JP2002035980A - Device and method for laser beam processing, and laser beam oscillator - Google Patents

Device and method for laser beam processing, and laser beam oscillator

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JP2002035980A
JP2002035980A JP2000225032A JP2000225032A JP2002035980A JP 2002035980 A JP2002035980 A JP 2002035980A JP 2000225032 A JP2000225032 A JP 2000225032A JP 2000225032 A JP2000225032 A JP 2000225032A JP 2002035980 A JP2002035980 A JP 2002035980A
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laser beam
laser
mask
intensity distribution
divided
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Application number
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Inventor
Hiromoto Ichihashi
宏基 市橋
Nobuaki Furuya
伸昭 古谷
Hidehiko Karasaki
秀彦 唐崎
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To conduct high quality working by converting intensity distribution of a laser beam on a processing object so as to be uniform distribution in a laser beam processing device where an image of a mask is projected on a processing object and processed. SOLUTION: A laser beam 102 from a laser beam oscillator 101 is divided by means of a S/P separating mirror 104, intensity distribution of one laser beam 102a is converted in an annular zone shape by means of a phase shift member 105 on a mask 113, and the other laser beam 102b is maintained in a gauss shape and propagated on the mask 113. Since polarizing distribution of the laser beam 102a and 102b are vertical, intensity distribution of a synthesized laser beam 102c on the mask becomes added value of intensity of each laser beam and can be uniformed. Furthermore, since polarizing distribution of the laser beam on the processing object is uniformed by projecting the image of a mask by a projection lens 114 on a processing object 115, quality processing can be conducted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工装置及
びレーザ加工方法、並びにレーザ発振器に関し、特にC
O2レーザやYAGレーザ等空間コヒーレンシーの高い
レーザビームを用いて、任意の形状の開口を有するマス
クの像を被加工物上に投影し加工を行うレーザ加工装置
及びその方法、並びにCO2レーザやYAGレーザ等空
間コヒーレンシーの高いレーザビームを発振するレーザ
発振器に関するものである。
The present invention relates to a laser processing apparatus, a laser processing method, and a laser oscillator.
A laser processing apparatus and method for projecting and processing an image of a mask having an opening of an arbitrary shape on a workpiece using a laser beam having a high spatial coherency such as an O2 laser or a YAG laser, and a CO2 laser or a YAG laser The present invention relates to a laser oscillator that oscillates a laser beam with high uniform spatial coherency.

【0002】[0002]

【従来の技術】上述したレーザ加工装置に関する従来技
術について図を用いて説明する。図5は従来のレーザ加
工装置の構成図である。図5において51はレーザ発振
器、52はレーザビームであり図中にプロファイルを点
線で示した。53はテレスコープ、54はマスク、55
は投影レンズ、56は加工対象物である。
2. Description of the Related Art A conventional technique relating to the above-described laser processing apparatus will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional laser processing apparatus. In FIG. 5, reference numeral 51 denotes a laser oscillator, and 52 denotes a laser beam. The profile is shown by a dotted line in the drawing. 53 is a telescope, 54 is a mask, 55
Denotes a projection lens, and 56 denotes an object to be processed.

【0003】レーザ発振器51から出射したレーザビー
ム52は、テレスコープ53を通過してマスク54に入
射する。マスク54は大きさが可変であり、加工したい
穴の大きさによりマスクの口径の大きさを決定する場合
や、大きさは可変ではなく加工に応じて大きさの違うマ
スクを用いる場合もある。またテレスコープ53は、マ
スクに入射するレーザビーム52のビーム径と波面の曲
率が、加工に対し最適になるように設計される。
[0003] A laser beam 52 emitted from a laser oscillator 51 passes through a telescope 53 and enters a mask 54. The size of the mask 54 is variable. In some cases, the size of the aperture of the mask is determined based on the size of the hole to be processed. In other cases, the size of the mask is not variable but a different size mask is used depending on the processing. The telescope 53 is designed such that the beam diameter of the laser beam 52 incident on the mask and the curvature of the wavefront are optimal for processing.

【0004】そして、投影レンズ55がマスクの像を加
工対象物56に投影し、例えばプリント基板などの被加
工物に対して穴開け加工を行う。
[0004] A projection lens 55 projects the image of the mask onto a processing target 56, and performs drilling on a processing target such as a printed circuit board.

【0005】また、従来技術においては、ガルバノミラ
ーによりレーザビームをスキャンしたり、加工と加工の
間にステージを高速で移動するなどして、短時間に多数
の加工を行うなどの工夫が見られる。
Further, in the prior art, a number of processes can be performed in a short time by scanning a laser beam with a galvano mirror or moving a stage at a high speed between processes. .

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来技術
で示したようなレーザ加工装置は、以下に記すような課
題がある。レーザ加工のうち例えば焼き入れ、溶接、樹
脂にガラス繊維が多く含まれる場合のビルドアップ多層
基板の穴開け等の加工に対し、被加工物上におけるレー
ザビームの強度分布は、均一な分布をしているのが望ま
しい。
However, the laser processing apparatus as shown in the prior art has the following problems. In laser processing, for example, quenching, welding, and drilling of a build-up multilayer substrate when the resin contains a large amount of glass fiber, the intensity distribution of the laser beam on the workpiece has a uniform distribution. Is desirable.

【0007】ところが、CO2レーザ、YAGレーザ等
の場合、レーザビームの強度分布は、光軸付近は強度が
強く、周辺に行くにつれて強度が指数関数的に弱くな
る、いわゆるガウス分布に近い場合が多い。
However, in the case of a CO2 laser, a YAG laser or the like, the intensity distribution of the laser beam is close to a so-called Gaussian distribution in which the intensity is high near the optical axis and decreases exponentially toward the periphery. .

【0008】このようなレーザビームを、例えば上述し
たビルドアップ多層基板の穴開けに用いた場合、ビア内
壁の繊維突出部が長くなり、メッキなどの後工程の不良
の原因となる。
When such a laser beam is used, for example, for drilling the above-described build-up multilayer substrate, the fiber protrusion on the inner wall of the via becomes long, which causes a failure in a post-process such as plating.

【0009】また、従来例のようなレーザ加工装置に関
しては、コリメータを用いてマスクの開口部に対しレー
ザビームを十分大きく拡大し、レーザビームの光軸とそ
の近傍の強度の強い領域のみを加工に用いるという工夫
が見られるが、このような工夫を行った場合、マスクの
遮蔽部により遮断されるレーザビームのエネルギーが大
きくなり、結果としてエネルギーの利用率低下を招く。
In a conventional laser processing apparatus, the laser beam is enlarged sufficiently to the opening of the mask by using a collimator, and only the optical axis of the laser beam and a region where the intensity is high in the vicinity thereof are processed. However, when such a device is used, the energy of the laser beam blocked by the shielding portion of the mask increases, resulting in a reduction in the energy utilization rate.

【0010】また従来では、マルチモードレーザビーム
を発生させ、レーザビームの強度分布を均一な分布に近
づけて用いる方法がある。しかしマルチモードのレーザ
ビームは、一般にレーザ出力の変化に伴ってその次数が
変化し、強度分布が変動しやすい。その結果、加工面に
おける強度分布が変化し、加工性能を安定させることが
出来ないという問題点がある。
Conventionally, there is a method of generating a multi-mode laser beam and using the laser beam with an intensity distribution close to a uniform distribution. However, the order of a multimode laser beam generally changes with a change in the laser output, and the intensity distribution tends to fluctuate. As a result, there is a problem that the strength distribution on the machined surface changes and machining performance cannot be stabilized.

【0011】本発明は、マスクの像を加工対象物上に投
影して加工するレーザ加工において、被加工物上でのレ
ーザビームの強度分布を均一な分布となるように変換す
ることで、高品位な加工を行うことを目的とする。
According to the present invention, in laser processing in which an image of a mask is projected onto a processing target to process the laser beam, the intensity distribution of the laser beam on the processing target is converted into a uniform distribution, thereby achieving high efficiency. The purpose is to perform high-quality processing.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は、強度分布がガウス状のレーザビームを発振
するレーザ発振器と、前記レーザビームを任意の断面形
状に切り出すマスクと、前記マスクの像を加工対象物に
投影する投影光学系とを有し、前記マスクの前において
前記レーザビームを2つに分割する手段と、分割された
双方のレーザビームを直線偏光に変換し且つ前記双方の
レーザビームの偏光方向を垂直に変換する手段と、分割
した一方のレーザビームの強度分布をマスク上で輪帯状
にする手段と、前記マスクの前で分割した2つのレーザ
ビームを合成する手段とにより構成するものであり、加
工対象物においてレーザビームの強度分布がマスクの大
きさに応じた均一な分布になり、品質のよい加工が出来
る。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve this problem, the present invention provides a laser oscillator that oscillates a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and the mask A projection optical system for projecting the image of the laser beam onto the object to be processed, means for splitting the laser beam into two in front of the mask, converting both of the split laser beams into linearly polarized light, and Means for vertically changing the polarization direction of the laser beam, means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask, and means for combining the two laser beams divided before the mask. The intensity distribution of the laser beam on the object to be processed becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0013】また強度分布がガウス状のレーザビームを
発振するレーザ発振器と、前記レーザビームを任意の断
面形状に切り出すマスクと、前記マスクの像を加工対象
物に投影する投影光学系とを有し、前記マスクの前で前
記レーザビームを偏光方向が垂直な2つの直線偏光のレ
ーザビームに分割する手段と、分割した一方のレーザビ
ームの強度分布をマスク上で輪帯状にする手段と、マス
クの前で分割した2つのレーザビームを合成する手段と
により構成するものであり、加工対象物においてレーザ
ビームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布
になり、品質のよい加工が出来る。
A laser oscillator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution; a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape; and a projection optical system for projecting an image of the mask onto a workpiece. Means for dividing the laser beam into two linearly polarized laser beams having a perpendicular polarization direction in front of the mask; means for forming an intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask; It combines the two laser beams divided before and the means for combining the two laser beams. In the object to be processed, the intensity distribution of the laser beam becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、強度分布がガウス状のレーザビームを発振するレー
ザ発振器と、前記レーザビームを任意の断面形状に切り
出すマスクと、前記マスクの像を加工対象物に投影する
投影光学系とを有し、前記マスクの前において前記レー
ザビームを2つに分割する手段と、分割された双方のレ
ーザビームを直線偏光に変換し且つ前記双方のレーザビ
ームの偏光方向を垂直に変換する手段と、分割した一方
のレーザビームの強度分布をマスク上で輪帯状にする手
段と、前記マスクの前で分割した2つのレーザビームを
合成する手段とを有するレーザ加工装置であり、この構
成により、加工対象物においてレーザビームの強度分布
がマスクの大きさに応じた均一な分布になり、品質のよ
い加工が出来る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention is directed to a laser oscillator that oscillates a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and a mask for the mask. A projection optical system for projecting an image onto a processing object, a means for dividing the laser beam into two in front of the mask, a means for converting both laser beams into linearly polarized light and Means for vertically changing the polarization direction of the laser beam, means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask, and means for combining the two laser beams divided before the mask. With this configuration, the laser beam intensity distribution on the object to be processed becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0015】また請求項2に記載の発明は、強度分布が
ガウス状のレーザビームを発振するレーザ発振器と、前
記レーザビームを任意の断面形状に切り出すマスクと、
前記マスクの像を加工対象物に投影する投影光学系とを
有し、前記マスクの前で前記レーザビームを偏光方向が
垂直な2つの直線偏光のレーザビームに分割する手段
と、分割した一方のレーザビームの強度分布をマスク上
で輪帯状にする手段と、マスクの前で分割した2つのレ
ーザビームを合成する手段とを有するレーザ加工装置で
あり、この構成により、加工対象物においてレーザビー
ムの強度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布にな
り、品質のよい加工が出来る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a laser oscillator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape,
A projection optical system for projecting an image of the mask onto a processing target, and a means for splitting the laser beam into two linearly polarized laser beams having a perpendicular polarization direction in front of the mask; A laser processing apparatus having means for making the intensity distribution of a laser beam annular in shape on a mask, and means for synthesizing two laser beams split in front of the mask. The intensity distribution becomes uniform according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0016】また具体的には請求項3記載の発明は、分
割した一方のレーザビームの強度分布をマスク上で輪帯
状にする手段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な
平面内での極座標系において、極座標の偏角と同じ角度
だけ、前記レーザビームの位相をシフトするように形成
された位相シフト部材と、前記位相シフト部材の後に配
置される集光光学系と、前記集光光学系により集光され
た前記レーザビームの集光点の像を前記マスクの位置に
投影する投影光学系とにより構成される請求項1または
2記載のレーザ加工装置であり、この構成により、加工
対象物においてレーザビームの強度分布がマスクの大き
さに応じた均一な分布になり、品質のよい加工が出来
る。
More specifically, in the invention according to claim 3, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask is a polar coordinate in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. A phase shift member formed to shift the phase of the laser beam by the same angle as the declination of the polar coordinate system; a condensing optical system disposed after the phase shift member; and the condensing optical system. 3. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising: a projection optical system configured to project an image of a focal point of the laser beam focused by the laser beam onto a position of the mask. 3. In this case, the intensity distribution of the laser beam becomes uniform according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0017】また請求項4記載の発明は、分割した一方
のレーザビームの強度分布をマスク上で輪帯状にする手
段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内での
極座標系において、極座標の偏角の0ラジアンから2π
ラジアンまでの間を任意の数で区切った領域に分け、区
切られた各領域内では、同じ角度だけ前記レーザビーム
の位相をシフトし、その角度が各領域内の極座標の偏角
の範囲内に含まれるように形成された位相シフト部材
と、前記位相シフト部材の後に配置される集光光学系
と、前記集光光学系により集光された前記レーザビーム
の集光点の像をマスクの位置に投影する投影光学系とに
より構成される請求項1または2記載のレーザ加工装置
であり、この構成により、加工対象物においてレーザビ
ームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布に
なり、品質のよい加工が出来る。
According to a fourth aspect of the present invention, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask is a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. Declination from 0 radians to 2π
The area up to radians is divided into areas divided by an arbitrary number, and within each of the divided areas, the phase of the laser beam is shifted by the same angle, and the angle falls within the range of the declination of the polar coordinates in each area. A phase shift member formed so as to be included, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and an image of a condensing point of the laser beam condensed by the condensing optical system at a position of a mask. 3. A laser processing apparatus according to claim 1, wherein said laser processing apparatus comprises a projection optical system for projecting the laser beam onto the object to be processed. , High quality processing is possible.

【0018】また請求項5記載の発明は、分割した一方
のレーザビームの強度分布をマスク上で輪帯状にする手
段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内で光
軸を軸とした輪帯状に前記レーザビームの位相をシフト
するように形成された位相シフト部材と、前記位相シフ
ト部材の後に配置される集光光学系と、前記集光光学系
により集光された前記レーザビームの集光点の像を前記
マスクの位置に投影する投影光学系とにより構成される
請求項1または2記載のレーザ加工装置であり、この構
成により、加工対象物においてレーザビームの強度分布
がマスクの大きさに応じた均一な分布になり、品質のよ
い加工が出来る。
According to a fifth aspect of the present invention, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on a mask has the optical axis as an axis in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. A phase shift member formed to shift the phase of the laser beam in an annular shape, a condensing optical system arranged after the phase shift member, and a laser beam condensed by the condensing optical system. 3. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising: a projection optical system configured to project an image of a light-converging point onto the position of the mask. 3. The distribution becomes uniform according to the size, and high quality processing can be performed.

【0019】さらに具体的には請求項6記載の発明は、
位相シフト部材が、集光光学系と一体に形成されたこと
を特徴とする請求項3から5のいずれかに記載のレーザ
加工装置であり、この構成により、加工対象物において
レーザビームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一
な分布になり、品質のよい加工が出来る。
More specifically, the invention according to claim 6 is
The laser processing apparatus according to any one of claims 3 to 5, wherein the phase shift member is formed integrally with the condensing optical system, and with this configuration, the intensity distribution of the laser beam on the object to be processed. Has a uniform distribution according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0020】本発明の請求項7記載の発明は、強度分布
がガウス状のレーザビームを発振するステップと、前記
レーザビームを任意の断面形状に切り出すステップと、
切り出されたレーザビームの断面の像を加工対象物に投
影するステップとを有し、さらに前記レーザビームを任
意の断面形状に切り出すステップの前に前記レーザビー
ムを2つに分割するステップと、分割した双方のレーザ
ビームを直線偏光に変換し且つ前記双方のレーザビーム
の偏光方向を垂直に変換するステップと、分割した一方
のレーザビームの強度分布を前記レーザビームを任意の
断面形状に切り出す位置で輪帯状にするステップと、前
記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位置の前で
分割した2つのレーザビームを合成するステップとを有
するレーザ加工方法であり、この手法により、加工対象
物においてレーザビームの強度分布がマスクの大きさに
応じた均一な分布になり、品質のよい加工が出来る。
According to a seventh aspect of the present invention, a step of oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a step of cutting the laser beam into an arbitrary sectional shape,
Projecting an image of the cross section of the cut laser beam onto a processing target, further dividing the laser beam into two before cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape; Converting the two laser beams into linearly polarized light and converting the polarization directions of the two laser beams vertically, and changing the intensity distribution of one of the divided laser beams at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape. A laser processing method having a step of forming an annular shape and a step of combining two laser beams divided before a position at which the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape. The intensity distribution becomes uniform according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0021】また請求項8記載の本発明は、強度分布が
ガウス状のレーザビームを発振するステップと、前記レ
ーザビームを任意の断面形状に切り出すステップと、切
り出された前記レーザビームの断面の像を加工対象物に
投影するステップとを有し、さらに前記レーザビームを
任意の断面形状に切り出すステップの前に前記レーザビ
ームを偏光方向が垂直な2つの直線偏光のレーザビーム
に分割するステップと、分割した一方のレーザビームの
強度分布を前記レーザビームを任意の断面形状に切り出
す位置で輪帯状にするステップと、前記レーザビームを
任意の断面形状に切り出す位置の前で分割した2つのレ
ーザビームを合成するステップとを有するレーザ加工方
法であり、この手法により、加工対象物においてレーザ
ビームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布
になり、品質のよい加工が出来る。
The present invention according to claim 8 is a step of oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a step of cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and an image of a cross section of the cut laser beam. Projecting the laser beam on a processing object, further dividing the laser beam into two linearly polarized laser beams having a perpendicular polarization direction before cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, Making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape; and two laser beams split before the position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape. Synthesizing a laser beam by the method. Becomes uniform distribution in accordance with the size of the mask, good processing can be quality.

【0022】さらに具体的に請求項9記載の発明は、分
割した一方のレーザビームの強度分布を前記レーザビー
ムを任意の断面形状に切り出す位置で輪帯状にするステ
ップは、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内で
の極座標系において、極座標の偏角と同じ角度だけ前記
レーザビームの位相をシフトするステップと、位相シフ
トされた前記レーザビームを集光するステップと、集光
された前記レーザビームの集光点の像をマスクの位置に
投影するステップとにより構成される請求項7または8
記載のレーザ加工方法であり、この手法により、加工対
象物においてレーザビームの強度分布がマスクの大きさ
に応じた均一な分布になり、品質のよい加工が出来る。
According to a ninth aspect of the present invention, the step of forming the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape includes the step of: Shifting the phase of the laser beam by the same angle as the declination of the polar coordinate in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the plane; condensing the phase-shifted laser beam; and Projecting an image of the beam focusing point onto the position of the mask.
This is a laser processing method described above. With this method, the intensity distribution of the laser beam in the processing target becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0023】また請求項10記載の発明は、分割した一
方のレーザビームの強度分布を前記レーザビームを任意
の断面形状に切り出す位置で輪帯状にするステップは、
前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内での極座標
系において、極座標の偏角の0ラジアンから2πラジア
ンまでの間を任意の数で区切った領域に分け、区切られ
た各領域内では、同じ角度だけ前記レーザビームの位相
をシフトし、その角度が各領域内の極座標の偏角の範囲
内に含まれるようにするステップと、位相シフトされた
前記レーザビームを集光するステップと、集光された前
記レーザビームの集光点の像をマスクの位置に投影する
ステップとにより構成される請求項7または8記載のレ
ーザ加工方法であり、この手法により、加工対象物にお
いてレーザビームの強度分布がマスクの大きさに応じた
均一な分布になり、品質のよい加工が出来る。
According to a tenth aspect of the present invention, the step of forming the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape is performed.
In a polar coordinate system in a plane perpendicular to the direction of travel of the laser beam, the angle between the polar coordinate declination from 0 radians to 2π radians is divided into an arbitrary number of divided areas, and within each divided area, the same is applied. Shifting the phase of the laser beam by an angle so that the angle is within the range of polar declination in each region; focusing the phase shifted laser beam; Projecting the image of the focused point of the laser beam onto a position of a mask, wherein the intensity distribution of the laser beam on the object to be processed is obtained by this method. Has a uniform distribution according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0024】また請求項11記載の発明は、分割した一
方のレーザビームの強度分布を前記レーザビームを任意
の断面形状に切り出す位置で輪帯状にするステップは、
前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内で光軸を軸
とした輪帯状に前記レーザビームの位相をシフトするス
テップと、位相シフトされた前記レーザビームを集光す
るステップと、集光された前記レーザビームの集光点の
像をマスクの位置に投影するステップとにより構成され
る請求項7または8記載のレーザ加工方法であり、この
手法により、加工対象物においてレーザビームの強度分
布がマスクの大きさに応じた均一な分布になり、品質の
よい加工が出来る。
According to the eleventh aspect of the present invention, the step of forming the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape is performed.
Shifting the phase of the laser beam in an annular shape around an optical axis in a plane perpendicular to the direction of travel of the laser beam; condensing the phase-shifted laser beam; 9. The laser processing method according to claim 7, further comprising the step of: projecting an image of the focal point of the laser beam onto a position of a mask. The distribution becomes uniform according to the size of, and high quality processing can be performed.

【0025】さらに具体的に請求項12記載の発明は、
位相シフトされたレーザビームを集光するステップと、
集光された前記レーザビームの集光点の像をマスクの位
置に投影するステップとを一体にした請求項9から11
のいずれかに記載のレーザ加工方法であり、この手法に
より、加工対象物においてレーザビームの強度分布がマ
スクの大きさに応じた均一な分布になり、品質のよい加
工が出来る。
More specifically, the invention described in claim 12 is
Focusing the phase-shifted laser beam;
And projecting an image of the condensed point of the condensed laser beam onto a position of a mask.
According to this method, the intensity distribution of the laser beam on the object to be processed becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0026】本発明の請求項13記載の発明は、強度分
布がガウス状のレーザビームを発振する光共振器と、前
記レーザビームを2つに分割する手段と、分割された双
方のレーザビームを直線偏光に変換し且つ前記双方のレ
ーザビームの偏光方向を垂直に変換する手段と、分割し
た一方のレーザビームの強度分布を所定の位置で輪帯状
にする手段と、所定の位置の前で分割した2つのレーザ
ビームを合成する手段とを有するレーザ発振器であり、
この構成により所定の位置でのレーザビームの強度分布
が均一になり、本発明のレーザ発振器をレーザ加工装置
に用いて所定の位置での均一な強度分布を加工対象物上
に投影することで加工対象物においてレーザビームの強
度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布になり、品
質のよい加工が出来る。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided an optical resonator which oscillates a laser beam having a Gaussian intensity distribution, means for splitting the laser beam into two, and both of the split laser beams. Means for converting the laser beam into linearly polarized light and the polarization directions of the two laser beams vertically; means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position; Means for synthesizing the two laser beams thus obtained,
With this configuration, the intensity distribution of the laser beam at a predetermined position becomes uniform, and the laser oscillator of the present invention is used in a laser processing device to project a uniform intensity distribution at a predetermined position on a processing target. The intensity distribution of the laser beam on the object becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0027】さらに具体的に請求項14記載の発明は、
強度分布がガウス状のレーザビームを発振する光共振器
と、前記レーザビームを偏光方向が垂直な2つの直線偏
光のレーザビームに分割する手段と、分割した一方のレ
ーザビームの強度分布を所定の位置で輪帯状にする手段
と、所定の位置の前で分割した2つのレーザビームを合
成する手段とを有するレーザ発振器であり、この構成に
より所定の位置でのレーザビームの強度分布が均一にな
り、本発明のレーザ発振器をレーザ加工装置に用いて所
定の位置での均一な強度分布を加工対象物上に投影する
ことで加工対象物においてレーザビームの強度分布がマ
スクの大きさに応じた均一な分布になり、品質のよい加
工が出来る。
More specifically, the invention described in claim 14 is
An optical resonator that oscillates a laser beam having a Gaussian intensity distribution; a unit that divides the laser beam into two linearly polarized laser beams whose polarization directions are perpendicular; and an intensity distribution of one of the divided laser beams. A laser oscillator having means for forming an annular shape at a position and means for synthesizing two laser beams divided in front of a predetermined position. This configuration makes the intensity distribution of the laser beam at the predetermined position uniform. By using the laser oscillator of the present invention in a laser processing apparatus and projecting a uniform intensity distribution at a predetermined position on a processing target, the intensity distribution of the laser beam in the processing target is uniform according to the size of the mask. Distribution and high quality processing.

【0028】また請求項15記載の発明は、分割した一
方のレーザビームの強度分布を所定の位置で輪帯状にす
る手段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内
での極座標系において、極座標の偏角と同じ角度だけ、
前記レーザビームの位相をシフトするように形成された
位相シフト部材と、位相シフト部材の後に配置される集
光光学系と、集光光学系により集光された前記レーザビ
ームの集光点の像を前記所定の位置に投影する投影光学
系とにより構成される請求項13または14記載のレー
ザ発振器であり、この構成により所定の位置でのレーザ
ビームの強度分布が均一になり、本発明のレーザ発振器
をレーザ加工装置に用いて所定の位置での均一な強度分
布を加工対象物上に投影することで加工対象物において
レーザビームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一
な分布になり、品質のよい加工が出来る。
According to a fifteenth aspect of the present invention, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position is a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. Only the same angle as the polar declination,
A phase shift member formed to shift the phase of the laser beam, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and an image of a condensing point of the laser beam condensed by the condensing optical system 15. A laser oscillator according to claim 13, wherein said laser oscillator comprises a projection optical system for projecting the laser beam onto said predetermined position. By projecting a uniform intensity distribution at a predetermined position on the processing object using the oscillator in the laser processing apparatus, the intensity distribution of the laser beam in the processing object becomes a uniform distribution according to the size of the mask, High quality processing is possible.

【0029】また請求項16記載の発明は、分割した一
方のレーザビームの強度分布を所定の位置で輪帯状にす
る手段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内
での極座標系において、極座標の偏角の0ラジアンから
2πラジアンまでの間を任意の数で区切った領域に分
け、区切られた各領域内では、同じ角度だけ前記レーザ
ビームの位相をシフトし、その角度が各領域内の極座標
の偏角の範囲内に含まれるように形成された位相シフト
部材と、位相シフト部材の後に配置される集光光学系
と、集光光学系により集光された前記レーザビームの集
光点の像を前記所定の位置に投影する投影光学系とによ
り構成される請求項13または14記載のレーザ発振器
であり、この構成により所定の位置でのレーザビームの
強度分布が均一になり、本発明のレーザ発振器をレーザ
加工装置に用いて所定の位置での均一な強度分布を加工
対象物上に投影することで加工対象物においてレーザビ
ームの強度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布に
なり、品質のよい加工が出来る。
According to a sixteenth aspect of the present invention, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position is a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. The polar coordinate declination from 0 radians to 2π radians is divided into areas divided by an arbitrary number, and within each of the divided areas, the phase of the laser beam is shifted by the same angle, and the angle is shifted within each area. A phase shift member formed so as to be included within the range of the declination of the polar coordinates, a focusing optical system disposed after the phase shift member, and focusing of the laser beam focused by the focusing optical system. 15. The laser oscillator according to claim 13, further comprising a projection optical system configured to project a point image onto the predetermined position, whereby the laser beam intensity distribution at the predetermined position becomes uniform. By using the laser oscillator of the present invention in a laser processing apparatus and projecting a uniform intensity distribution at a predetermined position on a processing target, the intensity distribution of the laser beam on the processing target is uniform according to the size of the mask. It becomes distribution, and high quality processing can be performed.

【0030】また請求項17記載の発明は分割した一方
のレーザビームの強度分布を所定の位置で輪帯状にする
手段は、前記レーザビームの進行方向に垂直な平面内で
光軸を軸とした輪帯状に前記レーザビームの位相をシフ
トするように形成された位相シフト部材と、位相シフト
部材の後に配置される集光光学系と、集光光学系により
集光された前記レーザビームの集光点の像を前記所定の
位置に投影する投影光学系とにより構成される請求項1
3または14記載のレーザ発振器であり、この構成によ
り所定の位置でのレーザビームの強度分布が均一にな
り、本発明のレーザ発振器をレーザ加工装置に用いて所
定の位置での均一な強度分布を加工対象物上に投影する
ことで加工対象物においてレーザビームの強度分布がマ
スクの大きさに応じた均一な分布になり、品質のよい加
工が出来る。
According to a seventeenth aspect of the present invention, the means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position has the optical axis as an axis in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. A phase shift member formed to shift the phase of the laser beam in an annular shape, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and condensing of the laser beam condensed by the condensing optical system 2. A projection optical system for projecting a point image onto the predetermined position.
15. The laser oscillator according to 3 or 14, wherein this configuration makes the intensity distribution of the laser beam at a predetermined position uniform, and uses the laser oscillator of the present invention in a laser processing apparatus to produce a uniform intensity distribution at a predetermined position. By projecting the laser beam on the processing target, the intensity distribution of the laser beam on the processing target becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high-quality processing can be performed.

【0031】さらに具体的に請求項18記載の発明は、
位相シフト部材が集光光学系と一体に形成された請求項
15から17のいずれかに記載のレーザ発振器であり、
この構成により所定の位置でのレーザビームの強度分布
が均一になり、本発明のレーザ発振器をレーザ加工装置
に用いて所定の位置での均一な強度分布を加工対象物上
に投影することで加工対象物においてレーザビームの強
度分布がマスクの大きさに応じた均一な分布になり、品
質のよい加工が出来る。
More specifically, the invention according to claim 18 is
The laser oscillator according to any one of claims 15 to 17, wherein the phase shift member is formed integrally with the focusing optical system,
With this configuration, the intensity distribution of the laser beam at a predetermined position becomes uniform, and the laser oscillator of the present invention is used in a laser processing device to project a uniform intensity distribution at a predetermined position on a processing target. The intensity distribution of the laser beam on the object becomes a uniform distribution according to the size of the mask, and high quality processing can be performed.

【0032】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図4を用いて説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0033】(実施の形態)図1は本発明の一実施の形
態におけるレーザ加工装置の概略構成図である。図1に
おいて101はレーザ発振器、102はレーザビーム、
102aは分離された一方のレーザビーム、102bは
分離された他方のレーザビーム、102cは合成された
レーザビーム、103はフェーズリターダー、104は
S/P分離鏡、105は位相シフト部材、106は集光
レンズ、107はビームウエスト位置、108は投影光
学系、109は全反射鏡、110はテレスコープ、11
1は全反射鏡、112はS/P分離鏡、113はマス
ク、114は投影レンズ、115は加工対象物である。
(Embodiment) FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 101 is a laser oscillator, 102 is a laser beam,
102a is one separated laser beam, 102b is the other separated laser beam, 102c is a combined laser beam, 103 is a phase retarder, 104 is an S / P separation mirror, 105 is a phase shift member, and 106 is a collecting beam. Optical lens, 107 is a beam waist position, 108 is a projection optical system, 109 is a total reflection mirror, 110 is a telescope, 11
1 is a total reflection mirror, 112 is an S / P separation mirror, 113 is a mask, 114 is a projection lens, and 115 is an object to be processed.

【0034】次に動作について説明する。レーザ発振器
101は、強度分布がガウス状で直線偏光のレーザビー
ム102を発振する。なお、レーザビーム102は図中
に点線で示した。フェーズリターダー103はレーザビ
ーム102の偏光の振動方向を制御する。
Next, the operation will be described. The laser oscillator 101 oscillates a linearly polarized laser beam 102 having a Gaussian intensity distribution. The laser beam 102 is shown by a dotted line in the figure. The phase retarder 103 controls the direction of oscillation of the polarization of the laser beam 102.

【0035】そしてS/P分離鏡104は、P偏光、S
偏光の成分にレーザビーム102を分離する。具体的に
は、S/P分離鏡104はP偏光のレーザビームを透過
し、S偏光のレーザビームを反射する。S/P分離鏡1
04を透過したレーザビームが102a、S/P分離鏡
104で反射されたレーザビームが102bである。
The S / P separating mirror 104 is provided with a P-polarized light,
The laser beam 102 is separated into polarized light components. Specifically, the S / P separation mirror 104 transmits a P-polarized laser beam and reflects an S-polarized laser beam. S / P separation mirror 1
Reference numeral 102a denotes a laser beam transmitted through the laser beam 04, and reference numeral 102b denotes a laser beam reflected by the S / P separation mirror 104.

【0036】そして位相シフト部材105は、レーザビ
ーム102aの進行方向に垂直な平面内での極座標系に
おいて、極座標の偏角と同じ角度だけ、レーザビームの
位相をシフトする。
The phase shift member 105 shifts the phase of the laser beam in the polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam 102a by the same angle as the polar coordinate declination.

【0037】図2(a)は、位相シフト部材105を、
光軸に垂直な面に対して斜めから見た図を示したもので
ある。位相シフト部材105は、レーザビーム102a
を透過する材質の平板に透過膜を施したものであり、膜
の厚さd(mm)は光軸に垂直な平面内での極座標系に
対して(数1)のような形で与えられる。
FIG. 2A shows that the phase shift member 105 is
FIG. 3 is a diagram viewed obliquely from a plane perpendicular to the optical axis. The phase shift member 105 is connected to the laser beam 102a.
The thickness d (mm) of the film is given in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the optical axis in the form of (Formula 1) as follows: .

【0038】[0038]

【数1】 (Equation 1)

【0039】(数1)においてλはレーザビーム102
の波長(mm)、nは透過膜の屈折率θは極座標系の偏
角(ラジアン)である。そして、集光レンズ106は位
相シフト部材105の直後に配置され、レーザビーム1
02aを集光する。
In equation (1), λ is the laser beam 102
Is the wavelength (mm), n is the refractive index θ of the transmission film, and the declination (radian) of the polar coordinate system. Then, the condenser lens 106 is disposed immediately after the phase shift member 105, and the laser beam 1
Focus 02a.

【0040】位相シフト部材105により位相シフトさ
れ集光レンズ106で集光されたレーザビーム102a
は、ベストフォーカス位置つまりビームウエスト位置1
07において強度分布が輪帯状になる。そして投影光学
系108は、ビームウエスト位置107の像を、マスク
113の位置に投影する。
The laser beam 102a, which is phase-shifted by the phase shift member 105 and is focused by the focusing lens 106
Is the best focus position, that is, beam waist position 1
At 07, the intensity distribution becomes annular. Then, the projection optical system 108 projects the image at the beam waist position 107 on the position of the mask 113.

【0041】次に、S/P分離鏡104で反射したレー
ザビーム102bは全反射鏡109で反射され、テレス
コープ110に入射する。テレスコープ110は、レー
ザビーム102bをマスク上で適切なビーム径、波面の
曲率になるように制御する。
Next, the laser beam 102 b reflected by the S / P separation mirror 104 is reflected by the total reflection mirror 109 and enters the telescope 110. The telescope 110 controls the laser beam 102b to have an appropriate beam diameter and a wavefront curvature on the mask.

【0042】そして、全反射鏡111で反射されたレー
ザビーム102bは、S/P分離鏡112によりレーザ
ビーム102aとビーム位置と進行方向が一致するよう
に、即ち光軸が一致するように合成される。合成された
レーザビームをレーザビーム102cとよぶ。
The laser beam 102b reflected by the total reflection mirror 111 is synthesized by the S / P separation mirror 112 so that the beam position and the traveling direction of the laser beam 102a coincide with each other, that is, the optical axis coincides. You. The combined laser beam is called a laser beam 102c.

【0043】このように構成されると、マスク113で
のレーザビーム102cの強度分布は、レーザビーム1
02aとレーザビーム102bのそれぞれの強度分布の
加算になる。
With such a configuration, the intensity distribution of the laser beam 102c on the mask 113 becomes
02a and the intensity distribution of the laser beam 102b.

【0044】図3(a)にレーザビーム102aのマス
ク112における強度分布を、図3(b)にレーザビー
ム112bの強度分布を示す。レーザビーム102aの
マスク112における強度分布は、ビームウエスト位置
107の像が再現されるので輪帯状になり、レーザビー
ム112bの強度分布は、位相変調を受けないので、強
度分布はガウス状になる。
FIG. 3A shows the intensity distribution of the laser beam 102a on the mask 112, and FIG. 3B shows the intensity distribution of the laser beam 112b. The intensity distribution of the laser beam 102a on the mask 112 is annular because the image of the beam waist position 107 is reproduced, and the intensity distribution of the laser beam 112b is Gaussian because the phase distribution is not subjected to phase modulation.

【0045】そして、レーザビーム112cの強度分布
は、図3(a)に示す強度分布と図3(b)に示す強度
分布との加算になり、図3(c)に示すような均一な分
布にすることが出来る。
The intensity distribution of the laser beam 112c is the sum of the intensity distribution shown in FIG. 3A and the intensity distribution shown in FIG. 3B, and a uniform distribution as shown in FIG. It can be.

【0046】マスク上でのレーザビーム102cの強度
を均一な分布にするためには、レーザビーム102aの
マスク112における強度分布とレーザビーム102b
の強度分布のビーム径と強度の比を最適に選択しなけれ
ばならないが、本実施の形態では、ビーム径はレーザビ
ーム102aに関しては投影光学系108の投影倍率を
調節し、レーザビーム102bに関してはテレスコープ
110を構成する凸レンズを光軸に沿って移動させるこ
とで調節した。
In order to make the intensity of the laser beam 102c on the mask uniform, the intensity distribution of the laser beam 102a on the mask 112 and the intensity of the laser beam 102b
In this embodiment, the beam diameter adjusts the projection magnification of the projection optical system 108 for the laser beam 102a, and the beam diameter of the laser beam 102b is adjusted for the laser beam 102b. The adjustment was performed by moving the convex lens constituting the telescope 110 along the optical axis.

【0047】また、レーザビーム102aとレーザビー
ムbの強度の比は、フェーズリターダによりレーザビー
ム102の振動方向を制御することで、調節した。
The ratio between the intensities of the laser beam 102a and the laser beam b was adjusted by controlling the oscillation direction of the laser beam 102 with a phase retarder.

【0048】ここで、仮に合成される2つのレーザビー
ムの偏光方向が垂直でない場合、合成される2つのレー
ザビームの強度分布は、強度の加算にはならずに干渉を
おこしてしまう。この場合、位相シフト部材105で位
相をシフトされたレーザビームの位相が軸対象ではない
ので、合成されるレーザビームのマスク上での強度分布
は絶対に非対象になり、均一にはならない。そして投影
レンズ114は、マスク113の像を加工対象物上に投
影する。
Here, if the polarization directions of the two laser beams to be combined are not perpendicular, the intensity distribution of the two combined laser beams causes interference without adding the intensities. In this case, since the phase of the laser beam whose phase has been shifted by the phase shift member 105 is not axially symmetric, the intensity distribution of the combined laser beam on the mask is absolutely asymmetric and not uniform. Then, the projection lens 114 projects the image of the mask 113 onto the processing target.

【0049】以上のようなレーザ加工装置を構成すれ
ば、加工対象物上でのレーザビームの強度分布を均一に
することができ、品質の良い加工が可能となる。
With the laser processing apparatus described above, the intensity distribution of the laser beam on the object to be processed can be made uniform, and high-quality processing can be performed.

【0050】なお、本実施の形態において、位相シフト
部材105を、レーザビーム102aの進行方向に垂直
な平面内での極座標系において、極座標の偏角と同じ角
度だけ、レーザビーム102aの位相をシフトするもの
としたが、レーザビーム102aの進行方向に垂直な平
面内での極座標系において、極座標の偏角の0ラジアン
から2πラジアンまでの間を任意の数で区切った領域に
分け、区切られた各領域内では、同じ角度だけレーザビ
ーム102aの位相をシフトし、その角度が各領域内の
極座標の偏角の範囲内に含まれるように、レーザビーム
102aの位相をシフトしても良い。
In the present embodiment, the phase shift member 105 is used to shift the phase of the laser beam 102a by the same angle as the declination of the polar coordinate in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam 102a. However, in the polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam 102a, the polar coordinate declination from 0 radians to 2π radians is divided into areas divided by an arbitrary number and divided. In each region, the phase of the laser beam 102a may be shifted by the same angle, and the phase of the laser beam 102a may be shifted so that the angle is included in the range of the polar declination in each region.

【0051】具体的には、図4に示すように位相をシフ
トしてもよい。図4の横軸は光軸に垂直な面内における
極座標の偏角であり、縦軸は位相シフト部材の位相シフ
ト量である。このような位相シフト部材を用いても、上
記形態と同様に、マスク113上でのレーザビーム10
2aの強度分布は輪帯状になり、上記形態と同等の効果
が得られる。
Specifically, the phase may be shifted as shown in FIG. The horizontal axis of FIG. 4 is the polar coordinate declination in a plane perpendicular to the optical axis, and the vertical axis is the phase shift amount of the phase shift member. Even when such a phase shift member is used, the laser beam 10
The intensity distribution of 2a has an annular shape, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0052】また、本実施の形態において、位相シフト
部材105を、レーザビーム102aの進行方向に垂直
な平面内での極座標系において、極座標の偏角と同じ角
度だけ、前記レーザビーム102aの位相をシフトする
ものとしたが、レーザビームの進行方向に垂直な平面内
で、光軸を軸とした輪帯状に前記レーザビームの位相を
シフトしても、上記形態と同様に、マスク113上での
レーザビーム102aの強度分布は輪帯状になり、上記
形態と同等の効果が得られる。
Further, in the present embodiment, the phase shift member 105 is used to change the phase of the laser beam 102a by the same angle as the declination of the polar coordinate in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam 102a. Although it is assumed that the phase of the laser beam is shifted in an annular shape around the optical axis in a plane perpendicular to the direction of travel of the laser beam, the phase shift on the mask 113 is performed similarly to the above embodiment. The intensity distribution of the laser beam 102a has an annular shape, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、マスクの
像を加工対象物上に投影して加工するレーザ加工におい
て、被加工物上でのレーザビームの強度分布を均一な分
布となるように変換することができ、高品位な加工を行
うことが可能となるという有利な効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the intensity distribution of a laser beam on a workpiece becomes uniform in laser processing for processing by projecting an image of a mask on a workpiece. , And an advantageous effect that high-quality processing can be performed can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態におけるレーザ加工装置
の概略構成図
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態における位相シフト部材
の斜視図
FIG. 2 is a perspective view of a phase shift member according to one embodiment of the present invention.

【図3】(a)本発明の一実施の形態における分離され
た一方のレーザビームのマスク上での強度分布の特性図 (b)本発明の一実施の形態における分離された他方の
レーザビームのマスク上での強度分布の特性図 (c)本発明の一実施の形態における合成されたレーザ
ビームのマスク上での強度分布の特性図
FIG. 3A is a characteristic diagram of an intensity distribution of one separated laser beam on a mask according to one embodiment of the present invention; and FIG. 3B is another separated laser beam according to one embodiment of the present invention. (C) Characteristic diagram of intensity distribution on mask of combined laser beam in one embodiment of the present invention

【図4】本発明の一実施の形態における位相シフト部材
によりレーザビームの進行方向に垂直な平面内での極座
標系において位相シフト量を表す特性図
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a phase shift amount in a polar coordinate system in a plane perpendicular to a traveling direction of a laser beam by a phase shift member according to an embodiment of the present invention.

【図5】従来例におけるレーザ加工装置の概略構成図FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 レーザ発振器 102 レーザビーム 102a レーザビーム 102b レーザビーム 102c レーザビーム 103 フェーズリターダー 104 S/P分離鏡 105 位相シフト部材 106 集光レンズ 107 ビームウエスト位置 108 投影光学系 109 全反射鏡 110 テレスコープ 111 全反射鏡 112 S/P分離鏡 113 マスク 114 投影レンズ 115 加工対象物 51 レーザ発振器 52 レーザビーム 53 均一化光学系 54 投影光学系 55 マスク 56 開口絞り 57 投影レンズ 58 加工対象物 Reference Signs List 101 laser oscillator 102 laser beam 102a laser beam 102b laser beam 102c laser beam 103 phase retarder 104 S / P separation mirror 105 phase shift member 106 condensing lens 107 beam waist position 108 projection optical system 109 total reflection mirror 110 telescope 111 total reflection Mirror 112 S / P separation mirror 113 Mask 114 Projection lens 115 Workpiece 51 Laser oscillator 52 Laser beam 53 Uniform optical system 54 Projection optical system 55 Mask 56 Aperture stop 57 Projection lens 58 Workpiece

フロントページの続き (72)発明者 唐崎 秀彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4E068 CB10 CD03 CD05 CD10 5F072 AA05 AB01 JJ20 KK05 KK15 KK30 YY06 Continued on the front page (72) Inventor Hidehiko Karasaki 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 4E068 CB10 CD03 CD05 CD10 5F072 AA05 AB01 JJ20 KK05 KK15 KK30 YY06

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 強度分布がガウス状のレーザビームを発
振するレーザ発振器と、前記レーザビームを任意の断面
形状に切り出すマスクと、前記マスクの像を加工対象物
に投影する投影光学系とを有し、前記マスクの前に配置
して前記レーザビームを2つに分割する手段と、分割さ
れた双方のレーザビームを直線偏光に変換し且つ前記双
方のレーザビームの偏光方向を垂直に変換する手段と、
分割した一方のレーザビームの強度分布をマスク上で輪
帯状にする手段と、前記マスクの前で分割した2つのレ
ーザビームを合成する手段とを有するレーザ加工装置。
1. A laser oscillator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and a projection optical system for projecting an image of the mask onto a processing target. Means for splitting the laser beam into two parts in front of the mask, means for converting both laser beams into linearly polarized light and means for vertically changing the polarization direction of both laser beams When,
A laser processing apparatus comprising: means for making an intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on a mask; and means for combining two laser beams divided in front of the mask.
【請求項2】 強度分布がガウス状のレーザビームを発
振するレーザ発振器と、前記レーザビームを任意の断面
形状に切り出すマスクと、前記マスクの像を加工対象物
に投影する投影光学系とを有し、前記マスクの前で前記
レーザビームを偏光方向が垂直な2つの直線偏光のレー
ザビームに分割する手段と、分割した一方のレーザビー
ムの強度分布をマスク上で輪帯状にする手段と、マスク
の前で分割した2つのレーザビームを合成する手段とを
有するレーザ加工装置。
2. A laser oscillator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a mask for cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and a projection optical system for projecting an image of the mask onto a processing target. Means for dividing the laser beam into two linearly polarized laser beams whose polarization directions are perpendicular to each other in front of the mask, means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask, Means for synthesizing the two laser beams split before the laser beam.
【請求項3】 分割した一方のレーザビームの強度分布
をマスク上で輪帯状にする手段は、前記レーザビームの
進行方向に垂直な平面内での極座標系において、極座標
の偏角と同じ角度だけ、前記レーザビームの位相をシフ
トするように形成された位相シフト部材と、前記位相シ
フト部材の後に配置される集光光学系と、前記集光光学
系により集光された前記レーザビームの集光点の像を前
記マスクの位置に投影する投影光学系とを用いて構成さ
れることを特徴とする請求項1または2記載のレーザ加
工装置。
3. A means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on a mask, in the polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam, by an angle equal to the declination of the polar coordinates. A phase shift member formed to shift the phase of the laser beam, a focusing optical system disposed after the phase shift member, and focusing of the laser beam focused by the focusing optical system. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a projection optical system configured to project a point image onto the position of the mask.
【請求項4】 分割した一方のレーザビームの強度分布
をマスク上で輪帯状にする手段は、前記レーザビームの
進行方向に垂直な平面内での極座標系において、極座標
の偏角の0ラジアンから2πラジアンまでの間を任意の
数で区切った領域に分け、区切られた各領域内では、同
じ角度だけ前記レーザビームの位相をシフトし、その角
度が各領域内の極座標の偏角の範囲内に含まれるように
形成された位相シフト部材と、前記位相シフト部材の後
に配置される集光光学系と、前記集光光学系により集光
された前記レーザビームの集光点の像をマスクの位置に
投影する投影光学系とを用いて構成されることを特徴と
する請求項1または2記載のレーザ加工装置。
4. A means for converting the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on a mask, wherein the polarizer system is arranged such that, in a polar coordinate system in a plane perpendicular to a traveling direction of the laser beam, a deviation of 0 radians in polar coordinates is obtained. The area up to 2π radians is divided into areas divided by an arbitrary number, and within each of the divided areas, the phase of the laser beam is shifted by the same angle so that the angle is within the range of the polar coordinate declination in each area. A phase shift member formed so as to be included in, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and an image of a condensing point of the laser beam condensed by the condensing optical system on a mask. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing apparatus is configured by using a projection optical system that projects onto a position.
【請求項5】 分割した一方のレーザビームの強度分布
をマスク上で輪帯状にする手段は、前記レーザビームの
進行方向に垂直な平面内で光軸を軸とした輪帯状に前記
レーザビームの位相をシフトするように形成された位相
シフト部材と、前記位相シフト部材の後に配置される集
光光学系と、前記集光光学系により集光された前記レー
ザビームの集光点の像を前記マスクの位置に投影する投
影光学系とを用いて構成されることを特徴とする請求項
1または2記載のレーザ加工装置。
5. A means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape on the mask, wherein the laser beam is formed into an annular shape around an optical axis in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. A phase shift member formed so as to shift the phase, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and an image of a condensing point of the laser beam condensed by the condensing optical system. 3. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing apparatus is configured using a projection optical system for projecting the position on the mask.
【請求項6】 位相シフト部材が、集光光学系と一体に
形成されたことを特徴とする請求項3から5のいずれか
に記載のレーザ加工装置。
6. The laser processing apparatus according to claim 3, wherein the phase shift member is formed integrally with the focusing optical system.
【請求項7】 強度分布がガウス状であるレーザビーム
を発振するステップと、前記レーザビームを任意の断面
形状に切り出すステップと、切り出されたレーザビーム
の断面の像を加工対象物に投影するステップとを有し、
さらに前記レーザビームを任意の断面形状に切り出すス
テップの前に前記レーザビームを2つに分割するステッ
プと、分割した双方のレーザビームを直線偏光に変換し
且つ前記双方のレーザビームの偏光方向を垂直に変換す
るステップと、分割した一方のレーザビームの強度分布
を前記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位置で
輪帯状にするステップと、前記レーザビームを任意の断
面形状に切り出す位置の前で分割した2つのレーザビー
ムを合成するステップとを有するレーザ加工方法。
7. A step of oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a step of cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and a step of projecting a cross-sectional image of the cut laser beam onto an object to be processed. And
Further, before the step of cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, the step of dividing the laser beam into two, converting both of the divided laser beams into linearly polarized light, and setting the polarization directions of the two laser beams to vertical. Converting the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape; and splitting the laser beam before the position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape. Synthesizing the two laser beams thus obtained.
【請求項8】 強度分布がガウス状のレーザビームを発
振するステップと、前記レーザビームを任意の断面形状
に切り出すステップと、切り出された前記レーザビーム
の断面の像を加工対象物に投影するステップとを有し、
さらに前記レーザビームを任意の断面形状に切り出すス
テップの前に前記レーザビームを偏光方向が垂直な2つ
の直線偏光のレーザビームに分割するステップと、分割
した一方のレーザビームの強度分布を前記レーザビーム
を任意の断面形状に切り出す位置で輪帯状にするステッ
プと、前記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位
置の前で分割した2つのレーザビームを合成するステッ
プとを有するレーザ加工方法。
8. A step of oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, a step of cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, and a step of projecting an image of a cross-section of the cut laser beam onto an object to be processed. And
Further, before the step of cutting the laser beam into an arbitrary cross-sectional shape, the step of dividing the laser beam into two linearly polarized laser beams whose polarization directions are perpendicular to each other; A laser processing method comprising: forming an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape; and combining two laser beams divided before the position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape.
【請求項9】 分割した一方のレーザビームの強度分布
を前記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位置で
輪帯状にするステップは、前記レーザビームの進行方向
に垂直な平面内での極座標系において、極座標の偏角と
同じ角度だけ前記レーザビームの位相をシフトするステ
ップと、位相シフトされた前記レーザビームを集光する
ステップと、集光された前記レーザビームの集光点の像
をマスクの位置に投影するステップとにより構成される
ことを特徴とする請求項7または8記載のレーザ加工方
法。
9. The step of making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape, in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. Shifting the phase of the laser beam by the same angle as the declination of the polar coordinates; condensing the phase-shifted laser beam; and 9. The laser processing method according to claim 7, further comprising: projecting the laser beam onto a position.
【請求項10】 分割した一方のレーザビームの強度分
布を前記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位置
で輪帯状にするステップは、前記レーザビームの進行方
向に垂直な平面内での極座標系において、極座標の偏角
の0ラジアンから2πラジアンまでの間を任意の数で区
切った領域に分け、区切られた各領域内では、同じ角度
だけ前記レーザビームの位相をシフトし、その角度が各
領域内の極座標の偏角の範囲内に含まれるようにするス
テップと、位相シフトされた前記レーザビームを集光す
るステップと、集光された前記レーザビームの集光点の
像をマスクの位置に投影するステップとにより構成され
ることを特徴とする請求項7または8記載のレーザ加工
方法。
10. The step of forming the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape, in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. The angle between 0 radian and 2π radian of the polar coordinate declination is divided into areas divided by an arbitrary number, and within each of the divided areas, the phase of the laser beam is shifted by the same angle, and the angle is changed in each area. Within the range of the declination of the polar coordinates, focusing the phase-shifted laser beam, and focusing the image of the focused laser beam at the position of the mask. 9. The laser processing method according to claim 7, wherein the laser processing method comprises: projecting.
【請求項11】 分割した一方のレーザビームの強度分
布を前記レーザビームを任意の断面形状に切り出す位置
で輪帯状にするステップは、前記レーザビームの進行方
向に垂直な平面内で光軸を軸とした輪帯状に前記レーザ
ビームの位相をシフトするステップと、位相シフトされ
た前記レーザビームを集光するステップと、集光された
前記レーザビームの集光点の像をマスクの位置に投影す
るステップとにより構成されることを特徴とする請求項
7または8記載のレーザ加工方法。
11. The step of making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a position where the laser beam is cut into an arbitrary cross-sectional shape, wherein the optical axis is set in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. Shifting the phase of the laser beam in an annular shape, focusing the phase-shifted laser beam, and projecting an image of the focused laser beam at the position of the mask. 9. The laser processing method according to claim 7, wherein the laser processing method comprises:
【請求項12】 位相シフトされたレーザビームを集光
するステップと、集光された前記レーザビームの集光点
の像をマスクの位置に投影するステップとを、一体にし
たことを特徴とする請求項9から11のいずれかに記載
のレーザ加工方法。
12. The method according to claim 1, wherein a step of converging the phase-shifted laser beam and a step of projecting an image of the condensed point of the condensed laser beam onto a position of a mask are integrated. The laser processing method according to claim 9.
【請求項13】 強度分布がガウス状であるレーザビー
ムを発振する光共振器と、前記レーザビームを2つに分
割する手段と、分割された双方のレーザビームを直線偏
光に変換し且つ前記双方のレーザビームの偏光方向を垂
直に変換する手段と、分割した一方のレーザビームの強
度分布を所定の位置で輪帯状にする手段と、所定の位置
の前で分割した2つのレーザビームを合成する手段とを
有するレーザ発振器。
13. An optical resonator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, means for splitting the laser beam into two, and converting both of the split laser beams into linearly polarized light. Means for vertically changing the polarization direction of the laser beam, means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position, and combining the two laser beams divided before the predetermined position. And a laser oscillator having means.
【請求項14】 強度分布がガウス状であるレーザビー
ムを発振する光共振器と、前記レーザビームを偏光方向
が垂直な2つの直線偏光のレーザビームに分割する手段
と、分割した一方のレーザビームの強度分布を所定の位
置で輪帯状にする手段と、所定の位置の前で分割した2
つのレーザビームを合成する手段とを有するレーザ発振
器。
14. An optical resonator for oscillating a laser beam having a Gaussian intensity distribution, means for splitting the laser beam into two linearly polarized laser beams whose polarization directions are perpendicular, and one of the split laser beams Means for making the intensity distribution of an annular shape at a predetermined position,
Means for combining two laser beams.
【請求項15】 分割した一方のレーザビームの強度分
布を所定の位置で輪帯状にする手段は、前記レーザビー
ムの進行方向に垂直な平面内での極座標系において、極
座標の偏角と同じ角度だけ、前記レーザビームの位相を
シフトするように形成された位相シフト部材と、位相シ
フト部材の後に配置される集光光学系と、集光光学系に
より集光された前記レーザビームの集光点の像を前記所
定の位置に投影する投影光学系とを用いて構成されるこ
とを特徴とする請求項13または14記載のレーザ発振
器。
15. A means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position, in the polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam, the angle being the same as the declination of the polar coordinates. A phase shift member formed so as to shift the phase of the laser beam, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and a condensing point of the laser beam condensed by the condensing optical system. 15. The laser oscillator according to claim 13, wherein the laser oscillator is configured using a projection optical system for projecting the image at the predetermined position.
【請求項16】 分割した一方のレーザビームの強度分
布を所定の位置で輪帯状にする手段は、前記レーザビー
ムの進行方向に垂直な平面内での極座標系において、極
座標の偏角の0ラジアンから2πラジアンまでの間を任
意の数で区切った領域に分け、区切られた各領域内で
は、同じ角度だけ前記レーザビームの位相をシフトし、
その角度が各領域内の極座標の偏角の範囲内に含まれる
ように形成された位相シフト部材と、位相シフト部材の
後に配置される集光光学系と、集光光学系により集光さ
れた前記レーザビームの集光点の像を前記所定の位置に
投影する投影光学系とにより構成されることを特徴とす
る請求項13または14記載のレーザ発振器。
16. A means for making the intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position, the polarizer having a declination of polar coordinates of 0 radians in a polar coordinate system in a plane perpendicular to the traveling direction of the laser beam. To 2π radians is divided into regions divided by an arbitrary number, and in each divided region, the phase of the laser beam is shifted by the same angle,
A phase shift member formed so that the angle is included within the range of polar declination in each region, a condensing optical system disposed after the phase shift member, and light condensed by the condensing optical system. 15. The laser oscillator according to claim 13, further comprising: a projection optical system configured to project an image of a focal point of the laser beam onto the predetermined position.
【請求項17】 分割した一方のレーザビームの強度分
布を所定の位置で輪帯状にする手段は、前記レーザビー
ムの進行方向に垂直な平面内で光軸を軸とした輪帯状に
前記レーザビームの位相をシフトするように形成された
位相シフト部材と、位相シフト部材の後に配置される集
光光学系と、集光光学系により集光された前記レーザビ
ームの集光点の像を前記所定の位置に投影する投影光学
系とにより構成されることを特徴とする請求項13また
は14記載のレーザ発振器。
17. A means for forming an intensity distribution of one of the divided laser beams into an annular shape at a predetermined position, wherein the laser beam is formed into an annular shape around an optical axis in a plane perpendicular to a traveling direction of the laser beam. A phase shift member formed so as to shift the phase of the light beam, a converging optical system disposed after the phase shifting member, and an image of a converging point of the laser beam condensed by the converging optical system. 15. The laser oscillator according to claim 13, further comprising: a projection optical system for projecting the laser beam at a position.
【請求項18】 位相シフト部材が、集光光学系と一体
に形成されたことを特徴とする請求項15から17のい
ずれかに記載のレーザ発振器。
18. The laser oscillator according to claim 15, wherein the phase shift member is formed integrally with the focusing optical system.
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