JP2002031800A - Manufacturing method and manufacturing device for liquid crystal display device - Google Patents

Manufacturing method and manufacturing device for liquid crystal display device

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JP2002031800A
JP2002031800A JP2000214790A JP2000214790A JP2002031800A JP 2002031800 A JP2002031800 A JP 2002031800A JP 2000214790 A JP2000214790 A JP 2000214790A JP 2000214790 A JP2000214790 A JP 2000214790A JP 2002031800 A JP2002031800 A JP 2002031800A
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liquid crystal
coating
alignment
crystal display
manufacturing
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JP2000214790A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Kojima
徹 小島
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such problem that, when an alignment layer is formed on an electrode substrate of a liquid crystal display device in a required film thickness, in some alignment material, it is difficult to control the film thickness so that the fluctuation of the film thickness is to be <=5% of target value and display defects due to the fluctuation of the film thickness of the alignment layer are generated. SOLUTION: For the purpose of enhancing the uniformity of the film thickness of the alignment layer 107, the thickness of coated films P1-P5 for every one coating is suppressed to be <=20 nm and the coated films are pre-baked after coating. Recoating is performed by repeating coating and pre-baking plural times to form the alignment layer 107 having the required film thickness. When a polyimide solution is used, a first coated film is formed by applying a polyamic acid type alignment layer and then the polyimide solution for the original alignment layer is applied little by little. Printability of the alignment layer can be enhanced and film thickness uniformity of the alignment layer can also be enhanced by applying the polyamic acid type polyimide solution to form the first layer as a connector of the polyimide film layer used as the alignment layer with the LCD substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
技術に関し、特に液晶配向膜の製造方法及びその製造装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for manufacturing a liquid crystal display, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film and an apparatus for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(以下、LCDと称する)
は対をなす基板間に配置された液晶の液晶分子を配向す
るための配向膜を各基板の表示面に有している。このよ
うなLCDの製造においては、表示面内全体の液晶分子
配向を均一に制御するために、配向膜自体、その膜厚や
分子配向状態が均一になるように形成する必要がある。
従来の量産されるLCDでは、配向膜としてはポリイミ
ドが用いられており、その元となる配向材を印刷機によ
り塗布し、焼成しイミド化することで配向膜を形成して
いる。例えば、「液晶ディスプレイ技術−アクティブマ
トリクスLCD」の270ページから272ページには
現在の代表的な量産での配向膜印刷工程についての記述
がある。この文献に記載の技術では、有機溶剤で希釈
(4〜8wt.%)されたポリイミド、もしくはポリア
ミック酸の溶液が、あらかじめ洗浄済みの基板上に通常
フレキソ印刷装置で塗布している。ここでは、図11に
示すように、配向膜の塗布液は、ディスペンサ801か
ら回転しているドクターロール802とアニロックスロ
ール803の間に滴下供給される。この塗布液は二つの
ロールの間で練られてアニロックスロール803面に液
薄膜となって保持され、アニロックスロール803から
版胴804上のフレキシブルな凸版上のフレキソ版80
5に転移される。そして、塗布テーブル806上に固定
されたガラス基板101が版胴直下を通過するときに、
前記塗布液の薄膜がフレキソ版805からガラス基板1
01に転写塗布される。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices (hereinafter referred to as LCDs).
Have an alignment film for aligning liquid crystal molecules of a liquid crystal disposed between a pair of substrates on a display surface of each substrate. In the manufacture of such an LCD, it is necessary to form the alignment film itself such that its film thickness and molecular alignment state are uniform in order to uniformly control the liquid crystal molecular alignment over the entire display surface.
In conventional mass-produced LCDs, polyimide is used as an alignment film, and an alignment material as a base material is applied by a printing machine, baked, and imidized to form an alignment film. For example, pages 270 to 272 of “Liquid Crystal Display Technology-Active Matrix LCD” describe a process of printing an alignment film in the current typical mass production. In the technique described in this document, a solution of a polyimide or a polyamic acid diluted (4 to 8 wt.%) With an organic solvent is applied to a substrate that has been cleaned in advance, usually using a flexographic printing apparatus. Here, as shown in FIG. 11, the coating liquid for the alignment film is supplied dropwise from a dispenser 801 between a rotating doctor roll 802 and an anilox roll 803. This coating liquid is kneaded between two rolls and held as a liquid thin film on the surface of the anilox roll 803, and the flexible plate 80 on the flexible relief plate on the plate cylinder 804 is transferred from the anilox roll 803.
Transferred to 5. When the glass substrate 101 fixed on the coating table 806 passes directly below the plate cylinder,
The thin film of the coating solution is transferred from the flexographic plate 805 to the glass substrate
01 is transferred and applied.

【0003】このような塗布工程では、塗布膜厚、膜厚
均一性、ピンホール、異物、材料純度などの徹底した管
理が重要であり、この管理レベルが、LCDの表示品位
や信頼性を直接左右することになる。塗布量は焼成後の
最終膜厚が1000 前後になるように設定され、面内
の膜厚均一としては±5%以下が要求される。なお、塗
布量の調整は、フレキソ印刷塗布では塗布液濃度、印刷
速度、アニロックスロールの選択などによって行われ
る。すなわち、均一な配向膜の形成は、配向材の配合を
調整したり、印刷版の材質や表面状態を変えたり、印刷
機の設定を調節したりして、その目的が達せられるよう
に制御されてきたのである。
In such a coating process, it is important to thoroughly control the coating film thickness, film thickness uniformity, pinholes, foreign matter, material purity, and the like, and this management level directly affects the display quality and reliability of the LCD. Will be affected. The coating amount is set so that the final film thickness after baking is about 1000, and the uniformity of the in-plane film thickness is required to be ± 5% or less. In the case of flexographic printing, the adjustment of the coating amount is performed by selecting the coating solution concentration, printing speed, selection of anilox roll, and the like. In other words, the formation of a uniform alignment film is controlled so as to achieve its purpose by adjusting the composition of the alignment material, changing the material and surface condition of the printing plate, and adjusting the settings of the printing press. It has come.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
LCDの性能として高精細、高視野角などが求められる
ようになり、設計マージンが小さくなったり、従来のツ
イストネマチック方式以外にインプレーンスイッチング
方式やヴァーティカルアライメント方式などのモードが
採用されるようになったりすると、以下のような課題が
生じてきた。
However, in recent years,
As LCD performance demands high definition and high viewing angle, the design margin will be reduced, and modes such as in-plane switching and vertical alignment other than the conventional twisted nematic will be adopted. The following issues have arisen.

【0005】第1の問題点は、配向材によっては、配向
膜を形成した際に、膜厚が不均一だったり、配向状態に
面内ばらつきを生じたりした。その理由は、配向材の種
類によっては、印刷条件を変えても、印刷性が悪いもの
があるからである。
[0005] The first problem is that, depending on the alignment material, when an alignment film is formed, the film thickness is not uniform or the alignment state varies in-plane. The reason for this is that, depending on the type of the alignment material, even if the printing conditions are changed, the printability is poor.

【0006】第2の問題点は、塗布後の溶剤乾燥の条件
によっては表面形状が変化し、液晶配向に影響を及ぼす
ことがあった。その理由は、溶剤乾燥での加熱具合によ
って、塗布された配向材から溶剤が抜ける際に表面に痕
跡を残すからである。
[0006] The second problem is that the surface shape changes depending on the conditions of solvent drying after coating, which may affect the liquid crystal alignment. The reason is that traces are left on the surface when the solvent escapes from the applied alignment material due to the heating condition in the solvent drying.

【0007】本発明の目的は、膜厚や配向状態などの特
性の面内均一性の高い配向膜を形成できるLCDの製造
方法および製造装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for manufacturing an LCD capable of forming an alignment film having high in-plane uniformity of characteristics such as film thickness and alignment state.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のLCDの製造方
法は、液晶分子を同一方向に並べる作用を持つ配向膜を
電極基板上に形成する際に、前記配向膜の元となる配向
材を塗布しかつ前記塗布した配向材をプリベイクする工
程を複数回繰り返して前記配向材の重ね塗りを行う工程
と、前記配向膜を所要の厚さに形成した後に本焼成を行
う工程とを含むことを特徴とする。この場合、前記配向
材の1回当たりの塗布による配向材の塗布膜厚が20n
m以下であることを特徴とする。また、前記配向材を溶
剤により薄めた状態で塗布し、塗布後に前記プリベイク
工程において前記溶剤の乾燥を行うことを特徴とする。
According to the method of manufacturing an LCD of the present invention, when an alignment film having an action of arranging liquid crystal molecules in the same direction is formed on an electrode substrate, an alignment material serving as the base of the alignment film is formed. A step of repeating the step of applying and pre-baking the applied alignment material a plurality of times, and a step of performing main firing after forming the alignment film to a required thickness; and Features. In this case, the applied film thickness of the alignment material by one application of the alignment material is 20 n.
m or less. Further, the method is characterized in that the alignment material is applied in a state diluted with a solvent, and after the application, the solvent is dried in the prebaking step.

【0009】また、本発明のLCDの製造方法では、前
記配向材としてポリアミック酸溶液または可溶性ポリイ
ミド溶液またはポリアミック酸と可溶性ポリイミドの混
合溶液を用いる。あるいは、前記配向材の塗布工程にお
いて、1回目の塗布ではポリアミック酸溶液を用い、2
回目以降はポリアミック酸溶液または可溶性ポリイミド
溶液またはポリアミック酸と可溶性ポリイミドの混合溶
液を用いる。
In the method of manufacturing an LCD according to the present invention, a polyamic acid solution or a soluble polyimide solution or a mixed solution of a polyamic acid and a soluble polyimide is used as the alignment material. Alternatively, in the step of applying the alignment material, the first application uses a polyamic acid solution,
After the first time, a polyamic acid solution, a soluble polyimide solution, or a mixed solution of a polyamic acid and a soluble polyimide is used.

【0010】本発明のLCDの製造装置は、配向膜の元
となる配向材を電極基板上に塗布する塗布装置と、前記
塗布した配向材から溶剤を乾燥させるプリベイク装置
と、前記配向膜を所要の厚さに形成した後に本焼成を行
う本焼成装置とを備えており、前記塗布装置及びプリベ
イク装置がそれぞれ複数備えられていることを特徴とす
る。あるいは、配向膜の元となる配向材を電極基板上に
塗布する塗布装置と、前記塗布した配向材から溶剤を乾
燥させるプリベイク装置と、前記配向膜を所要の厚さに
形成した後に本焼成を行う本焼成装置と、前記電極基板
を前記塗布装置及びプリベイク装置において複数回の塗
布とプリベイクを行なわせる手段とを備えることを特徴
とする。
An LCD manufacturing apparatus according to the present invention includes a coating apparatus for applying an alignment material, which is a base of an alignment film, on an electrode substrate, a pre-bake apparatus for drying a solvent from the applied alignment material, and the alignment film. And a main baking apparatus for performing main baking after forming to a thickness of, and a plurality of coating apparatuses and prebaking apparatuses are provided. Alternatively, a coating device for applying an alignment material serving as an alignment film on an electrode substrate, a pre-bake device for drying a solvent from the applied alignment material, and a final baking after forming the alignment film to a required thickness. The present invention is characterized by comprising a main baking apparatus for performing the coating and a means for performing the application and prebake of the electrode substrate a plurality of times in the coating apparatus and the prebake apparatus.

【0011】本発明のLCDの製造技術によれば、配向
膜を形成するための配向材を塗布する際に、1回当たり
の配向材の塗布後の層厚が20nm以下になるようにし
て重ね塗りすることで、1回の塗布では凹凸が生じても
平均化され、かつ、1回当たりの層厚が十分に薄いので
プレベイクにおいて溶剤が抜けやすく配向膜表面に痕跡
を残すことがなくなるので配向状態の変化が生じなくな
る。
According to the LCD manufacturing technology of the present invention, when applying an alignment material for forming an alignment film, the layer thickness is set so that the thickness of the alignment material after one application is 20 nm or less. By coating, even if irregularities occur in a single application, they are averaged out, and since the layer thickness per application is sufficiently thin, the solvent easily escapes during prebaking and no traces are left on the alignment film surface. No change in state occurs.

【0012】また、本発明のLCDの製造技術によれ
ば、配向膜がポリイミド膜の場合、配向材としてポリア
ミック酸タイプと可溶性ポリイミドタイプがあるが、ポ
リアミック酸の方が一般的にはLCD用の基板とは相性
が良く、印刷がしやすく、塗布後の膜厚が均一になりや
すい。そこで、まず、ポリアミック酸を基板に塗布し
て、次にそれぞれのLCDの設計にあったポリイミド溶
液を重ねていくことにより、膜厚などの特性の面内均一
性の高いポリイミド膜からなる配向膜を形成することが
できる。
Further, according to the LCD manufacturing technique of the present invention, when the alignment film is a polyimide film, there are a polyamic acid type and a soluble polyimide type as alignment materials, but polyamic acid is generally used for LCD. It has good compatibility with the substrate, is easy to print, and tends to have a uniform film thickness after application. Therefore, an alignment film consisting of a polyimide film with high in-plane uniformity of properties such as film thickness is first applied by coating polyamic acid on the substrate and then overlaying polyimide solutions for each LCD design. Can be formed.

【0013】なお、特開昭63−30826号公報、あ
るいは特許第2907228号公報には、それぞれ本発
明と同様に、配向膜の塗布工程と、その後の熱処理工程
を複数回行って配向膜を形成する技術が記載されている
が、これら公報に記載の技術における熱処理工程は、い
ずれも本発明における本焼成に相当する工程であり、本
発明のプリベイク工程に対応するものではない。すなわ
ち、前記各公報の技術は、配向材を塗布した後、当該配
向材を熱処理してイミド化した上に、さらに配向材を重
ねて塗布し、かつこれを熱処理してイミド化する技術で
あり、各層ごとに配向膜を形成して積層する技術であ
る。したがって、従来技術で説明した理由に基づけば、
各公報の技術における配向膜の各層の配向膜の平坦化や
面内均一性を高めることは困難であり、結果として積層
された配向膜の全体の平坦化や面内均一性を高めること
も困難になる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 63-30826 and Japanese Patent No. 2907228 each disclose an alignment film forming step by performing a coating step of an alignment layer and a heat treatment step thereafter a plurality of times as in the present invention. However, the heat treatment steps in the techniques described in these publications are all steps corresponding to the main baking in the present invention, and do not correspond to the pre-bake step in the present invention. That is, the technology of each of the above publications is a technology in which, after applying an orientation material, the orientation material is heat-treated and imidized, and then the orientation material is further applied and imidized by heat treatment. This is a technique in which an alignment film is formed for each layer and laminated. Therefore, based on the reasons explained in the prior art,
It is difficult to increase the planarization and in-plane uniformity of the alignment film of each layer of the alignment film in the technology of each publication, and as a result, it is also difficult to enhance the overall planarization and in-plane uniformity of the stacked alignment films. become.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1はLCDの基本構成を示す図で
あり、一対のガラス基板101,102がシール材を兼
ねたスペーサ103により所定の間隔で平行に配置さ
れ、かつ両ガラス基板間に液晶104が充填されてい
る。また、前記両ガラス基板101,102の互いに対
向する内面にはそれぞれ画素(表示素子)を構成するた
めの透明電極105,106が形成され、さらにそれぞ
れ透明電極105,106を覆うように配向膜107,
108が形成されている。さらに、前記両ガラス基板1
01,102の外面には偏光板109,110が取り付
けられている。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of an LCD. A pair of glass substrates 101 and 102 are arranged in parallel at a predetermined interval by a spacer 103 also serving as a sealing material, and a liquid crystal 104 is filled between the two glass substrates. I have. Transparent electrodes 105 and 106 for forming pixels (display elements) are formed on inner surfaces of the glass substrates 101 and 102 facing each other, and an alignment film 107 is formed so as to cover the transparent electrodes 105 and 106, respectively. ,
108 are formed. Further, the two glass substrates 1
Polarizing plates 109 and 110 are attached to the outer surfaces of 01 and 102, respectively.

【0015】図2は前記ガラス基板101,102のう
ち、ガラス基板101の表面に形成された前記配向膜1
07の断面構造と、当該配向膜107を形成する技術を
模式的に示す図である。前記配向膜107は、配向材を
印刷版201により複数回の重ね塗りにより形成してい
る。ここで、前記印刷版201は、図11に示した印刷
装置のフレキソ版に相当するものである。したがって、
配向材は図外のアニロックスロールの表面に面に液薄膜
となって保持され、アニロックスロールから前記印刷版
201の表面に転移される。そして、前記ガラス基板1
01が印刷版201の直下を通過するときに、前記塗布
液の薄膜が印刷版201からガラス基板101の表面に
転写塗布されることになる。ここで、前記配向材の1回
当たりの塗布膜3の厚みが20nm以下になるように、
配向材を溶剤により薄めて固形分濃度を従来より低く
し、アニロックスロールも塗布膜が薄くなるようなもの
に変更している。そして所定の厚さになるまで複数回の
塗布を行って重ね塗りを行い、図2に示すように複数の
塗布膜P1〜P5を積層し、その後、焼成を行って、最
終的に前記配向膜107を形成する。図2は、例えば、
100nm程度の厚さの配向膜107を形成する例であ
り、5回の重ね塗りを実行して前記塗布膜P1〜P5を
形成する。
FIG. 2 shows the alignment film 1 formed on the surface of the glass substrate 101 among the glass substrates 101 and 102.
FIG. 7 is a diagram schematically illustrating a cross-sectional structure of a reference numeral 07 and a technique for forming the alignment film 107. The alignment film 107 is formed by coating the alignment material on the printing plate 201 a plurality of times. Here, the printing plate 201 corresponds to the flexographic plate of the printing apparatus shown in FIG. Therefore,
The alignment material is held as a liquid thin film on the surface of the anilox roll (not shown), and is transferred from the anilox roll to the surface of the printing plate 201. And the glass substrate 1
When 01 passes directly below the printing plate 201, the thin film of the coating liquid is transferred and applied from the printing plate 201 to the surface of the glass substrate 101. Here, the thickness of the coating film 3 per one time of the alignment material is set to 20 nm or less.
The orientation material is diluted with a solvent to lower the solid content concentration than before, and the anilox roll is also changed to one that makes the coating film thinner. Then, a plurality of coatings are performed until a predetermined thickness is reached, and a plurality of coating films P1 to P5 are stacked as shown in FIG. 107 is formed. FIG. 2, for example,
This is an example in which the alignment film 107 having a thickness of about 100 nm is formed, and the coating films P1 to P5 are formed by performing the overcoating five times.

【0016】前記した配向膜107の配向材、すなわち
塗布液として、一般的にLCDに用いられるポリイミド
膜を用いる場合には、前記配向膜107の製造工程は図
3に示すフローチャートの工程となる。まず、前記ガラ
ス基板101の表面にポリアミック酸、または可溶性ポ
リイミド、またはポリアミック酸と可溶性ポリイミドの
両方を溶剤に溶かしたポリイミド溶液等の配向材を塗布
し、20nm以下の膜厚の第1塗布膜P1を形成する
(S101)。次に、前記第1塗布層P1をプリベイク
し、前記第1塗布膜P1に含まれている溶剤を乾燥させ
る(S102)。このプリベイクでは、温度は100℃
前後で、時間は3分程度である。次いで、塗布の回数を
確認し、所定の回数、この場合には5回の塗布を完了し
ているか否かを確認し(S103)、完了していないと
きには、前記ステップS101,S102を繰り返し、
順次第2塗布膜P2、第3塗布膜P3、第4塗布膜P
4、第5塗布膜P5を形成する。そして、前記ステップ
S103において5回の塗布が完了されていることが確
認されると、配向膜を形成するための本焼成を実行する
(S104)。この本焼成では、温度は230〜250
℃で、時間は1〜2時間程度であり、配向膜をイミド化
する。しかる後、図1に示した配向膜107を形成する
ために、前記積層構造の配向膜の表面に対してラビング
を行って配向を発現させ(S105)、その後表面の汚
染を除去する洗浄を行い、かつ乾燥を行なう(S10
6)。
When a polyimide film generally used for LCDs is used as the alignment material of the alignment film 107, that is, a coating liquid, the manufacturing process of the alignment film 107 is as shown in the flowchart of FIG. First, an orientation material such as a polyamic acid or a soluble polyimide, or a polyimide solution in which both a polyamic acid and a soluble polyimide are dissolved in a solvent is applied to the surface of the glass substrate 101, and a first coating film P1 having a thickness of 20 nm or less is applied. Is formed (S101). Next, the first coating layer P1 is pre-baked, and the solvent contained in the first coating film P1 is dried (S102). In this pre-bake, the temperature is 100 ° C
Before and after, the time is about 3 minutes. Next, the number of times of application is checked, and it is checked whether or not a predetermined number of times, in this case, five times, has been completed (S103). If not, the steps S101 and S102 are repeated.
Sequentially a second coating film P2, a third coating film P3, a fourth coating film P
4. A fifth coating film P5 is formed. When it is confirmed in step S103 that the application has been completed five times, the main firing for forming the alignment film is performed (S104). In this main firing, the temperature is 230 to 250.
At ℃, the time is about 1 to 2 hours, and the alignment film is imidized. Thereafter, in order to form the alignment film 107 shown in FIG. 1, rubbing is performed on the surface of the alignment film having the stacked structure to develop the alignment (S105), and then cleaning is performed to remove contamination on the surface. And drying (S10)
6).

【0017】このように、本実施形態では、所定の回
数、すなわち所定の膜厚になるまで配向材(塗布液)の
塗布工程S101とプリベイク工程S102を繰り返
す。そのため、一つの塗布膜当たりの膜厚が薄く、プリ
ベイクにおける乾燥が容易になり、乾燥ムラが生じるこ
となく、塗布膜の平坦性、均一性が損なわれることがな
い。したがって、重ね塗りをしても最終的な膜厚の均一
性は、1度の塗布で所定の膜厚を形成してしまう従来例
よりも向上する。結果として配向膜107の膜厚のばら
つきは、目標とする±5%というばらつきよりも良くな
り、ポリイミド溶剤の種類によっては±3%程度に抑え
られる。また、第1ないし第5の塗布膜P1〜P5の形
成工程では、配向材を塗布した後に、短時間のプリベイ
クを行って溶剤を乾燥させるのみであり、最終的に配向
膜を形成するための本焼成工程S105は配向膜が所定
の膜厚になった時点で行うので、全工程に占めるプリベ
イクの処理時間は短く、製造工程の効率が低下するよう
なこともない。
As described above, in the present embodiment, the application step (S101) of the alignment material (application liquid) and the pre-bake step (S102) are repeated a predetermined number of times, that is, until a predetermined film thickness is reached. Therefore, the thickness per one coating film is small, drying in pre-baking is easy, and drying unevenness does not occur, and the flatness and uniformity of the coating film are not impaired. Therefore, the final film thickness uniformity is improved even in the case of repeated coating as compared with the conventional example in which a predetermined film thickness is formed by one application. As a result, the variation in the thickness of the alignment film 107 is better than the target variation of ± 5%, and can be suppressed to about ± 3% depending on the type of the polyimide solvent. Further, in the process of forming the first to fifth coating films P1 to P5, after applying the alignment material, only a short prebaking is performed to dry the solvent, and finally the formation of the alignment film is performed. Since the main baking step S105 is performed when the orientation film has a predetermined thickness, the prebaking processing time in all the steps is short, and the efficiency of the manufacturing process does not decrease.

【0018】ここで、前記実施形態では、第1ないし第
5の塗布膜P1〜P5を同じポリイミド溶液を塗布して
形成しているが、前記したように配向材としてのポリイ
ミド溶液には、ポリアミック酸タイプ、可溶性ポリイミ
ドタイプ、両者の混合液タイプの3種類がある。これら
の配向材は配向膜に求められる特性に応じて使い分けら
れているが、この3種類のうち、一般的にLCD用基板
と相性が良い、すなわち印刷時にはじいたり、ムラにな
ったりせず、膜厚が均一に塗布できるのはポリアミック
酸タイプである。ポリアミック酸以外のタイプのポリイ
ミド溶液を塗布する場合には、基板との相性も影響して
印刷の均一性が劣化していた。本発明においては、重ね
塗りをすることにより、各塗布層のポリイミド溶液を変
えることが可能なため、図4に示すように、第1塗布膜
P1としてガラス基板101上にポリアミック酸タイプ
の溶液を塗布する。その上で、第2ないし第5の塗布膜
P2〜P5としてポリイミド溶液を塗布する構造とす
る。このように、第1塗布膜P1としてポリアミック酸
タイプのポリイミド溶液を塗布形成することにより、当
該第1塗布膜P1はガラス基板101とその上層のポリ
イミド溶液を塗布形成した第2〜第5塗布膜P2〜P5
とのつなぎ役として機能する。この構造により、ポリア
ミック酸タイプ以外のポリイミド膜を用いる場合におい
ても、膜厚の均一性は良くなり、膜厚のばらつきを±3
%以下にすることも可能になる。
Here, in the above embodiment, the first to fifth coating films P1 to P5 are formed by applying the same polyimide solution. However, as described above, the polyimide solution as the alignment material includes a polyamic acid. There are three types: acid type, soluble polyimide type, and a mixture of both types. These alignment materials are properly used depending on the characteristics required for the alignment film. Of these three types, generally, they are compatible with the LCD substrate, that is, they do not repel or become uneven during printing. The polyamic acid type can be applied with a uniform film thickness. When a polyimide solution of a type other than polyamic acid is applied, the printing uniformity is deteriorated due to the compatibility with the substrate. In the present invention, since the polyimide solution of each coating layer can be changed by recoating, a polyamic acid type solution is formed on the glass substrate 101 as the first coating film P1 as shown in FIG. Apply. Then, a polyimide solution is applied as the second to fifth coating films P2 to P5. As described above, the first coating film P1 is formed by applying a polyamic acid type polyimide solution, whereby the first coating film P1 is formed by coating the glass substrate 101 and the polyimide solution of the upper layer thereon with the second to fifth coating films. P2 to P5
It functions as a link with. With this structure, even when a polyimide film other than the polyamic acid type is used, the uniformity of the film thickness is improved, and the variation in the film thickness is reduced by ± 3.
%.

【0019】ここで、説明は省略したが、第1ないし第
5の塗布膜P1〜P5を全てポリアミック酸タイプのポ
リイミド溶液を塗布して、あるいは、ポリアミック酸タ
イプの溶液と可溶性ポリイミドタイプの溶液の混合液タ
イプの溶液を塗布して形成してもよい。また、図4に示
したように、第1塗布膜P1をポリアミック酸タイプの
溶液を塗布して形成した上に、第2ないし第5の塗布膜
P2〜P5としてポリアミック酸タイプの溶液と可溶性
ポリイミドタイプの溶液の混合液タイプの溶液を塗布し
て形成してもよい。
Here, although not described, the first to fifth coating films P1 to P5 are all coated with a polyamic acid type polyimide solution, or a mixture of a polyamic acid type solution and a soluble polyimide type solution. It may be formed by applying a mixed liquid type solution. As shown in FIG. 4, the first coating film P1 is formed by applying a polyamic acid type solution, and the second to fifth coating films P2 to P5 are formed with a polyamic acid type solution and a soluble polyimide. It may be formed by applying a mixture type solution of the type solution.

【0020】また、前記第1ないし第5の塗布膜P1〜
P5の膜厚を前記実施形態のように20nm以下の膜厚
にすればプリベイク工程での溶剤の乾燥が容易になり、
乾燥ムラを防止し、塗布膜の平坦性、均一性が改善でき
るが、膜厚をさらに薄く、例えば10nm以下にすれば
プリベイク工程での溶剤の乾燥時間をさらに短縮し、乾
燥ムラ、平坦性、均一性が有利になる。しかしながら、
ある程度膜厚が薄くなると、溶剤の乾燥効率は飽和して
くるとともに、塗布膜を薄くすることによって所定の膜
厚の配向膜を形成するための塗布とプリベイクの繰り返
し工程数が増加されるため、製造工程の効率が低下する
ことになる。本発明によれば、塗布膜を20nm程度に
管理することで、従来に比較して溶剤の乾燥効果を高め
る一方で、塗布とプリベイクの繰り返し工程数がいたず
らに増加することが防止でき、製造効率の低下の影響を
極力少なくすることができることが確認されている。
Further, the first to fifth coating films P1 to P1
When the thickness of P5 is set to 20 nm or less as in the above-described embodiment, the solvent can be easily dried in the pre-bake step,
Although drying unevenness can be prevented and the flatness and uniformity of the coating film can be improved, if the film thickness is further reduced, for example, to 10 nm or less, the drying time of the solvent in the pre-bake step is further reduced, and drying unevenness, flatness, Uniformity is advantageous. However,
When the film thickness is reduced to some extent, the drying efficiency of the solvent becomes saturated, and the number of repetition steps of coating and pre-baking for forming an alignment film having a predetermined thickness is increased by thinning the coating film. The efficiency of the manufacturing process will be reduced. According to the present invention, by controlling the thickness of the coating film to about 20 nm, the drying effect of the solvent can be enhanced as compared with the related art, but the number of repeated steps of coating and pre-baking can be prevented from increasing unnecessarily, and the manufacturing efficiency can be improved. It has been confirmed that the effect of the reduction of the amount can be minimized.

【0021】次に、以上説明した前記配向膜を形成する
ための製造装置について説明する。図5は配向膜を塗布
する塗布装置301と、プリベイクを汚行ためのホット
プレート302と、本焼成を行うための熱処理構造の本
焼成装置303とを組み合わせた構成例である。この実
施形態では、印刷装置301とホットプレート302と
が一つの組になっており、この組が5組S1〜S5設け
られてインライン配置されている(同図ではS2,S4
は図示が省略されている)。そして、最後の組S5の後
に本焼成装置303が配置された構成となっている。な
お、前記本焼成装置303の後段にはラビリング装置等
が存在するが、図示は省略している。
Next, a description will be given of a manufacturing apparatus for forming the above-described alignment film. FIG. 5 shows an example of a configuration in which a coating device 301 for coating an alignment film, a hot plate 302 for cleaning pre-baking, and a main firing device 303 having a heat treatment structure for performing main firing. In this embodiment, the printing apparatus 301 and the hot plate 302 constitute one set, and the set is provided in five sets S1 to S5 and arranged inline (S2 and S4 in FIG.
Are not shown). Then, the main firing device 303 is arranged after the last set S5. Note that a rabbling device or the like is provided at a stage subsequent to the main firing device 303, but is not shown.

【0022】前記塗布装置301は、図11に示した従
来の塗布装置とほぼ同様な構成であり、例えば、図6に
示すように、ドクターロール401、アニロックスロー
ル402、印刷版403、印刷ステージ404、ディス
ペンサ405で構成されている。また、前記ホットプレ
ート302は、同図に併せて示すように、配向膜が塗布
されたガラス基板101を載置し、所定の温度、所定の
時間で加熱処理することが可能とされている。そして、
前記塗布装置301では、前記した可溶性ポリイミド溶
液等の塗布液(配向材)をディスペンサ405により回
転しているドクターロール401とアニロックスロール
402の間に滴下供給する。この塗布液は二つのロール
の間で練られてアニロックスロール402面に液薄膜と
なって保持され、アニロックスロール402から印刷版
403に転移される。そして、印刷ステージ404上に
固定されたガラス基板101が前記印刷版403の直下
を通過するときに、前記塗布液の薄膜が印刷版403か
らガラス基板101に転写塗布される。塗布液が塗布さ
れたガラス基板101は、図外のコンベアまたはロボッ
ト等により前記印刷装置301からホットプレート30
2上に移動され、ここで所定の温度、時間にて加熱され
てプリベイクされ、塗布された塗布膜P1(〜P5)の
溶剤を乾燥させる。
The coating device 301 has substantially the same configuration as the conventional coating device shown in FIG. 11, and for example, as shown in FIG. 6, a doctor roll 401, an anilox roll 402, a printing plate 403, and a printing stage 404. , And a dispenser 405. Further, as shown in the figure, the hot plate 302 can place a glass substrate 101 on which an alignment film is applied, and perform heat treatment at a predetermined temperature for a predetermined time. And
In the coating apparatus 301, a coating liquid (alignment material) such as the above-mentioned soluble polyimide solution is supplied dropwise between a doctor roll 401 and an anilox roll 402 which are rotating by a dispenser 405. The coating liquid is kneaded between the two rolls, held as a liquid thin film on the anilox roll 402, and transferred from the anilox roll 402 to the printing plate 403. Then, when the glass substrate 101 fixed on the printing stage 404 passes directly below the printing plate 403, a thin film of the coating liquid is transferred and applied from the printing plate 403 to the glass substrate 101. The glass substrate 101 coated with the coating liquid is transferred from the printing apparatus 301 to the hot plate 30 by a conveyor or a robot (not shown).
2 and is heated at a predetermined temperature and time for prebaking, and the solvent of the applied coating film P1 (〜P5) is dried.

【0023】したがって、第1の組S1の塗布装置30
1及びホットプレート302により、塗布液の塗布及び
プリベイクが行われ、第1塗布膜P1が形成される。そ
の後、次の第2の組S2の塗布装置301及びホットプ
レート302により同様な塗布とプリベイクが行われ、
第2塗布膜P2が形成される。以下、順次同様な塗布と
プリベイクが行われ、第5の組S5の塗布装置301及
びホットプレート302により第5塗布膜P5が形成さ
れる。しかる上で、ガラス基板101は、本焼成装置3
03にまで搬送され、ここで高温、長時間の熱処理によ
る配向膜のイミド化が行われる。なお、その後のラビン
グ装置、洗浄・乾燥装置については、従来の構成と同様
であるので説明は省略する。
Therefore, the coating device 30 of the first set S1
1 and the hot plate 302, the coating liquid is applied and prebaked to form a first coating film P1. After that, the same coating and pre-baking are performed by the coating device 301 and the hot plate 302 of the next second set S2,
A second coating film P2 is formed. Hereinafter, similar coating and prebaking are sequentially performed, and the fifth coating film P5 is formed by the coating apparatus 301 and the hot plate 302 of the fifth set S5. Then, the glass substrate 101 is placed in the main baking apparatus 3.
03, where the alignment film is imidized by heat treatment at a high temperature for a long time. Note that the subsequent rubbing device and cleaning / drying device are the same as those in the conventional configuration, and thus description thereof is omitted.

【0024】図7は本発明の製造装置の他の実施形態を
示す図であり、ここでは、一つの塗布装置301及び一
つのホットプレート302で構成されているが、前記塗
布装置301の前段にローダ304を配置し、前記ホッ
トプレート302の後段にリターン機305を配置し、
さらに前記リターン機305から前記ローダ304にま
でガラス基板101をリターンさせるためのリターン搬
送路306を配置したことが特徴とされている。この製
造装置では、塗布装置301においてガラス基板101
の表面に塗布液を塗布し、ホットプレート302におい
てプリベイクを行って第1塗布膜P1を形成した後、当
該ガラス基板101をリターン機305からリターン搬
送路306を通してローダ304にまで戻し、再度同じ
塗布装置301とホットプレート302により第2塗布
膜P2を形成する。以下、同様にリターンを繰り返しな
がら第5塗布膜P5までの形成を行い、所定の膜厚の配
向膜を形成した上で、本焼成装置303に搬送して本焼
成を実行する。以降の処理は前記したと同様である。
FIG. 7 is a view showing another embodiment of the manufacturing apparatus according to the present invention. In this embodiment, the manufacturing apparatus comprises one coating apparatus 301 and one hot plate 302. A loader 304 is arranged, and a return machine 305 is arranged at a stage subsequent to the hot plate 302,
Further, a return transport path 306 for returning the glass substrate 101 from the return device 305 to the loader 304 is provided. In this manufacturing apparatus, a glass substrate 101 is
After applying a coating solution to the surface of the substrate and performing pre-baking on the hot plate 302 to form the first coating film P1, the glass substrate 101 is returned from the return machine 305 to the loader 304 through the return transport path 306, and again subjected to the same coating. The second coating film P2 is formed by the apparatus 301 and the hot plate 302. Thereafter, the return is repeated in the same manner to form up to the fifth coating film P5, and after forming an alignment film having a predetermined thickness, the film is transferred to the main firing device 303 to perform the main firing. The subsequent processing is the same as described above.

【0025】これらの製造装置において、図5に示した
前者の製造装置は、ガラス基板をインライン上で搬送し
ながら製造しているため、大量生産には向いているが、
塗布回数を変更することが難しいので、その都度、各塗
布装置で膜厚を制御する必要がある。また、図7に示し
た後者の製造装置は、配向膜を形成する際の重ね塗りの
回数が決まらない場合に、リターン回数を制御すること
で配向膜の重ね塗りの回数を自由に設定でき、品種切り
替えなどでの膜厚変更に容易に対応できるが、タクトが
長くなってしまうため、量産向きとは言えない。一長一
短あるので、それぞれの工程にあったものを選択するこ
とになる。
In these manufacturing apparatuses, the former manufacturing apparatus shown in FIG. 5 is suitable for mass production because the glass substrate is manufactured while transferring the glass substrate in-line.
Since it is difficult to change the number of times of application, it is necessary to control the film thickness in each application apparatus each time. In addition, the latter manufacturing apparatus shown in FIG. 7 can freely set the number of times of recoating of the alignment film by controlling the number of times of return when the number of times of recoating when forming the alignment film is not determined, It can easily cope with film thickness change by changing the product type, but it is not suitable for mass production because the tact time becomes long. Since there are advantages and disadvantages, the one that is suitable for each process is selected.

【0026】図8は前記塗布装置301の変形例とし
て、スピンコーターを用いた構成例である。すなわち、
スピンコーターは水平方向に高速回転される回転ステー
ジ501を有しており、前記回転ステージ501上にガ
ラス基板101を支持して高速回転させ、かつガラス基
板101の表面に溶液滴下ノズル502から塗布液を滴
下する構成である。滴下された塗布液は遠心力によって
ガラス基板101の表面上に広がりながら塗布され、塗
布膜が形成されることになる。このスピンコート方式の
塗布装置は均一な膜厚を形成するのに適しているが、基
板全面に塗布されるため、LCD表示面の大きさにパタ
ーニングするためには、あらかじめガラス基板の表面に
マスキングを施しておくことが必要になる。なお、この
マスキングはプリベイク後、本焼成を行う前に除去する
ことになる。
FIG. 8 shows a configuration example using a spin coater as a modified example of the coating apparatus 301. That is,
The spin coater has a rotary stage 501 that rotates at high speed in the horizontal direction. The spin coater supports the glass substrate 101 on the rotary stage 501 and rotates at high speed. Is dropped. The dropped coating liquid is applied while being spread on the surface of the glass substrate 101 by centrifugal force, and a coating film is formed. This spin coating type coating apparatus is suitable for forming a uniform film thickness, but since it is applied to the entire surface of the substrate, it is necessary to mask the surface of the glass substrate before patterning to the size of the LCD display surface. It is necessary to apply This masking is removed after prebaking and before main firing.

【0027】また、図9は前記塗布装置301の異なる
変形例として、噴霧器を用いた構成例である。塗布膜P
1〜P5の厚さが20nmになるように希釈したポリイ
ミド溶液は粘度も小さくなるため、噴霧器での吹き付け
による塗布が可能となる。この構成では、噴霧器601
により塗布液を噴霧するとともに、ガラス基板101に
対して噴霧器601を移動させながらガラス基板101
の全面に塗布する構成となっている。このような噴霧器
601での塗布は、噴霧器601のガラス基板101に
対する移動速度を一定に保つことで均一な膜厚を実現で
きる。また、品種切り替えがノズルの移動パターンのプ
ログラム変更だけで済むので、多品種が流れるライン向
きである。
FIG. 9 shows a configuration example using a sprayer as a different modification of the coating apparatus 301. Coating film P
Since the viscosity of the polyimide solution diluted so that the thickness of 1 to P5 becomes 20 nm becomes small, the application by spraying with a sprayer becomes possible. In this configuration, the nebulizer 601 is used.
And spraying the application liquid on the glass substrate 101 while moving the sprayer 601 with respect to the glass substrate 101.
Is applied to the entire surface of the substrate. Such a coating by the sprayer 601 can realize a uniform film thickness by keeping the moving speed of the sprayer 601 relative to the glass substrate 101 constant. In addition, since the type switching is only required by changing the program of the nozzle movement pattern, the line direction is suitable for a line in which many types are flowing.

【0028】一方、図10はプリベイク装置302とし
て赤外線照射を用いた構成例である。ガラス基板101
はステージ701に載置され、前記ステージ701上に
配設した赤外線ランプ702によって前記ガラス基板1
01に赤外線を照射するように構成されている。赤外線
照射による塗布膜の乾燥では、塗布膜の膜厚が厚い場合
は、赤外線照射では表面から乾燥していくので、内部か
ら溶剤が抜ける際に、表面に痕跡を残し、LCDを組み
上げたときに配向表示ムラを生じることもあったが、配
向膜が20nm以下の薄膜ではその心配がないので、赤
外線照射を用いることが可能になる。
FIG. 10 shows an example of a configuration using infrared irradiation as the pre-bake device 302. Glass substrate 101
Is mounted on a stage 701, and the glass substrate 1 is moved by an infrared lamp 702 disposed on the stage 701.
01 is irradiated with infrared rays. In the drying of the coating film by infrared irradiation, when the thickness of the coating film is large, the infrared irradiation dries from the surface, so when the solvent escapes from the inside, it leaves a trace on the surface, and when the LCD is assembled In some cases, alignment display unevenness occurs. However, since there is no concern about the alignment film having a thickness of 20 nm or less, infrared irradiation can be used.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、配向膜を
形成するための配向材を複数回にわたって塗布及びプリ
ベイクしながら形成し、所定の膜厚に形成された上で本
焼成を行う工程を含んでいるので、特に、1回の塗布膜
の厚さを20nm以下とすることで、溶剤乾燥の際に、
乾燥ムラや溶剤が抜けるときの痕跡がなくなり、形成さ
れる配向膜の膜厚の均一性が向上し、±3%程度または
それ以下のばらつきに抑えることができる。また、電極
基板表面との相性の良いポリアミック酸タイプのポリイ
ミド溶液を第1塗布膜として形成することで、その第1
塗布膜が第2塗布膜以上の上層の配向膜用のポリイミド
膜との結合性を高めることになり、種々のタイプのポリ
イミド溶液でも配向膜の膜厚の均一性を出すことができ
る。
As described above, according to the present invention, an alignment material for forming an alignment film is formed by applying and pre-baking a plurality of times, and is formed into a predetermined film thickness and then subjected to main firing. In particular, by setting the thickness of a single coating film to 20 nm or less, when drying the solvent,
This eliminates drying unevenness and traces when the solvent comes off, improves the uniformity of the thickness of the formed alignment film, and suppresses the variation to about ± 3% or less. Also, by forming a polyamic acid type polyimide solution having good compatibility with the electrode substrate surface as the first coating film, the first coating film is formed.
The coating film enhances the bonding property with the polyimide film for the alignment film, which is the upper layer of the second coating film or more, and the thickness of the alignment film can be made uniform even with various types of polyimide solutions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の対象となるLCDの代表的な構成の概
略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a typical configuration of an LCD to which the present invention is applied.

【図2】本発明の製造方法を説明するための模式的な図
である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の製造方法のフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart of the manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明の他の製造方法を説明するための断面図
である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining another manufacturing method of the present invention.

【図5】本発明の製造装置の第1の実施形態の平面配置
図である。
FIG. 5 is a plan layout view of the first embodiment of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図6】本発明にかかる塗布装置とプリベイク装置の概
略構成を示す図である。
FIG. 6 is a view showing a schematic configuration of a coating apparatus and a pre-bake apparatus according to the present invention.

【図7】本発明の製造装置の第2の実施形態の平面配置
図である。
FIG. 7 is a plan layout view of a second embodiment of the manufacturing apparatus of the present invention.

【図8】塗布装置の変形例の概略斜視図である。FIG. 8 is a schematic perspective view of a modification of the coating apparatus.

【図9】塗布装置の異なる変形例の概略斜視図である。FIG. 9 is a schematic perspective view of another modification of the coating apparatus.

【図10】プリベイク装置の変形例の概略断面図であ
る。
FIG. 10 is a schematic sectional view of a modified example of the prebaking device.

【図11】従来提案されている配向膜フレキソ印刷塗布
装置の印刷部の構成概要図である。
FIG. 11 is a schematic diagram of a configuration of a printing unit of a conventionally proposed alignment film flexographic printing / coating apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,102 ガラス基板 103 スペーサ 104 液晶 105,106 透明電極 107,108 配向膜 109,110 偏光板 201 印刷版 301 塗布装置 302 プリベイク装置 303 本焼成装置 304 ローダ 305 リターン機 306 リターン搬送路 401 ドクターロール 402 アニロックスロール 403 印刷版 404 印刷ステージ 405 ディスペンサ 501 回転ステージ 502 溶液滴下ノズル 601 噴霧器 701 ステージ 702 赤外線ランプ 801 ディスペンサ 802 ドクターロール 803 アニロックスロール 804 版胴 805 フレキソ版 806 テーブル P1〜P5 塗布膜(第1塗布膜〜第5塗布膜) S1〜S5 塗布装置とプリベイク装置の組 101, 102 Glass substrate 103 Spacer 104 Liquid crystal 105, 106 Transparent electrode 107, 108 Alignment film 109, 110 Polarizing plate 201 Printing plate 301 Coating device 302 Prebake device 303 Main baking device 304 Loader 305 Return machine 306 Return transport path 401 Doctor roll 402 Anilox roll 403 Printing plate 404 Printing stage 405 Dispenser 501 Rotating stage 502 Solution dripping nozzle 601 Sprayer 701 Stage 702 Infrared lamp 801 Dispenser 802 Doctor roll 803 Anilox roll 804 Plate cylinder 805 Flexographic plate 806 Table P1 to P5 coating film -Fifth coating film) S1-S5 A combination of a coating device and a pre-bake device

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶表示装置において、液晶分子を同一
方向に並べる作用を持つ配向膜を電極基板上に形成する
際に、前記配向膜の元となる配向材を塗布しかつ前記塗
布した配向材をプリベイクする工程を複数回繰り返して
前記配向材の重ね塗りを行う工程と、前記配向膜を所要
の厚さに形成した後に本焼成を行う工程とを含むことを
特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In a liquid crystal display device, when an alignment film having an action of arranging liquid crystal molecules in the same direction is formed on an electrode substrate, an alignment material that is a source of the alignment film is applied, and the coated alignment material is applied. Manufacturing a liquid crystal display device, comprising a step of repeating the step of pre-baking a plurality of times to repeatedly apply the alignment material, and a step of performing main firing after forming the alignment film to a required thickness. Method.
【請求項2】 前記配向材の1回当たりの塗布による配
向材の塗布膜厚が20nm以下であることを特徴とする
請求項1に記載の液晶表示装置製造方法。
2. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the applied film thickness of the alignment material per application of the alignment material is 20 nm or less.
【請求項3】 前記配向材を溶剤により薄めた状態で塗
布し、塗布後に前記プリベイク工程において前記溶剤の
乾燥を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の液
晶表示装置の製造方法。
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the alignment material is applied in a state diluted with a solvent, and the solvent is dried in the pre-bake step after the application.
【請求項4】 前記配向材の塗布方法は印刷法であるこ
とを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の液
晶表示装置の製造方法。
4. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the method for applying the alignment material is a printing method.
【請求項5】 前記配向材の塗布方法はスピンコート法
であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載の液晶表示装置の製造方法。
5. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the method for applying the alignment material is a spin coating method.
【請求項6】 前記配向材の塗布方法は噴霧器を用いた
噴霧法であることを特徴とする請求項1ないし3のいず
れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
6. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the method for applying the alignment material is a spraying method using a sprayer.
【請求項7】 前記プリベイクはホットプレートを用い
た加熱処理であることを特徴とする請求項1ないし6の
いずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein said prebaking is a heat treatment using a hot plate.
【請求項8】 前記プリベイクは赤外線照射による加熱
処理であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれ
かに記載の液晶表示装置の製造方法。
8. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein said prebaking is a heat treatment by irradiating infrared rays.
【請求項9】 前記配向材としてポリアミック酸溶液ま
たは可溶性ポリイミド溶液またはポリアミック酸と可溶
性ポリイミドの混合溶液を用いることを特徴とする請求
項1ないし8のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方
法。
9. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein a polyamic acid solution, a soluble polyimide solution, or a mixed solution of polyamic acid and soluble polyimide is used as the alignment material.
【請求項10】 前記配向材の塗布工程において、1回
目の塗布ではポリアミック酸溶液を用い、2回目以降は
ポリアミック酸溶液または可溶性ポリイミド溶液または
ポリアミック酸と可溶性ポリイミドの混合溶液を用いる
ことを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の
液晶表示装置の製造方法。
10. In the step of applying the alignment material, a polyamic acid solution is used in a first application, and a polyamic acid solution or a soluble polyimide solution or a mixed solution of a polyamic acid and a soluble polyimide is used in the second and subsequent applications. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 8.
【請求項11】 液晶表示装置の電極基板上に液晶分子
を同一方向に並べる作用を持つ配向膜を形成するための
製造装置であって、前記配向膜の元となる配向材を前記
電極基板上に塗布する塗布装置と、前記塗布した配向材
から溶剤を乾燥させるプリベイク装置と、前記配向膜を
所要の厚さに形成した後に本焼成を行う本焼成装置とを
備え、前記塗布装置及びプリベイク装置がそれぞれ複数
備えられていることを特徴とする液晶表示装置の製造装
置。
11. A manufacturing apparatus for forming an alignment film having an action of arranging liquid crystal molecules in the same direction on an electrode substrate of a liquid crystal display device, wherein an alignment material serving as a base of the alignment film is formed on the electrode substrate. A coating device, a pre-bake device for drying a solvent from the applied alignment material, and a main baking device for performing main baking after forming the alignment film to a required thickness, the coating device and the pre-bake device A plurality of liquid crystal display devices are provided.
【請求項12】 液晶表示装置の電極基板上に液晶分子
を同一方向に並べる作用を持つ配向膜を形成するための
製造装置であって、前記配向膜の元となる配向材を前記
電極基板上に塗布する塗布装置と、前記塗布した配向材
から溶剤を乾燥させるプリベイク装置と、前記配向膜を
所要の厚さに形成した後に本焼成を行う本焼成装置と、
前記電極基板を前記塗布装置及びプリベイク装置におい
て複数回の塗布とプリベイクを行なわせる手段とを備え
ることを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
12. A manufacturing apparatus for forming an alignment film having an action of arranging liquid crystal molecules in the same direction on an electrode substrate of a liquid crystal display device, wherein an alignment material serving as a source of the alignment film is formed on the electrode substrate. A coating device, a pre-bake device for drying a solvent from the applied alignment material, a main firing device for performing main firing after forming the alignment film to a required thickness,
Means for performing a plurality of times of applying and prebaking the electrode substrate in the coating apparatus and the prebaking apparatus.
【請求項13】 前記塗布装置は配向材を前記電極基板
の表面に印刷する印刷装置であることを特徴とする請求
項11又は12に記載の液晶表示装置の製造装置。
13. The apparatus according to claim 11, wherein the coating device is a printing device that prints an alignment material on a surface of the electrode substrate.
【請求項14】 前記塗布装置は前記電極基板を高速回
転する回転テーブルと、前記電極基板の表面上に前記配
向材を滴下する手段とを備えるスピンコーターであるこ
とを特徴とする請求項11又は12に記載の液晶表示装
置の製造方法。
14. The spin coater according to claim 11, wherein the coating device is a spin coater including a rotating table for rotating the electrode substrate at a high speed, and means for dropping the alignment material on a surface of the electrode substrate. 13. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 12.
【請求項15】 前記塗布装置は、前記配向材を噴霧し
て前記電極基板の表面に付着させる噴霧器を用いた装置
であることを特徴とする請求項11又は12に記載の液
晶表示装置の製造装置。
15. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the coating device is a device using a sprayer for spraying the alignment material and attaching the alignment material to the surface of the electrode substrate. apparatus.
【請求項16】 前記プリベイク装置はホットプレート
であることを特徴とする請求項11ないし15のいずれ
かに記載の液晶表示装置の製造装置。
16. The apparatus according to claim 11, wherein the pre-bake device is a hot plate.
【請求項17】 前記プリベイク装置は赤外線照射装置
であることを特徴とする請求項11ないし15のいずれ
かに記載の液晶表示装置の製造装置。
17. The apparatus according to claim 11, wherein the pre-bake device is an infrared irradiation device.
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