JP2002049028A - Liquid crystal display device and its manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal display device and its manufacturing method

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JP2002049028A
JP2002049028A JP2000232635A JP2000232635A JP2002049028A JP 2002049028 A JP2002049028 A JP 2002049028A JP 2000232635 A JP2000232635 A JP 2000232635A JP 2000232635 A JP2000232635 A JP 2000232635A JP 2002049028 A JP2002049028 A JP 2002049028A
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JP
Japan
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forming
electrode
layer
insulating layer
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000232635A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Ogawa
慎司 小川
Hirofumi Yamakita
裕文 山北
Akinori Shioda
昭教 塩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of suppressing the decrease of the aperture ratio of a conventional transverse electric field applying system type liquid crystal display device and reducing display defects such as afterimage and burning, and to provide its manufacturing method. SOLUTION: The width of a shading layer 11 can be narrowly formed and the numerical aperture can be enhanced by forming a color filter 10 and the shading layer 11 on an array substrate and the residue of charges can be suppressed and the display defects of the afterimage and burning can be suppressed by forming the color filter 10 on au upper layer of a common electrode 2 and a pixel electrode 5 to completely insulate the pixel electrode 5 and the common electrode 2 from a liquid crystal layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,液晶表示装置に関
し、特に広視野角かつ高輝度が得られる液晶表示装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a wide viewing angle and high luminance.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、図面を参照しつつ、従来の液晶表
示装置について説明する。
2. Description of the Related Art A conventional liquid crystal display device will be described below with reference to the drawings.

【0003】図5は、特開平9−236820号公報に
開示された横電界印加方式の液晶表示装置の断面図であ
る。なおここに、横電界印加方式とは、透明基板の一方
の内面に画素電極と共通電極の双方を同一面上に形成
し、これら同一面上に形成した画素電極と共通電極間に
電位を与え、透明基板の板面と平行する方向の横電界を
液晶に印加して液晶分子の配列を制御する方式であり、
これにより装置の表示の視野角依存性の改善を図るもの
である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a liquid crystal display of a lateral electric field application type disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-236820. Here, the lateral electric field application method means that both a pixel electrode and a common electrode are formed on one inner surface of a transparent substrate on the same surface, and a potential is applied between the pixel electrode and the common electrode formed on these same surfaces. This is a method of controlling the alignment of liquid crystal molecules by applying a horizontal electric field to the liquid crystal in a direction parallel to the plate surface of the transparent substrate,
Thereby, the viewing angle dependence of the display of the device is improved.

【0004】図5(a)は、ソースバスライン(映像信
号線)に直交する方向かつ後に説明する半導体スイッチ
素子のない部分の上下方向(基板面に直交する方向)断
面を示し、図5(b)は同じく半導体スイッチ素子の存
在する部分の断面を示し、図5(c)はソースバスライ
ンに平行方向かつ半導体スイッチ素子の存在する部分の
断面を示す。
FIG. 5A shows a cross section in a direction perpendicular to a source bus line (video signal line) and in a vertical direction (a direction perpendicular to the substrate surface) of a portion without a semiconductor switch element to be described later. FIG. 5B shows a cross section of a portion where the semiconductor switch element exists, and FIG. 5C shows a cross section of the portion where the semiconductor switch element exists in a direction parallel to the source bus line.

【0005】図5において、1aは下部の、1bは上部
の透明基板である。2は、共通電極である。3は、ゲー
ト電極である。4は、ソースバスラインである。5は、
画素電極、5aは、その延長端部である。6は、半導体
スイッチ素子である。7は、液晶層である。8aは下部
の、8bは上部の配向膜である。9は透明絶縁層であ
る。
In FIG. 5, 1a is a lower transparent substrate and 1b is an upper transparent substrate. 2 is a common electrode. 3 is a gate electrode. 4 is a source bus line. 5 is
The pixel electrode 5a is an extended end thereof. 6 is a semiconductor switch element. 7 is a liquid crystal layer. 8a is a lower alignment film, and 8b is an upper alignment film. 9 is a transparent insulating layer.

【0006】図5に示すように、この液晶表示装置にお
いては、2枚の透明基板1aと1bが相対向して配置さ
れ、その対向面間に配向膜8aと8bを介して液晶7が
封入されており、更に配向膜8aと8bが液晶7の上下
両面に接して液晶分子を所定の配向に整列させる点は従
来広く採用されているものと同じである。
As shown in FIG. 5, in this liquid crystal display device, two transparent substrates 1a and 1b are arranged to face each other, and a liquid crystal 7 is sealed between the opposing surfaces via alignment films 8a and 8b. The point that the alignment films 8a and 8b are in contact with the upper and lower surfaces of the liquid crystal 7 to align the liquid crystal molecules in a predetermined alignment is the same as that conventionally widely used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような液晶表示装置の場合、以下のような課題が残され
ていた。
However, in the case of the above-mentioned liquid crystal display device, the following problems remain.

【0008】(1)アレイ側基板とこれに対向する基板
とを貼り合わせる際に、対向基板に設けた遮光層とソー
スバスライン、あるいは共通電極との位置ずれを完全に
なくすことは困難であり、このためその余裕として遮光
部分を拡げなければならなり開口率が低下してしまう。
(1) It is difficult to completely eliminate the displacement between the light-shielding layer provided on the opposing substrate and the source bus line or the common electrode when the array-side substrate and the opposing substrate are bonded to each other. Therefore, the light-shielding portion must be widened as a margin, and the aperture ratio is reduced.

【0009】(2)画素部に光を透過しない非透明系の
材料で共通電極と画素電極が形成されているため、開口
率が低下してしまう。
(2) Since the common electrode and the pixel electrode are formed of a non-transparent material that does not transmit light in the pixel portion, the aperture ratio is reduced.

【0010】(3)画素部に、画素電極と共通電極が形
成され、その両方の電極または一方の電極の上層に保護
絶縁層を有さないとき、残像や焼き付きが発生してしま
う。
(3) When a pixel electrode and a common electrode are formed in the pixel portion and no protective insulating layer is provided on both of the electrodes or one of the electrodes, afterimages and image sticking occur.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、以上の課題に
鑑みなされたものであり、遮光層とカラーフィルタに工
夫を凝らしたものである。具体的には、以下の構成とし
ている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has been devised with a light shielding layer and a color filter. Specifically, the configuration is as follows.

【0012】請求項1記載の発明においては、共通電
極、画素電極、走査信号線、映像信号線、半導体スイッ
チ素子、遮光層を形成したアレイ側基板と、対向基板そ
の他勿論液晶層、両基板間のスペーサとを有する横電界
印加方式の光透過型や反射型の液晶表示装置であって、
共通電極と画素電極は、絶縁層を介して異なった層に形
成され、絶縁層は、赤、緑、青等(その他、シアン、マ
ゼンタ、イエロー)の3色のカラーフィルタ(含む、均
等物)を形成する材料と兼用されて作製されたカラーフ
ィルター兼用絶縁層であることを特徴としている。
According to the first aspect of the present invention, an array-side substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed; A transmissive or reflective liquid crystal display device of a lateral electric field application method having a spacer and
The common electrode and the pixel electrode are formed in different layers with an insulating layer interposed therebetween. The insulating layer is a color filter (including equivalents) of three colors, such as red, green, and blue (others, cyan, magenta, and yellow). This is characterized in that the insulating layer is also used as a color filter which is also used as a material for forming a color filter.

【0013】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
According to the above configuration, the following operation is performed in a liquid crystal display device having a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, an array substrate on which a semiconductor switch element and a light shielding layer are formed, and a counter substrate. You.

【0014】アレイ側基板と黒の遮光層と赤、緑、青等
(その他、シアン、マゼンタ、イエロー)の3色のカラ
ーフィルタを形成した対向基板とを貼り合わせる方法で
は、画素の寸法が小さいので対向基板に設けた遮光層と
ソースバスライン、あるいは共通電極との位置ずれを完
全になくすことは困難でる。このため、その余裕として
遮光部分を拡げなければならなく、開口率が低下してし
まうのに対し、アレイ基板上に遮光層とカラーフィルタ
を形成すれば、遮光層の幅を小さく形成することが可能
となり開口率の向上できる。
In the method of bonding the array-side substrate, the black light-shielding layer, and the opposite substrate on which three color filters of red, green, blue, etc. (others, cyan, magenta, and yellow) are formed, the size of the pixel is small. Therefore, it is difficult to completely eliminate the displacement between the light shielding layer provided on the counter substrate and the source bus line or the common electrode. For this reason, the light-shielding portion must be expanded as a margin, and the aperture ratio decreases, whereas if the light-shielding layer and the color filter are formed on the array substrate, the width of the light-shielding layer can be reduced. It becomes possible and the aperture ratio can be improved.

【0015】請求項2記載の発明においては、共通電
極、画素電極、走査信号線、映像信号線、半導体スイッ
チ素子、遮光層を形成したアレイ側基板と、対向基板そ
の他勿論液晶層、両基板間のスペーサとを有する横電界
印加方式の光透過型や反射型の液晶表示装置であって、
共通電極と画素電極の下層に赤、緑、青等(その他、シ
アン、マゼンタ、イエロー)の3色のカラーフィルタ
(含む、均等物)が形成されていることを特徴としてい
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an array-side substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed; A transmissive or reflective liquid crystal display device of a lateral electric field application method having a spacer and
It is characterized in that three color filters (including equivalents) of three colors, such as red, green, and blue (others, cyan, magenta, and yellow), are formed below the common electrode and the pixel electrode.

【0016】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
With the above structure, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0017】アレイ側基板と黒の遮光層、赤、緑、青等
(その他、シアン、マゼンタ、イエロー)の3色のカラ
ーフィルタ(含む、均等物)を形成した対向基板とを貼
り合わせる方法では、画素の寸法が小さいので対向基板
に設けた遮光層とソースバスライン、あるいは共通電極
との位置ずれを完全になくすことは困難である。このた
めその余裕として遮光部分を拡げなければならなく、開
口率が低下してしまうのに対し、アレイ基板上に遮光層
とカラーフィルタを形成すれば、遮光層の幅を小さく形
成することが可能となり開口率の向上できる。
In the method of bonding the array side substrate and the opposing substrate on which a black light-shielding layer and three color filters (including equivalents) of red, green, blue, etc. (others, cyan, magenta, yellow) are formed. Since the size of the pixel is small, it is difficult to completely eliminate the displacement between the light shielding layer provided on the counter substrate and the source bus line or the common electrode. For this reason, the light-shielding portion must be widened as a margin, and the aperture ratio decreases, whereas if the light-shielding layer and the color filter are formed on the array substrate, the width of the light-shielding layer can be reduced. Thus, the aperture ratio can be improved.

【0018】請求項3記載の発明においては、共通電
極、画素電極、走査信号線、映像信号線、半導体スイッ
チ素子、遮光層を形成したアレイ側基板と、対向基板そ
の他勿論液晶層、両基板間のスペーサとを有する横電界
印加方式の光透過型や反射型の液晶表示装置であって、
異なった層に絶縁層を介して形成された共通電極と画素
電極の上層に、赤、緑、青等(その他、シアン、マゼン
タ、イエロー)の3色のカラーフィルタ(含む、均等
物)が形成されていることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an array-side substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed; A transmissive or reflective liquid crystal display device of a lateral electric field application method having a spacer and
Three color filters (including equivalents) of red, green, blue, etc. (including cyan, magenta, and yellow) are formed on the common electrode and the pixel electrode formed on different layers via an insulating layer. It is characterized by being.

【0019】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
With the above configuration, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0020】アレイ側基板と黒の遮光層、赤、緑、青等
(その他、シアン、マゼンタ、イエロー)の3色のカラ
ーフィルタ(含む、均等物)を形成した対向基板とを貼
り合わせる方法では、画素の寸法が小さいので対向基板
に設けた遮光層とソースバスライン、あるいは共通電極
との位置ずれを完全になくすことは困難である。このた
めその余裕として遮光部分を拡げなければならなく、開
口率が低下してしまうのに対し、アレイ基板上にカラー
フィルタを形成すれば、遮光層の幅を小さく形成するこ
とが可能となり開口率の向上できる。
In the method of laminating the array side substrate and the opposite substrate on which a black light-shielding layer and three color filters (including equivalents) of red, green, blue and the like (others, cyan, magenta, yellow) are formed. Since the size of the pixel is small, it is difficult to completely eliminate the displacement between the light shielding layer provided on the counter substrate and the source bus line or the common electrode. For this reason, the light-shielding portion must be expanded as a margin, and the aperture ratio decreases. On the other hand, if a color filter is formed on the array substrate, the width of the light-shielding layer can be reduced, and the aperture ratio can be reduced. Can be improved.

【0021】また共通電極を、液晶層からカラーフィル
タにより絶縁することが充分にできるため、画素部分の
残留電荷を抑制することができ、残像や焼き付きのない
画像の表示が可能となる。
Further, since the common electrode can be sufficiently insulated from the liquid crystal layer by a color filter, the residual charge in the pixel portion can be suppressed, and an image without an afterimage or a burn-in can be displayed.

【0022】請求項4記載の発明においては、共通電
極、画素電極、走査信号線、映像信号線、半導体スイッ
チ素子、遮光層を形成したアレイ側基板と、対向基板そ
の他勿論液晶層、両基板間のスペーサとを有する横電界
印加方式の光透過型や反射型の液晶表示装置であって、
同一層に形成された共通電極と画素電極の上層に、赤、
緑、青等(その他、シアン、マゼンタ、イエロー)の3
色のカラーフィルタ(含む、均等物)が形成されている
ことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an array-side substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed; A transmissive or reflective liquid crystal display device of a lateral electric field application method having a spacer and
Red, over the common electrode and pixel electrode formed on the same layer
Green, blue, etc. (others, cyan, magenta, yellow)
It is characterized in that color filters (including equivalents) of colors are formed.

【0023】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
With the above structure, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the semiconductor substrate, the array side substrate on which the light shielding layer is formed, and the counter substrate. You.

【0024】アレイ側基板と黒の遮光層、赤、緑、青等
(その他、シアン、マゼンタ、イエロー)の3色のカラ
ーフィルタ(含む、均等物)を形成した対向基板とを貼
り合わせる方法では、画素の寸法が小さいので対向基板
に設けた遮光層とソースバスライン、あるいは共通電極
との位置ずれを完全になくすことは困難である。このた
め、その余裕として遮光部分を拡げなければならなく、
開口率が低下してしまうのに対し、アレイ基板上にカラ
ーフィルタを形成すれば、遮光層の幅を小さく形成する
ことが可能となり開口率の向上できる。
In the method of laminating the array side substrate and a counter substrate on which a black light-shielding layer and three color filters (including equivalents) of red, green, blue, etc. (others, cyan, magenta, yellow) are formed. Since the size of the pixel is small, it is difficult to completely eliminate the displacement between the light shielding layer provided on the counter substrate and the source bus line or the common electrode. For this reason, it is necessary to expand the light shielding part as a margin,
On the other hand, when the color filter is formed on the array substrate, the width of the light-shielding layer can be reduced, and the aperture ratio can be improved.

【0025】また共通電極を、液晶層からカラーフィル
タにより絶縁することが充分にできるため、画素部分の
残留電荷を抑制することができ、残像や焼き付きのない
画像の表示が可能となる。
Further, since the common electrode can be sufficiently insulated from the liquid crystal layer by a color filter, the residual charge in the pixel portion can be suppressed, and an image without an afterimage or burn-in can be displayed.

【0026】請求項5記載の発明においては、共通電極
と画素電極のいずれか一方が、透明導電層で形成されて
いることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, one of the common electrode and the pixel electrode is formed of a transparent conductive layer.

【0027】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線、半導体スイッチ素子と遮光層を
形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表示
装置において、以下の作用がなされる。
With the above configuration, the following operation is performed in a liquid crystal display device having a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, an array substrate on which a semiconductor switch element and a light shielding layer are formed, and a counter substrate. You.

【0028】共通電極と画素電極のいずれか一方が、透
明導電層で形成されているため、従来光を透過しなかっ
た部分も光が透過するため、実質開口率を向上すること
ができる。
Since one of the common electrode and the pixel electrode is formed of a transparent conductive layer, light is transmitted through a portion which did not transmit light in the past, so that the aperture ratio can be substantially improved.

【0029】請求項6記載の発明においては、共通電極
と画素電極の両方が、透明導電層で形成されていること
を特徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, both the common electrode and the pixel electrode are formed of a transparent conductive layer.

【0030】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線、半導体スイッチ素子と遮光層を
形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表示
装置において、以下の作用がなされる。
With the above configuration, the following operation is performed in a liquid crystal display device having a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, an array substrate on which a semiconductor switch element and a light shielding layer are formed, and a counter substrate. You.

【0031】共通電極と画素電極の両方が、透明導電層
で形成されているため、従来光を透過しなかった部分も
光が透過するため、実質開口率を向上することができ
る。
Since both the common electrode and the pixel electrode are formed of a transparent conductive layer, light is transmitted through a portion which did not transmit light in the past, so that the aperture ratio can be substantially improved.

【0032】請求項7記載の発明においては、半導体ス
イッチ素子はチャネルエッチ形薄膜トランジスタである
ことを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, the semiconductor switching element is a channel-etch type thin film transistor.

【0033】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
According to the above configuration, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0034】共通電極と画素電極の両方もしくはどちら
か一方を、チャネルエッチ形薄膜トランジスタを作製す
る、最終プロセスで作製される透明導電層で形成するこ
とが可能であり、従来光を透過しなかった部分も光が透
過するため、実質開口率を向上することができ、また作
製プロセスを複雑化することなくアレイ基板を作製でき
る。
The common electrode and / or the pixel electrode can be formed of a transparent conductive layer formed in a final process for forming a channel-etch thin film transistor, and a portion which does not transmit light conventionally. Since light is also transmitted, the aperture ratio can be substantially improved, and an array substrate can be manufactured without complicating the manufacturing process.

【0035】請求項8記載の発明においては、半導体ス
イッチ素子の一部はポリシリコンで形成されていること
を特徴としている。
According to the eighth aspect of the invention, a part of the semiconductor switch element is formed of polysilicon.

【0036】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
With the above configuration, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0037】半導体スイッチ素子の移動度が大きいた
め、画素寸法の小さい液晶表示装置でも十分に画素に電
荷を蓄えることができ、高精細な表示が可能となる。
Since the mobility of the semiconductor switching element is large, even in a liquid crystal display device having a small pixel size, charges can be sufficiently stored in the pixel, and high-definition display can be performed.

【0038】請求項9記載の発明においては、共通電極
及び画素電極を構成する電極部は、画素内に少なくとも
一つの屈曲部を有する屈曲形であることを特徴としてい
る。
According to a ninth aspect of the present invention, the electrode portions forming the common electrode and the pixel electrode are of a bent shape having at least one bent portion in the pixel.

【0039】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
With the above structure, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0040】画素内の液晶分子の長軸方向が、屈曲部を
中心として線対称になるため、パネルを斜め方向から見
たとき、色変化を抑制した表示が可能となる。
Since the major axis direction of the liquid crystal molecules in the pixel is line-symmetric with respect to the bent portion, when the panel is viewed from an oblique direction, it is possible to perform display with suppressed color change.

【0041】請求項10記載の発明においては、映像信
号線は、共通電極及び画素電極を構成する電極部の屈曲
形状と略同じ屈曲角を有する屈曲形であることを特徴と
している。
The tenth aspect of the present invention is characterized in that the video signal line has a bent shape having substantially the same bending angle as the bent shape of the electrode portion forming the common electrode and the pixel electrode.

【0042】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子と遮光層
を形成したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表
示装置において、以下の作用がなされる。
According to the above configuration, the following operation is performed in the liquid crystal display device having the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the array side substrate on which the semiconductor switch element and the light shielding layer are formed, and the counter substrate. You.

【0043】映像信号線も屈曲形状とすることで、画素
内の映像信号線に最も近い共通電極または画素電極と映
像信号線とに囲まれる面積が小さくなり、開口率が向上
する。
By forming the video signal line also in a bent shape, the area surrounded by the video signal line and the common electrode or pixel electrode closest to the video signal line in the pixel is reduced, and the aperture ratio is improved.

【0044】請求項11記載の発明においては、透明基
板上に非透過形導電体を形成し共通電極の一部と走査信
号線からなる第1電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第1電極群が形成された透明基板上に第
1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層の所定部分
上に半導体層を形成する工程と、前記第1絶縁層及び半
導体層の上に非透過形導電体を形成し映像信号線と画素
電極からなる第2電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第2電極群までが形成された透明基板上
に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶縁層の上
に、カラーフィルタ群を所定の形状に形成する工程と、
前記カラーフィルタ群の上に、透明導電体を形成し共通
電極の一部となる第3電極群を所定の形状にパターン形
成する工程と、を含む製造方法であることを特徴として
いる。
In the eleventh aspect, a step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and pattern-forming a first electrode group including a part of a common electrode and a scanning signal line in a predetermined shape; Forming a first insulating layer on the transparent substrate on which the first electrode group is formed; forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer; Forming a non-transmissive conductor thereon and pattern-forming a second electrode group including a video signal line and a pixel electrode into a predetermined shape; and forming a second insulating layer on the transparent substrate on which the second electrode group and the second electrode group are formed. Forming a layer, and forming a color filter group in a predetermined shape on the second insulating layer;
Forming a transparent conductor on the color filter group and pattern-forming a third electrode group to be a part of a common electrode in a predetermined shape.

【0045】上記製造方法により、請求項1記載の構成
で、高輝度、広視野角である液晶表示装置を得ることが
できる。
According to the above manufacturing method, a liquid crystal display device having a high luminance and a wide viewing angle can be obtained with the structure of the first aspect.

【0046】請求項12記載の発明においては、透明基
板上に非透過形導電体を形成し共通電極の一部と走査信
号線からなる第1電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第1電極群が形成された透明基板上に第
1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層の所定部分
上に半導体層を形成する工程と、前記第1絶縁層及び半
導体層の上に非透過形導電体を形成し映像信号線と画素
電極の一部からなる第2電極群を所定の形状にパターン
形成する工程と、前記第2電極群までが形成された前記
透明基板上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶
縁層の上に、カラーフィルタ群を所定の形状に形成する
工程と、前記カラーフィルタ群の上に透明導電体を形成
し画素電極の一部と共通電極の一部からなる第3電極群
を所定の形状にパターン形成する工程と、を含む製造方
法であることを特徴としている。上記製造方法により、
請求項2記載の構成で、高輝度、広視野角である液晶表
示装置を得ることができる。
In a twelfth aspect of the present invention, a step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and pattern-forming a first electrode group including a part of a common electrode and a scanning signal line in a predetermined shape; Forming a first insulating layer on the transparent substrate on which the first electrode group is formed; forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer; Forming a non-transmissive conductor thereon and pattern-forming a second electrode group consisting of a part of a video signal line and a pixel electrode in a predetermined shape; and forming the second electrode group on the transparent substrate on which the second electrode group is formed. Forming a color filter group in a predetermined shape on the second insulating layer; forming a transparent conductor on the color filter group to form a pixel electrode on the second insulating layer; The third electrode group consisting of the part and the common electrode is patterned into a predetermined shape. It is characterized by a manufacturing method comprising the steps of over down form, a. By the above manufacturing method,
With the configuration according to the second aspect, a liquid crystal display device having high luminance and a wide viewing angle can be obtained.

【0047】請求項13記載の発明においては、透明基
板上に非透過形導電体を形成し共通電極の一部と走査信
号線からなる第1電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第1電極群が形成された透明基板上に第
1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層の所定部分
上に半導体層を形成する工程と、前記第1絶縁層及び半
導体層の上に非透過形導電体を形成し映像信号線と画素
電極からなる第2電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第2電極群までが形成された前記透明基
板上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶縁層の
上に、透明導電体を形成し共通電極の一部からなる第3
電極群を所定の形状にパターン形成する工程と、前記第
3電極群の上に、カラーフィルタ群を所定の形状に形成
する工程と、を含む製造方法であることを特徴としてい
る。
In a thirteenth aspect of the present invention, a step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and pattern-forming a first electrode group including a part of a common electrode and a scanning signal line in a predetermined shape; Forming a first insulating layer on the transparent substrate on which the first electrode group is formed; forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer; Forming a non-transmissive conductor thereon and pattern-forming a second electrode group including a video signal line and a pixel electrode in a predetermined shape; and forming a second electrode group on the transparent substrate on which the second electrode group is formed. Forming an insulating layer; and forming a third conductive layer on the second insulating layer by forming a transparent conductor on the second insulating layer.
The method is characterized in that it is a manufacturing method including a step of patterning an electrode group into a predetermined shape and a step of forming a color filter group into a predetermined shape on the third electrode group.

【0048】上記製造方法により、請求項3記載の構成
で、高輝度、広視野角で残像や焼き付きのない液晶表示
装置を得ることができる。
According to the above-described manufacturing method, a liquid crystal display device having a high luminance, a wide viewing angle, and no image sticking or image sticking can be obtained.

【0049】請求項14記載の発明においては、透明基
板上に非透過形導電体を形成し共通電極の一部と走査信
号線からなる第1電極群を所定の形状にパターン形成す
る工程と、前記第1電極群が形成された透明基板上に第
1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層の所定部分
上に半導体層を形成する工程と、前記第1絶縁層及び半
導体層の上に非透過形導電体を形成し映像信号線と画素
電極の一部からなる第2電極群を所定の形状にパターン
形成する工程と、前記第2電極群までが形成された前記
透明基板上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶
縁層の上に、透明導電体を形成し画素電極の一部と共通
電極の一部からなる第3電極群を所定の形状にパターン
形成する工程と、前記第3電極群の上にカラーフィルタ
群を所定の形状に形成する工程と、を含む製造方法であ
ることを特徴としている。
In the invention according to claim 14, a step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and pattern-forming a first electrode group consisting of a part of a common electrode and a scanning signal line in a predetermined shape; Forming a first insulating layer on the transparent substrate on which the first electrode group is formed; forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer; Forming a non-transmissive conductor thereon and pattern-forming a second electrode group consisting of a part of a video signal line and a pixel electrode in a predetermined shape; and forming the second electrode group on the transparent substrate on which the second electrode group is formed. Forming a second conductive layer on the second insulating layer, forming a transparent conductor on the second insulating layer, and forming a third electrode group including a part of the pixel electrode and a part of the common electrode into a predetermined shape. And forming a color filter group on the third electrode group into a predetermined shape. It is characterized by a manufacturing method comprising the steps of forming a.

【0050】上記製造方法により、高輝度、広視野角で
残像や焼き付きのない液晶表示装置を得ることができ
る。
According to the above-mentioned manufacturing method, a liquid crystal display device having high luminance, a wide viewing angle and no afterimage or image sticking can be obtained.

【0051】請求項15記載の発明においては、遮光層
と赤、緑、青等(その他、シアン、マゼンタ、イエロ
ー)の3色のカラーフィルタ(含む、均等物)は基板面
に直交する方向から見た場合に、絶縁層を介して形成さ
れていることを特徴としている。
According to the fifteenth aspect of the present invention, the light-shielding layer and the color filters (including equivalents) of three colors of red, green, blue, etc. (including cyan, magenta, and yellow) are arranged in a direction perpendicular to the substrate surface. It is characterized in that it is formed via an insulating layer when viewed.

【0052】上記構成により、共通電極、画素電極、走
査信号線、映像信号線及び半導体スイッチ素子、遮光
層、赤、緑、青等(その他、シアン、マゼンタ、イエロ
ー)の3色のカラーフィルタ(含む、均等物)とを形成
したアレイ側基板と、対向基板とを有する液晶表示装置
において、以下の作用がなされる。
With the above structure, the common electrode, the pixel electrode, the scanning signal line, the video signal line, the semiconductor switch element, the light-shielding layer, the color filters of three colors of red, green, blue, etc. (others, cyan, magenta, yellow) In the liquid crystal display device having the array-side substrate on which the liquid crystal display device (including the equivalent) is formed, and the counter substrate, the following operation is performed.

【0053】画素電極に電圧が印加されることにより、
液晶層中の電界分布が変化し、遮光層まで電荷が移動し
蓄積され、画素電極の電圧が変化すると、遮光層に蓄え
られている電荷が、カラーフィルタにまで流れ込むた
め、残像や焼き付きといった表示不良となるが、遮光層
とカラーフィルタを、基板面に直交する方向から見た場
合に、絶縁層を介して形成する構造とすることにより、
遮光層に蓄えられた電荷がカラーフィルタに流れ込むこ
とを抑制し、残像や焼き付きがない表示が可能となる。
When a voltage is applied to the pixel electrode,
When the electric field distribution in the liquid crystal layer changes, the charge moves to the light-shielding layer and is accumulated, and when the voltage of the pixel electrode changes, the charge stored in the light-shielding layer flows into the color filter, resulting in a display such as an afterimage or burn-in. Although it will be defective, by having a structure in which the light shielding layer and the color filter are formed via the insulating layer when viewed from the direction orthogonal to the substrate surface,
The charge stored in the light-shielding layer is prevented from flowing into the color filter, and a display without afterimages or image sticking can be performed.

【0054】[0054]

【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態に
基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described based on its embodiments.

【0055】(第1の実施の形態)本実施の形態は、横
電界印加方式の液晶表示装置に関するものである。以
下、本実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
(First Embodiment) The present embodiment relates to a liquid crystal display device of a horizontal electric field application type. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the drawings.

【0056】図1(a)に、本実施の形態の液晶表示装置
の要部の上面から見た平面図を示し、図1(b)に、図1
(a)におけるAA'の線での断面図を示す。
FIG. 1A is a plan view of a main part of the liquid crystal display device according to the present embodiment as viewed from above, and FIG.
FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG.

【0057】両図において、従来技術の液晶表示装置に
ついて示した図5と同じ部品(部分、構成)について
は、本発明の趣旨に関係しない限り原則として図5と同
一の符号を付してある。またこのため、それらの説明は
省略する。そしてこのことは、後に説明する他の実施の
形態でも同様である。
In both figures, the same parts (parts, configurations) as in FIG. 5 showing the prior art liquid crystal display device are, in principle, given the same reference numerals as in FIG. 5 unless they relate to the gist of the present invention. . Therefore, their description is omitted. This is the same in other embodiments to be described later.

【0058】6は、半導体スイッチ素子である。10
は、赤、緑、青等の3色いずれかのカラーフィルタ(含
む、均等物)である。11は遮光層である。
Reference numeral 6 denotes a semiconductor switch element. 10
Is a color filter (including an equivalent) of any one of three colors such as red, green, and blue. 11 is a light-shielding layer.

【0059】以下、この技術内容について製造方法を中
心に説明する。
Hereinafter, this technical content will be described focusing on the manufacturing method.

【0060】まず、透明基板1a上にAl等からなる導
電膜でパターニングされた走査信号線(ゲートバスライ
ン)3を形成し、さらにその上面に絶縁膜(図示せず)
を形成した後、アモルファスシリコンやポリシリコンか
らなる半導体スイッチ素子6やAl等からなる導電膜で
パターニングされた映像信号線(ソースバスライン)4
と画素電極5を形成する。
First, a scanning signal line (gate bus line) 3 patterned with a conductive film made of Al or the like is formed on a transparent substrate 1a, and an insulating film (not shown) is formed on the upper surface thereof.
Is formed, a video signal line (source bus line) 4 patterned with a semiconductor switch element 6 made of amorphous silicon or polysilicon or a conductive film made of Al or the like.
And a pixel electrode 5 are formed.

【0061】次に、膜厚1〜2μm程度の黒の遮光層1
1と赤、緑、青のカラーフィルタ10を順に形成する。
Next, a black light-shielding layer 1 having a thickness of about 1 to 2 μm
1 and red, green, and blue color filters 10 are sequentially formed.

【0062】この形成方法であるが、赤色のカラーフィ
ルタ10が必要な部分、具体的には赤色の画素とその周
辺部分にカラーフィルタ10が形成されるようにレジス
トが塗布され、その上でレジストを塗布されていない部
分の赤色のカラーフィルタ10は、エッチングで除去さ
れる。
In this forming method, a resist is applied so that the color filter 10 is formed in a portion where the red color filter 10 is necessary, specifically, in the red pixel and its peripheral portion. The portion of the red color filter 10 to which is not applied is removed by etching.

【0063】次いで、緑色のカラーフィルタが必要部分
にのみ、赤色のカラーフィルタの形成された基板全面に
形成される。そして、この緑色のカラーフィルタが必要
な部分、具体的には緑色の画素の部分とその周辺部分の
みが同様にレジストの塗布、その後のエッチングにて基
板上に残され、他の部分のものは除去される。最後に、
ほぼ同様の手段で青色のカラーフィルタが形成されるこ
ととなる。
Next, a green color filter is formed only on a necessary portion on the entire surface of the substrate on which the red color filter is formed. Then, the portion where the green color filter is required, specifically, only the portion of the green pixel and its peripheral portion is similarly left on the substrate by applying a resist and then etching, and the other portions are Removed. Finally,
A blue color filter is formed by substantially the same means.

【0064】これらのカラーフィルター10の材料とし
ては、アクリル系等の樹脂材料に顔料あるいは染料を分
散させたものを用いる。
As a material of the color filter 10, a material in which a pigment or a dye is dispersed in an acrylic resin material is used.

【0065】更に、このカラーフィルタ10の上に共通
電極2を透明導電体であるITO膜、あるいはAl等か
らなる導電膜で櫛形にパターニング形成して、アレイ基
板を作製する。
Further, on the color filter 10, the common electrode 2 is patterned in the form of a comb with an ITO film as a transparent conductor or a conductive film made of Al or the like, thereby producing an array substrate.

【0066】この後、ポリイミド等で液晶の分子の配列
を整列させるための配向膜8aを形成する。
Thereafter, an alignment film 8a for aligning the arrangement of liquid crystal molecules is formed of polyimide or the like.

【0067】更に、対向する透明基板1bにも、同様に
配向膜8bを形成する。
Further, an alignment film 8b is similarly formed on the opposing transparent substrate 1b.

【0068】このようにして作製された上下の透明基板
に、ラビングクロスで各々所定方向のラビングを施し、
周辺部にシール剤を印刷し、上下の透明電極間のギャッ
プを保持するビーズ(図示せず)を分散し、接着接合し
た後、透明基板間のスペースにあらかじめ形成してある
注入部(孔)から真空吸引法等などにより注入し、その
後注入部を封止する。
The upper and lower transparent substrates thus produced are rubbed in a predetermined direction with a rubbing cloth, respectively.
A sealant is printed on the periphery, beads (not shown) for maintaining the gap between the upper and lower transparent electrodes are dispersed, bonded and bonded, and an injection portion (hole) formed in advance in the space between the transparent substrates. Then, the material is injected by a vacuum suction method or the like, and then the injection part is sealed.

【0069】次に、この表示装置の機能について説明す
る。
Next, the function of the display device will be described.

【0070】半導体スイッチ素子6は、映像信号線4及
び走査信号線3から入力される駆動信号によってオン、
オフ制御される。そして、半導体スイッチ素子6と接続
された画素電極5と、共通電極2との間に印加された電
圧によって電界を発生させ、液晶7の配向を変化させて
各画素の輝度を制御し、画像を表示する。従って、ここ
までは従来方式の横電界印加方式の液晶表示装置と同じ
である。
The semiconductor switch element 6 is turned on and off by drive signals input from the video signal line 4 and the scan signal line 3.
Controlled off. Then, an electric field is generated by a voltage applied between the pixel electrode 5 connected to the semiconductor switch element 6 and the common electrode 2, the orientation of the liquid crystal 7 is changed, the brightness of each pixel is controlled, and the image is displayed. indicate. Therefore, the operation up to this point is the same as that of the conventional liquid crystal display device of the lateral electric field application method.

【0071】しかし従来の横電界印加方式では、遮光層
11が対向基板上に形成されているため、アレイ側基板
とを貼り合わせる際に、画素の寸法が小さいので対向基
板に設けた遮光層11とソースバスライン4、あるいは
走査信号線3との位置ずれを完全になくすことは困難で
あり、このためその余裕として遮光部分を拡げなければ
ならなくなり開口率が低下してしまう。
However, in the conventional lateral electric field application method, since the light shielding layer 11 is formed on the opposing substrate, the size of the pixel is small when bonding to the array side substrate. It is difficult to completely eliminate the positional shift between the scanning signal line 3 and the source bus line 4 or the scanning signal line 3, so that the light shielding portion must be expanded as a margin, and the aperture ratio decreases.

【0072】しかしながら、本表示装置では、アレイ基
板1aに遮光層11とカラーフィルタ10を直接形成す
るので、図1(b)の、上下2枚の透明基板を貼り合わせ
る際に生じるずれを小さくすることが可能となる。その
結果、製造プロセスに起因する開口率の減少を防止する
ことができる。
However, in the present display device, since the light-shielding layer 11 and the color filter 10 are formed directly on the array substrate 1a, the displacement caused when the upper and lower transparent substrates shown in FIG. It becomes possible. As a result, a decrease in the aperture ratio due to the manufacturing process can be prevented.

【0073】また従来の横電界印加方式では、画素内の
画素電極5と共通電極2がAlなどの非透明材料で形成
されているため、開口率が低下してしまう。
In the conventional lateral electric field application method, since the pixel electrode 5 and the common electrode 2 in the pixel are formed of a non-transparent material such as Al, the aperture ratio is reduced.

【0074】しかしながら、本表示装置では、共通電極
2が、透明導電層で形成されているため、従来光を透過
しなかった部分も光が透過するため、実質開口率を向上
することができる。
However, in the present display device, since the common electrode 2 is formed of the transparent conductive layer, light is transmitted through a portion which did not transmit light in the past, so that the aperture ratio can be substantially improved.

【0075】(第2の実施の形態)本実施の形態は、横
電界印加方式の液晶表示装置に関するものである。以
下、本実施の形態について図2を参照しながら説明す
る。
(Second Embodiment) The present embodiment relates to a liquid crystal display device of a lateral electric field application type. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0076】図2(a)に、本実施の形態の液晶表示装置
の要部の上面から見た平面を示し、図2(b)に、図2(a)
におけるBB'の線での断面図を示す。
FIG. 2A shows a plan view of the main part of the liquid crystal display device of the present embodiment as viewed from above, and FIG. 2B shows the plan view of FIG.
2 shows a cross-sectional view taken along line BB ′.

【0077】以下、この技術内容について、図2を参照
しつつ製造方法を中心に説明する。
Hereinafter, this technical content will be described focusing on the manufacturing method with reference to FIG.

【0078】まず、アレー側の透明基板1a上にAl等
からなる導電膜でパターニングされた走査信号線3を形
成し、さらにその上面に絶縁膜(図示せず)を形成した
後、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる半
導体スイッチ素子6とAl等からなる導電膜でパターニ
ングされた映像信号線4を形成する。
First, a scanning signal line 3 patterned with a conductive film made of Al or the like is formed on the transparent substrate 1a on the array side, and an insulating film (not shown) is further formed on the upper surface thereof. A video signal line 4 patterned with a semiconductor switch element 6 made of polysilicon or the like and a conductive film made of Al or the like is formed.

【0079】つぎに、赤、緑、青のカラーフィルタ10
と遮光層11を所定位置に順に形成する。この際の形成
方法は、前記第1の実施の形態と同様の方法で形成す
る。
Next, the red, green and blue color filters 10
And the light shielding layer 11 are sequentially formed at predetermined positions. The formation method at this time is the same as that of the first embodiment.

【0080】そして、各色のカラーフィルタ10の上
に、各画素に対応する画素電極5と共通電極2を透明導
電体であるITO膜等で形成して、アレイ基板を作製す
る。
Then, a pixel electrode 5 and a common electrode 2 corresponding to each pixel are formed of an ITO film or the like which is a transparent conductor on the color filter 10 of each color, and an array substrate is manufactured.

【0081】この後の配向膜形成から封止までは、前記
第1の実施の形態と同じである。
The subsequent steps from formation of the alignment film to sealing are the same as those in the first embodiment.

【0082】この表示装置の機能については、前記第1
の実施の形態と同じである。
The function of this display device is described in the first section.
This is the same as the embodiment.

【0083】ところで、本実施の形態でも、遮光層11
とカラーフィルタ10をアレイ基板上に形成している点
は先の第1の実施の形態と同じである。従って、先の第
1の実施の形態と同様の効果が生じる。
Incidentally, also in the present embodiment, the light shielding layer 11
The point that the color filters 10 are formed on the array substrate is the same as in the first embodiment. Therefore, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

【0084】また従来の横電界印加方式では、画素内の
画素電極5と共通電極2がAlなどの非透明材料で形成
されているため、開口率が低下してしまう。
In the conventional lateral electric field application method, since the pixel electrode 5 and the common electrode 2 in the pixel are formed of a non-transparent material such as Al, the aperture ratio is reduced.

【0085】しかしながら、本表示装置では、共通電極
2と画素電極5を透明導電材料で形成するため開口率の
低下につながらない。
However, in the present display device, since the common electrode 2 and the pixel electrode 5 are formed of a transparent conductive material, the aperture ratio does not decrease.

【0086】(第3の実施の形態)本実施の形態は、横
電界印加方式の液晶表示装置に関するものである。以
下、本実施の形態について図3を参照しながら説明す
る。
(Third Embodiment) The present embodiment relates to a liquid crystal display device of a lateral electric field application type. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0087】図3(a)に、本実施の形態の液晶表示装置
の要部の上面から見た平面を示し、図3(b)に、図3(a)
におけるCC'の線での断面図を示す。
FIG. 3A is a plan view of a main part of the liquid crystal display device according to the present embodiment as viewed from above, and FIG. 3B is a plan view of FIG.
2 shows a cross-sectional view taken along line CC ′.

【0088】以下、この技術内容について、図3を参照
しつつ製造方法を中心に説明する。
Hereinafter, this technical content will be described focusing on the manufacturing method with reference to FIG.

【0089】まず、アレイ側の透明基板1a上にAl等
からなる導電膜でパターニングされた走査信号線3を形
成し、さらにその上面に絶縁膜(図示せず)を形成した
後、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる半
導体スイッチ素子6とAl等からなる導電膜でパターニ
ングされた映像信号線4と画素電極5を形成し、半導体
スイッチ素子6を保護する透明絶縁層9を形成する。そ
の後共通電極2を透明導電体であるITO膜等で形成す
る。この後に前記第1の実施の形態と同様に、3色のカ
ラーフィルタ10と遮光層11を形成して、アレイ基板
を作製する。
First, a scanning signal line 3 patterned with a conductive film made of Al or the like is formed on the transparent substrate 1a on the array side, and an insulating film (not shown) is further formed on the upper surface thereof. A semiconductor switching element 6 made of polysilicon or the like, a video signal line 4 patterned with a conductive film made of Al or the like, and a pixel electrode 5 are formed, and a transparent insulating layer 9 for protecting the semiconductor switching element 6 is formed. After that, the common electrode 2 is formed of a transparent conductor such as an ITO film. Thereafter, similarly to the first embodiment, a color filter 10 of three colors and a light shielding layer 11 are formed, and an array substrate is manufactured.

【0090】この後の配向膜形成から封止までは、前記
第1の実施の形態と同じである。
The subsequent steps from the formation of the alignment film to the sealing are the same as those in the first embodiment.

【0091】この表示装置の機能については、前記第1
の実施の形態と同じである。
The function of this display device is described in the first section.
This is the same as the embodiment.

【0092】ところで、本実施の形態でも、遮光層11
とカラーフィルタ10をアレイ基板上に形成している点
と、共通電極2が透明導電材料で形成されている点は、
先の第1の実施の形態と同じである。従って、先の第1
の実施の形態と同様の効果が生じる。
Incidentally, also in the present embodiment, the light shielding layer 11
And the color filter 10 are formed on an array substrate, and the common electrode 2 is formed of a transparent conductive material.
This is the same as the first embodiment. Therefore, the first
The same effect as that of the embodiment can be obtained.

【0093】更に共通電極2が、カラーフィルタ10と
配向膜を介して液晶層と接するため画素に蓄積される電
荷が小さくなり、残像や焼き付きを防止する効果もあ
る。
Further, since the common electrode 2 is in contact with the liquid crystal layer via the color filter 10 and the alignment film, the electric charge accumulated in the pixel is reduced, and there is also an effect of preventing afterimages and image sticking.

【0094】(第4の実施の形態)本実施の形態は、横
電界印加方式の液晶表示装置に関するものである。以
下、本実施の形態について図4を参照しながら説明す
る。
(Fourth Embodiment) The present embodiment relates to a liquid crystal display device of a lateral electric field application type. Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0095】図4(a)に、本実施の形態の液晶表示装置
の要部の上面から見た平面を示し、図4(b)に、図1(a)
におけるDD'の線での断面図を示す。
FIG. 4A shows a plan view of the main part of the liquid crystal display device of the present embodiment as viewed from above, and FIG. 4B shows FIG. 1A.
2 shows a cross-sectional view taken along line DD ′.

【0096】以下、この技術内容について、図4を参照
しつつ製造方法を中心に説明する。
Hereinafter, this technical content will be described focusing on the manufacturing method with reference to FIG.

【0097】まず、アレイ側の透明基板1a上にAl等
からなる導電膜でパターニングされた走査信号線3を形
成し、さらにその上面に絶縁膜(図示せず)を形成した
後、アモルファスシリコンやポリシリコン等からなる半
導体スイッチ素子6とAl等からなる導電膜でパターニ
ングされた映像信号線4を形成し、半導体スイッチ素子
6を保護する絶縁層を形成する(図示せず)。その後共
通電極2と画素電極5を透明導電体であるITO膜等で
形成する。この後に前記第1の実施の形態と同様に3色
のカラーフィルタ10と遮光層11を形成する。
First, a scanning signal line 3 patterned with a conductive film made of Al or the like is formed on the transparent substrate 1a on the array side, and an insulating film (not shown) is formed on the upper surface thereof. The semiconductor switch element 6 made of polysilicon or the like and the video signal line 4 patterned with a conductive film made of Al or the like are formed, and an insulating layer for protecting the semiconductor switch element 6 is formed (not shown). Thereafter, the common electrode 2 and the pixel electrode 5 are formed of an ITO film or the like which is a transparent conductor. Thereafter, the color filters 10 and the light shielding layers 11 of three colors are formed in the same manner as in the first embodiment.

【0098】この後の配向膜形成から封止までは、前記
第1の実施の形態と同じである。
The subsequent steps from the formation of the alignment film to the sealing are the same as those in the first embodiment.

【0099】この表示装置の機能については、前記第1
の実施の形態と同じである。
The function of this display device is described in the first section.
This is the same as the embodiment.

【0100】ところで、本実施の形態でも、遮光層11
とカラーフィルタ10をアレイ基板上に形成している点
と共通電極2と画素電極5が透明導電材料で形成されて
いる点は、先の第2の実施の形態と同じである。従っ
て、先の第2の実施の形態と同様の効果が生じる。
Incidentally, also in this embodiment, the light shielding layer 11
The point that the color filter 10 is formed on the array substrate and the point that the common electrode 2 and the pixel electrode 5 are formed of a transparent conductive material are the same as in the second embodiment. Therefore, the same effects as those of the second embodiment are obtained.

【0101】更に共通電極2が、カラーフィルタ10と
配向膜を介して液晶層と接する構造は先の第3の実施の
形態と同じである。従って、先の第3の実施の形態と同
様の効果が生じる。
Further, the structure in which the common electrode 2 is in contact with the liquid crystal layer via the color filter 10 and the alignment film is the same as in the third embodiment. Therefore, the same effect as in the third embodiment is obtained.

【0102】以上、本発明を幾つかの実施の形態に基づ
いて説明してきたが、本発明は何もこれらに限定されな
いのは勿論である。すなわち、例えば以下のようにして
もよい。
Although the present invention has been described based on several embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to these embodiments. That is, for example, the following may be performed.

【0103】1)映像信号線4も屈曲形状とすること
で、画素内の映像信号線4に最も近い共通電極2または
画素電極5と映像信号線4とに囲まれる面積が小さくな
り、開口率が向上する。
1) Since the video signal line 4 is also bent, the area surrounded by the common electrode 2 or the pixel electrode 5 closest to the video signal line 4 in the pixel and the video signal line 4 is reduced, and the aperture ratio is reduced. Is improved.

【0104】2)遮光層11に蓄積される残留電荷のカ
ラーフィルタ10への流入を防ぐため、遮光層11形成
後に絶縁層を形成し、カラーフィルタ10を形成して、
遮光層とカラーフィルタ層を絶縁すれば、残像や焼き付
きが抑えられる。
2) In order to prevent the residual charges accumulated in the light shielding layer 11 from flowing into the color filter 10, an insulating layer is formed after the formation of the light shielding layer 11, and the color filter 10 is formed.
If the light shielding layer and the color filter layer are insulated, afterimages and image sticking can be suppressed.

【0105】3)第1から4の実施の形態において、カ
ラーフィルタ10は上層にフォトレジストを塗布、露
光、現像後、カラーフィルタ10をエッチングして、画
素形状のように形成されるが、レジストの機能を兼用し
たフィルムレジストを用いたカラーフィルタ10でも効
果は変わらない。
3) In the first to fourth embodiments, the color filter 10 is formed like a pixel by etching the color filter 10 after applying, exposing and developing a photoresist on the upper layer. The effect does not change even with the color filter 10 using a film resist that also has the function of (1).

【0106】4)遮光層11とカラーフィルタ10を形
成のフォトリソグラフィに用いられる現像液は、半導体
スイッチ素子6の特性を劣化させる無機アルカリ系の現
像液より有機アルカリ系の現像液が好ましい。
4) As a developer used for photolithography for forming the light-shielding layer 11 and the color filter 10, an organic alkali-based developer is preferable to an inorganic alkali-based developer that deteriorates the characteristics of the semiconductor switching element 6.

【0107】[0107]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、横電界
印加方式の液晶表示装置において、アレイ基板上にカラ
ーフィルタ10と遮光層11を形成することにより、高
輝度、広視野角で残像や焼き付きの無い表示が可能とな
った。
As described above, according to the present invention, in a lateral electric field application type liquid crystal display device, by forming a color filter 10 and a light shielding layer 11 on an array substrate, a high luminance and a wide viewing angle can be obtained. Display without afterimages or burn-in is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態に基づく、液晶表示装置の要
部を示す図
FIG. 1 is a diagram showing a main part of a liquid crystal display device based on a first embodiment.

【図2】第2の実施の形態に基づく、液晶表示装置の要
部を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a main part of a liquid crystal display device according to a second embodiment.

【図3】第3の実施の形態に基づく、液晶表示装置の要
部を示す図
FIG. 3 is a diagram showing a main part of a liquid crystal display device based on a third embodiment.

【図4】第4の実施の形態に基づく、液晶表示装置の要
部を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a main part of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

【図5】横電界印加方式の液晶表示装置の断面図FIG. 5 is a cross-sectional view of a lateral electric field application type liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 透明基板 1b 透明基板 2 共通電極 3 走査信号線 4 映像信号線 5 画素電極 6 半導体スイッチ素子 7 液晶 8a 配向膜 8b 配向膜 9 透明絶縁層 10 カラーフィルタ 11 遮光層 Reference Signs List 1a transparent substrate 1b transparent substrate 2 common electrode 3 scanning signal line 4 video signal line 5 pixel electrode 6 semiconductor switching element 7 liquid crystal 8a alignment film 8b alignment film 9 transparent insulating layer 10 color filter 11 light shielding layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 349 G02F 1/136 500 (72)発明者 塩田 昭教 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H091 FA02Y FA34Y FB02 FD04 GA03 GA06 GA13 LA15 LA19 2H092 GA14 JA24 JB32 KA05 KB04 MA37 NA01 NA07 PA08 PA09 5C094 AA10 AA12 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA07 EB02 ED03 ED15 FB12 FB14 FB15──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 349 G02F 1/136 500 (72) Inventor Akinori Shioda 1006 Odakadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita F-term (Reference) in Denki Sangyo Co., Ltd.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】共通電極、画素電極、走査信号線、映像信
号線、半導体スイッチ素子及び遮光層を形成したアレイ
基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶層とを備え、前記共通電極と前記
画素電極は、絶縁層を介して異なる層に形成されている
液晶表示装置であって、 前記絶縁層はカラーフィルタ材料であることを特徴とす
る液晶表示装置。
1. An array substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed, a counter substrate, and sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A liquid crystal display comprising a liquid crystal layer, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed in different layers with an insulating layer interposed therebetween, wherein the insulating layer is a color filter material. apparatus.
【請求項2】共通電極、画素電極、走査信号線、映像信
号線、半導体スイッチ素子及び遮光層を形成したアレイ
基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶層とを備え、前記共通電極と前記
画素電極は、同一層に形成された液晶表示装置であっ
て、 前記共通電極と前記画素電極の下層にカラーフィルタ層
を有することを特徴とする液晶表示装置。
2. An array substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed, a counter substrate, and sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal layer, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed in the same layer, and a color filter layer is provided below the common electrode and the pixel electrode. apparatus.
【請求項3】共通電極、画素電極、走査信号線、映像信
号線、半導体スイッチ素子及び遮光層を形成したアレイ
基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶層とを備え、前記共通電極と前記
画素電極は、絶縁層を介して異なる層に形成され、さら
に上層に絶縁層を設けた液晶表示装置であって、 前記上層絶縁層はカラーフィルタ材料であることを特徴
とする液晶表示装置。
3. An array substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed, a counter substrate, and sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed in different layers via an insulating layer, and further provided with an insulating layer on the upper layer, wherein the upper insulating layer is made of a color filter material. A liquid crystal display device, comprising:
【請求項4】共通電極、画素電極、走査信号線、映像信
号線、半導体スイッチ素子及び遮光層を形成したアレイ
基板と、対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶層とを備え、前記共通電極と前記
画素電極は、同一層に形成され、上層に絶縁層を設けた
液晶表示装置であって、 前記上層絶縁層はカラーフィルタ材料であること特徴と
する液晶表示装置。
4. An array substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, and a light-shielding layer are formed, a counter substrate, and sandwiched between the array substrate and the counter substrate. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal layer, wherein the common electrode and the pixel electrode are formed in the same layer, and an insulating layer is provided on an upper layer, wherein the upper insulating layer is a color filter material. Display device.
【請求項5】前記共通電極と前記画素電極のいずれか一
方が、透明導電層で形成されていることを特徴とする請
求項1又は3に記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein one of the common electrode and the pixel electrode is formed of a transparent conductive layer.
【請求項6】前記共通電極と前記画素電極の両方が、透
明導電層で形成されていることを特徴とする請求項2又
は4に記載の液晶表示装置。
6. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein both the common electrode and the pixel electrode are formed of a transparent conductive layer.
【請求項7】前記半導体スイッチ素子は、チャネルエッ
チ形薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項1
から6のいずれかに記載の液晶表示装置。
7. The semiconductor switching device according to claim 1, wherein said semiconductor switching device is a channel-etch type thin film transistor.
7. The liquid crystal display device according to any one of items 1 to 6.
【請求項8】前記半導体スイッチング素子の一部は、ポ
リシリコンで形成されたことを特徴とする請求項1から
請求項7のいずれかに記載の液晶表示装置。
8. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a part of said semiconductor switching element is formed of polysilicon.
【請求項9】前記共通電極及び前記画素電極を構成する
電極部は、画素内に少なくとも一つの屈曲部を有する屈
曲形であることを特徴とする請求項1から8のいずれか
に記載の液晶表示装置。
9. The liquid crystal according to claim 1, wherein an electrode portion forming the common electrode and the pixel electrode has a bent shape having at least one bent portion in a pixel. Display device.
【請求項10】前記映像信号線は、前記共通電極及び前
記画素電極を構成する電極部の屈曲形状と略同じ屈曲角
を有する屈曲形であることを特徴とする請求項1から9
のいずれかに記載の液晶表示装置
10. A video signal line according to claim 1, wherein said video signal line has a bent shape having substantially the same bending angle as a bent shape of an electrode portion forming said common electrode and said pixel electrode.
The liquid crystal display device according to any of the above.
【請求項11】透明基板上に非透過形導電体を形成し共
通電極の一部と走査信号線からなる第1電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第1電極群が形成
された透明基板上に第1絶縁層を形成する工程と、前記
第1絶縁層の所定部分上に半導体層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び半導体層の上に非透過形導電体を形
成し映像信号線と画素電極からなる第2電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第2電極群までが
形成された透明基板上に第2絶縁層を形成する工程と、
前記第2絶縁層の上に、カラーフィルタ群を所定の形状
に形成する工程と、前記カラーフィルタ群の上に、透明
導電体を形成し共通電極の一部となる第3電極群を所定
の形状にパターン形成する工程と、を含むことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
11. A step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and patterning a first electrode group consisting of a part of a common electrode and a scanning signal line into a predetermined shape, and forming the first electrode group. Forming a first insulating layer on the transparent substrate, and forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer;
Forming a non-transmissive conductor on the first insulating layer and the semiconductor layer, and patterning a second electrode group including a video signal line and a pixel electrode into a predetermined shape; and forming up to the second electrode group. Forming a second insulating layer on the formed transparent substrate;
Forming a color filter group in a predetermined shape on the second insulating layer; and forming a transparent electrode on the color filter group to form a third electrode group which is a part of a common electrode. Forming a pattern in a shape.
【請求項12】透明基板上に非透過形導電体を形成し共
通電極の一部と走査信号線からなる第1電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第1電極群が形成
された透明基板上に第1絶縁層を形成する工程と、前記
第1絶縁層の所定部分上に半導体層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び半導体層の上に非透過形導電体を形
成し映像信号線と画素電極の一部からなる第2電極群を
所定の形状にパターン形成する工程と、前記第2電極群
までが形成された前記透明基板上に第2絶縁層を形成す
る工程と、前記第2絶縁層の上に、カラーフィルタ群を
所定の形状に形成する工程と、前記カラーフィルタ群の
上に透明導電体を形成し画素電極の一部と共通電極の一
部からなる第3電極群を所定の形状にパターン形成する
工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
12. A step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and patterning a first electrode group consisting of a part of a common electrode and a scanning signal line into a predetermined shape, and forming the first electrode group. Forming a first insulating layer on the transparent substrate, and forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer;
Forming a non-transmissive conductor on the first insulating layer and the semiconductor layer and pattern-forming a second electrode group consisting of a part of a video signal line and a pixel electrode in a predetermined shape; Forming a second insulating layer on the transparent substrate having the above-described steps, forming a color filter group in a predetermined shape on the second insulating layer, and forming a transparent layer on the color filter group. Forming a conductor and pattern-forming a third electrode group consisting of a part of the pixel electrode and a part of the common electrode in a predetermined shape.
【請求項13】透明基板上に非透過形導電体を形成し共
通電極の一部と走査信号線からなる第1電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第1電極群が形成
された透明基板上に第1絶縁層を形成する工程と、前記
第1絶縁層の所定部分上に半導体層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び半導体層の上に非透過形導電体を形
成し映像信号線と画素電極からなる第2電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第2電極群までが
形成された前記透明基板上に第2絶縁層を形成する工程
と、前記第2絶縁層の上に、透明導電体を形成し共通電
極の一部からなる第3電極群を所定の形状にパターン形
成する工程と、前記第3電極群の上に、カラーフィルタ
群を所定の形状に形成する工程と、を含むことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
13. A step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and patterning a first electrode group consisting of a part of a common electrode and a scanning signal line into a predetermined shape, and forming the first electrode group. Forming a first insulating layer on the transparent substrate, and forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer;
Forming a non-transmissive conductor on the first insulating layer and the semiconductor layer, and patterning a second electrode group including a video signal line and a pixel electrode into a predetermined shape; and forming up to the second electrode group. Forming a second insulating layer on the transparent substrate, and forming a third electrode group consisting of a part of a common electrode on the second insulating layer into a predetermined shape by patterning. And a step of forming a color filter group in a predetermined shape on the third electrode group.
【請求項14】透明基板上に非透過形導電体を形成し共
通電極の一部と走査信号線からなる第1電極群を所定の
形状にパターン形成する工程と、前記第1電極群が形成
された透明基板上に第1絶縁層を形成する工程と、前記
第1絶縁層の所定部分上に半導体層を形成する工程と、
前記第1絶縁層及び半導体層の上に非透過形導電体を形
成し映像信号線と画素電極の一部からなる第2電極群を
所定の形状にパターン形成する工程と、前記第2電極群
までが形成された前記透明基板上に第2絶縁層を形成す
る工程と、前記第2絶縁層の上に、透明導電体を形成し
画素電極の一部と共通電極の一部からなる第3電極群を
所定の形状にパターン形成する工程と、前記第3電極群
の上にカラーフィルタ群を所定の形状に形成する工程
と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
14. A step of forming a non-transmissive conductor on a transparent substrate and patterning a first electrode group consisting of a part of a common electrode and a scanning signal line into a predetermined shape, and forming the first electrode group. Forming a first insulating layer on the transparent substrate, and forming a semiconductor layer on a predetermined portion of the first insulating layer;
Forming a non-transmissive conductor on the first insulating layer and the semiconductor layer and pattern-forming a second electrode group consisting of a part of a video signal line and a pixel electrode in a predetermined shape; Forming a second insulating layer on the transparent substrate on which a transparent electrode is formed and forming a third conductive layer on the second insulating layer, the third conductive layer being formed of a part of a pixel electrode and a part of a common electrode. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of patterning an electrode group in a predetermined shape; and a step of forming a color filter group in a predetermined shape on the third electrode group.
【請求項15】共通電極、画素電極、走査信号線、映像
信号線、半導体スイッチ素子、遮光層、カラーフィルタ
を形成したアレイ基板と、対向基板と、前記アレイ基板
と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを備えた液
晶表示装置において、 前記カラーフィルタと前記遮光層は、絶縁層を介して形
成されていることを特徴とする液晶表示装置。
15. An array substrate on which a common electrode, a pixel electrode, a scanning signal line, a video signal line, a semiconductor switch element, a light shielding layer, and a color filter are formed, a counter substrate, and a space between the array substrate and the counter substrate. A liquid crystal display device comprising a sandwiched liquid crystal layer, wherein the color filter and the light shielding layer are formed via an insulating layer.
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JP2010160254A (en) * 2009-01-07 2010-07-22 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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