JP2002050032A - Magnetic recording medium, method for producing the same and method for inspecting the same - Google Patents

Magnetic recording medium, method for producing the same and method for inspecting the same

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JP2002050032A
JP2002050032A JP2000231114A JP2000231114A JP2002050032A JP 2002050032 A JP2002050032 A JP 2002050032A JP 2000231114 A JP2000231114 A JP 2000231114A JP 2000231114 A JP2000231114 A JP 2000231114A JP 2002050032 A JP2002050032 A JP 2002050032A
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magnetic recording
recording medium
protective film
magnetic
gas
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順也 加藤
Mikio Suzuki
幹夫 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inspecting the lowness of adhesion of an extraneous substance and to provide a magnetic recording medium to which an extraneous substance is less liable to adhere and a method for producing the medium. SOLUTION: A carbon-base protective film is formed on a disk obtained by forming at least a nonmagnetic underlayer and a magnetic layer on a nonmagnetic substrate and the adhesive property of an extraneous substance to the surface of the protective film of the resulting magnetic recording medium is inspected. In this inspection method, the magnetic recording medium is allowed to stand in an atmosphere of a gas for inspection and the amount of the gas and/or a gas component-containing formed compound extracted by a solvent for inspection is compared with a previously set reference value. The magnetic recording medium is produced in such a way that the amount of the extract is adjusted to the reference value or above in the inspection method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、そ
の製造方法および検査方法に関し、特に耐久性の特性の
良い磁気記録媒体、その製造方法および検査方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, a method for manufacturing the same and a method for inspecting the same, and more particularly to a magnetic recording medium having good durability, a method for manufacturing the same and a method for inspecting the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録再生装置の1種であるハードデ
ィスク装置は、磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報
を記録再生する磁気ヘッドとを備え、現在その記録密度
は年率60%で増えており今後もその傾向は続くと言わ
れている。高記録密度に適した磁気記録用ヘッドの開
発、磁気記録媒体の開発が進められている。
2. Description of the Related Art A hard disk drive, which is one type of magnetic recording / reproducing apparatus, includes a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium, and its recording density is currently increasing at an annual rate of 60%. It is said that the trend will continue in the future. Development of a magnetic recording head suitable for a high recording density and development of a magnetic recording medium have been advanced.

【0003】磁気記録再生装置などに用いられる磁気記
録媒体は、基本的に以下の構成になっている。Al合金
の上にNi−Pメッキした基板やガラスの基板の上にス
パッター法等で、CrもしくはCrW、CrMoなどの
Cr合金をCo合金層の結晶配向用の非磁性下地層とし
て成膜し、その上に磁性層としてCo合金の薄膜を成膜
する、さらに保護膜としてカーボン等を成膜し、パーフ
ルオロポリエーテルなどの潤滑剤を必要に応じて塗布す
る。
A magnetic recording medium used for a magnetic recording / reproducing apparatus or the like basically has the following configuration. A Cr alloy such as Cr or CrW or CrMo is formed as a non-magnetic underlayer for crystal orientation of a Co alloy layer by a sputtering method or the like on a substrate that is Ni-P plated or a glass substrate on an Al alloy, A Co alloy thin film is formed thereon as a magnetic layer, and carbon or the like is formed as a protective film, and a lubricant such as perfluoropolyether is applied as necessary.

【0004】近年では、磁気記録媒体を高記録密度化す
ることが要求されており、スペーシングロス(磁気記録
用ヘッドと磁性層との距離)を低減し得る磁気記録媒体
が望まれている。スペーシングロスを低減させるために
はカーボン保護膜を薄くし、さらに磁気記録用ヘッドの
浮上量を低減させることが検討されている。カーボン保
護膜の形成方法としては、スパッタ法やプラズマCVD
法の採用が検討されている。
In recent years, it has been required to increase the recording density of a magnetic recording medium, and a magnetic recording medium capable of reducing a spacing loss (the distance between a magnetic recording head and a magnetic layer) has been desired. In order to reduce the spacing loss, it has been studied to make the carbon protective film thinner and to further reduce the flying height of the magnetic recording head. As a method of forming the carbon protective film, there are a sputtering method and a plasma CVD method.
The adoption of the law is being considered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】耐久性の評価の一つに
フライスティクション特性がある。フライスティクショ
ン特性とは、磁気記録媒体を回転させて磁気ヘッドを浮
上させた状態を所定時間維持した後にCSS(Cont
act−Start−Stop)させたときのスティク
ション値で表される特性のことである。フライスティク
ション特性が低下すると、ヘッドの飛行安定性が低下
し、保護膜とヘッドの接触によるヘッドクラッシュなど
の不都合が生じやすくなる。特に、高記録密度に対応し
た媒体はヘッドの浮上量をより低下させた状態で使用さ
れるので、よりフライスティクション特性の良いものが
求められている。
One of the evaluations of durability is a fly stiction characteristic. The fly stiction characteristic refers to a CSS (Cont.) After a magnetic recording medium is rotated and a magnetic head is floated for a predetermined time.
Act-Start-Stop) is a characteristic represented by a stiction value. When the fly stiction characteristics are reduced, the flight stability of the head is reduced, and inconveniences such as a head crash due to contact between the protective film and the head are likely to occur. In particular, since a medium corresponding to a high recording density is used in a state where the flying height of the head is further reduced, a medium having better fly stiction characteristics is required.

【0006】しかしながら、上記従来技術によって作製
された磁気記録媒体は、フライスティクション特性が低
下することがあった。その原因の一つとして、前述した
磁気記録再生装置内で付着物が磁気記録媒体の表面に付
着し、それらが長期間使用している間に磁気ヘッドに付
着するために、フライスティクション特性が低下するこ
とが考えられる。付着物の1つとして、磁気記録再生装
置内で発生するガス成分を含んだ化合物あるいは該ガス
成分が装置内の金属などのイオン性物質と反応した化合
物が考えられる。例えば、磁気記録再生装置内に用いら
れる各種部材には、樹脂など可塑性のある材料あるいは
光硬化性樹脂が用いられている。これらの材料からはフ
タル酸エステルなどの可塑剤や光反応開始剤などの化合
物が不純物ガスとして発生する。さらにコネクター部の
ピンに用いられる滑剤も不純物ガスとして磁気記録再生
装置内に存在する。磁気記録再生装置はその内部は清浄
度を保つために外気とは隔離された構造となっているた
め、内部で発生したガスは装置内に何らかの形態で残留
することになり一部が付着物となると考えられる。ヘッ
ドに付着物が付着すると実際の磁気記録媒体への書き込
み、または磁気記録媒体からの読み出しが不充分になる
おそれがある。
[0006] However, the magnetic recording medium manufactured by the above-described conventional technique sometimes has a reduced fly stiction characteristic. One of the causes is that the adhered substances adhere to the surface of the magnetic recording medium in the above-described magnetic recording / reproducing apparatus, and adhere to the magnetic head during long-term use, so that fly stiction characteristics are reduced. It is conceivable that it will decrease. One of the deposits may be a compound containing a gas component generated in the magnetic recording / reproducing device or a compound in which the gas component has reacted with an ionic substance such as a metal in the device. For example, a plastic material such as a resin or a photocurable resin is used for various members used in the magnetic recording / reproducing apparatus. From these materials, compounds such as a plasticizer such as a phthalic acid ester and a photoreaction initiator are generated as impurity gases. Further, a lubricant used for the pins of the connector portion also exists as an impurity gas in the magnetic recording / reproducing apparatus. The magnetic recording / reproducing device has a structure in which the inside is isolated from the outside air to maintain the cleanliness.Therefore, the gas generated inside will remain in the device in some form, and a part of the gas will It is considered to be. When the deposits adhere to the head, there is a possibility that actual writing on the magnetic recording medium or reading from the magnetic recording medium becomes insufficient.

【0007】そのため、高記録密度の磁気記録再生装置
内で付着物がより付着しにくい磁気記録媒体が求められ
ている。また、磁気記録媒体においてこれらの付着物の
付着しにくさを検査する方法が無いのが現状である。
Therefore, there is a need for a magnetic recording medium to which deposits are less likely to adhere in a high recording density magnetic recording / reproducing apparatus. Further, at present, there is no method for inspecting the difficulty of adhesion of these deposits on a magnetic recording medium.

【0008】本発明は、これらの状況を鑑みてなされた
もので、付着物の付着しにくさを検査する方法を提供
し、また付着物がより付着しにくい磁気記録媒体、その
製造方法およびそれを用いた磁気記録再生装置を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of these circumstances, and provides a method for inspecting the difficulty of adhering matter, a magnetic recording medium to which adhering matter is less likely to adhere, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing the same. It is an object of the present invention to provide a magnetic recording / reproducing device using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、磁気記録再生装置内で発生するガスと磁
気記録媒体のカーボン保護膜上に付着する付着物とカー
ボン保護膜の特性を検討し、その知見に基づいて本発明
に至った。 1)上記課題を解決するための第1の発明は、非磁性基
板上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層を形成したデ
ィスク上に、カーボンを主成分とする保護膜を形成する
磁気記録媒体の該保護膜表面への付着物の付着特性の検
査方法において、該磁気記録媒体を検査用ガス雰囲気中
に放置後検査用溶剤で抽出される該検査用ガス成分およ
び/または検査ガス成分を含んで形成された化合物成分
の抽出量が予め設定した基準値以上であることを判定す
ることを特徴とする磁気記録媒体の検査方法である。 2)上記課題を解決するための第2の発明は、磁気記録
媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッ
ドとを備えた磁気記録再生装置内にて発生するガスを検
査用ガス成分とすることを特徴とする1)に記載の検査
方法である。 3)上記課題を解決するための第3の発明は、検査用ガ
ス成分が、シロキサン系ガス、アクリル酸系ガス、気化
したメラミン、気化した滑剤、気化した高級脂肪酸、気
化したフタル酸エステル、気化したジオクチルフタレー
トから選ばれた1つまたは2つ以上の組み合わせである
ことを特徴とする1)または2)に記載の検査方法であ
る。 4)上記課題を解決するための第4の発明は、検査用ガ
ス成分を磁気記録再製装置の内部に使用される部材から
発生するガス成分とすることを特徴とする1)乃至3)
のいずれか1項に記載の検査方法である。 5)上記課題を解決するための第5の発明は、検査用溶
剤が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、水から選ばれた1つまたは2つ以上の組み合わせで
あることを特徴とする1)乃至4)のいずれか1項に記
載の検査方法。 6)上記課題を解決するための第6の発明は、抽出成分
をメラミンとしたときの基準値が0.06[μg/10
0cm2]であることを特徴とする1)乃至5)のいず
れか1項に記載の検査方法である。 7)上記課題を解決するための第7の発明は、非磁性基
板上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層を形成した上
に、カーボンを主成分とする保護膜を形成した磁気記録
媒体において、該磁気記録媒体を検査用ガス雰囲気中に
放置後検査用溶剤で抽出される該検査用ガス成分および
/または検査ガス成分を含んで形成された化合物成分の
抽出量が基準値以上である磁気記録媒体である。 8)上記課題を解決するための第8の発明は、抽出成分
をメラミンとしたときの基準値が0.06[μg/10
0cm2]であることを特徴とする7)に記載の磁気記
録媒体である。 9)上記課題を解決するための第9の発明は、カーボン
を主成分とする保護膜の表面の赤外吸収曲線の炭素−水
素結合由来のピーク強度値が0.055以下であること
を特徴とする7)または8)のいずれか1項に記載の磁
気記録媒体である。 10)上記課題を解決するための第10の発明は、カー
ボンを主成分とする保護膜の窒素炭素比が5〜40at
%であることを特徴とする7)乃至9)のいずれか1項
に記載の磁気記録媒体である。 11)上記課題を解決するための第11の発明は、カー
ボンを主成分とする保護膜の表面のId/Igの値が
3.5以下であることを特徴とする7)乃至10)のい
ずれか1項に記載の磁気記録媒体である。 12)上記課題を解決するための第12の発明は、非磁
性基板上に、少なくとも非磁性下地層、磁性層を形成し
たディスク上に、カーボンを主成分とする保護膜を形成
する磁気記録媒体の製造方法において、該磁気記録媒体
を検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される
該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を含んで
形成された化合物成分の抽出量が基準値以上であるよう
にすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法であ
る。 13)上記課題を解決するための第13の発明は、カー
ボンを主成分とする保護膜の形成方法を、ディスクにバ
イアスを印加しながら保護膜を形成するスパッタ法を含
むものとしたことを特徴とする12)に記載の磁気記録
媒体の製造方法である。 14)上記課題を解決するための第14の発明は、カー
ボンを主成分とする保護膜の形成方法を炭化水素を含む
反応ガスを原料としたプラズマCVD法を含むものとし
たことを特徴とする12)に記載の磁気記録媒体の製造
方法である。 15)上記課題を解決するための第15の発明は、カー
ボンを主成分とする保護膜の形成方法を炭化水素を含む
反応ガスを原料としたプラズマCVD法による形成工程
とディスクにバイアスを印加しながら保護膜を形成する
スパッタ法による形成工程を含むことを特徴とする1
2)に記載の磁気記録媒体の製造方法である。 16)上記課題を解決するための第16の発明は、磁気
記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気
ヘッドとを備え、該磁気記録媒体を7)乃至11)のい
ずれか1項に記載の磁気記録媒体とすることを特徴とす
る磁気記録再生装置である。 本明細書中で、原子%はat%とも表記する。本明細書
中で1nm=10Åである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the gas generated in the magnetic recording / reproducing apparatus, the deposits adhering on the carbon protective film of the magnetic recording medium and the carbon protective film are not affected. The characteristics were examined, and the present invention was reached based on the findings. 1) A first invention for solving the above-mentioned problem is a magnetic recording medium in which a protective film containing carbon as a main component is formed on a non-magnetic substrate on which at least a non-magnetic underlayer and a magnetic layer are formed. In the method for inspecting the adhesion characteristics of the deposit on the surface of the protective film, the method further comprises the step of leaving the magnetic recording medium in an atmosphere of an inspection gas and then extracting the inspection gas component and / or the inspection gas component extracted with an inspection solvent. A method for inspecting a magnetic recording medium, wherein it is determined that the extraction amount of the compound component formed in step (a) is equal to or greater than a predetermined reference value. 2) A second invention for solving the above-mentioned problem is a test gas for generating a gas generated in a magnetic recording / reproducing apparatus including a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium. The inspection method according to 1), wherein the inspection method comprises a component. 3) A third invention for solving the above-mentioned problem is that the test gas components are a siloxane-based gas, an acrylic acid-based gas, a vaporized melamine, a vaporized lubricant, a vaporized higher fatty acid, a vaporized phthalate, a vaporized phthalate, The inspection method according to 1) or 2), wherein one or a combination of two or more dioctyl phthalates is used. 4) A fourth invention for solving the above problem is characterized in that the inspection gas component is a gas component generated from a member used inside the magnetic recording reproduction apparatus 1) to 3).
The inspection method according to any one of the above. 5) A fifth invention for solving the above-mentioned problem is characterized in that the test solvent is one or a combination of two or more selected from methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and water. The inspection method according to any one of 4). 6) According to a sixth aspect of the invention for solving the above-mentioned problem, the reference value when the extraction component is melamine is 0.06 [μg / 10
0 cm 2 ]. The inspection method according to any one of 1) to 5) above. 7) A seventh aspect of the present invention for solving the above-mentioned problem is a magnetic recording medium in which at least a nonmagnetic underlayer and a magnetic layer are formed on a nonmagnetic substrate, and a protective film containing carbon as a main component is formed. A magnetic recording medium wherein the amount of the test gas component extracted from the test solvent after the magnetic recording medium is left in the test gas atmosphere and / or the compound component formed including the test gas component is equal to or more than a reference value. It is a recording medium. 8) According to an eighth aspect of the present invention for solving the above-mentioned problem, the reference value when the extraction component is melamine is 0.06 [μg / 10
0 cm 2 ]. 9) A ninth invention for solving the above-mentioned problem is characterized in that a peak intensity value derived from a carbon-hydrogen bond in an infrared absorption curve of a surface of a protective film containing carbon as a main component is 0.055 or less. The magnetic recording medium according to any one of 7) and 8). 10) A tenth invention for solving the above-mentioned problem is that the protective film mainly containing carbon has a nitrogen-carbon ratio of 5 to 40 at.
%, The magnetic recording medium according to any one of 7) to 9). 11) An eleventh invention for solving the above problems is characterized in that the value of Id / Ig on the surface of the protective film containing carbon as a main component is 3.5 or less. 2. A magnetic recording medium according to claim 1. 12) A twelfth invention for solving the above-mentioned problem is a magnetic recording medium in which a protective film containing carbon as a main component is formed on a disk on which at least a nonmagnetic underlayer and a magnetic layer are formed on a nonmagnetic substrate. In the manufacturing method, the extraction amount of the test gas component and / or the compound component formed including the test gas component extracted with the test solvent after leaving the magnetic recording medium in the test gas atmosphere is a reference value. A method of manufacturing a magnetic recording medium characterized by the above. 13) A thirteenth invention for solving the above problem is characterized in that the method of forming a protective film containing carbon as a main component includes a sputtering method of forming a protective film while applying a bias to a disk. (12) A method for manufacturing a magnetic recording medium according to (12). 14) A fourteenth invention for solving the above-mentioned problem is characterized in that the method for forming a protective film containing carbon as a main component includes a plasma CVD method using a reaction gas containing hydrocarbon as a raw material. A method for manufacturing a magnetic recording medium according to 12). 15) According to a fifteenth invention for solving the above-mentioned problems, a method of forming a protective film containing carbon as a main component is performed by a plasma CVD method using a reactive gas containing hydrocarbon as a raw material, and a bias is applied to a disk. Characterized by including a forming step by a sputtering method for forming a protective film while forming the protective film.
A method for manufacturing a magnetic recording medium according to 2). 16) A sixteenth invention for solving the above problems includes a magnetic recording medium, and a magnetic head for recording and reproducing information on and from the magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium is any one of 7) to 11). A magnetic recording / reproducing apparatus characterized in that the magnetic recording medium is the magnetic recording medium described in the section. In this specification, atomic% is also described as at%. In the present specification, 1 nm = 10 °.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の検査方法の一実施形態を
説明する。以下まず本発明の検査方法の概略を説明す
る。本発明の検査方法は、試料である磁気記録媒体を検
査用ガス雰囲気中に放置することによりカーボンを主成
分とする保護膜を形成した試料である磁気記録媒体の表
面を検査用ガスに曝露する工程と、曝露後の磁気記録媒
体を検査用溶剤中に浸漬させ抽出する工程と、浸漬後の
検査用溶剤に抽出された該検査用ガス成分量および/ま
たは検査ガスを含んで形成された化合物量の抽出量を測
定する工程と、該抽出量があらかじめ求めておいた基準
値以上であることを判定する工程とを含むものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the inspection method of the present invention will be described. First, the outline of the inspection method of the present invention will be described. In the inspection method of the present invention, the surface of a magnetic recording medium, which is a sample on which a protective film containing carbon as a main component is formed, is exposed to an inspection gas by leaving the magnetic recording medium, which is a sample, in an atmosphere of an inspection gas. A step of immersing the exposed magnetic recording medium in a test solvent and extracting the same, and a compound formed containing the test gas component amount and / or test gas extracted in the test solvent after immersion. The method includes a step of measuring the amount of the extracted amount and a step of determining that the amount of the extracted amount is equal to or greater than a predetermined reference value.

【0011】従来は、保護膜表面に付着物を有する磁気
記録媒体を溶剤中に浸漬させ、その後その溶剤中への抽
出量を測定し、その抽出量が少ないことあるいは基準値
以下であることをもって、付着物量が少ないので付着物
の付着しにくい磁気記録媒体であると考えていた。逆に
本発明の磁気記録媒体は、曝露した後に付着物となりう
る成分である検査用ガス成分および/または検査ガスを
含んで形成された化合物成分が溶剤中に抽出される量が
多いもの、例えば基準値以上であるものとしている。
Conventionally, a magnetic recording medium having a deposit on the surface of a protective film is immersed in a solvent, and then the amount of extraction into the solvent is measured. However, it was considered that the magnetic recording medium had a small amount of deposits and thus did not easily adhere to the deposits. Conversely, the magnetic recording medium of the present invention has a large amount of a test gas component and / or a compound component formed containing a test gas, which is a component that can become a deposit after exposure, extracted into a solvent, for example, It is assumed that it is higher than the reference value.

【0012】ここで抽出量で表面付着物発生量が判定で
きるのは次のようなメカニズムと推定する。図2は、飛
来するガスの総量を変えた時、例えば曝露時間を変えた
時の磁気記録媒体の保護膜の表面の付着物の量を示した
ものである。図中の磁気記録媒体Eにおけるeの範囲、
磁気記録媒体Fのfの範囲は飛来するガスの総量が増え
ても表面に付着物が付着しないことを意味している。す
なわち、磁気記録媒体Fの方がEより飛来したガスの総
量に対して表面に析出物が付着しにくいことを示してい
る。ここで、発明者はこのeの範囲、fの範囲は飛来し
たガスが保護膜の表面に付着せず保護膜の内部に吸着し
た状態と考えた。すなわち、発明者は、内部に吸着でき
る量よりガスの総量が多くなると表面に析出物となって
付着すると考えた。よって、磁気記録媒体Fは磁気記録
媒体Eより保護膜の内部に吸着できる量が多いために表
面に析出物の付着が発生しにくいことになる。ここで、
本発明に従って測定した抽出量は内部の吸着量とするこ
とができる。この抽出量が基準値以上とした本発明の磁
気記録媒体は内部の吸着量が充分に多くなるので表面に
析出物が付着しにくい磁気記録媒体となる。例えば磁気
記録媒体Aを析出物が付着した不良試料として本発明に
従って測定した抽出量を基準値とした場合、本発明の磁
気記録媒体は抽出量が基準値以上であるので内部の吸着
量が多いために表面に析出物が付着しにくい磁気記録媒
体となる。
Here, it is presumed that the following mechanism can determine the amount of surface deposits generated from the amount of extraction. FIG. 2 shows the amount of deposits on the surface of the protective film of the magnetic recording medium when the total amount of incoming gas is changed, for example, when the exposure time is changed. Range of e in the magnetic recording medium E in the figure,
The range of f of the magnetic recording medium F means that no deposits adhere to the surface even if the total amount of incoming gas increases. In other words, this indicates that the magnetic recording medium F is less likely to deposit on the surface with respect to the total amount of gas that has flown than E. Here, the inventor considered that the range of e and the range of f are states in which the flying gas does not adhere to the surface of the protective film but is adsorbed inside the protective film. In other words, the inventor considered that if the total amount of gas is larger than the amount that can be adsorbed inside, it will adhere as a precipitate to the surface. Therefore, since the magnetic recording medium F has a larger amount that can be adsorbed inside the protective film than the magnetic recording medium E, it is less likely that deposits will adhere to the surface. here,
The amount of extraction measured according to the present invention can be the amount of internal adsorption. The magnetic recording medium of the present invention in which the amount of extraction is equal to or more than the reference value is a magnetic recording medium in which precipitates are unlikely to adhere to the surface because the amount of internal adsorption is sufficiently large. For example, when the magnetic recording medium A is used as a defective sample to which precipitates are adhered and the extraction amount measured according to the present invention is used as a reference value, the magnetic recording medium of the present invention has a large internal adsorption amount because the extraction amount is equal to or more than the reference value. As a result, the magnetic recording medium does not easily cause the deposit to adhere to the surface.

【0013】以下具体的な検査手順を説明する。検査対
象の試料として用いる磁気記録媒体の例としては例えば
図1に示すものがあげることができる。この例の磁気記
録媒体は非磁性基板S上に非磁性下地層1、磁性層2、
カーボン保護膜3、潤滑層4を順次形成したものであ
る。
Hereinafter, a specific inspection procedure will be described. An example of a magnetic recording medium used as a sample to be inspected is, for example, the one shown in FIG. The magnetic recording medium of this example has a non-magnetic underlayer 1, a magnetic layer 2,
The carbon protective film 3 and the lubricating layer 4 are sequentially formed.

【0014】最初に、検査用ガス雰囲気中に試料を放置
し表面を該ガスに曝露する。例えば検査用ガスを導入、
排出する機能を有した密封した容器の内部に磁気記録媒
体を放置して、容器内部に検査用ガスを導入する。例え
ば密封した容器としては、磁気記録再生装置を用いる
と、磁気記録媒体を装置内のスピンドルに取り付けるこ
とができるので好ましい。さらに、実際に使用される磁
気記録再生装置と同様にスピンドルを回転させると実際
の使用状態に近い状態で曝露することができるので好ま
しい。回転数は4200〜15000[rpm]の範囲
のいずれかとすることができる。
First, a sample is left in an atmosphere of a test gas, and the surface is exposed to the gas. For example, introducing inspection gas,
The magnetic recording medium is left inside a sealed container having a function of discharging, and an inspection gas is introduced into the container. For example, it is preferable to use a magnetic recording / reproducing device as a sealed container because a magnetic recording medium can be attached to a spindle in the device. Furthermore, it is preferable to rotate the spindle similarly to the magnetic recording / reproducing apparatus actually used, since the exposure can be performed in a state close to the actual use state. The number of rotations can be any of the range of 4200 to 15000 [rpm].

【0015】検査用ガスの濃度は、例えば3.8[μg
/磁気記録再生装置内部空間容積]とすることができる
(シロキサンオリゴマー換算)。または、検査用ガスの
濃度は、例えば15[ng/cm3]とすることができ
る(シロキサンオリゴマー換算)。試験を加速させる点
からは濃度は高い方が好ましい。
The concentration of the test gas is, for example, 3.8 [μg
/ Magnetic recording / reproducing apparatus internal space volume] (in terms of siloxane oligomer). Alternatively, the concentration of the test gas can be, for example, 15 [ng / cm 3 ] (in terms of siloxane oligomer). A higher concentration is preferred from the viewpoint of accelerating the test.

【0016】放置時間は例えば24時間とすることがで
きる。充分に内部に吸着させる点からは放置時間は充分
に長時間であるのが好ましい。
The leaving time can be, for example, 24 hours. It is preferable that the standing time is sufficiently long from the viewpoint of sufficiently adsorbing the inside.

【0017】放置時の温度は例えば磁気記録再生装置の
設置雰囲気を常温とすることができる。試験を加速させ
る点からは温度は高い方が好ましい。
The temperature at the time of standing can be, for example, the ambient temperature of the installation atmosphere of the magnetic recording / reproducing apparatus. A higher temperature is preferable from the viewpoint of accelerating the test.

【0018】放置時の圧力は例えば常圧とすることがで
きる。試験を加速させる点からは加圧させるのが好まし
い。
The pressure during the standing can be, for example, normal pressure. Pressurization is preferred from the viewpoint of accelerating the test.

【0019】また濃度が低い場合は、放置時間、放置温
度などを適宜調整(例えば放置時間72時間、放置温度
40℃)して、充分に内部に吸着させることで可能であ
る。
When the concentration is low, it is possible to adjust the standing time, the standing temperature and the like appropriately (for example, a standing time of 72 hours and a standing temperature of 40 ° C.) to sufficiently adsorb the inside.

【0020】ここで、検査ガスは、磁気記録装置内で発
生するガスとすることができる。また、磁気記録媒体の
表面上に付着する付着物を構成する化合物を形成する成
分とすることができる。そうすることで、磁気記録媒体
が磁気記録装置内で実際に使用された時に曝露される可
能性を再現できるので好ましい。検査ガスは、例えば、
シロキサン系ガス、アクリル酸系ガス、ステアリン酸ガ
ス、気化したメラミン、気化した滑剤、気化した高級脂
肪酸(例えば炭素数10以上)、気化したフタル酸エス
テル、気化したジオクチルフタレートから選ばれるいず
れか1つまたは2つ以上の組み合わせとするのが好まし
い。組み合わせにおいて、実際の使用状態に近い組み合
わせとすることにより、実際の使用状態により近い条件
となるので検査がより実際の使用状態に近い条件で実施
されるので好ましい。ガスを導入する代わりにガスを発
生する部材、例えば粘着テープ、樹脂、フィルムなどを
容器内に磁気記録媒体と一緒に放置することもできる。
例えば、容器として磁気記録再生装置を用いて、内部に
実際に使用される部材をスピンドルに取り付けた磁気記
録媒体と一緒に放置すると実際の使用状態に近い条件で
実施されるので好ましい。スピンドルを回転させるとよ
り実際の使用状態に近い条件で実施されるので好まし
い。またガスの発生源として部材を用いた場合のよう
に、ガス濃度が不明である場合は、放置時間、放置温度
などを適宜調整(例えば放置時間72時間、放置温度4
0℃)して、充分に内部に吸着させることで可能であ
る。
Here, the test gas may be a gas generated in the magnetic recording device. In addition, it can be a component that forms a compound that forms a substance attached to the surface of the magnetic recording medium. This is preferable because the possibility of exposure when the magnetic recording medium is actually used in the magnetic recording apparatus can be reproduced. The test gas is, for example,
Any one selected from siloxane-based gas, acrylic acid-based gas, stearic acid gas, vaporized melamine, vaporized lubricant, vaporized higher fatty acid (for example, having 10 or more carbon atoms), vaporized phthalate, and vaporized dioctyl phthalate Alternatively, a combination of two or more is preferable. In the combination, it is preferable to set the combination close to the actual use state, since the condition becomes closer to the actual use state, and the inspection is performed under the condition closer to the actual use state. Instead of introducing a gas, a member that generates a gas, for example, an adhesive tape, a resin, a film, or the like can be left in the container together with the magnetic recording medium.
For example, it is preferable to use a magnetic recording / reproducing apparatus as a container and leave a member actually used inside together with a magnetic recording medium attached to a spindle, since the operation is performed under conditions close to actual use. It is preferable to rotate the spindle because the operation is performed under conditions closer to actual use conditions. If the gas concentration is unknown, as in the case of using a member as a gas generation source, the leaving time, leaving temperature, etc. are appropriately adjusted (for example, leaving time 72 hours, leaving temperature 4
(0 ° C.), and sufficiently adsorbed inside.

【0021】次に、曝露が完了した試料を以下のように
検査用溶剤に浸漬処理し、検査ガスおよび/または検査
ガス成分を含んで形成された化合物成分を抽出対象成分
として抽出処理を実施する。
Next, the exposed sample is immersed in a test solvent as described below, and an extraction process is performed using a test gas and / or a compound component containing the test gas component as a component to be extracted. .

【0022】抽出溶剤は、抽出対象の成分を溶解するも
のであればいずれでも良い。例えば、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、水から選ばれたいず
れか1種または2種以上の組み合わせものとするのが好
ましい。
The extraction solvent may be any as long as it can dissolve the components to be extracted. For example, it is preferable to use one or a combination of two or more selected from methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and water.

【0023】溶剤の量は、例えば30[ml/磁気記録
媒体]とすることができる。抽出効率の点から量は多く
するのが好ましい。
The amount of the solvent can be, for example, 30 [ml / magnetic recording medium]. It is preferable to increase the amount in terms of extraction efficiency.

【0024】抽出時間は例えば1時間とすることができ
る。溶剤の抽出能力が低い場合は放置時間は長いほど好
ましい。
The extraction time can be, for example, one hour. When the solvent extraction ability is low, the longer the standing time, the better.

【0025】抽出時の温度は使用する検査用溶剤の種類
により適宜設定することができるが、例えば80℃とす
ることができる。抽出効率の点からは温度は高いほど好
ましい。
The temperature at the time of extraction can be appropriately set depending on the type of the test solvent used, and may be, for example, 80 ° C. The higher the temperature, the better from the viewpoint of extraction efficiency.

【0026】つぎに、検査用溶剤中に抽出された抽出対
象成分を例えばGC−MSを用いた一般の定量測定方法
によって定量測定する。
Next, the components to be extracted extracted in the test solvent are quantitatively measured by a general quantitative measuring method using, for example, GC-MS.

【0027】基準値は例えば次のように決める。磁気記
録再生装置に実際に使用した際に要求される耐久性を有
した磁気記録媒体を試料として上記方法で測定した抽出
量値をもとに基準値を決定することができる。逆に、耐
久性の不良となった磁気記録媒体を試料として上記方法
で測定した抽出量値をもとに基準値を決定することもで
きる。例えばフライスティクション試験において不良と
なった磁気記録媒体、あるいは曝露後に表面を観察した
結果付着物が観察された磁気記録媒体を試料として上記
方法で測定した抽出量値をもとに基準値を決定すること
ができる。基準値は測定された抽出量値に安全係数をか
けたものとすることができる。例えば、不良となった磁
気記録媒体をもちいた抽出量がXであった場合、基準値
をXとすることができる。また安全係数としてαを用い
て、基準値を(X×α)とすることができる。
The reference value is determined, for example, as follows. The reference value can be determined based on the extraction amount value measured by the above method using a magnetic recording medium having the durability required when actually used in a magnetic recording / reproducing apparatus as a sample. Conversely, the reference value can be determined based on the amount of extraction measured by the above method using a magnetic recording medium having poor durability as a sample. For example, a reference value is determined based on the amount of extraction measured by the above method using a magnetic recording medium that failed in the fly stiction test or a magnetic recording medium on which the surface was observed after exposure as a sample. can do. The reference value may be a measured extraction value multiplied by a safety factor. For example, if the extraction amount using the defective magnetic recording medium is X, the reference value can be X. The reference value can be set to (X × α) using α as the safety coefficient.

【0028】試料の上記の方法で測定した抽出量と、上
記の方法で決めた基準値とを比較し抽出量が基準値以上
であることを判定することで磁気記録媒体を検査する。
The magnetic recording medium is inspected by comparing the extraction amount of the sample measured by the above method with the reference value determined by the above method and determining that the extraction amount is equal to or more than the reference value.

【0029】従来の方法では抽出量が多いものまたは基
準値以上であるものを不良と判定するので、表面に付着
物が付着しない内部吸着の量が多いものを不良としてし
まうおそれがあったが、本発明の検査方法は、曝露した
後の抽出量が基準値以上であるので内部の吸着量の多い
ものを適切に判定できる。その結果、磁気記録媒体の有
する付着物の付着しにくさの特性を適切に判定できる。
In the conventional method, a sample having a large amount of extraction or a sample having a reference value or more is determined to be defective. Therefore, a sample having a large amount of internal adsorption that does not adhere to the surface may be regarded as defective. According to the inspection method of the present invention, since the amount of extraction after exposure is equal to or more than the reference value, it is possible to appropriately determine a substance having a large internal adsorption amount. As a result, it is possible to appropriately determine the property of the magnetic recording medium that is difficult to adhere.

【0030】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を説明
する。本発明の磁気記録媒体の例としては例えば図1に
示すものがあげることができる。この例の磁気記録媒体
は非磁性基板S上に非磁性下地層1、磁性層2、カーボ
ンを主成分とする保護膜3を形成しその上に潤滑膜4を
形成したものである。
An embodiment of the magnetic recording medium of the present invention will be described. As an example of the magnetic recording medium of the present invention, for example, the one shown in FIG. 1 can be mentioned. The magnetic recording medium of this example has a non-magnetic underlayer 1, a magnetic layer 2, a protective film 3 mainly composed of carbon formed on a non-magnetic substrate S, and a lubricating film 4 formed thereon.

【0031】非磁性基板Sは、磁気記録媒体用基板とし
て一般に用いられるNiPメッキ膜が形成されたアルミ
ニウム合金基板(以下、「NiPメッキAl基板」とも
いう。)、ガラス基板、セラミック基板、可撓性樹脂基
板、またはこれらの基板にNiPまたは他の合金をメッ
キあるいはスパッタ法により蒸着させた基板等とするこ
とができる。
The non-magnetic substrate S is an aluminum alloy substrate having a NiP plating film generally used as a substrate for a magnetic recording medium (hereinafter, also referred to as "NiP plated Al substrate"), a glass substrate, a ceramic substrate, a flexible substrate. Or a substrate obtained by depositing NiP or another alloy on these substrates by plating or sputtering.

【0032】非磁性基板Sの表面の平均粗さRaを1〜
20Å(好ましくは1〜15Å)としたものとするのが
好ましい。
The average roughness Ra of the surface of the non-magnetic substrate S is 1 to
It is preferable that the angle be 20 ° (preferably 1 to 15 °).

【0033】非磁性下地層1としては、従来公知である
非磁性下地層、例えばCr、Ti、Ni、Si、Ta、
Wから選ばれるいずれかの単一組成膜、またはこれらの
いずれかを主成分としその結晶性を損なわない範囲で他
の元素を含有させた合金からなる膜とすることができ
る。非磁性下地層1の働きはCo合金からなる磁性層2
の結晶配向を制御することにあり、なかでも特に、Cr
の単一組成、またはCrにMo、W、V、Ti、Nb、
Siから選ばれるいずれか1種または2種以上を含有さ
せた材料を用いるのが好ましい。上記材料を用いる場
合、その組成は、CrzYとするのが好ましい。ここで
Y=Mo、W、V、Ti、Nb、Siから選ばれるいず
れか1種または2種以上とする。Y含有量(z)は、2
0at%以下とするのが好ましい。10at%以下とす
るのがより好ましい。この含有量を20at%以下とし
た磁気記録媒体は、非磁性下地層1の上に形成されるC
o合金からなる磁性層2の配向性が良くなり、その結
果、保磁力やノイズ特性が良くなり、高記録密度により
適したものとなる。本明細書中で、合金において「主成
分」とは、含有量が50at%を越えていることを意味
する。
As the nonmagnetic underlayer 1, a conventionally known nonmagnetic underlayer such as Cr, Ti, Ni, Si, Ta,
Any single-component film selected from W or a film made of an alloy containing any of these as a main component and containing other elements within a range that does not impair the crystallinity thereof can be used. The function of the non-magnetic underlayer 1 is as follows.
Is to control the crystal orientation of
Or Cr, Mo, W, V, Ti, Nb,
It is preferable to use a material containing one or more selected from Si. When using the above material, the composition is preferably CrzY. Here, Y is one or more selected from Mo, W, V, Ti, Nb, and Si. Y content (z) is 2
It is preferable that the content be 0 at% or less. More preferably, the content is 10 at% or less. The magnetic recording medium having this content of 20 at% or less has a C content formed on the non-magnetic underlayer 1.
The orientation of the magnetic layer 2 made of an o-alloy is improved, and as a result, the coercive force and noise characteristics are improved, and the magnetic layer 2 is more suitable for high recording density. In the present specification, the “main component” in the alloy means that the content exceeds 50 at%.

【0034】また非磁性下地層1の結晶粒径がCo合金
からなる磁性層2の結晶粒径に影響する場合がある。非
磁性下地層1の結晶粒径を細かくする場合は、非磁性下
地層1の材料をCrもしくはCr合金にB、Zrもしく
は Taなどを添加したものとすることで可能である。
In some cases, the crystal grain size of the nonmagnetic underlayer 1 affects the crystal grain size of the magnetic layer 2 made of a Co alloy. In the case where the crystal grain size of the nonmagnetic underlayer 1 is reduced, the material of the nonmagnetic underlayer 1 can be obtained by adding B, Zr, Ta, or the like to Cr or a Cr alloy.

【0035】非磁性下地層1の膜厚は、所定の保磁力が
得られる範囲であれば制限されるものではない。この厚
さは、100〜1000Åが好ましい範囲であり、15
0〜700Åとするとさらに好ましい。非磁性下地層1
の膜厚が上記の範囲を有する磁気記録媒体は、保磁力の
向上効果、SNRの向上効果が確認され、その結果高記
録密度に適した磁気記録媒体となる。
The thickness of the nonmagnetic underlayer 1 is not limited as long as a predetermined coercive force can be obtained. This thickness is preferably in the range of 100 to 1000 °, and 15
More preferably, it is 0-700 °. Non-magnetic underlayer 1
The magnetic recording medium having a film thickness in the above-mentioned range has been confirmed to have the effect of improving the coercive force and the effect of improving the SNR.

【0036】さらに非磁性下地層1は、単層構造をなす
ものとしても良いし、多層構造をなすものとしても良
い。多層構造の場合、材料は上述したもののうち互いに
同一または異なる組成を積層したものとすることもでき
る。例えば、Cr層の上にCrMo合金層(Mo含有量
10at%以下)を積層したものすることができる。
Further, the non-magnetic underlayer 1 may have a single-layer structure or a multi-layer structure. In the case of a multi-layer structure, the materials may be formed by laminating the same or different compositions among those described above. For example, a CrMo alloy layer (Mo content of 10 at% or less) may be laminated on the Cr layer.

【0037】Co合金からなる磁性層2は、Co合金の
組成としてはCo/Cr系、Co/Cr/Ta系、Co
/Cr/Pt系、Co/Cr/Pt/Ta系等の組成の
合金から選ばれるいずれかを含むものとすることができ
る。
The magnetic layer 2 made of a Co alloy has a composition of Co / Cr based, Co / Cr / Ta based,
/ Cr / Pt / Co / Cr / Pt / Ta alloys.

【0038】本発明の磁気記録媒体の有する保磁力は3
000[エルステッド]、好ましくは3500[エルス
テッド]以上であるのが好ましい。
The coercive force of the magnetic recording medium of the present invention is 3
000 [Oersted], preferably 3500 [Oersted] or more.

【0039】Co合金からなる磁性層2の膜厚は、従来
一般に用いられているBrd(残留磁化と膜厚の積[G
μm])のパラメータで30〜100[Gμm]の範囲
で、所定の記録再生信号出力が得られる膜厚とすること
ができる。
The film thickness of the magnetic layer 2 made of a Co alloy is Brd (product of residual magnetization and film thickness [G
μm]), the film thickness can provide a predetermined recording / reproducing signal output within a range of 30 to 100 [G μm].

【0040】Co合金の配向性を改善し、高い保磁力を
得る点から、非磁性下地層1と磁性層2との間に非磁性
中間層を設けることができる。例えば、25Å以下の膜
厚を有するCoCr合金(Cr含有量50at%以下)
層を形成することができる。
In order to improve the orientation of the Co alloy and obtain a high coercive force, a non-magnetic intermediate layer can be provided between the non-magnetic underlayer 1 and the magnetic layer 2. For example, a CoCr alloy having a thickness of 25 ° or less (Cr content 50 at% or less)
Layers can be formed.

【0041】カーボン保護膜3はカーボンを主成分とし
た材料からなる。カーボン保護膜3は検査用ガス雰囲気
中に放置後検査用溶剤で抽出される該検査用ガス成分お
よび/または検査ガス成分を含んで形成された化合物成
分の抽出量が基準値以上のものである。抽出成分をメラ
ミンとするのが好ましい。その場合の基準値は0.06
[μg/100cm2](好ましくは0.12[μg/
100cm2]。より好ましくは0.24[μg/10
0cm2])であるものが好ましい。抽出成分をメラミ
ンとしたのは、磁気記録再生装置内にて析出を引き起こ
す主要な不純物ガスであるからである。メラミンの抽出
量を上記の範囲とするのは以下の理由からである。該値
が上記の範囲内であると、カーボン保護膜3の内部に吸
着できる不純物ガスの量が多くなり、磁気記録媒体の表
面のカーボン保護膜3に析出物が付着しにくくなるから
である。抽出量は、前述した方法により求めることがで
きる。
The carbon protective film 3 is made of a material containing carbon as a main component. The carbon protective film 3 has an extraction amount of the test gas component and / or a compound component formed containing the test gas component which is extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere, and the amount of extraction is equal to or greater than a reference value. . Preferably, the extract component is melamine. The reference value in that case is 0.06
[Μg / 100 cm 2 ] (preferably 0.12 [μg /
100 cm 2 ]. More preferably, 0.24 [μg / 10
0 cm 2 ]). Melamine was used as an extraction component because it is a main impurity gas that causes precipitation in a magnetic recording / reproducing apparatus. The reason for setting the amount of melamine to be in the above range is as follows. If the value is within the above range, the amount of the impurity gas that can be adsorbed inside the carbon protective film 3 increases, so that the deposit hardly adheres to the carbon protective film 3 on the surface of the magnetic recording medium. The amount of extraction can be determined by the method described above.

【0042】保護膜3は、他の成分としては窒素を含ん
で含んでいても良い。その含有量は、ESCA測定法で
測定した窒素炭素比が5〜40%(より好ましくは5〜
25%。さらに好ましくは13〜25%。)であるのが
好ましい。窒素を含んでいるものは、より緻密で硬い膜
であるからである。
The protective film 3 may contain nitrogen as another component. The content thereof is such that the nitrogen-carbon ratio measured by the ESCA measurement method is 5 to 40% (more preferably 5 to 40%).
25%. More preferably, 13 to 25%. ) Is preferred. This is because a film containing nitrogen is a denser and harder film.

【0043】さらにその場合、カーボン保護膜は、磁性
層に接した面の近傍の位置において2at%以下の窒素
濃度を有することが好ましい。この範囲をはずれると、
磁性層の静磁気特性が劣化し保磁力が低下してしまうの
で、磁気記録媒体は低浮上量に適さないものとなってし
まうからである。磁性層内の窒素濃度は例えばSIMS
分析にて求めることができる。近傍とは例えば、磁性層
と保護膜の境界においてCo濃度が磁性層に対応する濃
度の5%となる位置とすることができる。
In this case, the carbon protective film preferably has a nitrogen concentration of 2 at% or less at a position near the surface in contact with the magnetic layer. Outside of this range,
This is because the magnetostatic properties of the magnetic layer are degraded and the coercive force is reduced, so that the magnetic recording medium is not suitable for a low flying height. The nitrogen concentration in the magnetic layer is, for example, SIMS
It can be determined by analysis. The vicinity can be, for example, a position at the boundary between the magnetic layer and the protective film where the Co concentration is 5% of the concentration corresponding to the magnetic layer.

【0044】緻密で硬い保護膜は、付着物の付着を誘発
する摩耗粉の発生、Niコロージョンの発生を抑えるこ
とができる点から好ましい。ここでNiコロージョンと
は、基板上のNi−Pメッキ層からNiが拡散等で磁気
記録媒体の表面に現われることを言い、例えば表面に現
れたNiを抽出してその量を測定することで評価でき
る。
A dense and hard protective film is preferable because it can suppress the generation of abrasion powder and the generation of Ni corrosion which induce the adhesion of deposits. Here, Ni corrosion means that Ni appears on the surface of the magnetic recording medium by diffusion or the like from the Ni-P plating layer on the substrate, and is evaluated by, for example, extracting the Ni appearing on the surface and measuring the amount thereof. it can.

【0045】カーボン保護膜3はFTIR法による炭素
−水素結合由来のピーク強度値が0.055以下(より
好ましくは0.05以下。さらに好ましくは0.04以
下。)であるものが好ましい。この範囲であるカーボン
を主成分とする保護膜は、保護膜の有する潤滑剤との結
合力が強いからである。結合力が強いものは保護膜表面
を潤滑剤が安定して覆い込むことができるので、付着物
の付着を抑えることができるからである。
The carbon protective film 3 preferably has a peak intensity value derived from a carbon-hydrogen bond by the FTIR method of 0.055 or less (more preferably 0.05 or less, further preferably 0.04 or less). This is because the protective film containing carbon as the main component in this range has a strong bonding force with the lubricant of the protective film. This is because a material having a strong bonding force can stably cover the surface of the protective film with a lubricant, so that the adhesion of deposits can be suppressed.

【0046】FTIR法による炭素−水素結合由来のピ
ーク強度値は例えば次のように測定する。パーフルオロ
ポリエーテル系潤滑剤をディスク上に2[nm]の膜厚
で塗布したときに測定されるC−F結合(炭素−フッ素
結合。)の吸収曲線のピーク強度値(例えば1120〜
1350cm-1の範囲に現れるピーク強度値。)が0.
008である感度を有するFTIRを準備する。カーボ
ンを主成分とする保護膜を形成する前の磁気記録媒体の
表面の赤外吸収曲線を測定したものと、保護膜を形成後
の磁気記録媒体の表面の赤外吸収曲線を測定したものか
ら、カーボンを主成分とする保護膜の赤外吸収曲線(以
後「カーボンを主成分とする保護膜赤外吸収曲線」とも
いう。)を求める。次に2800cm-1〜3100cm
-1の範囲に現われる赤外吸収曲線のピークの面積を算出
したものを炭素−水素結合由来のピーク強度値とする。
ここでピーク強度値は吸収量である。
The peak intensity derived from the carbon-hydrogen bond by the FTIR method is measured, for example, as follows. The peak intensity value of an absorption curve of a CF bond (carbon-fluorine bond) measured when a perfluoropolyether-based lubricant is applied on a disk at a film thickness of 2 [nm] (for example, 1120 to 120 nm).
Peak intensity values appearing in the range of 1350 cm -1 . ) Is 0.
Prepare an FTIR with a sensitivity of 008. From the measurement of the infrared absorption curve of the surface of the magnetic recording medium before forming the protective film mainly composed of carbon and the measurement of the infrared absorption curve of the surface of the magnetic recording medium after forming the protective film Then, an infrared absorption curve of a protective film containing carbon as a main component (hereinafter also referred to as “a protective film infrared absorption curve containing carbon as a main component”) is obtained. Next, 2800 cm -1 to 3100 cm
The calculated peak area of the infrared absorption curve appearing in the range of -1 is defined as a peak intensity value derived from a carbon-hydrogen bond.
Here, the peak intensity value is the amount of absorption.

【0047】保護膜3はラマン分光法によるId/Ig
の値が3.5以下(より好ましくは3.0以下。さらに
好ましくは2.5以下。)であるものが好ましい。この
範囲であるカーボンを主成分とする保護膜は、膜が緻密
で硬いからである。Id/Igの値とは測定されたラマ
ンスペクトルを1500cm-1付近にピークを有する分
布(Gバンド)、1400cm-1付近にピークを有する
分布(Dバンド)に分離し、Gバンドの強度の積分値を
Ig、Dバンドの強度の積分値をIdとしてそれらの比
を求めたものである。
The protective film 3 is made of Id / Ig by Raman spectroscopy.
Is preferably 3.5 or less (more preferably 3.0 or less, further preferably 2.5 or less). This is because the protective film containing carbon as a main component in this range is dense and hard. The value of Id / Ig means that the measured Raman spectrum is separated into a distribution having a peak near 1500 cm -1 (G band) and a distribution having a peak near 1400 cm -1 (D band), and integration of the intensity of the G band. The ratio was determined by setting the value to Ig and the integrated value of the intensity of the D band to Id.

【0048】また、保護膜の表面は、水接触角を80度
以下(より好ましくは75度以下。)としたものが好ま
しい。水接触角が80度以下である保護膜は潤滑剤との
結合力が充分であるために、磁気ヘッドに潤滑剤が付着
しにくいからである。
The surface of the protective film preferably has a water contact angle of 80 degrees or less (more preferably 75 degrees or less). This is because the protective film having a water contact angle of 80 degrees or less has a sufficient bonding force with the lubricant, so that the lubricant does not easily adhere to the magnetic head.

【0049】カーボン保護膜3の膜厚は90Å以下とす
ることができる。さらに75Å以下、より好ましく50
Å以下であるのが好ましい。スペーシングロスをより抑
えることができ再生信号の出力を大きくすることができ
るからである。
The thickness of the carbon protective film 3 can be 90 ° or less. 75 ° or less, more preferably 50 °
Å It is preferable that it is not more than. This is because the spacing loss can be further suppressed and the output of the reproduction signal can be increased.

【0050】潤滑膜4は、潤滑剤を塗布して形成したも
のである。潤滑剤は、フォンブリン系潤滑剤(アウジモ
ント社製)、ガルデン系潤滑剤(アウジモント社製)、
デムナム系潤滑剤(ダイキン工業社製)、クライトクス
系潤滑剤(デュポン社製)の中から選ばれるいずれかを
含むものとすることができる。
The lubricating film 4 is formed by applying a lubricant. Lubricants include Fomblin lubricant (Audimont), Galden lubricant (Audimont),
It may contain any one selected from a demnum-based lubricant (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) and a Krytox-based lubricant (manufactured by DuPont).

【0051】上記の効果は、潤滑剤の種類をフォンブリ
ン系潤滑剤とするとより好ましい結果が得られる。これ
はフォンブリン系潤滑剤の分子鎖の両末端が極性官能基
であるので、その基がカーボン保護膜3の活性部位に吸
着しやすいという理由からである。
The above effect can be obtained more favorably when the type of the lubricant is a Fomblin lubricant. This is because both ends of the molecular chain of the Fomblin lubricant are polar functional groups, and the groups are easily adsorbed to the active site of the carbon protective film 3.

【0052】潤滑膜の膜厚は5〜30Åとすることがで
きる。さらに10〜25Åであるのが好ましい。この範
囲にすると適度な潤滑性が得られ、過剰な潤滑剤がヘッ
ドへ付着しないため好ましい。
The thickness of the lubricating film can be 5 to 30 °. More preferably, it is 10 to 25 °. Within this range, appropriate lubricity is obtained, and an excessive amount of lubricant does not adhere to the head, which is preferable.

【0053】本発明の磁気記録媒体にあっては、検査用
ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される該検査用
ガス成分および/または検査ガス成分を含んで形成され
た化合物成分の抽出量が基準値以上であるので、磁気記
録媒体の表面のカーボンを主成分とする保護膜は付着物
が付着しにくくいものとなる。メラミンを抽出成分とし
た場合、基準値は0.06[μg/100cm2](よ
り好ましくは0.12[μg/100cm2]。さらに
好ましくは0.24[μg/100cm2])であるの
が好ましい。その結果本発明の磁気記録媒体にあって
は、ヘッドの浮上量を低減させて使用してもヘッドに付
着物が付着しにくくなるので、ヘッドの浮上量を低減さ
せて使用してもフライスティクション特性が低下しない
磁気記録媒体となる。また、カーボン保護膜3は好まし
くはFTIR法による炭素−水素結合由来のピーク強度
値が0.055以下であるので、保護膜表面を潤滑剤が
安定して覆い込み付着物の付着を抑えることができる。
In the magnetic recording medium of the present invention, extraction of the test gas component and / or the compound component formed containing the test gas component, which is extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere. Since the amount is equal to or more than the reference value, the protective film mainly composed of carbon on the surface of the magnetic recording medium is hardly adhered to by deposits. When melamine is used as the extraction component, the reference value is 0.06 [μg / 100 cm 2 ] (more preferably 0.12 [μg / 100 cm 2 ], and still more preferably 0.24 [μg / 100 cm 2 ]). Is preferred. As a result, in the magnetic recording medium of the present invention, it is difficult for the magnetic recording medium to adhere to the head even when the head is used with a reduced flying height. This results in a magnetic recording medium whose action characteristics do not deteriorate. Further, since the carbon protective film 3 preferably has a peak intensity value derived from carbon-hydrogen bonds by the FTIR method of 0.055 or less, the surface of the protective film can be stably covered with a lubricant to suppress the adhesion of deposits. it can.

【0054】また好ましくは、カーボン保護膜3は、E
SCA測定法で測定した窒素炭素比が5〜40%の含有
量の窒素を含んでいるので、より緻密で硬い膜である。
本発明の磁気記録媒体は、好ましくは、より硬く薄い状
態であって摺動耐久性、潤滑性に優れた、付着物の付着
を誘発する摩耗粉の発生、Niコロージョンの発生を抑
えるたカーボンを主成分とする保護膜を有した磁気記録
媒体となる。
Preferably, the carbon protective film 3 is made of E
Since the nitrogen-carbon ratio measured by the SCA measurement method contains nitrogen at a content of 5 to 40%, the film is denser and harder.
The magnetic recording medium of the present invention is preferably made of carbon that is harder and thinner and has excellent sliding durability and lubricating properties, suppresses the generation of abrasion powder that induces adhesion of deposits, and suppresses the generation of Ni corrosion. The magnetic recording medium has a protective film as a main component.

【0055】さらに、ヘッドの浮上量を低下し、またカ
ーボンを主成分とする保護膜を薄膜化したことによっ
て、ヘッドと磁気記録層である磁性層との距離を小さく
してあるので本発明の磁気記録媒体においてはスペーシ
ングロスを低減させることができる。よって、再生信号
の出力を大きくすることができSNR(signalt
o noise ratio)が良好となるために、本
発明の磁気記録媒体は従来の磁気記録媒体と比べてより
高記録密度に対応が可能な磁気記録媒体になる。
Further, the distance between the head and the magnetic layer, which is the magnetic recording layer, is reduced by reducing the flying height of the head and by reducing the thickness of the protective film containing carbon as a main component. In a magnetic recording medium, spacing loss can be reduced. Therefore, the output of the reproduction signal can be increased, and the SNR (signal
o noise ratio), the magnetic recording medium of the present invention is a magnetic recording medium capable of supporting a higher recording density than a conventional magnetic recording medium.

【0056】さらに、保磁力を3000[エルステッ
ド]以上好ましくは3500[エルステッド]以上、表
面平均粗さRaを20Å以下、より好ましくは10Å以
下としたものが好ましい。保磁力を3000[エルステ
ッド]以上としたものは高記録密度において再生信号出
力をより大きくすることができるからである。表面平均
粗さを20Å以下としたものはヘッドの浮上量をより低
下させることができるからである。それらの結果、本発
明の磁気記録媒体がより高記録密度に対応が可能になる
からである。
Further, it is preferable that the coercive force is not less than 3000 [Oersted], preferably not less than 3500 [Oersted], and the surface average roughness Ra is not more than 20 °, more preferably not more than 10 °. If the coercive force is 3000 [Oersted] or more, the output of the reproduced signal can be further increased at a high recording density. When the surface average roughness is set to 20 ° or less, the flying height of the head can be further reduced. As a result, the magnetic recording medium of the present invention can support a higher recording density.

【0057】図3は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記
録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記録
再生装置は、図1に示す構成の磁気記録媒体30と、磁
気記録媒体30を回転駆動させる媒体駆動部31と、磁
気記録媒体30に情報を記録再生する磁気ヘッド32
と、この磁気ヘッド32を磁気記録媒体30に対して相
対運動させるヘッド駆動部33と、記録再生信号処理系
34とを備えている。記録再生信号処理系34は、外部
からの記録信号を処理して磁気ヘッド32に送ったり、
磁気ヘッド32からの再生信号を処理して外部に送るこ
とができるようになっている。本発明の磁気記録再生装
置に用いる磁気ヘッド32には、再生素子として異方性
磁気抵抗効果(AMR)を利用したMR(magnet
oresistance)素子だけでなく、巨大磁気抵
抗効果(GMR)を利用したGMR素子などを有したよ
り高記録密度に適したヘッドを用いることができる。
FIG. 3 shows an example of a magnetic recording and reproducing apparatus using the above magnetic recording medium. The magnetic recording / reproducing apparatus shown here comprises a magnetic recording medium 30 having the configuration shown in FIG. 1, a medium drive unit 31 for rotating and driving the magnetic recording medium 30, and a magnetic head 32 for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium 30.
A head drive unit 33 for moving the magnetic head 32 relative to the magnetic recording medium 30; and a recording / reproducing signal processing system 34. The recording / reproducing signal processing system 34 processes an external recording signal and sends it to the magnetic head 32,
The reproducing signal from the magnetic head 32 can be processed and sent to the outside. The magnetic head 32 used in the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention has an MR (magnet) using an anisotropic magnetoresistance effect (AMR) as a reproducing element.
It is possible to use a head suitable for higher recording density, which has a GMR element utilizing the giant magnetoresistance effect (GMR) as well as an element for the high recording density.

【0058】上記磁気記録再生装置によれば、検査用ガ
ス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される該検査用ガ
ス成分および/または検査ガス成分を含んで形成された
化合物成分の抽出量が基準値以上である磁気記録媒体を
用いているので、磁気記録媒体の表面に付着物が付着し
にくくなるために該ヘッドの浮上量を低減させてもヘッ
ドに付着物が付着しにくくなる。その結果、該装置内の
ヘッドの浮上量をより低下させることができるので、本
発明の磁気記録再生装置はより高記録密度が可能なもの
になる。また、フライスティクション特性が優れた磁気
記録再生装置となる。
According to the magnetic recording / reproducing apparatus, the amount of the test gas component extracted from the test solvent after being left in the test gas atmosphere and / or the compound component containing the test gas component is reduced. Since the magnetic recording medium having the reference value or more is used, it is difficult for the attached matter to adhere to the surface of the magnetic recording medium. Therefore, even if the flying height of the head is reduced, the attached matter is not easily attached to the head. As a result, the flying height of the head in the apparatus can be further reduced, so that the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention can have a higher recording density. Further, a magnetic recording / reproducing apparatus having excellent fly stiction characteristics can be obtained.

【0059】次に本発明の磁気記録媒体の製造方法を説
明する。 (製造方法に用いる装置)まず本発明に用いられる、C
VD装置、保護膜改質装置を説明する。図4は本発明の
磁気記録媒体の製造方法の一実施例を実施するために用
いられる製造装置の主要部となるプラズマCVD装置の
構成図を示すものである。カーボンを主成分とする保護
膜を形成するべきディスクDを収容するCVD装置チャ
ンバ10と、CVD装置チャンバ10の両側の壁面内に
相対向するように設置された電極11、11と、これら
電極11、11に高周波電力を供給する高周波電源1
2、12と、カーボンを主成分とする保護膜をディスク
上に形成する時にCVD装置チャンバ10内のディスク
Dに接続可能なバイアス電源13と、ディスクD上に形
成するべきカーボンを主成分とする保護膜の原料となる
プロセスガス供給源14、14を備えたものとされる。
Next, a method for manufacturing the magnetic recording medium of the present invention will be described. (Apparatus Used in Manufacturing Method) First, C used in the present invention
The VD device and the protective film reforming device will be described. FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a plasma CVD apparatus which is a main part of a manufacturing apparatus used for carrying out one embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention. A CVD apparatus chamber 10 for accommodating a disk D on which a protective film containing carbon as a main component is to be formed, electrodes 11, 11 installed opposite to each other in the wall surfaces on both sides of the CVD apparatus chamber 10, Power supply 1 for supplying high frequency power to the power supply 11
2, 12; a bias power supply 13 connectable to the disk D in the CVD apparatus chamber 10 when a protective film mainly composed of carbon is formed on the disk; and a carbon mainly composed of carbon to be formed on the disk D. The apparatus is provided with process gas supply sources 14 serving as a raw material of the protective film.

【0060】CVD装置チャンバ10には、供給源1
4、14から供給されたプロセスガスをCVD装置チャ
ンバ10内に導入する導入管15、15と、CVD装置
チャンバ10内のガスを系外に排出する排気管16が接
続されている。それぞれの導入管15、15には、プロ
セスガス流量調節バルブ(図示せず)が設けられてお
り、ガス流量を調節することによって、CVD装置チャ
ンバ10内へ導入するガス流量を任意の値に設定するこ
とができるようになっている。排気管16には排気量調
節バルブ17が設けられており、排気量を調節すること
によって、CVD装置チャンバ10内のガス圧力を任意
の値に設定することができるようになっている。
The supply source 1 is provided in the CVD apparatus chamber 10.
Inlet pipes 15 and 15 for introducing the process gas supplied from 4 and 14 into the CVD apparatus chamber 10 and an exhaust pipe 16 for discharging the gas in the CVD apparatus chamber 10 to the outside of the system are connected. A process gas flow control valve (not shown) is provided in each of the introduction pipes 15, and the flow rate of the gas introduced into the CVD apparatus chamber 10 is set to an arbitrary value by adjusting the gas flow rate. You can do it. The exhaust pipe 16 is provided with an exhaust amount adjusting valve 17 so that the gas pressure in the CVD apparatus chamber 10 can be set to an arbitrary value by adjusting the exhaust amount.

【0061】高周波電源12、12としては、カーボン
を主成分とする保護膜の成膜時および酸素プラズマ放電
時に、例えば、50〜1000Wの電力を供給すること
ができるものを用いるのが好ましい。高周波電源12、
12の周波数は本発明の作用の点からは特に規定はしな
いが、例えば13.56MHzであれば良い。
As the high-frequency power supplies 12, 12, it is preferable to use a power supply that can supply, for example, 50 to 1000 W of power during the formation of the protective film containing carbon as a main component and during the oxygen plasma discharge. High frequency power supply 12,
The frequency 12 is not particularly defined in terms of the operation of the present invention, but may be 13.56 MHz, for example.

【0062】バイアス電源13としては、パルス直流電
源を用いることができる。または高周波電源を用いるこ
とが出来る。
As the bias power supply 13, a pulse DC power supply can be used. Alternatively, a high frequency power supply can be used.

【0063】図5は本発明の磁気記録媒体の製造方法の
一実施例を実施するために用いられる保護膜改質装置の
構成図を示すものである。保護膜改質を処理すべきカー
ボンを主成分とする保護膜を有するディスクDを収容す
るチャンバ20と、チャンバ20内のディスクDに高周
波電力を供給する高周波電源21を備えている。なお、
符号24は整合器をしめす。
FIG. 5 is a block diagram showing a protective film reforming apparatus used for carrying out one embodiment of the method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention. The apparatus includes a chamber 20 for accommodating a disk D having a protective film mainly composed of carbon to be subjected to a protective film modification, and a high-frequency power supply 21 for supplying high-frequency power to the disk D in the chamber 20. In addition,
Reference numeral 24 indicates a matching device.

【0064】チャンバ20には、図示せぬ供給源から供
給された窒素ガスをチャンバ内に導入する導入管25
と、チャンバ20内のガスを系外に排出する排気管26
が接続されている。排気管26には排気量調節バルブ2
7が設けられており、排気量を調節することによって、
チャンバ20の内圧を任意の値に設定することができる
ようになっている。
An introduction pipe 25 for introducing nitrogen gas supplied from a supply source (not shown) into the chamber is provided in the chamber 20.
And an exhaust pipe 26 for discharging gas in the chamber 20 to the outside of the system.
Is connected. The exhaust pipe 26 has a displacement control valve 2
7 is provided, and by adjusting the displacement,
The internal pressure of the chamber 20 can be set to an arbitrary value.

【0065】高周波電源21としては、保護膜改質処理
時に、例えば、50〜1000Wの電力を供給すること
ができるものを用いるのが好ましい。高周波電源21の
周波数は本発明の作用の点からは特に規定はしないが、
Rf周波数とすることができ、例えば13.56MHz
を用いることができる。
As the high-frequency power supply 21, it is preferable to use a power supply that can supply, for example, 50 to 1000 W of electric power during the protective film reforming process. Although the frequency of the high-frequency power supply 21 is not particularly defined in terms of the operation of the present invention,
Rf frequency, for example 13.56 MHz
Can be used.

【0066】これら保護膜改質装置とプラズマCVD装
置とはプラズマCVD装置内のディスクを外気にさらす
ことなく保護膜改質装置内に移送することができるよう
に互いに接続されている。 また、プラズマCVD装置
および保護膜改質装置として、プラズマCVD装置内の
ディスクDを外気にさらすことなく保護膜改質装置内に
移送することができるように接続されたものを用いるこ
とによって、保護膜表面に外気由来の不純物が付着する
のを防ぎ、この不純物を原因として保護膜と潤滑膜との
間の接合力が低下するのを防ぐことができる。また、本
発明では、保護膜改質装置において、チャンバ20の両
外側面に、チャンバ20内に磁場を発生させるためのコ
イルが設けられている保護膜改質装置を用いることもで
きる。この装置を用いた場合には、保護膜改質処理時に
おいて、コイルによって発生した磁場によりチャンバ2
0内のプラズマがディスクD周辺に集められるため、改
質処理の効率を高めることができる。
The protective film reforming apparatus and the plasma CVD apparatus are connected to each other so that a disk in the plasma CVD apparatus can be transferred into the protective film reforming apparatus without exposing the disk to the outside air. Further, by using a plasma CVD apparatus and a protective film reforming apparatus connected so that the disk D in the plasma CVD apparatus can be transferred into the protective film reforming apparatus without being exposed to the outside air, It is possible to prevent impurities derived from outside air from adhering to the film surface, and to prevent a decrease in bonding strength between the protective film and the lubricating film due to the impurities. Further, in the present invention, in the protective film reforming apparatus, a protective film reforming apparatus in which coils for generating a magnetic field in the chamber 20 are provided on both outer surfaces of the chamber 20 may be used. When this apparatus is used, the chamber 2 is protected by a magnetic field generated by the coil during the protective film reforming process.
Since the plasma within 0 is collected around the disk D, the efficiency of the reforming process can be increased.

【0067】次に、上記装置を用いた場合を例として、
本発明の磁気記録媒体の製造方法の一形態を説明する。
まず、CVDにより形成した保護膜を改質処理する工程
を含む製造方法を説明する。 (製造方法の例1)スパッタリング法、真空蒸着、イオ
ンプレーティングなどの方法を用いて、非磁性基板Sの
両面に非磁性下地層1、磁性層2を順に形成し、ディス
クDを得る。
Next, taking the case where the above-mentioned apparatus is used as an example,
One embodiment of the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention will be described.
First, a manufacturing method including a step of modifying a protective film formed by CVD will be described. (Example 1 of Manufacturing Method) A non-magnetic underlayer 1 and a magnetic layer 2 are sequentially formed on both surfaces of a non-magnetic substrate S by using a method such as a sputtering method, a vacuum deposition, or an ion plating, and a disk D is obtained.

【0068】ディスクDを得る方法の一例を具体的に説
明する。非磁性基板Sとしては、磁気記録媒体用基板と
して一般に用いられるNiPメッキ膜が形成されたアル
ミニウム合金基板(以下、「NiPメッキAl基板」と
いう。)、ガラス基板、セラミック基板、可撓性樹脂基
板、またはこれらの基板にNiPまたは他の合金をメッ
キあるいはスパッタ法により蒸着させた基板等を用いる
ことができる。非磁性基板Sの表面の平均粗さRaを1
〜20Åとしたものを用いるのが好ましい。テクスチャ
ー加工などで所定の表面平均粗さRaを得ることが出来
る。
An example of a method for obtaining the disk D will be specifically described. As the non-magnetic substrate S, an aluminum alloy substrate (hereinafter, referred to as “NiP-plated Al substrate”) on which a NiP plating film generally used as a substrate for a magnetic recording medium is formed, a glass substrate, a ceramic substrate, a flexible resin substrate Alternatively, a substrate in which NiP or another alloy is deposited on these substrates by plating or sputtering may be used. The average roughness Ra of the surface of the non-magnetic substrate S is 1
It is preferable to use those having an angle of up to 20 °. A predetermined surface average roughness Ra can be obtained by texture processing or the like.

【0069】上記のそれぞれの膜を形成するためのスパ
ッタリングの条件は例えば次のようにする。形成に用い
るチャンバ内は真空度が10-4〜10-7[Pa]となる
まで排気する。チャンバ内に基板を収容して、所望の保
磁力を得るように基板を加熱、例えば200〜250℃
に加熱した後、Arガスを導入して放電させてスパッタ
成膜をおこなう。このとき、供給するパワーは0.2〜
2.0[kW]とし、放電時間と供給するパワーを調節
することによって、所望の膜厚を得ることができる。
The sputtering conditions for forming each of the above films are, for example, as follows. The inside of the chamber used for the formation is evacuated until the degree of vacuum becomes 10 -4 to 10 -7 [Pa]. The substrate is accommodated in the chamber, and the substrate is heated to obtain a desired coercive force, for example, 200 to 250 ° C.
Then, Ar gas is introduced and discharged to form a sputter film. At this time, the power to be supplied is 0.2 to
A desired film thickness can be obtained by adjusting the discharge time and the supplied power to 2.0 [kW].

【0070】非磁性下地層1としては、従来公知である
非磁性下地層、例えばCr、Ti、Ni、Si、Ta、
Wから選ばれるいずれかからなる単一組成膜、またはこ
れらのいずれかを主成分としその結晶性を損なわない範
囲で他の元素を含有させた合金からなる膜を形成する。
非磁性下地層1の働きはCo合金からなる磁性層2の結
晶配向を制御することにある。膜を形成するにあたって
は、Crの単一組成、またはCrにMo、W、V、T
i、Nb、Siから選ばれるいずれか1種または2種以
上を含有させた材料からなるスパッタリングターゲット
を用いるのが好ましい。上記材料を用いる場合、非磁性
下地層1の上に形成されるCo合金からなる磁性層2の
配向性が良くなり、磁気記録媒体は保磁力、ノイズ特性
が良くなり高記録密度により好ましく適したものにな
る。
As the non-magnetic underlayer 1, a conventionally known non-magnetic underlayer such as Cr, Ti, Ni, Si, Ta,
A single-composition film made of any one selected from W, or a film made of an alloy containing any of these as a main component and containing other elements within a range that does not impair its crystallinity is formed.
The function of the nonmagnetic underlayer 1 is to control the crystal orientation of the magnetic layer 2 made of a Co alloy. In forming the film, a single composition of Cr or Mo, W, V, T
It is preferable to use a sputtering target made of a material containing at least one selected from i, Nb, and Si. When the above material is used, the orientation of the magnetic layer 2 made of a Co alloy formed on the nonmagnetic underlayer 1 is improved, and the magnetic recording medium is improved in coercive force and noise characteristics, and is more suitable for high recording density. Become something.

【0071】また非磁性下地層1の結晶粒径がCo合金
からなる磁性層2の結晶粒径に影響する場合がある。非
磁性下地層1の結晶粒径を細かくする場合は、BやZ
r, Taなどを非磁性下地層1のCr、Cr合金に添加
した材料からなるスパッタリングターゲットを用いるこ
とで可能である。
The crystal grain size of the nonmagnetic underlayer 1 may affect the crystal grain size of the magnetic layer 2 made of a Co alloy. When the crystal grain size of the nonmagnetic underlayer 1 is reduced, B or Z
This can be achieved by using a sputtering target made of a material in which r, Ta, or the like is added to Cr or the Cr alloy of the nonmagnetic underlayer 1.

【0072】非磁性下地層1の膜厚は、所定の保磁力が
得られる範囲であれば制限されるものではない。この厚
さは、100〜1000Åが好ましい範囲であり、15
0〜700Åとするとさらに好ましい。非磁性下地層1
の膜厚が上記の範囲の場合には、保磁力の向上効果、S
NRの向上効果が確認され、高記録密度に適した磁気記
録媒体を得ることができるので好ましい。
The thickness of the nonmagnetic underlayer 1 is not limited as long as a predetermined coercive force can be obtained. This thickness is preferably in the range of 100 to 1000 °, and 15
More preferably, it is 0-700 °. Non-magnetic underlayer 1
In the case where the film thickness is within the above range, the effect of improving the coercive force and S
This is preferable because the effect of improving NR is confirmed, and a magnetic recording medium suitable for high recording density can be obtained.

【0073】さらに非磁性下地層1は、単層構造をなす
ものとしても良いし、多層構造をなすものとしても良
い。多層構造の場合、材料は上述したもののうち互いに
同一または異なる組成を積層したものとすることができ
る。例えば、Cr層の上にCrMo合金層(Mo含有量
10at%以下)などを用いることが出来る。
Further, the nonmagnetic underlayer 1 may have a single-layer structure or a multi-layer structure. In the case of a multi-layer structure, the material may be a laminate of the same or different compositions among those described above. For example, a CrMo alloy layer (Mo content of 10 at% or less) or the like can be used on the Cr layer.

【0074】Co合金からなる磁性層2は、Co合金の
組成としてはCo/Cr系、Co/Cr/Ta系、Co
/Cr/Pt系、Co/Cr/Pt/Ta系等の組成の
合金から選ばれるいずれかを含む材料を用いることがで
きる。
The magnetic layer 2 made of a Co alloy has a composition of Co / Cr, Co / Cr / Ta, or Co / Cr.
/ Cr / Pt-based, Co / Cr / Pt / Ta-based alloys, etc., may be used.

【0075】Co合金からなる磁性層2の膜厚は、従来
一般に用いられているBrd(残留磁化と膜厚の積[G
μm])のパラメータで30〜100[Gμm]の範囲
で、所定の記録再生信号出力が得られるように調整する
ことができる。
The thickness of the magnetic layer 2 made of a Co alloy is Brd (product of residual magnetization and film thickness [G
[μm]) in the range of 30 to 100 [Gμm] so that a predetermined recording / reproducing signal output can be obtained.

【0076】成膜を効率良く安定に行うために必要に応
じて非磁性下地層1、磁性層2の成膜時に非磁性基板S
にバイアスを−200〜−400[V]印可することが
好ましい。
In order to perform the film formation efficiently and stably, the non-magnetic substrate S
It is preferable to apply a bias of -200 to -400 [V].

【0077】Co合金の配向性を改善し、高い保磁力を
得る点から、非磁性下地層1と磁性層2との間に非磁性
中間層を形成することができる。例えば、25Å以下の
膜厚を有するCoCr合金(Cr含有量50at%以
下)層を形成することができる。
From the viewpoint of improving the orientation of the Co alloy and obtaining a high coercive force, a non-magnetic intermediate layer can be formed between the non-magnetic underlayer 1 and the magnetic layer 2. For example, a CoCr alloy (Cr content 50 at% or less) layer having a thickness of 25 ° or less can be formed.

【0078】次に保護膜の形成方法を説明する。磁性層
2まで成膜されたディスクDは、搬送装置(図示せず)
によりCVD装置チャンバ10内の所定位置に搬入され
るとともに、供給源から供給された反応ガスを導入管1
5、15を通してCVD装置チャンバ10内に導入しつ
つCVD装置チャンバ10内のガスを排気管16を通し
て排出し、CVD装置チャンバ10内でガスを流通さ
せ、ディスクDの表面をこの反応ガスに曝す。
Next, a method for forming a protective film will be described. The disk D formed up to the magnetic layer 2 is transported by a transfer device (not shown).
Is carried into a predetermined position in the CVD apparatus chamber 10 and the reaction gas supplied from the supply source is introduced into the introduction pipe 1.
The gas in the CVD apparatus chamber 10 is exhausted through the exhaust pipe 16 while being introduced into the CVD apparatus chamber 10 through 5 and 15, the gas is circulated in the CVD apparatus chamber 10, and the surface of the disk D is exposed to the reaction gas.

【0079】この反応ガスとしては、炭化水素を含むも
の、例えば炭化水素と水素の混合ガスを主成分とするも
のを用いることができる。この混合ガスにおける炭化水
素と水素の混合割合は、炭化水素:水素を2:1〜1:
100(体積比)に設定するのがより硬い耐久性のある
カーボンを主成分とする保護膜を得るのに好ましい。な
お、本明細書中で、「混合ガスを主成分とする」とは当
該ガス成分を90vol%以上の割合で含む事を指す。
As the reaction gas, a gas containing a hydrocarbon, for example, a gas mainly containing a mixed gas of a hydrocarbon and hydrogen can be used. The mixing ratio of hydrocarbon and hydrogen in this mixed gas is such that hydrocarbon: hydrogen is 2: 1 to 1:
It is preferable to set it to 100 (volume ratio) in order to obtain a harder and more durable protective film mainly composed of carbon. In the present specification, “having a mixed gas as a main component” means that the gas component is contained at a rate of 90 vol% or more.

【0080】炭化水素としては、低級飽和炭化水素、低
級不飽和炭化水素、低級環式炭化水素のうちから選ばれ
た1種または2種以上を用いることが好ましい。低級飽
和炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタ
ン、オクタン等を用いることができる。また低級不飽和
炭化水素としては、イソプレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ブタジエン等を用いることができる。ま
た低級環式炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、スチレン、ナフタレン、シクロヘキサン、シク
ロヘキサジエン等を用いることができる。なお、ここで
いう低級とは炭素数が1〜10であることを指す。
As the hydrocarbon, it is preferable to use one or more selected from lower saturated hydrocarbons, lower unsaturated hydrocarbons and lower cyclic hydrocarbons. As the lower saturated hydrocarbon, methane, ethane, propane, butane, octane and the like can be used. Further, as the lower unsaturated hydrocarbon, isoprene, ethylene, propylene, butylene, butadiene and the like can be used. As the lower cyclic hydrocarbon, benzene, toluene, xylene, styrene, naphthalene, cyclohexane, cyclohexadiene and the like can be used. The term “lower” means that the carbon number is 1 to 10.

【0081】炭化水素として低級炭化水素を用いるのが
好ましいとしたのは、炭化水素の炭素数が上記範囲上限
値を越えると、ガスとして供給するのが困難となること
に加え、放電時の炭化水素の分解が進行しににくくな
り、カーボンを主成分とする保護膜が強度に劣る高分子
成分を多く含むものとなるためである。
It is preferred that lower hydrocarbons be used as the hydrocarbons. If the number of carbon atoms of the hydrocarbons exceeds the upper limit of the above range, it becomes difficult to supply them as a gas. This is because the decomposition of hydrogen becomes difficult to progress, and the protective film containing carbon as a main component contains a large amount of a polymer component having low strength.

【0082】またこの際、排気量調節バルブ17を用い
てCVD装置チャンバ10内ガスの排気量を適宜調節す
る事によって、CVD装置チャンバ10内の内圧を0.
1〜10Paとするのが好ましい。また反応ガスの流量
は50〜500sccmとするのが好ましい。
At this time, the internal pressure in the CVD apparatus chamber 10 is reduced to 0.1 by appropriately adjusting the exhaust amount of the gas in the CVD apparatus chamber 10 using the exhaust amount adjusting valve 17.
The pressure is preferably 1 to 10 Pa. The flow rate of the reaction gas is preferably set to 50 to 500 sccm.

【0083】同時に、高周波電源12、12を用いて好
ましくは50〜2000Wの高周波電力を電極11、1
1に供給しプラズマを発生させ、上記反応ガスを原料と
するプラズマ化学気相成長によりカーボンを主成分とす
る保護膜をディスクDの両面に形成する。カーボンを主
成分とする保護膜の膜厚は、30〜100Å好ましくは
30〜75Åとすることができる。電極11、11に電
力供給する際には、これらの電極11、11に供給する
電力の位相を互いにずらせるのが好ましい。これはこれ
らの電極11、11に供給する電力の位相を互いにずら
せることによって成膜レートの向上、カーボンを主成分
とする保護膜の耐久性の向上を図ることができるためで
ある。両電極11、11に供給する電力の位相差は90
゜〜270゜とするのが好ましく特に逆相(180゜)
とするのが好ましい。
At the same time, high-frequency power of preferably 50 to 2000 W is applied using the high-frequency power supplies 12 and 12 to the electrodes 11 and 1.
1 to generate plasma, and a protective film containing carbon as a main component is formed on both surfaces of the disk D by plasma chemical vapor deposition using the above reaction gas as a raw material. The thickness of the protective film containing carbon as a main component can be 30 to 100 °, preferably 30 to 75 °. When power is supplied to the electrodes 11, 11, it is preferable that the phases of the power supplied to the electrodes 11, 11 be shifted from each other. This is because, by shifting the phases of the powers supplied to the electrodes 11, 11, the film formation rate can be improved, and the durability of the protective film containing carbon as a main component can be improved. The phase difference between the power supplied to both electrodes 11, 11 is 90
It is preferable that the angle is in the range of ゜ to 270 °, especially in the reverse phase (180 °)
It is preferred that

【0084】その他通常用いられるCVDによるカーボ
ンを主成分とする保護膜の形成方法を用いることもでき
る。
In addition, a commonly used method of forming a protective film containing carbon as a main component by CVD can also be used.

【0085】プラズマCVD装置を用いて成膜を行うこ
とにより、カーボン保護膜は硬度の高いダイヤモンドラ
イクカーボン(以下「DLC」という。)成分を多く含
み、強度に優れたものとなる。一方、形成されたカーボ
ン保護膜は膜表面の活性部が水素化され、分極しにくい
結合であるC−H結合が多く存在する状態となっている
ため、膜表面の化学的な活性は低いということができ
る。
By forming a film using a plasma CVD apparatus, the carbon protective film contains a large amount of diamond-like carbon (hereinafter, referred to as “DLC”) component and has excellent strength. On the other hand, in the formed carbon protective film, the active portion on the film surface is hydrogenated, and there are many C—H bonds that are hardly polarized bonds, so that the chemical activity on the film surface is low. be able to.

【0086】そこで、本実施形態の製造方法ではカーボ
ン保護膜を形成したディスクDを図5に示す保護膜改質
装置のチャンバー20内に搬入しカーボン保護膜を検査
用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される該検査
用ガス成分および/または検査ガス成分を含んで形成さ
れた化合物成分の抽出量が基準値以上となるような条件
にて保護膜改質用ガスを用いてエッチング処理すること
によって、保護膜改質処理された磁気記録媒体を製造す
る。好ましくは、メラミンを抽出成分とした場合、基準
値が0.06[μg/100cm2](より好ましくは
0.12[μg/100cm2]。さらに好ましくは
0.24[μg/100cm2])となるような条件と
する。
Therefore, in the manufacturing method of this embodiment, the disk D on which the carbon protective film is formed is carried into the chamber 20 of the protective film reforming apparatus shown in FIG. 5, and the carbon protective film is inspected after being left in an inspection gas atmosphere. Etching treatment using a gas for modifying a protective film under such a condition that the amount of extraction of the test gas component and / or the compound component formed containing the test gas component extracted with the solvent for use is not less than a reference value. By doing so, a magnetic recording medium on which the protective film has been modified is manufactured. Preferably, when melamine is used as the extraction component, the reference value is 0.06 [μg / 100 cm 2 ] (more preferably 0.12 [μg / 100 cm 2 ], and still more preferably 0.24 [μg / 100 cm 2 ]). The condition is such that

【0087】すなわち、保護膜改質処理とは、カーボン
保護膜を検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出
される該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を
含んで形成された化合物成分の抽出量が基準値以上とな
るような条件にてエッチング処理することである。
That is, the protective film reforming treatment is a process in which the carbon protective film is left in a gas atmosphere for inspection and is extracted with a solvent for inspection, and the compound formed containing the gas component for inspection and / or the gas component for inspection. That is, the etching process is performed under such a condition that the amount of component extraction is equal to or more than the reference value.

【0088】保護膜改質用ガスとしては、Arガス、酸
素ガス、窒素ガスから選ばれるいずれか1種以上を含む
ものとすることができる。
The protective film modifying gas may contain one or more selected from the group consisting of Ar gas, oxygen gas and nitrogen gas.

【0089】保護膜改質処理によって改質されたカーボ
ン保護膜を有する磁気記録媒体は抽出量が基準値以上と
なるので保護膜の内部への吸着量が多いものとなる。こ
れは以下の理由によるものと推定する。
The magnetic recording medium having the carbon protective film modified by the protective film modification treatment has a large amount of adsorption to the inside of the protective film since the extraction amount is equal to or more than the reference value. This is presumed to be due to the following reasons.

【0090】保護膜改質において保護膜改質用ガスのプ
ラズマに曝されることによって、カーボン保護膜に多く
存在するC−H結合はプラズマによって切断され、結合
が切断されたCが新たに窒素と結合し、用いた改質用ガ
スの種類によってC−O結合、C=O結合、C=C結
合、C≡C結合、C=N結合、C≡N結合などの結合が
形成する。これらの結合は化学的に活性の高い状態にな
ると考えられる。活性の高い状態の部位に検査用ガスが
吸着すると考えられる。一方、保護膜改質用ガスに曝露
された保護膜はその表面から内部方向に向かって、ガス
によって微細な孔が形成されると推定される。この微細
な孔は、吸着に関与する実効表面積を大きくするので吸
着量を多くする特性を有する。
By exposing the protective film reforming gas to plasma during the modification of the protective film, the C—H bonds that are often present in the carbon protective film are broken by the plasma, and the broken C is newly replaced with nitrogen. And a bond such as a C—O bond, a C 結合 O bond, a C = C bond, a C≡C bond, a C = N bond, or a C≡N bond is formed depending on the type of the reforming gas used. These bonds are considered to be in a chemically active state. It is considered that the test gas is adsorbed on the site having a high activity. On the other hand, it is presumed that fine holes are formed by the gas from the surface of the protective film exposed to the protective film modifying gas toward the inside. These fine holes have a characteristic of increasing the amount of adsorption because the effective surface area involved in the adsorption is increased.

【0091】これらの理由により、保護膜改質処理を施
されたカーボン保護膜は保護膜の内部への吸着量が多い
ものになり、充分に改質処理されたものは吸着量が基準
値以上のものであると考えられる。
For these reasons, the carbon protective film subjected to the protective film reforming treatment has a large amount of adsorption to the inside of the protective film. It is believed to be

【0092】図示せぬ供給源から供給された保護膜改質
ガスを導入管を通してチャンバー内に導入しつつチャン
バー内のガスを排気管を通して排出しチャンバー内でガ
スを流通させディスク両面のカーボン保護膜表面をこの
保護膜改質処理ガスに曝す。
A protective film reforming gas supplied from a supply source (not shown) is introduced into the chamber through an introduction pipe, and the gas in the chamber is exhausted through an exhaust pipe, and the gas is circulated in the chamber so that the carbon protective film on both surfaces of the disk is formed. The surface is exposed to this protective film modification processing gas.

【0093】このとき、排気調節量バルブを用いてチャ
ンバー内のガスの排出量を適宜調節することによって、
チャンバーの内圧を2.4〜8Pa(好ましくは2.4
〜6Pa)とするのが好ましい。このチャンバー内圧は
上記範囲未満であると保護膜表面の改質が不充分で、内
部への吸着量が多くならなず、表面に付着物が付着しや
すくなる。また内圧が上記範囲を越えると保護膜表面が
化学的に不安定な状態となりその耐久性が低下するおそ
れがある。
At this time, the amount of gas exhausted from the chamber is appropriately adjusted by using the exhaust gas amount adjusting valve, whereby
The internal pressure of the chamber is 2.4 to 8 Pa (preferably 2.4
To 6 Pa). If the chamber internal pressure is less than the above range, the modification of the surface of the protective film is insufficient, the amount of adsorption to the inside does not increase, and deposits easily adhere to the surface. On the other hand, if the internal pressure exceeds the above range, the surface of the protective film becomes chemically unstable, and the durability may be reduced.

【0094】保護膜改質時に、高周波電源を用いて好ま
しくは30〜500W(さらに好ましくは30〜300
W、さらに好ましくは30〜200W)の高周波電力を
電極に供給しプラズマを発生させ、上記窒素ガスを原料
とするプラズマを発生させこのプラズマによりディスク
のカーボン保護膜の表面を保護膜改質する。
When modifying the protective film, it is preferable to use a high-frequency power supply for 30 to 500 W (more preferably 30 to 300 W).
W, more preferably 30 to 200 W) is supplied to the electrode to generate plasma, and the plasma is generated from the above-mentioned nitrogen gas as a raw material, and the surface of the carbon protective film of the disk is reformed by the plasma.

【0095】このディスクに印加する電力は上記範囲未
満であると保護膜表面の改質が不充分で、内部への吸着
量が多くならなず、表面に付着物が付着しやすくなる。
また電力が上記範囲を越えると保護膜表面が化学的に不
安定な状態となりその耐久性が低下するおそれがある。
If the electric power applied to the disk is less than the above range, the surface of the protective film is not sufficiently modified, the amount of adsorption to the inside does not increase, and the adhered substance easily adheres to the surface.
If the power exceeds the above range, the surface of the protective film becomes chemically unstable, and the durability may be reduced.

【0096】保護膜改質処理時間は2〜6秒(好ましく
は3〜5秒)とするのが好ましい。この保護膜改質処理
時間は上記範囲未満であると保護膜表面の改質が不充分
で、内部への吸着量が多くならなず、表面に付着物が付
着しやすくなる。また処理時間が上記範囲を越えると保
護膜表面が化学的に不安定な状態となりその耐久性が低
下するおそれがある。
The protective film modification time is preferably 2 to 6 seconds (preferably 3 to 5 seconds). If the protective film modification treatment time is less than the above range, the modification of the surface of the protective film is insufficient, the amount of adsorption to the inside does not increase, and deposits easily adhere to the surface. If the treatment time exceeds the above range, the surface of the protective film becomes chemically unstable, and the durability may be reduced.

【0097】さらに、カーボンを主成分とする保護膜の
表面の赤外吸収曲線において炭素−水素結合のピーク強
度値は0.055以下(より好ましくは0.05以下。
さらに好ましくは0.04以下。)となる条件で改質す
るのが好ましい。このような状態のカーボンを主成分と
する保護膜に潤滑剤を塗布すると、カーボンを主成分と
する保護膜と潤滑剤との結合を高めることができヘッド
への潤滑剤の付着を低減させることもできるからであ
る。
Further, in the infrared absorption curve of the surface of the protective film containing carbon as a main component, the peak intensity of carbon-hydrogen bond is 0.055 or less (more preferably 0.05 or less).
More preferably 0.04 or less. It is preferable to perform the reforming under the following conditions. When a lubricant is applied to the protective film containing carbon as a main component in such a state, the bonding between the protective film containing carbon as the main component and the lubricant can be increased, and the adhesion of the lubricant to the head can be reduced. Because you can do it.

【0098】また、改質処理を行う際にはディスクに印
加する電力、処理時間、チャンバー内圧などの条件を調
節することによって、保護膜表面は、水接触角を80度
以下(より好ましくは75度以下。)としたものが好ま
しい。水接触角が80度以下である保護膜は潤滑剤との
結合力が充分であるために、磁気ヘッドに潤滑剤が付着
しにくいからである。
When the reforming treatment is carried out, the surface of the protective film is adjusted to have a water contact angle of 80 ° or less (more preferably 75 ° C. or less) by adjusting conditions such as power applied to the disc, treatment time, and chamber pressure. Degree or less.) Is preferable. This is because the protective film having a water contact angle of 80 degrees or less has a sufficient bonding force with the lubricant, so that the lubricant does not easily adhere to the magnetic head.

【0099】また、プラズマCVD装置を経た段階での
保護膜表面に付着物の付着を誘発するような不純物が付
着している場合には、この不純物は、保護膜改質処理時
において、保護膜改質処理ガス由来のプラズマによって
保護膜面から除去される。そのため、付着物が付着しに
くくなる。
If an impurity which induces the adhesion of a deposit on the surface of the protective film after passing through the plasma CVD apparatus is attached, the impurity is applied to the protective film during the modification of the protective film. It is removed from the protective film surface by the plasma derived from the reforming processing gas. Therefore, it is difficult for the deposit to adhere.

【0100】さらに、保護膜改質ガスとして窒素ガスを
用いたものは、窒素ガスが電極より供給された電力によ
りプラズマとなり、そのプラズマによりカーボン保護膜
の結合が切れてその結果窒化炭素化合物を形成するため
好ましい。窒素ガスを用いるのは、カーボン保護膜を設
計値に合わせることが容易であるからである。これは、
窒素ガスがカーボン保護膜の成分と結合した際ガス化し
やすい化合物が生成しにくいため、保護膜の厚さの変化
を抑えることができるからである。保護膜改質の際に
は、上記ESCAを用いて測定された保護膜中の窒素量
が窒素炭素比で5〜40%(より好ましくは5〜25
%、さらに好ましくは13〜25%)となるように上記
保護膜改質時の条件を設定することが好ましい。この窒
素量が上記範囲未満である場合には、保護膜表面の改質
が不充分で、内部への吸着量が多くならなず、表面に付
着物が付着しやすくなる。また、保護膜表面の活性が低
くなり保護膜と潤滑剤の結合力が低下し潤滑剤がヘッド
に付着しやすくなるのでフライスティクション特性が低
下するため好ましくない。
Further, in the case of using nitrogen gas as the protective film reforming gas, the nitrogen gas becomes plasma by the power supplied from the electrode, and the plasma breaks the bond of the carbon protective film, thereby forming a carbon nitride compound. Is preferred. Nitrogen gas is used because the carbon protective film can be easily adjusted to the design value. this is,
This is because, when nitrogen gas is combined with a component of the carbon protective film, it is difficult to generate a compound that easily gasifies, so that a change in the thickness of the protective film can be suppressed. In the modification of the protective film, the nitrogen content in the protective film measured by using the above ESCA is 5 to 40% (more preferably 5 to 25%) in terms of the nitrogen-carbon ratio.
%, More preferably 13 to 25%). If the amount of nitrogen is less than the above range, the modification of the surface of the protective film is insufficient, the amount of adsorption to the inside does not increase, and deposits easily adhere to the surface. Further, the activity of the surface of the protective film is reduced, the bonding force between the protective film and the lubricant is reduced, and the lubricant easily adheres to the head.

【0101】さらにその場合、カーボン保護膜の磁性層
に接した面の近傍の位置において2at%以下の窒素濃
度を有するようになる条件で保護膜が改質されることが
好ましい。この範囲をはずれると、磁性層の静磁気特性
が劣化し保磁力が低下してしまうので、磁気記録媒体は
低浮上量に適さないものとなってしまうからである。
In this case, it is preferable that the protective film is modified under the condition that the carbon concentration of the carbon protective film in the vicinity of the surface in contact with the magnetic layer has a nitrogen concentration of 2 at% or less. If the ratio is out of this range, the magnetostatic properties of the magnetic layer deteriorate and the coercive force decreases, so that the magnetic recording medium is not suitable for a low flying height.

【0102】CVD装置により形成されたカーボンを主
成分とする保護膜はラマン分光法によるId/Igの値
が3.5以下であるので、保護膜改質の条件はその値が
3.5以下(より好ましくは3.0以下。さらに好まし
くは2.5以下。)となる条件とするのが好ましい。
Since the protective film mainly composed of carbon formed by the CVD apparatus has an Id / Ig value of 3.5 or less by Raman spectroscopy, the condition for modifying the protective film is 3.5 or less. (More preferably 3.0 or less, further preferably 2.5 or less).

【0103】次いで保護膜上にディッピング法などによ
ってパーフルオロポリエーテルなどの潤滑剤を塗布し潤
滑膜を形成し磁気記録媒体を得る。保護膜上に形成され
た潤滑膜は、保護膜表面に強固に結合する。カーボンを
主成分とする保護膜を形成した上に潤滑膜を形成する。
潤滑膜は従来公知の方法、例えばディッピング法、スピ
ンコート法を用いて上記のカーボンを主成分とする保護
膜上に潤滑剤を塗布することで形成する。潤滑剤として
はフォンブリン系潤滑剤、ガウディ系潤滑剤、デムナム
系潤滑剤、クライトクス系潤滑剤の中から選ばれるいず
れかを含むものを材料として用いることができる。
Next, a lubricant such as perfluoropolyether is applied on the protective film by dipping or the like to form a lubricating film, thereby obtaining a magnetic recording medium. The lubricating film formed on the protective film is firmly bonded to the surface of the protective film. A lubricating film is formed on a protective film containing carbon as a main component.
The lubricating film is formed by applying a lubricant on the above-mentioned protective film containing carbon as a main component using a conventionally known method, for example, a dipping method or a spin coating method. As the lubricant, a material containing any one selected from a Fomblin-based lubricant, a Gaudi-based lubricant, a Demnum-based lubricant, and a Krytox-based lubricant can be used.

【0104】(製造方法の例2)次に、別の例として、
保護膜改質処理を用いずに製造する例を説明する。磁性
層2まで成膜されたディスクDは、搬送装置(図示せ
ず)によりCVD装置チャンバ10内の所定位置に搬入
されるとともに、供給源から供給された反応ガスを導入
管15、15を通してCVD装置チャンバ10内に導入
しつつCVD装置チャンバ10内のガスを排気管16を
通して排出し、CVD装置チャンバ10内でガスを流通
させ、ディスクDの表面をこの反応ガスに曝す。
(Example 2 of manufacturing method) Next, as another example,
An example of manufacturing without using a protective film modification process will be described. The disk D on which the magnetic layer 2 has been formed is carried into a predetermined position in the CVD device chamber 10 by a transfer device (not shown), and the reaction gas supplied from the supply source is introduced through the introduction pipes 15, 15. The gas in the CVD apparatus chamber 10 is exhausted through the exhaust pipe 16 while being introduced into the apparatus chamber 10, the gas is circulated in the CVD apparatus chamber 10, and the surface of the disk D is exposed to the reaction gas.

【0105】前述と同様にカーボンを主成分とする保護
膜を形成するが、この時、内部吸着が大きく、すなわち
抽出量が基準値以上になるように、パルス直流バイアス
をディスクDに印加しつつ成膜を行うことができる。パ
ルス直流バイアスをディスクDに印加しつつ成膜するこ
とにより、カーボン保護膜を検査用ガス雰囲気中に放置
後検査用溶剤で抽出される該検査用ガス成分および/ま
たは検査ガス成分を含んで形成された化合物成分の抽出
量が基準値以上となる。好ましくは、メラミンを抽出成
分とした場合、基準値が0.06[μg/100c
2](より好ましくは0.12[μg/100c
2]。さらに好ましくは0.24[μg/100c
2])となるように印加しつつ成膜を行う。
A protective film containing carbon as a main component is formed in the same manner as described above. At this time, a pulse DC bias is applied to the disk D so that internal adsorption is large, that is, the amount of extraction is equal to or more than a reference value. Film formation can be performed. By forming a film while applying a pulse DC bias to the disk D, the carbon protective film is formed to include the test gas component and / or the test gas component extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere. The extracted amount of the compound component becomes equal to or more than the reference value. Preferably, when melamine is used as the extraction component, the reference value is 0.06 [μg / 100 c
m 2 ] (more preferably 0.12 [μg / 100c
m 2 ]. More preferably, 0.24 [μg / 100c
m 2 ]).

【0106】ディスクにバイアスを印加することによ
り、プラズマによるディスク表面へのプラズマ衝撃性が
充分となり、ディスク温度を高めて炭素−水素結合を解
離させる効果に加えて、プラズマにより直接表面が叩か
れることによる炭素−水素結合を解離させる効果が得ら
れやすいので、より効率良く炭素−水素結合を解離させ
ることができるので、吸着量を大きくすることができる
からである。従来の熱電子放出型プラズマ形成法におけ
るグリッド電圧を印加する加速法では、プラズマにより
直接表面が叩かれることによる炭素−水素結合を解離さ
せる効果が得られず吸着量を大きくすることができな
い。なおバイアスをディスクDに印加する際にはディス
クDに直接印加しても良いし図示せぬディスクキャリア
(ディスクDを保持して搬送する装置)を介してバイア
ス印加を行っても良い。
By applying a bias to the disk, the plasma impact on the disk surface by the plasma becomes sufficient, and in addition to the effect of raising the disk temperature to dissociate the carbon-hydrogen bond, the surface is directly hit by the plasma. This is because the effect of dissociating the carbon-hydrogen bond can be easily obtained, and the carbon-hydrogen bond can be dissociated more efficiently, so that the amount of adsorption can be increased. In the acceleration method in which a grid voltage is applied in the conventional thermionic emission type plasma forming method, the effect of dissociating carbon-hydrogen bonds caused by directly striking the surface by plasma cannot be obtained, and the amount of adsorption cannot be increased. When the bias is applied to the disk D, the bias may be applied directly to the disk D or may be applied via a disk carrier (device for holding and transporting the disk D) (not shown).

【0107】ディスクDに印加するパルス直流バイアス
は平均電圧が−450〜−60V、好ましくは−400
〜−150V、より好ましくは−350〜−200Vで
あるものとするのが好ましい。
The pulse DC bias applied to the disk D has an average voltage of -450 to -60 V, preferably -400.
The voltage is preferably from -150 V, more preferably from -350 to -200 V.

【0108】平均電圧が上記範囲下限値未満であるとデ
ィスクD表面へのプラズマ衝撃性が大きくなりすぎるた
め、上記反応ガスがプラズマにより活性化された励起活
性種がディスクD上に定着しにくくなるためにカーボン
を主成分とする保護膜の緻密化が不充分となり、保護膜
の摺動耐久性が低下しやすくなる。
If the average voltage is less than the lower limit of the above range, the plasma impact on the surface of the disk D becomes too large, so that the excited active species in which the reaction gas is activated by plasma becomes difficult to fix on the disk D. For this reason, the densification of the protective film containing carbon as a main component becomes insufficient, and the sliding durability of the protective film tends to decrease.

【0109】また、この平均電圧が上記範囲上限値を越
えるとディスクD表面へのプラズマ衝撃性が小さくなり
すぎるため、保護膜の改質が不充分で、内部への吸着量
が多くならなず、表面に付着物が付着しやすくなる。
If the average voltage exceeds the upper limit of the above range, the plasma impact on the surface of the disk D becomes too small, so that the modification of the protective film is insufficient and the amount of adsorption to the inside does not increase. In addition, it becomes easier for deposits to adhere to the surface.

【0110】また基板の温度を130℃以上(好ましく
は150℃以上、さらに好ましくは170℃以上)にし
てカーボンを主成分とする保護膜を成膜するのが好まし
い。この基板温度が上記範囲下限値未満であると基板の
保持する熱量が小さいためにその熱量による炭素−水素
結合の解離(すなわち水素の熱脱離)が起りにくくなる
ために、保護膜表面の改質が不充分で、内部への吸着量
が多くならなず、表面に付着物が付着しやすくなる。
Further, it is preferable that the temperature of the substrate is 130 ° C. or higher (preferably 150 ° C. or higher, more preferably 170 ° C. or higher) to form a protective film containing carbon as a main component. If the substrate temperature is lower than the lower limit of the above range, the amount of heat held by the substrate is small, so that the dissociation of carbon-hydrogen bonds (that is, thermal desorption of hydrogen) due to the amount of heat is difficult to occur. Insufficient quality, the amount of adsorption to the inside does not increase, and deposits tend to adhere to the surface.

【0111】このようにパルス直流バイアスの平均電圧
を上記範囲とすることによりプラズマ衝撃性を適切なも
のとし、また基板温度を上記範囲とすることにより炭素
−水素結合の解離(すなわち水素の熱脱離)が起こりや
すくなる。その結果、保護膜表面の改質が充分で、内部
への吸着量が多くなり、表面に付着物が付着しにくくな
る。
As described above, by setting the average voltage of the pulse DC bias within the above range, the plasma impact property is made appropriate, and by setting the substrate temperature within the above range, dissociation of carbon-hydrogen bonds (that is, thermal desorption of hydrogen) is achieved. Separation) easily occurs. As a result, the surface of the protective film is sufficiently modified, the amount of adsorption to the inside is increased, and it is difficult for adhered substances to adhere to the surface.

【0112】さらに、カーボンを主成分とする保護膜の
表面の赤外吸収曲線において炭素−水素結合のピーク強
度値は0.055以下(より好ましくは0.05以下。
さらに好ましくは0.04以下。)となる条件でバイア
スを印加するのが好ましい。このような状態のカーボン
を主成分とする保護膜に潤滑剤を塗布すると、カーボン
を主成分とする保護膜と潤滑剤との結合を高めることが
できヘッドへの潤滑剤の付着を低減させることもできる
からである。
Further, in the infrared absorption curve of the surface of the protective film containing carbon as a main component, the peak intensity of carbon-hydrogen bond is 0.055 or less (more preferably 0.05 or less).
More preferably 0.04 or less. It is preferable to apply a bias under the conditions described in (1). When a lubricant is applied to the protective film mainly composed of carbon in such a state, the bond between the protective film mainly composed of carbon and the lubricant can be increased, and the adhesion of the lubricant to the head can be reduced. Because you can do it.

【0113】カーボンを主成分とする保護膜形成時には
バイアス電源13として高周波電源を用いディスクにパ
ルス直流バイアスに代えて高周波バイアスを印加するこ
とも出来る。この場合には10〜300W(好ましくは
10〜150W)の高周波電力をディスクに印加するの
が好ましい。周波数は、Rf周波数とすることができ、
例えば周波数が13.56MHzのものを用いることが
できる。
At the time of forming a protective film containing carbon as a main component, a high-frequency power source can be used as the bias power source 13 and a high-frequency bias can be applied to the disk instead of the pulse DC bias. In this case, it is preferable to apply a high frequency power of 10 to 300 W (preferably 10 to 150 W) to the disk. The frequency can be the Rf frequency,
For example, one having a frequency of 13.56 MHz can be used.

【0114】さらに好ましくは、前述した、上記パルス
直流バイアスは正電圧波高値すなわちパルス部分の正領
域における波高値が10〜100V好ましくは20〜7
5Vであるものとすることが好ましい。この正電圧波高
値が上記範囲下限値未満であるとバイアス電圧が正の領
域に至った時点でディスク表面の負電荷蓄積を十分に打
ち消すことが出来ず励起活性種がディスク上に定着しに
くくなるためカーボンを主成分とする保護膜の緻密化が
不十分となりやすくカーボンを主成分とする保護膜の摺
動耐久性が低下しやすい。
More preferably, the aforementioned pulse DC bias has a positive voltage peak value, that is, a peak value in the positive region of the pulse portion of 10 to 100 V, preferably 20 to 7 V.
Preferably, it is 5V. If the peak value of the positive voltage is less than the lower limit of the above range, the negative charge accumulation on the disk surface cannot be sufficiently canceled at the time when the bias voltage reaches the positive region, and the excited active species becomes difficult to fix on the disk. Therefore, the densification of the protective film containing carbon as a main component tends to be insufficient, and the sliding durability of the protective film containing carbon as a main component tends to decrease.

【0115】パルス直流バイアスの正電圧波高値、パル
ス幅、周波数は、カーボンを主成分とする保護膜のラマ
ン分光法によるId/Igが3.5以下(より好ましく
は3.0以下。さらに好ましくは2.5以下。)となる
ように調整するのが好ましい。
Regarding the positive voltage peak value, pulse width, and frequency of the pulse DC bias, Id / Ig of the protective film containing carbon as a main component determined by Raman spectroscopy is 3.5 or less (more preferably 3.0 or less, more preferably 3.0 or less). Is preferably 2.5 or less.).

【0116】また正電圧波高値が上記範囲上限値を越え
るとディスクD表面において逆スパッタ現象が起きやす
くなりカーボンを主成分とする保護膜の緻密化が不十分
となりやすくカーボンを主成分とする保護膜の摺動耐久
性が低下しやすい。
If the peak value of the positive voltage exceeds the upper limit of the above range, the reverse sputtering phenomenon easily occurs on the surface of the disk D, and the densification of the protective film containing carbon as a main component tends to be insufficient. The sliding durability of the film tends to decrease.

【0117】このようにパルス直流バイアスの正電圧波
高値を上記範囲とすることによりバイアス電圧が正の領
域に至った時点でディスク表面の負電荷蓄積を打ち消
し、励起活性種のディスク上への定着を促進することが
できる。これによりカーボンを主成分とする保護膜を緻
密化し、その摺動耐久性を向上させることができる。
By setting the positive voltage peak value of the pulse DC bias within the above range, the negative charge accumulation on the disk surface is canceled when the bias voltage reaches the positive region, and the excitation active species is fixed on the disk. Can be promoted. As a result, the protective film containing carbon as a main component can be densified, and its sliding durability can be improved.

【0118】また上記パルス直流バイアスの周波数は1
kHz〜100GHz(好ましくは10kHz〜1GH
z)とするのが好ましい。上記周波数が上記範囲下限値
未満であるとバイアス電圧が正の領域に至った時点でデ
ィスクD表面の負電荷蓄積を十分に打ち消すことが出来
ず励起活性種がディスクD上に定着しにくくなるためカ
ーボンを主成分とする保護膜の緻密化が不十分となりや
すくカーボンを主成分とする保護膜の摺動耐久性が低下
しやすい。また上記範囲上限値を越えるとディスクD表
面において逆スパッタ現象が起きやすくなりカーボンを
主成分とする保護膜の緻密化が不十分となりやすくカー
ボンを主成分とする保護膜の摺動耐久性が低下しやす
い。
The frequency of the pulse DC bias is 1
kHz to 100 GHz (preferably 10 kHz to 1 GHz
z) is preferable. If the frequency is less than the lower limit of the above range, the accumulation of negative charges on the surface of the disk D cannot be sufficiently canceled at the time when the bias voltage reaches the positive region, and it becomes difficult for the excited active species to be fixed on the disk D. Densification of the protective film containing carbon as the main component tends to be insufficient, and the sliding durability of the protective film containing carbon as the main component tends to decrease. If the upper limit of the above range is exceeded, the reverse sputtering phenomenon is likely to occur on the surface of the disk D, and the densification of the protective film mainly composed of carbon tends to be insufficient, so that the sliding durability of the protective film mainly composed of carbon decreases. It's easy to do.

【0119】また上記パルス直流バイアスのパルス幅は
1ns〜500μs(好ましくは10ns〜50μs)
とするのが好ましい。上記周波数が上記範囲下限値未満
であるとバイアス電圧が正の領域に至った時点でディス
クD表面の負電荷蓄積を十分に打ち消すことができず励
起活性種がディスクD上に定着しにくくなるためカーボ
ンを主成分とする保護膜の緻密化が不十分となりやすく
カーボンを主成分とする保護膜の摺動耐久性が低下しや
すい。また上記範囲上限値を越えるとディスクD表面に
おいて逆スパッタ現象が起きやすくなりカーボンを主成
分とする保護膜の緻密化が不十分となりやすくカーボン
を主成分とする保護膜の摺動耐久性が低下しやすい。
The pulse width of the pulse DC bias is 1 ns to 500 μs (preferably 10 ns to 50 μs).
It is preferred that If the frequency is less than the lower limit of the above range, the accumulation of negative charges on the surface of the disk D cannot be sufficiently canceled at the time when the bias voltage reaches the positive region, so that it becomes difficult for the excited active species to be fixed on the disk D. Densification of the protective film containing carbon as the main component tends to be insufficient, and the sliding durability of the protective film containing carbon as the main component tends to decrease. If the upper limit of the above range is exceeded, the reverse sputtering phenomenon is likely to occur on the surface of the disk D, and the densification of the protective film mainly composed of carbon tends to be insufficient, so that the sliding durability of the protective film mainly composed of carbon decreases. It's easy to do.

【0120】なお本明細書においてパルス直流バイアス
の正電圧波高値とは例えば図7中で示すパルス直流バイ
アスの電圧波形においてパルス部分の正領域部分の波高
値Xを指す。またこの例においてパルス幅はパルス部分
の幅Yである。
In this specification, the positive voltage peak value of the pulse DC bias refers to, for example, the peak value X of the positive region of the pulse portion in the pulse DC bias voltage waveform shown in FIG. In this example, the pulse width is the width Y of the pulse portion.

【0121】また、バイアスを印加して保護膜を形成す
る際には、印加するバイアスの条件、処理時間、チャン
バー内圧などの条件を調節することによって、保護膜表
面は、水接触角を80度以下(より好ましくは75度以
下。)としたものが好ましい。水接触角が80度以下で
ある保護膜は潤滑剤との結合力が充分であるために、磁
気ヘッドに潤滑剤が付着しにくいからである。
When forming a protective film by applying a bias, the surface of the protective film has a water contact angle of 80 degrees by adjusting the conditions of the applied bias, the processing time, and the pressure in the chamber. The following (more preferably 75 degrees or less) is preferable. This is because the protective film having a water contact angle of 80 degrees or less has a sufficient bonding force with the lubricant, so that the lubricant does not easily adhere to the magnetic head.

【0122】カーボンを主成分とする保護膜を形成した
上に前述と同様に潤滑膜を形成する。
After forming a protective film containing carbon as a main component, a lubricating film is formed in the same manner as described above.

【0123】(製造方法の例3)スパッター法と組み合
わせた別の製造方法の実施形態を説明する。前述と同様
にディスクDを得た後、保護膜を次のように形成する。
本実施形態の製造方法ではディスクD表面上に前述のい
ずれかと同様にしてCVD法を用いたカーボン保護膜を
形成したディスクD2を、カーボンを含む材料からなる
スパッタターゲットを内部に有し、ArガスまたはAr
ガスおよび窒素ガスを含む混合ガスをスパッタ用ガスと
して内部に導入する手段を有するスパッタチャンバ内に
搬入し、該ガスを放電させることによりプラズマを発生
させてディスクD2の表面上にさらにカーボンを主成分
とする保護膜をスパッタ法により形成する。スパッタ時
に、検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出され
る該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を含ん
で形成された化合物成分の抽出量が基準値以上となるよ
うな条件のバイアスをディスクに印加しながら、保護膜
を形成する。好ましくは、メラミンを抽出成分とした場
合、基準値が0.06[μg/100cm2](より好
ましくは0.12[μg/100cm2]。さらに好ま
しくは0.24[μg/100cm2])となるような
条件とする。図6に示す装置を用いることができる。こ
こで、符号41、42はスパッタターゲットであり、符
号21はバイアス電源でディスクD2にバイアスを印加
できるようになっている。
(Example 3 of Manufacturing Method) An embodiment of another manufacturing method combined with the sputtering method will be described. After obtaining the disk D in the same manner as described above, a protective film is formed as follows.
In the manufacturing method of the present embodiment, a disk D2 having a carbon protective film formed on the surface of the disk D by a CVD method in the same manner as any one of the above-described methods has a sputter target made of a material containing carbon therein, and an Ar gas. Or Ar
A mixed gas containing a gas and a nitrogen gas is carried into a sputtering chamber having means for introducing the mixed gas into the inside as a sputtering gas, and a plasma is generated by discharging the gas, so that carbon is further contained on the surface of the disk D2. Is formed by a sputtering method. At the time of sputtering, a condition is such that the amount of the test gas component extracted from the test solvent after being left in the test gas atmosphere and / or the compound component formed including the test gas component is equal to or more than a reference value. A protective film is formed while applying a bias to the disk. Preferably, when melamine is used as the extraction component, the reference value is 0.06 [μg / 100 cm 2 ] (more preferably 0.12 [μg / 100 cm 2 ], and still more preferably 0.24 [μg / 100 cm 2 ]). The condition is such that The apparatus shown in FIG. 6 can be used. Here, reference numerals 41 and 42 denote sputter targets, and reference numeral 21 denotes a bias power supply capable of applying a bias to the disk D2.

【0124】ディスクにバイアスを印加してスパッタ法
によりカーボンを主成分とする保護膜を形成すると、形
成される保護膜の表面がプラズマに叩かれた状態で保護
膜が形成される。さらに、ディスク表面にCVD法によ
り形成された保護膜が改質される。その結果、形成され
る膜は微細な孔をより多数有するものとできるので、吸
着に対する有効面積を大きなものとすることができるの
で、その結果充分な内部吸着量を有するものとできる。
When a protective film containing carbon as a main component is formed by a sputtering method by applying a bias to the disk, the protective film is formed in a state where the surface of the formed protective film is struck by plasma. Further, the protective film formed on the disk surface by the CVD method is modified. As a result, the formed film can have a large number of fine pores, so that the effective area for adsorption can be increased, and as a result, a sufficient internal adsorption amount can be obtained.

【0125】このように製造された磁気記録媒体は、検
査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される該検
査用ガス成分および/または検査ガス成分を含んで形成
された化合物成分の抽出量が基準値以上となる磁気記録
媒体となる。
The magnetic recording medium thus manufactured is subjected to extraction of the test gas component and / or the compound component containing the test gas component, which is extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere. A magnetic recording medium whose amount is equal to or more than the reference value is obtained.

【0126】印加するバイアスは、100〜400W
(好ましくは100〜200W)の高周波電力をディス
クに印加するのが好ましい。周波数は、Rf周波数とす
ることができ、例えば周波数が13.56MHzのもの
を用いることができる。この範囲にあるものは、充分に
微細な孔を有するものとできるので充分な内部吸着量を
有するものとできるからである。
The applied bias is 100 to 400 W
It is preferable to apply a high frequency power (preferably 100 to 200 W) to the disk. The frequency can be the Rf frequency, and for example, a frequency of 13.56 MHz can be used. This is because those in this range can have sufficiently fine pores and can have a sufficient amount of internal adsorption.

【0127】印加するバイアスは、図7に示したものと
同様なパルス直流バイアスとすることができる。好まし
くはディスクDに印加するパルス直流バイアスは平均電
圧が−450〜−60V、より好ましくは−400〜−
150V、さらに好ましくは−350〜−200Vであ
る。パルス直流バイアスの平均電圧を上記範囲とするこ
とによりプラズマ衝撃性を適切なものとし、形成される
膜の吸着に対する有効表面積が大きくなる。その結果、
内部への吸着量が多くなり、表面に付着物が付着しにく
くなる。
The bias to be applied can be a pulse DC bias similar to that shown in FIG. Preferably, the pulse DC bias applied to the disk D has an average voltage of -450 to -60 V, more preferably -400 to-
150V, more preferably -350 to -200V. By setting the average voltage of the pulse DC bias within the above range, the plasma impact property is made appropriate, and the effective surface area of the formed film for adsorption is increased. as a result,
The amount of adsorption to the inside is increased, and it is difficult for deposits to adhere to the surface.

【0128】基板温度を130℃以上(より好ましくは
150℃以上。)にするのが好ましい。基板温度をこの
範囲とすることにより形成される膜の吸着に対する有効
表面積が大きくなる。その結果、内部への吸着量が多く
なり、表面に付着物が付着しにくくなる。
The substrate temperature is preferably set to 130 ° C. or higher (more preferably, 150 ° C. or higher). By setting the substrate temperature within this range, the effective surface area for adsorption of the formed film is increased. As a result, the amount of adsorption to the inside increases, and it becomes difficult for deposits to adhere to the surface.

【0129】さらに好ましくは、前述した、上記パルス
直流バイアスは正電圧波高値すなわちパルス部分の正領
域における波高値が10〜100V好ましくは20〜7
5Vである。また上記パルス直流バイアスの周波数は1
kHz〜100GHz(好ましくは10kHz〜1GH
z)とするのが好ましい。また上記パルス直流バイアス
のパルス幅は1ns〜500μs(好ましくは10ns
〜50μs)とするのが好ましい。上記範囲とすること
によりプラズマ衝撃性をより適切なものとすることがで
き形成される膜の吸着に対する有効表面積がより大きく
なる。その結果、内部への吸着量がより多くなり、表面
に付着物がより付着しにくくなるからである。
More preferably, the aforementioned pulse DC bias has a positive voltage peak value, that is, a peak value in the positive region of the pulse portion of 10 to 100 V, preferably 20 to 7 V.
5V. The frequency of the pulse DC bias is 1
kHz to 100 GHz (preferably 10 kHz to 1 GHz
z) is preferable. The pulse width of the pulse DC bias is 1 ns to 500 μs (preferably 10 ns).
5050 μs). By setting the content within the above range, the plasma impact resistance can be made more appropriate, and the effective surface area for adsorption of the formed film becomes larger. As a result, the amount of adsorption to the inside increases, and it becomes more difficult for deposits to adhere to the surface.

【0130】さらに、Arガスおよび窒素ガスを含む混
合ガスをスパッタ用ガスとして用いた場合は、ESCA
を用いて測定された保護膜中の窒素量が窒素炭素比で5
〜40%(より好ましくは5〜25%、さらに好ましく
は13〜25%)となるようにスパッタの条件を設定す
ることが好ましい。この窒素量が上記範囲未満である場
合には、保護膜表面の改質が不充分で、内部への吸着量
が多くならなず、表面に付着物が付着しやすくなる。ま
た、保護膜表面の活性が低くなり保護膜と潤滑剤の結合
力が低下し潤滑剤がヘッドに付着しやすくなるのでフラ
イスティクション特性が低下するため好ましくない。
Further, when a mixed gas containing an Ar gas and a nitrogen gas is used as a sputtering gas, the ESCA
The amount of nitrogen in the protective film measured using
It is preferable to set the sputtering conditions so as to be 40% (more preferably 5% to 25%, further preferably 13% to 25%). If the amount of nitrogen is less than the above range, the modification of the surface of the protective film is insufficient, the amount of adsorption to the inside does not increase, and deposits easily adhere to the surface. Further, the activity of the surface of the protective film is reduced, the bonding force between the protective film and the lubricant is reduced, and the lubricant easily adheres to the head.

【0131】さらに、Arガスおよび窒素ガスを含む混
合ガスをスパッタ用ガスとして用いた場合は、カーボン
を主成分とする保護膜が磁性層と反対側の表面に窒化炭
素化合物を有していて、かつカーボンを主成分とする保
護膜が磁性層に接した面の近傍の位置において2at%
以下の窒素濃度を有することが好ましい。この範囲をは
ずれると、静磁気特性の保磁力が低下して磁気記録媒体
は低浮上量に適さないものとなってしまうからである。
Further, when a mixed gas containing Ar gas and nitrogen gas is used as a sputtering gas, the protective film containing carbon as a main component has a carbon nitride compound on the surface opposite to the magnetic layer, 2 at% at a position near the surface where the protective film mainly containing carbon is in contact with the magnetic layer.
It preferably has the following nitrogen concentration. If it is out of this range, the coercive force of the magnetostatic property is reduced, and the magnetic recording medium is not suitable for a low flying height.

【0132】スパッタ法で形成する際にスパッタリング
の他の条件は例えば次のようにする。形成に用いるチャ
ンバ内は真空度が10-4〜10-7[Pa]となるまで排
気する。チャンバ内に前工程で加熱された状態が維持さ
れた基板を収容して、Arガス及び窒素ガスを0.5〜
1.0[Pa]の圧力になるまで導入した状態で放電さ
せてプラズマを発生させてカーボンを含む材料からなる
ターゲットを原料としてスパッタ成膜をおこなう。この
とき、供給するパワーは0.2〜2.0[kW]とし、
放電時間と供給するパワーを調節することによって、所
望の膜厚を得ることができる。スパッタ法で形成する際
に供給するパワーは0.2〜2.0[kW](好ましく
は0.7〜1.8[kW])とするのが好ましい。0.
2[kW]未満であると充分な膜厚が得られない。2.
0[kW]を越えるとスパッタ法により形成した保護膜
の緻密性が低下するおそれがある。また、2.0[k
W]を越えるとスパッタ法により形成した窒化炭素化合
物が該カーボン膜中に磁性層方向に拡散して、カーボン
を主成分とする保護膜が磁性層に接した面の近傍の位置
における窒素濃度が2at%を越えてしまうおそれがあ
るからである。
Other conditions for sputtering when forming by sputtering are as follows, for example. The inside of the chamber used for the formation is evacuated until the degree of vacuum becomes 10 -4 to 10 -7 [Pa]. The substrate kept heated in the previous process is housed in the chamber, and Ar gas and nitrogen gas are supplied to the chamber at 0.5 to
Discharge is performed in a state where the pressure is introduced until the pressure reaches 1.0 [Pa] to generate plasma, and a sputtering film is formed using a target made of a material containing carbon as a raw material. At this time, the supplied power is 0.2 to 2.0 [kW],
By adjusting the discharge time and the power to be supplied, a desired film thickness can be obtained. It is preferable that the power supplied during the formation by the sputtering method be 0.2 to 2.0 [kW] (preferably 0.7 to 1.8 [kW]). 0.
If it is less than 2 [kW], a sufficient film thickness cannot be obtained. 2.
If it exceeds 0 [kW], the denseness of the protective film formed by the sputtering method may be reduced. Also, 2.0 [k
W], the carbon nitride compound formed by the sputtering method diffuses into the carbon layer in the direction of the magnetic layer, and the nitrogen concentration at a position near the surface where the protective film containing carbon as a main component is in contact with the magnetic layer is reduced. This is because there is a risk of exceeding 2 at%.

【0133】ディスクD2の有するCVD法により形成
されたカーボン膜の膜厚は、10〜60Åとしておくの
が好ましい。10Å未満であると充分な強度が得られな
いばかりでなく、スパッタ法により形成した窒化炭素化
合物が該カーボン膜中に磁性層方向に拡散して、カーボ
ンを主成分とする保護膜が磁性層に接した面の近傍の位
置における窒素濃度が2at%を越えてしまうおそれが
あるからである。
The thickness of the carbon film of the disk D2 formed by the CVD method is preferably set to 10 to 60 °. If it is less than 10 °, not only sufficient strength cannot be obtained, but also a carbon nitride compound formed by a sputtering method diffuses into the carbon film in the direction of the magnetic layer, and a protective film containing carbon as a main component is formed on the magnetic layer. This is because the nitrogen concentration at a position near the contact surface may exceed 2 at%.

【0134】さらに、カーボンを主成分とする保護膜の
表面の赤外吸収曲線において炭素−水素結合のピーク強
度値は0.055以下(より好ましくは0.05以下。
さらに好ましくは0.04以下。)となる条件でスパッ
タするのが好ましい。このような状態のカーボンを主成
分とする保護膜に潤滑剤を塗布すると、カーボンを主成
分とする保護膜と潤滑剤との結合を高めることができヘ
ッドへの潤滑剤の付着を低減させることもできるからで
ある。
Further, in the infrared absorption curve of the surface of the protective film containing carbon as a main component, the peak intensity of carbon-hydrogen bond is 0.055 or less (more preferably 0.05 or less).
More preferably 0.04 or less. It is preferable to perform sputtering under the conditions described in (1). When a lubricant is applied to the protective film containing carbon as a main component in such a state, the bonding between the protective film containing carbon as the main component and the lubricant can be increased, and the adhesion of the lubricant to the head can be reduced. Because you can do it.

【0135】また、バイアスを印加してスパッタ法で保
護膜を形成する際には、印加するバイアスの条件、スパ
ッタ条件、処理時間、チャンバー内圧などの条件を調節
することによって、保護膜表面は、水接触角を80度以
下(より好ましくは75度以下。)としたものが好まし
い。水接触角が80度以下である保護膜は潤滑剤との結
合力が充分であるために、磁気ヘッドに潤滑剤が付着し
にくいからである。
When a protective film is formed by a sputtering method by applying a bias, the surface of the protective film can be formed by adjusting the conditions of the applied bias, the sputtering conditions, the processing time, and the chamber internal pressure. Those having a water contact angle of 80 degrees or less (more preferably 75 degrees or less) are preferable. This is because the protective film having a water contact angle of 80 degrees or less has a sufficient bonding force with the lubricant, so that the lubricant does not easily adhere to the magnetic head.

【0136】カーボンを主成分とする保護膜を形成した
上に前述と同様に潤滑膜を形成する。
After forming a protective film mainly containing carbon, a lubricating film is formed in the same manner as described above.

【0137】(製造方法のその他の例)前述の製造方法
の例3において、CVD法による保護膜の形成工程を従
来のスパッタ法による保護膜の形成工程に置きかえるこ
とも可能である。保護膜の表面側に製造方法の例3と同
様の膜を形成できるので、前述の効果を得ることができ
る。
(Other Examples of Manufacturing Method) In Example 3 of the manufacturing method described above, the step of forming the protective film by the CVD method can be replaced with the step of forming the protective film by the conventional sputtering method. Since a film similar to that of Example 3 of the manufacturing method can be formed on the surface side of the protective film, the above-described effects can be obtained.

【0138】また、前述の製造方法の例3においてCV
D法による保護膜の形成工程を含まないで前述したバイ
アスを印加しながらスパッタ法によって保護膜を形成す
ることもできる。保護膜の表面側に製造方法の例3と同
様の膜を形成できるので、前述の効果を得ることができ
る。さらに、Arガスおよび窒素ガスを含む混合ガスを
スパッタ用ガスとして用いた場合は、カーボンを主成分
とする保護膜が磁性層と反対側の表面に窒化炭素化合物
を有していて、かつカーボンを主成分とする保護膜が磁
性層に接した面の近傍の位置において2at%以下の窒
素濃度を有することが好ましい。この範囲をはずれる
と、静磁気特性の保磁力が低下して磁気記録媒体は低浮
上量に適さないものとなってしまうからである。そのた
めには、例えば、初めは窒素ガスを含まない条件で成膜
しその後窒素を含むガスで形成することで製造すること
ができる。
In Example 3 of the above-described manufacturing method, the CV
The protective film can be formed by the sputtering method while applying the above-described bias without including the step of forming the protective film by the D method. Since a film similar to that of Example 3 of the manufacturing method can be formed on the surface side of the protective film, the above-described effects can be obtained. Further, when a mixed gas containing Ar gas and nitrogen gas is used as a sputtering gas, the protective film containing carbon as a main component has a carbon nitride compound on the surface on the side opposite to the magnetic layer, and contains carbon. It is preferable that the protective film as the main component has a nitrogen concentration of 2 at% or less at a position near the surface in contact with the magnetic layer. If it is out of this range, the coercive force of the magnetostatic property is reduced, and the magnetic recording medium is not suitable for a low flying height. For this purpose, for example, it can be manufactured by first forming a film under a condition containing no nitrogen gas and then forming the film with a gas containing nitrogen.

【0139】以上説明した実施形態の製造方法によって
製造される磁気記録媒体は、検査用ガス雰囲気中に放置
後検査用溶剤で抽出される該検査用ガス成分および/ま
たは検査ガス成分を含んで形成された化合物成分の抽出
量が基準値以上であるので、磁気記録媒体の表面のカー
ボンを主成分とする保護膜は付着物が付着しにくくいも
のとなる。抽出成分をメラミンとした場合、基準値が
0.06[μg/100cm2]であるのが好ましい。
よって、ヘッドの浮上量を低減させてもヘッドに付着物
が付着しないので、ヘッドの浮上量を低減させてもフラ
イスティクション特性が低下しない磁気記録媒体とな
る。また、カーボン保護膜は好ましくはFTIR法によ
る炭素−水素結合由来のピーク強度値が0.055以下
であるので、保護膜表面を潤滑剤が安定して覆い込み付
着物の付着を抑えることができる。また好ましくは、カ
ーボン保護膜3は、ESCA測定法で測定して窒素炭素
比が5〜40%の含有量の窒素を含んでいるので、より
緻密で硬い膜である。本発明の磁気記録媒体は、好まし
くは、より硬く薄い状態であって摺動耐久性、潤滑性に
優れた、付着物の付着を誘発する摩耗粉の発生、Niコ
ロージョンの発生を抑えるたカーボンを主成分とする保
護膜を有した磁気記録媒体となる。
The magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the embodiment described above is formed by including the test gas component and / or the test gas component extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere. Since the extracted amount of the compound component is equal to or more than the reference value, the protective film mainly composed of carbon on the surface of the magnetic recording medium is hardly adhered to the adhered substance. When melamine is used as the extraction component, the reference value is preferably 0.06 [μg / 100 cm 2 ].
Therefore, no matter adheres to the head even when the flying height of the head is reduced, so that a magnetic recording medium in which the fly stiction characteristics do not deteriorate even when the flying height of the head is reduced. Further, since the carbon protective film preferably has a peak intensity value derived from carbon-hydrogen bond by the FTIR method of 0.055 or less, the surface of the protective film can be stably covered with the lubricant to suppress the adhesion of deposits. . Preferably, the carbon protective film 3 is a denser and harder film because it contains nitrogen having a nitrogen-carbon ratio of 5 to 40% as measured by the ESCA measurement method. The magnetic recording medium of the present invention is preferably made of carbon that is harder and thinner and has excellent sliding durability and lubricating properties, suppresses the generation of abrasion powder that induces adhesion of deposits, and suppresses the generation of Ni corrosion. The magnetic recording medium has a protective film as a main component.

【0140】これらの結果、スペーシングロスを低減さ
せた磁気記録媒体を製造することができて、従来の磁気
記録媒体と比べてより高記録密度に対応が可能な磁気記
録媒体を製造することができる。
As a result, a magnetic recording medium with reduced spacing loss can be manufactured, and a magnetic recording medium capable of coping with a higher recording density than a conventional magnetic recording medium can be manufactured. it can.

【0141】本発明に従って作製した磁気記録媒体を使
用した場合、ヘッドの浮上量をより低下させることがで
きるので、その浮上量に対応して磁気記録媒体の保磁力
Hcを高くすることが好ましい。例えば3000エルス
テッド以上、好ましくは3500エルステッド以上であ
るのがより高記録密度を実現するのにより好ましい。前
述した範囲で前述の下地膜、磁性膜の組成、膜厚、膜構
成、成膜条件を調整することにより所望の保磁力を得る
ことができる。
When the magnetic recording medium manufactured according to the present invention is used, the flying height of the head can be further reduced. Therefore, it is preferable to increase the coercive force Hc of the magnetic recording medium in accordance with the flying height. For example, it is more preferably 3000 Oe or more, preferably 3500 Oe or more to realize higher recording density. A desired coercive force can be obtained by adjusting the composition, thickness, film configuration, and film forming conditions of the underlayer and the magnetic film within the above-described ranges.

【0142】また、予備試験を実施して決めておいた基
準値以上、例えばフライスティクション試験で付着物の
付いた磁気記録媒体について測定した抽出量以上になる
ように製造した磁気記録媒体は抽出量が基準値以上の磁
気記録媒体であるので付着物が付着しにくい磁気記録媒
体を容易に製造することができる。すなわち、本発明の
判定方法を用いれば付着物の付着しにくさを判定できる
ので、付着物の付着しない磁気記録媒体を製造するため
の工程管理の指標とすることができる。この指標を用い
ることにより、適切な工程管理ができるので付着物の付
着しない磁気記録媒体を容易に製造することができる。
A magnetic recording medium manufactured so as to have an extraction amount equal to or greater than a reference value determined by performing a preliminary test, for example, an extraction amount measured with respect to a magnetic recording medium having attached matter in a fly stiction test, is not limited to an extraction amount. Since the amount of the magnetic recording medium is equal to or more than the reference value, it is possible to easily manufacture the magnetic recording medium to which the adhered substance is hardly attached. That is, if the determination method of the present invention is used, it is possible to determine the difficulty of adhering substances, and thus it can be used as an index for process control for manufacturing a magnetic recording medium to which no adhering substances adhere. By using this index, appropriate process control can be performed, so that a magnetic recording medium with no attached matter can be easily manufactured.

【0143】また、本発明の判定方法を用いれば保護膜
へ付着物の付着しにくさを短時間で加速的に検査できる
ので、長時間の実使用後に付着物の付着が発生するか確
認する検査することなく短時間で製造工程にフィードバ
ックすることができる。よって安定して磁気記録媒体を
製造することができる。
Further, by using the determination method of the present invention, it is possible to accelerately inspect the difficulty of deposits on the protective film in a short time. Therefore, it is checked whether the deposits occur after a long period of actual use. Feedback to the manufacturing process can be made in a short time without inspection. Therefore, a magnetic recording medium can be stably manufactured.

【0144】そのような磁気記録媒体はフライスティク
ション特性が良好であるので浮上量を低下させた高記録
密度に適した磁気記録媒体を容易に製造することができ
る。
Since such a magnetic recording medium has good fly stiction characteristics, it is possible to easily manufacture a magnetic recording medium having a reduced flying height and suitable for high recording density.

【0145】[0145]

【実施例】以下、本発明の実施例を具体的に説明するが
本発明は、これに限定されるものではない。 実施例1(CVD法による保護膜形成後窒素ガスにより
保護膜改質した。) NiPメッキAl基板(直径95mm、板厚0.8m
m)の表面に平均粗さRa6Åのテクスチヤ加工を施し
た後、成膜装置(アネルバ製「3010」)のチャンバ
内にセットした。チャンバ内を到達真空度2.0×10
-6Paまで排気した後、スパッタ−法を用いて、非磁性
下地層としてCrを350Åの厚さに形成し、その上に
磁性膜としてCo16Cr6Pt3Ta(Cr含有率1
6at%、Pt含有率6at%、Ta含有率3at%、
残りはCo。)合金を250Åの厚さに形成した。カー
ボンを主成分とする保護膜形成時の基板の温度が150
℃になるように非磁性下地膜を成膜する前にヒータ加熱
方式を用いて基板を加熱した。なお基板温度はカーボン
を主成分とする保護膜を形成する直前にチャンバの窓よ
り放射温度計を用いて確認した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. Example 1 (After forming the protective film by the CVD method, the protective film was modified with nitrogen gas.) NiP plated Al substrate (diameter: 95 mm, plate thickness: 0.8 m)
m) was subjected to texture processing with an average roughness of Ra6Å, and then set in a chamber of a film forming apparatus (“3010” manufactured by Anelva). 2.0 × 10 ultimate vacuum in the chamber
After evacuation to -6 Pa, Cr was formed as a nonmagnetic underlayer to a thickness of 350 ° by a sputtering method, and Co16Cr6Pt3Ta (Cr content: 1) was formed thereon as a magnetic film.
6 at%, Pt content 6 at%, Ta content 3 at%,
The rest is Co. ) The alloy was formed to a thickness of 250 °. When the temperature of the substrate at the time of forming the protective film mainly containing carbon is 150
The substrate was heated using a heater heating method before forming the non-magnetic underlayer so as to reach a temperature of ° C. The substrate temperature was checked using a radiation thermometer through the window of the chamber immediately before forming the protective film containing carbon as a main component.

【0146】以上のようにして得られたディスクDを、
引き続き、CVD装置内に搬送して、磁性膜の上にはカ
ーボンを主成分とする保護膜として、水素化カーボン膜
を50Åの厚さに形成した。形成に際して高周波電力
(周波数13.56MHz)を電極に印加しプラズマを
発生させた。また、カーボンを主成分とする保護膜の形
成時にパルス直流バイアスを印加した。それらの各条件
は表1に示した。次いで、カーボン保護膜を形成したデ
ィスクDを、保護膜改質装置のチャンバ20内に搬入
し、窒素を保護膜改質ガスとしてチャンバ20内に供給
した。同時に、高周波電力(周波数13.56MHz)
をディスクDに印加しプラズマを発生させ、ディスクD
両面のカーボン保護膜に改質処理を施した。改質処理の
際の条件を表1に示す。次に、フォンブリン潤滑剤Zd
ol2000(アウジモント社製)をディッピング法を
用いてほぼ15Åの厚さに塗布することにより、カーボ
ンを主成分とする保護膜上に潤滑層を形成した。
The disc D obtained as described above is
Subsequently, the wafer was transported into a CVD apparatus, and a hydrogenated carbon film having a thickness of 50 ° was formed on the magnetic film as a protective film containing carbon as a main component. During the formation, high-frequency power (frequency 13.56 MHz) was applied to the electrodes to generate plasma. In addition, a pulse DC bias was applied during the formation of the protective film containing carbon as a main component. The respective conditions are shown in Table 1. Next, the disk D on which the carbon protective film was formed was carried into the chamber 20 of the protective film reforming apparatus, and nitrogen was supplied into the chamber 20 as a protective film reforming gas. At the same time, high frequency power (frequency 13.56 MHz)
Is applied to the disk D to generate plasma.
The carbon protective films on both sides were modified. Table 1 shows the conditions for the reforming treatment. Next, Fomblin lubricant Zd
ol2000 (manufactured by Ausimont Co.) was applied to a thickness of about 15 ° by a dipping method to form a lubricating layer on the protective film containing carbon as a main component.

【0147】実施例2(CVD法により保護膜形成後酸
素ガスにより保護膜改質した。) 表1に示した保護膜改質ガス、条件に変更した以外は実
施例1と同様に磁気記録媒体を製作した。
Example 2 (Protective film was modified by oxygen gas after forming the protective film by the CVD method.) The magnetic recording medium was the same as in Example 1 except that the protective film modified gas and the conditions shown in Table 1 were changed. Was made.

【0148】実施例3(CVD法により保護膜形成後A
rガスにより保護膜改質した。) 表1に示した保護膜改質ガス、条件に変更した以外は実
施例1と同様に磁気記録媒体を製作した。
Example 3 (A after forming protective film by CVD method)
The protective film was reformed by r gas. A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the protective film modified gas and conditions shown in Table 1 were changed.

【0149】実施例4〜7(CVD法により保護膜形成
後窒素ガスおよびArガスによるスパッタ法により保護
膜形成した。) 実施例1と同様にしてディスクDを製造した。引き続
き、CVD装置内に搬送して、磁性膜の上にはカーボン
を主成分とする保護膜として、水素化カーボン膜を40
Åの厚さに形成した。形成に際して高周波電力(周波数
13.56MHz。パワー750W。)を電極に印加し
プラズマを発生させた。また、保護膜の形成時にパルス
直流バイアスを印加した。さらに、その上にスパッタ法
による窒化炭素化合物を含む保護膜を形成した。実施例
4、5ではディスクに高周波バイアス(周波数13.5
6MHz。)を印加しながら形成した。実施例6、7で
はディスクにパルス直流バイアスを印加しながら形成し
た。スパッタ法による保護膜の膜厚は10Åとした。こ
のときのCVD法で形成した保護膜の膜厚は40Åとし
た。各条件は表1に示した。
Examples 4 to 7 (After forming a protective film by a CVD method, a protective film was formed by a sputtering method using nitrogen gas and Ar gas.) A disk D was manufactured in the same manner as in Example 1. Subsequently, the wafer is transported into a CVD apparatus, and a hydrogenated carbon film is deposited on the magnetic film as a protective film containing carbon as a main component.
Å was formed. During the formation, high-frequency power (frequency 13.56 MHz; power 750 W) was applied to the electrodes to generate plasma. Further, a pulse DC bias was applied during the formation of the protective film. Further, a protective film containing a carbon nitride compound was formed thereon by a sputtering method. In the fourth and fifth embodiments, high frequency bias (frequency 13.5
6 MHz. ) Was applied. In Examples 6 and 7, the disk was formed while applying a pulse DC bias to the disk. The thickness of the protective film formed by the sputtering method was 10 °. At this time, the thickness of the protective film formed by the CVD method was 40 °. Each condition is shown in Table 1.

【0150】実施例8〜13(パルス直流バイアスを印
加したCVD法により保護膜形成した。) 実施例1と同様にしてディスクDを製造した。引き続
き、CVD装置内に搬送して、磁性膜の上にはカーボン
を主成分とする保護膜として、水素化カーボン膜を50
Åの厚さに形成した。形成に際して高周波電力(周波数
13.56MHz)を電極に印加しプラズマを発生させ
た。実施例8〜11ではディスクにパルス直流バイアス
を印加しながら形成した。実施例12、13ではディス
クに高周波バイアス(周波数13.56MHz。)を印
加しながら形成した。それらの各条件は表2に示した。
次に、実施例1と同様に潤滑層を形成した。
Examples 8 to 13 (Protective film was formed by a CVD method applying a pulse DC bias.) A disk D was manufactured in the same manner as in Example 1. Subsequently, the film is transported into a CVD apparatus, and a hydrogenated carbon film is formed on the magnetic film as a protective film containing carbon as a main component.
Å was formed. During the formation, high-frequency power (frequency 13.56 MHz) was applied to the electrodes to generate plasma. In Examples 8 to 11, the disk was formed while applying a pulse DC bias to the disk. In Examples 12 and 13, the disk was formed while applying a high frequency bias (frequency of 13.56 MHz) to the disk. The respective conditions are shown in Table 2.
Next, a lubricating layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0151】実施例14〜16、比較例1(スパッタ法
のみにより保護膜形成した。) 実施例1と同様にしてディスクDを製造した。さらに、
その上にスパッタ法によるカーボンを主成分とする保護
膜を、表1に示した条件により形成した。実施例14〜
16ではディスクに高周波バイアス(周波数13.56
MHz。パワー200W。)を印加しながら形成した。
比較例1ではバイアスを印加しないで形成した。カーボ
ンを主成分とする保護膜の膜厚は50Åとした。次に、
実施例1と同様に潤滑層を形成した。
Examples 14 to 16 and Comparative Example 1 (Protective film was formed only by sputtering) A disk D was manufactured in the same manner as in Example 1. further,
A protective film containing carbon as a main component was formed thereon by sputtering under the conditions shown in Table 1. Example 14-
In No. 16, a high frequency bias (frequency 13.56
MHz. Power 200W. ) Was applied.
Comparative Example 1 was formed without applying a bias. The thickness of the protective film containing carbon as a main component was 50 °. next,
A lubricating layer was formed in the same manner as in Example 1.

【0152】比較例2(従来のCVD法により保護膜形
成した。) 保護膜改質処理を実施しなかった点以外は実施例1と同
様に磁気記録媒体を製作した。
Comparative Example 2 (Protective Film Formed by Conventional CVD Method) A magnetic recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the protective film modification treatment was not performed.

【0153】一方各実施例において、潤滑剤を塗布する
前に、カーボンを主成分とする保護膜を形成する前後の
磁気記録媒体の表面の赤外吸収曲線を測定し、カーボン
を主成分とする保護膜赤外吸収曲線を算出した。その後
炭素−水素結合由来のピーク強度値を求めた。測定位置
は、ディスクの半径20mmとした。測定した結果を表
1に示した。
On the other hand, in each embodiment, before applying the lubricant, the infrared absorption curves of the surface of the magnetic recording medium before and after the formation of the protective film containing carbon as the main component were measured, and carbon was used as the main component. The protective film infrared absorption curve was calculated. Thereafter, a peak intensity value derived from a carbon-hydrogen bond was determined. The measurement position was a radius of 20 mm of the disk. Table 1 shows the measurement results.

【0154】フライスティクション試験は、以下の方法
で実施した。まず、半径19.5mmの位置にヘッド
(実際の磁気記録再生装置で使用されるMRヘッド)を
置き、40℃、湿度80%の環境下で回転数7200r
pmで回転させる。その後、ヘッドの位置を半径44m
mに移動し、回転数7200rpmを維持した状態で1
8時間放置する。次にヘッドの位置を再度19.5mm
に移動させて磁気記録媒体の回転を停止して、その状態
で6時間磁気記録媒体を静置した。その後、1サイクル
(5秒間で回転数7200rpmまで立ち上げ、720
0rpmを1秒間維持し5秒間で回転を停止し1秒間静
置)のCSS(contact start sto
p)を実施した。フライスティクション試験を終了した
ヘッドへの潤滑剤の付着の状態を次ぎのように評価し
た。試験が終了したヘッドのディスク側の面を光学顕微
鏡(倍率240倍)で観察し、付着物のあるものを付着
物発生とカウントした。測定した結果を表1、表2およ
び表3に示した。
The fly stiction test was performed by the following method. First, a head (an MR head used in an actual magnetic recording / reproducing apparatus) is placed at a position having a radius of 19.5 mm, and the number of rotations is 7200 r in an environment of 40 ° C. and 80% humidity.
Rotate at pm. After that, the position of the head is
m while maintaining the rotational speed at 7200 rpm.
Leave for 8 hours. Next, the position of the head is again set to 19.5 mm.
And the rotation of the magnetic recording medium was stopped, and the magnetic recording medium was allowed to stand still for 6 hours in that state. Thereafter, one cycle (starting up to 7200 rpm in 5 seconds, 720
0 rpm is maintained for 1 second, the rotation is stopped for 5 seconds, and the system is allowed to stand for 1 second.
p) was performed. The state of adhesion of the lubricant to the head after the fly stiction test was completed was evaluated as follows. The surface of the head on the disk side where the test was completed was observed with an optical microscope (magnification: 240 times), and those with attached matter were counted as the occurrence of attached matter. The measured results are shown in Tables 1, 2 and 3.

【0155】メラミン抽出量の測定は次の条件で測定し
た。市販の磁気記録再生装置内のスピンドルに、各実施
例、比較例の磁気記録媒体を装着し、不純物ガス発生源
としてポリウレタンペースト2gにメラミンを1質量%
混練したものを70mm×25mmのアルミホイール片
上に塗布し乾燥したものを磁気記録再生装置内に一緒に
入れ、磁気記録媒体を3000rpmで回転させた状態
で80℃、20%RH雰囲気中に30時間放置した。そ
の後各磁気記録媒体を取りだし、80℃に保温した30
mlのエタノール中に1時間浸漬した。抽出されたメラ
ミンをGC−MS(日本電子社製Automass)を
用いて定量測定した。測定した結果を表1、表2および
表3に示した。
The amount of melamine extracted was measured under the following conditions. A magnetic recording medium of each of Examples and Comparative Examples was mounted on a spindle in a commercially available magnetic recording / reproducing apparatus, and 1 g of melamine was added to 2 g of polyurethane paste as a source of impurity gas.
The kneaded material was applied on a 70 mm × 25 mm aluminum wheel piece and dried, then put together in a magnetic recording / reproducing apparatus, and the magnetic recording medium was rotated at 3000 rpm in an atmosphere of 80 ° C. and 20% RH for 30 hours. I left it. Thereafter, each magnetic recording medium was taken out and kept at 80 ° C. for 30 minutes.
It was immersed in 1 ml of ethanol for 1 hour. The extracted melamine was quantitatively measured using GC-MS (Automass, manufactured by JEOL Ltd.). The measured results are shown in Tables 1, 2 and 3.

【0156】ESCA装置(Specs社製、Sage
100)を用いて保護膜表面の窒素量から窒素炭素比を
以下の式に基づいて求めた。測定した結果を表1、表2
および表3に併せて示す。 窒素炭素比(%)=(N1sピーク面積)/(C1sピーク面
積)×100 装置仕様および測定条件は以下の通りである。 アノード:アルミニウム製 スポットサイズ:2〜3mm 面積の求め方:フィッティング法(C:Gaussianフィッ
ティング、N,O;Gaussian+Lorentzフィッティン
グ)
ESCA equipment (Sages, Sage)
100), the nitrogen-carbon ratio was determined from the amount of nitrogen on the surface of the protective film based on the following equation. Tables 1 and 2 show the measured results.
And Table 3 together. Nitrogen carbon ratio (%) = (N1s peak area) / (C1s peak area) × 100 The device specifications and measurement conditions are as follows. Anode: made of aluminum Spot size: 2-3 mm Method for determining area: fitting method (C: Gaussian fitting, N, O; Gaussian + Lorentz fitting)

【0157】また、ラマン分光分析装置(Jobin−
Yvon社製)を用いて、ラマン分光法(光源:Arレ
ーザー、波長:514.5nm、出力:100mW、露
光時間:10秒、面積の求め方:Gaussianフィッティン
グ)によるカーボン保護膜の分析を行った結果を表1、
表2および表3に併せて示す。
In addition, a Raman spectrometer (Jobin-
The carbon protective film was analyzed by Raman spectroscopy (light source: Ar laser, wavelength: 514.5 nm, output: 100 mW, exposure time: 10 seconds, method for obtaining area: Gaussian fitting) using Yvon Corporation. Table 1 shows the results.
The results are shown in Tables 2 and 3.

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】[0159]

【表2】 [Table 2]

【0160】[0160]

【表3】 [Table 3]

【0161】[0161]

【発明の効果】本発明の検査方法によれば、磁気記録媒
体の該磁気記録媒体を検査用ガス雰囲気中に放置後検査
用溶剤で抽出される該検査用ガス成分および/または検
査ガス成分を含んで形成された化合物成分の抽出量と予
め設定した基準値とを比較することによって、長時間の
実使用試験をすることなくヘッド付着物の発生を検査で
きるので容易に検査することができる。また、本検査方
法で、ヘッドに付着物の発生しない製造条件を決めるこ
とができる。また、検査結果を磁気記録媒体の製造にフ
ィードバックすることができる。
According to the inspection method of the present invention, the test gas component and / or the test gas component extracted from the magnetic recording medium with the test solvent after leaving the magnetic recording medium in the test gas atmosphere are used. By comparing the extracted amount of the compound component contained and formed with a preset reference value, the occurrence of head deposits can be inspected without performing a long-term actual use test, so that the inspection can be easily performed. Further, the present inspection method can determine manufacturing conditions under which no deposits are generated on the head. In addition, the inspection result can be fed back to the manufacture of the magnetic recording medium.

【0162】本発明の磁気記録媒体は、該磁気記録媒体
を検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される
該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を含んで
形成された化合物成分の抽出量が基準値以上である磁気
記録媒体であるのでフライスティクション特性が向上し
ているので、低浮上量の状態で使用することができ、高
記録密度での使用が可能となる。
The magnetic recording medium of the present invention is characterized in that the magnetic recording medium is left in a gas atmosphere for inspection and is extracted with a solvent for inspection, and the compound component containing the inspection gas component and / or the gas component containing the inspection gas component is formed. Since the magnetic recording medium has an extraction amount equal to or more than the reference value, the fly stiction characteristics are improved, so that the medium can be used with a low flying height and can be used at a high recording density.

【0163】また、本発明の製造方法によれば上記検査
方法を用いているので上記磁気記録媒体の製造を容易に
することができる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, since the above-described inspection method is used, the manufacture of the magnetic recording medium can be facilitated.

【0164】また、本発明の磁気記録再生装置によれ
ば、上記磁気記録媒体を用いるので、フライスティクシ
ョン特性が向上し、磁気ヘッドと磁気記録媒体の距離を
小さくした状態で使用できるので高記録密度が可能な装
置となる。
Further, according to the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention, since the above-mentioned magnetic recording medium is used, the fly stiction characteristic is improved, and the magnetic recording medium can be used with the distance between the magnetic head and the magnetic recording medium shortened. This is a device capable of density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】飛来するガスの総量を変えた時の磁気記録媒体
の表面の付着物の量を示した図である。
FIG. 2 is a diagram showing the amount of deposits on the surface of a magnetic recording medium when the total amount of flying gas is changed.

【図3】図1に示す磁気記録媒体を用いた磁気記録再生
装置の一例を示す概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an example of a magnetic recording / reproducing apparatus using the magnetic recording medium shown in FIG.

【図4】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態
を実施するために用いられるプラズマCVD装置を示す
構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a plasma CVD apparatus used for carrying out an embodiment of the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【図5】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態
を実施するために用いられる保護膜改質装置を示す構成
図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a protective film reforming apparatus used for carrying out an embodiment of the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention.

【図6】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態
を実施するために用いられるスパッタ装置を示す構成図
である。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a sputtering apparatus used for carrying out one embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【図7】パルス直流バイアスの平均電圧値、正電圧波高
値を説明するための説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining an average voltage value and a positive voltage peak value of a pulse DC bias.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 非磁性下地層 2 磁性層 3 保護膜 4 潤滑層 10 チャンバ 11 電極 12 高周波電源 13 バイアス電源 14 プロセスガス供給源 15 導入管 16 排気管 17 排気量調節バルブ 20 チャンバ 21 バイアス用高周波電源 24 整合器 25 導入管 26 排気管 27 排気量調節バルブ 30 磁気記録媒体 31 媒体駆動部 32 磁気ヘッド 33 ヘッド駆動部 34 記録再生信号処理系 41 スパッタターゲット 42 スパッタターゲット S 非磁性基板 D ディスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Nonmagnetic underlayer 2 Magnetic layer 3 Protective film 4 Lubricating layer 10 Chamber 11 Electrode 12 High frequency power supply 13 Bias power supply 14 Process gas supply source 15 Introducing pipe 16 Exhaust pipe 17 Displacement control valve 20 Chamber 21 High frequency power supply for bias 24 Matching device Reference Signs List 25 introduction pipe 26 exhaust pipe 27 displacement control valve 30 magnetic recording medium 31 medium drive unit 32 magnetic head 33 head drive unit 34 recording / reproducing signal processing system 41 sputter target 42 sputter target S non-magnetic substrate D disk

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地
層、磁性層を形成したディスク上に、カーボンを主成分
とする保護膜を形成する磁気記録媒体の該保護膜表面へ
の付着物の付着特性の検査方法において、該磁気記録媒
体を検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出され
る該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を含ん
で形成された化合物成分の抽出量が予め設定した基準値
以上であることを判定することを特徴とする磁気記録媒
体の検査方法。
1. A method of manufacturing a magnetic recording medium comprising a non-magnetic substrate and at least a non-magnetic underlayer and a magnetic layer on which a protective film containing carbon as a main component is formed. In the method for examining adhesion characteristics, the amount of the test gas component and / or the compound component formed including the test gas component extracted with the test solvent after leaving the magnetic recording medium in the test gas atmosphere is reduced. A method for inspecting a magnetic recording medium, wherein it is determined that the value is equal to or greater than a preset reference value.
【請求項2】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を
記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置内
にて発生するガスを検査用ガス成分とすることを特徴と
する請求項1に記載の検査方法。
2. A test gas component generated in a magnetic recording / reproducing apparatus having a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium. 2. The inspection method according to 1.
【請求項3】検査用ガス成分が、シロキサン系ガス、ア
クリル酸系ガス、気化したメラミン、気化した滑剤、気
化した高級脂肪酸、気化したフタル酸エステル、気化し
たジオクチルフタレートから選ばれた1つまたは2つ以
上の組み合わせであることを特徴とする請求項1または
請求項2に記載の検査方法。
3. The gas component for inspection is one or more selected from siloxane gas, acrylic acid gas, vaporized melamine, vaporized lubricant, vaporized higher fatty acid, vaporized phthalate ester, and vaporized dioctyl phthalate. The inspection method according to claim 1 or 2, wherein the inspection method is a combination of two or more.
【請求項4】検査用ガス成分を磁気記録再製装置の内部
に使用される部材から発生するガス成分とすることを特
徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の検査方
法。
4. The inspection method according to claim 1, wherein the inspection gas component is a gas component generated from a member used inside the magnetic recording reproduction apparatus.
【請求項5】検査用溶剤が、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、水から選ばれた1つまたは2
つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項1乃
至4のいずれか1項に記載の検査方法。
5. The test solvent is methanol, ethanol,
One or two selected from isopropyl alcohol and water
The inspection method according to any one of claims 1 to 4, wherein the inspection method is one or more combinations.
【請求項6】抽出成分をメラミンとしたときの基準値が
0.06[μg/100cm2]であることを特徴とす
る請求項1乃至5のいずれか1項に記載の検査方法。
6. The inspection method according to claim 1, wherein a reference value when the extraction component is melamine is 0.06 [μg / 100 cm 2 ].
【請求項7】非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地
層、磁性層を形成した上に、カーボンを主成分とする保
護膜を形成した磁気記録媒体において、該磁気記録媒体
を検査用ガス雰囲気中に放置後検査用溶剤で抽出される
該検査用ガス成分および/または検査ガス成分を含んで
形成された化合物成分の抽出量が基準値以上である磁気
記録媒体。
7. A magnetic recording medium in which at least a non-magnetic underlayer and a magnetic layer are formed on a non-magnetic substrate, and a protective film containing carbon as a main component is formed on the non-magnetic substrate. A magnetic recording medium in which the amount of the test gas component and / or the compound component formed containing the test gas component extracted with the test solvent after being left inside is equal to or greater than a reference value.
【請求項8】抽出成分をメラミンとしたときの基準値が
0.06[μg/100cm2]であることを特徴とす
る請求項7に記載の磁気記録媒体。
8. The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the reference value when the extraction component is melamine is 0.06 [μg / 100 cm 2 ].
【請求項9】カーボンを主成分とする保護膜の表面の赤
外吸収曲線の炭素−水素結合由来のピーク強度値が0.
055以下であることを特徴とする請求項7乃至8のい
ずれか1項に記載の磁気記録媒体。
9. An infrared absorption curve of a surface of a protective film containing carbon as a main component has a peak intensity value derived from a carbon-hydrogen bond of 0.
The magnetic recording medium according to any one of claims 7 to 8, wherein the value is 055 or less.
【請求項10】カーボンを主成分とする保護膜の窒素炭
素比が5〜40at%であることを特徴とする請求項7
乃至9のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
10. The protective film containing carbon as a main component has a nitrogen-carbon ratio of 5 to 40 at%.
10. The magnetic recording medium according to any one of claims 9 to 9.
【請求項11】カーボンを主成分とする保護膜の表面の
Id/Igの値が3.5以下であることを特徴とする請
求項7乃至10のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
11. The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the value of Id / Ig on the surface of the protective film containing carbon as a main component is 3.5 or less.
【請求項12】非磁性基板上に、少なくとも非磁性下地
層、磁性層を形成したディスク上に、カーボンを主成分
とする保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法におい
て、該磁気記録媒体を検査用ガス雰囲気中に放置後検査
用溶剤で抽出される該検査用ガス成分および/または検
査ガス成分を含んで形成された化合物成分の抽出量が基
準値以上であるようにすることを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
12. A method for manufacturing a magnetic recording medium comprising forming a protective film containing carbon as a main component on a disk having at least a nonmagnetic underlayer and a magnetic layer formed on a nonmagnetic substrate. The extraction amount of the test gas component and / or the compound component formed containing the test gas component extracted with the test solvent after being left in the test gas atmosphere is equal to or more than a reference value. Of manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項13】カーボンを主成分とする保護膜の形成方
法を、ディスクにバイアスを印加しながら保護膜を形成
するスパッタ法を含むものとしたことを特徴とする請求
項12に記載の磁気記録媒体の製造方法。
13. The magnetic recording according to claim 12, wherein the method of forming the protective film containing carbon as a main component includes a sputtering method of forming the protective film while applying a bias to the disk. The method of manufacturing the medium.
【請求項14】カーボンを主成分とする保護膜の形成方
法を炭化水素を含む反応ガスを原料としたプラズマCV
D法を含むものとしたことを特徴とする請求項12に記
載の磁気記録媒体の製造方法。
14. A method of forming a protective film containing carbon as a main component is performed by a plasma CV using a reactive gas containing hydrocarbon as a raw material.
The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, wherein method D is included.
【請求項15】カーボンを主成分とする保護膜の形成方
法を炭化水素を含む反応ガスを原料としたプラズマCV
D法による形成工程とディスクにバイアスを印加しなが
ら保護膜を形成するスパッタ法による形成工程を含むこ
とを特徴とする請求項12に記載の磁気記録媒体の製造
方法。
15. A method of forming a protective film containing carbon as a main component, comprising the steps of forming a plasma CV using a reaction gas containing hydrocarbon as a raw material.
13. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 12, comprising a forming step by a D method and a forming step by a sputtering method of forming a protective film while applying a bias to the disk.
【請求項16】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報
を記録再生する磁気ヘッドとを備え、該磁気記録媒体を
請求項7乃至11のいずれか1項に記載の磁気記録媒体
とすることを特徴とする磁気記録再生装置。
16. A magnetic recording medium comprising: a magnetic recording medium; and a magnetic head for recording and reproducing information on and from the magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium is the magnetic recording medium according to any one of claims 7 to 11. A magnetic recording / reproducing apparatus characterized by the above-mentioned.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2010106790A1 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 昭和電工株式会社 Method for inspection of magnetic recording medium, magnetic recording medium, and magnetic recording/reproducing device
JP2010282707A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Showa Denko HD Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and magnetic recording and reproducing device
JP2012014780A (en) * 2010-06-30 2012-01-19 Ulvac Japan Ltd Method for manufacturing magnetic recording medium
JP2012022766A (en) * 2010-07-15 2012-02-02 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv System and method for manufacturing medium
JP2014203473A (en) * 2013-04-02 2014-10-27 昭和電工株式会社 Manufacturing method of magnetic recording medium

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010106790A1 (en) * 2009-03-18 2010-09-23 昭和電工株式会社 Method for inspection of magnetic recording medium, magnetic recording medium, and magnetic recording/reproducing device
JP2010282707A (en) * 2009-06-08 2010-12-16 Showa Denko HD Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium, method for manufacturing magnetic recording medium, and magnetic recording and reproducing device
JP2012014780A (en) * 2010-06-30 2012-01-19 Ulvac Japan Ltd Method for manufacturing magnetic recording medium
JP2012022766A (en) * 2010-07-15 2012-02-02 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv System and method for manufacturing medium
JP2014203473A (en) * 2013-04-02 2014-10-27 昭和電工株式会社 Manufacturing method of magnetic recording medium

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