JP2002030122A - Epoxy resin modifier, epoxy resin composition, and circuit substrate and ic sealing agent therewith - Google Patents
Epoxy resin modifier, epoxy resin composition, and circuit substrate and ic sealing agent therewithInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂改質
剤及びエポキシ樹脂組成物並びにこれを用いて形成され
る回路基板及びIC封止材に関し、更に詳しくは、溶解
分散性に優れるエポキシ樹脂改質剤及びその硬化物が低
応力化(低弾性率化)、破壊靱性に優れるエポキシ樹脂
組成物、並びにこれを用いて形成される回路基板及びI
C封止材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin modifier and an epoxy resin composition, and a circuit board and an IC encapsulant formed using the same. Epoxy resin composition having low stress (low elastic modulus) and excellent fracture toughness, and a circuit board and I formed using the same
C sealing material.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、エポキシ樹脂の硬化物は優れ
た物理的、化学的特性を有していることが知られてい
る。例えば、耐熱性、耐蝕性、電気特性、耐薬品性に優
れていることから、接着剤、塗料、封止材、シーリング
材、積層板等幅広い分野で使用されている。しかしなが
ら、エポキシ樹脂の硬化物は、これらの優れた特性を有
している反面、脆いという弱点を持っている。この脆さ
を補い、耐衝撃性が強く、可撓性を有する製品を得るこ
とが、エポキシ樹脂工業界において強く要望されてい
る。この問題を解決するため、特公昭55−33732
号公報、特公昭57−30133号公報等に見られるよ
うに、エポキシ樹脂や硬化剤との反応が期待できるカル
ボキシル基等の各種官能基を導入した変性アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体(変性NBR)がエポキシ樹
脂改質剤として利用されている。また、用途によって
は、官能基変性したシリコーンオイルの使用も同様に行
われている。しかし、これら改質剤として使用されるポ
リマーは、全て未架橋のポリマーであるため、硬化剤の
種類や硬化条件により、エポキシ樹脂組成物中に分散さ
せたポリマーの粒子径やその組成物中の分布が変化し、
エポキシ樹脂中のポリマーの分散状態が異なるため、エ
ポキシ樹脂の硬化物の特性が変化してしまうという欠点
がある。更に近年では、多層プリント配線板用層間絶縁
接着剤等では、薄く塗布する場合があり、溶剤を使用す
ることがある。この場合、改質剤も溶剤に分散すること
が要求される。しかしながら、溶剤に分散するポリマー
は、未架橋ポリマーであり、上記理由により硬化物の特
性が変化し、安定した物性を発現しないという問題があ
った。 2. Description of the Related Art It has been known that a cured product of an epoxy resin has excellent physical and chemical properties. For example, since it is excellent in heat resistance, corrosion resistance, electrical characteristics, and chemical resistance, it is used in a wide range of fields such as adhesives, paints, sealing materials, sealing materials, and laminates. However, a cured product of an epoxy resin has these excellent properties, but has a weak point of being brittle. There is a strong demand in the epoxy resin industry to compensate for this brittleness and to obtain a product having high impact resistance and flexibility. To solve this problem, Japanese Patent Publication No. 55-33732.
As disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 57-30133, a modified acrylonitrile-butadiene copolymer (modified NBR) into which various functional groups such as a carboxyl group which can be expected to react with an epoxy resin or a curing agent is introduced. Used as an epoxy resin modifier. In some applications, silicone oil modified with a functional group is also used. However, since the polymers used as these modifiers are all uncrosslinked polymers, depending on the type and curing conditions of the curing agent, the particle size of the polymer dispersed in the epoxy resin composition and the The distribution changes,
Since the dispersion state of the polymer in the epoxy resin is different, there is a disadvantage that the characteristics of the cured product of the epoxy resin change. Further, in recent years, the interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board or the like may be applied thinly, and a solvent may be used. In this case, the modifier must also be dispersed in the solvent. However, the polymer dispersed in the solvent is an uncrosslinked polymer, and the properties of the cured product change for the above-mentioned reason, and there is a problem that stable physical properties are not exhibited.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
背景になされたもので、上記問題点を解決し、溶解分散
性に優れるエポキシ樹脂改質剤及びその硬化物が低応力
化(低弾性率化)、破壊靱性に優れるエポキシ樹脂組成
物、並びにこれを用いて形成される回路基板及びIC封
止材を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and solves the above-mentioned problems. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition excellent in elastic modulus and fracture toughness, and a circuit board and an IC sealing material formed using the same.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、エポキシ
樹脂組成と機械強度との関係について鋭意検討した結
果、本発明を完成するに至った。即ち、請求項1記載の
発明であるエポキシ樹脂改質剤は、ゴム質重合体(a
1)30〜80重量%の存在下に、ビニル系化合物の群
から選ばれる少なくとも一種の単量体化合物(a2)2
0〜70重量%[但し、(a1)+(a2)=100重
量%]をグラフト重合して得られ、下記の特性を有する
グラフト重合体を含有することを特徴とする。特性;上
記グラフト重合体20重量%をメチルエチルケトン80
重量%に添加したときの動的光散乱法による平均粒子径
が50nm以上600nm以下であり、且つその溶液粘
度が500mPa・s以下である。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on the relationship between the epoxy resin composition and the mechanical strength, and have completed the present invention. That is, the epoxy resin modifier according to the first aspect of the present invention comprises a rubbery polymer (a
1) At least one monomer compound (a2) 2 selected from the group of vinyl compounds in the presence of 30 to 80% by weight
It is obtained by graft polymerization of 0 to 70% by weight [where (a1) + (a2) = 100% by weight] and contains a graft polymer having the following properties. Characteristics: 20% by weight of the above graft polymer is methyl ethyl ketone 80
The average particle size determined by the dynamic light scattering method when added to the weight% is 50 nm or more and 600 nm or less, and the solution viscosity is 500 mPa · s or less.
【0005】上記エポキシ樹脂改質剤は、請求項2に示
すように、グラフト重合体と有機溶剤とを含有し、この
グラフト重合体が有機溶剤に分散されているものとする
ことができる。使用可能な有機溶剤としては特に限定さ
れないが、レジスト用溶剤が好ましく用いられ、例え
ば、キシレン、トルエン、ブタノール、酢酸エチル、酢
酸ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、メチルエチルケトン、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチルエトキシプ
ロピオネート、シクロヘキサノン等が挙げられる。これ
らのうち、 N,N−ジメチルホルムアミド、メチルエ
チルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテートが好ましく用いられる。[0005] The epoxy resin modifier contains a graft polymer and an organic solvent, and the graft polymer can be dispersed in the organic solvent. The organic solvent that can be used is not particularly limited, but a resist solvent is preferably used. For example, xylene, toluene, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, N, N-dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl Ether acetate, ethyl ethoxypropionate, cyclohexanone and the like can be mentioned. Of these, N, N-dimethylformamide, methyl ethyl ketone and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferably used.
【0006】本発明のエポキシ樹脂改質剤は、上記グラ
フト重合体のみをエポキシ樹脂改質剤としても、又は上
記グラフト重合体に公知の安定剤、可塑剤、難燃剤、難
燃助剤、酸化防止剤、帯電防止剤等を配合したものをエ
ポキシ樹脂改質剤としてもいずれでもよい。また、固体
状態でも、あるいは上記のように有機溶媒を用いてこれ
らを分散した液体状態でも、いずれの場合でも用いるこ
とが可能である。The epoxy resin modifier of the present invention can be prepared by using the above graft polymer alone as an epoxy resin modifier, or using a known stabilizer, plasticizer, flame retardant, flame retardant auxiliary, or oxidizing agent for the graft polymer. An epoxy resin modifier containing an antistatic agent, an antistatic agent or the like may be used. Further, it can be used either in a solid state or in a liquid state in which these are dispersed using an organic solvent as described above.
【0007】請求項3記載の発明であるエポキシ樹脂組
成物は、(B)エポキシ樹脂100重量部と、請求項1
又は2に記載の(A)エポキシ樹脂改質剤に含まれるグ
ラフト重合体1〜100重量部とを含有することを特徴
とする。The epoxy resin composition according to the third aspect of the present invention comprises: (B) 100 parts by weight of an epoxy resin;
Or (A) 1 to 100 parts by weight of the graft polymer contained in the epoxy resin modifier described in (2).
【0008】上記エポキシ樹脂改質剤に係わるゴム質重
合体(a1)は、ゴム質を示す重合体であれば特に限定
されないが、ポリブタジエン、ポリブタジエンの水素添
加物、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソ
プレン共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、エチレン−プロピレン(非共役ジエン)系共重合
体、エチレン−ブテン−1−(非共役ジエン)共重合
体、イソブチレン−イソプレン共重合体、アクリルゴ
ム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合
体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合
体、SEBS等の水素添加ジエン系(ブロック、ランダ
ム、又はホモ)(共)重合体、ポリウレタンゴム及びシ
リコーンゴム等が挙げられる。上記スチレン−ブタジエ
ン共重合体としては、スチレン−ブタジエンランダム共
重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチ
レン−ブタジエンブロック共重合体の水素添加物等が挙
げられる。これらのうち好ましいゴム質重合体は、ポリ
ブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体である。本発明のゴム質
重合体は、一種単独で使用することも、あるいは二種以
上を組み合わせて使用することもできる。The rubbery polymer (a1) relating to the above-mentioned epoxy resin modifier is not particularly limited as long as it is a polymer showing rubbery properties. Examples thereof include polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, and styrene. -Isoprene copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, ethylene-propylene (non-conjugated diene) copolymer, ethylene-butene-1- (non-conjugated diene) copolymer, isobutylene-isoprene copolymer, acrylic rubber Styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, hydrogenated diene (block, random or homo) (co) polymers such as SEBS, polyurethane rubber and silicone rubber. Can be Examples of the styrene-butadiene copolymer include a styrene-butadiene random copolymer, a styrene-butadiene block copolymer, and a hydrogenated product of a styrene-butadiene block copolymer. Among these, preferred rubbery polymers are polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, and butadiene-acrylonitrile copolymer. The rubbery polymer of the present invention can be used alone or in combination of two or more.
【0009】上記ゴム質重合体の存在下、重合に用いら
れる「ビニル系単量体化合物」としては、(1)スチレ
ン、t−ブチルスチレン、オクチルスチレン、α−メチ
ルスチレン、メチル−α−メチルスチレン、p−メチル
スチレン、エチルスチレン、α−エチルスチレン、ビニ
ルトルエン、ビニルキシレン、ビニルピリジン、ジメチ
ルスチレン、1,1−ジフェニルスチレン、N,N−ジ
エチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル
−p−アミノメチルスチレン、ジビニルベンゼン、モノ
クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレ
ン、モノブロモスチレン、ジブロモスチレン、トリブロ
モスチレン、フルオロスチレン、ビニルナフタレン、ス
チレンスルホン酸ナトリウム等の芳香族ビニル単量体、
(2)アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシア
ン化ビニル単量体、(3)メチルアクリレート、エチル
アクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチル
アクリレート、t−ブチルアクリレート、アミルアクリ
レート、n−ヘキシルアクリレート、n−オクチルアク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデ
シルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルア
クリレート、グリシジルアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イ
ソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレ
ート、アミルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレ
ート、n−オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ド
デシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、
フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、アリルメタクリレート等の(メタ)アクリル酸エス
テル単量体等が挙げられる。これらのうち、好ましい単
量体化合物は、スチレン、ジビニルベンゼン、メチルメ
タクリレートである。これらは、一種単独で使用するこ
とも、あるいは二種以上を混合して用いることもでき
る。The "vinyl monomer compound" used in the polymerization in the presence of the rubbery polymer includes (1) styrene, t-butylstyrene, octylstyrene, α-methylstyrene, methyl-α-methyl Styrene, p-methylstyrene, ethylstyrene, α-ethylstyrene, vinyltoluene, vinylxylene, vinylpyridine, dimethylstyrene, 1,1-diphenylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethylstyrene, N, N- Aromatic vinyl monomers such as diethyl-p-aminomethylstyrene, divinylbenzene, monochlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, monobromostyrene, dibromostyrene, tribromostyrene, fluorostyrene, vinylnaphthalene, and sodium styrenesulfonate;
(2) vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, (3) methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, amyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, glycidyl acrylate, trimethylolpropane triacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, Isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate Relate, t- butyl methacrylate, amyl methacrylate, n- hexyl methacrylate, n- octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate,
Examples include (meth) acrylate monomers such as phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, glycidyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and allyl methacrylate. Among these, preferred monomer compounds are styrene, divinylbenzene and methyl methacrylate. These can be used alone or in combination of two or more.
【0010】上記単量体化合物以外に、更に必要に応じ
て重合可能な単量体化合物、例えば、不飽和酸無水物、
不飽和酸、アミノ基含有不飽和化合物、不飽和ジカルボ
ン酸のイミド化合物等を使用することができる。不飽和
酸無水物としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、
無水シトラコン酸等が挙げられる。不飽和酸としては、
アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。アミノ基含
有不飽和化合物としては、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメ
タクリレート等が挙げられる。不飽和ジカルボン酸のイ
ミド化合物としては、マレイミド、N−メチルマレイミ
ド、N−ブチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、
N−(2−メチルフェニル)マレイミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)マレイミド、N−シクロヘキシルマ
レイミド等が挙げられる。これらは、一種単独で使用す
ることも、あるいは二種以上を混合して用いることもで
きる。In addition to the above monomer compounds, if necessary, polymerizable monomer compounds such as unsaturated acid anhydrides,
Unsaturated acids, unsaturated compounds containing an amino group, imide compounds of unsaturated dicarboxylic acids and the like can be used. As unsaturated acid anhydrides, maleic anhydride, itaconic anhydride,
And citraconic anhydride. As unsaturated acids,
Examples include acrylic acid and methacrylic acid. Examples of the amino group-containing unsaturated compound include dimethylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl acrylate, and diethylaminoethyl methacrylate. As an imide compound of an unsaturated dicarboxylic acid, maleimide, N-methylmaleimide, N-butylmaleimide, N-phenylmaleimide,
N- (2-methylphenyl) maleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
【0011】上記グラフト重合体の製造において、ゴム
質重合体(a1)の存在下、単量体化合物(a2)をグ
ラフト重合する際の仕込み組成は、成分(a1)が30
〜80重量%(より好ましくは40〜75重量%、更に
好ましくは45〜70重量%)、成分(a2)が20〜
70重量%(より好ましくは25〜60重量%、更に好
ましくは30〜55重量%)[但し、(a)+(b)=
100重量%]である。成分(a1)が30重量%未満
であれば、破壊靱性係数が小さくなり、また、80重量
%を越えると、エポキシ樹脂分散時の粘度が高くなり、
取り扱いが難しくなり、いずれも好ましくない。グラフ
ト重合体のグラフト率は、好ましくは25〜200重量
%、更に好ましくは30〜150重量%である。グラフ
ト率の測定方法は、実施例に示す。In the preparation of the above graft polymer, when the monomer compound (a2) is graft-polymerized in the presence of the rubbery polymer (a1), the component (a1) contains 30
To 80% by weight (more preferably 40 to 75% by weight, still more preferably 45 to 70% by weight), and the component (a2) is 20 to 80% by weight.
70% by weight (more preferably 25 to 60% by weight, still more preferably 30 to 55% by weight) [where (a) + (b) =
100% by weight]. When the component (a1) is less than 30% by weight, the fracture toughness coefficient becomes small, and when it exceeds 80% by weight, the viscosity at the time of dispersing the epoxy resin becomes high,
Handling becomes difficult, and both are not preferred. The graft ratio of the graft polymer is preferably 25 to 200% by weight, more preferably 30 to 150% by weight. The method for measuring the graft ratio is described in Examples.
【0012】上記グラフト重合体20重量%をメチルエ
チルケトン80重量%に添加したときの動的光散乱法に
よる平均粒子径は、50nm以上600nm以下であ
り、より好ましくは、50nm以上500nm以下、更
に好ましくは100nm以上500nm以下である。5
0nm未満であれば、エポキシ樹脂組成物の粘度が高く
なり、600nmを越えると、エポキシ樹脂中で凝集が
起こり、諸物性の改良効果が発現しない。When 20% by weight of the above graft polymer is added to 80% by weight of methyl ethyl ketone, the average particle size by dynamic light scattering is 50 nm or more and 600 nm or less, more preferably 50 nm or more and 500 nm or less, and further preferably. 100 nm or more and 500 nm or less. 5
If it is less than 0 nm, the viscosity of the epoxy resin composition increases, and if it exceeds 600 nm, aggregation occurs in the epoxy resin, and the effect of improving various physical properties is not exhibited.
【0013】また、上記グラフト重合体20重量%をメ
チルエチルケトン80重量%に添加したときの溶液粘度
は500mPa・s以下であることが好ましく、500
mPa・sを越えると、エポキシ樹脂への分散性が劣
り、諸物性の改良効果が発現しない。The solution viscosity when adding 20% by weight of the above graft polymer to 80% by weight of methyl ethyl ketone is preferably 500 mPa · s or less.
If it exceeds mPa · s, the dispersibility in the epoxy resin is poor, and the effect of improving various physical properties is not exhibited.
【0014】上記グラフト重合体を得る方法の例として
は乳化重合、懸濁重合、溶液重合、塊状重合が挙げられ
るが、乳化重合、溶液重合が好ましく用いられる。尚、
上記グラフト重合体を製造する際には、ゴム質重合体
(a1)及びビニル系単量体化合物(a2)は、ゴム質
重合体全量の存在下に、ビニル系単量体化合物を一括添
加して重合してもよく、分割もしくは連続添加して重合
してもよい。更に、ゴム質重合体の全量又は一部を重合
途中で添加して重合してもよい。Examples of the method for obtaining the above graft polymer include emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, and bulk polymerization. Emulsion polymerization and solution polymerization are preferably used. still,
In producing the above graft polymer, the rubbery polymer (a1) and the vinyl monomer compound (a2) are added together with the vinyl monomer compound in the presence of the total amount of the rubber polymer. And may be divided or continuously added for polymerization. Further, the whole or a part of the rubbery polymer may be added during the polymerization to carry out the polymerization.
【0015】乳化重合で製造する際には、重合開始剤、
連鎖移動剤(分子量調節剤)、乳化剤、水等が用いられ
る。重合開始剤の例としては、クメンハイドロパーオキ
サイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド、パラメンタンハイドロパーオキサイド等の有機ハイ
ドロパーオキサイド類と、含糖ピロリン酸処方、スルホ
キシレート処方等の還元剤との組み合わせによるレドッ
クス系、あるいは過硫酸カリウム等の過硫酸塩、アゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)、ベンゾイルパーオ
キサイド(BPO)、ラウロイルパーオキサイド、t−
ブチルパーオキシラウレイト、t−ブチルパーオキシモ
ノカーボネート等の過酸化物が挙げられる。上記重合開
始剤は、一括又は連続的に添加することができる。更
に、重合開始剤の使用量は、ビニル系単量体化合物全量
に対して通常0.1〜3.0重量%、好ましくは0.1
〜1.5重量%である。When producing by emulsion polymerization, a polymerization initiator,
Chain transfer agents (molecular weight regulators), emulsifiers, water and the like are used. Examples of the polymerization initiator include a combination of an organic hydroperoxide such as cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, or paramenthane hydroperoxide, and a reducing agent such as a sugar-containing pyrophosphate formulation or a sulfoxylate formulation. Or persulfates such as potassium persulfate, azobisisobutyronitrile (AIBN), benzoyl peroxide (BPO), lauroyl peroxide, t-
Peroxides such as butylperoxylaurate and t-butylperoxymonocarbonate are exemplified. The polymerization initiator can be added all at once or continuously. Further, the amount of the polymerization initiator used is usually 0.1 to 3.0% by weight, preferably 0.1 to 3.0% by weight based on the total amount of the vinyl monomer compound.
~ 1.5% by weight.
【0016】連鎖移動剤の例としては、n−ヘキシルメ
ルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシル
メルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、n−ヘキサ
デシルメルカプタン、n−テトラデシルメルカプタン、
t−テトラデシルメルカプタン等のメルカプタン類、テ
トラエチルチウラムスルフィド、四塩化炭素、臭化エチ
レン、ペンタフェニルエタン等の炭化水素類、テルペン
類、またはアクロレイン、メタクロレイン、アリルアル
コール、2−エチルヘキシルチオグリコール、α−メチ
ルスチレンのダイマー等が挙げられる。これらの連鎖移
動剤は、一種単独で使用することも、あるいは二種以上
を組み合わせて用いることができる。連鎖移動剤の添加
方法としては、一括添加、分割添加、又は連続添加、あ
るいはこれらを組み合わせた方法が挙げられる。連鎖移
動剤の使用量は、ビニル系単量体化合物全量に対して
0.05〜2.0重量%である。Examples of the chain transfer agent include n-hexyl mercaptan, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, n-hexadecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan,
Mercaptans such as t-tetradecyl mercaptan, hydrocarbons such as tetraethylthiuram sulfide, carbon tetrachloride, ethylene bromide, pentaphenylethane, terpenes, or acrolein, methacrolein, allyl alcohol, 2-ethylhexyl thioglycol, α A dimer of methylstyrene. These chain transfer agents can be used alone or in combination of two or more. Examples of the method of adding the chain transfer agent include batch addition, divisional addition, continuous addition, and a combination thereof. The amount of the chain transfer agent used is 0.05 to 2.0% by weight based on the total amount of the vinyl monomer compound.
【0017】乳化重合の場合に使用する乳化剤は、アニ
オン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、及び両性界
面活性剤等が使用できる。このうち、アニオン性界面活
性剤としては、例えば、高級アルコールの硫酸エステ
ル、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキ
ルベンゼンスルホン酸塩、ラウリル硫酸ナトリウム等の
脂肪族スルホン酸塩、高級脂肪族カルボン酸塩、リン酸
塩等が挙げられる。ノニオン性界面活性剤としては、通
常のポリエチレングリコールのアルキルエステル型、ア
ルキルエーテル型、アルキルフェニルエーテル型等が用
いられる。更に両性界面活性剤としては、アニオン部分
としてカルボン酸塩、硫酸エステル塩、スルホン酸塩、
リン酸エステル塩を、カチオン部分としてアミン塩、第
4級アンモニウム塩等を有するものが挙げられる。これ
らの乳化剤は、一種単独で使用することも、あるいは二
種以上を混合して用いることもできる。乳化剤の添加方
法としては、一括添加、分割添加、又は連続添加、ある
いはこれらを組み合わせた方法が挙げられる。尚、乳化
剤の使用量は、ビニル系単量体化合物全量に対して0.
3〜5.0重量%程度である。上記乳化重合に際して、
好ましい重合温度は10〜95℃であり、より好ましく
は30〜95℃である。As the emulsifier used in the case of emulsion polymerization, anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants and the like can be used. Among them, examples of the anionic surfactant include sulfates of higher alcohols, alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate, aliphatic sulfonates such as sodium lauryl sulfate, higher aliphatic carboxylate, phosphorus Acid salts and the like. As the nonionic surfactant, an alkyl ester type, an alkyl ether type, an alkyl phenyl ether type or the like of ordinary polyethylene glycol is used. Further, as the amphoteric surfactant, a carboxylate, a sulfate, a sulfonate,
Examples of the phosphate ester salt include those having an amine salt, a quaternary ammonium salt, or the like as a cation moiety. These emulsifiers can be used alone or in a combination of two or more. Examples of the method for adding the emulsifier include batch addition, divisional addition, continuous addition, and a combination thereof. The amount of the emulsifier used is 0.1 to the total amount of the vinyl monomer compound.
It is about 3 to 5.0% by weight. In the above emulsion polymerization,
The preferred polymerization temperature is from 10 to 95 ° C, more preferably from 30 to 95 ° C.
【0018】上記グラフト重合体を乳化重合により製造
する場合、通常、凝固剤により凝固して得られた粉末を
水洗後、乾燥し、粉体とすることによって精製される。
この凝固剤としては、硫酸、酢酸、塩酸等の酸や、硫酸
マグネシウム、硫酸アルミニウム、塩化カルシウム、塩
化マグネシウム、塩化ナトリウム等の無機塩を使用する
ことができるが、硫酸、硫酸マグネシウム、塩化カルシ
ウムが好ましく用いられる。また、凝固せずに、スプレ
ードライヤーによる噴霧乾燥を行ってもよい。更に噴霧
凝固方法であるアトマイザー凝固を行ってもよい。When the above graft polymer is produced by emulsion polymerization, usually, the powder obtained by coagulation with a coagulant is washed with water, dried and purified to obtain a powder.
Examples of the coagulant include acids such as sulfuric acid, acetic acid, and hydrochloric acid, and inorganic salts such as magnesium sulfate, aluminum sulfate, calcium chloride, magnesium chloride, and sodium chloride. It is preferably used. In addition, spray drying with a spray dryer may be performed without coagulation. Further, atomizer coagulation, which is a spray coagulation method, may be performed.
【0019】本発明のエポキシ樹脂組成物において、エ
ポキシ樹脂改質剤の配合量は、エポキシ樹脂100重量
部に対して、固形分換算で1〜100重量部であり、好
ましくは、1〜80重量部、更に好ましくは、1〜50
重量部である。1重量部未満では、エポキシ樹脂の低応
力化の改良効果が発現せず、100重量部を越えると、
エポキシ樹脂分散時の粘度が高くなり、いずれも好まし
くない。In the epoxy resin composition of the present invention, the compounding amount of the epoxy resin modifier is 1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, in terms of solid content based on 100 parts by weight of the epoxy resin. Parts, more preferably 1 to 50
Parts by weight. If the amount is less than 1 part by weight, the effect of improving the low stress of the epoxy resin is not exhibited, and if it exceeds 100 parts by weight,
The viscosity at the time of dispersing the epoxy resin becomes high, which is not preferable.
【0020】本発明のエポキシ樹脂組成物として配合す
る上記「(B)エポキシ樹脂」としては、ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族型エポキシ樹
脂、長鎖脂肪族型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型
エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、イソ
シアネート系エポキシ樹脂、ダイマー酸変性エポキシ樹
脂、NBR変性エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹
脂等が挙げられる。また、硬化物を得る場合には、使用
目的により硬化剤と硬化促進剤を適用することができ
る。The "(B) epoxy resin" to be blended as the epoxy resin composition of the present invention includes bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cyclic fat Group-type epoxy resins, long-chain aliphatic type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, glycidylamine type epoxy resins, isocyanate type epoxy resins, dimer acid modified epoxy resins, NBR modified epoxy resins, urethane modified epoxy resins and the like. When a cured product is obtained, a curing agent and a curing accelerator can be applied depending on the purpose of use.
【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて、公知の安定剤、可塑剤、難燃剤、難燃助剤、酸
化防止剤、軟化剤、無機又は有機の各種充填剤、補強
剤、架橋剤、帯電防止剤、着色剤、カップリング剤、粘
度調整剤、耐候剤、滑剤、シリコーンオイル等の添加剤
を配合することができる。The epoxy resin composition of the present invention may contain, if necessary, known stabilizers, plasticizers, flame retardants, flame retardant auxiliaries, antioxidants, softeners, various inorganic or organic fillers, reinforcing materials. An additive such as an agent, a cross-linking agent, an antistatic agent, a coloring agent, a coupling agent, a viscosity modifier, a weathering agent, a lubricant, and silicone oil can be blended.
【0022】上記エポキシ樹脂組成物の硬化物を得る場
合、硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチ
レンテトラミン、イソホロンジアミン、エチレンジアミ
ン、m−フェニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミ
ン、ピペリジン、N,N′−ジメチルピペラジン、1,
4−ジアザジシクロ(2,2,2)オクタン、ピリジ
ン、ピコリン、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチ
ルアミノメチル)フェノール、DBU(1,8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン)、ジメチル
ベンジルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジメ
チルヘキシルアミン、ジメチルアミノメチルフェノー
ル、ジメチルアミノp−クレゾール、テトラエチレンペ
ンタミン、N−アミノエチルピペラジン、トリスジメチ
ルアミノメチルフェノール、ジシアンジアミド、4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、2−n−ヘプタデ
シルイミダゾール、メラミン、無水フタル酸、無水トリ
メリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノン
テトラカルボン酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水
フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメ
チレンテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハ
ク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンディッ
ク酸、トリフッ化ホウ素−モノエチルアミン等が挙げら
れる。これらは、一種単独で使用することも、あるいは
二種以上を混合して用いることもできる。When a cured product of the above epoxy resin composition is obtained, the curing agent may be diethylenetriamine, triethylenetetramine, isophoronediamine, ethylenediamine, m-phenylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, tetraethylenepentamine, piperidine, N , N'-dimethylpiperazine, 1,
4-diazadicyclo (2,2,2) octane, pyridine, picoline, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), dimethyl Benzylamine, dimethylcyclohexylamine, dimethylhexylamine, dimethylaminomethylphenol, dimethylamino p-cresol, tetraethylenepentamine, N-aminoethylpiperazine, trisdimethylaminomethylphenol, dicyandiamide, 4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 2-n-heptadecyl imidazole, melamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride Acid, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, dodecenylsuccinic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, boron trifluoride-monoethylamine and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
【0023】硬化剤の使用量は、目的に応じて異なり、
エポキシ樹脂100重量部に対して1〜200重量部、
好ましくは1〜180重量部の範囲で使用される。ま
た、硬化促進剤としては第3級アミンが一般的であり、
その他には、2−エチル−4−メチルイミダゾール、D
BU、第4級ホスホニウム塩、アミンイミド類、トリフ
ェニルホスフィン等が挙げられる。硬化促進剤の使用量
はエポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜20重量
部、好ましくは0.1〜10重量部の範囲で使用され
る。The amount of the curing agent used depends on the purpose.
1 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin,
Preferably, it is used in the range of 1 to 180 parts by weight. In addition, a tertiary amine is generally used as a curing accelerator,
Others include 2-ethyl-4-methylimidazole, D
BU, quaternary phosphonium salts, amine imides, triphenylphosphine and the like. The curing accelerator is used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
【0024】本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化させる
方法としては、下記に示す方法〜等が挙げられ、用
途に応じて適宜選択が可能である。また、硬化温度は、
常温〜200℃まで幅広く、使用する硬化剤の種類によ
って大きく異なる。 (B)エポキシ樹脂に直接(A)エポキシ樹脂改質剤
を添加し、溶解分散させた後、硬化剤、硬化促進剤、他
の添加剤を添加し、所定の温度で硬化させる方法。 (A)エポキシ樹脂改質剤を有機溶剤〔キシレン、ト
ルエン、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、セルソ
ルブ系(メチル、エチルまたはブチルのモノあるいはジ
エーテル)、N,N−ジメチルホルムアミド、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチルエトキシ
プロピオネート、シクロヘキサノン、その他レジスト用
溶剤〕に溶解分散させた後、(A)エポキシ樹脂に添加
し、溶剤を留去し、硬化剤、硬化促進剤、その他の添加
剤を添加し、所定の温度で加熱し硬化させる方法。 前記の方法で、溶剤を留去せず、そのまま硬化させ
る方法。The method for curing the epoxy resin composition of the present invention includes the following methods and the like, which can be appropriately selected according to the application. The curing temperature is
The temperature ranges widely from room temperature to 200 ° C., and varies greatly depending on the type of curing agent used. (B) A method in which (A) an epoxy resin modifier is directly added to an epoxy resin, dissolved and dispersed, and then a curing agent, a curing accelerator, and other additives are added, followed by curing at a predetermined temperature. (A) Epoxy resin modifier is converted into an organic solvent [xylene, toluene, butanol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve (methyl, ethyl or butyl mono or diether), N, N-dimethylformamide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone , Propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl ethoxypropionate, cyclohexanone, and other solvents for resists], and then added to (A) the epoxy resin, and the solvent was distilled off to obtain a curing agent, a curing accelerator, and the like. A method of adding an additive and heating at a predetermined temperature to cure. In the above method, the solvent is cured without removing the solvent.
【0025】上記(B)エポキシ樹脂、(A)エポキシ
樹脂改質剤及び硬化剤その他の混合方法は、通常の加工
機、例えば、ディスパー、ニーダー、プラネタリーミキ
サー、パドリミキサー、インターミキサー、ホモミキサ
ー、バンバリーミキサー、各種押出機等を用いて行うこ
とができる。本発明のエポキシ樹脂組成物は、圧縮成
形、積層成形、トランスファー成形、注型成形、プレス
成形等の成形方法によって、成形することができる。The above (B) epoxy resin, (A) epoxy resin modifier and curing agent and other methods of mixing may be performed by a conventional processing machine such as a disper, kneader, planetary mixer, paddle mixer, intermixer, homomixer. , A Banbury mixer, various extruders and the like. The epoxy resin composition of the present invention can be molded by a molding method such as compression molding, lamination molding, transfer molding, cast molding, and press molding.
【0026】請求項4記載の発明である回路基板は上記
エポキシ樹脂組成物を用いて形成された絶縁層又は絶縁
部を備えることを特徴とする。また、請求項5記載の発
明であるIC封止材は上記エポキシ樹脂組成物を用いて
形成された封止層又は封止部を備えることを特徴とす
る。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a circuit board including an insulating layer or an insulating portion formed by using the epoxy resin composition. An IC sealing material according to a fifth aspect of the present invention includes a sealing layer or a sealing portion formed by using the epoxy resin composition.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下に、実施例を挙げて本発明を
更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。尚、実施例及び比較例におい
て、部及び%は特に断らない限り重量基準である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In Examples and Comparative Examples, parts and percentages are by weight unless otherwise specified.
【0028】1.評価方法 本実施例において用いられる評価方法は以下の通りであ
る。 (1)エポキシ樹脂改質剤の平均粒子径の測定 平均粒子径は、光散乱法で測定した。測定は、(A)エ
ポキシ樹脂改質剤としてのグラフト重合体20重量%を
メチルエチルケトン80重量%に添加した後、10分間
振とうし、大塚電子(株)製、レーザー粒径解析システ
ムLPA−3100型により行い、70回積算でキュム
ラント法を用いて測定した。1. Evaluation method The evaluation method used in this example is as follows. (1) Measurement of average particle diameter of epoxy resin modifier The average particle diameter was measured by a light scattering method. The measurement was carried out by adding (A) 20% by weight of a graft polymer as an epoxy resin modifier to 80% by weight of methyl ethyl ketone, followed by shaking for 10 minutes, and a laser particle size analysis system LPA-3100 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The measurement was performed using a cumulant method in a total of 70 times.
【0029】(2)粘度 (A)エポキシ樹脂改質剤としてのグラフト重合体20
重量%をメチルエチルケトン80重量%に添加し、溶液
状態でBM型粘度計を用いて測定した。測定温度は、2
5℃で行った。 (B)エポキシ樹脂100重量部に(A)エポキシ樹脂
改質剤18重量部を分散させたエポキシ樹脂組成物の粘
度は、TOKIMECINIC(株)製のBH型粘度計
を用いて測定した。測定温度は、25℃で行った。(2) Viscosity (A) Graft polymer 20 as epoxy resin modifier
% By weight was added to 80% by weight of methyl ethyl ketone, and the solution was measured using a BM type viscometer. The measurement temperature is 2
Performed at 5 ° C. The viscosity of the epoxy resin composition in which 18 parts by weight of the epoxy resin modifier (A) was dispersed in 100 parts by weight of the epoxy resin (B) was measured using a BH type viscometer manufactured by TOKIMECINIC CO., LTD. The measurement was performed at 25 ° C.
【0030】(3)グラフト率 100mlのマイヤーフラスコにグラフト重合体の一定
量(W1)(約1.0g)秤量し入れる。これにアセト
ン20mlを入れ、振とう機で2時間振とうし、遊離の
重合体を溶解させ、遠心分離器を用いて23,000r
pmで1時間遠心分離し、不溶分と可溶分とを分離し、
不溶分を真空乾燥機を用いて120℃で2時間乾燥し、
乾燥後の可溶分(W2)と不溶分(W3)の重量を測定
し、下記式よりグラフト率を算出した。 可溶分率(%)=(W2/W1)×100 不溶分率(%)=(W3/W1)×100 不溶分含有率(%)=[不溶分率/(可溶分率+不溶分
率)]×100 グラフト重合体におけるモノマーの転化率(%)=C ゴム質重合体含有率(重合仕込み値)(%) =R 転化率換算したグラフト重合体中のゴム質重合体含有率
(%)={R/[R+(100−R)×C/100]}
×100 グラフト率(%)=〔(不溶分含有率−換算ゴム質重合
体含有率)/換算ゴム質重合体含有率〕×100(3) Graft ratio A certain amount (W1) (about 1.0 g) of the graft polymer is weighed and placed in a 100 ml Meyer flask. 20 ml of acetone was added thereto, and the mixture was shaken with a shaker for 2 hours to dissolve the free polymer, and then centrifuged at 23,000 rpm.
centrifugation at pm for 1 hour to separate insoluble and soluble components,
The insolubles were dried at 120 ° C. for 2 hours using a vacuum dryer,
The weight of the soluble matter (W2) and the insoluble matter (W3) after drying was measured, and the graft ratio was calculated from the following equation. Soluble fraction (%) = (W2 / W1) × 100 Insoluble fraction (%) = (W3 / W1) × 100 Insoluble content (%) = [insoluble fraction / (soluble fraction + insoluble fraction) Rate)] × 100 Conversion rate of monomer in graft polymer (%) = C Rubbery polymer content (polymerization charge value) (%) = R Rubbery polymer content in graft polymer in terms of conversion rate ( %) = {R / [R + (100−R) × C / 100]}
× 100 Graft rate (%) = [(insoluble matter content−converted rubber polymer content) / converted rubber polymer content] × 100
【0031】(4)溶解分散性 (B)エポキシ樹脂に(A)エポキシ樹脂改質剤を溶解
分散させたエポキシ樹脂組成物の状態を以下の基準で目
視判断した。 ◎:完全に溶解分散している。 ○:一部不溶解部(ブツ)あり。 ×:半分以上不溶解部(ブツ)あり。(4) Dissolution and dispersibility The state of the epoxy resin composition obtained by dissolving and dispersing the (A) epoxy resin modifier in the (B) epoxy resin was visually judged according to the following criteria. A: Completely dissolved and dispersed. :: Some undissolved parts (bubbles) are present. X: Half or more insoluble parts (bubbles) are present.
【0032】(5)エポキシ樹脂組成物の硬化物の物性
評価 曲げ強度:JIS K6911に準じて測定した。 曲げ弾性率:JIS K6911に準じて測定した。 破壊靱性係数:JIS K6911に準じて測定した。(5) Evaluation of physical properties of cured epoxy resin composition Flexural strength: Measured according to JIS K6911. Flexural modulus: Measured according to JIS K6911. Fracture toughness coefficient: Measured according to JIS K6911.
【0033】2.ゴム質重合体の調製 ゴム質重合体として、1,3−ブタジエンの乳化重合に
よりポリブタジエンラテックスを得た。2. Preparation of rubbery polymer As a rubbery polymer, a polybutadiene latex was obtained by emulsion polymerization of 1,3-butadiene.
【0034】3.エポキシ樹脂改質剤の調製 滴下ビン、コンデンサ、窒素導入口及び攪拌機を備えた
セパラブルフラスコに、上記のゴム質重合体を固形分換
算で50部、乳化剤としてロジン酸カリウム0.1部、
及び水100部を混合し、続いてジビニルベンゼン5部
を添加した。65℃まで昇温し、65℃になった時点
で、ピロリン酸ナトリウム0.2部、ブドウ糖0.25
部、硫酸第1鉄0.01部を添加し、引き続いて、クメ
ンハイドロパーオキサイド0.2部を添加し、1時間反
応させた。その後、メチルメタクリレート35部、スチ
レン10部、水20部、ロジン酸カリウム1部を4時間
かけて滴下し、更に1時間反応させた。重合転化率は9
7.5%であった。得られた重合体を硫酸で凝固させ、
この凝固物をよく水洗した後、乾燥させ、粉末状のグラ
フト重合体を得て、これをエポキシ樹脂改質剤(A−
1)とした(表1参照)。同様に、ゴム質重合体の配合
量、連鎖移動剤の使用量、配合比率、重合温度、重合時
間等を変えて、グラフト重合体を得て、上記のようにし
てこれらをエポキシ樹脂改質剤(A−2)〜(A−6)
とした(表1)。3. Preparation of Epoxy Resin Modifier In a separable flask equipped with a dropping bottle, a condenser, a nitrogen inlet and a stirrer, 50 parts of the above rubbery polymer in terms of solid content, 0.1 part of potassium rosinate as an emulsifier,
And 100 parts of water were mixed, followed by addition of 5 parts of divinylbenzene. The temperature was raised to 65 ° C., and when the temperature reached 65 ° C., 0.2 parts of sodium pyrophosphate and 0.25 g of glucose were added.
Part, ferrous sulfate (0.01 part) was added, and subsequently, cumene hydroperoxide (0.2 part) was added and reacted for 1 hour. Thereafter, 35 parts of methyl methacrylate, 10 parts of styrene, 20 parts of water, and 1 part of potassium rosinate were added dropwise over 4 hours, and the mixture was further reacted for 1 hour. The polymerization conversion is 9
7.5%. The obtained polymer is coagulated with sulfuric acid,
The coagulated product was thoroughly washed with water and dried to obtain a powdery graft polymer, which was then modified with an epoxy resin modifier (A-
1) (see Table 1). Similarly, by changing the compounding amount of the rubbery polymer, the amount of the chain transfer agent used, the compounding ratio, the polymerization temperature, the polymerization time, and the like, a graft polymer is obtained, and these are used as the epoxy resin modifier as described above. (A-2) to (A-6)
(Table 1).
【0035】[0035]
【表1】 [Table 1]
【0036】4.実施例1〜4、比較例1〜9 (1)方法(実施例1〜2、比較例1〜7) 表2、3に示す配合処方で、下記の(B)エポキシ樹脂
100重量部をホモミキサーで回転数500rpmで攪
拌し、(A)エポキシ樹脂改質剤であるグラフト重合体
を徐々に添加した。その後、回転数6,000rpmま
で上げてから2時間攪拌した。減圧にて脱泡後、室温に
て下記の硬化剤80重量部と硬化促進剤1重量部を添
加、攪拌し、実施例1〜2及び比較例1〜7に係わるエ
ポキシ樹脂組成物を得た。この樹脂組成物において、粘
度測定及び目視による溶解分散性評価を行った。次に、
これを型に流し込み、90℃/2時間、120℃/1時
間の条件で加熱硬化させ、エポキシ樹脂組成物の硬化物
を得た後、各種評価を行った。表2、3に、これらの評
価結果を示す。 (2)方法(実施例3〜4、比較例8〜9) メチルエチルケトンを攪拌機で回転数100rpmで攪
拌しながら、固形分として20重量%となるように
(A)エポキシ樹脂改質剤を添加し、これに表2、3に
示す配合処方となるよう、下記の(B)エポキシ樹脂を
添加する。その後、減圧下でメチルエチルケトンを留
去、及び脱泡し、実施例3〜4及び比較例8〜9に係わ
るエポキシ樹脂組成物を得た。この樹脂組成物におい
て、粘度測定及び目視による溶解分散性評価を行った。
次に、これを型に流し込み、90℃/2時間、120℃
/1時間の条件で加熱硬化させ、エポキシ樹脂組成物の
硬化物を得た後、各種評価を行った。表2、3に、これ
らの評価結果を示す。 (ア)エポキシ樹脂;エピコート828〔油化シェルエ
ポキシ社製〕、粘度12〜15Pa・s、エポキシ当量
184〜194 (イ)硬化剤;アデカハードナーH3326〔旭電化社
製〕 (ウ)硬化促進剤;アンカミンK−54〔エイ・シー・
アイ・ジャパン社製〕4. Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 9 (1) Method (Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 7) 100 parts by weight of the following (B) epoxy resin was homogenized according to the formulation shown in Tables 2 and 3. The mixture was stirred at a rotational speed of 500 rpm with a mixer, and (A) a graft polymer as an epoxy resin modifier was gradually added. Thereafter, the rotation speed was increased to 6,000 rpm, and the mixture was stirred for 2 hours. After defoaming under reduced pressure, 80 parts by weight of the following curing agent and 1 part by weight of a curing accelerator were added and stirred at room temperature to obtain epoxy resin compositions according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 7. . This resin composition was measured for viscosity and visually evaluated for dissolution and dispersibility. next,
This was poured into a mold and heat-cured under the conditions of 90 ° C./2 hours and 120 ° C./1 hour to obtain a cured product of the epoxy resin composition, which was then subjected to various evaluations. Tables 2 and 3 show the evaluation results. (2) Method (Examples 3 and 4, Comparative Examples 8 and 9) While stirring methyl ethyl ketone with a stirrer at a rotation speed of 100 rpm, (A) an epoxy resin modifier was added so as to have a solid content of 20% by weight. Then, the following (B) epoxy resin is added so that the compounding recipe shown in Tables 2 and 3 is obtained. Thereafter, methyl ethyl ketone was distilled off and defoamed under reduced pressure to obtain epoxy resin compositions according to Examples 3 to 4 and Comparative Examples 8 to 9. This resin composition was measured for viscosity and visually evaluated for dissolution and dispersibility.
Next, this is poured into a mold, and 90 ° C./2 hours, 120 ° C.
After heating and curing under the condition of / 1 hour to obtain a cured product of the epoxy resin composition, various evaluations were performed. Tables 2 and 3 show the evaluation results. (A) Epoxy resin; Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy), viscosity: 12 to 15 Pa · s, epoxy equivalent: 184 to 194 (A) Curing agent: ADEKA HARDNER H3326 (manufactured by Asahi Denka Co.) (C) Curing accelerator Ankamin K-54 [AC
(I Japan)
【0037】[0037]
【表2】 [Table 2]
【0038】[0038]
【表3】 [Table 3]
【0039】表3の結果より、比較例1では、成分
(A)及び(B)の配合において、成分(A)の配合量
が1重量部未満であるため、低応力化、破壊靱性係数の
改良効果は発現しない。比較例2では、成分(A)の配
合量が100重量部を越えるため、エポキシ樹脂分散時
の粘度が高くなり、諸物性が低下した。比較例3では、
ゴム質重合体の量が30重量部未満であるため(表
1)、破壊靱性係数が低下した。比較例4では、ゴム質
重合体の量が80重量部を越えるため、エポキシ樹脂中
で凝集が起こり、諸物性の改良効果が発現しない。比較
例5では、メチルエチルケトン中での成分(A)の平均
粒子径が50nm未満であるため、エポキシ樹脂組成物
の粘度が大幅に上がった。比較例6では、メチルエチル
ケトン中での成分(A)の平均粒子径が600nmを越
えるため、エポキシ樹脂中での成分(A)の凝集が起こ
り、諸物性の改良効果が発現しない。比較例7では、成
分(A)を含有するメチルエチルケトンの溶液粘度が5
00mPa・sを越えるため(表1)、エポキシ樹脂へ
の分散性が劣り、諸物性の改良効果が発現しない。比較
例8では、ゴム質重合体の量が30重量部未満であるた
め、破壊靱性係数が低下した。比較例9では、ゴム質重
合体の量が80重量部を越えるため(表1)、エポキシ
樹脂中で凝集が起こり、諸物性の改良効果が発現しな
い。一方、実施例においては、比較例に比べエポキシ樹
脂組成物の粘度が非常に低く、目視による分散状態も良
好であった。硬化物の物性は、曲げ強度、破壊靱性係数
に優れ、特に破壊靱性係数では比較例平均値0.78に
対して実施例平均値1.60であり2倍以上の値であっ
た。From the results shown in Table 3, in Comparative Example 1, since the amount of the component (A) was less than 1 part by weight in the composition of the components (A) and (B), the stress and the fracture toughness coefficient were lower. No improvement effect is exhibited. In Comparative Example 2, since the compounding amount of the component (A) exceeded 100 parts by weight, the viscosity at the time of dispersing the epoxy resin was increased, and various physical properties were reduced. In Comparative Example 3,
Since the amount of the rubbery polymer was less than 30 parts by weight (Table 1), the fracture toughness coefficient was lowered. In Comparative Example 4, since the amount of the rubbery polymer exceeded 80 parts by weight, aggregation occurred in the epoxy resin, and the effect of improving various physical properties was not exhibited. In Comparative Example 5, since the average particle diameter of the component (A) in methyl ethyl ketone was less than 50 nm, the viscosity of the epoxy resin composition was significantly increased. In Comparative Example 6, since the average particle diameter of the component (A) in methyl ethyl ketone exceeds 600 nm, aggregation of the component (A) in the epoxy resin occurs, and the effect of improving various physical properties is not exhibited. In Comparative Example 7, the solution viscosity of methyl ethyl ketone containing the component (A) was 5
Since it exceeds 00 mPa · s (Table 1), the dispersibility in the epoxy resin is poor, and the effect of improving various physical properties is not exhibited. In Comparative Example 8, since the amount of the rubbery polymer was less than 30 parts by weight, the fracture toughness coefficient decreased. In Comparative Example 9, since the amount of the rubbery polymer exceeded 80 parts by weight (Table 1), aggregation occurred in the epoxy resin, and the effect of improving various physical properties was not exhibited. On the other hand, in the examples, the viscosity of the epoxy resin composition was much lower than in the comparative example, and the dispersion state by visual observation was also good. The physical properties of the cured product were excellent in flexural strength and fracture toughness coefficient. In particular, in the fracture toughness coefficient, the average value of the comparative example was 0.78 and the average value of the examples was 1.60, which was twice or more.
【0040】尚、本発明は上記実施例に限定されず、目
的、用途に応じて種々変更した実施例とすることができ
る。本発明のエポキシ樹脂組成物を用いた絶縁層を備え
る回路基板は、例えば図1のようにして形成される。即
ち、紙フェノール又はガラスエポキシ等からなる基板1
(図1のA参照)の表面に銅メッキ層2を形成し(B参
照)、エッチング処理により導電パターン2aを残す
(C参照)。これに前記グラフト重合体が有機溶剤によ
り分散されたエポキシ樹脂改質剤を含有するエポキシ樹
脂組成物を塗布し、その塗膜を加熱により乾燥、硬化さ
せて相間絶縁膜3とする(D参照)。更にレジストを塗
布してレジスト層4を形成(E参照)し、導電パターン
を形成するためにアルカリ等でパターンとなる部分を除
去(F参照)し、その部分に銅メッキを施す(G参
照)。残されたレジストを除去することによって銅の導
電パターン5及び絶縁部を備えたビルドアップ回路基板
(H参照)を製造することができる。この回路基板は、
必要に応じて、貫通孔を開ける等の二次加工も可能であ
る。尚、本発明の回路基板はビルドアップ回路基板に限
定されず、単層型の回路基板でも構わない。また、導電
パターンを形成する材料も銅以外のものでもよい。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified according to the purpose and application. A circuit board provided with an insulating layer using the epoxy resin composition of the present invention is formed, for example, as shown in FIG. That is, the substrate 1 made of paper phenol or glass epoxy, etc.
A copper plating layer 2 is formed on the surface (see FIG. 1A) (see B), and the conductive pattern 2a is left by etching (see C). An epoxy resin composition containing an epoxy resin modifier in which the graft polymer is dispersed by an organic solvent is applied thereto, and the coating film is dried and cured by heating to form an interphase insulating film 3 (see D). . Further, a resist is applied to form a resist layer 4 (see E), a portion to be patterned is removed with an alkali or the like to form a conductive pattern (see F), and the portion is plated with copper (see G). . By removing the remaining resist, a build-up circuit board (see H) having the copper conductive pattern 5 and the insulating portion can be manufactured. This circuit board is
Secondary processing, such as opening a through hole, is also possible as necessary. The circuit board of the present invention is not limited to a build-up circuit board, but may be a single-layer circuit board. The material for forming the conductive pattern may be other than copper.
【0041】本発明のエポキシ樹脂組成物を用いた封止
部を備えるIC基板は、例えば、図2に示すように、プ
リント回路基板6上の銅等の配線パターン(図示せず)
によってつなげられているIC7が上記エポキシ樹脂組
成物が塗布、乾燥及び硬化によって封止8されるもので
ある。この場合の封止方法の例としては、有機溶媒に分
散させたエポキシ樹脂組成物を封止部分に塗布して、乾
燥、硬化させる方法がある。As shown in FIG. 2, for example, as shown in FIG. 2, an IC substrate provided with a sealing portion using the epoxy resin composition of the present invention is a wiring pattern of copper or the like on a printed circuit board 6 (not shown).
The IC 7 is sealed 8 by applying, drying and curing the epoxy resin composition. As an example of the sealing method in this case, there is a method in which an epoxy resin composition dispersed in an organic solvent is applied to a sealing portion, and dried and cured.
【0042】[0042]
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂改質剤は、エポキ
シ樹脂改質剤20重量%をメチルエチルケトンに添加し
た際の平均粒子径が50nm以上600nm以下で、且
つその溶液粘度が500mPa・s以下の範囲にあるこ
とにより、エポキシ樹脂に対する溶解分散性、粘度(低
粘度)に優れる。また、このエポキシ樹脂改質剤は固形
状又は有機溶剤に分散させた溶剤分散状で使用すること
ができる。そして、エポキシ樹脂と必要に応じて配合さ
れる添加剤からなるエポキシ樹脂組成物の硬化物は機械
的特性に優れている。したがって、その性質を利用し
て、絶縁層又は絶縁部を備える回路基板や、封止層又は
封止部を備えるIC封止材等の電子材料をはじめ、金属
に対する下塗り塗料、粉体塗料、土木・建築用途等の構
造用接着剤、シーリング剤、電気・電子材料用接着剤、
プリント配線用接着剤、積層板用接着剤等の幅広い分野
に使用することができる。本発明の回路基板やIC封止
材は、上記エポキシ樹脂組成物の粘度が低いことから加
工性に優れた製品となる。The epoxy resin modifier of the present invention has an average particle diameter of from 50 nm to 600 nm when 20% by weight of the epoxy resin modifier is added to methyl ethyl ketone, and a solution viscosity of 500 mPa · s or less. By being in the range, the dispersibility and the viscosity (low viscosity) in the epoxy resin are excellent. The epoxy resin modifier can be used in a solid state or in a solvent-dispersed state dispersed in an organic solvent. A cured product of an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and an additive compounded as required has excellent mechanical properties. Therefore, utilizing its properties, electronic materials such as a circuit board having an insulating layer or an insulating portion and an IC sealing material having a sealing layer or a sealing portion, as well as undercoat paints, powder paints, and civil engineering for metals.・ Structural adhesives for construction applications, sealing agents, adhesives for electric and electronic materials,
It can be used in a wide range of fields such as adhesives for printed wiring and adhesives for laminated boards. The circuit board and the IC encapsulant of the present invention are excellent in processability due to the low viscosity of the epoxy resin composition.
【図1】本発明の回路基板の製造過程を示す説明図であ
り、(A)は元の基板を示す断面図、(B)は基板表面
に銅メッキされた状態を示す断面図、(C)はエッチン
グ処理により導電パターンが残された状態を示す断面
図、(D)はエポキシ樹脂組成物が塗布された状態を示
す断面図、(E)はレジストが塗布された状態を示す断
面図、(F)は導電パターンを設ける部分のレジストが
処理された状態を示す断面図、(G)は処理されたレジ
スト部分に銅メッキされた状態を示す断面図、(H)は
完成した回路基板を示す断面図である。FIGS. 1A and 1B are explanatory views showing a process of manufacturing a circuit board according to the present invention, wherein FIG. 1A is a cross-sectional view showing an original board, FIG. ) Is a cross-sectional view showing a state where the conductive pattern is left by the etching process, (D) is a cross-sectional view showing a state where an epoxy resin composition is applied, (E) is a cross-sectional view showing a state where a resist is applied, (F) is a cross-sectional view showing a state where the resist at the portion where the conductive pattern is to be provided is processed, (G) is a cross-sectional view showing a state where the processed resist is copper-plated, and (H) is a completed circuit board. FIG.
【図2】本発明のIC封止材を示す説明断面図である。FIG. 2 is an explanatory sectional view showing an IC sealing material of the present invention.
1;基板、2;銅メッキ層、2a;導電パターン、3;
相間絶縁層、4;レジスト層、4a;レジストパター
ン、5;導電パターン、6;基板、7;IC、8;封止
材。1; substrate; 2; copper plating layer; 2a; conductive pattern;
Interphase insulating layer, 4; resist layer, 4a; resist pattern, 5; conductive pattern, 6; substrate, 7; IC, 8;
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/31 H05K 1/03 610S H05K 1/03 610 H01L 23/30 R (72)発明者 元重 良一 東京都中央区京橋1丁目18番1号 テクノ ポリマー株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BN06W BN14W CD00X CD04X CD05X CD06X GQ00 4J026 AA67 AA68 AC01 AC02 AC11 AC12 BA04 BA05 BA06 BA07 BA08 BA27 BA28 BA31 BB01 BB02 BB03 BB04 DB02 DB03 DB04 DB05 DB12 DB13 DB15 DB16 GA08 4M109 AA01 BA03 CA10 EA02 EB19 EC03 EC04 5G305 AA06 AA13 AA14 AB15 AB36 BA09 CA15 CA47 CD04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/31 H05K 1/03 610S H05K 1/03 610 H01L 23/30 R (72) Inventor Ryoichi Motoshige 1-18-1 Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo Techno Polymer Co., Ltd. F-term (reference) 4J002 BN06W BN14W CD00X CD04X CD05X CD06X GQ00 4J026 AA67 AA68 AC01 AC02 AC11 AC12 BA04 BA05 BA06 BA07 BA08 BA27 BA28 BA31 BB01 BB02 DB03 BB03 DB04 DB05 DB12 DB13 DB15 DB16 GA08 4M109 AA01 BA03 CA10 EA02 EB19 EC03 EC04 5G305 AA06 AA13 AA14 AB15 AB36 BA09 CA15 CA47 CD04
Claims (5)
の存在下に、ビニル系化合物の群から選ばれる少なくと
も一種の単量体化合物(a2)20〜70重量%[但
し、(a1)+(a2)=100重量%]をグラフト重
合して得られ、下記の特性を有するグラフト重合体を含
有することを特徴とするエポキシ樹脂改質剤。 特性;上記グラフト重合体20重量%をメチルエチルケ
トン80重量%に添加したときの動的光散乱法による平
均粒子径が50nm以上600nm以下であり、且つそ
の溶液粘度が500mPa・s以下である。1. A rubbery polymer (a1) in an amount of 30 to 80% by weight.
Is obtained by graft polymerization of 20 to 70% by weight of at least one monomer compound (a2) selected from the group of vinyl-based compounds (provided that (a1) + (a2) = 100% by weight). An epoxy resin modifier comprising a graft polymer having the following characteristics. Properties: The average particle size by dynamic light scattering when 20% by weight of the above graft polymer is added to 80% by weight of methyl ethyl ketone is 50 nm or more and 600 nm or less, and the solution viscosity is 500 mPa · s or less.
し、上記グラフト重合体が該有機溶剤に分散されている
請求項1記載のエポキシ樹脂改質剤。2. The epoxy resin modifier according to claim 1, comprising the graft polymer and an organic solvent, wherein the graft polymer is dispersed in the organic solvent.
記の請求項1又は2に記載の(A)エポキシ樹脂改質剤
に含まれるグラフト重合体1〜100重量部とを含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。3. A composition comprising (B) 100 parts by weight of an epoxy resin and 1 to 100 parts by weight of a graft polymer contained in the epoxy resin modifier (A) according to claim 1 or 2. A characteristic epoxy resin composition.
いて形成された絶縁層又は絶縁部を備えることを特徴と
する回路基板。4. A circuit board comprising an insulating layer or an insulating portion formed using the epoxy resin composition according to claim 3.
いて形成された封止層又は封止部を備えることを特徴と
するIC封止材。5. An IC sealing material comprising a sealing layer or a sealing portion formed using the epoxy resin composition according to claim 3.
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