JP2002046143A - Low reflection member and method for producing the same - Google Patents

Low reflection member and method for producing the same

Info

Publication number
JP2002046143A
JP2002046143A JP2000235060A JP2000235060A JP2002046143A JP 2002046143 A JP2002046143 A JP 2002046143A JP 2000235060 A JP2000235060 A JP 2000235060A JP 2000235060 A JP2000235060 A JP 2000235060A JP 2002046143 A JP2002046143 A JP 2002046143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
resin
hard coat
reflection member
low reflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000235060A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Inago
吉秀 稲子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP2000235060A priority Critical patent/JP2002046143A/en
Publication of JP2002046143A publication Critical patent/JP2002046143A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide both a low reflection member and a method for producing the same, in which removal of a contaminant is easy and durability is excellent and a stainproofing layer combined with low reflection properties can be easily formed. SOLUTION: Both a hard coat layer 4 and a stainproofing layer 5 are laminated at least in order on the face of one hand of a transparent substrate 1 and the stainproofing layer 5 consists of a silane compound shown in a general formula 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、携帯電話機、ビ
デオカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディ
スプレイ部分のカバー部品などに用いることができる低
反射部材とその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low-reflection member which can be used as a cover part of a display portion of a cellular phone, a video camera, a digital camera, an automobile device, and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話機、ビデオカメラ、デジタルカ
メラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分
は、液晶パネルあるいは有機ELパネルとの組み合わせ
などにより構成されている。ディスプレイ部分は、液晶
パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡大し
たり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的とし
て、凸レンズ形状に成形した透明基板や縁取りなどの図
柄が形成された透明基板により構成されるカバー部品に
より覆われている。
2. Description of the Related Art In a cellular phone, a video camera, a digital camera, an automobile device, etc., a display portion is constituted by a combination with a liquid crystal panel or an organic EL panel. In the display part, a pattern such as a transparent substrate or a border molded into a convex lens shape is formed for the purpose of preventing damage to the liquid crystal panel, enlarging the display of the liquid crystal panel, and decorating the vicinity of the liquid crystal panel. Covered by a transparent component made of a transparent substrate.

【0003】そして、カバー部品の表面において外光が
反射して写り込み、液晶パネルの視認性が低くなるた
め、反射光をできるだけ抑えたいという要求がある。
[0003] Then, since external light is reflected and reflected on the surface of the cover component, and the visibility of the liquid crystal panel is lowered, there is a demand to suppress the reflected light as much as possible.

【0004】また、カバー部品は、使用の際に、手垢、
指紋、汗、化粧料などの付着があり、液晶パネルのカラ
ー化など高画質化が進むに伴い、これらの汚染を防止す
ることも画質向上のために重要となる。
[0004] Also, the cover parts, when used, grime,
As fingerprints, sweat, cosmetics, and the like are adhered to and the image quality is improved, such as colorization of the liquid crystal panel, it is also important to prevent such contamination from occurring in order to improve the image quality.

【0005】そこで、低反射性を有するとともに、汚れ
にくいあるいは汚れを拭き取りやすい防汚層を設けるこ
とが要求されるようになった。たとえば、低反射性を備
えた防汚層として、特開平4−338901号にて使用
されている末端シラノール有機ポリシロキサンを用い
て、無機酸化物からなる低反射層上に真空成膜法により
防汚層を形成する方法が考えられる。
Therefore, it has been required to provide an antifouling layer which has low reflectivity and which is hardly stained or which is easy to wipe off. For example, as an antifouling layer having low reflectivity, an organic polysiloxane having a silanol terminal used in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-338901 is used, and an antifouling layer is formed on a low-reflection layer made of an inorganic oxide by a vacuum film forming method. A method of forming a soil layer is conceivable.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の防汚層
は、低反射層と組み合わせたものであるため低反射性に
は優れるが、指紋などの油性汚染については次のような
問題があった。つまり、無機酸化物による低反射層は特
に汚れやすく末端シラノール有機ポリシロキサンでは能
力不足であるため付着した汚染物を拭き取りにくく、こ
れを拭き取るためには、何度も拭き取り布を摺動させた
り、拭い取るのに強力な洗剤や有機溶剤を用いたりしな
ければならず、この結果、防汚層が除去されてしまい、
耐汚染性が損なわれるという問題があった。
However, the antifouling layer described above is excellent in low reflectivity because it is combined with a low reflection layer, but has the following problems with oily contamination such as fingerprints. Was. In other words, the low-reflection layer made of an inorganic oxide is particularly liable to be stained, and it is difficult to wipe off contaminants that have adhered to it because the ability is insufficient with a silanol-terminated organic polysiloxane.In order to wipe this off, the wiper can be slid many times, Strong detergents and organic solvents must be used to wipe off, which results in the removal of the antifouling layer,
There is a problem that stain resistance is impaired.

【0007】また、無機酸化物からなる低反射膜と防汚
膜とをそれぞれ設ける必要があり、コストがかかるとい
う問題があった。
Further, it is necessary to provide a low reflection film and an antifouling film made of an inorganic oxide, and there is a problem that the cost is high.

【0008】したがって、この発明は、上記のような欠
点を解消し、汚染物の除去が容易で耐久性に優れ、低反
射性をも兼ね備えた防汚層を容易に形成することができ
る低反射部材とその製造方法を提供することを目的とす
る。
Therefore, the present invention eliminates the above-mentioned disadvantages, and enables easy formation of an antifouling layer which is easy to remove contaminants, has excellent durability, and also has low reflectivity. An object is to provide a member and a manufacturing method thereof.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明の低反射部材と
その製造方法は、上記の目的を達成するために、つぎの
ように構成した。
Means for Solving the Problems A low reflection member and a method of manufacturing the same according to the present invention are configured as follows to achieve the above object.

【0010】すなわち、この発明の低反射部材は、透明
基板の一方の面にハードコート層と防汚層とが少なくと
も順に積層され、防汚層が一般式化1で示されるシラン
化合物からなるように構成した。
That is, in the low reflection member of the present invention, a hard coat layer and an antifouling layer are laminated at least in order on one surface of a transparent substrate, and the antifouling layer is made of a silane compound represented by the general formula 1. Configured.

【0011】また、上記の発明において、ハードコート
層の下に図柄層を有するように構成してもよい。
Further, in the above invention, a configuration may be adopted in which a design layer is provided below the hard coat layer.

【0012】また、上記の発明において、防汚層の厚さ
が1.0〜100nmであるように構成してもよい。
In the above invention, the antifouling layer may have a thickness of 1.0 to 100 nm.

【0013】また、この発明の低反射部材の製造方法
は、基体シート上に半硬化のハードコート層が少なくと
も形成された転写材を基体シートがキャビティ面に接す
るように金型にセットし、金型内に透明な溶融樹脂を射
出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体化物を
得、次いで基体シートを剥離し、次いでハードコート層
上に一般式化1で示されるシラン化合物を用いドライコ
ーティング法により防汚層を形成するように構成した。
Further, according to the method of manufacturing a low reflection member of the present invention, a transfer material having at least a semi-cured hard coat layer formed on a base sheet is set in a mold so that the base sheet is in contact with the cavity surface, A transparent molten resin is injected into a mold to obtain an integrated product of a transparent substrate made of a resin and a transfer material, then the base sheet is peeled off, and then a silane compound represented by the general formula 1 is used on the hard coat layer. The antifouling layer was formed by a dry coating method.

【0014】また、上記の発明において、防汚層を形成
した後に加熱、紫外線照射または電子線照射してハード
コート層を硬化させるように構成してもよい。
In the above invention, the hard coat layer may be cured by heating, irradiating ultraviolet rays or irradiating an electron beam after forming the antifouling layer.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図面を参照しながらこの発明の実
施の形態について詳しく説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0016】図1は、この発明の低反射部材の一実施例
を示す断面図である。図2は、この発明の低反射部材の
製造方法に用いる転写材の一実施例を示す断面図であ
る。図3は、この発明の低反射部材の製造方法の一工程
を示す断面図である。図中、1は透明基板、2は接着
層、3は図柄層、4はハードコート層、5は防汚層、6
は低反射部材、7は金型、8は転写材、9は基体シー
ト、10は転写層である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of the low reflection member of the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing one embodiment of a transfer material used in the method for manufacturing a low reflection member according to the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing one step of the method for manufacturing a low reflection member according to the present invention. In the figure, 1 is a transparent substrate, 2 is an adhesive layer, 3 is a pattern layer, 4 is a hard coat layer, 5 is an antifouling layer, 6
Is a low reflection member, 7 is a mold, 8 is a transfer material, 9 is a base sheet, and 10 is a transfer layer.

【0017】この発明の低反射部材6は、透明基板1の
一方の面にハードコート層4と防汚層5とが少なくとも
順に積層され、防汚層5が一般式化1で示されるシラン
化合物からなるものである(図1参照)。
In the low reflection member 6 of the present invention, a hard coat layer 4 and an antifouling layer 5 are laminated at least in order on one surface of the transparent substrate 1, and the antifouling layer 5 is a silane compound represented by the general formula 1. (See FIG. 1).

【0018】ハードコート層4を透明基板1の上に設け
るには、転写材8を利用した成形同時転写法を用いるの
が好ましい。
In order to provide the hard coat layer 4 on the transparent substrate 1, it is preferable to use a molding simultaneous transfer method using a transfer material 8.

【0019】転写材8は、基体シート9上に、ハードコ
ート層4などからなる転写層10を設けたものである
(図2参照)。低反射部材6の透明基板1の上に形成す
るすべての層を成形同時転写法によって形成するのでは
なく、成形同時転写法によって形成するのが好適な層の
みを成形同時転写法によって形成し、その他の層は別途
形成するのが好ましい。特に、図柄層3およびハードコ
ート層4は成形同時転写法によって形成するのが適して
いる。
The transfer material 8 is obtained by providing a transfer layer 10 made of a hard coat layer 4 on a base sheet 9 (see FIG. 2). Instead of forming all the layers formed on the transparent substrate 1 of the low reflection member 6 by the simultaneous molding transfer method, only the layers that are preferably formed by the simultaneous molding transfer method are formed by the simultaneous molding transfer method, The other layers are preferably formed separately. In particular, it is suitable that the design layer 3 and the hard coat layer 4 are formed by a molding simultaneous transfer method.

【0020】基体シート9の材質としては、ポリプロピ
レン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂などの樹脂シートなど、通常の転写材の基体シー
トとして用いるものを使用することができる。
The base sheet 9 may be made of a polypropylene resin, a polyethylene resin, a polyamide resin,
What is used as a base sheet of a usual transfer material, such as a resin sheet of a polyester resin, an acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, or the like, can be used.

【0021】基体シート9からの転写層10の剥離性が
よい場合には、基体シート9上に転写層10を直接設け
ればよい。基体シート9からの転写層10の剥離性を改
善するためには、基体シート9上に転写層10を設ける
前に、離型層を全面的に形成してもよい。
In the case where the transfer layer 10 has good releasability from the base sheet 9, the transfer layer 10 may be provided directly on the base sheet 9. In order to improve the releasability of the transfer layer 10 from the base sheet 9, a release layer may be formed over the entire surface before the transfer layer 10 is provided on the base sheet 9.

【0022】ハードコート層4は、基体シート9または
離型層上に全面的に形成する。ハードコート層4は、成
形同時転写後に基体シート9を剥離した際に、基体シー
ト9または離型層から剥離して被転写物の最外面とな
り、低反射部材6の表面強度を高める層となる。また、
基体シート9が剥離されるまで、外界と遮断され表面活
性が保持された状態となり、後に形成する防汚層5との
接着性が優れた層となる。特に、速やかに防汚層5をド
ライコーティング法によって形成することにより、より
すぐれた接着性を示す層となる。
The hard coat layer 4 is formed entirely on the base sheet 9 or the release layer. When the base sheet 9 is peeled off after the simultaneous transfer of the molding, the hard coat layer 4 is peeled off from the base sheet 9 or the release layer and becomes the outermost surface of the transferred object, and becomes a layer for increasing the surface strength of the low reflection member 6. . Also,
Until the base sheet 9 is peeled off, it is in a state where it is shielded from the outside world and its surface activity is maintained, and it becomes a layer having excellent adhesion with the antifouling layer 5 to be formed later. In particular, when the antifouling layer 5 is promptly formed by the dry coating method, the antifouling layer 5 becomes a layer having better adhesiveness.

【0023】ハードコート層4としては、重合性二重結
合を有するプレポリマーまたはオリゴマーあるいはエポ
キシ基を有するプレポリマーまたはオリゴマーの組成物
に反応型希釈剤を混合し、必要により光重合開始剤を添
加した化合物を用いるとよい。具体的には、紫外線硬化
性樹脂や電子線硬化性樹脂として用いられる樹脂を用い
るとよい。また、印刷適性を良好にするために熱可塑性
樹脂や有機溶剤を混合してもよい。特に好ましいハード
コート層4の組成としては、ウレタンアクリレート系樹
脂50〜70重量%、アクリル系樹脂27〜49重量
%、コロイダルシリカなどの無機系フィラーである表面
強化剤1〜3重量%からなるものなどである。ハードコ
ート層4の形成方法としては、グラビアコート法、ロー
ルコート法、コンマコート法などのコート法、グラビア
印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
As the hard coat layer 4, a reactive diluent is mixed with a composition of a prepolymer or oligomer having a polymerizable double bond or a prepolymer or oligomer having an epoxy group, and if necessary, a photopolymerization initiator is added. It is advisable to use the compound obtained. Specifically, a resin used as an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin may be used. In addition, a thermoplastic resin or an organic solvent may be mixed to improve printability. A particularly preferred composition of the hard coat layer 4 is composed of 50 to 70% by weight of a urethane acrylate resin, 27 to 49% by weight of an acrylic resin, and 1 to 3% by weight of a surface reinforcing agent which is an inorganic filler such as colloidal silica. And so on. Examples of the method for forming the hard coat layer 4 include a coating method such as a gravure coating method, a roll coating method, and a comma coating method, and a printing method such as a gravure printing method and a screen printing method.

【0024】ハードコート層4は、成形同時転写後、そ
の上に防汚層5が形成されるまでは半硬化の状態であ
り、未反応の縮合あるいは重合部位を多く有しているこ
とが必要である。
The hard coat layer 4 is in a semi-cured state after the simultaneous molding and transfer until the antifouling layer 5 is formed thereon, and it is necessary to have many unreacted condensation or polymerization sites. It is.

【0025】また、必要に応じて図柄層3をハードコー
ト層4の上に形成する。図柄層3は、低反射部材6を装
飾するための層である。
The design layer 3 is formed on the hard coat layer 4 if necessary. The design layer 3 is a layer for decorating the low reflection member 6.

【0026】図柄層3は、通常は印刷層として形成す
る。印刷層の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリ
エステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、
アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の
顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用
いるとよい。印刷層の形成方法としては、オフセット印
刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の
印刷法などを用いるとよい。印刷層は、通常は、部分的
に設ける。
The design layer 3 is usually formed as a printing layer. As the material of the printing layer, a polyvinyl resin, a polyamide resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyvinyl acetal resin, a polyester urethane resin, a cellulose ester resin,
It is preferable to use a coloring ink containing a resin such as an alkyd resin as a binder and a pigment or dye of an appropriate color as a coloring agent. As a method for forming the printing layer, a normal printing method such as an offset printing method, a gravure printing method, or a screen printing method may be used. The printing layer is usually provided partially.

【0027】また、図柄層3は、金属薄膜層からなるも
の、あるいは印刷層と金属薄膜層との組み合わせからな
るものでもよい。金属薄膜層は、図柄層3として金属光
沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成
する。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、
ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウ
ム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合
金または化合物を使用する。金属薄膜層は、通常は、部
分的に形成する。また、金属薄膜層を設ける際に、他の
層との密着性を向上させるために、前アンカー層や後ア
ンカー層を設けてもよい。
The design layer 3 may be made of a metal thin film layer or a combination of a printed layer and a metal thin film layer. The metal thin film layer is for expressing metallic luster as the design layer 3, and is formed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, or the like. Depending on the metallic gloss color you want to express, aluminum,
Metals such as nickel, gold, platinum, chromium, iron, copper, tin, indium, silver, titanium, lead, and zinc, and alloys or compounds thereof are used. The metal thin film layer is usually formed partially. Further, when providing the metal thin film layer, a front anchor layer or a rear anchor layer may be provided in order to improve adhesion to other layers.

【0028】また、透明基板1の上に上記の各層を接着
するために接着層2を形成するとよい。接着層2として
は、透明基板1の素材に適した感熱性あるいは感圧性の
樹脂を適宜使用する。たとえば、透明基板1の材質がア
クリル系樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。
また、透明基板1の材質がポリフェニレンオキシド・ポ
リスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン
共重合体系樹脂、ポリスチレン系ブレンド樹脂の場合
は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリ
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用すればよ
い。さらに、透明基板1の材質がポリプロピレン樹脂の
場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−
酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン
樹脂が使用可能である。接着層2の形成方法としては、
グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法な
どのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など
の印刷法がある。また上記材質よりなる接着性を持つシ
ートをラミネート法などにより貼り合せて接着層2とす
ることも可能である。
Further, an adhesive layer 2 may be formed on the transparent substrate 1 in order to adhere the above layers. As the adhesive layer 2, a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the transparent substrate 1 is appropriately used. For example, when the material of the transparent substrate 1 is an acrylic resin, an acrylic resin may be used.
When the material of the transparent substrate 1 is a polyphenylene oxide / polystyrene resin, a polycarbonate resin, a styrene copolymer resin, or a polystyrene blend resin, an acrylic resin, a polystyrene resin, or a polyamide having an affinity for these resins. A system resin or the like may be used. Further, when the material of the transparent substrate 1 is polypropylene resin, chlorinated polyolefin resin, chlorinated ethylene-
Vinyl acetate copolymer resins, cyclized rubbers, and coumarone indene resins can be used. As a method of forming the adhesive layer 2,
There are coating methods such as a gravure coating method, a roll coating method, and a comma coating method, and printing methods such as a gravure printing method and a screen printing method. Further, it is also possible to form an adhesive layer 2 by laminating an adhesive sheet made of the above material by a laminating method or the like.

【0029】転写層10の構成は、上記した態様に限定
されるものではなく、たとえば、図柄層3の材質として
透明基板1との接着性に優れたものを使用する場合に
は、接着層2を省略することができる。
The configuration of the transfer layer 10 is not limited to the above-described embodiment. For example, when a material having excellent adhesion to the transparent substrate 1 is used as the material of the design layer 3, the adhesive layer 2 may be used. Can be omitted.

【0030】次に、前記した転写材8を用い、射出成形
による成形同時転写法を利用して被転写物である樹脂成
形品の面に装飾を行う方法について説明する。
Next, a method for decorating the surface of a resin molded article as an object to be transferred by using the transfer material 8 and the simultaneous transfer method by injection molding will be described.

【0031】まず、可動型と固定型とからなる成形用金
型7内に転写材8である転写材8を送り込む(図3参
照)。その際、枚葉の転写材8を1枚づつ送り込んでも
よいし、長尺の転写材8の必要部分を間欠的に送り込ん
でもよい。長尺の転写材8を使用する場合、位置決め機
構を有する送り装置を使用して、転写材8の図柄層3と
成形用金型7との見当が一致するようにするとよい。ま
た、転写材8を間欠的に送り込む際に、転写材8の位置
をセンサーで検出した後に転写材8を可動型と固定型と
で固定するようにすれば、常に同じ位置で転写材8を固
定することができ、図柄層3の位置ずれが生じないので
便利である。
First, a transfer material 8 as a transfer material 8 is fed into a molding die 7 composed of a movable die and a fixed die (see FIG. 3). At this time, the sheet-like transfer material 8 may be fed one by one, or a necessary portion of the long transfer material 8 may be sent intermittently. When a long transfer material 8 is used, it is preferable to use a feeding device having a positioning mechanism so that the register between the symbol layer 3 of the transfer material 8 and the molding die 7 coincides with each other. Further, when the transfer material 8 is intermittently fed, if the transfer material 8 is fixed by the movable type and the fixed type after the position of the transfer material 8 is detected by the sensor, the transfer material 8 is always kept at the same position. It can be fixed, and there is no displacement of the design layer 3, which is convenient.

【0032】成形用金型7を閉じた後、固定型に設けた
ゲートより溶融樹脂を金型7内に射出充満させ、被転写
物を形成するのと同時にその面に転写材8を接着させ
る。
After the molding die 7 is closed, a molten resin is injected and filled into the die 7 from a gate provided on the fixed die, and a transfer material 8 is adhered to the surface of the transfer material simultaneously with the formation of an object to be transferred. .

【0033】成形樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、AN樹
脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフ
ェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、
ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポ
リブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタ
レート樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂などの汎用エ
ンジニアリング樹脂や、ポリスルホン樹脂、ポリフェニ
レンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹
脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアリル系耐
熱樹脂などのスーパーエンジニアリング樹脂を使用する
こともできる。
As a molding resin, a polystyrene resin,
General-purpose resins such as polyolefin resins, ABS resins, AS resins, and AN resins can be given. In addition, polyphenylene oxide polystyrene resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, acrylic resin,
General-purpose engineering resins such as polycarbonate-modified polyphenylene ether resin, polybutylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, ultrahigh molecular weight polyethylene resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyphenylene oxide resin, polyarylate resin, polyetherimide resin, A super engineering resin such as a polyimide resin, a liquid crystal polyester resin, or a polyallyl heat-resistant resin can also be used.

【0034】透明基板1の形状は、平板状のものであっ
ても、二次元あるいは三次元の曲面を有するものであっ
てもよい。
The shape of the transparent substrate 1 may be a flat plate, or may have a two-dimensional or three-dimensional curved surface.

【0035】被転写物である樹脂成形品を冷却した後、
成形用金型7を開いて樹脂成形品を取り出す。最後に、
転写材8の基体シート9を剥離する。このようにして、
転写層10のみを成形品に転移して、透明基板1の上に
ハードコート層4などを形成することができる。
After cooling the resin molded article as the transfer object,
The molding die 7 is opened and the resin molded product is taken out. Finally,
The base sheet 9 of the transfer material 8 is peeled off. In this way,
By transferring only the transfer layer 10 to a molded product, the hard coat layer 4 and the like can be formed on the transparent substrate 1.

【0036】防汚層5は、低反射部材6が汚れるのを防
ぐとともに低反射性を発揮させるための層であり、ハー
ドコート層4の上に形成する。防汚層5は、一般式化1
で示されるシラン化合物からなることが重要である。こ
こで、一般式中、Xは水素原子または低級アルキル基を
示す。また、Yは加水分解可能な基を示す。また、lは
1〜50の整数を示す。また、mは0〜2の整数を示
す。また、nは1〜10の整数を示す。
The antifouling layer 5 is a layer for preventing the low-reflection member 6 from being stained and for exhibiting low reflectivity, and is formed on the hard coat layer 4. The antifouling layer 5 has the general formula 1
It is important to consist of a silane compound represented by Here, in the general formula, X represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. Y represents a hydrolyzable group. 1 represents an integer of 1 to 50. M represents an integer of 0 to 2. N represents an integer of 1 to 10.

【0037】一般式化1で示されるシラン化合物は、通
常、1重量%以下のフッ素系溶媒溶液や石油系溶媒溶
液、アルコール系溶媒溶液などの低濃度希薄溶液状態に
て流通しており、スピンコート法やディップコート法に
より使用されている。また、その使用にあたっては、接
着不良を防止するために、下地として無機系ハードコー
ト層兼アンカー層を用いることが一般的に行われてい
る。また、成形同時転写された二次元曲面形状あるいは
三次元曲面形状を有する成形品に、スピンコート法やデ
ィップコート法を適用すると、防汚層の膜厚を均一にす
ることは困難である。また、ディップコート法では防汚
層が低反射部材の両面に形成されることになる。
The silane compound represented by the general formula 1 is usually distributed in a low-concentration dilute solution such as a 1% by weight or less fluorinated solvent solution, a petroleum solvent solution, or an alcoholic solvent solution. Used by the coating method and the dip coating method. In use, it is common practice to use an inorganic hard coat layer and an anchor layer as a base in order to prevent poor adhesion. Further, when a spin-coating method or a dip-coating method is applied to a molded product having a two-dimensional curved surface shape or a three-dimensional curved surface shape transferred simultaneously with molding, it is difficult to make the film thickness of the antifouling layer uniform. In the dip coating method, an antifouling layer is formed on both surfaces of the low reflection member.

【0038】この発明では、一般式化1で示されるシラ
ン化合物を用いて防汚層5を形成するために、ドライコ
ーティング法を用いる。この発明でいうドライコーティ
ング法とは、真空または常圧下における抵抗加熱法、電
子線加熱法、イオンビーム加熱法、高周波加熱法などの
シラン化合物を蒸発させる物理気層積層法をいう。ただ
し、このようなドライコーティング法において、シラン
化合物を急激に加熱すると腐食性を有するフッ酸を生じ
ることがあるので、真空または常圧で分解温度以下にて
抵抗加熱するような穏やかな条件で加熱を行うのが好ま
しい。
In the present invention, a dry coating method is used to form the antifouling layer 5 using the silane compound represented by the general formula 1. The dry coating method referred to in the present invention refers to a physical gas layer stacking method for evaporating a silane compound, such as a resistance heating method under vacuum or normal pressure, an electron beam heating method, an ion beam heating method, and a high-frequency heating method. However, in such a dry coating method, if the silane compound is rapidly heated, corrosive hydrofluoric acid may be generated, so that heating under mild conditions such as resistance heating at a decomposition temperature or lower under vacuum or normal pressure. Is preferably performed.

【0039】たとえば、シラン化合物の希薄溶液を蒸着
槽内にて加熱皿に適量量り取り、できる限り水分と反応
させないように、低沸点フッ素系溶媒を蒸発排気させた
のち、加熱蒸発させる手法により成膜するとよい。その
際、シラン化合物希薄溶液の濃度は高濃度であるほど処
理所要時間が短縮され、シラン化合物の分解が少なくな
り、ハードコート層4との接着性に優れたものとなる。
したがって10重量%以上の濃度であることが好まし
い。この条件において実験を繰り返したところ、数ある
材料の中でも一般式化1で示されるシラン化合物におい
て最良の撥水性、撥油性、耐久性が得られた。また、真
空中にて成膜された防汚層5は、大気中においてディッ
プコート法により成膜された防汚層5に比べると、同量
のシラン化合物を使用した場合、撥水性、撥油性、耐久
性が優れていた。
For example, an appropriate amount of a dilute solution of a silane compound is weighed into a heating dish in a vapor deposition tank, and a low-boiling-point fluorine-containing solvent is evaporated and evacuated so as not to react with water as much as possible. It is good to film. At that time, the higher the concentration of the silane compound dilute solution, the shorter the processing time required, the less the silane compound is decomposed, and the better the adhesion to the hard coat layer 4.
Therefore, the concentration is preferably 10% by weight or more. When the experiment was repeated under these conditions, the best water repellency, oil repellency and durability were obtained among the silane compounds represented by the general formula 1 among various materials. Further, the antifouling layer 5 formed in a vacuum has a water repellency and an oil repellency when the same amount of the silane compound is used as compared with the antifouling layer 5 formed by a dip coating method in the air. The durability was excellent.

【0040】ドライコーティング法によって形成された
防汚層5がディップコート法により形成された防汚層5
に比べて優れる理由は、成膜時の溶媒の介在の有無や大
気中の水分の有無の影響による接着性の相違と考えられ
る。また、シラン化合物を蒸着する場合、ハードコート
層4が半硬化状態であるのが優れる理由は、表面状態の
相違や反応性部位の残留の有無による活性度の相違など
が考えられる。
The antifouling layer 5 formed by the dry coating method is replaced with the antifouling layer 5 formed by the dip coating method.
It is considered that the reason why the adhesiveness is superior to that of the above is a difference in adhesion due to the presence or absence of a solvent during film formation and the presence or absence of moisture in the atmosphere. When a silane compound is deposited, the reason why the hard coat layer 4 is preferably in a semi-cured state is considered to be a difference in surface state and a difference in activity due to the presence or absence of a reactive site.

【0041】一般式化1で示されるシラン化合物におい
て、Xは水素原子または低級アルキル基である。低級ア
ルキル基としては通常、炭素数1〜5のものが挙げられ
る。Xとして好ましいのは水素原子である。Yの加水分
解可能な基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等のハロゲン原子、RO基、RCOO基、RC=CR
CO基、RC=NO基、RC=NO基、RN基、及
びRCONR基が好ましい。さらに好ましくは、塩素原
子、CHO基、CO基である。最も好ましくは
CHO基である。lは1〜50の整数を示す。また、
mは0〜2の整数を示す。好ましくは0である。また、
nは1〜10の整数を示す。好ましくは1〜5である。
In the silane compound represented by the general formula 1, X is a hydrogen atom or a lower alkyl group. The lower alkyl group usually has 1 to 5 carbon atoms. X is preferably a hydrogen atom. Examples of the hydrolyzable group for Y include a chlorine atom, a bromine atom, a halogen atom such as an iodine atom, a RO group, a RCOO group, and R 2 C = CR.
CO, R 2 C = NO, RC = NO, R 2 N, and RCONR groups are preferred. More preferably, a chlorine atom, CH 3 O group, a C 2 H 5 O groups. Most preferably, it is a CH 3 O group. l shows the integer of 1-50. Also,
m shows the integer of 0-2. Preferably it is 0. Also,
n shows the integer of 1-10. Preferably it is 1-5.

【0042】なお、一般式化1で示されるシラン化合物
は湿度を含む大気中では不安定であり、パーフルオロヘ
キサンのような低沸点フッ素系溶媒に希釈して保存され
る。そのような溶媒としては、たとえば、パーフルオロ
ヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフ
ルオロ−1、3−ジメチルシクロヘキサンなどの通常は
炭素数5〜12のパーフルオロ脂肪族炭化水素や、ビス
(トリフルオロメチル)ベンゼンなどの多フッ素化芳香
族炭化水素、多フッ素化脂肪族炭化水素などが挙げられ
る。
It should be noted that the silane compound represented by the general formula 1 is unstable in the atmosphere including humidity, and is stored after being diluted with a low boiling point fluorine-based solvent such as perfluorohexane. Examples of such a solvent include perfluoroaliphatic hydrocarbons having usually 5 to 12 carbon atoms such as perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, and bis (trifluoromethyl). ) Polyfluorinated aromatic hydrocarbons such as benzene, and polyfluorinated aliphatic hydrocarbons.

【0043】また一般式化1で示されるシラン化合物
は、市販のパーフルオロポリエーテルをシラン処理する
ことによって容易に得ることができる。
The silane compound represented by the general formula 1 can be easily obtained by subjecting a commercially available perfluoropolyether to silane treatment.

【0044】また、防汚層5の厚さは、低反射効果と汚
染防止効果の点から1.0〜100nmであるのが好ま
しい。1.0nmに満たない場合は防汚性と低反射性が
不足し、また、布などの摺動により容易に剥がれるおそ
れがある。100nmを越える場合は低反射性は備える
が、硬度が低下したり耐久性が劣ったりするおそれがあ
る。特に1.0〜20nmであると、優れた耐久性を得
ることができるので好ましい。
The thickness of the antifouling layer 5 is preferably 1.0 to 100 nm from the viewpoint of a low reflection effect and a contamination prevention effect. If the thickness is less than 1.0 nm, the antifouling property and the low reflectivity are insufficient, and there is a possibility that the antifouling property is easily peeled off by sliding of a cloth or the like. If it exceeds 100 nm, although low reflectivity is provided, the hardness may be reduced or the durability may be deteriorated. In particular, when the thickness is 1.0 to 20 nm, excellent durability can be obtained, which is preferable.

【0045】また、一般式化1で示されるシラン化合物
からなる防汚層5の屈折率は1.40以下であるのが好
ましい。なぜなら、単層膜において低反射性を発現させ
るためには、ベース基材およびハードコート材の屈折率
より低屈折であることが必要であり、値が小さいほど低
反射性に優れる。ハードコート層4のベースポリマーと
して汎用に使われるアクリル系樹脂は屈折率が1.49
程度であり、一般式化1で示されるシラン化合物はパー
フルオロ基の効果により屈折率1.40以下に製造する
ことが可能であり、優れた低反射性を発現させることが
可能である。
The refractive index of the antifouling layer 5 made of the silane compound represented by the general formula 1 is preferably 1.40 or less. This is because in order for a single-layer film to exhibit low reflectivity, it is necessary that the refractive index is lower than the refractive indexes of the base material and the hard coat material. The lower the value, the better the low reflectivity. Acrylic resin commonly used as a base polymer of the hard coat layer 4 has a refractive index of 1.49.
The silane compound represented by Formula 1 can be manufactured to have a refractive index of 1.40 or less due to the effect of a perfluoro group, and can exhibit excellent low reflectivity.

【0046】最後に、必要により、加熱、紫外線照射ま
たは電子線照射などによってハードコート層4の硬化処
理を行う。一般式化1で示されるシラン化合物を分解さ
せない範囲において硬化処理を行うことによってハード
コート層4をより強固な層とすることができる。また、
基体シート9を剥離した直後のハードコート層4が高活
性な半硬化状態において、速やかに防汚層5を形成する
ことにより、ハードコート層4と防汚層5との密着強度
をより高めることができる。硬化処理を行う時期とし
て、好ましくは基体シート9の剥離から24時間以内で
あり、特に基体シート9の剥離直後は最も優れた密着強
度を得ることができる。
Finally, if necessary, a hardening treatment of the hard coat layer 4 is performed by heating, irradiation of ultraviolet rays, irradiation of electron beams, or the like. The hard coat layer 4 can be made to be a stronger layer by performing a curing treatment within a range in which the silane compound represented by the general formula 1 is not decomposed. Also,
Immediately forming the antifouling layer 5 in the highly active semi-cured state of the hard coat layer 4 immediately after peeling the base sheet 9, thereby further increasing the adhesion strength between the hard coat layer 4 and the antifouling layer 5. Can be. The time for performing the curing treatment is preferably within 24 hours after the peeling of the base sheet 9, and particularly, immediately after the peeling of the base sheet 9, the most excellent adhesion strength can be obtained.

【0047】[0047]

【実施例】(実施例1) ポリエチレンテレフタレート
フィルムを基体シートとし、その上に紫外線硬化型アク
リルエポキシ共重合体を主成分とした樹脂からなるハー
ドコート層をグラビアコート法により形成し、その上に
接着性インキを用いて図柄層を形成して転写材を得た。
EXAMPLES (Example 1) A polyethylene terephthalate film was used as a base sheet, and a hard coat layer composed of a resin containing an ultraviolet-curable acrylic epoxy copolymer as a main component was formed thereon by a gravure coating method. A pattern layer was formed using an adhesive ink to obtain a transfer material.

【0048】また、携帯電話機のディスプレイ部分のカ
バー部品を成形する成形用金型を用意した。
Further, a molding die for molding a cover part of a display portion of the mobile phone was prepared.

【0049】転写材の基体シート側が金型の凹部に接す
るように転写材を載置し、その後溶融したアクリル樹脂
を金型内に射出し、透明基板の成形と同時に透明基板と
転写材を一体化し、次いで金型内から成形品を取り出し
て基体シートを剥離し、表面の周囲に文字や絵柄からな
る図柄層を有する成形品を得た。
The transfer material is placed so that the base sheet side of the transfer material is in contact with the concave portion of the mold, and then the molten acrylic resin is injected into the mold, and the transparent substrate and the transfer material are integrally formed simultaneously with the formation of the transparent substrate. Then, the molded article was taken out of the mold and the base sheet was peeled off, to obtain a molded article having a design layer composed of characters and pictures around the surface.

【0050】続いて、速やかに成形品を蒸着槽にセット
し、シラン化合物として下記構造式化2で示されるフッ
素系シランを用い、これの20重量%パーフルオロヘキ
サン溶液を蒸着槽内のスチールウールを敷き詰めた1m
lの蒸発皿に0.1g滴下し、常温にてパーフルオロヘ
キサン溶剤を蒸発させ、続いて1.33×10−2Pa
以下に真空排気した後、蒸発皿を約300℃まで抵抗加
熱して厚さ20nmとなるようにドライコーティングし
て防汚層を形成した。
Subsequently, the molded product was immediately set in a vapor deposition tank, and a fluorine-containing silane represented by the following structural formula 2 was used as a silane compound. 1m covered with
0.1 g was dropped into a 1 l evaporating dish, and the perfluorohexane solvent was evaporated at room temperature, followed by 1.33 × 10 −2 Pa.
After evacuation as described below, the evaporating dish was resistance-heated to about 300 ° C. and dry-coated to a thickness of 20 nm to form an antifouling layer.

【0051】[0051]

【化2】 Embedded image

【0052】次いで、紫外線照射を成形品一個あたり約
0.2Mrad行い、低反射部材を完成させた。
Next, ultraviolet irradiation was performed about 0.2 Mrad per molded product to complete a low reflection member.

【0053】このようにして得た携帯電話機のディスプ
レイ部分のカバー部品である低反射部材の各種物性を測
定したところ、表1に示す結果が得られた。
When the various physical properties of the low-reflection member, which is a cover part of the display portion of the mobile phone, were measured, the results shown in Table 1 were obtained.

【0054】なお、透過率は低反射性の度合いを示し、
分光光度計(株式会社島津製作所製UV−3100)を
用い、波長550nmにおける低反射部材の積分球によ
る透過率を測定したものである。また、初期水接触角は
撥水性の度合いを示し、接触角計を使用し、室温下で直
径1.0mmの水滴を針先につくり、これを低反射部材
の表面に触れさせて液滴を作り、このときに生ずる液滴
と面との角度を測定したものである。また、摺動後水接
触角は耐久性の度合いを示し、ポリエステル製織布(帝
人株式会社製ミクロスター)により、低反射部材の表面
を2.45N(250g荷重)にて50往復させた後
に、前述した方法で水に対する接触角を測定したもので
ある。また、ヘキサデカン転落角は撥油性の度合いを示
すものである。また、コストとは、防汚層を形成しない
場合(比較例1)のコストを1.0として相対的に示し
たものである。また、防眩感とは、カバー部品を至近距
離から観察し、蛍光灯の映り込みや透明感などを目視に
より評価したものであり、◎は非常に良好、○は良好、
×は不良をそれぞれ示す。
The transmittance indicates the degree of low reflectivity.
Using a spectrophotometer (UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation), the transmittance of the low-reflection member at a wavelength of 550 nm by an integrating sphere was measured. The initial water contact angle indicates the degree of water repellency. Using a contact angle meter, a water drop having a diameter of 1.0 mm is formed at the needle tip at room temperature, and the water drop is brought into contact with the surface of the low-reflection member to form a water drop. And the angle between the droplet and the surface generated at this time was measured. In addition, the water contact angle after sliding indicates the degree of durability. After the surface of the low-reflection member was reciprocated 50 times at 2.45 N (250 g load) with a polyester woven fabric (Microstar manufactured by Teijin Limited). The contact angle to water was measured by the method described above. The hexadecane falling angle indicates the degree of oil repellency. Further, the cost is a relative value where the cost when the antifouling layer is not formed (Comparative Example 1) is 1.0. In addition, anti-glare feeling refers to observing a cover component from a very close distance and visually evaluating the reflection or transparency of the fluorescent lamp, etc., ◎ is very good, ○ is good,
X indicates a defect, respectively.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】実施例1においては、摺動前の水接触角が
114°と高い値であり、優れた撥水性を有するもので
あった。また、摺動前のヘキサデカン転落角が8°と低
い値であり、優れた撥油性を有するものであった。ま
た、摺動後の水接触角および摺動後のヘキサデカン転落
角の変化が小さく、撥水性および撥油性の耐久性に優れ
たものであった。また、防眩感も良好であり、低反射性
に優れたものであった。
In Example 1, the water contact angle before sliding was as high as 114 °, and had excellent water repellency. Further, the hexadecane falling angle before sliding was as low as 8 °, indicating that it had excellent oil repellency. In addition, the water contact angle after sliding and the change in hexadecane falling angle after sliding were small, and the durability of water repellency and oil repellency was excellent. In addition, the anti-glare feeling was good and the anti-glare property was excellent.

【0057】(比較例1) 防汚層を形成しないこと以
外はすべて実施例1と同様にして低反射部材を得た。低
反射部材の各種物性を測定したところ、表1に示す結果
が得られた。
Comparative Example 1 A low reflection member was obtained in the same manner as in Example 1 except that no antifouling layer was formed. When the various physical properties of the low reflection member were measured, the results shown in Table 1 were obtained.

【0058】比較例1においては、摺動前の水接触角が
60°と低い値であり、撥水性に極めて劣るものであっ
た。また、摺動前のヘキサデカン転落角が70°と高い
値であり、撥油性に極めて劣るものであった。
In Comparative Example 1, the water contact angle before sliding was as low as 60 °, which was extremely poor in water repellency. Further, the hexadecane falling angle before sliding was as high as 70 °, which was extremely poor in oil repellency.

【0059】(比較例2) 防汚層を形成する前に、ハ
ードコート層の上に二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化
珪素、二酸化チタン、二酸化珪素の順序で所定の厚みに
なるように電子線蒸着を行って低反射層を形成した。続
いて、防汚層のシラン化合物として、C17
Si(OCH(ジーイー東芝シリコーン株式会
社製XC98−A5382)の10%イソブタノール溶
液を用いた以外はすべて実施例1と同様にして低反射部
材を得た。低反射部材の各種物性を測定したところ、表
1に示す結果が得られた。
(Comparative Example 2) Before forming an antifouling layer, electron beam evaporation was performed on the hard coat layer in the order of silicon dioxide, titanium dioxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and silicon dioxide so as to have a predetermined thickness. Was performed to form a low reflection layer. Subsequently, C 8 F 17 C 2 H was used as a silane compound for the antifouling layer.
A low reflection member was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 10% solution of 4Si (OCH 3 ) 3 (XC98-A5382 manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) was used. When the various physical properties of the low reflection member were measured, the results shown in Table 1 were obtained.

【0060】比較例2においては、摺動前の水接触角は
実施例1と比較すると6°低く、撥水性が劣るものであ
った。また、摺動後の水接触角が摺動前から10°減少
し、耐久性に劣るものであった。また、摺動前のヘキサ
デカン転落角が実施例1と比較すると21°高く、撥油
性に劣るものであった。また、防眩感は非常に良好で低
反射性に優れるものの、低反射層を形成したため高コス
トなものであった。
In Comparative Example 2, the water contact angle before sliding was 6 ° lower than that in Example 1, and the water repellency was poor. In addition, the water contact angle after sliding decreased by 10 ° from before sliding, resulting in poor durability. Further, the hexadecane falling angle before sliding was 21 ° higher than that in Example 1, and the oil repellency was poor. In addition, the antiglare feeling was very good and excellent in low reflectivity, but the cost was high because the low reflective layer was formed.

【0061】(比較例3) 実施例1と同様にして透明
基板上に、図柄層とハードコート層を形成した。次い
で、防汚層のシラン化合物として実施例1と同様のもの
を使用し、0.1%にパーフルオロヘキサン溶液希釈を
行い、透明基板の裏面をマスク処理をしてディップコー
トすることにより、厚さ20nmの防汚層を形成した。
低反射部材の各種物性を測定したところ、表1に示す結
果が得られた。
Comparative Example 3 A pattern layer and a hard coat layer were formed on a transparent substrate in the same manner as in Example 1. Then, the same silane compound as in Example 1 was used as the antifouling layer, the perfluorohexane solution was diluted to 0.1%, and the back surface of the transparent substrate was subjected to a mask treatment and dip coated to obtain a thick film. An antifouling layer having a thickness of 20 nm was formed.
When the various physical properties of the low reflection member were measured, the results shown in Table 1 were obtained.

【0062】比較例3においては、摺動前の水接触角は
実施例1と比較すると1°低く、撥水性がやや劣るもの
であった。また、摺動後の水接触角が摺動前から9°減
少し、耐久性に劣るものであった。また、摺動後のヘキ
サデカン転落角が摺動前から8°高くなり、撥油性にお
いても耐久性においても劣るものであった。
In Comparative Example 3, the water contact angle before sliding was 1 ° lower than that in Example 1, and the water repellency was slightly inferior. Further, the water contact angle after sliding decreased by 9 ° from that before sliding, resulting in poor durability. Further, the hexadecane falling angle after sliding was 8 ° higher than before sliding, and the oil repellency and durability were poor.

【0063】[0063]

【発明の効果】この発明は、以上のような構成を採るの
で、以下のような効果を奏する。
Since the present invention employs the above-described configuration, the following effects can be obtained.

【0064】この発明の低反射部材は、透明基板の一方
の面にハードコート層と防汚層とが少なくとも順に積層
され、防汚層が一般式化1で示されるシラン化合物から
なるので、透明基板の片面のみに汚染物の除去が容易で
耐久性に優れ、低反射性を兼ね備えた防汚層を有するも
のである。
In the low reflection member of the present invention, a hard coat layer and an antifouling layer are laminated at least in order on one surface of a transparent substrate, and the antifouling layer is made of a silane compound represented by the general formula (1). It has an antifouling layer on only one side of the substrate, which is easy to remove contaminants, has excellent durability, and has low reflectivity.

【0065】また、この発明の低反射部材の製造方法
は、半硬化のハードコート層上に一般式化1で示される
シラン化合物を用いドライコーティング法により防汚層
を形成するので、汚染物の除去が容易で耐久性に優れ、
低反射性を兼ね備えた防汚層を透明基板の片面のみに均
一な膜厚で容易に形成することができる。
In the method of manufacturing a low reflection member according to the present invention, an antifouling layer is formed on a semi-cured hard coat layer by a dry coating method using a silane compound represented by the general formula (1). Easy to remove and durable,
An antifouling layer having low reflectivity can be easily formed on only one surface of the transparent substrate with a uniform film thickness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の低反射部材の一実施例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a low reflection member according to the present invention.

【図2】この発明の低反射部材の製造方法に用いる転写
材の一実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing one embodiment of a transfer material used in the method for manufacturing a low reflection member according to the present invention.

【図3】この発明の低反射部材の製造方法の一工程を示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing one step of the method for manufacturing a low reflection member according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 2 接着層 3 図柄層 4 ハードコート層 5 防汚層 6 低反射部材 7 金型 8 転写材 9 基体シート 10 転写層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Adhesive layer 3 Design layer 4 Hard coat layer 5 Antifouling layer 6 Low reflection member 7 Mold 8 Transfer material 9 Base sheet 10 Transfer layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/10 B29L 9:00 // B29L 7:00 11:00 9:00 G02B 1/10 A 11:00 Z Fターム(参考) 2K009 AA08 AA15 BB24 CC03 CC33 CC42 DD02 DD03 DD05 DD06 EE05 4D075 AC88 BB21Y BB26Z BB46Z BB47Z BB56Y BB85Y CA34 CB02 DC24 EB42 4F206 AA16 AA33 AG01 AG03 AH41 AH42 AH73 JA07 JB13 JB19 JB24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 1/10 B29L 9:00 // B29L 7:00 11:00 9:00 G02B 1/10 A 11: 00Z F term (for reference) 2K009 AA08 AA15 BB24 CC03 CC33 CC42 DD02 DD03 DD05 DD06 EE05 4D075 AC88 BB21Y BB26Z BB46Z BB47Z BB56Y BB85Y CA34 CB02 DC24 EB42 4F206 AA16 AA33 J01 AG03 AHBA13J01A03BH

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板の一方の面にハードコート層と
防汚層とが少なくとも順に積層され、防汚層が一般式化
1で示されるシラン化合物からなることを特徴とする低
反射部材(一般式中、Xは水素原子または低級アルキル
基、Yは加水分解可能な基、lは1〜50の整数、mは
0〜2の整数、nは1〜10の整数をそれぞれ示す)。 【化1】
1. A low reflection member (1), wherein a hard coat layer and an antifouling layer are laminated at least in order on one surface of a transparent substrate, and the antifouling layer is made of a silane compound represented by the general formula (1). In the general formula, X is a hydrogen atom or a lower alkyl group, Y is a hydrolyzable group, l is an integer of 1 to 50, m is an integer of 0 to 2, and n is an integer of 1 to 10). Embedded image
【請求項2】 ハードコート層の下に図柄層を有する請
求項1記載の低反射部材。
2. The low reflection member according to claim 1, further comprising a design layer below the hard coat layer.
【請求項3】 防汚層の厚さが1.0〜100nmであ
る請求項1〜3のいずれかに記載の低反射部材。
3. The low reflection member according to claim 1, wherein the antifouling layer has a thickness of 1.0 to 100 nm.
【請求項4】 基体シート上に半硬化のハードコート層
が少なくとも形成された転写材を基体シートがキャビテ
ィ面に接するように金型にセットし、金型内に透明な溶
融樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との一
体化物を得、次いで基体シートを剥離し、次いでハード
コート層上に一般式化1で示されるシラン化合物を用い
ドライコーティング法により防汚層を形成することを特
徴とする低反射部材の製造方法。
4. A transfer material having at least a semi-cured hard coat layer formed on a base sheet is set in a mold so that the base sheet is in contact with the cavity surface, and a transparent molten resin is injected into the mold. Obtaining an integrated product of a transparent substrate made of a resin and a transfer material, peeling the base sheet, and then forming an antifouling layer on the hard coat layer by a dry coating method using a silane compound represented by the general formula (1). A method for manufacturing a low reflection member, comprising:
【請求項5】 防汚層を形成した後に加熱、紫外線照射
または電子線照射してハードコート層を硬化させる請求
項4記載の低反射部材の製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the hard coat layer is cured by heating, irradiating ultraviolet rays or irradiating an electron beam after forming the antifouling layer.
JP2000235060A 2000-08-03 2000-08-03 Low reflection member and method for producing the same Withdrawn JP2002046143A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000235060A JP2002046143A (en) 2000-08-03 2000-08-03 Low reflection member and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000235060A JP2002046143A (en) 2000-08-03 2000-08-03 Low reflection member and method for producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002046143A true JP2002046143A (en) 2002-02-12

Family

ID=18727335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000235060A Withdrawn JP2002046143A (en) 2000-08-03 2000-08-03 Low reflection member and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002046143A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016521871A (en) * 2013-06-14 2016-07-25 エシロル アンテルナショナル(コンパーニュ ジェネラル ドプテーク) Articles coated with a silicon / organic layer to improve the performance of the outer coating
WO2023032431A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-09 株式会社Lixil Member

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016521871A (en) * 2013-06-14 2016-07-25 エシロル アンテルナショナル(コンパーニュ ジェネラル ドプテーク) Articles coated with a silicon / organic layer to improve the performance of the outer coating
WO2023032431A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-09 株式会社Lixil Member

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5489604B2 (en) Method for manufacturing optical article
CN104945965B (en) Hard coat film, transparent and electrically conductive film and capacitance touching control panel
TW201012647A (en) Continuous manufacturing method of acrylic resin sheet
JP6375360B2 (en) Active energy ray-curable resin composition, antifogging and antifouling laminate, article, method for producing the same, and antifouling method
KR102077514B1 (en) Antifoam laminate, article and manufacturing method thereof, and antifoam method
JP5712571B2 (en) Half-mirror touch sensor
JP6298191B1 (en) Active energy ray-curable resin composition, antifogging and antifouling laminate, method for producing the same, article, and antifogging method
CN109313300B (en) Protective film, optical film, laminate, polarizing plate, image display device, and method for producing polarizing plate
CN113557279B (en) Multilayer film and laminate comprising same
JP7161836B2 (en) Antifogging antifouling laminate, article, and method for producing the same
TW201518093A (en) Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel
JP3457620B2 (en) Anti-reflection member and method of manufacturing the same
JP3571021B2 (en) Anti-reflective molded product, method for producing the same, mold for anti-reflective molded product
WO2016175054A1 (en) Active energy ray-curable resin composition, antifogging antifouling laminate, article, method for producing same, and antifouling method
CN113557278B (en) Multilayer film and laminate comprising same
US20060147729A1 (en) Transferable antireflection material for use on optical display
JP2010186159A (en) Optical article and manufacturing method of the same
KR100877184B1 (en) Manufacturing method of frinting film for insert molding
JP2002046143A (en) Low reflection member and method for producing the same
JP2002040208A (en) Antireflection cover component and method for producing the same
JP3736840B2 (en) Anti-reflection transfer material
TW201128239A (en) Optical laminate and manufacturing method thereof as well as polarizing plate and display device using the same
JP2009107333A (en) Transparent resin laminate with electrically conductive circuit and manufacturing method for it
JP2003005657A (en) Cover part for display part
JP2002144371A (en) Manufacturing method for anti-reflection member

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071106