JP2002064112A - Manufacturing method of photoelectron component - Google Patents

Manufacturing method of photoelectron component

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inexpensively manufacturing compact and thin photoelectronic components in large quantities in unit time. SOLUTION: This method includes a step (S12) that forms a groove on the surface of a semiconductor substrate where a plurality of LED chips are formed, and a bump is formed to each LED chip, first and second steps (S14 and S18) that apply transparent resin onto the surface and backside of the semiconductor substrate where the groove is formed, respectively, and a step (S24) that cuts a position where the groove is formed for dividing into each photoelectronic component.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光電子部品の製造
方法に係り、特にLED(Light Emitting Diode:発光
ダイオード)等の発光素子、及びフォトダイオード等の
受光素子を封止して光電子部品を製造する光電子部品の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optoelectronic component, and more particularly to a method for manufacturing an optoelectronic component by sealing a light emitting element such as an LED (Light Emitting Diode) and a light receiving element such as a photodiode. The present invention relates to a method for manufacturing an optoelectronic component.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光エネルギーを電気エネルギーに
変換する受光素子、及び電気エネルギーを光エネルギー
に変換する発光素子が種々の分野に使用されている。上
記受光素子としてはフォトダイオード、フォトトランジ
スタ、CdSセル(硫化カドミウムセル)、フォトサイ
リスタ、及びEPROM(Erasable Programable ReadO
nly Memory)等が挙げられ、上記発光素子の代表として
はLEDが挙げられる。
2. Description of the Related Art In recent years, light receiving elements for converting light energy to electric energy and light emitting elements for converting electric energy to light energy have been used in various fields. Examples of the light receiving element include a photodiode, a phototransistor, a CdS cell (cadmium sulfide cell), a photothyristor, and an EPROM (Erasable Programmable ReadO).
nly Memory) and the like, and an LED is a typical light emitting element.

【0003】上記発光素子の代表としてのLEDは、従
来から赤色領域及び緑色領域の波長の光を発するものが
実用化されている。また、LEDを用いた表示装置も実
用化されている。例えば、赤色領域の波長の光を発する
LEDと緑色領域の波長の光を発するLEDとを組み合
わせて3色の色分け表示を行うことができる表示板等が
電車内等に設けられている。LEDは発光効率が極めて
高いとともに、発熱量が極めて少なく、更に素子の寿命
が長いという特性を有しているため、多数の者へ情報を
表示する表示装置や信号等への応用が行われている。
[0003] As the LED as a representative of the above-mentioned light emitting element, an LED which emits light of wavelengths in a red region and a green region has been practically used. Display devices using LEDs have also been put to practical use. For example, a display plate or the like that can perform color-coded display of three colors by combining an LED that emits light of a wavelength in the red region and an LED that emits light of a wavelength in the green region is provided in a train or the like. LEDs have the characteristics of extremely high luminous efficiency, extremely low heat generation, and long element life. Therefore, they have been applied to display devices and signals for displaying information to a large number of people. I have.

【0004】周知の通り光の三原色は赤(R)、緑
(G)、及び青(B)であるが従来は青色領域の光を発
するLEDは実現されていなかった。近年、青色領域の
波長で発光するLEDが遂に実用化された。これで、光
の三原色を発するLEDが全て得られたためフルカラー
化を図ることによって表示板の表示能力を向上させるこ
とが可能となる。また、信号機を全てLEDで実現する
ことも可能となる。
As is well known, the three primary colors of light are red (R), green (G), and blue (B), but an LED that emits light in the blue region has not been realized. In recent years, LEDs that emit light at a wavelength in the blue region have finally been put to practical use. Thus, all the LEDs emitting the three primary colors of light are obtained, so that the display capability of the display panel can be improved by achieving full color. Further, it is also possible to realize all traffic lights with LEDs.

【0005】ところで、LEDは優れた単色性ピーク波
長を有するが故に白色系等の発光波長を発光することが
できない。そこで、青色領域の光を発するLEDチップ
と蛍光物質とを用いてLEDチップから発せられる光を
他の色に変換することによって、種々の色を発するLE
Dが案出されている。このLEDを用いると、単一のL
EDによって例えば白色光を発光させることができる。
[0005] By the way, since an LED has an excellent monochromatic peak wavelength, it cannot emit an emission wavelength such as a white color. Therefore, LEs that emit various colors by converting the light emitted from the LED chips to other colors using an LED chip that emits light in the blue region and a fluorescent substance.
D has been devised. With this LED, a single L
For example, white light can be emitted by the ED.

【0006】かかる技術を具体的に説明すると、青色領
域の光を発するLEDチップ等をリードフレームの先端
に設けられたカップ上に配置する。LEDチップが設け
られたメタルステムやメタルポストとLEDチップとを
それぞれ電気的に接続する。そして、LEDチップを封
止する樹脂モールド部材中等にLEDチップからの光を
吸収し波長変換する蛍光物質を含有させてLEDチップ
を封止する。この技術の詳細については、例えば特開平
10−107325号公報や特開平10−190065
号公報を参照されたい。
[0006] To explain this technique in detail, an LED chip or the like that emits light in the blue region is arranged on a cup provided at the tip of a lead frame. A metal stem or a metal post provided with the LED chip is electrically connected to the LED chip. Then, the LED chip is sealed by incorporating a fluorescent substance that absorbs light from the LED chip and converts the wavelength into a resin mold member or the like that seals the LED chip. For details of this technique, see, for example, JP-A-10-107325 and JP-A-10-190065.
Please refer to Japanese Patent Publication No.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
では上述したように、リードフレームの先端に設けられ
たカップ上にLED素子を配置して、リードフレームの
一部、カップ、及びLED素子を一括して封止していた
ため、LED素子の外形形状が必然的に大きくなるとい
う問題があった。また、主としてLEDの指向特性を制
御するために、LED素子を封止する樹脂の上部形状を
半円形形状に形成してレンズの機能をもたせているが、
上述のようにリードフレームの一部、カップ、及びLE
D素子を一括して封止する封止形態であるとレンズの形
状も大きくなり、LEDの厚さ(LED素子から発せら
れる光の光軸方向の長さ)が厚くなるという問題があっ
た。
In the prior art, as described above, an LED element is arranged on a cup provided at the tip of a lead frame, and a part of the lead frame, the cup, and the LED element are connected. There was a problem that the external shape of the LED element was inevitably increased because the package was sealed in a lump. In addition, in order to mainly control the directional characteristics of the LED, the upper shape of the resin for sealing the LED element is formed in a semicircular shape so as to have the function of a lens.
Part of the lead frame, cup and LE as described above
In the case of the sealing mode in which the D elements are collectively sealed, there is a problem that the shape of the lens becomes large, and the thickness of the LED (the length of light emitted from the LED element in the optical axis direction) becomes large.

【0008】前述したように、LEDは、発光効率が極
めて高いとともに、発熱量が極めて少なく、更に素子の
寿命が長いという極めて優れた特性を有している。ま
た、赤色領域の光、緑領域の光、及び青色領域の光全て
を発光可能であり、更に青色領域の光を発光するLED
チップと蛍光物質とを用いることで単一のLEDで白色
光を発光することも可能である。よって、今後、LED
は種々の用途で用いられることが予想に難くないが、L
EDを集積化して用いることも必要になると考えられ
る。かかる場合には、LEDの外形形状を小型化すると
ともに、厚みを薄くすることが要求されると考えられ
る。
As described above, LEDs have extremely high luminous efficiency, extremely low heat generation, and long life of the elements. In addition, an LED that can emit all light in the red, green, and blue regions, and further emits light in the blue region
It is also possible to emit white light with a single LED by using a chip and a fluorescent substance. Therefore, in the future, LED
Is not difficult to predict for use in various applications.
It is also considered necessary to integrate and use the ED. In such a case, it is considered necessary to reduce the outer shape of the LED and reduce the thickness.

【0009】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、小型且つ厚みの薄い光電子部品を安価に且つ単
位時間に大量に製造することができる光電子部品の製造
方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method for manufacturing an optoelectronic component capable of producing a small and thin optoelectronic component at low cost and in large quantities per unit time. And

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光電子部品の製造方法は、光電子部品素子
が複数形成され、当該光電子部品素子各々に対して接続
電極が形成された基板表面に溝を形成する溝形成工程
と、前記溝が形成された基板表面に透明樹脂を塗布する
第1塗布工程と、前記基板の裏面に透明樹脂を塗布する
第2塗布工程と、前記溝が形成された位置を切断して個
々の光電子部品に分離する分離工程とを有することを特
徴としている。また、上記課題を解決するために、本発
明の電子部品の製造方法は、光電子部品素子が複数形成
され、当該光電子部品素子各々に対して接続電極が形成
された基板表面に透明樹脂を塗布する第1塗布工程と、
前記基板裏面に溝を形成する溝形成工程と、前記基板の
裏面に透明樹脂を塗布する第2塗布工程と、前記溝が形
成された位置を切断して個々の光電子部品に分離する分
離工程とを有することを特徴としている。また、本発明
の光電子部品の製造方法は、前記溝が、前記基板に形成
された光電子部品素子間に形成されることを特徴として
いる。また、本発明の光電子部品の製造方法は、前記光
電子部品素子が、青色領域の光を発することを特徴とし
ている。また、本発明の光電子部品の製造方法は、前記
透明樹脂が、前記光電子部品素子から発せられる光の少
なくとも一部を吸収し波長変換して発光する蛍光物質を
含むことを特徴としている。また、本発明の光電子部品
の製造方法は、前記第1塗布工程が、真空下における孔
版印刷により前記透明樹脂を塗布することを特徴として
いる。また、本発明の光電子部品の製造方法は、前記第
1塗布工程において塗布された封止樹脂を硬化させる硬
化工程を更に有することを特徴としている。また、本発
明の光電子部品の製造方法は、前記第1塗布工程と前記
第2塗布工程との間に、第1塗布工程で基板表面に塗布
した樹脂を研磨して前記接続電極を露出させる研磨工程
を更に有することを特徴としている。また、本発明の光
電子部品の製造方法は、前記第2塗布工程において塗布
された封止樹脂を硬化させる硬化工程を更に有すること
を特徴としている。また、本発明の光電子部品の製造方
法は、前記分離工程前に前記接続電極に対して接続ボー
ルを形成する接続ボール形成工程を更に有することを特
徴としている。また、本発明の光電子部品の製造方法
は、上記何れかの光電子部品の製造方法を用いて製造さ
れた光電子部品を、更に透明樹脂を用いて封止する工程
を有することを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing an optoelectronic component according to the present invention is directed to a substrate having a plurality of optoelectronic component elements formed thereon and a connection electrode formed for each of the optoelectronic component elements. A groove forming step of forming a groove on the surface, a first coating step of coating a transparent resin on the surface of the substrate on which the groove is formed, a second coating step of coating a transparent resin on the back surface of the substrate, And separating the formed position into individual optoelectronic components. In order to solve the above problems, a method of manufacturing an electronic component according to the present invention includes applying a transparent resin to a substrate surface on which a plurality of optoelectronic component elements are formed and a connection electrode is formed for each of the optoelectronic component elements. A first coating step;
A groove forming step of forming a groove on the back surface of the substrate, a second application step of applying a transparent resin on the back surface of the substrate, and a separation step of cutting the position where the groove is formed and separating into individual optoelectronic components. It is characterized by having. In the method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention, the groove is formed between optoelectronic component elements formed on the substrate. In the method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention, the optoelectronic component element emits light in a blue region. Further, in the method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention, the transparent resin includes a fluorescent substance that absorbs at least a part of light emitted from the optoelectronic component element, converts the wavelength, and emits light. In the method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention, the first applying step applies the transparent resin by stencil printing under vacuum. Further, the method for manufacturing an optoelectronic component of the present invention is characterized by further comprising a curing step of curing the sealing resin applied in the first application step. The method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention may further include polishing the resin applied to the substrate surface in the first coating step to expose the connection electrode between the first coating step and the second coating step. It is characterized by further comprising a step. Further, the method for manufacturing an optoelectronic component of the present invention is characterized by further comprising a curing step of curing the sealing resin applied in the second application step. Further, the method of manufacturing an optoelectronic component according to the present invention is characterized in that the method further comprises a connection ball forming step of forming a connection ball for the connection electrode before the separation step. Further, a method for manufacturing an optoelectronic component according to the present invention includes a step of sealing the optoelectronic component manufactured using any of the above-described methods for manufacturing an optoelectronic component with a transparent resin.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施形態による光電子部品の製造方法について詳細に説
明する。尚、以下の説明においては、LED(Light Em
itting Diode:発光ダイオード)チップを封止して光電
子部品を製造する場合を例に挙げて説明する。図1は、
本発明の一実施形態による光電子部品の製造方法の工程
順を示すフローチャートであり、図2は、複数の光電子
部品素子としてのLEDチップが形成された半導体基板
を示す斜視図であり、図3は、複数のLEDチップが形
成された半導体基板表面を拡大した上面図である。ま
た、図4〜図6は、本発明の一実施形態による電子部品
の製造方法を用いて電子部品を製造する様子を説明する
ための断面図である。尚、以下の説明においては図1に
示した工程手順について適宜図2〜図6を参照して説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing an optoelectronic component according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, an LED (Light Em
An example in which an optoelectronic component is manufactured by sealing an itting diode (light emitting diode) chip will be described. FIG.
FIG. 2 is a flowchart showing a process sequence of a method for manufacturing an optoelectronic component according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a semiconductor substrate on which LED chips as a plurality of optoelectronic component elements are formed, and FIG. FIG. 3 is an enlarged top view of a semiconductor substrate surface on which a plurality of LED chips are formed. FIGS. 4 to 6 are cross-sectional views illustrating how to manufacture an electronic component using the method for manufacturing an electronic component according to the embodiment of the present invention. In the following description, the process procedure shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS.

【0012】まず、本実施形態において、光電子部品を
製造するには、図2に示した複数のLEDチップ12が
形成された半導体基板10を用いる。本実施形態におい
ては、LEDチップ12として青色領域の光を発するZ
nSe系のLEDチップやGaN系のLEDチップを想
定している。ZnSe系のLEDチップは、例えば半導
体基板10としてZnSe基板を用い、ZnSe基板上
に順にn型のZnSe層、ZnCdSe層とZnTeS
e層とからなる多層膜、及びp型のZnSe層を形成す
る。そして、LEDチップの一部をエッチング等によっ
て除去し、n型のZnSe層にIn等を用いて負電極を
形成し、更にp型のZnSe層にオーミックコンタクト
により正電極(例えば、金(Au))を形成する。
First, in this embodiment, in order to manufacture an optoelectronic component, a semiconductor substrate 10 having a plurality of LED chips 12 shown in FIG. 2 is used. In the present embodiment, the LED chip 12 emits light in a blue region.
An nSe LED chip or a GaN LED chip is assumed. The ZnSe-based LED chip uses, for example, a ZnSe substrate as the semiconductor substrate 10, and sequentially places an n-type ZnSe layer, a ZnCdSe layer, and a ZnTeS on the ZnSe substrate.
A multilayer film composed of an e layer and a p-type ZnSe layer are formed. Then, a part of the LED chip is removed by etching or the like, a negative electrode is formed on the n-type ZnSe layer using In or the like, and a positive electrode (for example, gold (Au)) is formed on the p-type ZnSe layer by ohmic contact. ) Is formed.

【0013】GaN系のLEDチップは、例えば半導体
基板10としてサファイア基板を用い、サファイア基板
上に順にバッファ層、n型のGaN層、Siをドープし
たGaN層、GaN層とSiをドープしたInxGay
(0≦x<1、0≦y≦1)層とからなる多層膜、Mg
をドープしたp型のInxGayN層、及びMgをドープ
したp型のGaN層を形成する。そして、LEDチップ
の一部をエッチング等によって除去し、n型のGaN層
にNi等を用いて負電極を形成し、更にMgをドープし
たp型のGaN層にNiを用いて正電極を形成する。
The GaN-based LED chip uses, for example, a sapphire substrate as the semiconductor substrate 10 and a buffer layer, an n-type GaN layer, a Si-doped GaN layer, and a GaN layer and Si-doped In x on the sapphire substrate in this order. Ga y N
(0 ≦ x <1, 0 ≦ y ≦ 1) layers, Mg
To form a p-type In x Ga y N layer doped with Mg and a p-type GaN layer doped with Mg. Then, a part of the LED chip is removed by etching or the like, a negative electrode is formed on the n-type GaN layer using Ni or the like, and a positive electrode is formed on the Mg-doped p-type GaN layer using Ni. I do.

【0014】図3及び図4(a)に示したように、本実
施形態では、各LEDチップ12の負電極14と正電極
16とが半導体基板10の表面側に形成されており、半
導体基板10の厚み方向における負電極14と正電極1
6との位置が異なる構造のLEDチップ12を例に挙げ
て説明する。尚、図4(a)は図3中のA−A線断面図
である。
As shown in FIGS. 3 and 4A, in the present embodiment, the negative electrode 14 and the positive electrode 16 of each LED chip 12 are formed on the front side of the semiconductor substrate 10, and Negative electrode 14 and positive electrode 1 in the thickness direction of 10
The LED chip 12 having a structure different from that of the LED chip 6 will be described as an example. FIG. 4A is a sectional view taken along the line AA in FIG.

【0015】処理が開始すると、半導体基板10上に複
数形成されたLEDチップ12の負電極14及び正電極
16上に接続電極としてのバンプを形成する工程が行わ
れる(工程S10)。図4(b)は、LEDチップ12
の負電極14及び正電極16上にバンプ18,20を形
成する様子を示す断面図である。バンプ18,20は、
例えばアルミニウム(Al)や銅(Cu)等の金属で形
成される。負電極14は図示のように、半導体基板10
の一部をエッチング等により除去した箇所に形成される
ためにバンプ18は長めに形成され、正電極16は半導
体基板10の表面に形成されるためバンプ20は短めに
形成される。よって、バンプ18,20はその高さ位置
がほぼ一定となるよう負電極14及び正電極16上にそ
れぞれ形成される。
When the process is started, a step of forming bumps as connection electrodes on the negative electrode 14 and the positive electrode 16 of the LED chips 12 formed on the semiconductor substrate 10 is performed (step S10). FIG. 4B shows the LED chip 12.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which bumps 18 and 20 are formed on the negative electrode 14 and the positive electrode 16 of FIG. The bumps 18 and 20
For example, it is formed of a metal such as aluminum (Al) or copper (Cu). As shown, the negative electrode 14 is connected to the semiconductor substrate 10.
The bumps 18 are formed longer because they are formed in portions where a part of the semiconductor substrate 10 is removed by etching or the like, and the bumps 20 are formed shorter because the positive electrodes 16 are formed on the surface of the semiconductor substrate 10. Therefore, the bumps 18 and 20 are formed on the negative electrode 14 and the positive electrode 16, respectively, so that their height positions are substantially constant.

【0016】バンプ18,20を形成する処理が終了す
ると、次に個々のLEDチップ12間に溝を形成する工
程が行われる(工程S12)。図4(c)は、LEDチ
ップ12間に溝を形成する様子を示す断面図である。溝
を形成するにあたり、まず半導体基板10の裏面にシー
ト22を貼付する。このシート22は、半導体基板10
に溝を形成した際に半導体基板10が個々に離散するの
を防止するとともに、半導体基板10の表面に樹脂を印
刷により塗布する際に、塗布した樹脂の漏れを防ぐため
に半導体基板10の裏面に貼付される。尚、シート22
は印刷した封止樹脂を高温下で硬化させる場合には、樹
脂硬化温度に耐え得るものが用いられる。
When the processing for forming the bumps 18 and 20 is completed, a step of forming a groove between the individual LED chips 12 is performed (step S12). FIG. 4C is a cross-sectional view illustrating a state in which a groove is formed between the LED chips 12. In forming the groove, first, the sheet 22 is attached to the back surface of the semiconductor substrate 10. This sheet 22 is used for the semiconductor substrate 10
In order to prevent the semiconductor substrate 10 from being individually separated when the groove is formed, and to apply the resin to the surface of the semiconductor substrate 10 by printing, the resin is applied to the back surface of the semiconductor substrate 10 to prevent the applied resin from leaking. Affixed. The sheet 22
When the printed sealing resin is cured at a high temperature, one that can withstand the resin curing temperature is used.

【0017】半導体基板10の裏面にシート22を貼付
した後、切断機24を用いてLEDチップ12間に溝が
形成される。切断機24は、例えば0.05〜0.4m
m程度の幅を有する溝を形成するものが用いられる。こ
の切断機24を用いて半導体基板10に溝を形成する訳
であるが、図4(c)に示した例では、半導体基板10
の表面から半導体基板10の裏面に貼付したシート22
に至る溝26が形成される。尚、図3に示したように個
々のLEDチップ12の形状は矩形形状であり、溝26
はLEDチップ12の4辺全てに形成され、個々のLE
Dチップ12の周囲を取り囲むように形成される。
After the sheet 22 is attached to the back surface of the semiconductor substrate 10, a groove is formed between the LED chips 12 using a cutting machine 24. The cutting machine 24 is, for example, 0.05 to 0.4 m
The one that forms a groove having a width of about m is used. A groove is formed in the semiconductor substrate 10 by using the cutting machine 24. In the example shown in FIG.
22 attached to the back surface of the semiconductor substrate 10 from the front surface
Is formed. The shape of each LED chip 12 is rectangular as shown in FIG.
Are formed on all four sides of the LED chip 12, and each LE
It is formed so as to surround the periphery of the D chip 12.

【0018】半導体基板10に溝26が形成されると、
溝26が形成された半導体基板10を図示しない樹脂印
刷機に設けられたチャンバ内に配置し、真空下において
バンプ18,20及び溝26が形成された半導体基板1
0表面に対して透明樹脂28を印刷により塗布する工程
が行われる(工程S14)。図5(a)は、バンプ1
8,20及び溝26が形成された半導体基板10表面に
対して透明樹脂28を印刷により塗布した様子を示す断
面図である。
When the groove 26 is formed in the semiconductor substrate 10,
The semiconductor substrate 10 having the groove 26 formed therein is disposed in a chamber provided in a resin printing machine (not shown), and the semiconductor substrate 1 having the bumps 18 and 20 and the groove 26 formed therein under vacuum.
A step of applying the transparent resin 28 to the zero surface by printing is performed (step S14). FIG. 5A shows bump 1
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which a transparent resin 28 is applied by printing on the surface of the semiconductor substrate 10 on which 8, 20, and the groove 26 are formed.

【0019】透明樹脂28の印刷は、半導体基板10の
直径よりも僅かに小さい径の孔が形成された図示しない
印刷用の孔版と孔版上を摺動するスキージとを用いて行
われる。本実施形態で用いる透明樹脂28は液状のもの
であり、硬化後に半導体基板10の反りが極めて少なく
なるよう抑えられるものが好ましい。尚、本実施形態で
は、LEDチップ12が青色領域の光を発し、LEDチ
ップ12から発せられた光の少なくとも一部を吸収し波
長変換して発光する光電子部品を製造する場合を例に挙
げて説明している。ここで、波長変換を行うための蛍光
物質が透明樹脂28に混合されている。
Printing of the transparent resin 28 is performed by using a stencil (not shown) for printing, in which a hole having a diameter slightly smaller than the diameter of the semiconductor substrate 10 is formed, and a squeegee sliding on the stencil. The transparent resin 28 used in the present embodiment is in a liquid state, and is preferably one that can suppress the warpage of the semiconductor substrate 10 after curing to be extremely small. In the present embodiment, an example is described in which the LED chip 12 emits light in the blue region, absorbs at least a part of the light emitted from the LED chip 12, converts the wavelength, and manufactures an optoelectronic component that emits light. Explain. Here, a fluorescent substance for performing wavelength conversion is mixed in the transparent resin 28.

【0020】ここで、蛍光物質とは、少なくともLED
チップ12から発せられた可視光で励起されて可視光を
発光する蛍光物質をいう。LEDチップ12から発せら
れた可視光と、蛍光物質から発せられる可視光とが補色
関係などにある場合やLEDチップ12からの可視光と
それによって励起され発光する蛍光物質の可視光がそれ
ぞれ光の3原色(赤色領域の光、緑色領域の光、青色領
域の光)に相当する場合、LEDチップ12から発せら
れる光と蛍光物質から発せられる光とを混色表示させる
と白色系の発光色表示を行うことができる。また、蛍光
物質を適宜調整したり、LEDチップ12から発せられ
る光の波長を選択することにより光電子部品から発せら
れる光を、白色を含め電球色等の任意の色調にすること
ができる。
Here, the fluorescent substance is at least an LED.
A fluorescent substance that emits visible light when excited by visible light emitted from the chip 12. When the visible light emitted from the LED chip 12 and the visible light emitted from the fluorescent substance are in a complementary color relationship, or the like, the visible light from the LED chip 12 and the visible light of the fluorescent substance excited and emitted by the light are respectively emitted from the light. When the three primary colors (light in the red region, light in the green region, and light in the blue region) correspond to each other, the light emitted from the LED chip 12 and the light emitted from the fluorescent material are mixed-colored to display white light emission color. It can be carried out. In addition, by appropriately adjusting the fluorescent substance or selecting the wavelength of the light emitted from the LED chip 12, the light emitted from the optoelectronic component can have an arbitrary color tone such as a light bulb color including white.

【0021】透明樹脂28に混合される蛍光物質は、無
機蛍光体、有機蛍光体、蛍光染料、蛍光顔料等の種々の
ものが挙げられる。具体的な蛍光物質としては、ペリレ
ン系誘導体やセリウム付活されたイットリウム・アルミ
ニウム・ガーネット蛍光体である(RE1-xSmx
3(Al1-yGay512:Ce(0≦x<1、0≦y≦
1、但し、REは、Y,Gd,La,Lu,Scからな
る群より選択される少なくとも一種の元素である。)等
が挙げられる。また、蛍光物質は、2種類以上の蛍光物
質を混合させてもよい。即ち、Al、Ga、Y、La、
及びGdやSmの含有量が異なる2種類以上の(RE
1-xSmx3(Al1-yGay512:Ce蛍光体を混合
させてRGBの波長成分を増やすことができる。
The fluorescent substance mixed with the transparent resin 28 includes various substances such as an inorganic fluorescent substance, an organic fluorescent substance, a fluorescent dye and a fluorescent pigment. Specific phosphors include perylene derivatives and yttrium aluminum garnet phosphor activated with cerium (RE 1-x Sm x ).
3 (Al 1-y Ga y ) 5 O 12: Ce (0 ≦ x <1,0 ≦ y ≦
1, where RE is at least one element selected from the group consisting of Y, Gd, La, Lu, and Sc. ) And the like. The fluorescent substance may be a mixture of two or more fluorescent substances. That is, Al, Ga, Y, La,
And two or more (RE) having different contents of Gd and Sm.
1-x Sm x) 3 ( Al 1-y Ga y) 5 O 12: Ce phosphor are mixed can increase the RGB wavelength components.

【0022】印刷を行う際には、まず、半導体基板10
の上面に孔版を接触させて配置する。このとき、孔版に
形成された孔が半導体素子10表面に形成されたLED
チップの上方に位置するよう孔版を配置する。つまり、
孔版がLEDチップを覆わないよう孔版を配置する。次
に、孔版上に透明樹脂28を滴下し、スキージを孔版の
面に沿って摺動させる。スキージを摺動させることによ
り、透明樹脂28が孔版に形成された孔内に流入すると
ともに、孔内に流入した透明樹脂28の上面が孔版と同
一の高さになり、且つ上面が平坦となる。このとき、半
導体基板10に形成された溝26内部に封止樹脂が充填
される。
When printing, first, the semiconductor substrate 10
The stencil is placed in contact with the upper surface of. At this time, the hole formed in the stencil is replaced with the LED formed on the surface of the semiconductor element 10.
Arrange the stencil so as to be above the chip. That is,
The stencil is arranged so that the stencil does not cover the LED chip. Next, the transparent resin 28 is dropped on the stencil, and the squeegee is slid along the surface of the stencil. By sliding the squeegee, the transparent resin 28 flows into the holes formed in the stencil, the upper surface of the transparent resin 28 flowing into the holes becomes the same height as the stencil, and the upper surface becomes flat. . At this time, the sealing resin fills the inside of the groove 26 formed in the semiconductor substrate 10.

【0023】尚、工程S14においてなされる印刷は、
1回の印刷のみに制限される訳ではなく、1枚の半導体
基板10に対して複数回行っても良い。また、透明樹脂
28の印刷は、真空下において行うことが好ましいが、
大気圧下で行うことが不可能な訳ではない。大気圧下で
印刷を行う場合には、加熱しながら印刷を行うことが好
ましい。なぜならば、印刷を行う際に透明樹脂28に巻
き込まれる気泡が抜け易くなるからである。また、透明
樹脂28の印刷を行う際には、圧力差を用いて透明樹脂
28を溝26内に充填することができる真空印刷機を用
いるのが好ましい。
The printing performed in step S14 is as follows.
The printing is not limited to only one printing, but may be performed a plurality of times for one semiconductor substrate 10. The printing of the transparent resin 28 is preferably performed under vacuum,
It is not impossible to do it at atmospheric pressure. When printing is performed under atmospheric pressure, it is preferable to perform printing while heating. This is because air bubbles that are caught in the transparent resin 28 during printing are easily removed. Further, when printing the transparent resin 28, it is preferable to use a vacuum printer capable of filling the groove 26 with the transparent resin 28 using a pressure difference.

【0024】透明樹脂28の印刷が終了すると、印刷し
た透明樹脂28を硬化させ、硬化後に半導体基板10の
裏面に貼付されたシート22を剥離して、バンプ18,
20が露出するまで透明樹脂28を研磨する工程が行わ
れる(工程S16)。図5(b)はは、透明樹脂28を
研磨してバンプ18,20が露出した様子を示す断面図
である。透明樹脂28がバンプ18,20を覆っている
と、LEDチップとマザーボード等の外部の回路とを電
気的に接続することができないため、接続電極としての
バンプ18,20を露出させる目的でこの工程が設けら
れる。
When the printing of the transparent resin 28 is completed, the printed transparent resin 28 is cured, and after the curing, the sheet 22 attached to the back surface of the semiconductor substrate 10 is peeled off.
The step of polishing the transparent resin 28 until the 20 is exposed is performed (Step S16). FIG. 5B is a cross-sectional view illustrating a state in which the bumps 18 and 20 are exposed by polishing the transparent resin 28. If the transparent resin 28 covers the bumps 18 and 20, the LED chip cannot be electrically connected to an external circuit such as a motherboard, so that this step is performed to expose the bumps 18 and 20 as connection electrodes. Is provided.

【0025】尚、塗布した透明樹脂28を硬化するに
は、例えば熱風乾燥機(図示省略)を用いて透明樹脂2
8を乾燥することにより行う。透明樹脂28を硬化させ
る場合には、熱風乾燥機の温度を100〜150℃に設
定するとともに、乾燥時間を1〜3時間に設定して開始
するが、乾燥を開始する際に、加える圧力を5×105
〜2×106paに設定して少なくとも透明樹脂28が
ゲル化するまでの間加圧硬化を行う。更に、溝26内に
おける透明樹脂28の充填性をより高いものとするため
に、印刷後に行われるこの工程において、大気圧よりも
高い圧力をかけて透明樹脂28を硬化させる、いわゆる
加圧硬化を行うことが好ましい。
In order to cure the applied transparent resin 28, for example, a hot air dryer (not shown) is used to cure the transparent resin 28.
8 by drying. When the transparent resin 28 is cured, the temperature of the hot air dryer is set to 100 to 150 ° C., and the drying time is set to 1 to 3 hours. 5 × 10 5
Pressurizing and curing are performed at least until the transparent resin 28 is gelled at a setting of about 2 × 10 6 pa. Further, in order to further enhance the filling property of the transparent resin 28 in the groove 26, in this step performed after printing, a so-called pressure curing in which the transparent resin 28 is cured by applying a pressure higher than the atmospheric pressure. It is preferred to do so.

【0026】以上の工程が終了すると、次に半導体基板
10の裏面に透明樹脂30を塗布する工程が行われる
(工程S18)。図5(c)は、半導体基板10の裏面
に透明樹脂30を塗布した状態を示す断面図である。こ
の透明樹脂30は、前述した透明樹脂28と同様に液状
のものであり、波長変換を行うための蛍光物質が混合さ
れている。透明樹脂30の塗布は、透明樹脂28を塗布
する場合と同様に印刷により塗布することが好ましく、
更に真空下で印刷を行うことが好ましい。透明樹脂30
の塗布が完了すると、塗布した透明樹脂30を硬化させ
る工程が行われる(工程S20)。ここで、透明樹脂2
0も熱風乾燥機を用いて乾燥させることにより硬化させ
る。
When the above steps are completed, a step of applying the transparent resin 30 to the back surface of the semiconductor substrate 10 is performed (step S18). FIG. 5C is a cross-sectional view showing a state where the transparent resin 30 is applied to the back surface of the semiconductor substrate 10. The transparent resin 30 is liquid like the transparent resin 28 described above, and contains a fluorescent substance for wavelength conversion. It is preferable to apply the transparent resin 30 by printing in the same manner as when applying the transparent resin 28,
Further, it is preferable to perform printing under vacuum. Transparent resin 30
Is completed, a step of curing the applied transparent resin 30 is performed (step S20). Here, the transparent resin 2
0 is also cured by drying using a hot air dryer.

【0027】透明樹脂30が硬化すると、次に工程S1
6において透明樹脂28上に露出されたバンプ18,2
0上に接続用ボール32を形成する工程が行われる(工
程S22)。図6(a)はバンプ18,20上に接続用
ボール32を形成する様子を示す断面図である。接続用
ボール32は、例えばバンプ18,20が配置されたピ
ッチに応じた径を有し、図示しないボールマウンタ(図
示省略)を用いて搭載される。
When the transparent resin 30 is cured, the process proceeds to step S1.
6, the bumps 18 and 2 exposed on the transparent resin 28
The step of forming the connection ball 32 on the contact 0 is performed (step S22). FIG. 6A is a cross-sectional view showing a state where the connection balls 32 are formed on the bumps 18 and 20. The connection ball 32 has a diameter corresponding to, for example, a pitch at which the bumps 18 and 20 are arranged, and is mounted using a ball mounter (not shown) (not shown).

【0028】しかしながら、バンプ18,20の配置さ
れたピッチが0.5mm以下になった場合、径が0.3
mmより小さいボールが必要となる。従って、この程度
にピッチが狭くなった場合には、ボールマウンタを用い
て接続用ボール32を搭載するよりも、所定量のハンダ
ペーストを精度良くバンプ18,20上に積載し、リフ
ロー(図示省略)を通して接続用ボール32を形成させ
た方がより好ましい。この場合、ハンダペーストをバン
プ18,20上に搭載するには、所定の孔版及びスキー
ジを用いて印刷により搭載することが好ましい。
However, when the pitch at which the bumps 18 and 20 are arranged becomes 0.5 mm or less, the diameter becomes 0.3 mm.
A ball smaller than mm is required. Therefore, when the pitch becomes narrow to this extent, a predetermined amount of solder paste is more accurately mounted on the bumps 18 and 20 than when the connection balls 32 are mounted using a ball mounter, and reflow (not shown). ) Is more preferable to form the connection ball 32. In this case, in order to mount the solder paste on the bumps 18 and 20, it is preferable to mount the solder paste by printing using a predetermined stencil and a squeegee.

【0029】最後に、透明樹脂28及び透明樹脂30を
切断することによりLEDチップ12を個々に分離して
光電子部品38を形成する工程が行われる(工程S2
4)。図6(b)は、LEDチップ12を個々に分離し
て光電子部品38を形成する様子を示す断面図である。
LEDチップ12の分離にあたって、透明樹脂30の表
面にシート34を貼付する。このシート34は、LED
チップ12を分離することよって光電子部品38を得る
際に、光電子部品38が個々に離散するのを防止するた
めに貼付される。
Finally, a step of forming the optoelectronic component 38 by cutting the transparent resin 28 and the transparent resin 30 to separate the LED chips 12 individually is performed (step S2).
4). FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating a state in which the optoelectronic component 38 is formed by separating the LED chips 12 individually.
In separating the LED chip 12, a sheet 34 is attached to the surface of the transparent resin 30. This sheet 34 is
When the optoelectronic component 38 is obtained by separating the chip 12, the optoelectronic component 38 is attached to prevent the optoelectronic component 38 from being individually separated.

【0030】LEDチップ12の分離は、ダイシング装
置36によって行う。ダイシング装置36によって切断
を行う際には、工程S12において形成した溝26のほ
ぼ中央部を切断する。尚、切断は通常のダイシング装置
を用いることができるが、レーザを用いたレーザ切断装
置を用いても良い。また、ダイシング装置の切断刃の厚
みは5〜200μm程度であって、溝26の幅より薄い
ものである。
The separation of the LED chips 12 is performed by a dicing device 36. When cutting is performed by the dicing device 36, a substantially central portion of the groove 26 formed in step S12 is cut. Note that a normal dicing device can be used for cutting, but a laser cutting device using a laser may be used. The thickness of the cutting blade of the dicing device is about 5 to 200 μm, and is smaller than the width of the groove 26.

【0031】図6(c)は、光電子部品38の断面図で
あり、図7は、光電子部品38の斜視図である。図6
(c)及び図7から分かるように、光電子部品38は、
上下及び4側面が全て透明樹脂28、30によって封止
されている構造である。前述したように、透明樹脂2
8,30には蛍光物質が混合されており、この透明樹脂
28,30は光電子部品38の上下及び4側面を全て取
り囲んでいるた。よって、LEDチップ18から全方向
に発せられた光が、蛍光物質が混合された透明樹脂2
8,30を通過して波長変換されるため、所望の色調の
光を得る際に好都合である。
FIG. 6C is a sectional view of the optoelectronic component 38, and FIG. 7 is a perspective view of the optoelectronic component 38. FIG.
As can be seen from FIG. 7C and FIG.
The upper and lower sides and the four side surfaces are all sealed with transparent resins 28 and 30. As described above, the transparent resin 2
A fluorescent material is mixed in 8, 30. The transparent resin 28, 30 surrounds all the upper, lower, and four side surfaces of the optoelectronic component 38. Therefore, the light emitted from the LED chip 18 in all directions is transmitted to the transparent resin 2 mixed with the fluorescent substance.
Since the wavelength is converted after passing through 8, 30, it is convenient when obtaining light of a desired color tone.

【0032】以上説明した製造方法によって製造された
光電子部品38は、例えば図8に示した状態で回路基板
上に実装される。図8は、光電子部品38の回路基板上
への実装状況を示す斜視図である。図8に示したよう
に、光電子部品38は、接続用ボール32が形成された
面を回路基板側に向け、透明樹脂30が塗布された面4
0を上側にして実装される。光電子部品38は、接続用
ボール32が回路基板上に形成された導体パッド42
a,42bに固着されることによって、回路基板上に実
装させるとともに、電気的に接続される。
The optoelectronic component 38 manufactured by the manufacturing method described above is mounted on a circuit board, for example, in the state shown in FIG. FIG. 8 is a perspective view showing a situation where the optoelectronic component 38 is mounted on a circuit board. As shown in FIG. 8, the optoelectronic component 38 has the surface 4 on which the transparent resin 30 is applied, with the surface on which the connection balls 32 are formed facing the circuit board.
It is implemented with 0 as the upper side. The optoelectronic component 38 includes a conductor pad 42 on which a connection ball 32 is formed on a circuit board.
By being fixed to a and 42b, they are mounted on a circuit board and are electrically connected.

【0033】以上、本発明の一実施形態による光電子部
品の製造方法について説明したが、本発明は上記実施形
態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能で
ある。例えば、上記実施形態における工程S12では、
図4(c)に示したように、半導体基板10の裏面にシ
ート22を貼付して切断機24により、半導体基板10
の表面からシート22に至る溝26を形成していた。
Although the method for manufacturing an optoelectronic component according to one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and can be freely modified within the scope of the present invention. For example, in step S12 in the above embodiment,
As shown in FIG. 4C, a sheet 22 is attached to the back surface of the semiconductor substrate 10 and the semiconductor substrate 10 is
The groove 26 extending from the surface of the sheet 22 to the sheet 22 was formed.

【0034】しかしながら、半導体基板10の厚みの半
分程度の深さを有する溝を形成し、透明樹脂28を塗布
して硬化させ、バンプ18,20が露出するまで透明樹
脂28を研磨した後、半導体基板10の裏面を、形成し
た溝の底が露出するまで研磨して研磨した半導体基板1
0の裏面に透明樹脂30を塗布するようにしてもよい。
また、半導体基板10の表面には溝を形成せずに、透明
樹脂28を半導体基板10の表面に塗布して硬化させ、
バンプ18,20が露出するまで透明樹脂28を研磨し
た後、半導体基板10の裏面から半導体基板10の表面
に塗布した透明樹脂28に至る溝を形成した後に、半導
体基板10の裏面に透明樹脂30を塗布するようにして
もよい。尚、この場合において、溝を形成する前に半導
体基板10の裏面を研磨して半導体基板10を所定の厚
みに調整しても良い。
However, a groove having a depth of about half the thickness of the semiconductor substrate 10 is formed, the transparent resin 28 is applied and cured, and the transparent resin 28 is polished until the bumps 18 and 20 are exposed. Polished semiconductor substrate 1 by polishing the back surface of substrate 10 until the bottom of the formed groove is exposed.
The transparent resin 30 may be applied to the back surface of the “0”.
Further, the transparent resin 28 is applied to the surface of the semiconductor substrate 10 and cured without forming a groove on the surface of the semiconductor substrate 10,
After polishing the transparent resin 28 until the bumps 18 and 20 are exposed, a groove extending from the back surface of the semiconductor substrate 10 to the transparent resin 28 applied to the surface of the semiconductor substrate 10 is formed. May be applied. In this case, before forming the groove, the back surface of the semiconductor substrate 10 may be polished to adjust the semiconductor substrate 10 to a predetermined thickness.

【0035】また、以上説明した本発明の一実施形態に
よる光電子部品の製造方法を用いて製造した光電子部品
38を、更に透明樹脂にて封止する工程を設けても良
い。光電子部品38を透明樹脂で封止する際には、特開
平10−65216号に開示されたように、孔版を用い
て光電子部品38を透明樹脂で印刷することが好適であ
る。図9は、光電子部品38を透明樹脂で封止した様子
を示す図である。
Further, a step of sealing the optoelectronic component 38 manufactured using the optoelectronic component manufacturing method according to one embodiment of the present invention with a transparent resin may be provided. When the optoelectronic component 38 is sealed with a transparent resin, it is preferable to print the optoelectronic component 38 with a transparent resin using a stencil as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-65216. FIG. 9 is a diagram showing a state in which the optoelectronic component 38 is sealed with a transparent resin.

【0036】図9(a)に示したように、光電子部品3
8は回路基板44上に形成された導体パッド46a,4
6bに接続用ボール32が固着されて回路基板44上に
搭載されるとともに、回路基板44と電気的に接続され
ている。回路基板44上に搭載された光電子部品38は
略半円形状に形成された透明樹脂48により封止されて
いる。透明樹脂48は、前述した透明樹脂28,30と
同様に、蛍光物質が混合されたものでも良く、蛍光物質
が混合されていないものでもよい。また、透明樹脂48
は、形状が略半円形状に形成されることにより、レンズ
の機能を有する。このように、光電子部品38を封止す
ることで、レンズ48を含めたLEDとしての外形形状
を小型化及び薄型化することができる。
As shown in FIG. 9A, the optoelectronic component 3
Reference numeral 8 denotes conductor pads 46a, 4 formed on the circuit board 44.
The connection balls 32 are fixed to 6b and mounted on the circuit board 44, and are electrically connected to the circuit board 44. The optoelectronic component 38 mounted on the circuit board 44 is sealed by a transparent resin 48 formed in a substantially semicircular shape. As in the case of the transparent resins 28 and 30 described above, the transparent resin 48 may be a mixture of a fluorescent substance or a mixture of no fluorescent substances. Also, the transparent resin 48
Has a lens function by being formed in a substantially semicircular shape. By sealing the optoelectronic component 38 in this manner, the outer shape of the LED including the lens 48 can be reduced in size and thickness.

【0037】また、図9(b)に示すように、光電子部
品38を基板50内に埋め込んで配置する構成とするこ
ともできる。図9(b)に示したように、基板50には
穴が形成されており、この穴内には電極パッド52a,
52bが形成されている。電極パッド52a,52b
は、スルーホール(又はビアホール)54a,54bを
介して基板50の裏面に形成された配線56と電気的に
接続される。かかる電極パッド52a,52bが形成さ
れた穴内に光電子部品38を配置して、接続用ボール3
2と電極パッド52a,52bとを固着することによ
り、光電子部品38を基板50上に搭載するとともに、
基板50の裏面に形成された配線56と電気的接続を行
っている。そして、基板50に形成された穴内に透明樹
脂48を充填することで、光電子部品38を封止してい
る。
Further, as shown in FIG. 9B, a configuration may be adopted in which the optoelectronic component 38 is embedded in the substrate 50 and arranged. As shown in FIG. 9B, a hole is formed in the substrate 50, and the electrode pad 52a,
52b are formed. Electrode pads 52a, 52b
Are electrically connected to the wiring 56 formed on the back surface of the substrate 50 via through holes (or via holes) 54a and 54b. The optoelectronic component 38 is arranged in the hole in which the electrode pads 52a and 52b are formed, and the connection ball 3
2 and the electrode pads 52a, 52b are fixed, so that the optoelectronic component 38 is mounted on the substrate 50,
The electrical connection is made with the wiring 56 formed on the back surface of the substrate 50. Then, the optoelectronic component 38 is sealed by filling the transparent resin 48 into the hole formed in the substrate 50.

【0038】図10は、赤色領域の光、緑領域の光、及
び青色領域の光をそれぞれ発する光電子部品を封止して
形成されるLEDの上面図であり、(a)は従来構成の
LEDの上面図であり、(b)は本発明を適用して形成
されるLEDの上面図である。図10(a)に示すよう
に、従来のLEDは、電極62R,62G,62B上に
赤色領域の光を発する光電子部品60R、緑色領域の光
を発する光電子部品60G、青色領域の光を発する光電
子部品60Bをそれぞれ配置し、光電子部品60R,6
0G,60Bの上面と電極64とをワイヤ線66R,6
6G,66B各々を用いて接続していた、
FIG. 10 is a top view of an LED formed by sealing optoelectronic components for emitting light in the red, green, and blue regions, respectively. FIG. FIG. 3B is a top view of an LED formed by applying the present invention. As shown in FIG. 10A, a conventional LED includes an optoelectronic component 60R that emits light in a red region, an optoelectronic component 60G that emits light in a green region, and an optoelectronic device that emits light in a blue region on electrodes 62R, 62G, and 62B. The components 60B are respectively arranged, and the optoelectronic components 60R, 6R
0G, 60B and the electrode 64 are connected to the wire lines 66R, 6R.
6G and 66B, respectively.

【0039】従来の光電子部品60R,60G,60B
は、下面及び上面に電極が形成されていたため、電極6
2R,62G,62B上に配置し、且つワイヤ線66
R,66G,66B各々を用いて電極と接続する必要が
あった。図10(a)中に示した円C1は、透明樹脂で
形成したレンズの径を示している。図10(a)から分
かるように、従来は電極62R,62G,62B及び電
極64の配線が制限されていたため、レンズの径C1は
必然的に大きくなっていた。
Conventional optoelectronic components 60R, 60G, 60B
Indicates that the electrodes are formed on the lower surface and the upper surface.
2R, 62G, 62B, and a wire 66
R, 66G, and 66B had to be used to connect to the electrodes. A circle C1 shown in FIG. 10A indicates a diameter of a lens formed of a transparent resin. As can be seen from FIG. 10A, since the wiring of the electrodes 62R, 62G, 62B and the electrode 64 has been limited in the past, the diameter C1 of the lens was necessarily large.

【0040】図10(b)に示すように、本発明を適用
したLEDは、正電極及び負電極が共に光電子部品70
R,70G,70Bの一面に形成されているため、電極
72R,72G,72Bと電極74との上に赤色領域の
光を発する光電子部品70R、緑色領域の光を発する光
電子部品70G、青色領域の光を発する光電子部品70
Bそれぞれを配置することができる。その結果、図10
(b)中符号C2を付して示したように、レンズの径を
小さくすることができる。
As shown in FIG. 10B, in the LED to which the present invention is applied, both the positive electrode and the negative electrode
Since it is formed on one surface of R, 70G, 70B, an optoelectronic component 70R that emits light in the red region, an optoelectronic component 70G that emits light in the green region, and an optoelectronic component 70G that emits light in the blue region Optoelectronic component 70 that emits light
B can be arranged. As a result, FIG.
(B) As shown by the reference symbol C2, the diameter of the lens can be reduced.

【0041】以上説明した実施形態では、LEDを例に
挙げて説明したが、本発明は、光エネルギーを電気エネ
ルギーに変換する受光素子、及び電気エネルギーを光エ
ネルギーに変換する発光素子の内、透明樹脂を用いて封
止することにより製造される光電子部品の製造全てにお
いて適用することができる。
In the embodiment described above, the LED is described as an example. However, the present invention relates to a light receiving element that converts light energy into electric energy and a light emitting element that converts electric energy into light energy. The present invention can be applied to all manufacturing of optoelectronic components manufactured by sealing with a resin.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
小型且つ厚みの薄い光電子部品を安価に且つ単位時間に
大量に製造することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention,
There is an effect that small and thin optoelectronic components can be mass-produced at low cost and per unit time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態による光電子部品の製造
方法の工程順を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a process sequence of a method for manufacturing an optoelectronic component according to an embodiment of the present invention.

【図2】 複数の光電子部品素子としてのLEDチップ
が形成された半導体基板を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a semiconductor substrate on which LED chips as a plurality of optoelectronic component elements are formed.

【図3】 複数のLEDチップが形成された半導体基板
表面を拡大した上面図である。
FIG. 3 is an enlarged top view of a semiconductor substrate surface on which a plurality of LED chips are formed.

【図4】 本発明の一実施形態による電子部品の製造方
法を用いて電子部品を製造する様子を説明するための断
面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining how an electronic component is manufactured using the electronic component manufacturing method according to one embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の一実施形態による電子部品の製造方
法を用いて電子部品を製造する様子を説明するための断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining how an electronic component is manufactured using the electronic component manufacturing method according to one embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の一実施形態による電子部品の製造方
法を用いて電子部品を製造する様子を説明するための断
面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining how an electronic component is manufactured using the electronic component manufacturing method according to one embodiment of the present invention.

【図7】 光電子部品38の斜視図である。7 is a perspective view of the optoelectronic component 38. FIG.

【図8】 光電子部品38の回路基板上への実装状況を
示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a situation where the optoelectronic component 38 is mounted on a circuit board.

【図9】 光電子部品38を透明樹脂で封止した様子を
示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a state in which the optoelectronic component 38 is sealed with a transparent resin.

【図10】 赤色領域の光、緑領域の光、及び青色領域
の光をそれぞれ発する光電子部品を封止して形成される
LEDの上面図であり、(a)は従来構成のLEDの上
面図であり、(b)は本発明を適用して形成されるLE
Dの上面図である。
FIG. 10 is a top view of an LED formed by sealing optoelectronic components that respectively emit light in a red region, light in a green region, and light in a blue region, and (a) is a top view of an LED having a conventional configuration. And (b) shows an LE formed by applying the present invention.
It is a top view of D.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板(半導体基板) 12 LEDチップ(光電子部品素子) 18,20 バンプ(接続電極) 26 溝 28,30 透明樹脂 32 接続用ボール 38 光電子部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate (semiconductor substrate) 12 LED chip (optoelectronic component element) 18, 20 Bump (connection electrode) 26 Groove 28, 30 Transparent resin 32 Connection ball 38 Optoelectronic component

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 31/02 H01L 31/02 B 33/00 Fターム(参考) 4M109 AA02 BA07 CA12 EA01 EC11 EE12 GA01 5F041 AA21 AA42 AA47 CA93 DA16 DA55 5F061 AA02 BA07 CA12 CB02 CB13 FA01 5F088 BA15 BA18 FA09 FA20 JA02 JA06 JA20 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 31/02 H01L 31/02 B 33/00 F term (Reference) 4M109 AA02 BA07 CA12 EA01 EC11 EE12 GA01 5F041 AA21 AA42 AA47 CA93 DA16 DA55 5F061 AA02 BA07 CA12 CB02 CB13 FA01 5F088 BA15 BA18 FA09 FA20 JA02 JA06 JA20

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光電子部品素子が複数形成され、当該光
電子部品素子各々に対して接続電極が形成された基板表
面に溝を形成する溝形成工程と、 前記溝が形成された基板表面に透明樹脂を塗布する第1
塗布工程と、 前記基板の裏面に透明樹脂を塗布する第2塗布工程と、 前記溝が形成された位置を切断して個々の光電子部品に
分離する分離工程とを有することを特徴とする光電子部
品の製造方法。
A groove forming step of forming a groove on a substrate surface on which a plurality of optoelectronic component elements are formed and a connection electrode is formed for each of the optoelectronic component elements; and a transparent resin on the substrate surface on which the groove is formed. First to apply
An optoelectronic component, comprising: a coating step; a second coating step of coating a transparent resin on the back surface of the substrate; and a separation step of cutting a position where the groove is formed and separating the optoelectronic component into individual optoelectronic components. Manufacturing method.
【請求項2】 光電子部品素子が複数形成され、当該光
電子部品素子各々に対して接続電極が形成された基板表
面に透明樹脂を塗布する第1塗布工程と、 前記基板裏面に溝を形成する溝形成工程と、 前記基板の裏面に透明樹脂を塗布する第2塗布工程と、 前記溝が形成された位置を切断して個々の光電子部品に
分離する分離工程とを有することを特徴とする光電子部
品の製造方法。
2. A first coating step of coating a transparent resin on a surface of a substrate on which a plurality of optoelectronic component elements are formed and a connection electrode is formed for each of the optoelectronic component elements; and a groove for forming a groove on the back surface of the substrate. An optoelectronic component, comprising: a forming step; a second application step of applying a transparent resin to the back surface of the substrate; and a separation step of cutting a position where the groove is formed and separating the optoelectronic component into individual optoelectronic components. Manufacturing method.
【請求項3】 前記溝は、前記基板に形成された光電子
部品素子間に形成されることを特徴とする請求項1又は
請求項2記載の光電子部品の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein said groove is formed between optoelectronic component elements formed on said substrate.
【請求項4】 前記光電子部品素子は、青色領域の光を
発することを特徴とする請求項1から請求項3の何れか
に記載の光電子部品の製造方法。
4. The method for manufacturing an optoelectronic component according to claim 1, wherein said optoelectronic component device emits light in a blue region.
【請求項5】 前記透明樹脂は、前記光電子部品素子か
ら発せられる光の少なくとも一部を吸収し波長変換して
発光する蛍光物質を含むことを特徴とする請求項1から
請求項4の何れか一項に記載の光電子部品の製造方法。
5. The transparent resin according to claim 1, wherein the transparent resin includes a fluorescent substance that absorbs at least a part of light emitted from the optoelectronic component element, converts the wavelength, and emits light. A method for producing an optoelectronic component according to claim 1.
【請求項6】 前記第1塗布工程は、真空下における孔
版印刷により前記透明樹脂を塗布することを特徴とする
請求項1から請求項5の何れか一項に記載の光電子部品
の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein in the first applying step, the transparent resin is applied by stencil printing under vacuum.
【請求項7】 前記第1塗布工程において塗布された封
止樹脂を硬化させる硬化工程を更に有することを特徴と
する請求項1から請求項6の何れか一項に記載の光電子
部品の製造方法。
7. The method for manufacturing an optoelectronic component according to claim 1, further comprising a curing step of curing the sealing resin applied in the first application step. .
【請求項8】 前記第1塗布工程と前記第2塗布工程と
の間に、第1塗布工程で基板表面に塗布した樹脂を研磨
して前記接続電極を露出させる研磨工程を更に有するこ
とを特徴とする請求項1から請求項7の何れかに記載の
光電子部品の製造方法。
8. The method according to claim 1, further comprising, between the first applying step and the second applying step, a polishing step of exposing the connection electrode by polishing the resin applied to the substrate surface in the first applying step. The method for manufacturing an optoelectronic component according to claim 1.
【請求項9】 前記第2塗布工程において塗布された封
止樹脂を硬化させる硬化工程を更に有することを特徴と
する請求項1から請求項8の何れか一項に記載の光電子
部品の製造方法。
9. The method for manufacturing an optoelectronic component according to claim 1, further comprising a curing step of curing the sealing resin applied in the second application step. .
【請求項10】 前記分離工程前に前記接続電極に対し
て接続ボールを形成する接続ボール形成工程を更に有す
ることを特徴とする請求項1から請求項9の何れか一項
に記載の光電子部品の製造方法。
10. The optoelectronic component according to claim 1, further comprising a connection ball forming step of forming a connection ball on the connection electrode before the separation step. Manufacturing method.
【請求項11】 請求項1から請求項10の何れか一項
に記載された光電子部品の製造方法を用いて製造された
光電子部品を、更に透明樹脂を用いて封止する工程を有
することを特徴とする光電子部品の製造方法。
11. A process for sealing an optoelectronic component manufactured by using the optoelectronic component manufacturing method according to claim 1 using a transparent resin. Characteristic optoelectronic component manufacturing method.
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