JP2002064181A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2002064181A
JP2002064181A JP2000247763A JP2000247763A JP2002064181A JP 2002064181 A JP2002064181 A JP 2002064181A JP 2000247763 A JP2000247763 A JP 2000247763A JP 2000247763 A JP2000247763 A JP 2000247763A JP 2002064181 A JP2002064181 A JP 2002064181A
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noise
semiconductor integrated
analog
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Satoshi Ide
聡 井出
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit where a crosstalk through a semiconductor substrate is reduced, resulting in shorter distance between circuit blocks, with no increase in a chip area and a cost. SOLUTION: A substrate noise removing circuit 38 is provided which positively controls the electric potential of a semiconductor substrate so that leaking-of the noise of a power source or a ground of a first circuit block 34 into another second circuit block 32 is offset. Thus, a crosstalk through the semiconductor substrate is reduced, resulting in shorter distance between the circuit blocks, with no increase in chip area and cost.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、アナログ回路とディジタル回路とが混在する半導
体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit in which an analog circuit and a digital circuit are mixed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、システム・オン・チップを目指し
た半導体集積回路の高集積化が進む中、フロントエンド
のアナログ回路も含めてディジタル回路に混載した高機
能の半導体集積回路の開発が進んでいる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of high integration of semiconductor integrated circuits aiming at a system-on-chip, development of high-performance semiconductor integrated circuits mixed with digital circuits including front-end analog circuits has been advanced. I have.

【0003】図1は、従来のアナログ・デジタル混在の
半導体集積回路の一例の回路構成図を示す。同図中、半
導体集積回路10には、アナログ回路12とディジタル
回路14とが混載されている。このアナログ回路12と
ディジタル回路14間には半導体基板による基板抵抗1
6が存在する。アナログ回路12,ディジタル回路14
は、パッケージやボンディングワイヤに相当するインダ
クタンス成分L1〜L4を介して電源VDD及びグラン
ドGNDに接続されている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a conventional analog / digital mixed semiconductor integrated circuit. In FIG. 1, an analog circuit 12 and a digital circuit 14 are mixedly mounted on a semiconductor integrated circuit 10. Between the analog circuit 12 and the digital circuit 14, a substrate resistance 1
There are six. Analog circuit 12, Digital circuit 14
Are connected to a power supply VDD and a ground GND via inductance components L1 to L4 corresponding to packages and bonding wires.

【0004】アナログ回路12は、微小な入力信号をデ
ジタル信号に変換するフロントエンド部であり、例え
ば、光通信用ICおける光受信回路であったり、信号処
理用ICにおけるアナログ/ディジタル変換回路に相当
する。ディジタル回路は、アナログ回路からの供給され
る信号を処理して外部に出力する。図中、簡略化のため
にアナログ回路12とディジタル回路14の接続関係は
省略している。
The analog circuit 12 is a front end unit for converting a minute input signal into a digital signal, and corresponds to, for example, an optical receiving circuit in an optical communication IC or an analog / digital conversion circuit in a signal processing IC. I do. The digital circuit processes a signal supplied from the analog circuit and outputs the processed signal to the outside. In the figure, the connection relationship between the analog circuit 12 and the digital circuit 14 is omitted for simplification.

【0005】図2(A)はディジタル回路14が端子1
7から出力する信号波形を示し、図2(B)はディジタ
ル回路14の接地端子18の電圧波形を示す。また、図
2(C)はアナログ回路12の入力信号波形を示し、図
2(D)はアナログ回路の出力信号波形を示す。但し、
アナログ回路12への影響を明確にするため、ディジタ
ル回路14のみ動作し、端子19からアナログ回路12
に信号を入力してはいない。ディジタル回路14が動作
することにより、アナログ回路12へのクロストークが
発生し、この結果、無入力であるにも関わらずアナログ
回路12が雑音を発生している。
FIG. 2A shows that the digital circuit 14 has a terminal 1
7 shows a signal waveform output from the digital circuit 7, and FIG. 2B shows a voltage waveform of the ground terminal 18 of the digital circuit 14. FIG. 2C shows an input signal waveform of the analog circuit 12, and FIG. 2D shows an output signal waveform of the analog circuit. However,
In order to clarify the influence on the analog circuit 12, only the digital circuit 14 operates, and the analog circuit 12
No signal is input. When the digital circuit 14 operates, crosstalk to the analog circuit 12 occurs. As a result, the analog circuit 12 generates noise despite no input.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図3はCMOS半導体
集積回路のデバイス構造を表す断面図、図4はその等価
回路図を示す。図3,図4において、図1と同一部分に
は同一符号を付す。図3,図4において、ディジタル回
路14を構成するトランジスタ24のグランドGNDa
と、アナログ回路12を構成するトランジスタ22のグ
ランドGNDbは、P型半導体基板の基板抵抗16を介
して接続されている。このようなP型半導体基板の結合
により、ディジタル回路14で発生した電源またはグラ
ンドの雑音は基板抵抗16を介してアナログ回路12の
グランドに漏れ込むことによりクロストークを発生す
る。
FIG. 3 is a sectional view showing a device structure of a CMOS semiconductor integrated circuit, and FIG. 4 is an equivalent circuit diagram thereof. 3 and 4, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. 3 and 4, the ground GNDa of the transistor 24 constituting the digital circuit 14 is shown.
And the ground GNDb of the transistor 22 forming the analog circuit 12 are connected via a substrate resistor 16 of a P-type semiconductor substrate. Due to such coupling of the P-type semiconductor substrate, power supply or ground noise generated in the digital circuit 14 leaks into the ground of the analog circuit 12 via the substrate resistor 16 to generate crosstalk.

【0007】また、クロストークの原因となる電源また
はグランドの雑音は、インダクタンスL1〜L4が主要
因であるため、高周波成分ほど増大する傾向にある。電
源に関しては図3に示すN型ウエル23,25で絶縁さ
れているものの、N型ウエル23,25とP型半導体基
板間の接合容量(図4ではC1,C2で示す)が大きい
ため、クロストークで問題となる雑音の高周波成分に対
しては、インピーダンスが低く絶縁性が低い。なお、C
3〜C6は入出力端子と電源またはグランド間の容量、
或いは入出力端子の保護素子の寄生容量である。
[0007] Further, the noise of the power supply or the ground that causes the crosstalk tends to increase as the frequency becomes higher, because the inductances L1 to L4 are the main factors. Although the power supply is insulated by the N-type wells 23 and 25 shown in FIG. 3, the junction capacity between the N-type wells 23 and 25 and the P-type semiconductor substrate (indicated by C1 and C2 in FIG. 4) is large. The impedance is low and the insulation is low with respect to the high-frequency components of noise, which is a problem in talk. Note that C
3-C6 is the capacitance between the input / output terminal and the power supply or ground,
Or it is the parasitic capacitance of the protection element of the input / output terminal.

【0008】こうしたクロストークは本来小さなもので
あるが、クロストークは高周波成分が大きいことから半
導体集積回路の高速化に伴い問題が顕在化する。更に、
微小な入力信号を扱うアナログ回路の高感度化のために
利得の大きいアンプを用いる場合には、クロストークは
アンプで増幅されて出力に現れるので無視できないもの
となる。このように、アナログ回路とディジタル回路が
混在する半導体集積回路においては、半導体基板を介し
たクロストークにより、ディジタル回路の雑音がアナロ
グ回路に漏れ込み、アナログ回路の高速化及び高感度化
を阻害するという課題があった。
Although such crosstalk is inherently small, the problem becomes evident as the speed of the semiconductor integrated circuit increases because the crosstalk has a large high-frequency component. Furthermore,
When an amplifier having a large gain is used to increase the sensitivity of an analog circuit that handles a minute input signal, crosstalk is amplified by the amplifier and appears at the output, so that it cannot be ignored. As described above, in a semiconductor integrated circuit in which an analog circuit and a digital circuit coexist, noise of a digital circuit leaks into the analog circuit due to crosstalk through the semiconductor substrate, which hinders an increase in the speed and sensitivity of the analog circuit. There was a problem that.

【0009】なお、こうした半導体基板を介したクロス
トークはアナログ回路とディジタル回路間の距離を大き
くとれぱ抑制することが可能であるが、この対策はチッ
プ面積の増大を招き、コスト増大につながるという課題
があった。
It is possible to suppress such crosstalk via the semiconductor substrate by increasing the distance between the analog circuit and the digital circuit. However, this countermeasure results in an increase in chip area and an increase in cost. There were challenges.

【0010】本発明は、上記の点に鑑みなされたもので
あり、半導体基板を介したクロストークを低減すること
ができ、回路ブロック間の距離を大きく取る必要がな
く、チップ面積及びコストの増大を生じることのない半
導体集積回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and can reduce crosstalk via a semiconductor substrate, does not require a large distance between circuit blocks, and increases chip area and cost. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit that does not cause the problem.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、雑音を発生する第1の回路ブロックのグランドまた
は電源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ込むの
を相殺するように半導体基板の電位を能動的に制御する
基板雑音除去回路を有することにより、半導体基板を介
したクロストークを低減することができる。
According to the first aspect of the present invention, the ground or power supply noise of the first circuit block which generates noise is offset from leaking into the other second circuit block. In addition, by having a substrate noise elimination circuit that actively controls the potential of the semiconductor substrate, crosstalk through the semiconductor substrate can be reduced.

【0012】請求項2に記載の発明では、基板雑音除去
回路は、前記第2の回路ブロックからの基準電位に基づ
いて前記半導体基板の電位をフィードバック制御するこ
とにより、雑音を発生する第1の回路ブロックのグラン
ドまたは電源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ
込むのを相殺するように半導体基板の電位を能動的に制
御することが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the substrate noise elimination circuit feedback-controls the potential of the semiconductor substrate based on the reference potential from the second circuit block, thereby generating the first noise. It is possible to actively control the potential of the semiconductor substrate so as to cancel the noise of the ground or the power supply of the circuit block from leaking into another second circuit block.

【0013】請求項3に記載の発明は、基板雑音除去回
路は、前記第1の回路ブロックからの第1の基準電位と
前記第2の回路ブロックからの第2の基準電位との誤差
に基づいて前記半導体基板の電位をフィードフォワード
制御することにより、雑音を発生する第1の回路ブロッ
クのグランドまたは電源の雑音が、他の第2の回路ブロ
ックに漏れ込むのを相殺するように半導体基板の電位を
能動的に制御することが可能となる。
According to a third aspect of the present invention, the substrate noise elimination circuit is based on an error between a first reference potential from the first circuit block and a second reference potential from the second circuit block. By controlling the potential of the semiconductor substrate in a feedforward manner, the noise of the ground or power supply of the first circuit block, which generates noise, is offset from the leakage of the semiconductor substrate to the other second circuit block. The potential can be actively controlled.

【0014】請求項4に記載の発明は、基板雑音除去回
路の出力を前記半導体基板に供給する結合度を制御する
結合度制御回路を有することにより、結合度の変化に対
応して結合度を能動的に制御してクロストークを低減す
ることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a coupling degree control circuit for controlling the coupling degree for supplying an output of the substrate noise elimination circuit to the semiconductor substrate. Active control can reduce crosstalk.

【0015】請求項5に記載の発明では、半導体基板
を、高抵抗基板とすることにより、更にクロストークを
低減することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the semiconductor substrate is a high-resistance substrate, so that crosstalk can be further reduced.

【0016】付記6に記載の発明では、結合度制御回路
は、温度センサを有し、前記温度センサの検出温度に応
じて前記結合度を制御することにより、温度変動による
結合度の変化に対応して結合度を能動的に制御できる。
According to the invention described in Supplementary Note 6, the coupling degree control circuit has a temperature sensor, and controls the coupling degree in accordance with a temperature detected by the temperature sensor to cope with a change in the coupling degree due to a temperature change. Thus, the degree of coupling can be actively controlled.

【0017】付記7に記載の発明では、結合度制御回路
は、前記第2の回路ブロックの出力に含まれる雑音を検
出する雑音検出回路を有し、前記雑音検出回路の検出値
に応じて前記結合度を制御することにより、雑音によっ
て結合度の変化を検出し、これに対応して結合度を能動
的に制御できる。
In the invention described in Supplementary Note 7, the coupling degree control circuit has a noise detection circuit that detects noise included in an output of the second circuit block, and the coupling control circuit includes a noise detection circuit that detects a noise included in the output of the second circuit block. By controlling the degree of coupling, a change in the degree of coupling can be detected by noise, and the degree of coupling can be actively controlled correspondingly.

【0018】付記11に記載の発明では、第1の回路ブ
ロックは、ディジタル回路であり、第2の回路ブロック
は、アナログ回路であることにより、アナログ回路とデ
ィジタル回路間の距離を大きく取る必要がなく、チップ
面積及びコストの増大が生じることがなく、容易にアナ
ログ回路とディジタル回路が混在する半導体集積回路を
実現することができる。
In the invention described in Supplementary Note 11, the first circuit block is a digital circuit and the second circuit block is an analog circuit. Therefore, it is necessary to increase the distance between the analog circuit and the digital circuit. Thus, a semiconductor integrated circuit in which analog circuits and digital circuits are mixed can be easily realized without increasing the chip area and cost.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図5は、本発明のアナログ回路と
ディジタル回路が混在する半導体集積回路の第1実施例
の回路構成図を示す。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor integrated circuit in which analog circuits and digital circuits are mixed according to the present invention.

【0020】同図中、半導体集積回路30には、アナロ
グ回路32とディジタル回路34とが混載されている。
このアナログ回路32とディジタル回路34間には半導
体基板による基板抵抗36a,36bが存在する。アナ
ログ回路32の電源端子32a,接地端子32bは、パ
ッケージやボンディングワイヤに相当するインダクタン
ス成分L11,L12を介して電源VDD,グランドG
NDに接続されており、ディジタル回路34の電源端子
34a,接地端子34bは、パッケージやボンディング
ワイヤに相当するインダクタンス成分L13,L14を
介して電源VDD,グランドGNDに接続されている。
In FIG. 1, an analog circuit 32 and a digital circuit 34 are mixedly mounted on a semiconductor integrated circuit 30.
Between the analog circuit 32 and the digital circuit 34, there are substrate resistors 36a and 36b made of a semiconductor substrate. A power supply terminal 32a and a ground terminal 32b of the analog circuit 32 are connected to a power supply VDD and a ground G via inductance components L11 and L12 corresponding to a package and a bonding wire.
The power supply terminal 34a and the ground terminal 34b of the digital circuit 34 are connected to the power supply VDD and the ground GND via inductance components L13 and L14 corresponding to packages and bonding wires.

【0021】アナログ回路32は、微小な入力信号をデ
ジタル信号に変換する高感度のフロントエンド部であ
り、例えば、光通信用ICおける光受信回路であった
り、信号処理用ICにおけるアナログ/ディジタル変換
回路に相当する。ディジタル回路は、アナログ回路から
の供給される信号を処理して外部に出力する。なお、図
中では簡略化のためにアナログ回路32とディジタル回
路34の接続関係は省略している。
The analog circuit 32 is a high-sensitivity front-end unit for converting a minute input signal into a digital signal. For example, the analog circuit 32 is an optical receiving circuit in an optical communication IC or an analog / digital conversion in a signal processing IC. It corresponds to a circuit. The digital circuit processes a signal supplied from the analog circuit and outputs the processed signal to the outside. Note that the connection relationship between the analog circuit 32 and the digital circuit 34 is omitted in the figure for simplification.

【0022】基板雑音除去回路38は、アナログ回路3
2の基準電位を供給され、この基準電位に基づいて出力
端子が接続された半導体基板の基板抵抗36a,36b
の接続点であるA点における電位をフィードバック制御
する。これにより、アナログ回路32での基板雑音が少
なくなるように、半導体基板のA点の電位が制御され
る。このため、制御される半導体基板のA点はディジタ
ル回路34に近い位置が好ましい。
The substrate noise removing circuit 38 includes the analog circuit 3
2 of the semiconductor substrate to which the output terminal is connected based on the reference potential.
The potential at the point A, which is the connection point, is feedback-controlled. Thereby, the potential at the point A of the semiconductor substrate is controlled so that the substrate noise in the analog circuit 32 is reduced. For this reason, the point A of the semiconductor substrate to be controlled is preferably located near the digital circuit 34.

【0023】図6は、基板雑音除去回路38の第1実施
例の回路構成図を示す。同図中、図5と同一部分には同
一符号を付す。図6において、基板雑音除去回路38内
のバイアス回路40は、負電極をアナログ回路32の接
地端子32bに接続され、正電極を演算増幅器42の非
反転入力端子に接続されており、演算増幅器42の非反
転入力端子に所定電圧だけバイアスされた接地端子32
bの電位が供給される。演算増幅器42は、出力端子を
反転入力端子に接続されてボルテージフォロアを構成し
ている。演算増幅器42の出力端子は、コンデンサ44
を介して基板抵抗36a,36bの接続点であるA点に
接続されている。
FIG. 6 is a circuit diagram of a first embodiment of the substrate noise elimination circuit 38. 5, the same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals. 6, the bias circuit 40 in the substrate noise elimination circuit 38 has a negative electrode connected to the ground terminal 32b of the analog circuit 32, a positive electrode connected to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 42, and an operational amplifier 42. Ground terminal 32 biased by a predetermined voltage to the non-inverting input terminal of
The potential of b is supplied. The output terminal of the operational amplifier 42 is connected to the inverting input terminal to form a voltage follower. An output terminal of the operational amplifier 42 is connected to a capacitor 44.
Is connected to a point A which is a connection point between the substrate resistors 36a and 36b.

【0024】これにより、アナログ回路32の接地端子
32bの雑音が最小となるようフィードハック制御が行
われる。なお、クロストーク成分は高周波数のみで問題
となるため、演算増幅器42出力をコンデンサ44を用
いてA点に容量結合し、低周波数成分を遮断している。
なお、演算増幅器42に直流を駆動する能力があれば、
容量を削除して直流結合できることは言うまでもない。
Thus, the feed hack control is performed so that the noise at the ground terminal 32b of the analog circuit 32 is minimized. Since the crosstalk component becomes a problem only at the high frequency, the output of the operational amplifier 42 is capacitively coupled to the point A by using the capacitor 44 to cut off the low frequency component.
If the operational amplifier 42 has a capability of driving a direct current,
It goes without saying that DC coupling can be performed by eliminating the capacitance.

【0025】図7は、基板雑音除去回路38の第2実施
例の回路構成図を示す。これは基準電位をアナログ回路
32の電源端子32aから取った実施例である。同図
中、図6と同一部分には同一符号を付す。図7におい
て、基板雑音除去回路38内のバイアス回路40は、正
電極をアナログ回路32の電源端子32aに接続され、
負電極を演算増幅器42の非反転入力端子に接続されて
おり、演算増幅器42の非反転入力端子に所定電圧だけ
バイアスされた接地端子32bの電位が供給される。演
算増幅器42は、出力端子を反転入力端子に接続されて
ボルテージフォロアを構成している。演算増幅器42の
出力端子は、コンデンサ44を介して基板抵抗36a,
36bの接続点であるA点に接続されている。
FIG. 7 is a circuit configuration diagram of a second embodiment of the substrate noise elimination circuit 38. This is an embodiment in which the reference potential is taken from the power supply terminal 32a of the analog circuit 32. 6, the same parts as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals. 7, the bias circuit 40 in the substrate noise elimination circuit 38 has a positive electrode connected to the power supply terminal 32a of the analog circuit 32,
The negative electrode is connected to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 42, and the potential of the ground terminal 32b biased by a predetermined voltage is supplied to the non-inverting input terminal of the operational amplifier 42. The output terminal of the operational amplifier 42 is connected to the inverting input terminal to form a voltage follower. The output terminal of the operational amplifier 42 is connected to the substrate resistance 36a,
It is connected to point A which is a connection point of 36b.

【0026】これにより、アナログ回路32の電源端子
32aの雑音が最小となるようフィードハック制御が行
われる。電源VDDは、N型ウエルとP型半導体基板間
の接合容量によって、高周波的にグランドGNDと強く
結合しているため、図6の実施例と同様の効果が得られ
る。
Thus, the feed hack control is performed so that the noise at the power supply terminal 32a of the analog circuit 32 is minimized. Since the power supply VDD is strongly coupled to the ground GND at high frequencies due to the junction capacitance between the N-type well and the P-type semiconductor substrate, the same effect as in the embodiment of FIG. 6 can be obtained.

【0027】図8(A)は、図5に示すディジタル回路
34が端子37aから出力する信号波形を示し、図8
(B)はディジタル回路34の接地端子37bの電圧波
形を示す。また、図8(C)はアナログ回路32の入力
信号波形を示し、図8(D)はアナログ回路32の出力
信号波形を示す。但し、アナログ回路32への影響を明
確にするため、ディジタル回路34のみ動作し、端子3
7cからアナログ回路32に信号を入力してはいない。
FIG. 8A shows a signal waveform output from the terminal 37a by the digital circuit 34 shown in FIG.
(B) shows the voltage waveform of the ground terminal 37b of the digital circuit 34. FIG. 8C shows an input signal waveform of the analog circuit 32, and FIG. 8D shows an output signal waveform of the analog circuit 32. However, in order to clarify the effect on the analog circuit 32, only the digital circuit 34 operates and the terminal 3
No signal is input to the analog circuit 32 from 7c.

【0028】図8(A)〜(D)の本発明の波形を図2
(A)〜(D)の従来の波形と比較すると、ディジタル
回路34の出力端子37a及び接地端子37bの雑音は
同じであるにも拘わらず、アナログ回路32へのクロス
トークが大幅に低減されていることが明らかである。
FIGS. 8A to 8D show the waveforms of the present invention in FIG.
Compared with the conventional waveforms (A) to (D), the crosstalk to the analog circuit 32 is greatly reduced although the noise at the output terminal 37a and the ground terminal 37b of the digital circuit 34 are the same. It is clear that there is.

【0029】図9は、本発明のアナログ回路とディジタ
ル回路が混在する半導体集積回路の第2実施例の回路構
成図を示す。同図中、半導体集積回路50には、アナロ
グ回路52とディジタル回路54とが混載されている。
このアナログ回路52とディジタル回路54間には半導
体基板による基板抵抗56a,56bが存在する。アナ
ログ回路52の電源端子52a,接地端子52bは、パ
ッケージやボンディングワイヤに相当するインダクタン
ス成分L21,L22を介して電源VDD,グランドG
NDに接続されており、ディジタル回路54の電源端子
54a,接地端子54bは、パッケージやボンディング
ワイヤに相当するインダクタンス成分L23,L24を
介して電源VDD,グランドGNDに接続されている。
アナログ回路52は、微小な入力信号をデジタル信号に
変換する高感度のフロントエンド部である。
FIG. 9 is a circuit diagram of a second embodiment of a semiconductor integrated circuit in which analog circuits and digital circuits are mixed according to the present invention. In the figure, an analog circuit 52 and a digital circuit 54 are mixedly mounted on a semiconductor integrated circuit 50.
Between the analog circuit 52 and the digital circuit 54, there are substrate resistances 56a and 56b made of a semiconductor substrate. A power supply terminal 52a and a ground terminal 52b of the analog circuit 52 are connected to a power supply VDD and a ground G via inductance components L21 and L22 corresponding to a package and a bonding wire.
The power supply terminal 54a and the ground terminal 54b of the digital circuit 54 are connected to the power supply VDD and the ground GND via inductance components L23 and L24 corresponding to packages and bonding wires.
The analog circuit 52 is a high-sensitivity front-end unit that converts a minute input signal into a digital signal.

【0030】基板雑音除去回路58は、アナログ回路5
2の基準電位とディジタル回路54の基準電位を供給さ
れ、両基準電位に基づいて出力端子が接続された半導体
基板の基板抵抗56a,56bの接続点であるB点にお
ける電位をフィードフォワード制御する。これにより、
アナログ回路52での基板雑音が少なくなるように、半
導体基板のB点の電位が制御される。フィードバック制
御ではきめ細かい制御が可能であるものの高速化に限界
があり、フィードフォワード制御を用いることにより高
速制御が可能となる。
The substrate noise elimination circuit 58 includes the analog circuit 5
The reference potential of the digital circuit 54 and the reference potential of the digital circuit 54 are supplied, and the potential at the point B which is the connection point of the substrate resistances 56a and 56b of the semiconductor substrate to which the output terminal is connected is feedforward controlled based on both reference potentials. This allows
The potential at the point B on the semiconductor substrate is controlled so that the substrate noise in the analog circuit 52 is reduced. Although fine control is possible in the feedback control, there is a limit in speeding up, and high-speed control becomes possible by using the feedforward control.

【0031】図10は、基板雑音除去回路58の第1実
施例の回路構成図を示す。同図中、図9と同一部分には
同一符号を付す。図10において、基板雑音除去回路5
8内のバイアス回路60の負電極はアナログ回路52の
接地端子52bに接続され、正電極は抵抗R2を介して
差動増幅器62の反転入力端子に接続され、バイアス回
路61の負電極はディジタル回路54の接地端子54b
に接続され、正電極は抵抗R1を介して差動増幅器62
の非反転入力端子に接続されており、差動増幅器62の
反転入力端子及び非反転入力端子には所定電圧だけバイ
アスされた接地端子52b,54bそれぞれの電位が供
給される。
FIG. 10 is a circuit diagram of a first embodiment of the substrate noise elimination circuit 58. In the figure, the same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 10, the substrate noise elimination circuit 5
8, the negative electrode of the bias circuit 60 is connected to the ground terminal 52b of the analog circuit 52, the positive electrode is connected to the inverting input terminal of the differential amplifier 62 via the resistor R2, and the negative electrode of the bias circuit 61 is connected to the digital circuit. 54 grounding terminals 54b
And the positive electrode is connected to a differential amplifier 62 via a resistor R1.
And the inverting input terminal and the non-inverting input terminal of the differential amplifier 62 are supplied with the potentials of the ground terminals 52b and 54b biased by a predetermined voltage.

【0032】また、差動増幅器62の反転入力端子は抵
抗R3を介して反転出力端子に接続され、非反転入力端
子は抵抗R4を介してアナログ回路52の接地端子52
bに接続され負帰還増幅回路を構成する。差動増幅器6
2の非反転出力端子はコンデンサ64及び抵抗65を介
して基板抵抗56a,56bの接続点であるB点に接続
されている。
The inverting input terminal of the differential amplifier 62 is connected to an inverting output terminal via a resistor R3, and the non-inverting input terminal is connected to a ground terminal 52 of the analog circuit 52 via a resistor R4.
b to form a negative feedback amplifier circuit. Differential amplifier 6
The non-inverting output terminal 2 is connected via a capacitor 64 and a resistor 65 to a point B which is a connection point between the substrate resistors 56a and 56b.

【0033】これにより、ディジタル回路54の接地端
子54bにおける雑音の一定倍がB点の基板電位に加算
され、フィードフォワード制御が行われる。この場合の
基板への結合度は、差動増幅器62の利得と抵抗65の
抵抗値により決定され、半導体基板の減衰率、即ち基板
抵抗56a,56bの抵抗値に応じて上記利得及び抵抗
値を設計する。
Thus, a constant multiple of the noise at the ground terminal 54b of the digital circuit 54 is added to the substrate potential at the point B, and the feedforward control is performed. In this case, the degree of coupling to the substrate is determined by the gain of the differential amplifier 62 and the resistance of the resistor 65, and the gain and the resistance are determined according to the attenuation rate of the semiconductor substrate, that is, the resistance of the substrate resistors 56a and 56b. design.

【0034】図11は、基板雑音除去回路58の第2実
施例の回路構成図を示す。同図中、図10と同一部分に
は同一符号を付し、その説明を省略する。図11におい
ては、抵抗R1〜R4を削除して差動増幅器62がオー
プンループで構成されている点が異なっている。差動増
幅器62の利得を充分安定に設計することにより、この
ような簡略化が可能となる。また、差動増幅器62の非
反転出力端子とB点との間には、基板雑音除去回路58
の出力とB点の雑音との位相不整合を解消するために、
位相制御回路66を備えている。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a second embodiment of the substrate noise elimination circuit 58. In the figure, the same parts as those in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. FIG. 11 differs in that the resistors R1 to R4 are deleted and the differential amplifier 62 is configured in an open loop. Such a simplification can be achieved by designing the gain of the differential amplifier 62 to be sufficiently stable. A substrate noise elimination circuit 58 is provided between the non-inverting output terminal of the differential amplifier 62 and the point B.
In order to eliminate the phase mismatch between the output of
A phase control circuit 66 is provided.

【0035】図12(A)は、図9に示すディジタル回
路54が端子57aから出力する信号波形を示し、図1
2(B)はディジタル回路54の接地端子57bの電圧
波形を示す。また、図12(C)はアナログ回路52の
入力信号波形を示し、図12(D)はアナログ回路52
の出力信号波形を示す。但し、アナログ回路52への影
響を明確にするため、ディジタル回路54のみ動作し、
端子57cからアナログ回路52に信号を入力してはい
ない。
FIG. 12A shows a signal waveform output from the terminal 57a by the digital circuit 54 shown in FIG.
2 (B) shows a voltage waveform of the ground terminal 57b of the digital circuit 54. FIG. 12C shows an input signal waveform of the analog circuit 52, and FIG.
5 shows an output signal waveform of the first embodiment. However, to clarify the effect on the analog circuit 52, only the digital circuit 54 operates,
No signal is input to the analog circuit 52 from the terminal 57c.

【0036】図12(A)〜(D)の本発明の波形を図
2(A)〜(D)の従来の波形と比較すると、ディジタ
ル回路54の出力端子57a及び接地端子57bの雑音
は同じであるにも拘わらず、アナログ回路52へのクロ
ストークが大幅に低減されていることが明らかである。
When comparing the waveforms of the present invention shown in FIGS. 12A to 12D with the conventional waveforms shown in FIGS. 2A to 2D, the noise at the output terminal 57a and the noise at the ground terminal 57b of the digital circuit 54 are the same. However, it is clear that the crosstalk to the analog circuit 52 is greatly reduced.

【0037】図13は、本発明のアナログ回路とディジ
タル回路が混在する半導体集積回路の第3実施例の回路
構成図を示す。同図中、図9と同一部分には同一符号を
付す。図13において、半導体集積回路50には、アナ
ログ回路52とディジタル回路54とが混載されてい
る。このアナログ回路52とディジタル回路54間には
半導体基板による基板抵抗56a,56bが存在する。
アナログ回路52の電源端子52a,接地端子52b
は、パッケージやボンディングワイヤに相当するインダ
クタンス成分L21,L22を介して電源VDD,グラ
ンドGNDに接続されており、ディジタル回路54の電
源端子54a,接地端子54bは、パッケージやボンデ
ィングワイヤに相当するインダクタンス成分L23,L
24を介して電源VDD,グランドGNDに接続されて
いる。アナログ回路52は、微小な入力信号をデジタル
信号に変換する高感度のフロントエンド部である。
FIG. 13 is a circuit diagram of a third embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention in which analog circuits and digital circuits are mixed. In the figure, the same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 13, an analog circuit 52 and a digital circuit 54 are mixedly mounted on a semiconductor integrated circuit 50. Between the analog circuit 52 and the digital circuit 54, there are substrate resistances 56a and 56b made of a semiconductor substrate.
Power supply terminal 52a, ground terminal 52b of analog circuit 52
Are connected to a power supply VDD and a ground GND via inductance components L21 and L22 corresponding to packages and bonding wires, and a power supply terminal 54a and a ground terminal 54b of the digital circuit 54 are connected to inductance components corresponding to packages and bonding wires. L23, L
24, it is connected to the power supply VDD and the ground GND. The analog circuit 52 is a high-sensitivity front-end unit that converts a minute input signal into a digital signal.

【0038】基板雑音除去回路58は、アナログ回路5
2の基準電位とディジタル回路54の基準電位を供給さ
れ、両基準電位に基づいて出力端子が接続された半導体
基板の基板抵抗56a,56bの接続点であるB点にお
ける電位をフィードフォワード制御する。結合度制御回
路68は、温度やアナログ回路の雑音等に応じて基板雑
音除去回路58出力のB点への結合度を制御する。即
ち、温度による基板抵抗等の変動を相殺するよう結合度
の増減を行う。
The substrate noise elimination circuit 58 includes the analog circuit 5
The reference potential of the digital circuit 54 and the reference potential of the digital circuit 54 are supplied, and the potential at the point B which is the connection point of the substrate resistances 56a and 56b of the semiconductor substrate to which the output terminal is connected is feedforward controlled based on both reference potentials. The degree-of-coupling control circuit 68 controls the degree of coupling of the output of the substrate noise elimination circuit 58 to the point B according to the temperature, the noise of the analog circuit, and the like. That is, the degree of coupling is increased / decreased so as to offset fluctuations in the substrate resistance or the like due to temperature.

【0039】これにより、アナログ回路52での基板雑
音が少なくなるように、半導体基板のB点の電位が制御
される。基板への結合度が温度変動等により変化すると
正常な雑音除去が不可能となるが、結合度を動的に制御
することで、より安定に雑音を除去することが可能とな
る。
Thus, the potential at the point B on the semiconductor substrate is controlled so that the substrate noise in the analog circuit 52 is reduced. If the degree of coupling to the substrate changes due to temperature fluctuation or the like, normal noise removal becomes impossible. However, by dynamically controlling the degree of coupling, noise can be more stably removed.

【0040】図14は、基板雑音除去回路58及び結合
度制御回路68の第1実施例の回路構成図を示す。同図
中、図13と同一部分には同一符号を付す。図14にお
いて、基板雑音除去回路58内のバイアス回路60の負
電極はアナログ回路52の接地端子52bに接続され、
正電極は抵抗R2を介して差動増幅器62の反転入力端
子に接続され、バイアス回路61の負電極はディジタル
回路54の接地端子54bに接続され、正電極は抵抗R
1を介して差動増幅器62の非反転入力端子に接続され
ており、差動増幅器62の反転入力端子及び非反転入力
端子には所定電圧だけバイアスされた接地端子52b,
54bそれぞれの電位が供給される。
FIG. 14 is a circuit diagram of a first embodiment of the substrate noise elimination circuit 58 and the coupling degree control circuit 68. In the figure, the same parts as those in FIG. 13 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 14, the negative electrode of the bias circuit 60 in the substrate noise removing circuit 58 is connected to the ground terminal 52b of the analog circuit 52,
The positive electrode is connected to the inverting input terminal of the differential amplifier 62 via the resistor R2, the negative electrode of the bias circuit 61 is connected to the ground terminal 54b of the digital circuit 54, and the positive electrode is connected to the resistor R2.
1 is connected to the non-inverting input terminal of the differential amplifier 62, and the inverting input terminal and the non-inverting input terminal of the differential amplifier 62 have ground terminals 52b biased by a predetermined voltage.
Each of the potentials is supplied.

【0041】また、差動増幅器62の反転入力端子は抵
抗R3を介して反転出力端子に接続され、非反転入力端
子は抵抗R4を介してアナログ回路52の接地端子52
bに接続され、差動増幅器62の非反転出力端子はコン
デンサ64及び可変抵抗69を介して基板抵抗56a,
56bの接続点であるB点に接続されている。
The inverting input terminal of the differential amplifier 62 is connected to an inverting output terminal via a resistor R3, and the non-inverting input terminal is connected to a ground terminal 52 of the analog circuit 52 via a resistor R4.
b, the non-inverting output terminal of the differential amplifier 62 is connected to the substrate resistors 56a,
It is connected to point B which is a connection point of 56b.

【0042】結合度制御回路68は、温度センサ70と
コントローラ71とROM72から構成されている。温
度センサ70の検出温度がコントローラ71に供給さ
れ、コントローラ71は検出温度に応じた制御データを
ROM72から読み出して可変抵抗69の抵抗値を可変
制御して結合度を動的に制御する。可変抵抗69の抵抗
値は、例えばセレクタによりディジタル的に制御するこ
とができるものであるが、この他にもFETを抵抗とし
て使用し、FETのゲートバイアスを制御することでア
ナログ的に制御することも可能である。これにより、デ
ィジタル回路54の接地端子54bにおける雑音の一定
倍がB点の基板電位に加算され、フィードフォワード制
御が行われる。
The coupling degree control circuit 68 comprises a temperature sensor 70, a controller 71 and a ROM 72. The temperature detected by the temperature sensor 70 is supplied to the controller 71. The controller 71 reads out control data corresponding to the detected temperature from the ROM 72, variably controls the resistance value of the variable resistor 69, and dynamically controls the degree of coupling. The resistance value of the variable resistor 69 can be digitally controlled by, for example, a selector. However, it is also necessary to use an FET as a resistor and control the gate bias of the FET in an analog manner. Is also possible. Thus, a fixed multiple of the noise at the ground terminal 54b of the digital circuit 54 is added to the substrate potential at the point B, and the feedforward control is performed.

【0043】上記実施例は、温度により基板抵抗等が変
化して結合度が変化するのを補償するために、温度を検
出して可変抵抗69の抵抗値を可変制御するものである
が、温度の代わりに基板抵抗値を検出し、この基板抵抗
値に応じて可変抵抗69の抵抗値を可変制御する構成と
しても良い。
In the above embodiment, the temperature is detected and the resistance value of the variable resistor 69 is variably controlled in order to compensate for a change in the coupling degree due to a change in the substrate resistance or the like due to the temperature. Alternatively, the configuration may be such that the substrate resistance is detected and the resistance of the variable resistor 69 is variably controlled in accordance with the substrate resistance.

【0044】図15は、基板雑音除去回路58及び結合
度制御回路68の第2実施例の回路構成図を示す。同図
中、図14と同一部分には同一符号を付し、その説明を
省略する。図15において、結合度制御回路68は、雑
音検出回路74とコントローラ75とROM76から構
成されている。雑音検出回路74はアナログ回路52の
出力信号に含まれるノイズのレベルを検出してコントロ
ーラ71に供給する。コントローラ75は検出ノイズレ
ベルに応じた制御データをROM76から読み出して可
変抵抗69の抵抗値を可変制御して結合度を動的に制御
する。即ち、検出ノイズレベルが大きい場合に結合度を
増大するよう制御し、基板雑音を低減する。
FIG. 15 is a circuit diagram of a second embodiment of the substrate noise elimination circuit 58 and the coupling degree control circuit 68. 14, those parts that are the same as those corresponding parts in FIG. 14 are designated by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted. 15, the coupling degree control circuit 68 includes a noise detection circuit 74, a controller 75, and a ROM 76. The noise detection circuit 74 detects the level of noise included in the output signal of the analog circuit 52 and supplies the same to the controller 71. The controller 75 reads out control data according to the detected noise level from the ROM 76 and variably controls the resistance value of the variable resistor 69 to dynamically control the degree of coupling. That is, when the detection noise level is high, control is performed to increase the degree of coupling, and the substrate noise is reduced.

【0045】このように、アナログ回路52出力の雑音
を検出することにより、制御は複雑になるものの、擬似
的なフィードハック制御を行うことができ、きめ細かな
制御が可能となる。なお、アナログ回路52へのアナロ
グ信号入力中は、雑音検出が不可能であるため、例え
ば、電源立ち上げ後等に安定化を行って検出ノイズレベ
ルに応じた制御データを読み出し、アナログ信号の入力
中は上記制御データをホールドするとよい。
As described above, by detecting the noise of the output of the analog circuit 52, although the control is complicated, pseudo feed hack control can be performed, and fine control can be performed. During the input of the analog signal to the analog circuit 52, noise cannot be detected. For example, after the power is turned on, stabilization is performed, control data corresponding to the detected noise level is read, and input of the analog signal is performed. It is preferable to hold the control data during the operation.

【0046】図16は、基板雑音除去回路58及び結合
度制御回路68の第3実施例の回路構成図を示す。同図
中、図14と同一部分には同一符号を付し、その説明を
省略する。図16において、バイアス回路60の正電極
は可変抵抗80を介して差動増幅器62の反転入力端子
に接続され、バイアス回路61の正電極は可変抵抗82
を介して差動増幅器62の非反転入力端子に接続されて
いる。
FIG. 16 is a circuit diagram of a third embodiment of the substrate noise elimination circuit 58 and the coupling degree control circuit 68. 14, those parts that are the same as those corresponding parts in FIG. 14 are designated by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted. 16, a positive electrode of a bias circuit 60 is connected to an inverting input terminal of a differential amplifier 62 via a variable resistor 80, and a positive electrode of the bias circuit 61 is connected to a variable resistor 82.
Is connected to the non-inverting input terminal of the differential amplifier 62 via

【0047】また、差動増幅器62の反転入力端子は抵
抗R3を介して反転出力端子に接続され、非反転入力端
子は抵抗R4を介してアナログ回路52の接地端子52
bに接続され、差動増幅器62の非反転出力端子はコン
デンサ64及び抵抗65を介して基板抵抗56a,56
bの接続点であるB点に接続されている。
The inverting input terminal of the differential amplifier 62 is connected to an inverting output terminal via a resistor R3, and the non-inverting input terminal is connected to a ground terminal 52 of the analog circuit 52 via a resistor R4.
b, and the non-inverting output terminal of the differential amplifier 62 is connected to the substrate resistors 56a, 56
It is connected to point B, which is the connection point of b.

【0048】結合度制御回路68は、温度センサ70と
コントローラ77とアナログ変換回路78から構成され
ている。温度センサ70の検出温度がコントローラ77
を介してアナログ変換回路78に供給され、アナログ変
換回路78は検出温度をアナログの制御信号値に変換す
る。コントローラ77は、このアナログの制御信号値を
可変抵抗80,82に供給し、可変抵抗80,82それ
ぞれの抵抗値を可変制御することにより、結合度を動的
に制御する。
The coupling degree control circuit 68 comprises a temperature sensor 70, a controller 77 and an analog conversion circuit 78. The temperature detected by the temperature sensor 70 is
The analog conversion circuit 78 converts the detected temperature into an analog control signal value. The controller 77 supplies this analog control signal value to the variable resistors 80 and 82 and variably controls the resistance values of the variable resistors 80 and 82 to dynamically control the degree of coupling.

【0049】図17は、本発明のアナログ回路とディジ
タル回路が混在する半導体集積回路の第4実施例の回路
構成図を示す。同図中、図5と同一部分には同一符号を
付す。図17において、高抵抗基板を用いた半導体集積
回路90には、アナログ回路92とディジタル回路94
とが混載されている。このアナログ回路92とディジタ
ル回路94間には半導体基板による高抵抗の基板抵抗9
6a,96bが存在する。
FIG. 17 is a circuit diagram of a fourth embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention in which an analog circuit and a digital circuit are mixed. 5, the same parts as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 17, an analog circuit 92 and a digital circuit 94 are provided in a semiconductor integrated circuit 90 using a high-resistance substrate.
And are mixed. A high-resistance substrate resistor 9 made of a semiconductor substrate is provided between the analog circuit 92 and the digital circuit 94.
6a and 96b are present.

【0050】アナログ回路92の電源端子92a,接地
端子92bは、パッケージやボンディングワイヤに相当
するインダクタンス成分L31,L32を介して電源V
DD,グランドGNDに接続されており、ディジタル回
路94の電源端子94a,接地端子94bは、パッケー
ジやボンディングワイヤに相当するインダクタンス成分
L33,L34を介して電源VDD,グランドGNDに
接続されている。アナログ回路92は、微小な入力信号
をデジタル信号に変換する高感度のフロントエンド部で
ある。なお、図中では簡略化のためにアナログ回路92
とディジタル回路94の接続関係は省略している。
A power supply terminal 92a and a ground terminal 92b of the analog circuit 92 are connected to a power supply V via an inductance component L31, L32 corresponding to a package or a bonding wire.
The power supply terminal 94a and the ground terminal 94b of the digital circuit 94 are connected to the power supply VDD and the ground GND via inductance components L33 and L34 corresponding to packages and bonding wires. The analog circuit 92 is a high-sensitivity front-end unit that converts a minute input signal into a digital signal. In the figure, the analog circuit 92 is shown for simplicity.
The connection between the digital circuit 94 and the digital circuit 94 is omitted.

【0051】基板雑音除去回路98は、図6または図7
の基板雑音除去回路38と同様のものであり、アナログ
回路92の基準電位(例えば所定電圧だけバイアスされ
た接地端子92b電位)を供給され、この基準電位に基
づいて出力端子が接続された高抵抗の基板抵抗96a,
96bの接続点であるC点における電位をフィードバッ
ク制御する。これによって、アナログ回路92での基板
雑音が少なくなるように、半導体基板のA点の電位が制
御される。なお、基板雑音除去回路98の代わりに、図
9に示す基板雑音除去回路58と同様のものを用いても
良いことはもちろんである。
FIG. 6 or FIG.
Is supplied with a reference potential of the analog circuit 92 (for example, the potential of a ground terminal 92b biased by a predetermined voltage), and a high-resistance circuit connected to an output terminal based on the reference potential. Substrate resistance 96a,
Feedback control is performed on the potential at point C, which is the connection point of 96b. As a result, the potential at the point A of the semiconductor substrate is controlled so that the substrate noise in the analog circuit 92 is reduced. It should be noted that a circuit similar to the substrate noise elimination circuit 58 shown in FIG. 9 may be used instead of the substrate noise elimination circuit 98.

【0052】図18は、高抵抗基板を用いた半導体集積
回路の第1実施例のデバイス構造を表す断面図を示す。
同図中、高抵抗基板100として、例えばドーピングの
低減により、100[Ω・cm]以上の抵抗率としたP
型の半導体基板を用いる。高抵抗基板上にはN型ウエル
102A,102Bが形成され、N型ウエル102A,
102B内にP型ウエル104A,104Bが形成され
て、トリプルウエル構造とされている。そして、N型ウ
エル102A及びP型ウエル104A内にアナログ回路
92が形成され、N型ウエル102B及びP型ウエル1
04B内にディジタル回路94が形成される。
FIG. 18 is a sectional view showing a device structure of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high resistance substrate.
In the figure, as the high resistance substrate 100, for example, a P having a resistivity of 100 [Ω · cm] or more is obtained by reducing doping.
Type semiconductor substrate is used. N-type wells 102A and 102B are formed on the high resistance substrate, and N-type wells 102A and 102B are formed.
P-type wells 104A and 104B are formed in 102B to form a triple well structure. Then, an analog circuit 92 is formed in the N-type well 102A and the P-type well 104A, and the N-type well 102B and the P-type well 1 are formed.
A digital circuit 94 is formed in 04B.

【0053】高抵抗基板100をMOSトランジスタの
バルクとして使用すると、バルク電位が変動しやすくラ
ッチアップが生じやすいため、トリプルウエル構造とす
ることにより、N型ウエル102A,102B及びP型
ウエル104A,104Bの電位を安定化している。
If the high-resistance substrate 100 is used as a bulk of a MOS transistor, the bulk potential is likely to fluctuate and latch-up is likely to occur. Therefore, the triple well structure is used to form the N-type wells 102A and 102B and the P-type wells 104A and 104B. Is stabilized.

【0054】図19は、高抵抗基板を用いた半導体集積
回路の第2実施例のデバイス構造を表す断面図を示す。
同図中、高抵抗基板110上に絶縁体膜112を形成
し、その上にP型ウエル114A,114Bが形成さ
れ、P型ウエル114A,114B内にN型ウエル11
6A,116Bが形成されて、SOI(Silicon
on Insulator)構造とされている。そし
て、P型ウエル114A及びN型ウエル116A内にア
ナログ回路92が形成され、P型ウエル114B及びN
型ウエル116B内にディジタル回路94が形成され
る。この実施例では、SOI構造による高アイソレーシ
ョン特性に加えて、高抵抗基板110を経由するクロス
トークの低減を見込むことができる。
FIG. 19 is a sectional view showing a device structure of a second embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high resistance substrate.
In the figure, an insulator film 112 is formed on a high-resistance substrate 110, P-type wells 114A and 114B are formed thereon, and an N-type well 11 is formed in the P-type wells 114A and 114B.
6A and 116B are formed and SOI (Silicon
on Insulator) structure. Then, an analog circuit 92 is formed in the P-type well 114A and the N-type well 116A, and the P-type wells 114B and N
A digital circuit 94 is formed in the mold well 116B. In this embodiment, in addition to the high isolation characteristics of the SOI structure, a reduction in crosstalk via the high resistance substrate 110 can be expected.

【0055】図20は、高抵抗基板を用いた半導体集積
回路の第3実施例のデバイス構造を表す断面図を示す。
同図中、高抵抗基板120上に絶縁体膜122を形成
し、その上にP型ウエル124A,N型ウエル126
A,P型ウエル124B,N型ウエル126Bが形成さ
れSOI構造とされている。そして、P型ウエル124
A,N型ウエル126A内にアナログ回路92が形成さ
れ、P型ウエル124B,N型ウエル126B内にディ
ジタル回路94が形成される。この実施例では、半導体
層を薄くすることで、完全空乏型のMOSトランジスタ
を実現でき、SOI構造のMOSトランジスタとして理
想的な特性を実現できる。
FIG. 20 is a sectional view showing a device structure of a third embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high resistance substrate.
In the figure, an insulator film 122 is formed on a high resistance substrate 120, and a P-type well 124A and an N-type well 126 are formed thereon.
A and P-type wells 124B and N-type wells 126B are formed to have an SOI structure. Then, the P-type well 124
An analog circuit 92 is formed in the A and N wells 126A, and a digital circuit 94 is formed in the P well 124B and the N well 126B. In this embodiment, a fully depleted MOS transistor can be realized by thinning the semiconductor layer, and ideal characteristics can be realized as a MOS transistor having an SOI structure.

【0056】図21は、高抵抗基板を用いた半導体集積
回路の第4実施例のデバイス構造を表す断面図を示す。
同図中、高抵抗基板130上にN型ウエル132Aが形
成され、N型ウエル132A内にP型ウエル134Aが
形成されて、トリプルウエル構造とされている。これと
共に、高抵抗基板130上に絶縁体膜136を形成し、
その上にP型ウエル138B,N型ウエル140Bが形
成されSOI構造とされている。そして、P型ウエル1
32A,N型ウエル134A内にアナログ回路92が形
成され、P型ウエル138B,N型ウエル140B内に
ディジタル回路94が形成される。
FIG. 21 is a sectional view showing a device structure of a fourth embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high-resistance substrate.
In the figure, an N-type well 132A is formed on a high-resistance substrate 130, and a P-type well 134A is formed in the N-type well 132A to form a triple well structure. At the same time, an insulator film 136 is formed on the high-resistance substrate 130,
A P-type well 138B and an N-type well 140B are formed thereon to form an SOI structure. And P-type well 1
The analog circuit 92 is formed in the 32A and N-type well 134A, and the digital circuit 94 is formed in the P-type well 138B and the N-type well 140B.

【0057】この実施例では、ディジタル回路94のみ
SOI構造とし、アナログ回路92はトリプルウエル構
造として高抵抗基板130上に作成している。このよう
な部分的なSOI構造は、例えばSIMOX(Sepa
ration by Implanted Oxyge
n)的技術を適用することにより得られる。SOI構造
上のMOSトランジスタは特性のばらつきが大きくモデ
ルも複雑であるために、高感度のアナログ回路92では
使用困難であるのに対し、上記構成ではアナログ回路9
2にトリプルウエル構造で通常のMOSトランジスタを
形成できるので、特性の向上を図ることができる。
In this embodiment, only the digital circuit 94 has an SOI structure, and the analog circuit 92 is formed on a high resistance substrate 130 as a triple well structure. Such a partial SOI structure is, for example, a SIMOX (Sepa)
ratio by Implanted Oxyge
n) by applying the target technique. The MOS transistor on the SOI structure has a large variation in characteristics and a complicated model, so that it is difficult to use the MOS transistor in the high-sensitivity analog circuit 92.
Since a normal MOS transistor can be formed in a triple-well structure, characteristics can be improved.

【0058】なお、上記実施例では、ディジタル回路と
アナログ回路が混在する半導体集積回路について述べた
が、ディジタル回路とアナログ回路間のクロストークが
最も影響が大きいだけであり、デジタル回路のみ、アナ
ログ回路のみの半導体集積回路についても同様の効果が
得られることは言うまでもなく、上記実施例に限定され
ない。
In the above embodiment, a semiconductor integrated circuit in which a digital circuit and an analog circuit are mixed has been described. However, only the crosstalk between the digital circuit and the analog circuit has the greatest effect. It is needless to say that the same effect can be obtained with only the semiconductor integrated circuit of the present embodiment, and it is not limited to the above embodiment.

【0059】なお、ディジタル回路34が請求項記載の
第1の回路ブロックに対応し、アナログ回路32が第2
の回路ブロックに対応する。
The digital circuit 34 corresponds to the first circuit block described in the claims, and the analog circuit 32 corresponds to the second circuit block.
Circuit block.

【0060】(付記1) 複数の回路ブロックを1つの
半導体基板上に共通に形成した半導体集積回路におい
て、雑音を発生する第1の回路ブロックのグランドまた
は電源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ込むの
を相殺するように半導体基板の電位を能動的に制御する
基板雑音除去回路を有することを特徴とする半導体集積
回路。(1) (付記2) 請求項1記載の半導体集積回路において、
前記基板雑音除去回路は、前記第2の回路ブロックから
の基準電位に基づいて前記半導体基板の電位をフィード
バック制御することを特徴とする半導体集積回路。
(2) (付記3) 請求項1記載の半導体集積回路において、
前記基板雑音除去回路は、前記第1の回路ブロックから
の第1の基準電位と前記第2の回路ブロックからの第2
の基準電位との誤差に基づいて前記半導体基板の電位を
フィードフォワード制御することを特徴とする半導体集
積回路。(3) (付記4) 請求項3記載の半導体集積回路において、
前記基板雑音除去回路の出力を前記半導体基板に供給す
る結合度を制御する結合度制御回路を有することを特徴
とする半導体集積回路。(4) (付記5) 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体
集積回路において、前記半導体基板は、高抵抗基板であ
ることを特徴とする半導体集積回路。(5) (付記6) 請求項4記載の半導体集積回路において、
前記結合度制御回路は、温度センサを有し、前記温度セ
ンサの検出温度に応じて前記結合度を制御することを特
徴とする半導体集積回路。
(Supplementary Note 1) In a semiconductor integrated circuit in which a plurality of circuit blocks are formed in common on a single semiconductor substrate, noise of the ground or power supply of the first circuit block that generates noise is reduced by noise of another second circuit block. A semiconductor integrated circuit having a substrate noise elimination circuit that actively controls a potential of a semiconductor substrate so as to cancel leakage into a block. (1) (Supplementary note 2) In the semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The semiconductor integrated circuit, wherein the substrate noise removing circuit feedback-controls a potential of the semiconductor substrate based on a reference potential from the second circuit block.
(2) (Supplementary Note 3) In the semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The substrate noise elimination circuit includes a first reference potential from the first circuit block and a second reference potential from the second circuit block.
A feed-forward control of the potential of the semiconductor substrate based on an error with respect to a reference potential of the semiconductor integrated circuit. (3) (Supplementary Note 4) In the semiconductor integrated circuit according to claim 3,
A semiconductor integrated circuit, comprising: a coupling degree control circuit for controlling a coupling degree for supplying an output of the substrate noise elimination circuit to the semiconductor substrate. (4) (Supplementary Note 5) The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 1 to 4, wherein the semiconductor substrate is a high-resistance substrate. (5) (Supplementary note 6) In the semiconductor integrated circuit according to claim 4,
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the coupling degree control circuit has a temperature sensor, and controls the coupling degree according to a temperature detected by the temperature sensor.

【0061】(付記7) 請求項4記載の半導体集積回
路において、前記結合度制御回路は、前記第2の回路ブ
ロックの出力に含まれる雑音を検出する雑音検出回路を
有し、前記雑音検出回路の検出値に応じて前記結合度を
制御することを特徴とする半導体集積回路。
(Supplementary Note 7) The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the coupling degree control circuit has a noise detection circuit for detecting noise included in an output of the second circuit block, and the noise detection circuit Wherein the degree of coupling is controlled in accordance with a detection value of (i).

【0062】(付記8) 付記5記載の半導体集積回路
において、前記半導体基板は、抵抗率が100[Ω・c
m]以上であることを特徴とする半導体集積回路。
(Supplementary Note 8) In the semiconductor integrated circuit according to supplementary note 5, the semiconductor substrate has a resistivity of 100 [Ω · c].
m] or more.

【0063】(付記9) 付記5記載の半導体集積回路
において、前記半導体基板上に、トリプルウエル構造で
前記第1,第2の回路ブロックを構成したことを特徴と
する半導体集積回路。
(Supplementary Note 9) The semiconductor integrated circuit according to supplementary note 5, wherein the first and second circuit blocks have a triple-well structure on the semiconductor substrate.

【0064】(付記10) 付記5記載の半導体集積回
路において、前記半導体基板上に、SOI構造で前記第
1,第2の回路ブロックを構成したことを特徴とする半
導体集積回路。
(Supplementary Note 10) The semiconductor integrated circuit according to supplementary note 5, wherein the first and second circuit blocks have an SOI structure on the semiconductor substrate.

【0065】(付記11) 請求項1乃至10のいずれ
かに記載の半導体集積回路において、前記第1の回路ブ
ロックは、ディジタル回路であり、前記第2の回路ブロ
ックは、アナログ回路であることを特徴とする半導体集
積回路。
(Supplementary Note 11) The semiconductor integrated circuit according to any one of claims 1 to 10, wherein the first circuit block is a digital circuit, and the second circuit block is an analog circuit. Characteristic semiconductor integrated circuit.

【0066】[0066]

【発明の効果】上述の如く、請求項1に記載の発明は、
雑音を発生する第1の回路ブロックのグランドまたは電
源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ込むのを相
殺するように半導体基板の電位を能動的に制御する基板
雑音除去回路を有することにより、半導体基板を介した
クロストークを低減することができる。即ち、第1の回
路ブロックのグランドまたは電源に発生した雑音を検知
し、それを相殺する成分で半導体基板の電位を能動的に
安定化することによって、第2の回路ブロックへのクロ
ストークを抑圧することができ、回路ブロック間の距離
を大きく取る必要がなく、チップ面積及びコストの増大
を生じることがない。
As described above, the first aspect of the present invention provides
A substrate noise elimination circuit that actively controls the potential of the semiconductor substrate so as to cancel the noise of the ground or power supply of the first circuit block that generates noise from leaking into the other second circuit block. Thereby, crosstalk via the semiconductor substrate can be reduced. That is, noise generated in the ground or the power supply of the first circuit block is detected, and the potential of the semiconductor substrate is actively stabilized with a component that cancels the noise, thereby suppressing crosstalk to the second circuit block. Therefore, there is no need to increase the distance between circuit blocks, and there is no increase in chip area and cost.

【0067】請求項2に記載の発明では、基板雑音除去
回路は、前記第2の回路ブロックからの基準電位に基づ
いて前記半導体基板の電位をフィードバック制御するこ
とにより、雑音を発生する第1の回路ブロックのグラン
ドまたは電源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ
込むのを相殺するように半導体基板の電位を能動的に制
御することが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the substrate noise elimination circuit controls the electric potential of the semiconductor substrate based on a reference electric potential from the second circuit block, thereby generating the first noise. It is possible to actively control the potential of the semiconductor substrate so as to cancel the noise of the ground or the power supply of the circuit block from leaking into another second circuit block.

【0068】請求項3に記載の発明は、基板雑音除去回
路は、前記第1の回路ブロックからの第1の基準電位と
前記第2の回路ブロックからの第2の基準電位との誤差
に基づいて前記半導体基板の電位をフィードフォワード
制御することにより、雑音を発生する第1の回路ブロッ
クのグランドまたは電源の雑音が、他の第2の回路ブロ
ックに漏れ込むのを相殺するように半導体基板の電位を
能動的に制御することが可能となる。
According to a third aspect of the present invention, the substrate noise elimination circuit is based on an error between a first reference potential from the first circuit block and a second reference potential from the second circuit block. By controlling the potential of the semiconductor substrate in a feedforward manner, the noise of the ground or power supply of the first circuit block, which generates noise, is offset from the leakage of the semiconductor substrate to the other second circuit block. The potential can be actively controlled.

【0069】請求項4に記載の発明は、基板雑音除去回
路の出力を前記半導体基板に供給する結合度を制御する
結合度制御回路を有することにより、結合度の変化に対
応して結合度を能動的に制御してクロストークを低減す
ることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a coupling degree control circuit for controlling the coupling degree for supplying the output of the substrate noise elimination circuit to the semiconductor substrate. Active control can reduce crosstalk.

【0070】請求項5に記載の発明では、半導体基板
を、高抵抗基板とすることにより、更にクロストークを
低減することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the semiconductor substrate is a high-resistance substrate, so that the crosstalk can be further reduced.

【0071】付記6に記載の発明では、結合度制御回路
は、温度センサを有し、前記温度センサの検出温度に応
じて前記結合度を制御することにより、温度変動による
結合度の変化に対応して結合度を能動的に制御できる。
According to the invention described in Supplementary Note 6, the coupling degree control circuit has a temperature sensor, and controls the coupling degree in accordance with the temperature detected by the temperature sensor to cope with a change in the coupling degree due to a temperature change. Thus, the degree of coupling can be actively controlled.

【0072】付記7に記載の発明では、結合度制御回路
は、前記第2の回路ブロックの出力に含まれる雑音を検
出する雑音検出回路を有し、前記雑音検出回路の検出値
に応じて前記結合度を制御することにより、雑音によっ
て結合度の変化を検出し、これに対応して結合度を能動
的に制御できる。
In the invention described in Supplementary Note 7, the coupling degree control circuit has a noise detection circuit that detects noise included in an output of the second circuit block, and the coupling control circuit includes a noise detection circuit that detects a noise included in an output of the second circuit block. By controlling the degree of coupling, a change in the degree of coupling can be detected by noise, and the degree of coupling can be actively controlled correspondingly.

【0073】付記11に記載の発明では、第1の回路ブ
ロックは、ディジタル回路であり、第2の回路ブロック
は、アナログ回路であることにより、アナログ回路とデ
ィジタル回路間の距離を大きく取る必要がなく、チップ
面積及びコストの増大が生じることがなく、容易にアナ
ログ回路とディジタル回路が混在する半導体集積回路を
実現することができる。
In the invention described in Supplementary Note 11, since the first circuit block is a digital circuit and the second circuit block is an analog circuit, it is necessary to increase the distance between the analog circuit and the digital circuit. Thus, a semiconductor integrated circuit in which analog circuits and digital circuits are mixed can be easily realized without increasing the chip area and cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のアナログ・デジタル混在の半導体集積回
路の一例の回路構成図である。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of an example of a conventional analog / digital mixed semiconductor integrated circuit.

【図2】図1の回路各部の信号波形図である。FIG. 2 is a signal waveform diagram of each section of the circuit of FIG.

【図3】CMOS半導体集積回路のデバイス構造を表す
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view illustrating a device structure of a CMOS semiconductor integrated circuit.

【図4】図3の等価回路図である。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of FIG.

【図5】本発明のアナログ回路とディジタル回路が混在
する半導体集積回路の第1実施例の回路構成図である。
FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit in which an analog circuit and a digital circuit are mixed according to the present invention.

【図6】基板雑音除去回路38の第1実施例の回路構成
図である。
FIG. 6 is a circuit configuration diagram of a first embodiment of a substrate noise elimination circuit 38;

【図7】基板雑音除去回路38の第2実施例の回路構成
図である。
FIG. 7 is a circuit configuration diagram of a second embodiment of the substrate noise elimination circuit 38;

【図8】図5の回路各部の信号波形図である。8 is a signal waveform diagram of each part of the circuit of FIG.

【図9】本発明のアナログ回路とディジタル回路が混在
する半導体集積回路の第2実施例の回路構成図である。
FIG. 9 is a circuit configuration diagram of a second embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention in which analog circuits and digital circuits are mixed.

【図10】基板雑音除去回路58の第1実施例の回路構
成図である。
FIG. 10 is a circuit configuration diagram of a first embodiment of the substrate noise elimination circuit 58;

【図11】基板雑音除去回路58の第2実施例の回路構
成図である。
FIG. 11 is a circuit configuration diagram of a second embodiment of the substrate noise elimination circuit 58;

【図12】図9の回路各部の信号波形図である。FIG. 12 is a signal waveform diagram of each section of the circuit of FIG. 9;

【図13】本発明のアナログ回路とディジタル回路が混
在する半導体集積回路の第3実施例の回路構成図であ
る。
FIG. 13 is a circuit configuration diagram of a third embodiment of a semiconductor integrated circuit in which an analog circuit and a digital circuit are mixed according to the present invention.

【図14】基板雑音除去回路58及び結合度制御回路6
8の第1実施例の回路構成図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating a substrate noise elimination circuit 58 and a coupling degree control circuit 6;
8 is a circuit configuration diagram of the first embodiment of FIG.

【図15】基板雑音除去回路58及び結合度制御回路6
8の第2実施例の回路構成図である。
FIG. 15 shows a substrate noise elimination circuit 58 and a coupling degree control circuit 6;
FIG. 8 is a circuit configuration diagram of a second example 8;

【図16】基板雑音除去回路58及び結合度制御回路6
8の第3実施例の回路構成図である。
FIG. 16 shows a substrate noise elimination circuit 58 and a coupling degree control circuit 6;
8 is a circuit configuration diagram of a third example of FIG.

【図17】本発明のアナログ回路とディジタル回路が混
在する半導体集積回路の第4実施例の回路構成図であ
る。
FIG. 17 is a circuit configuration diagram of a fourth embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention in which analog circuits and digital circuits are mixed.

【図18】高抵抗基板を用いた半導体集積回路の第1実
施例のデバイス構造を表す断面図である。
FIG. 18 is a sectional view illustrating a device structure of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high-resistance substrate.

【図19】高抵抗基板を用いた半導体集積回路の第2実
施例のデバイス構造を表す断面図である。
FIG. 19 is a sectional view illustrating a device structure of a second embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high-resistance substrate.

【図20】高抵抗基板を用いた半導体集積回路の第3実
施例のデバイス構造を表す断面図である。
FIG. 20 is a sectional view illustrating a device structure of a third embodiment of the semiconductor integrated circuit using the high-resistance substrate.

【図21】高抵抗基板を用いた半導体集積回路の第4実
施例のデバイス構造を表す断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a device structure of a fourth embodiment of a semiconductor integrated circuit using a high-resistance substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30 半導体集積回路 32 アナログ回路 32a,34a 電源端子 32b,34b 接地端子 34 ディジタル回路 36a,36b 基板抵抗 38 基板雑音除去回路 40 バイアス回路 42 演算増幅器 44,64 コンデンサ 58 基板雑音除去回路 62 差動増幅器 65 抵抗 68 結合度制御回路 74 雑音検出回路 Reference Signs List 30 semiconductor integrated circuit 32 analog circuit 32a, 34a power supply terminal 32b, 34b ground terminal 34 digital circuit 36a, 36b substrate resistance 38 substrate noise elimination circuit 40 bias circuit 42 operational amplifier 44, 64 capacitor 58 substrate noise elimination circuit 62 differential amplifier 65 Resistance 68 Coupling degree control circuit 74 Noise detection circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の回路ブロックを1つの半導体基板
上に共通に形成した半導体集積回路において、 雑音を発生する第1の回路ブロックのグランドまたは電
源の雑音が、他の第2の回路ブロックに漏れ込むのを相
殺するように半導体基板の電位を能動的に制御する基板
雑音除去回路を有することを特徴とする半導体集積回
路。
In a semiconductor integrated circuit in which a plurality of circuit blocks are formed in common on one semiconductor substrate, noise of a ground or a power supply of a first circuit block generating noise is transmitted to another second circuit block. A semiconductor integrated circuit having a substrate noise elimination circuit that actively controls a potential of a semiconductor substrate so as to cancel leakage.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記基板雑音除去回路は、前記第2の回路ブロックから
の基準電位に基づいて前記半導体基板の電位をフィード
バック制御することを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said substrate noise elimination circuit feedback-controls a potential of said semiconductor substrate based on a reference potential from said second circuit block. Integrated circuit.
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記基板雑音除去回路は、前記第1の回路ブロックから
の第1の基準電位と前記第2の回路ブロックからの第2
の基準電位との誤差に基づいて前記半導体基板の電位を
フィードフォワード制御することを特徴とする半導体集
積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said substrate noise elimination circuit includes a first reference potential from said first circuit block and a second reference potential from said second circuit block.
A feed-forward control of the potential of the semiconductor substrate based on an error with respect to a reference potential of the semiconductor integrated circuit.
【請求項4】 請求項3記載の半導体集積回路におい
て、 前記基板雑音除去回路の出力を前記半導体基板に供給す
る結合度を制御する結合度制御回路を有することを特徴
とする半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, further comprising a coupling degree control circuit for controlling a coupling degree for supplying an output of said substrate noise removing circuit to said semiconductor substrate.
【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導
体集積回路において、 前記半導体基板は、高抵抗基板であることを特徴とする
半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said semiconductor substrate is a high-resistance substrate.
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