JP2002040206A - Antireflection cover member and method for producing the same - Google Patents

Antireflection cover member and method for producing the same

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JP2002040206A
JP2002040206A JP2000226161A JP2000226161A JP2002040206A JP 2002040206 A JP2002040206 A JP 2002040206A JP 2000226161 A JP2000226161 A JP 2000226161A JP 2000226161 A JP2000226161 A JP 2000226161A JP 2002040206 A JP2002040206 A JP 2002040206A
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JP
Japan
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layer
resin
cover member
transparent substrate
transfer material
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000226161A
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Japanese (ja)
Inventor
Norimichi Isoda
典理 礒田
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Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection cover member having a superior antireflection effect and a method for producing the member. SOLUTION: At least a low reflection layer 6 is formed on one face or both faces of a transparent substrate 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、携帯電話、ビデ
オカメラ、デジタルカメラ、自動車用機器などのディス
プレイ部分のカバー部品などに用いることができる反射
防止カバー部材とその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection cover member which can be used as a cover part of a display portion of a cellular phone, a video camera, a digital camera, an automobile device and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話、ビデオカメラ、デジタルカメ
ラ、自動車用機器などにおいて、ディスプレイ部分は、
液晶パネルあるいは有機ELパネルとの組み合わせなど
により構成されている。特に携帯電話機などの携帯機器
ではディスプレイ部分が常に露出している場合が多く、
液晶パネルの破損を防止したり、液晶パネルの表示を拡
大したり、液晶パネル近辺を装飾したりすることを目的
として、凸レンズ形状に成形した透明基板や縁取りなど
の図柄が形成された透明基板により構成されるカバー部
品により覆われている。
2. Description of the Related Art In a mobile phone, a video camera, a digital camera, an automobile device, etc., a display portion is
It is configured by a combination with a liquid crystal panel or an organic EL panel. Especially in mobile devices such as mobile phones, the display part is often exposed,
With the purpose of preventing damage to the LCD panel, enlarging the display of the LCD panel, and decorating the vicinity of the LCD panel, a transparent substrate molded into a convex lens shape and a transparent substrate with a pattern such as a border are formed. It is covered by the configured cover parts.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、カバー部品
は、通常、液晶パネルとの間に空間を設けて設置するこ
とに起因して液晶パネルとカバー部品との間に空気層が
存在するため、液晶パネルからの光がカバー部品を透過
する際、カバー部品の裏面で反射が生じる。このような
カバー部品において、透明基板がアクリル樹脂からなる
場合、アクリル樹脂の屈折率が1.48であり空気層の
屈折率1.0に比べ高屈折なため、カバー部品の片面で
4〜5%の反射率を示すものであった。したがって、カ
バー部品の裏面からの光が反射して写り込み視認性が落
ちるため、反射光をできるだけ抑えたいという要求があ
る。
However, the cover component usually has an air layer between the liquid crystal panel and the cover component due to the space between the liquid crystal panel and the cover component. When light from the liquid crystal panel passes through the cover component, reflection occurs on the back surface of the cover component. In such a cover part, when the transparent substrate is made of an acrylic resin, the refractive index of the acrylic resin is 1.48, which is higher than the refractive index of the air layer of 1.0. % Reflectance. Therefore, since the light from the back surface of the cover component is reflected and the visibility is reduced, there is a demand to suppress the reflected light as much as possible.

【0004】また、液晶パネルのカラー化が進むに伴
い、カバー部品の裏面からの反射光がディスプレイ表示
のコントラストに影響を及ぼし表示品質を落とすことか
ら、裏面の反射の少ないカバー部品が求められている。
Further, as the colorization of the liquid crystal panel progresses, the reflected light from the back surface of the cover component affects the contrast of the display display and degrades the display quality. I have.

【0005】したがって、この発明は、上記のような欠
点を解消し、優れた反射防止効果を有する反射防止カバ
ー部材とその製造方法を提供することを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an anti-reflection cover member having an excellent anti-reflection effect and a method of manufacturing the same, which solves the above-mentioned drawbacks.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明の反射防止カバ
ー部材とその製造方法は、上記の目的を達成するため
に、つぎのように構成した。
An anti-reflection cover member and a method of manufacturing the same according to the present invention are configured as follows to achieve the above object.

【0007】すなわち、この発明の反射防止カバー部材
は、透明基板の片面または両面に低反射層が少なくとも
形成されるように構成した。
That is, the antireflection cover member of the present invention is configured such that at least one low reflection layer is formed on one or both surfaces of the transparent substrate.

【0008】また、上記の発明において、透明基板が片
面または両面に保護層または図柄層のいずれかが少なく
とも形成されたものであるように構成してもよい。
In the above invention, the transparent substrate may be configured such that at least one of a protective layer and a design layer is formed on one or both sides.

【0009】また、上記の発明において、低反射層の上
に防汚層が形成されるように構成してもよい。
Further, in the above invention, a configuration may be adopted in which an antifouling layer is formed on the low reflection layer.

【0010】また、この発明の反射防止カバー部材の製
造方法は、基体シート上に少なくとも保護層または図柄
層が形成された転写材を基体シート側がキャビティ面に
接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂
を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体化物
を得、次いで転写材の基体シートを剥離し、次いで低反
射層を片面または両面に形成するように構成した。
Further, in the method of manufacturing an antireflection cover member according to the present invention, a transfer material having at least a protective layer or a pattern layer formed on a base sheet is placed in a mold such that the base sheet side is in contact with the cavity surface; Injecting a transparent molten resin into a mold to obtain an integrated product of a transparent substrate made of resin and a transfer material, then peeling off the base sheet of the transfer material, and then forming a low reflection layer on one or both sides Configured.

【0011】また、上記の発明において、低反射層の形
成方法が、印刷法、コーティング法、浸漬法、蒸着法ま
たは貼付法であるように構成してもよい。
In the above invention, the method for forming the low reflection layer may be a printing method, a coating method, a dipping method, a vapor deposition method or a sticking method.

【0012】また、上記の発明において、低反射層の上
に、印刷法、コーティング法、浸漬法または蒸着法によ
り防汚層を形成するように構成してもよい。
In the above invention, an antifouling layer may be formed on the low reflection layer by a printing method, a coating method, a dipping method or a vapor deposition method.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図面を参照しながらこの発明の実
施の形態について詳しく説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0014】図1は、この発明の反射防止カバー部材の
一実施例を示す断面図である。図2は、この発明の反射
防止カバー部材の製造方法に用いる転写材を示す断面図
である。図3は、この発明の反射防止カバー部材の製造
方法の一工程を示す断面図である。図中、1は反射防止
カバー部材、2は透明基板、3は接着層、4は図柄層、
5は保護層、6は低反射層、7は防汚層、8は転写材、
9は基体シート、10は転写層、11は金型である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the antireflection cover member of the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing a transfer material used in the method for manufacturing an antireflection cover member of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing one step of the method for manufacturing the antireflection cover member of the present invention. In the figure, 1 is an antireflection cover member, 2 is a transparent substrate, 3 is an adhesive layer, 4 is a design layer,
5 is a protective layer, 6 is a low reflection layer, 7 is an antifouling layer, 8 is a transfer material,
Reference numeral 9 denotes a base sheet, 10 denotes a transfer layer, and 11 denotes a mold.

【0015】この発明の反射防止カバー部材1は、透明
基板2の片面または両面に低反射層6が少なくとも形成
されたものである(図1参照)。
The anti-reflection cover member 1 of the present invention has at least a low reflection layer 6 formed on one or both sides of a transparent substrate 2 (see FIG. 1).

【0016】また、透明基板2の表面には、必要に応じ
て、図柄層4、保護層5、防汚層7などを形成してもよ
い。
On the surface of the transparent substrate 2, a pattern layer 4, a protective layer 5, an antifouling layer 7 and the like may be formed as required.

【0017】透明基板2の表面に、図柄層4や保護層5
などを形成するには、転写材8を利用した成形同時転写
法を用いるのが好ましい。転写材8は、基体シート9上
に、図柄層4や保護層5などが転写層10として構成さ
れたものである(図2参照)。
On the surface of the transparent substrate 2, a pattern layer 4 and a protective layer 5
In order to form such a material, it is preferable to use a molding simultaneous transfer method using the transfer material 8. The transfer material 8 has a design layer 4 and a protective layer 5 formed on a base sheet 9 as a transfer layer 10 (see FIG. 2).

【0018】基体シート9の材質としては、ポリプロピ
レン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂などの樹脂シートなどを使用することができる。
The base sheet 9 may be made of a polypropylene resin, a polyethylene resin, a polyamide resin,
A resin sheet such as a polyester resin, an acrylic resin, and a polyvinyl chloride resin can be used.

【0019】基体シート9からの転写層10の剥離性が
よい場合には、基体シート9上に転写層10を直接設け
ればよい。基体シート9からの転写層10の剥離性を改
善するためには、基体シート9上に転写層10を設ける
前に、離型層を全面的に形成してもよい。
When the transfer layer 10 has good releasability from the base sheet 9, the transfer layer 10 may be provided directly on the base sheet 9. In order to improve the releasability of the transfer layer 10 from the base sheet 9, a release layer may be formed over the entire surface before the transfer layer 10 is provided on the base sheet 9.

【0020】剥離層は、転写層10の剥離性を高めるた
めの層である。剥離層の材質としては、アクリル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セル
ロース系樹脂、ゴム系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ
酢酸ビニル系樹脂などのほか、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂
などのコポリマーを用いるとよい。剥離層の形成方法と
しては、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコ
ート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印
刷法などの印刷法がある。
The release layer is a layer for improving the releasability of the transfer layer 10. Examples of the material of the release layer include acrylic resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, cellulose resin, rubber resin, polyurethane resin, polyvinyl acetate resin, and the like, as well as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. It is preferable to use a resin or a copolymer such as an ethylene-vinyl acetate copolymer resin. As a method for forming the release layer, there are a coating method such as a gravure coating method, a roll coating method, and a comma coating method, and a printing method such as a gravure printing method and a screen printing method.

【0021】保護層5は、基体シート9または離型層上
に全面的に形成する。保護層5は、成形同時転写後に基
体シート9を剥離した際に、基体シート9または離型層
から剥離して被転写物の最外面となり、反射防止カバー
部材1の表面強度を高める層となる。
The protective layer 5 is formed entirely on the base sheet 9 or the release layer. When the base sheet 9 is peeled off after the simultaneous transfer of the molding, the protective layer 5 is peeled off from the base sheet 9 or the release layer and becomes the outermost surface of the transferred object, and serves as a layer for increasing the surface strength of the antireflection cover member 1. .

【0022】保護層5としては、重合性二重結合を有す
るプレポリマーまたはオリゴマーあるいはエポキシ基を
有するプレポリマーまたはオリゴマーの組成物に反応型
希釈剤を混合し、必要により光重合開始剤を添加した化
合物を用いるとよい。具体的には、紫外線硬化性樹脂や
電子線硬化性樹脂として用いられる樹脂を用いるとよ
い。保護層5の形成方法としては、グラビアコート法、
ロールコート法、コンマコート法などのコート法、グラ
ビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法がある。
As the protective layer 5, a reactive diluent was mixed with a composition of a prepolymer or oligomer having a polymerizable double bond or a prepolymer or oligomer having an epoxy group, and a photopolymerization initiator was added as required. A compound may be used. Specifically, a resin used as an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin may be used. As a method for forming the protective layer 5, a gravure coating method,
There are coating methods such as a roll coating method and a comma coating method, and printing methods such as a gravure printing method and a screen printing method.

【0023】図柄層4は、通常は印刷層として形成す
る。印刷層の材質としては、ポリビニル系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリ
エステルウレタン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、
アルキド樹脂などの樹脂をバインダーとし、適切な色の
顔料または染料を着色剤として含有する着色インキを用
いるとよい。印刷層の形成方法としては、オフセット印
刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通常の
印刷法などを用いるとよい。印刷層は、通常は、部分的
に設ける。
The design layer 4 is usually formed as a printing layer. As the material of the printing layer, a polyvinyl resin, a polyamide resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyvinyl acetal resin, a polyester urethane resin, a cellulose ester resin,
It is preferable to use a coloring ink containing a resin such as an alkyd resin as a binder and a pigment or dye of an appropriate color as a coloring agent. As a method for forming the printing layer, a normal printing method such as an offset printing method, a gravure printing method, or a screen printing method may be used. The printing layer is usually provided partially.

【0024】また、図柄層4は、金属薄膜層からなるも
の、あるいは印刷層と金属薄膜層との組み合わせからな
るものでもよい。金属薄膜層は、図柄層4として金属光
沢を表現するためのものであり、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成
する。表現したい金属光沢色に応じて、アルミニウム、
ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、スズ、インジウ
ム、銀、チタニウム、鉛、亜鉛などの金属、これらの合
金または化合物を使用する。金属薄膜層は、通常は、部
分的に形成する。また、金属薄膜層を設ける際に、他の
層との密着性を向上させるために、前アンカー層や後ア
ンカー層を設けてもよい。
The design layer 4 may be composed of a metal thin film layer or a combination of a printing layer and a metal thin film layer. The metal thin film layer is for expressing metallic luster as the design layer 4, and is formed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a plating method, or the like. Depending on the metallic gloss color you want to express, aluminum,
Metals such as nickel, gold, platinum, chromium, iron, copper, tin, indium, silver, titanium, lead, and zinc, and alloys or compounds thereof are used. The metal thin film layer is usually formed partially. Further, when providing the metal thin film layer, a front anchor layer or a rear anchor layer may be provided in order to improve adhesion to other layers.

【0025】また、透明基板2の上に上記の各層を接着
するために接着層3を形成するとよい。接着層3として
は、透明基板2の素材に適した感熱性あるいは感圧性の
樹脂を適宜使用する。
Further, an adhesive layer 3 may be formed on the transparent substrate 2 in order to adhere the above layers. As the adhesive layer 3, a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the transparent substrate 2 is appropriately used.

【0026】たとえば、透明基板2の材質がアクリル系
樹脂の場合はアクリル系樹脂を用いるとよい。また、透
明基板2の材質がポリフェニレンオキシド・ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系ブ
レンド樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアク
リル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂な
どを使用すればよい。さらに、透明基板2の材質がポリ
プロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、
塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、
クマロンインデン樹脂が使用可能である。接着層3の形
成方法としては、グラビアコート法、ロールコート法、
コンマコート法などのコート法、グラビア印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷法がある。
For example, when the material of the transparent substrate 2 is an acrylic resin, it is preferable to use an acrylic resin. When the material of the transparent substrate 2 is a polyphenylene oxide / polystyrene resin, a polycarbonate resin, or a polystyrene blend resin, an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyamide resin, or the like having an affinity for these resins may be used. I just need. Further, when the material of the transparent substrate 2 is a polypropylene resin, a chlorinated polyolefin resin,
Chlorinated ethylene-vinyl acetate copolymer resin, cyclized rubber,
Coumarone indene resin can be used. As a method for forming the adhesive layer 3, a gravure coating method, a roll coating method,
There are a coating method such as a comma coating method and a printing method such as a gravure printing method and a screen printing method.

【0027】なお、転写層10の構成は、上記した態様
に限定されるものではない。たとえば、図柄層4の材質
として透明基板2との接着性に優れたものを使用する場
合には、接着層3を省略することができる。
The structure of the transfer layer 10 is not limited to the above-described embodiment. For example, when a material having excellent adhesion to the transparent substrate 2 is used as the material of the design layer 4, the adhesive layer 3 can be omitted.

【0028】次に、前記した転写材8を用い、透明基板
2上に保護層5や図柄層4を形成する成形同時転写法に
ついて説明する(図3参照)。
Next, a simultaneous molding transfer method for forming the protective layer 5 and the design layer 4 on the transparent substrate 2 using the transfer material 8 will be described (see FIG. 3).

【0029】まず、可動型と固定型とからなる成形用金
型11内に、転写材8を基体シート9側がキャビティ面
に接するように送り込む(図3参照)。その際、枚葉の
転写材8を1枚づつ送り込んでもよいし、長尺の転写材
8の必要部分を間欠的に送り込んでもよい。長尺の転写
材8を使用する場合、位置決め機構を有する送り装置を
使用して、転写材8の図柄層4などと成形用金型11と
の見当が一致するようにするとよい。また、転写材8を
間欠的に送り込む際に、転写材8の位置をセンサーで検
出した後に転写材8を可動型と固定型とで固定するよう
にすれば、常に同じ位置で転写材8を固定することがで
き、図柄層4の位置ずれが生じないので便利である。
First, the transfer material 8 is fed into a molding die 11 composed of a movable die and a fixed die such that the base sheet 9 contacts the cavity surface (see FIG. 3). At this time, the sheet-like transfer material 8 may be fed one by one, or a necessary portion of the long transfer material 8 may be sent intermittently. When a long transfer material 8 is used, it is preferable to use a feeding device having a positioning mechanism so that the register between the design layer 4 and the like of the transfer material 8 and the molding die 11 match. Further, when the transfer material 8 is intermittently fed, if the transfer material 8 is fixed by the movable type and the fixed type after the position of the transfer material 8 is detected by the sensor, the transfer material 8 is always kept at the same position. It can be fixed, and there is no displacement of the design layer 4, which is convenient.

【0030】成形用金型11を閉じた後、ゲートから溶
融樹脂を金型11内に射出充満させ、透明基板2を形成
するのと同時に転写材8を接着させ一体化する。
After the molding die 11 is closed, the molten resin is injected and filled into the die 11 from the gate, and simultaneously with forming the transparent substrate 2, the transfer material 8 is adhered and integrated.

【0031】成形樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、AN樹
脂などの汎用樹脂を挙げることができる。また、ポリフ
ェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、
ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポ
リブチレンテレフタレート樹脂、超高分子量ポリエチレ
ン樹脂などの汎用エンジニアリング樹脂や、ポリスルホ
ン樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリフェ
ニレンオキシド系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエー
テルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、液晶ポリエステル樹
脂、ポリアリル系耐熱樹脂などのスーパーエンジニアリ
ング樹脂を使用することもできる。
As the molding resin, a polystyrene resin,
General-purpose resins such as polyolefin resins, ABS resins, AS resins, and AN resins can be given. In addition, polyphenylene oxide polystyrene resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, acrylic resin,
General-purpose engineering resins such as polycarbonate-modified polyphenylene ether resin, polybutylene terephthalate resin, ultra-high molecular weight polyethylene resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyphenylene oxide resin, polyarylate resin, polyetherimide resin, polyimide resin, liquid crystal polyester A super engineering resin such as a resin or a polyallyl heat resistant resin can also be used.

【0032】透明基板2である樹脂成形品を冷却した
後、成形用金型11を開いて樹脂成形品を取り出す。最
後に、転写材8の基体シート9を剥離する。このように
して、転写層10のみを透明基板2に転移することがで
きる。
After cooling the resin molded product as the transparent substrate 2, the molding die 11 is opened and the resin molded product is taken out. Finally, the base sheet 9 of the transfer material 8 is peeled off. Thus, only the transfer layer 10 can be transferred to the transparent substrate 2.

【0033】反射防止カバー部材1の形状は、平板状の
ものであっても、二次元あるいは三次元の曲面を有する
ものであってもよい。
The shape of the anti-reflection cover member 1 may be a flat plate or a two-dimensional or three-dimensional curved surface.

【0034】低反射層6は、透明基板2の反射を防止す
るための層である。低反射層6は、透明基板2の片面ま
たは両面に、全面的または部分的に形成する。
The low reflection layer 6 is a layer for preventing reflection of the transparent substrate 2. The low reflection layer 6 is formed entirely or partially on one or both surfaces of the transparent substrate 2.

【0035】低反射層6に用いる低屈折材料としては、
フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属酸化物を用
いることができる。また、シリカあるいはオルガノポリ
シロキサンの少なくとも1種を含む有機金属化合物を用
いることもできる。また、これらの有機金属化合物の多
孔体を用いることもできる。また、フッ素系合成樹脂な
どの有機化合物を用いることも可能である。
As the low refraction material used for the low reflection layer 6,
Metal oxides such as magnesium fluoride and silicon oxide can be used. Further, an organometallic compound containing at least one of silica and organopolysiloxane can also be used. Further, a porous body of these organometallic compounds can also be used. It is also possible to use an organic compound such as a fluorine-based synthetic resin.

【0036】低反射層6の構成としては、微細孔を有す
る酸化ケイ素あるいは酸化アルミウムを、酸化ケイ素に
分散し単層として使用したり、フッ化マグネシウムを単
層として用いるほか、酸化チタン層/酸化ケイ素層の2
層構成の低反射層6として使用したり、酸化チタン層/
酸化ケイ素層/酸化チタン層/酸化ケイ素層のように4
層構成の低反射層6など多重干渉を利用した多層構成の
低反射層6としてもよい。
The low-reflection layer 6 may be composed of silicon oxide or aluminum oxide having fine pores dispersed in silicon oxide and used as a single layer, magnesium fluoride as a single layer, or a titanium oxide layer / oxide. Silicon layer 2
It can be used as a low-reflection layer 6 having a layer structure,
4 like silicon oxide layer / titanium oxide layer / silicon oxide layer
The low-reflection layer 6 having a multilayer configuration using multiple interference, such as the low-reflection layer 6 having a layer configuration, may be used.

【0037】これらの低反射層6の製造方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法などがある。あるいは、金属アルコラート、金属キレ
ートなどの有機金属化合物を浸積法あるいは印刷法、コ
ーティング法などにより透明基板2上に塗布し、その
後、光照射あるいは乾燥により金属酸化物皮膜を形成し
て低反射層6を得る方法がある。また、低反射フィルム
を貼りつける方法がある。
The method of manufacturing these low reflection layers 6 is as follows.
There are a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and the like. Alternatively, an organic metal compound such as a metal alcoholate or a metal chelate is applied onto the transparent substrate 2 by an immersion method, a printing method, a coating method, or the like, and then a metal oxide film is formed by light irradiation or drying to form a low reflection layer. There is a way to get 6. There is also a method of attaching a low reflection film.

【0038】低反射層6の厚さは、0.01〜2μmの
範囲で適宜選択するとよい。これらの膜厚は、低屈折材
料の屈折率により、一般式n×d=λ/4または一般式
n×d=3λ/4(ただし、nは低屈折材料の屈折率、
dは低屈折材料の膜厚、λは低反射中心波長をそれぞれ
示す)を満たすように適宜選択するとよい。
The thickness of the low reflection layer 6 may be appropriately selected in the range of 0.01 to 2 μm. Depending on the refractive index of the low refractive material, these film thicknesses can be represented by the general formula n × d = λ / 4 or the general formula n × d = 3λ / 4 (where n is the refractive index of the low refractive material,
d is the thickness of the low-refractive material, and λ is the low reflection center wavelength).

【0039】また、必要に応じて防汚層7を設けてもよ
い。防汚層7は、反射防止カバー部材1の汚染を防ぐた
めに低反射層6の上に設けられる層である。防汚層7と
しては、末端基にフッ素を有する界面活性剤などを用い
るとよい。防汚層7を設けるには、コーティング法、浸
漬法、真空蒸着法などによるとよい。防汚層7の膜厚
は、できる限り薄い方が好ましい。防汚層7の厚さが大
きいと反射防止カバー部材1の光透過率が低くなるから
である。
Further, an antifouling layer 7 may be provided as needed. The antifouling layer 7 is a layer provided on the low reflection layer 6 to prevent the antireflection cover member 1 from being contaminated. As the antifouling layer 7, it is preferable to use a surfactant having fluorine in a terminal group. The antifouling layer 7 may be provided by a coating method, a dipping method, a vacuum deposition method, or the like. The thickness of the antifouling layer 7 is preferably as thin as possible. This is because the light transmittance of the antireflection cover member 1 decreases when the thickness of the antifouling layer 7 is large.

【0040】上記のようにして反射防止カバー部材1を
得ることができる。
The anti-reflection cover member 1 can be obtained as described above.

【0041】[0041]

【実施例】厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート
フィルムを基体シートとし、その上に紫外線硬化樹脂か
らなる保護層、アクリル系樹脂からなる図柄層、ビニル
系樹脂からなる接着層を順次グラビア印刷法で形成して
転写材を得た。
EXAMPLE A polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm was used as a base sheet, and a protective layer made of an ultraviolet curable resin, a pattern layer made of an acrylic resin, and an adhesive layer made of a vinyl resin were sequentially formed thereon by gravure printing. Thus, a transfer material was obtained.

【0042】携帯電話のディスプレイ部分のカバー部品
を成形する成形用金型に、転写材を基体シート側がキャ
ビティ面に接するように金型内に設置した。
A transfer material was placed in a molding die for molding a cover part of a display portion of a mobile phone such that the base sheet side was in contact with the cavity surface.

【0043】次いで、金型内に透明なアクリル系樹脂を
射出し、樹脂からなる透明基板と転写材との一体化物を
得た。
Next, a transparent acrylic resin was injected into the mold to obtain an integrated product of a transparent substrate made of resin and a transfer material.

【0044】次いで、転写材の基体シートを剥離したと
ころ、透明基板の表面には、接着層、図柄層、保護層が
順次積層された。
Next, when the base sheet of the transfer material was peeled off, an adhesive layer, a design layer, and a protective layer were sequentially laminated on the surface of the transparent substrate.

【0045】次いで、透明基板の表面および裏面に、E
B真空蒸着装置にて、順次SiO、TiO、SiO
、TiO、SiOの膜を各々15nm、15n
m、250nm、135nm、15nmの膜厚となるよ
うに形成して低反射層をそれぞれ形成した。
Next, E and E were formed on the front and back surfaces of the transparent substrate, respectively.
In a B vacuum evaporation apparatus, SiO 2 , TiO 2 , SiO
2 , TiO 2 , SiO 2 films of 15 nm and 15 n respectively
m, 250 nm, 135 nm, and 15 nm in thickness to form low-reflection layers.

【0046】次いで、透明基板の表面側の低反射層上
に、フッソ系材料を間接加熱型真空蒸着機にて厚さ1.
0〜2.0nmに形成して防汚層を形成した。
Next, on the low-reflection layer on the front surface side of the transparent substrate, a fluorine-based material having a thickness of 1.
The film was formed to a thickness of 0 to 2.0 nm to form an antifouling layer.

【0047】このようにして得た携帯電話のディスプレ
イ部分のカバー部品である反射防止カバー部材は、波長
550nmにおいて、反射率0.8%であり、反射防止
効果に優れたものであった。
The anti-reflection cover member, which is the cover part of the display portion of the mobile phone, obtained at this time had a reflectance of 0.8% at a wavelength of 550 nm, and had an excellent anti-reflection effect.

【0048】[0048]

【発明の効果】この発明は、以上のような構成を採るの
で、以下のような効果を奏する。
Since the present invention employs the above-described configuration, the following effects can be obtained.

【0049】この発明の反射防止カバー部材は、透明基
板の片面または両面に低反射層が少なくとも形成される
ように構成したので、優れた反射防止効果を有するもの
である。
The anti-reflection cover member of the present invention has an excellent anti-reflection effect because the low reflection layer is formed at least on one or both surfaces of the transparent substrate.

【0050】また、この発明の反射防止カバー部材の製
造方法は、基体シート上に少なくとも保護層または図柄
層が形成された転写材を基体シート側がキャビティ面に
接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融樹脂
を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体化物
を得、次いで転写材の基体シートを剥離し、次いで低反
射層を片面または両面に形成するように構成したので、
優れた反射防止効果を有する反射防止カバー部材を容易
に製造することができる。
Further, according to the method of manufacturing an antireflection cover member of the present invention, a transfer material having at least a protective layer or a design layer formed on a base sheet is placed in a mold such that the base sheet side is in contact with the cavity surface, Injecting a transparent molten resin into a mold to obtain an integrated product of a transparent substrate made of resin and a transfer material, then peeling off the base sheet of the transfer material, and then forming a low reflection layer on one or both sides Because we configured
An antireflection cover member having an excellent antireflection effect can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の反射防止カバー部材の一実施例を示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an antireflection cover member of the present invention.

【図2】この発明の反射防止カバー部材の製造方法に用
いる転写材を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a transfer material used in the method for manufacturing an antireflection cover member of the present invention.

【図3】この発明の反射防止カバー部材の製造方法の一
工程を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing one step of the method for manufacturing the antireflection cover member of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反射防止カバー部材 2 透明基板 3 接着層 4 図柄層 5 保護層 6 低反射層 7 防汚層 8 転写材 9 基体シート 10 転写層 11 金型 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anti-reflection cover member 2 Transparent substrate 3 Adhesive layer 4 Pattern layer 5 Protective layer 6 Low-reflection layer 7 Antifouling layer 8 Transfer material 9 Base sheet 10 Transfer layer 11 Mold

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H100 AA01 AA41 AA61 BB03 BB06 CC07 EE00 EE06 2K009 AA04 AA05 AA07 BB14 BB24 CC03 CC06 CC09 CC26 CC42 DD03 DD04 DD07 EE05 4K029 AA11 BA42 BA46 BA48 BB02 BC07 BD00 CA01 5K023 AA07 BB04 HH07 MM03 MM24 MM25 QQ05 RR06  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H100 AA01 AA41 AA61 BB03 BB06 CC07 EE00 EE06 2K009 AA04 AA05 AA07 BB14 BB24 CC03 CC06 CC09 CC26 CC42 DD03 DD04 DD07 EE05 4K029 AA11 BA42 BA46 BA48 BB02 BB03 A0711 MM24 MM25 QQ05 RR06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板の片面または両面に低反射層が
少なくとも形成されたことを特徴とする反射防止カバー
部材。
1. An anti-reflection cover member, wherein a low reflection layer is formed at least on one or both sides of a transparent substrate.
【請求項2】 透明基板が、片面または両面に保護層ま
たは図柄層のいずれかが少なくとも形成されたものであ
る請求項1記載の反射防止カバー部材。
2. The anti-reflection cover member according to claim 1, wherein the transparent substrate has at least one of a protective layer and a design layer formed on one or both surfaces.
【請求項3】 低反射層の上に防汚層が形成された請求
項1〜2のいずれかに記載の反射防止カバー部材。
3. The antireflection cover member according to claim 1, wherein an antifouling layer is formed on the low reflection layer.
【請求項4】 基体シート上に少なくとも保護層または
図柄層が形成された転写材を基体シート側がキャビティ
面に接するように金型内に設置し、金型内に透明な溶融
樹脂を射出して樹脂からなる透明基板と転写材との一体
化物を得、次いで転写材の基体シートを剥離し、次いで
低反射層を片面または両面に形成することを特徴とする
反射防止カバー部材の製造方法。
4. A transfer material having at least a protective layer or a pattern layer formed on a base sheet is placed in a mold such that the base sheet side is in contact with the cavity surface, and a transparent molten resin is injected into the mold. A method for producing an antireflection cover member, comprising: obtaining an integrated product of a transparent substrate made of a resin and a transfer material; removing a base sheet of the transfer material; and forming a low-reflection layer on one or both surfaces.
【請求項5】 低反射層の形成方法が、印刷法、コーテ
ィング法、浸漬法、蒸着法または貼付法である請求項4
記載の反射防止カバー部材の製造方法。
5. The method for forming a low reflection layer is a printing method, a coating method, a dipping method, a vapor deposition method or a sticking method.
A method for producing the antireflection cover member according to the above.
【請求項6】 低反射層の上に、印刷法、コーティング
法、浸漬法または蒸着法により防汚層を形成する請求項
4〜5のいずれかに記載の反射防止カバー部材の製造方
法。
6. The method for producing an antireflection cover member according to claim 4, wherein an antifouling layer is formed on the low reflection layer by a printing method, a coating method, a dipping method, or a vapor deposition method.
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