JP2002063787A - Semiconductor integrated device, and its refreshing method - Google Patents

Semiconductor integrated device, and its refreshing method

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JP2002063787A
JP2002063787A JP2000249486A JP2000249486A JP2002063787A JP 2002063787 A JP2002063787 A JP 2002063787A JP 2000249486 A JP2000249486 A JP 2000249486A JP 2000249486 A JP2000249486 A JP 2000249486A JP 2002063787 A JP2002063787 A JP 2002063787A
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word lines
random access
refresh
access memory
dynamic random
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Application number
JP2000249486A
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Japanese (ja)
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Susumu Takahashi
将 高橋
Masato Nakajima
正人 中島
Naoto Okumura
直人 奥村
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Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the DRAM access processing efficiency appropriate and to reduce the power consumption corresponding to the frequency of DRAM access. SOLUTION: An LSI 1 in which at least a built-in DRAM 2 and a logic circuit are mixed, is provided with a register 11 changing and setting the number of word lines to be selected at the time of refreshing for the built-in DRAM 2, and a built-in DRAM control circuit 10 performing refreshing operation for the built-in DRAM 2 for each number of word lines to be selected set by the register 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ダイナミックラ
ンダムアクセスメモリ(DRAM)とロジック回路とが
混載されたLSI内のDRAMに対するリフレッシュを
効率的に行うことができる半導体集積装置およびそのリ
フレッシュ方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated device capable of efficiently refreshing a DRAM in an LSI in which a dynamic random access memory (DRAM) and a logic circuit are mixed, and a refresh method thereof. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年における半導体集積回路の微細化に
伴い、半導体集積装置では、DRAMとロジック回路と
を1チップ上に混載するものが多い。図5は、DRAM
とロジック回路とを混載した従来のLSIの概要内部構
成を示すブロック図である。図5において、LSI10
0は、内蔵DRAM102を有する。内蔵DRAM10
2は、内蔵DRAM制御回路101によってアクセスが
制御される。内蔵DRAM制御回路101は、外部、あ
るいはCPU121などの内部回路からのDRAMアク
セス要求を受け、内蔵DRAM102に対する制御信号
を生成し、内蔵DRAM102に出力する。
2. Description of the Related Art With the recent miniaturization of semiconductor integrated circuits, many semiconductor integrated devices have a DRAM and a logic circuit mixedly mounted on one chip. FIG. 5 shows a DRAM
FIG. 2 is a block diagram showing an outline internal configuration of a conventional LSI in which a conventional LSI and a logic circuit are mixed. In FIG. 5, the LSI 10
0 has a built-in DRAM 102. Built-in DRAM 10
2 is controlled in access by a built-in DRAM control circuit 101. The built-in DRAM control circuit 101 receives a DRAM access request from the outside or from an internal circuit such as the CPU 121, generates a control signal for the built-in DRAM 102, and outputs the control signal to the built-in DRAM 102.

【0003】内蔵DRAM102は、内蔵DRAM制御
回路101から出力される、RAS(Row Address Stro
be)、CAS(Column Adress Strobe)、WE(Write
Enable)などの制御信号や、ロウ(Row)およびコラム
(Column)のアドレス信号を受けて、読出、書込、リフ
レッシュなどのDRAMに対する処理を行う。読み出さ
れたデータは、キャッシュメモリ122あるいは外部バ
スI/Fユニット123などの出力される。なお、この
LSI100には、デバッグモジュール124、汎用入
出力ポート125、およびPLLクロック生成回路12
6をも内蔵している。
A built-in DRAM 102 has a RAS (Row Address Store) output from a built-in DRAM control circuit 101.
be), CAS (Column Adress Strobe), WE (Write
In response to a control signal such as Enable, a row signal and a column address signal, processing such as read, write, and refresh for the DRAM is performed. The read data is output from the cache memory 122 or the external bus I / F unit 123 or the like. The LSI 100 includes a debug module 124, a general-purpose input / output port 125, and a PLL clock generation circuit 12.
6 is also built in.

【0004】まず、内蔵DRAM102に対する通常の
ランダムアクセス(ノーマルリード、ノーマルライト)
の動作について説明する。図6は、図5に示した内蔵D
RAM102に対するランダムアクセス動作を説明する
説明図である。内蔵DRAM102は、周辺制御回路1
04、ロウデコーダ105、メモリセルアレイ106、
センスアンプ107、コラムデコーダ108、およびワ
ード線用昇圧電位発生回路109を有する。なお、内蔵
DRAM102は、その他図示しない、プリアンプ、ラ
イトドライバ、出力バッファなどを含む。
First, normal random access to the built-in DRAM 102 (normal read, normal write)
Will be described. FIG. 6 shows the built-in D shown in FIG.
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a random access operation to a RAM 102. The built-in DRAM 102 includes the peripheral control circuit 1
04, row decoder 105, memory cell array 106,
It has a sense amplifier 107, a column decoder 108, and a word line boosted potential generation circuit 109. The built-in DRAM 102 includes a preamplifier, a write driver, an output buffer, and the like (not shown).

【0005】内蔵DRAM制御回路101は、外部ある
いは内部回路からランダムアクセス要求の信号およびア
ドレスが入力されると、内蔵DRAM102の周辺制御
回路104にRASなどのロウ系制御信号とロウアドレ
スとを出力する。周辺制御回路104は、選択すべきメ
モリセルのロウアドレスをロウデコーダ105に出力す
る。ロウデコーダ105は、入力されたロウアドレスに
対応するワード線111を選択し、この選択されたワー
ド線111に接続されているメモリセル112のゲート
がオンし、ビット線に接続される。これによって、デー
タの授受が行われる。
When a random access request signal and an address are input from an external or internal circuit, a built-in DRAM control circuit 101 outputs a row-related control signal such as RAS and a row address to a peripheral control circuit 104 of the built-in DRAM 102. . The peripheral control circuit 104 outputs the row address of the memory cell to be selected to the row decoder 105. The row decoder 105 selects the word line 111 corresponding to the input row address, turns on the gate of the memory cell 112 connected to the selected word line 111, and is connected to the bit line. As a result, data is exchanged.

【0006】この場合、選択されるワード線111の本
数は、内蔵DRAM102の仕様によって予め決定され
た1または複数の本数に固定されている。たとえば、一
回のアクセスによってn本のワード線が選択されるよう
に設定されている場合、読出も書込でも、1回のアクセ
スでは、n本のワード線が選択される。ここで、1回の
アクセスで、複数本のワード線が選択されないように設
定されている場合、複数のメモリセル112が同一のセ
ンスアンプ107に繋がらないようになっている。
In this case, the number of selected word lines 111 is fixed to one or a plurality of numbers determined in advance according to the specification of the built-in DRAM 102. For example, if the setting is such that n word lines are selected by one access, n word lines are selected in one access, whether reading or writing. Here, when a plurality of word lines are set so as not to be selected by one access, a plurality of memory cells 112 are not connected to the same sense amplifier 107.

【0007】一方、内蔵DRAM102は、メモリキャ
パシタに蓄えられた電荷が、種々のリークによって徐々
に失われていくため、記憶されたデータが失われる前に
一旦データを読み出して書込を行うリフレッシュ動作を
行う。図7において、内蔵DRAM制御回路101は、
予め設定されているリフレッシュ時間内に全てのメモリ
セル112をリフレッシュできるように、CBR(CAS-
Before-RAS)などのリフレッシュ制御信号を周辺制御回
路104に出力する。周辺制御回路104は、このリフ
レッシュ制御信号を受けて、ロウアドレスを生成し、ロ
ウデコーダ105に出力する。ロウデコーダ105は、
このロウアドレスをもとにワード線111を選択する。
この選択されたワード線111に接続されているメモリ
セル112の全てがリフレッシュされる。ここで、リフ
レッシュ時のロウアドレスは、周辺制御回路104に内
蔵されているリフレッシュアドレスカウンタ103によ
って決定される。リフレッシュアドレスカウンタ103
は、リフレッシュ制御信号が一回入力される度に、1イ
ンクリメントされる。リフレッシュアドレスカウンタ1
03が1回りすると、全てのワード線111が1回ずつ
選択され、全てのメモリセルがリフレッシュされること
になる。
On the other hand, in the built-in DRAM 102, since the charge stored in the memory capacitor is gradually lost due to various leaks, a refresh operation for once reading and writing data before the stored data is lost. I do. 7, the built-in DRAM control circuit 101 includes:
In order to refresh all the memory cells 112 within a preset refresh time, the CBR (CAS-
A refresh control signal such as Before-RAS) is output to the peripheral control circuit 104. The peripheral control circuit 104 receives the refresh control signal, generates a row address, and outputs the row address to the row decoder 105. The row decoder 105
The word line 111 is selected based on the row address.
All of the memory cells 112 connected to the selected word line 111 are refreshed. Here, the row address at the time of refresh is determined by the refresh address counter 103 built in the peripheral control circuit 104. Refresh address counter 103
Is incremented by one each time the refresh control signal is input once. Refresh address counter 1
When the number 03 turns once, all the word lines 111 are selected once, and all the memory cells are refreshed.

【0008】このリフレッシュ時のワード線選択本数
は、汎用DRAMの場合、ランダムアクセス時のワード
線選択本数と同じである。また、内蔵DRAM制御回路
101を有するLSI100であっても、リフレッシュ
時に選択されるワード線の本数は、ランダムアクセス時
に選択されるワード線の本数と同じであった。したがっ
て、ランダムアクセス時に選択されるワード線の本数が
n本である場合、リフレッシュ時に選択されるワード線
の本数もn本となる。
In the case of a general-purpose DRAM, the number of selected word lines at the time of refresh is the same as the number of selected word lines at the time of random access. Further, even in the LSI 100 having the built-in DRAM control circuit 101, the number of word lines selected at the time of refresh was the same as the number of word lines selected at the time of random access. Therefore, when the number of word lines selected at the time of random access is n, the number of word lines selected at the time of refresh is also n.

【0009】ところで、DRAMは、リフレッシュ時間
内に全てのメモリセルをリフレッシュしなければならな
いので、通常のアクセスに割り込んでリフレッシュを行
わなせる必要がある。このリフレッシュ動作中は、通常
のアクセスができないため、リフレッシュの頻度が高い
と、通常のアクセス時間が短くなり、処理効率が低下す
るという問題点があった。
In the DRAM, since all memory cells must be refreshed within a refresh time, it is necessary to interrupt the normal access to perform the refresh. During this refresh operation, normal access cannot be performed. Therefore, if the frequency of refresh is high, the normal access time is shortened, and there is a problem that the processing efficiency is reduced.

【0010】この問題点を解決するため、たとえば特開
昭62−241198号公報に記載されたダイナミック
型RAMでは、ランダムアクセス時に、アドレスに対応
する1つのメモリアレイマット中のワード線1本が選択
されるところを、リフレッシュ時には、4つのメモリア
レイマットでワード線が1本ずつ選択されるようにし、
リフレッシュ動作時間の低減を図るようにしている。
In order to solve this problem, for example, in a dynamic RAM described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-241198, at the time of random access, one word line in one memory array mat corresponding to an address is selected. However, at the time of refresh, the word lines are selected one by one in the four memory array mats,
The refresh operation time is reduced.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たダイナミック型RAMでは、リフレッシュ時に選択さ
れるワード線の本数が4本と固定され、DRAMをアク
セスする頻度がそれほど高くない場合であっても、常に
リフレッシュ時には、4本のワード線が選択されること
になり、多くのワード線を同時に活性化、すなわち選択
することは、リフレッシュの時間的効率を向上させる反
面、リフレッシュ時に選択されたワード線の容量が増大
するため、消費電力が増加するという問題点があった。
However, in the above-mentioned dynamic RAM, the number of word lines selected at the time of refresh is fixed at four, and even if the frequency of accessing the DRAM is not so high, it is always constant. At the time of refreshing, four word lines are selected, and simultaneously activating or selecting many word lines improves the time efficiency of refreshing, but the capacity of the word line selected at refreshing is improved. Therefore, there is a problem that power consumption increases.

【0012】この発明は上記に鑑みてなされたもので、
DRAMアクセス頻度に対応し、DRAMアクセス処理
効率の適切化および消費電力の低減化を図ることができ
る半導体集積装置およびそのリフレッシュ方法を得るこ
とを目的とする。
[0012] The present invention has been made in view of the above,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated device and a refresh method for the same that can achieve DRAM access processing efficiency and reduce power consumption in response to DRAM access frequency.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明にかかる半導体集積装置は、少なくともダ
イナミックランダムアクセスメモリおよびロジック回路
が混載された半導体集積装置において、前記ダイナミッ
クランダムアクセスメモリに対するリフレッシュ時のワ
ード線選択本数を変更設定する設定手段と、前記設定手
段によって設定されたワード線選択本数毎に前記ダイナ
ミックランダムアクセスメモリに対するリフレッシュ動
作を行わせる制御手段とを備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor integrated device according to the present invention is provided in a semiconductor integrated device in which at least a dynamic random access memory and a logic circuit are mixedly mounted. Setting means for changing and setting the number of selected word lines, and control means for performing a refresh operation on the dynamic random access memory for each word line selection number set by the setting means.

【0014】この発明によれば、設定手段が、たとえば
外部あるいは内部回路のソフトウェアを用いて、前記ダ
イナミックランダムアクセスメモリに対するリフレッシ
ュ時のワード線選択本数を変更設定すると、制御手段
が、前記設定手段によって設定されたワード線選択本数
毎に前記ダイナミックランダムアクセスメモリに対する
リフレッシュ動作を行わせるようにしている。
According to the present invention, when the setting means changes and sets the number of word lines to be selected at the time of refreshing the dynamic random access memory using, for example, software of an external or internal circuit, the control means causes the setting means to The refresh operation for the dynamic random access memory is performed every set number of selected word lines.

【0015】つぎの発明にかかる半導体集積装置は、上
記の発明において、前記設定手段は、2のm(自然数)
乗値で設定され、前記制御手段は、前記ダイナミックラ
ンダムアクセスメモリの上位アドレスを用いて該ダイナ
ミックランダムアクセスメモリを2のm乗値に分割し、
分割された各ブロックのうちの前記2のm乗値のブロッ
ク毎に、ランダムアクセス時のワード線選択本数のリフ
レッシュ動作を行わせることを特徴とする。
In the semiconductor integrated device according to the next invention, in the above-mentioned invention, the setting means is 2 m (natural number).
The control means divides the dynamic random access memory into 2 m power values using an upper address of the dynamic random access memory;
It is characterized in that a refresh operation of the number of selected word lines at the time of random access is performed for each block of the 2 m value of the divided blocks.

【0016】この発明によれば、前記設定手段が、リフ
レッシュ時のワード線選択本数を、2のm(自然数)乗
値で設定し、前記制御手段が、前記ダイナミックランダ
ムアクセスメモリの上位アドレスを用いて該ダイナミッ
クランダムアクセスメモリを2のm乗値に分割し、分割
された各ブロックのうちの前記2のm乗値のブロック毎
に、ランダムアクセス時のワード線選択本数のリフレッ
シュ動作を行わせるようにしている。
According to the present invention, the setting means sets the number of word lines to be selected at the time of refreshing by a value of 2 to the power of m (natural number), and the control means uses an upper address of the dynamic random access memory. And divides the dynamic random access memory into 2 m power values, and performs a refresh operation of the selected number of word lines at random access for each of the 2 m power blocks among the divided blocks. I have to.

【0017】つぎの発明にかかる半導体集積装置は、上
記の発明において、前記設定手段によって設定されたワ
ード線選択本数に対応する充電容量に変更する昇圧手段
をさらに備えたことを特徴とする。
The semiconductor integrated device according to the next invention is characterized in that, in the above-described invention, the semiconductor integrated device further comprises a boosting means for changing the charging capacity to the number of word lines selected by the setting means.

【0018】この発明によれば、昇圧手段が、前記設定
手段によって設定されたワード線選択本数に対応する充
電容量に変更するようにしている。
According to the present invention, the boosting means changes the charging capacity to the number of word lines selected by the setting means.

【0019】つぎの発明にかかる半導体集積装置は、上
記の発明において、前記昇圧手段は、複数の充電容量を
もつ複数のワード線昇圧手段と、前記複数のワード線昇
圧手段を組み合わせて、前記設定手段によって設定され
たワード線選択本数に対応する充電容量に変更させる変
更手段とを備えたことを特徴とする。
In the semiconductor integrated device according to the next invention, in the above-mentioned invention, the boosting means includes a plurality of word line boosting means having a plurality of charging capacities and the plurality of word line boosting means, and Changing means for changing to a charging capacity corresponding to the selected number of word lines set by the means.

【0020】この発明によれば、変更手段が、複数のワ
ード線昇圧手段を組み合わせて、前記設定手段によって
設定されたワード線選択本数に対応する充電容量に変更
するようにしている。
According to the present invention, the changing means combines the plurality of word line boosting means to change the charging capacity to the number of word lines selected by the setting means.

【0021】つぎの発明にかかる半導体集積装置のリフ
レッシュ方法は、少なくともダイナミックランダムアク
セスメモリおよびロジック回路が混載された半導体集積
装置のリフレッシュ方法において、前記ダイナミックラ
ンダムアクセスメモリに対するリフレッシュ時のワード
線選択本数を変更設定する設定工程と、前記設定工程に
よって設定されたワード線選択本数毎に前記ダイナミッ
クランダムアクセスメモリに対するリフレッシュ動作を
行わせるリフレッシュ工程とを含むことを特徴とする。
A refresh method for a semiconductor integrated device according to the next invention is a refresh method for a semiconductor integrated device in which at least a dynamic random access memory and a logic circuit are mixed, wherein the number of word lines selected for refreshing the dynamic random access memory is reduced. The method includes a setting step of changing and setting, and a refresh step of performing a refresh operation on the dynamic random access memory for each word line selection number set in the setting step.

【0022】この発明によれば、設定工程によって、ダ
イナミックランダムアクセスメモリに対するリフレッシ
ュ時のワード線選択本数を変更設定し、リフレッシュ工
程によって、前記設定工程によって設定されたワード線
選択本数毎に前記ダイナミックランダムアクセスメモリ
に対するリフレッシュ動作を行わせるようにしている。
According to the present invention, the setting step changes and sets the number of selected word lines in the dynamic random access memory at the time of refreshing, and the refresh step sets the dynamic random access number for each of the word line selection numbers set in the setting step. The refresh operation for the access memory is performed.

【0023】つぎの発明にかかる半導体集積装置のリフ
レッシュ方法は、上記の発明において、前記設定工程
は、2のm(自然数)乗値を用いて前記リフレッシュ時
のワード線選択本数を変更設定し、前記リフレッシュ工
程は、前記ダイナミックランダムアクセスメモリの上位
アドレスを用いて該ダイナミックランダムアクセスメモ
リを2のm乗値に分割し、分割された各ブロックのうち
の前記2のm乗値のブロック毎に、ランダムアクセス時
のワード線選択本数のリフレッシュ動作を行わせること
を特徴とする。
In the refreshing method for a semiconductor integrated device according to the next invention, in the above-mentioned invention, the setting step changes and sets the number of word line selections at the time of refreshing using a power of 2 (natural number). The refreshing step divides the dynamic random access memory into 2 m -values using an upper address of the dynamic random access memory, and for each of the divided blocks, It is characterized in that a refresh operation is performed for a selected number of word lines at the time of random access.

【0024】この発明によれば、前記設定工程が、2の
m(自然数)乗値を用いて前記リフレッシュ時のワード
線選択本数を変更設定し、前記リフレッシュ工程が、前
記ダイナミックランダムアクセスメモリの上位アドレス
を用いて該ダイナミックランダムアクセスメモリを2の
m乗値に分割し、分割された各ブロックのうちの前記2
のm乗値のブロック毎に、ランダムアクセス時のワード
線選択本数のリフレッシュ動作を行わせるようにしてい
る。
According to the present invention, the setting step changes and sets the number of word line selections at the time of refreshing by using a 2 (m) (natural number) power value. The dynamic random access memory is divided into 2 m values using the address, and the 2
The refresh operation of the selected number of word lines at the time of random access is performed for each block of the m-th power.

【0025】つぎの発明にかかる半導体集積装置のリフ
レッシュ方法は、上記の発明において、前記設定工程に
よって設定されたワード線選択本数に対応する充電容量
に変更する昇圧工程をさらに含むことを特徴とする。
A refresh method for a semiconductor integrated device according to the next invention is characterized in that, in the above-mentioned invention, the method further comprises a boosting step of changing to a charging capacity corresponding to the selected number of word lines set in the setting step. .

【0026】この発明によれば、昇圧工程によって、前
記設定工程によって設定されたワード線選択本数に対応
する充電容量に変更するようにしている。
According to this invention, the charge capacity is changed to the charge capacity corresponding to the selected number of word lines set in the setting step in the boosting step.

【0027】つぎの発明にかかる半導体集積装置のリフ
レッシュ方法は、上記の発明において、前記昇圧工程
は、複数のワード線昇圧手段を組み合わせ、前記設定工
程によって設定されたワード線選択本数に対応する充電
容量に変更させることを特徴とする。
In a refreshing method for a semiconductor integrated device according to the next invention, in the above-mentioned invention, the boosting step combines a plurality of word line boosting means, and charges corresponding to the number of selected word lines set in the setting step. It is characterized in that the capacity is changed.

【0028】この発明によれば、昇圧工程が、複数のワ
ード線昇圧手段を組み合わせ、前記設定工程によって設
定されたワード線選択本数に対応する充電容量に変更さ
せるようにしている。
According to the invention, in the boosting step, a plurality of word line boosting means are combined to change the charging capacity to the number of selected word lines set in the setting step.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照して、この
発明にかかる半導体集積装置およびそのリフレッシュ方
法の好適な実施の形態を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a semiconductor integrated device and a refresh method thereof according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0030】実施の形態1.図1は、この発明の実施の
形態1であるLSIの構成を示すブロック図である。図
1に示したLSI1は、内蔵DRAM2、内蔵DRAM
2を制御する内蔵DRAM制御回路10、およびレジス
タ11を有し、内蔵DRAMに対するリフレッシュ動作
に関する構成のみを示している。LSI1は、その他の
構成、たとえば、図5に示したCPU121、キャッシ
ュメモリ122、外部バスI/Fユニット123、デバ
ッグモジュール124、汎用入出力ポート125、およ
びPLLクロック生成回路126を有する。内蔵DRA
M2は、リフレッシュアドレスカウンタ3を有した周辺
制御回路4、ロウデコーダ5、メモリセルアレイ6、セ
ンスアンプ7、コラムデコーダ8、ワード線用昇圧電位
発生回路9を有する。
Embodiment 1 FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an LSI according to the first embodiment of the present invention. The LSI 1 shown in FIG.
2 has a built-in DRAM control circuit 10 for controlling the internal DRAM 2 and a register 11, and shows only a configuration related to a refresh operation for the built-in DRAM. The LSI 1 has other configurations, for example, the CPU 121, the cache memory 122, the external bus I / F unit 123, the debug module 124, the general-purpose input / output port 125, and the PLL clock generation circuit 126 shown in FIG. Built-in DRA
M2 includes a peripheral control circuit 4 having a refresh address counter 3, a row decoder 5, a memory cell array 6, a sense amplifier 7, a column decoder 8, and a word line boosted potential generation circuit 9.

【0031】レジスタ11には、リフレッシュ時のワー
ド線選択本数が、外部あるいは内部回路によって設定さ
れる。なお、このLSI1では、ランダムアクセス時
に、1回の(1ロウアドレスの)アクセスによって、n
本のワード線が選択されるものとする。また、このレジ
スタ11には、ランダムアクセス時に選択されるワード
線のm倍のワード線を選択する設定がなされているもの
とする。
In the register 11, the number of selected word lines at the time of refresh is set by an external or internal circuit. In this LSI 1, at random access, one access (of one row address) causes n
It is assumed that one word line is selected. It is assumed that the register 11 is set to select a word line that is m times the word line selected at the time of random access.

【0032】リフレッシュ動作は、内蔵DRAM制御回
路10がCBRなどのリフレッシュ制御信号を周辺制御
回路4に出力することによって開始される。一方、この
とき、内蔵DRAM制御回路10は、レジスタ11に設
定されている値にしたがって、リフレッシュ動作の期
間、ワード線をm倍選択することを示すワード線m倍選
択イネーブル信号ENをロウデコーダ5に出力する。
The refresh operation is started when the built-in DRAM control circuit 10 outputs a refresh control signal such as CBR to the peripheral control circuit 4. On the other hand, at this time, the built-in DRAM control circuit 10 supplies the row decoder 5 with the word line m-times selection enable signal EN indicating that the word line is to be selected m times during the refresh operation in accordance with the value set in the register 11. Output to

【0033】ロウデコーダ5は、ワード線m倍選択イネ
ーブル信号ENを受けると、ロウアドレスの上位mビッ
ト分に相当するメモリセル12のサブブロックを全てア
クティブにする。すなわち、通常のランダムアクセス時
およびリフレッシュ時では、1個のサブブロックのみを
アクティブにするようにしていたが、この実施の形態1
によるリフレッシュ時では、m個のサブブロックがアク
ティブになる。周辺制御回路4内のリフレッシュアドレ
スカウンタ3によって発生されたロウアドレスがロウデ
コーダ5に出力されると、ロウデコーダ5は、「m」に
応じた上位数ビットを除く下位ビットのアドレスに対応
するワード線が、m個のサブブロックにおいて選択され
る。たとえば、「m」が「2」の場合には、上位1ビッ
トを除く下位ビットのアドレスに対応するワード線が、
2個のサブブロックにおいて選択され、「m」が「4」
の場合には、上位2ビットを除く下位ビットのアドレス
に対応するワード線が、4個のサブブロックにおいて選
択される。したがって、1回のリフレッシュ動作で、n
×m本のワード線がリフレッシュされることになる。
Upon receiving the word line m-times select enable signal EN, the row decoder 5 activates all the sub-blocks of the memory cells 12 corresponding to the upper m bits of the row address. That is, at the time of normal random access and refresh, only one sub-block is activated.
M, the m sub-blocks become active. When the row address generated by the refresh address counter 3 in the peripheral control circuit 4 is output to the row decoder 5, the row decoder 5 reads the word corresponding to the address of the lower bits excluding the upper several bits corresponding to "m". Lines are selected in m sub-blocks. For example, when “m” is “2”, the word line corresponding to the address of the lower bit excluding the upper 1 bit is
Selected in two sub-blocks, "m" is "4"
In the case of, the word line corresponding to the address of the lower bit excluding the upper two bits is selected in the four sub-blocks. Therefore, in one refresh operation, n
× m word lines will be refreshed.

【0034】ここで、図2は、リフレッシュに関するロ
ウデコーダ5の構成を示す回路図である。図2は、レジ
スタ11に設定される「m」が2,4である場合におけ
るロウデコーダ5の構成を示している。図2において、
メモリセルアレイ6がロウアドレスの上位2ビットRA
D<x>,RAD<x-1>によって、4つのサブブロック6A
〜6Dに分割されているものとする。ランダムアクセス
時には、この4つのサブブロック6A〜6Dのうちの1
つのサブブロック内のn本のワード線が選択されるもの
とする。ワード線m倍選択イネーブル信号ENは、m=
2,4に対応するイネーブル信号REF2_EN,REF4_ENか
らなる。イネーブル信号REF2_EN,REF4_ENは、ランダ
ムアクセス時は、ともに「L」である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the row decoder 5 relating to refresh. FIG. 2 shows a configuration of the row decoder 5 when “m” set in the register 11 is 2, 4. In FIG.
The memory cell array 6 stores the upper two bits RA of the row address.
D <x>, RAD <x-1>, four sub-blocks 6A
~ 6D. At the time of random access, one of the four sub-blocks 6A to 6D
It is assumed that n word lines in one sub-block are selected. The word line m-times select enable signal EN is expressed as m =
It consists of enable signals REF2_EN and REF4_EN corresponding to 2 and 4. The enable signals REF2_EN and REF4_EN are both “L” during random access.

【0035】ビットRAD<x>は、オア回路21の一端
に入力されるとともに、インバータ25を介してオア回
路22の一端に入力される。ビットRAD<x-1>は、オ
ア回路23の一端に入力されるとともに、インバータ2
6を介してオア回路24の一端に入力される。一方、内
蔵DRAM制御回路10から出力されるイネーブル信号
REF2_ENは、オア回路21,22の他端にそれぞれ入力
される。また、イネーブル信号REF4_ENは、オア回路2
3,24の他端にそれぞれ入力される。オア回路21の
出力は、アンド回路31,32の一端に入力され、オア
回路22の出力は、アンド回路33,34の一端に入力
される。また、オア回路23の出力は、アンド回路3
1,33の他端に入力され、オア回路24の出力は、ア
ンド回路32,34の他端に入力される。アンド回路3
1〜34の出力は、それぞれサブブロック6A〜6Dに
接続される。
The bit RAD <x> is input to one end of the OR circuit 21 and is also input to one end of the OR circuit 22 via the inverter 25. The bit RAD <x−1> is input to one end of the OR circuit 23 and
6 to one end of an OR circuit 24. On the other hand, an enable signal output from the built-in DRAM control circuit 10
REF2_EN is input to the other ends of the OR circuits 21 and 22, respectively. The enable signal REF4_EN is output to the OR circuit 2
The signals are input to the other ends of 3 and 24, respectively. The output of the OR circuit 21 is input to one ends of AND circuits 31 and 32, and the output of the OR circuit 22 is input to one ends of AND circuits 33 and 34. The output of the OR circuit 23 is
The outputs of the OR circuit 24 are input to the other ends of the AND circuits 32 and 34. AND circuit 3
Outputs of 1 to 34 are connected to sub-blocks 6A to 6D, respectively.

【0036】ここで、レジスタ11に、リフレッシュ時
に2倍のワード線を選択する設定がなされている場合、
内蔵DRAM制御回路10は、ワード線2倍を選択する
イネーブル信号REF2_ENを「H」にして出力する。この
結果、ビットRAD<x>によらず、ビットRAD<x-1>の
みによって決定する2つのサブブロック6A,6Cまた
はサブブロック6B,6Dがアクティブになる。この場
合、各サブブロック6A〜6Dは、それぞれn本ずつワ
ード線が選択されているため、2つのサブブロックがア
クティブとなることによって、全体で2n本のワード線
が選択されることになる。
If the register 11 is set to select twice as many word lines at the time of refreshing,
The built-in DRAM control circuit 10 sets the enable signal REF2_EN for selecting word line doubling to “H” and outputs it. As a result, the two sub-blocks 6A and 6C or the sub-blocks 6B and 6D determined by only the bit RAD <x-1> become active, regardless of the bit RAD <x>. In this case, since n word lines are selected in each of the sub-blocks 6A to 6D, 2n word lines are selected as a whole by activating two sub-blocks.

【0037】一方、レジスタ11に、リフレッシュ時に
4倍のワード線を選択する設定がなされている場合、内
蔵DRAM制御回路10は、ワード線4倍を選択するイ
ネーブル信号REF4_ENをも「H」にし、イネーブル信号
REF2_EN,REF4_ENのいずれも「H」として出力する。
この結果、ビットRAD<x>およびビットRAD<x-1>の
いずれにもよらず、4つのサブブロック6A〜6Dがア
クティブになり、4n本のワード線が選択されることに
なる。なお、リフレッシュ動作終了後は、イネーブル信
号REF2_EN,REF4_ENのいずれも「L」に復する。これ
によって、リフレッシュ時のワード線選択本数を、ラン
ダムアクセス時と同じn本、2倍のワード線選択時の2
n本、4倍のワード線選択時の4n本の3つに変更する
ことができる。
On the other hand, if the register 11 is set to select a quadruple word line at the time of refreshing, the built-in DRAM control circuit 10 also sets the enable signal REF4_EN for selecting the quadruple word line to "H", Enable signal
Both REF2_EN and REF4_EN are output as “H”.
As a result, the four sub-blocks 6A to 6D are activated irrespective of the bit RAD <x> and the bit RAD <x-1>, and 4n word lines are selected. After the refresh operation, both the enable signals REF2_EN and REF4_EN return to “L”. As a result, the number of word lines to be selected at the time of refreshing is reduced to n, which is the same as that at the time of random access, and 2 times that at the time of double word line selection.
The number can be changed to three, that is, n and 4n when the word line is quadrupled.

【0038】この実施の形態1によれば、外部あるいは
内部回路から、レジスタ11にリフレッシュ時のワード
線選択本数を設定することによって、リフレッシュ時の
ワード線選択本数を随時変更することができる。この結
果、DRAMアクセスが頻繁に行われる場合には、リフ
レッシュ時のワード線選択本数の設定値を大きくし、D
RAMアクセスが少ない場合には、リフレッシュ時のワ
ード線選択本数の設定値を小さくすることによって、リ
フレッシュ時の消費電力を外部あるいは内部回路のソフ
トウェアによって抑えることができる。
According to the first embodiment, the number of word lines selected at the time of refresh can be changed at any time by setting the number of word lines selected at the time of refreshing in the register 11 from an external or internal circuit. As a result, when DRAM access is frequently performed, the set value of the number of word lines selected at the time of refresh is increased, and
When the number of RAM accesses is small, the power consumption at the time of refresh can be suppressed by software of an external or internal circuit by reducing the set value of the number of word lines selected at the time of refresh.

【0039】実施の形態2.つぎに、この発明の実施の
形態2について説明する。上述した実施の形態1では、
レジスタ11にワード線選択本数を設定することによっ
て、リフレッシュ時のワード線選択本数を柔軟に変更す
るようにしていたが、この実施の形態2では、リフレッ
シュ時のワード線選択本数の増減変更に対応して、ワー
ド線用昇圧電位発生回路9の充電容量を増減変更するよ
うにしている。これは、選択されるワード線選択本数を
増大すると、ワード線用昇圧電位発生回路9の能力が不
足する可能性が考えられ、所望の電圧をワード線に印加
することができなくなる場合が発生するからである。
Embodiment 2 Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the first embodiment described above,
By setting the number of word lines to be selected in the register 11, the number of selected word lines at the time of refresh is flexibly changed. In the second embodiment, the number of selected word lines at the time of refresh can be changed. Thus, the charge capacity of the word line boosted potential generation circuit 9 is increased or decreased. This is because, when the number of selected word lines is increased, there is a possibility that the capability of the word line boosted potential generating circuit 9 is insufficient, and a case where a desired voltage cannot be applied to the word line occurs. Because.

【0040】図3は、この発明の実施の形態2であるL
SIの構成を示すブロック図である。図3において、内
蔵DRAM制御回路10は、ワード線m倍選択イネーブ
ル信号ENをワード線用昇圧電位発生回路9にも入力し
ている。また、ワード線用昇圧電位発生回路9は、図4
に示すように、複数の昇圧用ポンプ51〜54を有し、
ワード線m倍選択イネーブル信号ENに応じて複数の昇
圧用ポンプ51〜54を切り替えるようにしている。そ
の他の構成は、実施の形態1と同じであり、同一構成部
分には同一符号を付している。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of an SI. In FIG. 3, the built-in DRAM control circuit 10 also inputs the word line m-fold select enable signal EN to the word line boosted potential generation circuit 9. Further, the word line boosted potential generating circuit 9 is provided in FIG.
As shown in the figure, it has a plurality of boosting pumps 51 to 54,
The plurality of boosting pumps 51 to 54 are switched according to the word line m-times selection enable signal EN. Other configurations are the same as those of the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals.

【0041】図4において、ワード線用昇圧電位発生回
路9は、同じ容量Cをもつ4つの昇圧用ポンプ51〜5
4を有する。この容量Cは、ランダムアクセス時に必要
な容量である。ワード線用昇圧電位発生回路9には、周
辺制御回路4から、昇圧動作を指示する昇圧動作イネー
ブル信号PUMP_ENが入力され、昇圧用ポンプ51、アン
ド回路41,42の一端に入力される。
In FIG. 4, the word line boosted potential generating circuit 9 comprises four boosting pumps 51 to 5 having the same capacitance C.
4 This capacity C is a capacity required at the time of random access. The boost operation enable signal PUMP_EN instructing the boost operation from the peripheral control circuit 4 is input to the word line boost potential generation circuit 9, and is input to one end of the boost pump 51 and one end of the AND circuits 41 and 42.

【0042】一方、内蔵DRAM制御回路10から入力
されたイネーブル信号REF2_ENは、アンド回路41の他
端に入力され、イネーブル信号REF4_ENは、アンド回路
42の他端に入力される。また、アンド回路41の出力
は昇圧用ポンプ52に入力され、アンド回路42の出力
は昇圧用ポンプ53,54に入力される。なお、上述し
たように、イネーブル信号REF2_EN,REF4_ENは、ラン
ダムアクセス時ではともに「L」である。
On the other hand, the enable signal REF2_EN input from the built-in DRAM control circuit 10 is input to the other end of the AND circuit 41, and the enable signal REF4_EN is input to the other end of the AND circuit 42. The output of the AND circuit 41 is input to a boosting pump 52, and the output of the AND circuit 42 is input to boosting pumps 53 and 54. Note that, as described above, the enable signals REF2_EN and REF4_EN are both “L” at the time of random access.

【0043】したがって、ランダムアクセス時には、昇
圧動作イネーブル信号PUMP_ENが直接入力される昇圧用
ポンプ51のみがアクティブになり、昇圧用ポンプ51
のみによって昇圧電圧が発生される。また、レジスタ1
1に、リフレッシュ時に2倍のワード線を選択する設定
がなされている場合、イネーブル信号REF2_ENが「H」
となり、これによって、昇圧用ポンプ51に加えて、昇
圧用ポンプ52もアクティブになり、昇圧用ポンプ5
1,52から昇圧電圧が発生する。一方、レジスタ11
に、リフレッシュ時に4倍のワード線を選択する設定が
なされている場合、イネーブル信号REF4_ENも「H」と
なり、これによって、全ての昇圧用ポンプ51〜54が
アクティブになり、全ての昇圧用ポンプ51〜54から
昇圧電圧が発生する。なお、リフレッシュ動作終了後、
イネーブル信号REF2_EN,REF4_ENは、いずれも「L」
に復する。このようにして、ワード線選択本数の増大に
対応して、昇圧用ポンプ51〜54の昇圧動作を増減し
ているので、ワード線選択本数が増大しても、リフレッ
シュ動作時の容量不足が生じることがなくなる。
Therefore, at the time of random access, only the boosting pump 51 to which the boosting operation enable signal PUMP_EN is directly input becomes active, and the boosting pump 51
The boost voltage is generated only by this. Also, register 1
1, when the setting to select twice the word line at the time of refresh is made, the enable signal REF2_EN is set to “H”.
As a result, in addition to the boosting pump 51, the boosting pump 52 also becomes active, and the boosting pump 5
A boosted voltage is generated from 1,52. On the other hand, register 11
In the case where the setting is made such that a word line four times as large is selected at the time of refreshing, the enable signal REF4_EN also becomes “H”, whereby all the boosting pumps 51 to 54 become active and all the boosting pumps 51 to 54 become active. To 54 generate a boosted voltage. After the refresh operation is completed,
The enable signals REF2_EN and REF4_EN are both “L”.
To return to. In this manner, the boosting operation of the boosting pumps 51 to 54 is increased or decreased in response to the increase in the number of selected word lines. Therefore, even if the number of selected word lines is increased, the capacity is insufficient during the refresh operation. Is gone.

【0044】この実施の形態2では、リフレッシュ動作
時のワード線選択本数の増減変更に対応して、昇圧容量
を増減変更するようにしているので、ワード線選択本数
を増大した場合であっても、容量不足が発生することが
ない。
In the second embodiment, the boosting capacity is increased or decreased in response to the increase or decrease in the number of word line selections during the refresh operation. Therefore, even when the number of word line selections is increased. There is no shortage of capacity.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、設定手段が、たとえば外部あるいは内部回路のソフ
トウェアを用いて、前記ダイナミックランダムアクセス
メモリに対するリフレッシュ時のワード線選択本数を変
更設定すると、制御手段が、前記設定手段によって設定
されたワード線選択本数毎に前記ダイナミックランダム
アクセスメモリに対するリフレッシュ動作を行わせるよ
うにしているので、リフレッシュ時のワード線選択本数
を容易かつ柔軟に変更することができるとともに、この
変更によってリフレッシュ時に消費電力を抑えることが
できるという効果を奏する。
As described above, according to the present invention, when the setting means changes and sets the number of word lines selected for refreshing the dynamic random access memory using, for example, software of an external or internal circuit, Since the control means causes the refresh operation to be performed on the dynamic random access memory for each word line selection number set by the setting means, it is possible to easily and flexibly change the word line selection number at the time of refreshing. In addition to this, there is an effect that the power consumption during refresh can be suppressed by this change.

【0046】つぎの発明によれば、前記設定手段が、リ
フレッシュ時のワード線選択本数を、2のm(自然数)
乗値で設定し、前記制御手段が、前記ダイナミックラン
ダムアクセスメモリの上位アドレスを用いて該ダイナミ
ックランダムアクセスメモリを2のm乗値に分割し、分
割された各ブロックのうちの前記2のm乗値のブロック
毎に、ランダムアクセス時のワード線選択本数のリフレ
ッシュ動作を行わせるようにしているので、簡易な構成
によって、リフレッシュ時のワード線選択本数を変更す
ることができるという効果を奏する。
According to the next invention, the setting means sets the number of selected word lines at the time of refresh to 2 m (natural number).
The control means divides the dynamic random access memory into 2 m values using the upper address of the dynamic random access memory, and the 2 m power of each of the divided blocks. Since the refresh operation of the selected number of word lines at the time of random access is performed for each block of the value, the effect that the number of selected word lines at the time of refresh can be changed with a simple configuration is achieved.

【0047】つぎの発明によれば、昇圧手段が、前記設
定手段によって設定されたワード線選択本数に対応する
充電容量に変更するようにしているので、ワード線選択
本数の増大に伴う充電容量の不足をなくすことができる
という効果を奏する。
According to the next invention, the boosting means changes the charging capacity corresponding to the number of selected word lines set by the setting means, so that the charging capacity increases with the number of selected word lines. This has the effect that shortage can be eliminated.

【0048】つぎの発明によれば、変更手段が、複数の
ワード線昇圧手段を組み合わせて、前記設定手段によっ
て設定されたワード線選択本数に対応する充電容量に変
更するようにしているので、簡易な構成によって、ワー
ド線選択本数の増大に伴う充電容量の不足をなくすこと
ができるという効果を奏する。
According to the next invention, the changing means combines a plurality of word line boosting means to change the charging capacity to the number of word line selections set by the setting means. With such a configuration, it is possible to eliminate the shortage of the charge capacity due to the increase in the number of selected word lines.

【0049】つぎの発明によれば、設定工程によって、
ダイナミックランダムアクセスメモリに対するリフレッ
シュ時のワード線選択本数を変更設定し、リフレッシュ
工程によって、前記設定工程によって設定されたワード
線選択本数毎に前記ダイナミックランダムアクセスメモ
リに対するリフレッシュ動作を行わせるようにしている
ので、リフレッシュ時のワード線選択本数を容易かつ柔
軟に変更することができるとともに、この変更によって
リフレッシュ時に消費電力を抑えることができるという
効果を奏する。
According to the next invention, by the setting step,
The number of word line selections at the time of refreshing the dynamic random access memory is changed and set, and the refresh operation is performed on the dynamic random access memory for each word line selection number set by the setting step. In addition, it is possible to easily and flexibly change the number of word lines to be selected at the time of refresh, and it is possible to suppress power consumption at the time of refresh by this change.

【0050】つぎの発明によれば、前記設定工程が、2
のm(自然数)乗値を用いて前記リフレッシュ時のワー
ド線選択本数を変更設定し、前記リフレッシュ工程が、
前記ダイナミックランダムアクセスメモリの上位アドレ
スを用いて該ダイナミックランダムアクセスメモリを2
のm乗値に分割し、分割された各ブロックのうちの前記
2のm乗値のブロック毎に、ランダムアクセス時のワー
ド線選択本数のリフレッシュ動作を行わせるようにして
いるので、リフレッシュ時のワード線選択本数を容易に
変更することができるという効果を奏する。
According to the next invention, the setting step includes the following steps:
The number of word line selections at the time of the refresh is changed and set using the m (natural number) power of
The dynamic random access memory is stored in 2 using the upper address of the dynamic random access memory.
, And the refresh operation of the number of selected word lines at the time of random access is performed for each of the blocks of the 2 m value among the divided blocks. There is an effect that the number of selected word lines can be easily changed.

【0051】つぎの発明によれば、昇圧工程によって、
前記設定工程によって設定されたワード線選択本数に対
応する充電容量に変更するようにしているので、ワード
線選択本数の増大に伴う充電容量の不足をなくすことが
できるという効果を奏する。
According to the next invention, the pressure increasing step
Since the charging capacity is changed to the number of word lines selected in the setting step, the shortage of the charging capacity due to the increase in the number of selected word lines can be eliminated.

【0052】つぎの発明によれば、昇圧工程が、複数の
ワード線昇圧手段を組み合わせ、前記設定工程によって
設定されたワード線選択本数に対応する充電容量に変更
させるようにしているので、ワード線選択本数の増大に
伴う充電容量の不足を容易になくすことができるという
効果を奏する。
According to the next invention, in the boosting step, a plurality of word line boosting means are combined to change the charging capacity corresponding to the selected number of word lines set in the setting step. This brings about an effect that shortage of charging capacity due to an increase in the number of selections can be easily eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1であるLSIの構成
を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an LSI according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示したロウデコーダの構成の一部を示
す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of the configuration of the row decoder shown in FIG.

【図3】 この発明の実施の形態2であるLSIの構成
を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of an LSI according to a second embodiment of the present invention;

【図4】 図3に示したワード線用昇圧電位発生回路の
構成を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a word line boosted potential generation circuit shown in FIG. 3;

【図5】 内蔵DRAMとロジック回路とを混載した従
来のLSIの構成を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a conventional LSI in which a built-in DRAM and a logic circuit are mixed.

【図6】 図5に示したLSIの内蔵DRAMに対する
ランダムアクセス時の動作を説明する説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an operation at the time of random access to a built-in DRAM of the LSI illustrated in FIG. 5;

【図7】 図5に示したLSIの内蔵DRAMに対する
リフレッシュ時の動作を説明する説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating an operation at the time of refreshing the built-in DRAM of the LSI illustrated in FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 LSI、2 内蔵DRAM、3 リフレッシュアド
レスカウンタ、4 周辺制御回路、5 ロウデコーダ、
6 メモリセルアレイ、6A〜6D サブブロック、7
センスアンプ、8 コラムデコーダ、9 ワード線用
昇圧電位発生回路、10 内蔵DRAM制御回路、11
レジスタ、21〜24 オア回路、31〜34,4
1,42 アンド回路、51〜54 昇圧用ポンプ。
1 LSI, 2 built-in DRAM, 3 refresh address counter, 4 peripheral control circuit, 5 row decoder,
6 memory cell array, 6A to 6D sub-block, 7
Sense amplifier, 8 column decoder, 9 boosted potential generation circuit for word line, 10 built-in DRAM control circuit, 11
Register, 21-24 OR circuit, 31-34, 4
1,42 AND circuit, 51-54 Boost pump.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 正人 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 奥村 直人 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5B024 AA01 AA15 BA13 BA20 BA27 BA29 CA16 DA18  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masato Nakajima 2-6-1, Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Within Mitsubishi Electric Engineering Co., Ltd. (72) Naoto Okumura 2-3-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo No. Mitsubishi Electric Corporation F-term (reference) 5B024 AA01 AA15 BA13 BA20 BA27 BA29 CA16 DA18

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともダイナミックランダムアクセ
スメモリおよびロジック回路が混載された半導体集積装
置において、 前記ダイナミックランダムアクセスメモリに対するリフ
レッシュ時のワード線選択本数を変更設定する設定手段
と、 前記設定手段によって設定されたワード線選択本数毎に
前記ダイナミックランダムアクセスメモリに対するリフ
レッシュ動作を行わせる制御手段と、 を備えたことを特徴とする半導体集積装置。
1. A semiconductor integrated device in which at least a dynamic random access memory and a logic circuit are mounted, wherein setting means for changing and setting the number of word lines selected for refreshing the dynamic random access memory is set by the setting means. Control means for performing a refresh operation on the dynamic random access memory for each selected number of word lines.
【請求項2】 前記設定手段は、2のm(自然数)乗値
で設定され、 前記制御手段は、前記ダイナミックランダムアクセスメ
モリの上位アドレスを用いて該ダイナミックランダムア
クセスメモリを2のm乗値に分割し、分割された各ブロ
ックのうちの前記2のm乗値のブロック毎に、ランダム
アクセス時のワード線選択本数のリフレッシュ動作を行
わせることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装
置。
2. The method according to claim 1, wherein the setting unit sets the dynamic random access memory to a 2 m power value using an upper address of the dynamic random access memory. 2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein a refresh operation of a selected number of word lines at the time of random access is performed for each of the divided blocks having the m-th power of the divided blocks. .
【請求項3】 前記設定手段によって設定されたワード
線選択本数に対応する充電容量に変更する昇圧手段をさ
らに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の
半導体集積装置。
3. The semiconductor integrated device according to claim 1, further comprising a booster for changing the charging capacity to the number of word lines selected by the setting unit.
【請求項4】 前記昇圧手段は、 複数の充電容量をもつ複数のワード線昇圧手段と、 前記複数のワード線昇圧手段を組み合わせて、前記設定
手段によって設定されたワード線選択本数に対応する充
電容量に変更させる変更手段と、 を備えたことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積
装置。
4. The boosting means, comprising: a plurality of word line boosting means having a plurality of charging capacities; and a plurality of word line boosting means in combination, the charging corresponding to the number of selected word lines set by the setting means. 4. The semiconductor integrated device according to claim 3, further comprising: changing means for changing the capacity.
【請求項5】 少なくともダイナミックランダムアクセ
スメモリおよびロジック回路が混載された半導体集積装
置のリフレッシュ方法において、 前記ダイナミックランダムアクセスメモリに対するリフ
レッシュ時のワード線選択本数を変更設定する設定工程
と、 前記設定工程によって設定されたワード線選択本数毎に
前記ダイナミックランダムアクセスメモリに対するリフ
レッシュ動作を行わせるリフレッシュ工程と、 を含むことを特徴とする半導体集積装置のリフレッシュ
方法。
5. A refresh method for a semiconductor integrated device in which at least a dynamic random access memory and a logic circuit are mixed, wherein a setting step of changing and setting the number of word lines selected for refreshing the dynamic random access memory; A refresh step of performing a refresh operation on the dynamic random access memory for each set number of selected word lines.
【請求項6】 前記設定工程は、2のm(自然数)乗値
を用いて前記リフレッシュ時のワード線選択本数を変更
設定し、 前記リフレッシュ工程は、前記ダイナミックランダムア
クセスメモリの上位アドレスを用いて該ダイナミックラ
ンダムアクセスメモリを2のm乗値に分割し、分割され
た各ブロックのうちの前記2のm乗値のブロック毎に、
ランダムアクセス時のワード線選択本数のリフレッシュ
動作を行わせることを特徴とする請求項5に記載の半導
体集積装置のリフレッシュ方法。
6. The setting step changes and sets the number of selected word lines at the time of refreshing using a power of 2 (natural number), and the refreshing step uses an upper address of the dynamic random access memory. The dynamic random access memory is divided into 2 m -th power values, and each of the divided blocks having the 2 m -th power value is
6. The method according to claim 5, wherein a refresh operation is performed for a selected number of word lines during random access.
【請求項7】 前記設定工程によって設定されたワード
線選択本数に対応する充電容量に変更する昇圧工程をさ
らに含むことを特徴とする請求項5または6に記載の半
導体集積装置のリフレッシュ方法。
7. The method for refreshing a semiconductor integrated device according to claim 5, further comprising a boosting step of changing to a charging capacity corresponding to the selected number of word lines set in said setting step.
【請求項8】 前記昇圧工程は、 複数のワード線昇圧手段を組み合わせ、前記設定工程に
よって設定されたワード線選択本数に対応する充電容量
に変更させることを特徴とする請求項7に記載の半導体
集積装置のリフレッシュ方法。
8. The semiconductor according to claim 7, wherein in the boosting step, a plurality of word line boosting means are combined to change the charging capacity to the number of selected word lines set in the setting step. A method for refreshing an integrated device.
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