JP2002053544A - Method for producing sulfonyl compound - Google Patents

Method for producing sulfonyl compound

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JP2002053544A
JP2002053544A JP2000244681A JP2000244681A JP2002053544A JP 2002053544 A JP2002053544 A JP 2002053544A JP 2000244681 A JP2000244681 A JP 2000244681A JP 2000244681 A JP2000244681 A JP 2000244681A JP 2002053544 A JP2002053544 A JP 2002053544A
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chloride
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亮一 藤井
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茂 小田
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英二 川端
Masayuki Takaguchi
昌之 高口
Takaaki Mori
高章 森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a sulfonyl compound, by which the sulfonyl compound having a high quality can be produced in a high yield in the reduced number of processes. SOLUTION: This method for producing the sulfonyl compound represented by the general formula (1) (X is H or a lower alkyl; R1 to R3 are each identically or differently H, a halogen, a lower alkyl or a cycloalkyl; R4 is a lower alkyl, or R4 and R4 together exhibit a tetramethylene group to form a ring), characterized by reacting a phenol compound represented by the general formula (2) with a sulfonyl halide compound represented by the general formula (3) in the presence of a Lewis acid-based catalyst in a sulfonyl compound represented by the general formula (4) as a solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一般式(1)The present invention relates to a compound represented by the general formula (1):

【0002】[0002]

【化9】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表し、
1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシク
ロアルキル基を表す)で示されるスルホニル化合物の製
造方法に関する。本発明に係わるスルホニル化合物は、
感熱記録材料用顕色剤や各種化学工業用原料、農薬・医
薬の中間体及び高分子改質用添加剤等としての有用性が
大きく期待される。
Embedded image (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group,
R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group). The sulfonyl compound according to the present invention,
It is highly expected to be useful as a developer for heat-sensitive recording materials, a raw material for various chemical industries, an intermediate for agricultural chemicals and pharmaceuticals, and an additive for polymer modification.

【0003】[0003]

【従来の技術】本発明者らは、上記一般式(1)で示さ
れるスルホニル化合物及びその製造方法を開発し、特許
出願した。特開平8−198841号公報に記載した製
造方法における溶媒である四塩化炭素、二硫化炭素、ク
ロロホルム、ニトロベンゼン、1,2−ジクロロエタ
ン、o−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、
1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テト
ラクロロエタン、1,1,2,2−sym−テトラクロ
ロエタン又はペンタクロロエタンを使用した場合、沸点
が低いため、反応温度が不足し易く、未反応物質が多く
残り目的物の収率が上がりにくかった。また、そのため
に廃棄物を多く出す原因ともなる。更に、工程も、副生
物質や触媒の除去など複雑で、工業的に更なる合理化が
求められた。
2. Description of the Related Art The present inventors have developed a sulfonyl compound represented by the above general formula (1) and a method for producing the same, and filed a patent application. In the production method described in JP-A-8-198841, solvents such as carbon tetrachloride, carbon disulfide, chloroform, nitrobenzene, 1,2-dichloroethane, o-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene,
When 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-sym-tetrachloroethane or pentachloroethane is used, the reaction temperature tends to be insufficient because the boiling point is low. However, a large amount of unreacted substances remained and it was difficult to increase the yield of the desired product. In addition, it causes a large amount of waste. Furthermore, the process is complicated, such as removal of by-products and catalysts, and further industrialization has been required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少な
い工程数で、かつ高収率、高品質なスルホニル化合物の
製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing a high-quality, high-yield sulfonyl compound with a small number of steps.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、本発明に
係わるスルホニル化合物の製造方法について検討を重ね
た結果、特定の溶媒と触媒を選ぶことによりその目的を
達成し得ることを解明し本発明の方法に到達した。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted various studies on the method for producing a sulfonyl compound according to the present invention, and as a result, have found that the object can be achieved by selecting a specific solvent and a catalyst. The method of the present invention has been reached.

【0006】すなわち、本発明の製造方法は、一般式
(2)
[0006] That is, the production method of the present invention uses the general formula (2)

【0007】[0007]

【化10】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表す)で示
されるフェノール化合物と、一般式(3)
Embedded image (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) and a phenol compound represented by the general formula (3):

【0008】[0008]

【化11】 (式中、Yはハロゲン原子を表し、R1、R2及びR3
同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表
す)で示されるスルホニルハライド化合物とを、一般式
(4)
Embedded image Wherein Y represents a halogen atom, and R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group. A compound represented by the general formula (4):

【0009】[0009]

【化12】 (式中、R4は低級アルキル基又はR4同士が環を形成し
たテトラメチレン基を表す)で示されるスルホニル化合
物を溶媒としてルイス酸系触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とする、一般式(1)
Embedded image (Wherein, R 4 represents a lower alkyl group or a tetramethylene group in which R 4 forms a ring), and the reaction is carried out in the presence of a Lewis acid catalyst using a sulfonyl compound represented by the formula: Equation (1)

【0010】[0010]

【化13】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表し、
1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシク
ロアルキル基を表す)で示されるスルホニル化合物の製
造方法である。
Embedded image (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group,
R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group).

【0011】更には、縮合反応混合物に、低級アルコー
ルを添加して結晶を析出させて目的物を高純度、高収率
で収得することを特徴とする前記一般式(1)で示され
るスルホニル化合物の製造方法である。
Further, a sulfonyl compound represented by the above general formula (1) is characterized in that a lower alcohol is added to the condensation reaction mixture to precipitate crystals to obtain the desired product in high purity and high yield. It is a manufacturing method of.

【0012】本発明におけるアルキル基としては、炭素
数1〜3のメチル基、エチル基及びプロピル基等が挙げ
られ、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子及び
臭素原子等が挙げられる。
The alkyl group in the present invention includes a methyl group, an ethyl group and a propyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail.

【0014】本発明の製造方法で用いられる一般式
(2)で示されるフェノール化合物としては、フェノー
ル、m−クレゾール、m−エチルフェノール及びm−イ
ソプロピルフェノール等が挙げられる。
The phenol compound represented by the general formula (2) used in the production method of the present invention includes phenol, m-cresol, m-ethylphenol, m-isopropylphenol and the like.

【0015】本発明の製造方法で用いられる一般式
(3)で示されるスルホニルハライド化合物としては、
ベンゼンスルホニルクロライド、トシルクロライド、4
−エチルベンゼンスルホニルクロライド、4−イソプロ
ピルベンゼンスルホニルクロライド、2−メチルベンゼ
ンスルホニルクロライド、2,5−ジメチルベンゼンス
ルホニルクロライド、2,4−ジメチルベンゼンスルホ
ニルクロライド、4−クロロベンゼンスルホニルクロラ
イド、4−ブロモベンゼンスルホニルクロライド、3,
4−ジメチルベンゼンスルホニルクロライド、2,4,
6−トリメチルベンゼンスルホニルクロライド、4−シ
クロヘキシルベンゼンスルホニルクロライド等及びそれ
らのブロマイド又はアイオダイドが挙げられるが、工業
的にはクロライド化合物が好ましい。
The sulfonyl halide compound represented by the general formula (3) used in the production method of the present invention includes:
Benzenesulfonyl chloride, tosyl chloride, 4
-Ethylbenzenesulfonyl chloride, 4-isopropylbenzenesulfonyl chloride, 2-methylbenzenesulfonyl chloride, 2,5-dimethylbenzenesulfonyl chloride, 2,4-dimethylbenzenesulfonyl chloride, 4-chlorobenzenesulfonyl chloride, 4-bromobenzenesulfonyl chloride, 3,
4-dimethylbenzenesulfonyl chloride, 2,4
Examples thereof include 6-trimethylbenzenesulfonyl chloride, 4-cyclohexylbenzenesulfonyl chloride, and the like, and bromides or iodides thereof. Industrially, chloride compounds are preferred.

【0016】本発明の製造方法で用いられる一般式
(4)で示されるスルホニル化合物としては、ジメチル
スルホン、ジエチルスルホン又はスルホラン等が挙げら
れるが、特に好ましくはスルホランである。
Examples of the sulfonyl compound represented by the general formula (4) used in the production method of the present invention include dimethyl sulfone, diethyl sulfone, and sulfolane. Particularly preferred is sulfolane.

【0017】本発明の製造方法で用いられる低級アルコ
ールとしては、メタノール、エタノール及びイソプロパ
ノール等が挙げられるが、特に好ましくはメタノールで
ある。
The lower alcohol used in the production method of the present invention includes methanol, ethanol, isopropanol and the like, and particularly preferably methanol.

【0018】一般式(3)で示される化合物の使用量
は、一般式(2)で示される化合物1モルに対し0.5
モル〜10モル、好ましくは1.5モル〜4.0モルで
ある。
The amount of the compound represented by the general formula (3) is 0.5 to 1 mol of the compound represented by the general formula (2).
It is from 10 mol to 10 mol, preferably from 1.5 mol to 4.0 mol.

【0019】一般式(4)で示される化合物の使用量
は、一般式(2)及び一般式(3)で示される化合物の
合計重量に対して0.1〜5倍量、好ましくは0.1〜
2倍量である。
The amount of the compound represented by the general formula (4) is 0.1 to 5 times, preferably 0.1 to 5 times the total weight of the compounds represented by the general formulas (2) and (3). 1 to
Double the amount.

【0020】本発明の製造方法で用いられるルイス酸系
触媒としては、塩化鉄、塩化アルミニウム、塩化亜鉛及
び塩化マグネシウム等が好ましい。これらの使用量は、
一般式(2)で示される化合物1モルに対して1×10
-5モル〜0.5モル、好ましくは、0.001モル〜
0.1モルである。
As the Lewis acid catalyst used in the production method of the present invention, iron chloride, aluminum chloride, zinc chloride, magnesium chloride and the like are preferable. These usages are
1 × 10 1 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula (2)
-5 mol to 0.5 mol, preferably 0.001 mol to
0.1 mol.

【0021】本発明の製造方法においては、使用する原
料、溶媒等の種類、量等により、異なるが、通常、反応
温度は20℃〜200℃、反応時間は5時間〜35時間
である。
In the production method of the present invention, the reaction temperature is usually from 20 ° C. to 200 ° C., and the reaction time is from 5 hours to 35 hours, although it varies depending on the type and amount of the raw materials and the solvent used.

【0022】次に、本発明におけるスルホニル化合物の
製造方法の実施態様の例を述べる。
Next, an embodiment of the method for producing a sulfonyl compound according to the present invention will be described.

【0023】反応機に一般式(3)で示される化合物を
1.5モル〜4モル相当量、溶媒として一般式(4)で
示される化合物を一般式(2)及び一般式(3)で示さ
れる化合物の合計重量に対して0.1〜5倍量、ルイス
酸系触媒を0.001モル〜0.1モル相当量仕込み、
攪拌下に60℃〜140℃に調整しながら、一般式
(2)で示される化合物を1モル相当量滴下しながら反
応を続け、滴下後、釜温を140℃に保ち、好ましくは
液体クロマトグラフィー等により反応状況をチェックし
ながら反応を完結させる。次に、反応生成物に低級アル
コールを添加することにより再結晶することなく、一般
式(1)で示される化合物を得る。
In a reactor, the compound represented by the general formula (3) is used in an amount equivalent to 1.5 to 4 mol, and the compound represented by the general formula (4) is used as a solvent by the general formula (2) or (3). 0.1 to 5 times the total weight of the indicated compound, 0.001 mol to 0.1 mol equivalent of a Lewis acid-based catalyst,
The reaction is continued while dropping an equivalent of 1 mol of the compound represented by the general formula (2) while adjusting the temperature to 60 ° C. to 140 ° C. with stirring. The reaction is completed while checking the reaction status by the method described above. Next, the compound represented by the general formula (1) is obtained without recrystallization by adding a lower alcohol to the reaction product.

【0024】本発明の製造方法で得られる一般式(1)
で示されるスルホニル化合物としては、(1)2,4−
ビス(フェニルスルホニル)−5−メチルフェノール、
(2)2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェノー
ル、(3)2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノール、(4)2,4−ビス(4−エチルフェ
ニルスルホニル)フェノール、(5)2,4−ビス(4
−イソプロピルフェニルスルホニル)フェノール、
(6)2,4−ビス(2−メチルフェニルスルホニル)
フェノール、(7)2,4−ビス(2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル)フェノール、(8)2,4−ビス
(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、
(9)2,4−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)
フェノール、(10)2,4−ビス(4−ブロモフェニ
ルスルホニル)フェノール、(11)2,4−ビス
(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、
(12)2,4−ビス(2,4,6−トリメチルフェニ
ルスルホニル)フェノール、(13)2,4−ビス(4
−シクロヘキシルフェニルスルホニル)フェノール、
(14)2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール、(15)2,4−ビス
(4−エチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノ
ール、(16)2,4−ビス(4−イソプロピルフェニ
ルスルホニル)−5−メチルフェノール、(17)2,
4−ビス(2−メチルフェニルスルホニル)−5−メチ
ルフェノール、(18)2,4−ビス(2,5−ジメチ
ルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノール、(1
9)2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール、(20)2,4−ビス
(4−クロロフェニルスルホニル)−5−メチルフェノ
ール、(21)2,4−ビス(5−ブロモフェニルスル
ホニル)−5−メチルフェノール、(22)2,4−ビ
ス(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチ
ルフェノール、(23)2,4−ビス(2,4,6−ト
リメチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノー
ル、(24)2,4−ビス(4−シクロヘキシルフェニ
ルスルホニル)−5−メチルフェノール、(25)2,
4−ビス(フェニルスルホニル)−5−エチルフェノー
ル、(26)2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−5−エチルフェノール、(27)2,4−ビス
(4−エチルフェニルスルホニル)−5−エチルフェノ
ール、(28)2,4−ビス(4−イソプロピルフェニ
ルスルホニル)−5−エチルフェノール、(29)2,
4−ビス(2−メチルフェニルスルホニル)−5−エチ
ルフェノール、(30)2,4−ビス(2,5−ジメチ
ルフェニルスルホニル)−5−エチルフェノール、(3
1)2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−エチルフェノール、(32)2,4−ビス
(4−クロロフェニルスルホニル)−5−エチルフェノ
ール、(33)2,4−ビス(4−ブロモフェニルスル
ホニル)−5−エチルフェノール、(34)2,4−ビ
ス(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)−5−エチ
ルフェノール、(35)2,4−ビス(2,4,6−ト
リメチルフェニルスルホニル)−5−エチルフェノー
ル、(36)2,4−ビス(4−シクロヘキシルフェニ
ルスルホニル)−5−エチルフェノール、(37)2,
4−ビス(フェニルスルホニル)−5−イソプロピルフ
ェノール、(38)2,4−ビス(4−メチルフェニル
スルホニル)−5−イソプロピルフェノール、(39)
2,4−ビス(4−エチルフェニルスルホニル)−5−
イソプロピルフェノール、(40)2,4−ビス(4−
イソプロピルフェニルスルホニル)−5−イソプロピル
フェノール、(41)2,4−ビス(2−メチルフェニ
ルスルホニル)−5−イソプロピルフェノール、(4
2)2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−イソプロピルフェノール、(43)2,4−
ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)−5−イ
ソプロピルフェノール、(44)2,4−ビス(4−ク
ロロフェニルスルホニル)−5−イソプロピルフェノー
ル、(45)2,4−ビス(4−ブロモフェニルスルホ
ニル)−5−イソプロピルフェノール、(46)2,4
−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)−5−
イソプロピルフェノール、(47)2,4−ビス(2,
4、6−トリメチルフェニルスルホニル)−5−イソプ
ロピルフェノール、及び(48)2,4−ビス(4−シ
クロヘキシルフェニルスルホニル)−5−イソプロピル
フェノール等が挙げられる。これらのうち特に好ましい
化合物は(1)〜(5)、(8)、(9)、(14)、
(15)、(16)、(19)、(20)、(25)〜
(28)、(31)、及び(32)等である。
The general formula (1) obtained by the production method of the present invention
The sulfonyl compound represented by (1) 2,4-
Bis (phenylsulfonyl) -5-methylphenol,
(2) 2,4-bis (phenylsulfonyl) phenol, (3) 2,4-bis (4-methylphenylsulfonyl) phenol, (4) 2,4-bis (4-ethylphenylsulfonyl) phenol, (5 ) 2,4-bis (4
-Isopropylphenylsulfonyl) phenol,
(6) 2,4-bis (2-methylphenylsulfonyl)
Phenol, (7) 2,4-bis (2,5-dimethylphenylsulfonyl) phenol, (8) 2,4-bis (2,4-dimethylphenylsulfonyl) phenol,
(9) 2,4-bis (4-chlorophenylsulfonyl)
Phenol, (10) 2,4-bis (4-bromophenylsulfonyl) phenol, (11) 2,4-bis (3,4-dimethylphenylsulfonyl) phenol,
(12) 2,4-bis (2,4,6-trimethylphenylsulfonyl) phenol, (13) 2,4-bis (4
-Cyclohexylphenylsulfonyl) phenol,
(14) 2,4-bis (4-methylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (15) 2,4-bis (4-ethylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (16) 2,4-bis (4-isopropylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (17) 2,
4-bis (2-methylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (18) 2,4-bis (2,5-dimethylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (1
9) 2,4-bis (2,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (20) 2,4-bis (4-chlorophenylsulfonyl) -5-methylphenol, (21) 2,4-bis (5-bromophenylsulfonyl) -5-methylphenol, (22) 2,4-bis (3,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (23) 2,4-bis (2,4,6 -Trimethylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (24) 2,4-bis (4-cyclohexylphenylsulfonyl) -5-methylphenol, (25) 2,
4-bis (phenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (26) 2,4-bis (4-methylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (27) 2,4-bis (4-ethylphenylsulfonyl)- 5-ethylphenol, (28) 2,4-bis (4-isopropylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (29) 2
4-bis (2-methylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (30) 2,4-bis (2,5-dimethylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (3
1) 2,4-bis (2,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (32) 2,4-bis (4-chlorophenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (33) 2,4-bis (4-bromophenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (34) 2,4-bis (3,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (35) 2,4-bis (2,4,6 -Trimethylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (36) 2,4-bis (4-cyclohexylphenylsulfonyl) -5-ethylphenol, (37) 2,
4-bis (phenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (38) 2,4-bis (4-methylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (39)
2,4-bis (4-ethylphenylsulfonyl) -5
Isopropylphenol, (40) 2,4-bis (4-
Isopropylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (41) 2,4-bis (2-methylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (4
2) 2,4-bis (2,5-dimethylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (43) 2,4-
Bis (2,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (44) 2,4-bis (4-chlorophenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, (45) 2,4-bis (4-bromophenylsulfonyl) ) -5-isopropylphenol, (46) 2,4
-Bis (3,4-dimethylphenylsulfonyl) -5-
Isopropyl phenol, (47) 2,4-bis (2,
4,6-trimethylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol, and (48) 2,4-bis (4-cyclohexylphenylsulfonyl) -5-isopropylphenol. Among these, particularly preferred compounds are (1) to (5), (8), (9), (14),
(15), (16), (19), (20), (25)-
(28), (31), and (32).

【0025】[0025]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をより詳細に
説明する。
The present invention will be described below in more detail with reference to examples.

【0026】(実施例1)1リットル容反応機に、ベン
ゼンスルホニルクロライド370gr、スルホラン80
gr及び無水塩化第三鉄1grを仕込み、窒素ガス雰囲
気下、攪拌しながら140℃まで昇温させ、同温度でm
−クレゾール108grを3時間にわたって滴下した。
滴下終了後、同温度で24時間保持して反応を完結させ
た。
Example 1 In a 1 liter reactor, 370 gr of benzenesulfonyl chloride and 80 of sulfolane were added.
gr and anhydrous ferric chloride (1 gr) were charged, and the temperature was raised to 140 ° C. while stirring under a nitrogen gas atmosphere.
-108 gr of cresol were added dropwise over 3 hours.
After the completion of the dropwise addition, the temperature was maintained at the same temperature for 24 hours to complete the reaction.

【0027】次に、上記の方法で得た反応液に窒素ガス
を吹き込み、酸性ガスを除去した後スルホラン190g
rを加え加温溶解し、攪拌しながらメタノール270g
rをゆっくりと滴下し結晶物を析出させた。このように
して得られた溶液を冷却して、析出した結晶を濾別、メ
タノール洗浄、乾燥し、白色結晶粉末330grを得
た。収率はm−クレゾールに対して85%(理論、以下
同じ)、融点190℃、純度99.7%(液体クロマト
グラフィーによる、以下同じ)であった。このもののI
R分析、H−NMR分析及び元素分析(表1)の結果か
ら、本品は2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5−
メチルフェノールであることが確認された。
Next, nitrogen gas was blown into the reaction solution obtained by the above method to remove acid gas, and then 190 g of sulfolane was added.
270 g of methanol while stirring and dissolving with heating.
r was slowly added dropwise to precipitate crystals. The solution thus obtained was cooled, and the precipitated crystals were separated by filtration, washed with methanol, and dried to obtain 330 gr of white crystal powder. The yield was 85% based on m-cresol (theory, the same applies hereinafter), the melting point was 190 ° C., and the purity was 99.7% (the same applies hereinafter by liquid chromatography). I of this one
From the results of R analysis, H-NMR analysis and elemental analysis (Table 1), the product was found to be 2,4-bis (phenylsulfonyl) -5-
It was confirmed to be methylphenol.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】(実施例2〜8)実施例1で用いたm−ク
レゾール及びベンゼンスルホニルクロライドを、それぞ
れ表2に示す化合物及び量に変更した以外は、実施例1
と同様に操作した。それらの結果を表3に示す。
Examples 2 to 8 Example 1 was repeated except that m-cresol and benzenesulfonyl chloride used in Example 1 were changed to the compounds and amounts shown in Table 2, respectively.
The same operation was performed. Table 3 shows the results.

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】[0031]

【表3】 [Table 3]

【0032】(比較例1)1リットル容反応機に、ベン
ゼンスルホニルクロライド370gr及び1,2−ジク
ロロエタン100gr及び無水塩化第三鉄1grを仕込
み、窒素ガス雰囲気下、撹拌しながら90℃まで昇温さ
せ、同温度でm−クレゾール108grを3時間にわた
って滴下した。滴下終了後、同温度で24時間保持して
反応を終えた。
(Comparative Example 1) 370 gr of benzenesulfonyl chloride, 100 gr of 1,2-dichloroethane and 1 gr of anhydrous ferric chloride were charged into a 1-liter reactor, and heated to 90 ° C. while stirring in a nitrogen gas atmosphere. At the same temperature, 108 gr of m-cresol was added dropwise over 3 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was maintained at the same temperature for 24 hours to complete the reaction.

【0033】次に、上記の方法で得た反応液中に副生し
た、エステル化合物を加水分解するため、5%水酸化ナ
トリウム水溶液1000gr中に流し込み、95℃で2
時間撹拌した後、濾過した。その濾液を、90℃に調整
した6%希硫酸1000gr中に撹拌しながらゆっくり
と滴下して結晶物を析出させた。その結晶物を濾別し、
水1リットルで水洗した後、その結晶物をメチルイソブ
チルケトン500ml中に加温溶解し、触媒を除去する
ため、水100mlを加えて、油分を水洗した。
Next, in order to hydrolyze the ester compound by-produced in the reaction solution obtained by the above-mentioned method, the solution was poured into 1,000 g of a 5% aqueous sodium hydroxide solution at 95 ° C. for 2 hours.
After stirring for an hour, the mixture was filtered. The filtrate was slowly dropped into 1000 gr of 6% diluted sulfuric acid adjusted to 90 ° C. while stirring to precipitate crystals. The crystal is filtered off,
After washing with 1 liter of water, the crystal was heated and dissolved in 500 ml of methyl isobutyl ketone, and 100 ml of water was added to remove the catalyst, and the oil was washed with water.

【0034】油分を分取し、更に油分を水100mlで
2回水洗した。次に、油分中の水を共沸脱水により除去
した後、活性炭3gr及び活性白土1grを用いて脱色
した。このようにして得られた溶液を冷却し、析出した
結晶を濾別、乾燥し、白色結晶性粉末150grを得
た。収率はm−クレゾールに対して39%、融点190
℃、純度99.7%であった。
The oil was separated, and the oil was washed twice with 100 ml of water. Next, water in the oil was removed by azeotropic dehydration, and then decolorized using 3 gr of activated carbon and 1 gr of activated clay. The solution thus obtained was cooled, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 150 gr of white crystalline powder. The yield was 39% based on m-cresol, melting point 190
° C., purity 99.7%.

【0035】上記の方法で得られた白色結晶粉末のIR
分析、H−NMR分析及び元素分析の結果から、上記の
方法で得られた白色結晶粉末は2,4−ビス(フェニル
スルホニル)−5−メチルフェノールであることが確認
された。
The IR of the white crystalline powder obtained by the above method
From the results of the analysis, H-NMR analysis and elemental analysis, it was confirmed that the white crystal powder obtained by the above method was 2,4-bis (phenylsulfonyl) -5-methylphenol.

【0036】前記の実施例と比較例とを対照すれば明ら
かなように、本発明の製造方法は比較例1に記載の製造
方法に比べ工程が少なく、高収率、高品質の目的物が得
られ、且つ廃水等の廃棄物の処理の必要が少なく、工業
的に有利な製造方法であることがわかる。
As is clear from the comparison between the above Examples and Comparative Examples, the production method of the present invention has fewer steps than the production method described in Comparative Example 1, and a high-yield, high-quality target product can be obtained. Obtained, and there is little need to treat wastes such as wastewater, and it is understood that this is an industrially advantageous production method.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の製造方法により、感熱記録材料
用顕色剤や各種工業原料、農薬・医薬の中間体及び高分
子添加剤等として有用性が高い新規なスルホニル化合物
を、少ない工程数で、且つ高収率、高品質で、工業的に
有利に製造し得ることが可能となった。
According to the production method of the present invention, a novel sulfonyl compound having high utility as a color developer for heat-sensitive recording materials, various industrial raw materials, intermediates for agricultural chemicals and pharmaceuticals, and polymer additives can be prepared in a small number of steps. , And can be produced industrially advantageously with high yield and high quality.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 亮一 兵庫県加古川市野口町水足671番地の4 ハリマ化成株式会社中央研究所内 (72)発明者 小田 茂 大阪府茨木市五日市1丁目10番24号 三光 株式会社工場製品事業本部研究所内 (72)発明者 川端 英二 大阪府茨木市五日市1丁目10番24号 三光 株式会社工場製品事業本部研究所内 (72)発明者 高口 昌之 大阪府茨木市五日市1丁目10番24号 三光 株式会社工場製品事業本部研究所内 (72)発明者 森 高章 大阪府茨木市五日市1丁目10番24号 三光 株式会社工場製品事業本部研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC62 AD15 BA06 BA07 BA19 BA37 BA67 BB14 TA02 TB13 TB42 TC32 4H039 CA80 CD20 CL25  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Ryoichi Fujii 671 Mizuashi, Noguchi-cho, Kakogawa-shi, Hyogo Pref. Harima Chemicals Central Research Laboratory (72) Inventor Shigeru Oda 1-10-24, Itikaichi, Ibaraki-shi, Osaka No. Sanko Co., Ltd., Factory Product Business Unit Research Laboratory (72) Inventor Eiji Kawabata 1-10-24, Itokaichi, Ibaraki-shi, Osaka Prefecture Sanko Co., Ltd. Factory Product Business Headquarters Research Laboratory (72) Inventor Masayuki Takaguchi, Ikka City, Osaka Prefecture 1-10-24, Sanko Co., Ltd., Factory Product Business Headquarters Research Laboratory (72) Inventor Takaaki Mori 1-10-24, Itikaichi, Ibaraki-shi, Osaka Sanko Co., Ltd. Factory Product Business Headquarters Research Laboratory F-term (reference) 4H006 AA02 AC62 AD15 BA06 BA07 BA19 BA37 BA67 BB14 TA02 TB13 TB42 TC32 4H039 CA80 CD20 CL25

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(2) 【化1】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表す)で示
されるフェノール化合物と、一般式(3) 【化2】 (式中、Yはハロゲン原子を表し、R1、R2及びR3
同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表
す)で示されるスルホニルハライド化合物とを、一般式
(4) 【化3】 (式中、R4は低級アルキル基又はR4同士が環を形成し
たテトラメチレン基を表す)で示されるスルホニル化合
物を溶媒としてルイス酸系触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とする、一般式(1) 【化4】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表し、
1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシク
ロアルキル基を表す)で示されるスルホニル化合物の製
造方法。
1. A compound of the general formula (2) (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) and a phenol compound represented by the general formula (3): Wherein Y represents a halogen atom, and R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group. The compound is represented by the general formula (4): (Wherein, R 4 represents a lower alkyl group or a tetramethylene group in which R 4 forms a ring), and the reaction is carried out in the presence of a Lewis acid catalyst using a sulfonyl compound represented by the formula: Formula (1) (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group,
R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group).
【請求項2】 一般式(2) 【化5】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表す)で示
されるフェノール化合物と、一般式(3) 【化6】 (式中、Yはハロゲン原子を表し、R1、R2及びR3
同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表
す)で示されるスルホニルハライド化合物とを、一般式
(4) 【化7】 (式中、R4は低級アルキル基又はR4同士が環を形成し
たテトラメチレン基を表す)で示されるスルホニル化合
物を溶媒としてルイス酸系触媒の存在下に反応させて得
られる縮合反応混合物に、低級アルコールを添加して目
的化合物を析出せしめることを特徴とする、一般式
(1) 【化8】 (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表し、
1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシク
ロアルキル基を表す)で示されるスルホニル化合物の製
造方法。
2. A compound of the general formula (2) (Wherein X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group) and a phenol compound represented by the general formula (3): Wherein Y represents a halogen atom, and R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group. The compound is represented by the general formula (4): (Wherein R 4 represents a lower alkyl group or a tetramethylene group in which R 4 forms a ring) with a condensation reaction mixture obtained by reacting a sulfonyl compound as a solvent in the presence of a Lewis acid catalyst. Wherein the desired compound is precipitated by adding a lower alcohol to the compound of the general formula (1). (Wherein, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group,
R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group or a cycloalkyl group).
【請求項3】 一般式(2)で示されるフェノール化合
物がフェノール、m−クレゾール、m−エチルフェノー
ル又はm−イソプロピルフェノールであり、一般式
(3)で示されるスルホニルハライド化合物がベンゼン
スルホニルクロライド、トシルクロライド、4−エチル
ベンゼンスルホニルクロライド又は4−イソプロピルベ
ンゼンスルホニルクロライドであり、一般式(4)で示
されるスルホニル化合物がスルホラン、ジメチルスルホ
ン又はジエチルスルホンである請求項1又は2に記載の
スルホニル化合物の製造方法。
3. The phenol compound represented by the general formula (2) is phenol, m-cresol, m-ethylphenol or m-isopropylphenol, and the sulfonyl halide compound represented by the general formula (3) is benzenesulfonyl chloride. The sulfonyl compound according to claim 1, wherein the sulfonyl compound is tosyl chloride, 4-ethylbenzenesulfonyl chloride or 4-isopropylbenzenesulfonyl chloride, and the sulfonyl compound represented by the general formula (4) is sulfolane, dimethyl sulfone or diethyl sulfone. Method.
【請求項4】 ルイス酸系触媒が塩化鉄、塩化アルミニ
ウム、塩化亜鉛又は塩化マグネシウムである請求項1〜
3のいずれかに記載のスルホニル化合物の製造方法。
4. The Lewis acid-based catalyst is iron chloride, aluminum chloride, zinc chloride or magnesium chloride.
3. The method for producing a sulfonyl compound according to any one of 3.
【請求項5】 前記低級アルコールがメタノール、エタ
ノール、イソプロパノールである請求項2〜4のいずれ
かに記載のスルホニル化合物の製造方法。
5. The method for producing a sulfonyl compound according to claim 2, wherein the lower alcohol is methanol, ethanol, or isopropanol.
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