JP2002033959A - Photoelectric conversion device and its drive method, and radiation imaging system - Google Patents

Photoelectric conversion device and its drive method, and radiation imaging system

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JP2002033959A
JP2002033959A JP2000215019A JP2000215019A JP2002033959A JP 2002033959 A JP2002033959 A JP 2002033959A JP 2000215019 A JP2000215019 A JP 2000215019A JP 2000215019 A JP2000215019 A JP 2000215019A JP 2002033959 A JP2002033959 A JP 2002033959A
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Japan
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photoelectric conversion
signal
conversion device
conversion element
switch element
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Isao Kobayashi
功 小林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce fluctuations of sensor characteristics between the center and the end of a sensor panel, by carefully setting time for setting a refresh control circuit to Hi state and time for setting a TFT, that is a switching element to Hi state. SOLUTION: In a photoelectric conversion device having a photoelectric conversion element for converting light to an electrical signal and a switching element for controlling the read of an electrical signal that is converted by the photoelectric conversion element, the photoelectric conversion element is set to a constant potential, and at the same time, the switching element is turned on.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光電変換装置及び
その駆動方法、放射線撮像システムに関し、特に大面積
プロセスを用いて形成する例えばファクシミリ、デジタ
ル複写機に用いる光電変換装置及びその駆動方法、放射
線撮像システムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoelectric conversion device, a method of driving the same, and a radiation imaging system, and more particularly to a photoelectric conversion device and a method of driving the same, for example, a facsimile machine and a digital copier formed using a large area process. The present invention relates to an imaging system.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ファクシミリ、デジタル複写機あ
るいはX線撮像装置等の読み取り系としては縮小光学系
とCCD型センサを用いた読み取り系とが用いられてい
たが、近年、水素化アモルファスシリコン(以下、「a
−Si」と称する。)に代表される光電変換半導体材料
の開発により、光電変換素子及び信号処理部を大面積の
基板に形成し、被読み取り媒体と等倍の光学系で読み取
るいわゆる密着型センサの開発がめざましい。
2. Description of the Related Art Conventionally, a reduction optical system and a reading system using a CCD sensor have been used as a reading system of a facsimile, a digital copying machine, an X-ray imaging device, or the like. Hereinafter, "a
-Si ". With the development of the photoelectric conversion semiconductor material represented by (1), a so-called contact type sensor in which a photoelectric conversion element and a signal processing unit are formed on a large-sized substrate and read by an optical system of the same magnification as the medium to be read is remarkable.

【0003】特に、a−Siは光電変換材料としてだけ
でなく、薄膜電界効果型トランジスタとしても用いるこ
とができるので、光電変換半導体層とトランジスタの半
導体層とを同時に形成することができる利点を有してい
る。
In particular, since a-Si can be used not only as a photoelectric conversion material but also as a thin film field effect transistor, there is an advantage that a photoelectric conversion semiconductor layer and a semiconductor layer of a transistor can be formed simultaneously. are doing.

【0004】図1は、たとえば光電変換半導体層とトラ
ンジスタの半導体層とを同時に形成した画素を、二次元
に3×3個配置した光電変換装置の回路図である。図1
において、S11〜S33は光電変換素子で下部電極側
をG、上部電極側をDで示している。C11〜C33は
蓄積用コンデンサであり、S11〜S33の光電変換素
子がコンデンサの働きをするため等価回路ではこのよう
に示している。
FIG. 1 is a circuit diagram of a photoelectric conversion device in which, for example, 3 × 3 pixels in which a photoelectric conversion semiconductor layer and a semiconductor layer of a transistor are simultaneously formed are arranged two-dimensionally. Figure 1
In S11 to S33, G denotes a lower electrode side and D denotes an upper electrode side. C11 to C33 are storage capacitors, which are indicated in the equivalent circuit in this way because the photoelectric conversion elements of S11 to S33 function as capacitors.

【0005】また、T11〜T33は転送用トランジス
タである。Vsは読み出し用電源、Vgはリフレッシュ
用電源であり、それぞれスイッチSWs、SWgを介し
て全光電変換素子S11〜S33のD電極に接続されて
いる。スイッチSWsはインバータを介して、スイッチ
SWgは直接にリフレッシュ処理回路RFに接続されて
おり、リフレッシュ期間はスイッチSWg がonするよ
う制御されている。
Further, T11 to T33 are transfer transistors. Vs is a read power supply and Vg is a refresh power supply, which are connected to the D electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 via switches SWs and SWg, respectively. The switch SWs is directly connected to the refresh processing circuit RF via the inverter, and the switch SWg is controlled so that the switch SWg is turned on during the refresh period.

【0006】この光電変換装置は、計9個の画素を、た
とえば列方向に3つのブロックに分け、1ブロックあた
り3画素の出力を同時に信号線SIG1〜3を通して検
出用集積回路ICに転送し、検出用集積回路ICよって
順次出力に変換され出力される(Vout)。また1ブ
ロック内の3画素をたとえば行方向に配置し、3ブロッ
クを順に列方向に配置することにより各画素を二次元的
に配置している。
In this photoelectric conversion device, a total of nine pixels are divided into, for example, three blocks in a column direction, and outputs of three pixels per block are simultaneously transferred to a detection integrated circuit IC through signal lines SIG1 to SIG3. The output is sequentially converted and output by the detection integrated circuit IC (Vout). Each pixel is two-dimensionally arranged by arranging three pixels in one block in, for example, a row direction and arranging three blocks in a column direction in order.

【0007】ここで、光電変換素子S11に蓄積された
信号電荷Qが、トランジスタT11を介してSIG1に
転送され、更にスイッチM1を介してAmpで読み取ら
れる場合、Cgsをトランジスタのゲートと信号線の重
なり容量とし、CcrossをVg線と信号線の重なり容量
とすると、CAmpはAmpの読み出し容量であるVo
utは、 Vout=Q/(ΣCgs+ΣCcross+CAmp) と表すことができる。なお、図1には、トランジスタT
11にのみCgs、g2とSIG1との間にのみC
crossを示しているが、実際には、他のトランジスタT
12〜T33にもCgsが存在し、制御配線g2,g3
と信号線SIG1〜SIG3との間にもCcrossが存在
している。
Here, when the signal charge Q stored in the photoelectric conversion element S11 is transferred to SIG1 via the transistor T11 and is read by Amp via the switch M1, Cgs is connected to the gate of the transistor and the signal line. Assuming that the overlap capacitance is C cross and the overlap capacitance between the Vg line and the signal line is CAmp, CAmp is Vo, which is the read capacitance of Amp.
ut may be expressed as Vout = Q / (ΣCgs + ΣC cross + CAmp). FIG. 1 shows the transistor T
11 and Cgs only between g2 and SIG1
cross is shown, but in fact, other transistors T
Cgs also exist in 12 to T33, and control wirings g2 and g3
C cross also exists between the signal line SIG1 and the signal lines SIG1 to SIG3.

【0008】図6は、図1の動作を示すタイミングチャ
ートである。つぎに、図6を用いて図1の光電変換装置
の動作について説明する。はじめに、シフトレジスタS
R1及びSR2により制御配線g1〜g3、s1〜s2
にHiが印加される。すると、転送用トランジスタT1
1〜T33とスイッチM1〜M3とがonされ導電す
る。
FIG. 6 is a timing chart showing the operation of FIG. Next, the operation of the photoelectric conversion device of FIG. 1 will be described with reference to FIG. First, the shift register S
Control wirings g1 to g3, s1 to s2 by R1 and SR2
Is applied. Then, the transfer transistor T1
1 to T33 and switches M1 to M3 are turned on to conduct.

【0009】全光電変換素子S11〜S33のG電極は
GND電位になる(積分検出器Ampの入力端子はGN
D電位に設計されているため)。同時にリフレッシュ処
理回路RFがHiを出力しスイッチSWgがonし、全
光電変換素子S11〜S33のD電極はリフレッシュ用
電源Vgにより正電位になる。
The G electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 are at the GND potential (the input terminal of the integration detector Amp is GND).
D potential). At the same time, the refresh processing circuit RF outputs Hi, the switch SWg is turned on, and the D electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 become positive potential by the refresh power supply Vg.

【0010】これにより、全光電変換素子S11〜S3
3は、リフレッシュモードになりリフレッシュされる。
つぎにリフレッシュ処理回路RFがLoを出力しスイッ
チSWsがonすることにより、全光電変換素子S11
〜S33のD電極は読み取り用電源Vsにより更に高い
正電位になる。
Thus, all the photoelectric conversion elements S11 to S3
No. 3 enters the refresh mode and is refreshed.
Next, when the refresh processing circuit RF outputs Lo and the switch SWs is turned on, all the photoelectric conversion elements S11
The D electrode in steps S33 to S33 is set to a higher positive potential by the reading power supply Vs.

【0011】すると、全光電変換素子S11〜S33は
光電変換モードになり同時にコンデンサC11〜C33
は初期化される。この状態でシフトレジスタSR1及び
SR2により制御配線g1〜g3、s1〜s2にLoが
印加される。すると転送用トランジスタT11〜T33
のスイッチM1〜M3がoffし、全光電変換素子S1
1〜S33のG電極はDC的にはオープンになるがコン
デンサC11〜C33によって電位は保持される。
Then, all the photoelectric conversion elements S11 to S33 enter the photoelectric conversion mode, and at the same time, the capacitors C11 to C33
Is initialized. In this state, Lo is applied to the control wires g1 to g3 and s1 to s2 by the shift registers SR1 and SR2. Then, the transfer transistors T11 to T33
Switches M1 to M3 are turned off, and all the photoelectric conversion elements S1
The G electrodes 1 to S33 are DC open, but the potential is held by the capacitors C11 to C33.

【0012】その後、図示しない光源から光が出射され
ると、その光がそれぞれの光電変換素子S11〜S33
に入射する。この光により流れた光電流は、電荷として
それぞれのコンデンサC11〜C33に蓄積されX線の
入射終了後も保持される。
Thereafter, when light is emitted from a light source (not shown), the light is transmitted to each of the photoelectric conversion elements S11 to S33.
Incident on. The photocurrent flowing by this light is accumulated as electric charges in the respective capacitors C11 to C33, and is retained even after the end of X-ray incidence.

【0013】つぎに、シフトレジスタSR1により制御
配線g1にHiの制御パルスが印加され、シフトレジス
タSR2の制御配線s1〜s3への制御パルス印加によ
って転送用トランジスタT11〜T33のスイッチM1
〜M3を通してv1〜v3が順次出力される。同様に、
シフトレジスタSR1、SR2の制御により他の光信号
も順次出力される。
Next, a control pulse of Hi is applied to the control wiring g1 by the shift register SR1, and the control pulse is applied to the control wirings s1 to s3 of the shift register SR2 to switch M1 of the transfer transistors T11 to T33.
V1 to v3 are sequentially output through. Similarly,
Other optical signals are sequentially output under the control of the shift registers SR1 and SR2.

【0014】この光電変換装置は、光電変換素子のD電
極が共通に接続され、この共通の配線をスイッチSWg
とスイッチSWsを介してリフレッシュ用電源Vgと読
み取り用電源Vsの電位に制御しているため、全光電変
換素子を同時にリフレッシュモードと光電変換モードと
に切り換えることができる。このため、複雑な制御なく
して1画素あたり1個のトランジスタで光出力を得るこ
とができる。
In this photoelectric conversion device, the D electrode of the photoelectric conversion element is commonly connected, and this common wiring is connected to the switch SWg.
And the switches SWs, the potential of the refresh power supply Vg and the potential of the read power supply Vs are controlled, so that all the photoelectric conversion elements can be simultaneously switched to the refresh mode and the photoelectric conversion mode. Therefore, an optical output can be obtained with one transistor per pixel without complicated control.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかし、大面積の光電
変換装置に対する特性的なスペックは年々厳しくなって
おり、特にX線撮像装置等の等倍読み取りを行う二次元
の光電変換装置においては、人体に影響のあるX線を少
しでも減らして、より精度の高いデータを二次元エリア
内で一様に且つ短時間で得ることが要求されており、こ
のような要求を受けて、光電変換素子の信号出力のバラ
ツキを少しでも小さくし、且つ短時間で駆動するため
に、センサのリフレッシュ方法において制御配線の動作
に工夫をする事が考えられる。
However, the characteristic specifications of a large-area photoelectric conversion device are becoming stricter year by year. Particularly, in a two-dimensional photoelectric conversion device such as an X-ray imaging device which reads at the same magnification, There is a demand to reduce X-rays affecting the human body as much as possible and to obtain more accurate data uniformly and in a short time within a two-dimensional area. In order to reduce the variation of the signal output of the sensor as much as possible and to drive it in a short time, it is conceivable to devise the operation of the control wiring in the sensor refreshing method.

【0016】ここで、二次元エリア内での複数の信号出
力を更に一様にし、センサパネルの品質を更に向上させ
るためには、仮に縦横1mmあたり5×5個の画素を2
000×2000個の画素として、二次元的に配置し4
0cm×40cmのX線検出器を構成し、その動作を1
秒当たり10枚の走査を行い、動画像を得る場合を考え
ると、1枚当たりの時間は、100m秒となり、1ライ
ン当たりの時間は50マイクロ秒となり、リフレッシュ
モードに必要な時間をゼロとしても、信号読み出しIC
におけるマルチプレクサを行う時間は、1信号当たり2
5n秒となる。
Here, in order to make the output of a plurality of signals within the two-dimensional area more uniform and to further improve the quality of the sensor panel, 5 × 5 pixels per 1 mm in length and width are assumed to be 2 pixels.
2,000 x 2000 pixels, two-dimensionally arranged 4
An X-ray detector of 0 cm × 40 cm is constructed and its operation is
Considering a case where a moving image is obtained by scanning 10 sheets per second, the time per sheet is 100 ms, the time per line is 50 microseconds, and the time required for the refresh mode is zero. , Signal readout IC
The time to perform the multiplexer in is 2 per signal.
5 ns.

【0017】この1信号当たり25n秒という値は、現
在のアナログICのスピードとしては比較的高速であ
り、厳しいものである。その為、リフレッシュモードを
行う時間はあまり長くとる事は難しい。
The value of 25 ns per signal is a relatively high speed for current analog ICs, which is severe. Therefore, it is difficult to perform the refresh mode for an excessively long time.

【0018】ここで、図6に示したように、実際のリフ
レッシュ処理回路RFをHiにすると、図1におけるコ
ンデンサC11+C12+C13+C21+……+C3
3という容量及びCcross×9画素分という容量を有す
ることになる。この容量は、たとえば縦横1mmあたり
5×5個の画素を2000×2000個の画素として二
次元的に配置して、40cm×40cmのX線検出器を
構成する場合には、1個のコンデンサC11は約4pF
となり、1個のCcrossはコンデンサC11に対して無
視できる値となる。
Here, as shown in FIG. 6, when the actual refresh processing circuit RF is set to Hi, the capacitors C11 + C12 + C13 + C21 +... + C3 in FIG.
It has a capacity of 3 and a capacity of C cross × 9 pixels. For example, in the case where an X-ray detector of 40 cm × 40 cm is formed by two-dimensionally arranging 5 × 5 pixels as 2000 × 2000 pixels per 1 mm in length and width, one capacitor C11 is used. Is about 4 pF
Thus, one C cross has a negligible value for the capacitor C11.

【0019】よって、リフレッシュ制御回路と光電変換
素子とを接続している線の全容量は、 4pF×2000×2000=16μF となる。
Therefore, the total capacitance of the line connecting the refresh control circuit and the photoelectric conversion element is 4 pF × 2000 × 2000 = 16 μF.

【0020】ここで、リフレッシュ制御回路と光電変換
素子とを接続している線の抵抗値は、10μm幅、厚さ
5000オングストロームのアルミニウムの場合には1
本当たり4kオームとなるので、2000本が並列で配
置されているならば、全ラインを考えたときに、 4kオーム/2000=2オーム となる。よって、リフレッシュ制御回路と光電変換素子
とを接続している線の時定数を考えると、 R×C=16μF×2オーム=32μ秒 となる。よって、リフレッシュ制御回路RFをHiとし
ている時間をR×Cの5倍を考えると、 32μ秒×5=160μ秒 となる。
Here, the resistance value of the line connecting the refresh control circuit and the photoelectric conversion element is 1 in the case of aluminum having a width of 10 μm and a thickness of 5000 Å.
Since 4 k ohms per line, if 2000 lines are arranged in parallel, 4 k ohms / 2000 = 2 ohms when considering all lines. Therefore, considering the time constant of the line connecting the refresh control circuit and the photoelectric conversion element, R × C = 16 μF × 2 ohm = 32 μsec. Therefore, when the time when the refresh control circuit RF is set to Hi is five times R × C, 32 μs × 5 = 160 μs.

【0021】よって、X線検出器のセンサ部の面積が大
きくなり、素子数が増加するに伴い、リフレッシュ処理
回路RFをHiにしている時間を長くする必要がある。
特に、リフレッシュ制御回路と光電変換素子とを接続し
ている線の端の電位は、抵抗値及び容量値が大きいた
め、パルスの遅延が大きくなるためセンサのリフレッシ
ュが充分に行われず、正常な信号出力が得られなくな
る。即ち、X線検出器のセンサ部の面積が大きくなる
と、センサパネルの中で一様に正常な信号を得る事が難
しくなる。
Therefore, as the area of the sensor section of the X-ray detector increases and the number of elements increases, it is necessary to increase the time during which the refresh processing circuit RF is kept Hi.
In particular, the potential at the end of the line connecting the refresh control circuit and the photoelectric conversion element has a large resistance value and a large capacitance value, so that the pulse delay becomes large, so that the sensor is not sufficiently refreshed and a normal signal is output. No output can be obtained. That is, when the area of the sensor unit of the X-ray detector becomes large, it becomes difficult to obtain a normal signal uniformly in the sensor panel.

【0022】しかし、全ての制御配線2000本をシフ
トレジスタSR1により同時にオンさせ、更にシフトレ
ジスタSR2によりスイッチM1〜M2000を同時に
2000個オンさせると、大きな消費電流が生じる。よ
って、制御配線g1〜g2000とスイッチM1〜M2
000を同時に2000個オンさせる信号線s1〜s2
000をHiさせる時間は必要最小限にする必要があ
る。
However, if all the 2,000 control lines are simultaneously turned on by the shift register SR1 and 2,000 switches M1 to M2000 are simultaneously turned on by the shift register SR2, a large current consumption occurs. Therefore, the control wirings g1 to g2000 and the switches M1 to M2
Signal lines s1 and s2 for turning on 2,000 pieces at the same time
It is necessary to minimize the time required to make 000 Hi.

【0023】更に、図6においてリフレッシュ処理回路
RFがHiからLoになった後に、制御配線g1に印加
している信号がHiからLoになるまでの時間は、リフ
レッシュ制御回路と光電変換素子とを接続している線の
電位が安定するまで、ある程度の時間が必要である。
Further, in FIG. 6, after the refresh processing circuit RF changes from Hi to Lo, the time until the signal applied to the control wiring g1 changes from Hi to Lo is determined by the time between the refresh control circuit and the photoelectric conversion element. It takes a certain amount of time for the potential of the connected line to stabilize.

【0024】よって、以上の事を考慮すると、縦横1m
mあたり5×5個の画素を2000×2000個程度の
画素として二次元的に配置し40cm×40cm程度の
X線検出器を構成する場合や、それ以上に大きなX線検
出器を構成する場合になると、リフレッシュ処理回路R
FをHiとする時刻を、制御配線g1をHiとする時刻
よりも、早めることが有効であると考えられる。
Therefore, taking the above into consideration, 1 m
When a 5 × 5 pixel per m is two-dimensionally arranged as about 2000 × 2000 pixels to configure an X-ray detector of about 40 cm × 40 cm, or to configure an X-ray detector larger than that , The refresh processing circuit R
It is considered effective to advance the time when F is set to be higher than the time when the control wiring g1 is set to be Hi.

【0025】そこで、本発明は、リフレッシュ制御回路
をHiとする時刻とスイッチ素子であるTFTとをHi
とする時刻を工夫して、センサパネルの中央部と端部と
のセンサ特性のばらつきを小さくすることを課題とす
る。
Therefore, according to the present invention, the time when the refresh control circuit is set to Hi and the TFT which is the switch element are set to Hi.
It is an object of the present invention to reduce the variation in sensor characteristics between the central part and the end part of the sensor panel by devising the time to be set.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、光を電気信号に変換する光電変換素子
と、前記光電変換素子によって変換された電気信号の読
み出しを制御するスイッチ素子とを備えた光電変換装置
において、前記光電変換素子を一定電位にした状態で、
前記スイッチ素子をオンする制御手段を備えることを特
徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a photoelectric conversion element for converting light into an electric signal, and a switch element for controlling reading of the electric signal converted by the photoelectric conversion element. In a photoelectric conversion device comprising:
A control unit for turning on the switch element is provided.

【0027】また、本発明の放射線撮像システムは、上
記光電変換装置と、前記光電変換装置からの信号を処理
する信号処理手段と、前記信号処理手段からの信号を記
録するための記録手段と、前記信号処理手段からの信号
を表示するための表示手段と、前記信号処理手段からの
信号を伝送するための伝送処理手段と、放射線源から照
射された放射線を光に変換して前記光電変換装置へ入射
させるシンチレータとを具備することを特徴とする。
Further, the radiation imaging system of the present invention comprises the above-mentioned photoelectric conversion device, signal processing means for processing a signal from the photoelectric conversion device, recording means for recording a signal from the signal processing means, A display unit for displaying a signal from the signal processing unit; a transmission processing unit for transmitting a signal from the signal processing unit; and the photoelectric conversion device which converts radiation irradiated from a radiation source into light and converts the radiation to light. And a scintillator for causing the light to enter.

【0028】さらに、本発明の光電変換装置の駆動方法
は、光を電気信号に変換する光電変換素子と、前記光電
変換素子によって変換された電気信号を読み出す制御を
行うスイッチ素子とを備えた光電変換装置において、前
記光電変換素子を一定電位にした状態で、前記スイッチ
素子をオンすることを特徴とする。
Furthermore, a method of driving a photoelectric conversion device according to the present invention includes a photoelectric conversion element for converting light into an electric signal, and a switch element for controlling reading of the electric signal converted by the photoelectric conversion element. In the conversion device, the switch element is turned on while the photoelectric conversion element is kept at a constant potential.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0030】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1の放射線撮像装置の構成図である。図1には、たとえ
ば光電変換半導体層とトランジスタの半導体層とを同時
に形成した画素を、二次元に3×3個配置した光電変換
装置の回路図である。図1において、S11〜S33は
光電変換素子で下部電極側をG、上部電極側をDで示し
ている。C11〜C33は蓄積用コンデンサであり、S
11〜S33の光電変換素子がコンデンサの働きをする
ため等価回路ではこのように示している。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a configuration diagram of a radiation imaging apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1 is a circuit diagram of a photoelectric conversion device in which, for example, 3 × 3 pixels in which a photoelectric conversion semiconductor layer and a semiconductor layer of a transistor are simultaneously formed are two-dimensionally arranged. In FIG. 1, S11 to S33 are photoelectric conversion elements, and the lower electrode side is denoted by G, and the upper electrode side is denoted by D. C11 to C33 are storage capacitors;
This is shown in the equivalent circuit because the photoelectric conversion elements 11 to S33 function as capacitors.

【0031】また、T11〜T33はスイッチ素子であ
るところの転送用トランジスタである。Vsは読み出し
用電源、Vgはリフレッシュ用電源であり、それぞれス
イッチSWs、SWgを介して全光電変換素子S11〜
S33のD電極に接続されている。スイッチSWsはイ
ンバータを介して、スイッチSWgは直接にリフレッシ
ュ処理回路RFに接続されており、リフレッシュ期間は
スイッチSWg がonするよう制御されている。
T11 to T33 are transfer transistors which are switch elements. Vs is a read power supply, Vg is a refresh power supply, and all the photoelectric conversion elements S11 to S11 are connected via switches SWs and SWg, respectively.
It is connected to the D electrode of S33. The switch SWs is directly connected to the refresh processing circuit RF via the inverter, and the switch SWg is controlled so that the switch SWg is turned on during the refresh period.

【0032】この光電変換装置は、計9個の画素を、た
とえば列方向に3つのブロックに分け、1ブロックあた
り3画素の出力を同時に信号線SIG1〜3を通して検
出用集積回路ICに転送し、検出用集積回路ICよって
順次出力に変換され出力される(Vout)。また1ブ
ロック内の3画素をたとえば行方向に配置し、3ブロッ
クを順に列方向に配置することにより各画素を二次元的
に配置している。
This photoelectric conversion device divides a total of nine pixels into, for example, three blocks in the column direction, and simultaneously transfers outputs of three pixels per block to the detection integrated circuit IC through the signal lines SIG1 to SIG3. The output is sequentially converted and output by the detection integrated circuit IC (Vout). Each pixel is two-dimensionally arranged by arranging three pixels in one block in, for example, a row direction and arranging three blocks in a column direction in order.

【0033】ここで、光電変換素子S11に蓄積された
信号電荷Qが、トランジスタT11を介してSIG1に
転送され、更にスイッチM1を介してAmpで読み取ら
れる場合、Cgsをトランジスタのゲートと信号線の重
なり容量とし、CcrossをVg線と信号線の重なり容量
とすると、CAmpはAmpの読み出し容量であるVo
utは、 Vout=Q/(ΣCgs+ΣCcross+CAmp) と表すことができる。なお、図1には、トランジスタT
11にのみCgs、g2とSIG1との間にのみC
crossを示しているが、実際には、他のトランジスタT
12〜T33にもCgsが存在し、制御配線g2,g3
と信号線SIG1〜SIG3との間にもCcrossが存在
している。
Here, when the signal charge Q stored in the photoelectric conversion element S11 is transferred to SIG1 via the transistor T11 and further read by Amp via the switch M1, Cgs is connected to the gate of the transistor and the signal line. Assuming that the overlap capacitance is C cross and the overlap capacitance between the Vg line and the signal line is CAmp, CAmp is Vo, which is the read capacitance of Amp.
ut may be expressed as Vout = Q / (ΣCgs + ΣC cross + CAmp). FIG. 1 shows the transistor T
11 and Cgs only between g2 and SIG1
cross is shown, but in fact, other transistors T
Cgs also exist in 12 to T33, and control wirings g2 and g3
C cross also exists between the signal line SIG1 and the signal lines SIG1 to SIG3.

【0034】図2(a)は、図1の光電変換装置に備え
られている1画素分の模式図である。図2(b)は、図
2(a)のA−B間の断面図である。図2(a)、図2
(b)に示すように、この画素は、ガラス基板7上にセ
ンサ8(光電変換素子)とトランジスタ9(TFT)と
を備えている。センサ8及びトランジスタ9は、アモル
ファスシリコン薄膜プロセスで同時に形成される。
FIG. 2A is a schematic diagram of one pixel provided in the photoelectric conversion device of FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along a line AB in FIG. FIG. 2 (a), FIG.
As shown in (b), this pixel is provided with a sensor 8 (photoelectric conversion element) and a transistor 9 (TFT) on a glass substrate 7. The sensor 8 and the transistor 9 are simultaneously formed by an amorphous silicon thin film process.

【0035】センサ8は、MIS型のものである。セン
サ8及びトランジスタ9はガラス基板7上に下メタル層
10、絶縁層11、半導体層12、n+ 層13、上メタ
ル層14及び図示しない保護層(アモルファスシリコン
窒化膜又はポリイミドなど)を順次成膜、パターニング
することにより形成される。
The sensor 8 is of the MIS type. The sensor 8 and the transistor 9 sequentially form a lower metal layer 10, an insulating layer 11, a semiconductor layer 12, an n + layer 13, an upper metal layer 14, and a protective layer (not shown) such as an amorphous silicon nitride film or polyimide on a glass substrate 7. The film is formed by patterning.

【0036】図3は、図2の光電変換素子の等価回路で
ある。図3に示すように、この光電変換素子は、センサ
8に入射する光の光量に応じて電荷が発生し、その電荷
をトランジスタ9で図示しない読み取り装置に転送する
ことによって、読み取り動作を行う。
FIG. 3 is an equivalent circuit of the photoelectric conversion element of FIG. As shown in FIG. 3, the photoelectric conversion element performs a reading operation by generating charges in accordance with the amount of light incident on the sensor 8 and transferring the charges to a reading device (not shown) by the transistor 9.

【0037】図4は、本実施形態における図1の動作を
示すタイミングチャートである。なお、図4に示す動作
は、制御手段(図示せず)によって実行される。図4に
示すように、本実施形態では、はじめに、時刻T1でリ
フレッシュ処理回路RFがHiを出力しスイッチSWg
がonし、全光電変換素子S11〜S33のD電極はリ
フレッシュ用電源Vgにより正電位である状態で、時刻
2においてシフトレジスタSR1及びSR2により制
御配線g1〜g3、s1〜s3にHiが印加される。
FIG. 4 is a timing chart showing the operation of FIG. 1 in the present embodiment. The operation shown in FIG. 4 is executed by a control unit (not shown). As shown in FIG. 4, in the present embodiment, first, it outputs the refresh processing circuit RF is Hi at time T 1 the switch SWg
There was on, in a state D electrodes of all the photoelectric conversion elements S11~S33 is a positive potential by the refresh power supply Vg, the control lines by the shift registers SR1 and SR2 at time T 2 g 1 -g 3, is Hi in s1~s3 applied Is done.

【0038】すると、転送用トランジスタT11〜T3
3とスイッチM1〜M3とがonされ導電する。全光電
変換素子S11〜S33のG電極はGND電位になる
(積分検出器Ampの入力端子はGND電位に設計され
ているため)。同時にコンデンサC11〜C33は初期
化される。
Then, the transfer transistors T11 to T3
3 and switches M1 to M3 are turned on to conduct. The G electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 have the GND potential (because the input terminals of the integration detector Amp are designed to have the GND potential). At the same time, the capacitors C11 to C33 are initialized.

【0039】これにより、全光電変換素子S11〜S3
3は、リフレッシュモードになりリフレッシュされる。
つぎに、時刻T3でリフレッシュ処理回路RFがLoを
出力しスイッチSWsがonすることにより、全光電変
換素子S11〜S33のD電極は読み取り用電源Vsに
より更に高い正電位になる。
Thus, all the photoelectric conversion elements S11 to S3
No. 3 enters the refresh mode and is refreshed.
Then, the refresh processing circuit RF at time T 3 is by switch SWs outputs Lo is on, D electrodes of all the photoelectric conversion elements S11~S33 becomes higher positive potential by the reading power supply Vs.

【0040】すると、全光電変換素子S11〜S33は
光電変換モードになり、この状態で時刻T4においてシ
フトレジスタSR1及びSR2により制御配線g1〜g
3、s1〜s2にLoが印加される。すると転送用トラ
ンジスタT11〜T33のスイッチM1〜M3がoff
し、全光電変換素子S11〜S33のG電極はDC的に
はオープンになるがコンデンサC11〜C33によって
電位は保持される。
[0040] Then, all the photoelectric conversion elements S11~S33 becomes the photoelectric conversion mode, the control lines by the shift registers SR1 and SR2 at time T 4 in this state g1~g
3. Lo is applied to s1 to s2. Then, the switches M1 to M3 of the transfer transistors T11 to T33 are turned off.
The G electrodes of all the photoelectric conversion elements S11 to S33 are DC open, but the potential is held by the capacitors C11 to C33.

【0041】その後、図示しない光源から光が出射され
ると、その光がそれぞれの光電変換素子S11〜S33
に入射する。この光により流れた光電流は、電荷として
それぞれのコンデンサC11〜C33に蓄積されX線の
入射終了後も保持される。
Thereafter, when light is emitted from a light source (not shown), the light is transmitted to each of the photoelectric conversion elements S11 to S33.
Incident on. The photocurrent flowing by this light is accumulated as electric charges in the respective capacitors C11 to C33, and is retained even after the end of X-ray incidence.

【0042】つぎに、シフトレジスタSR1により制御
配線g1にHiの制御パルスが印加され、シフトレジス
タSR2の制御配線s1〜s3への制御パルス印加によ
って転送用トランジスタT11〜T33のスイッチM1
〜M3を通してv1〜v3が順次出力される。同様に、
シフトレジスタSR1、SR2の制御により他の光信号
も順次出力される。
Next, a control pulse of Hi is applied to the control line g1 by the shift register SR1, and the control pulse is applied to the control lines s1 to s3 of the shift register SR2 to switch M1 of the transfer transistors T11 to T33.
V1 to v3 are sequentially output through. Similarly,
Other optical signals are sequentially output under the control of the shift registers SR1 and SR2.

【0043】この光電変換装置は、光電変換素子のD電
極が共通に接続され、この共通の配線をスイッチSWg
とスイッチSWsを介してリフレッシュ用電源Vgと読
み取り用電源Vsの電位に制御しているため、全光電変
換素子を同時にリフレッシュモードと光電変換モードと
に切り換えることができる。このため、複雑な制御なく
して1画素あたり1個のトランジスタで光出力を得るこ
とができる。
In this photoelectric conversion device, the D electrode of the photoelectric conversion element is connected in common, and this common wiring is connected to the switch SWg.
And the switches SWs, the potential of the refresh power supply Vg and the potential of the read power supply Vs are controlled, so that all the photoelectric conversion elements can be simultaneously switched to the refresh mode and the photoelectric conversion mode. Therefore, an optical output can be obtained with one transistor per pixel without complicated control.

【0044】ここで、少なくとも、リフレッシュ処理回
路RFをHiにする時刻T1を、制御配線g1〜g3の
制御パルスのHiにする時刻T2よりも、時間的に前に
すればよい。また、時刻T1と時刻T2との間隔は、リフ
レッシュ処理回路RFをHiにすることによって、スイ
ッチSWgがonすることで生じるノイズが、制御配線
g1〜g3の制御パルスのHiにしたときに信号線SI
G1〜SIG3に流れる信号に重畳しないようにするこ
とが好ましいため、10μs程度開けることが望まし
い。ちなみに、この間隔が充分でないと、センサパネル
の中央部と端部とでのバイアス変動の影響が異なること
により、センサ特性のバラツキが比較的大きく見える場
合が生ずる。
Here, at least the time T 1 at which the refresh processing circuit RF is set to Hi may be temporally earlier than the time T 2 at which the control pulse of the control lines g 1 to g 3 is set to Hi. Further, the interval between the time T 1 and time T 2, by the refresh processing circuit RF to Hi, when noise generated by the switch SWg is on is, you Hi control pulse of the control wire g1~g3 Signal line SI
Since it is preferable not to superimpose on the signals flowing through G1 to SIG3, it is desirable to set the interval to about 10 μs. By the way, if the interval is not sufficient, the influence of the bias variation between the center and the end of the sensor panel is different, so that the variation in the sensor characteristics may appear to be relatively large.

【0045】さらに、リフレッシュの必須条件として、
リフレッシュ処理回路RFをHiにし、かつ制御配線g
1〜g3の制御パルスのHiにすることが挙げられるた
め、処理回路RFをLoにする時刻T3は、時刻T2と制
御配線g1〜g3を全ライン同時にLoにする時刻T4
との間になるようにすることが必要である。なお、本実
施形態では、T2−T1=T3−T2=T4−T3となるよう
に駆動させている。
Further, as an essential condition for refreshing,
Set the refresh processing circuit RF to Hi and control wiring g
Because it mentioned be a Hi control pulse 1~G3, time T 3 to the processing circuit RF to Lo, the time T 4 to the time T 2, the control line g1~g3 to all lines simultaneously Lo
It is necessary to be between In the present embodiment, driving is performed such that T 2 −T 1 = T 3 −T 2 = T 4 −T 3 .

【0046】これにより、大きなX線検出器を構成する
場合においても、リフレッシュ制御回路と光電変換素子
とを接続している線の電位が充分にHi状態にする事が
可能となり、センサのリフレッシュがセンサパネルの中
で一様で且つ正常に行われ、結果的にセンサパネルの中
で一様に正常な信号出力を得る事が可能となる。
Thus, even when a large X-ray detector is formed, the potential of the line connecting the refresh control circuit and the photoelectric conversion element can be sufficiently set to the Hi state, and the refresh of the sensor can be performed. It is performed uniformly and normally in the sensor panel, and as a result, a normal signal output can be uniformly obtained in the sensor panel.

【0047】更に、本実施形態では、制御配線g1〜g
3、s1〜s3に印加するパルスを、Hiさせる時間を
長くせず、必要最小限にしており、リフレッシュ処理回
路RFをHiとする時間のみを長くしているため、消費
電流の大幅な増加は無く、低パワーが可能となり、電源
の小型化、低コストが可能になる。
Further, in this embodiment, the control wirings g1 to g
3. The pulse applied to s1 to s3 is set to a necessary minimum without lengthening the time for which Hi is applied, and only the time for which the refresh processing circuit RF is set to Hi is increased. Therefore, the power can be reduced and the power source can be reduced in size and cost can be reduced.

【0048】(実施形態2)図5は、本発明の実施形態
2のX線撮像システムの構成を示すブロック図である。
図5において、101が患者、102がX線源、103
が蛍光体(シンチレータ)、104が実施形態1で説明
した光電変換装置、105が撮影スイッチ、106がデ
ィスプレイ、107が処理回路、108が駆動回路であ
る。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of an X-ray imaging system according to Embodiment 2 of the present invention.
In FIG. 5, 101 is a patient, 102 is an X-ray source, 103
Is a phosphor (scintillator), 104 is the photoelectric conversion device described in the first embodiment, 105 is a shooting switch, 106 is a display, 107 is a processing circuit, and 108 is a drive circuit.

【0049】ここで、例えば縦横1mmあたり5×5個
の画素を2000×2000個の画素として二次元的に
配置して、40cm×40cmのX線検出器が得られ
る。これをX線フィルムの代わりにX線発生器と組み合
わせX線レントゲン装置を構成すれば胸部レントゲン検
診や乳ガン検診に使用できる。するとフィルムと異なり
瞬時にその出力を陰極線管(ブラウン管:Cathode Ray
Tube:CRT)などで映し出すことが可能で、さらに出
力をディジタルに変換しコンピュータで画像処理して目
的に合わせた出力に変換することも可能である。
Here, an X-ray detector of 40 cm × 40 cm is obtained by arranging, for example, 5 × 5 pixels per 1 mm in length and width as 2000 × 2000 pixels two-dimensionally. If this is combined with an X-ray generator instead of an X-ray film to constitute an X-ray radiograph, it can be used for chest X-ray examination and breast cancer examination. Then, unlike a film, the output is instantaneously output to a cathode ray tube (CRT).
(Tube: CRT) or the like, and the output can be converted to digital, processed by a computer for image processing, and converted to an output suitable for the purpose.

【0050】つづいて、図5の動作について説明する。
まず、患者101を蛍光体103の前に立たせた状態
で、撮影スイッチ105をオンする。すると、駆動回路
108にからX線源102を駆動させるために駆動信号
が出力される。X線源102は、駆動信号に基づいて、
X線を照射する。こうして、患者101のレントゲン情
報を光電変換装置104側へ送る。
Next, the operation of FIG. 5 will be described.
First, the photographing switch 105 is turned on with the patient 101 standing in front of the phosphor 103. Then, a drive signal is output from the drive circuit 108 to drive the X-ray source 102. The X-ray source 102, based on the drive signal,
Irradiate X-rays. Thus, the X-ray information of the patient 101 is sent to the photoelectric conversion device 104 side.

【0051】このX線は、蛍光体103で、たとえば可
視光に変換される。可視光は、光電変換装置104に入
射され、画像情報として処理回路107へ出力される。
処理回路107は、たとえば出力された画像情報に所定
の画像処理を施して、ディスプレイ106に表示させ
る。
This X-ray is converted by the phosphor 103 into, for example, visible light. The visible light enters the photoelectric conversion device 104 and is output to the processing circuit 107 as image information.
The processing circuit 107 performs predetermined image processing on the output image information and causes the display 106 to display the processed image information.

【0052】また、処理回路107で画像処理した後の
情報は、光磁気ディスク等に保管することもでき、過去
の画像を瞬時に検索することもできる。また感度もフィ
ルムより良く人体に影響の少ない微弱なX線で鮮明な画
像を得ることもできる。
The information after the image processing by the processing circuit 107 can be stored in a magneto-optical disk or the like, and a past image can be retrieved instantaneously. Also, the sensitivity is better than that of a film, and a clear image can be obtained with weak X-rays having little effect on the human body.

【0053】なお、本実施形態では、光電変換装置を、
X線診断システムへ適用する場合について説明したが、
X線以外のα線、β線、γ線等の放射線を用いた非破壊
検査装置などの放射線撮像システムにも適用することが
できる。また、本実施形態のX線撮像システムでは、蛍
光体を用いてX線を光に変換して、変換光をさらに電気
信号に変換する場合を例に説明したが、X線を直接電気
信号に変換する材料を用いてもよい。
In this embodiment, the photoelectric conversion device is
Although the case of applying to an X-ray diagnostic system has been described,
The present invention can also be applied to a radiation imaging system such as a non-destructive inspection device using radiation other than X-rays such as α-rays, β-rays, and γ-rays. Further, in the X-ray imaging system of the present embodiment, a case has been described in which X-rays are converted to light using a phosphor and the converted light is further converted to an electric signal, but the X-rays are directly converted to electric signals. A material to be converted may be used.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光電変換素子を一定電位にした状態で、スイッチ素子を
オンするため、センサパネルの中央部と端部とのセンサ
特性のばらつきを小さくすることができる。これによ
り、比較的大面積の二次元エリア内での複数の信号出力
を、消費電力を増加させることなくセンサ特性を一様に
することができるので、センサパネルの品質を向上させ
ることが可能である。
As described above, according to the present invention,
Since the switch element is turned on with the photoelectric conversion element kept at a constant potential, variation in sensor characteristics between the center and the end of the sensor panel can be reduced. Accordingly, the sensor characteristics of a plurality of signal outputs in a two-dimensional area having a relatively large area can be made uniform without increasing power consumption, so that the quality of the sensor panel can be improved. is there.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1及び従来の放射線撮像装置
の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a first embodiment of the present invention and a conventional radiation imaging apparatus.

【図2】図1の光電変換装置に備えられている1画素分
の模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of one pixel provided in the photoelectric conversion device of FIG. 1;

【図3】図2の光電変換素子の等価回路である。FIG. 3 is an equivalent circuit of the photoelectric conversion element in FIG.

【図4】本実施形態における図1の動作を示すタイミン
グチャートである。
FIG. 4 is a timing chart showing the operation of FIG. 1 in the present embodiment.

【図5】本発明の実施形態2のX線撮像システムの構成
を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram illustrating a configuration of an X-ray imaging system according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来の動作を示すタイミングチャートである。FIG. 6 is a timing chart showing a conventional operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

S11〜S33 センサ T11〜T33 TFT C11〜C33 コンデンサ SR1、SR2 シフトレジスタ IC 検出用集積回路 S11 to S33 Sensor T11 to T33 TFT C11 to C33 Capacitor SR1, SR2 Shift register IC Detection integrated circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G06T 1/00 430 G06T 1/00 430D 5F049 H01L 27/146 H04N 1/028 A 5F088 27/14 H01L 27/14 A 31/09 D 31/10 31/00 A H04N 1/028 31/10 G Fターム(参考) 2G088 EE01 EE27 FF02 FF14 GG19 GG21 JJ05 JJ31 KK05 KK32 KK35 LL11 LL12 LL15 LL16 LL17 LL18 4M118 AA04 AA06 AB10 BA05 CB06 CB11 DD12 FB09 FB13 FB16 GA10 5B047 AA17 AB02 BA02 BB04 BC01 CA06 CB17 5C024 AX12 CX27 CX35 CY02 CY16 CY47 GX09 HX01 HX35 HX40 JX41 5C051 AA01 BA02 DA06 DB01 DB04 DB08 DC03 DC07 DE02 EA02 FA01 5F049 MA02 NA20 NB03 NB05 RA08 UA14 UA16 WA07 5F088 AA02 AB05 BA20 BB02 BB07 EA07 EA08 GA02 JA17 KA01 LA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G06T 1/00 430 G06T 1/00 430D 5F049 H01L 27/146 H04N 1/028 A 5F088 27/14 H01L 27 / 14 A 31/09 D 31/10 31/00 A H04N 1/028 31/10 GF term (Reference) 2G088 EE01 EE27 FF02 FF14 GG19 GG21 JJ05 JJ31 KK05 KK32 KK35 LL11 LL12 LL15 LL16 LL17 LL18 4M118 AA05 AA06 AB CB11 DD12 FB09 FB13 FB16 GA10 5B047 AA17 AB02 BA02 BB04 BC01 CA06 CB17 5C024 AX12 CX27 CX35 CY02 CY16 CY47 GX09 HX01 HX35 HX40 JX41 5C051 AA01 BA02 DA06 DB01 DB04 DB08 DC03 MA02 NA03 EA02 BA20 BB02 BB07 EA07 EA08 GA02 JA17 KA01 LA07

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光を電気信号に変換する光電変換素子
と、前記光電変換素子によって変換された電気信号の読
み出しを制御するスイッチ素子とを備えた光電変換装置
において、 前記光電変換素子を一定電位にした状態で、前記スイッ
チ素子をオンする制御手段を備えることを特徴とする光
電変換装置。
1. A photoelectric conversion device comprising: a photoelectric conversion element for converting light into an electric signal; and a switch element for controlling reading of the electric signal converted by the photoelectric conversion element, wherein the photoelectric conversion element has a constant potential. A photoelectric conversion device comprising control means for turning on the switch element in the state described above.
【請求項2】 前記制御手段は、前記光電変換素子を一
定電位とすることによって生じるノイズによる影響を受
けないときに前記スイッチ素子をオンすることを特徴と
する請求項1に記載の光電変換装置。
2. The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein said control means turns on said switch element when not affected by noise generated by setting said photoelectric conversion element at a constant potential. .
【請求項3】 前記制御手段は、前記スイッチ素子をオ
ンしてから該スイッチ素子をオフする前に、前記光電変
換素子を一定電位とした状態を解除することを特徴とす
る請求項1又は2に記載の光電変換装置。
3. The control device according to claim 1, wherein the control unit releases the state in which the photoelectric conversion element is kept at a constant potential after turning on the switch element and before turning off the switch element. 3. The photoelectric conversion device according to claim 1.
【請求項4】 前記制御手段は、前記光電変換素子を一
定電位にしてから前記スイッチ素子をオンするまでの期
間と、 前記スイッチ素子をオンしてから前記光電変換素子を一
定電位とした状態を解除するまでの期間と、 前記光電変換素子を一定電位とした状態を解除してから
前記スイッチ素子をオフするまでの期間とを同じとして
いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に
記載の光電変換装置。
4. The control unit sets a period from when the photoelectric conversion element is set at a constant potential to when the switch element is turned on, and when the switch element is turned on and the photoelectric conversion element is set at a constant potential. 4. The method according to claim 1, wherein a period from when the photoelectric conversion element is kept at a constant potential to a time when the switch element is turned off is equal to a period until the switch element is released. 5. Item 6. The photoelectric conversion device according to Item 1.
【請求項5】 前記光電変換素子と前記スイッチ素子と
を形成している基板上には第一の電極層、絶縁層、光電
変換半導体層、第1導電型のキャリアの注入を阻止する
半導体層、及び第二の電極層を積層した前記光電変換素
子と、前記光電変換半導体層に入射した信号光により発
生した第1導電型のキャリアを前記光電変換半導体層に
留まらせ、前記第1導電型と異なる第2導電型のキャリ
アを前記第二の電極層に導く方向に前記光電変換素子に
電界を与える光電変換手段と、前記光電変換素子に電界
を与えて、前記第1導電型のキャリアを前記光電変換半
導体層から前記第二の電極層に導く方向に前記光電変換
素子に電界を与えるリフレッシュ手段と、前記光電変換
手段による光電変換動作中に前記光電変換半導体層に蓄
積された前記第1導電型のキャリアもしくは前記第二の
電極層に導かれた前記第2導電型のキャリアを検出する
為の信号検出部とを備えることを特徴とする請求項1か
ら4のいずれか1項に記載の光電変換装置。
5. A first electrode layer, an insulating layer, a photoelectric conversion semiconductor layer, and a semiconductor layer for preventing injection of carriers of a first conductivity type on a substrate on which the photoelectric conversion element and the switch element are formed. And a photoelectric conversion element in which a second electrode layer is laminated, and a carrier of a first conductivity type generated by signal light incident on the photoelectric conversion semiconductor layer is allowed to remain in the photoelectric conversion semiconductor layer, and the first conductivity type A photoelectric conversion unit that applies an electric field to the photoelectric conversion element in a direction that guides the second conductivity type carrier to the second electrode layer; and applying an electric field to the photoelectric conversion element to convert the first conductivity type carrier. Refresh means for applying an electric field to the photoelectric conversion element in a direction leading from the photoelectric conversion semiconductor layer to the second electrode layer; and the first means stored in the photoelectric conversion semiconductor layer during a photoelectric conversion operation by the photoelectric conversion means. Guidance The signal detection part for detecting an electric type carrier or the said 2nd conductive type | mold carrier led to the said 2nd electrode layer is provided, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Photoelectric conversion device.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1項に記載の
光電変換装置と、 前記光電変換装置からの信号を処理する信号処理手段
と、 前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段
と、 前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段
と、 前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理
手段と、 放射線源から照射された放射線を光に変換して前記光電
変換装置へ入射させるシンチレータとを具備することを
特徴とする放射線撮像システム。
6. A photoelectric conversion device according to claim 1, a signal processing unit for processing a signal from the photoelectric conversion device, and a signal processing unit for recording a signal from the signal processing unit. Recording means, display means for displaying a signal from the signal processing means, transmission processing means for transmitting a signal from the signal processing means, and converting radiation emitted from a radiation source into light A radiation imaging system comprising: a scintillator for causing the photoelectric conversion device to enter the photoelectric conversion device.
【請求項7】 前記シンチレータは、蛍光体であること
を特徴とする請求項6に記載の放射線撮像システム。
7. The radiation imaging system according to claim 6, wherein the scintillator is a phosphor.
【請求項8】 光を電気信号に変換する光電変換素子
と、前記光電変換素子によって変換された電気信号を読
み出す制御を行うスイッチ素子とを備えた光電変換装置
において、 前記光電変換素子を一定電位にした状態で、前記スイッ
チ素子をオンすることを特徴とする光電変換装置の駆動
方法。
8. A photoelectric conversion device comprising: a photoelectric conversion element for converting light into an electric signal; and a switch element for controlling reading of the electric signal converted by the photoelectric conversion element, wherein the photoelectric conversion element has a constant potential. The method for driving a photoelectric conversion device, wherein the switch element is turned on in the state described above.
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