carrier, 3 ... Carrier main body, 4 ... Perforation, 5 ... Window hole, 6 ... Inner lead, 7 ... Outer lead,
8, 8A: pad for chip replacement, 9: through-hole conductor, 10: insulating film, 11: alignment hole, 12: frame line,
13: adhesive layer, 14: resin sealing portion, 15: MTCP
IC assembly, 16: defective chip punching hole, 17: non-defective product piece, 18: positioning pin, 19: soldering part, 20 ...
MTCP IC (semiconductor device).

フロントページの続き (72)発明者 津久井 誠一郎 群馬県高崎市西横手町1番地1 日立東部 セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 長岡 講二 群馬県高崎市西横手町1番地1 日立東部 セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 中村 淳 群馬県高崎市西横手町1番地1 日立東部 セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 管野 利夫 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 5F044 KK09 MM48 Continued on the front page (72) Inventor Seiichiro Tsukui 1-1 Nishiyokote-cho, Takasaki City, Gunma Prefecture Inside Hitachi Eastern Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Kouji Nagaoka 1-1, Nishiyokote-cho, Takasaki City, Gunma Prefecture Eastern Hitachi Semiconductor Corporation (72) Inventor Jun Nakamura 1-1, Nishiyokote-cho, Takasaki City, Gunma Prefecture Inside Hitachi East Semiconductor Semiconductor Co., Ltd. (72) Inventor Toshio Kanno 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Semiconductor Company, Ltd. F-term (reference) 5F044 KK09 MM48

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テープキャリアに機械的かつ電気的に接
続された複数個の半導体チップを検査する検査工程と、
前記テープキャリアにおける不良の半導体チップが接続
された領域を打ち抜く不良箇所打ち抜き工程と、前記テ
ープキャリアの不良チップ打ち抜き孔に良品個片を機械
的かつ電気的に接続する良品個片付け工程とを備えてい
ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
An inspection step of inspecting a plurality of semiconductor chips mechanically and electrically connected to a tape carrier;
A defective portion punching step of punching out a region where a defective semiconductor chip is connected in the tape carrier, and a non-defective individual piece attaching step of mechanically and electrically connecting non-defective individual pieces to a defective chip punching hole of the tape carrier. A method of manufacturing a semiconductor device.
【請求項2】 前記テープキャリアの前記半導体チップ
の接続領域にチップ置換用パッドが形成されており、前
記良品個片が前記テープキャリアに前記チップ置換用パ
ッドにおいて機械的かつ電気的に接続されることを特徴
とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
2. A chip replacement pad is formed in a connection area of the semiconductor chip of the tape carrier, and the non-defective product is mechanically and electrically connected to the tape carrier at the chip replacement pad. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記チップ置換用パッドが前記テープキ
ャリアの上面および下面にそれぞれ形成されており、前
記テープキャリアの上面側のチップ置換用パッドに前記
良品個片の下面側のチップ置換用パッドが機械的かつ電
気的に接続されることを特徴とする請求項2に記載の半
導体装置の製造方法。
3. The chip replacement pad is formed on an upper surface and a lower surface of the tape carrier, respectively, and the chip replacement pad on the upper surface side of the tape carrier is provided with the chip replacement pad on the lower surface side of the good piece. 3. The method according to claim 2, wherein the semiconductor device is mechanically and electrically connected.
【請求項4】 前記良品個片がテープキャリアにリフロ
ー半田付けされることを特徴とする請求項1、2または
3に記載の半導体装置の製造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein said non-defective product pieces are reflow soldered to a tape carrier.
【請求項5】 前記テープキャリアの前記半導体チップ
の接続領域に位置合わせ孔が開設されており、この位置
合わせ孔により前記良品個片が前記不良チップ打ち抜き
孔に位置合わせされることを特徴とする請求項1、2ま
たは3に記載の半導体装置の製造方法。
5. A positioning hole is formed in a connection region of the semiconductor chip of the tape carrier, and the non-defective piece is positioned in the defective chip punching hole by the positioning hole. A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1.
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