JP2002025466A - Cathode-ray tube, electron gun and its manufacturing method - Google Patents

Cathode-ray tube, electron gun and its manufacturing method

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JP2002025466A
JP2002025466A JP2000211488A JP2000211488A JP2002025466A JP 2002025466 A JP2002025466 A JP 2002025466A JP 2000211488 A JP2000211488 A JP 2000211488A JP 2000211488 A JP2000211488 A JP 2000211488A JP 2002025466 A JP2002025466 A JP 2002025466A
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bead glass
electron gun
coating
ray tube
metal oxide
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JP2000211488A
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Inventor
Kotaro Amano
高太郎 天野
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress generation of surface discharge on the bead glass of the electron gun. SOLUTION: A membrane 26 is formed on the surface of a bead glass 23 (23A, 23B) holding plural electrodes G1-G5, and C by a substance which has the coefficient of secondary electron emission does not exceed than 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管、これに
用いる電子銃及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a cathode ray tube, an electron gun used for the same, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

【0003】一般に、例えばカラー陰極線管は、図6に
示すように、ガラス管体2のパネル3の内面にカラー蛍
光面4が形成されると共に、蛍光面4に対向して色選別
機構5が形成され、ネック部6内に電子銃7が配置され
て成る。電子銃7は、複数の電極、この例では赤、緑、
青の各色に対応する3つのカソードK〔KR 、KG 、K
B 〕を有する第1グリッドG1 、第2グリッドG2 、第
3グリッドG3 、第4グリッドG4 、第5グリッドG5
及び4枚の電極板からなる静電コンバーゼンス手段Cを
有し、これら各電極G1 〜Cがこれと一体の支持ピン8
を相対向する一対のビードガラス9〔9A、9B〕に埋
め込むようにして保持、固定して構成されている。
In general, for example, in a color cathode ray tube, as shown in FIG. 6, a color fluorescent screen 4 is formed on an inner surface of a panel 3 of a glass tube 2 and a color selection mechanism 5 is opposed to the fluorescent screen 4. The electron gun 7 is formed in the neck portion 6. The electron gun 7 has a plurality of electrodes, in this example, red, green,
Three cathodes K [K R , K G , K
B ], the first grid G 1 , the second grid G 2 , the third grid G 3 , the fourth grid G 4 , and the fifth grid G 5
And electrostatic convergence means C composed of four electrode plates, and each of these electrodes G 1 -C is provided with a support pin 8 integrated therewith.
Are held and fixed so as to be embedded in a pair of bead glasses 9 [9A, 9B] facing each other.

【0004】そして、例えば、第1グリッドG1 には0
Vが、第2グリッドG2 には数100Vが、第3グリッ
ドG3 及び第5グリッドG5 にはアノード電圧の27〜
30kVが、第4グリッドにはフォカス電圧の数kVが
夫々印加される。また、静電コンバーゼンス手段Cの内
側電極板にはアノード電圧が、外側電極板にはアノード
電圧よりも低い高電圧が印加される。
Then, for example, the first grid G 1 has 0
V is the number 100V the second grid G 2 is, in the third grid G 3, and the fifth grid G 5. 27 to anode voltage
30 kV is applied to the fourth grid, and several kV of the focus voltage is applied to the fourth grid. An anode voltage is applied to the inner electrode plate of the electrostatic convergence means C, and a high voltage lower than the anode voltage is applied to the outer electrode plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、最大数
十キロボルトもの高電圧によて駆動される電子銃7の電
極部品、即ち第1グリッドG1 〜静電コンバーゼンス手
段Cは、シリカガラスを主成分とした高耐電圧のビード
ガラス9〔9A、9B〕によって保持、固定されてい
る。このようなビードガラス9A、9Bは、その構造
上、不要電子輻射に多かれ少なかれ晒されることを免れ
ない。
As described above, the electrode parts of the electron gun 7 driven by a high voltage of several tens of kilovolts at the maximum, that is, the first grid G 1 to the electrostatic convergence means C are made of silica glass. Is held and fixed by a high withstand voltage bead glass 9 [9A, 9B] mainly composed of. Such bead glasses 9A and 9B are inevitably more or less exposed to unnecessary electron radiation due to their structures.

【0006】更に、金属導体で形成されている電極部品
1 〜Cは、ビードガラス9A、9Bに食い込ませるこ
とによって保持されており、周囲の真空空間と合わせて
所謂トリプルジャンクションを形成している。即ち、図
7に示すように、電極部品(従って電極と一体の支持ピ
ン8)とビードガラス9と真空空間11が接した領域が
トリプルジャンクションAと呼ばれる。電極でのトリプ
ルジャンクションは、一般に電界集中による電子の電界
放出が発生し易くなる。
Further, the electrode parts G 1 to C formed of metal conductors are held by being cut into the bead glasses 9A and 9B, and form a so-called triple junction together with the surrounding vacuum space. . That is, as shown in FIG. 7, a region where the electrode component (therefore, the support pin 8 integrated with the electrode), the bead glass 9, and the vacuum space 11 are in contact with each other is called a triple junction A. In general, triple junctions at the electrodes tend to cause electron field emission due to electric field concentration.

【0007】従って、電子銃7のビードガラス9A、9
Bは、電子輻射に晒されており沿面放電(いわゆる沿面
フラッシュオーバ)が発生し易い状態にある。一度沿面
放電が発生すれば、正規の電子放出源へのダメージや外
部回路の破壊、利用者への精神的、心理的ダメージをも
たらすことがある。沿面放電に対しては、これまで数々
の対策が施されてきたが、真に有効な方法がなく、未だ
根本解決に至っていない。
Accordingly, the bead glasses 9A, 9A of the electron gun 7
B is exposed to electron radiation and is in a state where creeping discharge (so-called creeping flashover) is likely to occur. Once a creeping discharge occurs, it may cause damage to a legitimate electron emission source, destruction of an external circuit, and mental or psychological damage to a user. A number of measures have been taken against creeping discharge, but there is no truly effective method, and no fundamental solution has yet been reached.

【0008】本発明は、かかる点に鑑み、管内での沿面
放電の発生を抑制できる陰極線管を提供するものであ
る。本発明は、沿面放電の発生を抑制できる電子銃及び
その製造方法を提供するものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a cathode ray tube capable of suppressing generation of creeping discharge in a tube. The present invention provides an electron gun capable of suppressing generation of creeping discharge and a method for manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る陰極線管
は、電子銃が配置された領域の沿面放電が発生し易い絶
縁体表面に、2次電子放出係数が1を超えない物質によ
る被膜を形成して構成する。
A cathode ray tube according to the present invention is provided with a coating made of a substance having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on the surface of an insulator in which creeping discharge is likely to occur in a region where an electron gun is arranged. Form and configure.

【0010】本発明の陰極線管では、沿面放電が発生し
易い絶縁体表面に2次電子放出係数が1を超えない物質
による被膜を形成することにより、絶縁体表面での2次
電子放出雪崩の発生が抑制される。また、2次電子放出
雪崩に伴う絶縁体表面のチャージアップが抑制される。
[0010] In the cathode ray tube of the present invention, by forming a coating of a substance having a secondary electron emission coefficient of not more than 1 on the surface of the insulator where the creeping discharge is likely to occur, the secondary electron emission avalanche on the surface of the insulator is formed. Generation is suppressed. In addition, charge-up of the insulator surface due to the secondary electron emission avalanche is suppressed.

【0011】本発明に係る電子銃は、複数の電極を保持
したビードガラスの面に2次電子放出係数が1を超えな
い物質による被膜を形成して成る。
An electron gun according to the present invention is formed by forming a coating of a substance having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on a surface of a bead glass holding a plurality of electrodes.

【0012】本発明の電子銃では、ビードガラスの面に
2次電子放出係数が1を超えない物質による被膜を形成
することにより、ビードガラス表面での2次電子放出雪
崩の発生が抑制され、また、2次電子放出雪崩に伴うビ
ードガラス表面のチャージアップが抑制され、電極、支
持ピンとビードガラスなどとの接合部(いわゆるトリプ
ルジャンクション)からの電子の電界放出が抑制さっれ
る。
In the electron gun of the present invention, the formation of a secondary electron emission avalanche on the surface of the bead glass is suppressed by forming a coating of a material having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on the surface of the bead glass. In addition, the charge-up of the bead glass surface due to the secondary electron emission avalanche is suppressed, and the electric field emission of electrons from the junction (so-called triple junction) between the electrode, the support pin and the bead glass or the like is suppressed.

【0013】本発明に係る電子銃の製造方法は、ビード
ガラスの面に2次電子放出係数が1を超えない金属酸化
物被膜を形成する工程と、ビードガラスの軟化と同時
に、前記金属酸化物被膜の被着力を強化する加熱工程
と、ビードガラスに複数の電極を固定する工程を有す
る。
The method for manufacturing an electron gun according to the present invention comprises the steps of: forming a metal oxide film having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on the surface of the bead glass; The method includes a heating step of strengthening the adhesion of the coating and a step of fixing a plurality of electrodes to the bead glass.

【0014】本発明の電子銃の製造方法では、ビードガ
ラス面に2次電子放出係数が1を超えない金属酸化物被
膜を形成するので、沿面放電を抑制した電子銃が得られ
る。金属酸化物被膜を形成した後、ビードガラスを軟化
する加熱工程で同時に金属酸化物被膜が加熱されて、こ
の金属酸化物がビードガラスに拡散し、又は/及び金属
酸化物が結晶化することで、金属酸化物被膜の被着強度
が上がる。酸化ガスを使用した加熱工程であっても、金
属酸化物であるため金属酸化物被膜の組成が変わること
がない。
In the method for manufacturing an electron gun according to the present invention, since a metal oxide film having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 is formed on the bead glass surface, an electron gun with reduced creeping discharge can be obtained. After the metal oxide film is formed, the metal oxide film is simultaneously heated in a heating step of softening the bead glass, and the metal oxide is diffused into the bead glass or / and the metal oxide is crystallized. As a result, the adhesion strength of the metal oxide film increases. Even in the heating step using an oxidizing gas, the composition of the metal oxide film does not change because it is a metal oxide.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】電子銃を構成するビードガラス上で発生す
るような沿面放電は、その主な機構として2次電子放出
雪崩(SEEA:Secondary Electro
nEmission Avalanche)によるもの
が考えられている。この機構によれば、不要輻射による
電子が絶縁体表面に入射して2次電子放出雪崩を形成す
ると絶縁体表面への帯電をもたらし、不要な電子の電界
放出を更に加速する。さらに2次電子放出雪崩は表面吸
着ガスの放出をもたらし、この放出ガスと雪崩電子との
作用で絶縁が破壊されることによって沿面放電が発生す
る。
The creeping discharge which occurs on the bead glass constituting the electron gun is mainly caused by secondary electron emission avalanche (SEEA: Secondary Electron).
nEmission Avalanche). According to this mechanism, when electrons due to unnecessary radiation enter the insulator surface to form a secondary electron emission avalanche, the insulator surface is charged and the field emission of unnecessary electrons is further accelerated. Furthermore, the secondary electron emission avalanche causes the release of surface adsorbed gas, and the insulation gas is destroyed by the action of the released gas and the avalanche electrons, thereby generating a creeping discharge.

【0017】本発明の陰極線管及び電子銃においては、
絶縁体表面で発生する沿面放電を防止する手段として、
特に2次電子放出雪崩の発生を制限することを目的に2
次電子放出率が電子のどのような入射エネルギーに対し
ても1を超えないような材料で絶縁体表面を被覆する方
法を用いる。
In the cathode ray tube and the electron gun of the present invention,
As a means to prevent creeping discharge occurring on the insulator surface,
In particular, for the purpose of limiting the generation of secondary electron emission avalanches,
A method is used in which the insulator surface is coated with a material whose secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons.

【0018】図1は、本発明に係る電子銃の一実施の形
態を示す。本実施の形態に係る電子銃21は、複数の電
極、この例では赤、緑、青の各色に対応する3つのカソ
ードK〔KR 、KG 、KB 〕を有する第1グリッド
1 、第2グリッドG2 、第3グリッドG3 、第4グリ
ッドG4 、第5グリッドG5 及び4枚の電極板からなる
静電コンバーゼンス手段Cを有し、これら各電極G1
Cがこれと一体の支持ピン22を後述する相対向する一
対のビードガラス23〔23A、23B〕に埋め込むよ
うにして保持、固定されて成る。
FIG. 1 shows an embodiment of an electron gun according to the present invention. Electron gun 21 according to this embodiment, a plurality of electrodes, red in this example, green, three cathodes K corresponding to the blue color [K R, K G, K B] first grid G 1 having, second grid G 2, the third grid G 3, fourth grid G 4, has an electrostatic convergence means C consisting of the fifth grid G 5 and four electrode plates, each of these electrodes G 1 ~
C is held and fixed so as to embed a support pin 22 integrated therewith into a pair of opposed bead glasses 23 [23A, 23B] described later.

【0019】この電子銃21では、例えば、第1グリッ
ドG1 に0Vが、第2グリッドG2に低電圧の数100
V程度が、第3グリッドG3 及び第5グリッドG5 にア
ノード電圧の27〜30kV程度が、第4グリッドに中
電圧(フォカス電圧)の数kV程度が夫々印加される。
また、静電コンバーゼンス手段Cの内側電極板にアノー
ド電圧が、外側電極板にアノード電圧よりも低い高電圧
が印加される。
In the electron gun 21, for example, 0 V is applied to the first grid G 1 and several hundreds of low voltages are applied to the second grid G 2.
About V is about 27~30kV anode voltage to the third grid G 3, and the fifth grid G 5 are, about several kV medium voltage (Fokasu voltage) are respectively applied to the fourth grid.
Further, an anode voltage is applied to the inner electrode plate of the electrostatic convergence means C, and a high voltage lower than the anode voltage is applied to the outer electrode plate.

【0020】そして、本実施の形態においては、特に図
1及び図2に示すように、ビードガラス23〔23A、
23B〕の表面に2次電子放出係数が1を超えない物
質、即ち2次電子放出率が電子のどのような入射エネル
ギーに対しても1を超えない物質による被膜26を被着
形成する。本例では、ビードガラス23〔23A、23
B〕における電極G1 〜C側(即ち、支持ピン22が埋
め込まれる側)に向いている面の沿面放電を防止し、及
び電極(特に低電圧側の電極)とビードガラス23との
接合部に生ずるトリプルジャンクションからの電子の電
界放出と2次電子放出雪崩を防止するために、ビードガ
ラス23(23A、23B〕の電極側の内面24a及び
外面を除く側面24b(図3b参照)に上記の2次電子
放出係数が1を超えない物質の被膜26を形成する。
In this embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the bead glass 23 [23A,
23B], a coating 26 made of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1, that is, a substance whose secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons is formed. In this example, the bead glass 23 [23A, 23
B] to prevent creeping discharge on the surface facing the electrodes G 1 to C side (that is, the side on which the support pins 22 are embedded), and to join the electrode (particularly, the electrode on the low voltage side) to the bead glass 23. In order to prevent the field emission of electrons from the triple junction and the secondary electron emission avalanche occurring in the above, the above described side surfaces 24b (see FIG. 3b) of the bead glass 23 (23A, 23B) except for the inner surface 24a and the outer surface on the electrode side. A film 26 of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 is formed.

【0021】2次電子放出率が電子のどのような入射エ
ネルギーに対しても1を超えない物質としては、金属酸
化物を用いることができ、例えばCr2 3 が好まし
い。
As the substance whose secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons, a metal oxide can be used, and for example, Cr 2 O 3 is preferable.

【0022】ここで、2次電子放出率が電子のどのよう
な入射エネルギーに対しても1を超えないような物質と
しては、例えば上記Cr2 3 、或いはTiNが知られ
る。しかし、ビードガラスに対しては以下の点で使用可
能な物質が制限される。
Here, for example, the above-mentioned Cr 2 O 3 or TiN is known as a substance whose secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons. However, usable substances for bead glass are limited in the following points.

【0023】各電極G1 〜Cをビードガラス23〔23
A、23B〕に保持、固定するビーディング工程では、
電極部品の一部や電極に取り付けられた支持ピン 22
をビードガラス23に埋め込むために、ビードガラス2
3が加熱、軟化される。この際、ビードガラス23の材
料が還元されるのを防ぐために、酸化雰囲気中で加熱さ
れる。このため、TiNのような酸化物でないものは、
酸化されて当初の目的の役割を果たす物質とは異なるも
のに変化してしまう。この事からビードガラス23に
は、Cr2 3 のような金属酸化物が適合する。
Each electrode G 1 -C is connected to a bead glass 23 [23
A, 23B] in the beading step of holding and fixing
22. Support pins attached to part of electrode parts and electrodes
Bead glass 2 in order to embed
3 is heated and softened. At this time, the bead glass 23 is heated in an oxidizing atmosphere in order to prevent the material of the bead glass 23 from being reduced. Therefore, non-oxide such as TiN
It is oxidized and turns into a different substance from the one that serves its original purpose. For this reason, a metal oxide such as Cr 2 O 3 is suitable for the bead glass 23.

【0024】また、電極間の大きな電位差に対応するた
めに上記被膜26を構成する薄膜材料には、高い絶縁性
が求められる。薄膜材料に含まれる不純物や膜形成の際
に紛れ込む不純物のよって薄膜材料が被着当初にビード
ガラス23として必要な耐電圧を有していない場合で
も、Cr2 3 のような金属酸化物であれば、ビーディ
ングの加熱工程によって酸化するために必要な抵抗(絶
縁性)を有するようになる。さらに、後述するように、
この加熱工程には金属酸化物の膜強度、つまり金属酸化
物被膜のビードガラスへの被着強度を向上させる効果が
有るので、金属酸化物絶縁被膜は、ビードガラスへの被
膜形成の適合性の高さを示す。
Further, in order to cope with a large potential difference between the electrodes, the thin film material constituting the coating 26 is required to have high insulation properties. Even when the thin film material does not have the withstand voltage required as the bead glass 23 at the beginning of deposition due to impurities contained in the thin film material and impurities that are mixed in during film formation, a metal oxide such as Cr 2 O 3 can be used. If there is, it has a resistance (insulating property) necessary for oxidation in a heating process of beading. Further, as described below,
Since this heating step has the effect of improving the film strength of the metal oxide, that is, the adhesion strength of the metal oxide film to the bead glass, the metal oxide insulating film is not suitable for forming a film on the bead glass. Indicates the height.

【0025】本実施の形態に係る電子銃21によれば、
各電極G1 〜Cを保持、固定するビードガラス23〔2
3A、23B〕の表面、少なくとも電極側の内面を電子
のどのような入射エネルギーに対しても2次電子放出係
数が1を超えない物質の被膜、例えばCr2 3 のよう
な金属酸化物の被膜26で被覆することにより、不要輻
射による電子がビードガラス23〔23A、23B〕の
面に入射されても、2次電子放出雪崩の発生を抑制する
ことができる。また、2次電子放出雪崩に伴うビードガ
ラス23表面のチャージアップが抑制され、電極、支持
ピン22とビードガラス23と真空空間との接合部に出
来るトリプルジャンクションからの電子の電界放出を抑
制することができる。
According to the electron gun 21 of this embodiment,
Bead glass 23 [2] for holding and fixing each electrode G 1 -C
3A, 23B], at least the inner surface on the electrode side, of a coating of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 for any incident energy of electrons, for example, a metal oxide such as Cr 2 O 3 . By coating with the film 26, even if electrons due to unnecessary radiation are incident on the surface of the bead glass 23 [23A, 23B], occurrence of secondary electron emission avalanches can be suppressed. In addition, the charge-up of the surface of the bead glass 23 due to the secondary electron emission avalanche is suppressed, and the electric field emission of electrons from the triple junction formed at the junction between the electrode, the support pin 22, the bead glass 23, and the vacuum space is suppressed. Can be.

【0026】これらの2次電子放出雪崩の抑制、又は電
極、支持ピンとビードガラス等との接合部からの電子の
電界放出の抑制の単独、或いは複合的な結果として、ビ
ードガラス23での沿面放電を低減することができる。
As a result of the suppression of the secondary electron emission avalanche, or the suppression of the field emission of electrons from the junction between the electrode, the support pin and the bead glass, etc., the creeping discharge in the bead glass 23 results. Can be reduced.

【0027】2次電子放出率が電子のどのような入射エ
ネルギーに対しても1を超えない物質として、Cr2
3 のような金属酸化物絶縁体を使用することで、ビーデ
ィング工程において、物質の組成変化を伴わずに被膜2
6の膜強度、被着強度を向上させることが可能になる。
As a substance whose secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons, Cr 2 O
By using a metal oxide insulator such as 3 in the beading process, the coating 2 can be formed without changing the composition of the substance.
6 can improve the film strength and the adhesion strength.

【0028】次に、上述の電子銃21の製造方法の一実
施の形態を説明する。先ず、図3Aに示すように、一対
のビードガラス23〔23A、23B〕の電極側の面、
この例では内面24a及び側面24bに金属酸化物の例
えばCr2 3 の被膜26を被着形成する。被膜26の
被着は、例えば真空蒸着を可とし、その他、プラズマ溶
射やスラリー塗布などの方法で行うことができる。
Next, one embodiment of the method for manufacturing the above-described electron gun 21 will be described.
An embodiment will be described. First, as shown in FIG.
Surface of the bead glass 23 [23A, 23B] on the electrode side,
In this example, metal oxide is used on the inner surface 24a and the side surface 24b.
For example, CrTwoO ThreeIs formed. Of coating 26
For deposition, for example, vacuum deposition is allowed, and other
It can be performed by a method such as spraying or slurry application.

【0029】次に、図3Bに示すように、内面24a、
側面24bにCr2 3 被膜26を被着形成した一対の
ビードガラス23A、23Bを内面が相対向するよう
に、所定の間隔を置いて配置し、その状態で両ビードガ
ラス23Aおよび23B間に加熱手段、この例ではバー
ナ31を置き、バーナ31とビードガラス23とを相対
的に移動させながらビードガラス23A、23Bの内
面、側面を加熱して、ビードガラス23A、23Bを軟
化させる。この加熱工程で、Cr2 3 被膜26も同時
に加熱されビードガラス23の表面とCr2 3 被膜2
6は溶融し、Cr2 3 がビードガラス23内へと拡散
する。特に被膜26の形成が真空蒸着による場合、Cr
2 3 被膜26はアモルファスであるが、溶融拡散して
もその大半はアモルファスのまま固化する。また、Cr
2 3 の一部はビードガラス23に食い込むように結晶
化する。図4Aは加熱前の被膜26を真空蒸着した状態
を示し、図4Bは加熱後の被膜26の状態を示す。図4
Bに示すように、Cr2 3 の拡散領域32が形成さ
れ、被膜26の一部33が結晶化される。この拡散、結
晶化は、Cr2 3 被膜26の膜強度、即ちビードガラ
ス23へのCr2 3 被膜26の被着強度の向上に寄与
する。
Next, as shown in FIG. 3B, the inner surfaces 24a,
A pair of bead glasses 23A and 23B each having a Cr 2 O 3 coating 26 formed on the side surface 24b are arranged at predetermined intervals so that the inner surfaces thereof are opposed to each other, and in this state, between the two bead glasses 23A and 23B. Heating means, in this example, the burner 31 is placed, and the inner and side surfaces of the bead glasses 23A and 23B are heated while the burner 31 and the bead glass 23 are relatively moved to soften the bead glasses 23A and 23B. In this heating step, the Cr 2 O 3 coating 26 is also heated simultaneously, and the surface of the bead glass 23 and the Cr 2 O 3 coating 2
6 melts, and Cr 2 O 3 diffuses into the bead glass 23. In particular, when the film 26 is formed by vacuum deposition,
Although the 2 O 3 coating 26 is amorphous, most of it is solidified even when melted and diffused. In addition, Cr
Part of 2 O 3 is crystallized so as to bite into the bead glass 23. FIG. 4A shows a state in which the coating 26 before heating is vacuum-deposited, and FIG. 4B shows a state of the coating 26 after heating. FIG.
As shown in B, a diffusion region 32 of Cr 2 O 3 is formed, and a part 33 of the coating 26 is crystallized. This diffusion, crystallization, film strength of Cr 2 O 3 film 26, i.e., contributes to the improvement of the deposition strength of Cr 2 O 3 film 26 to the bead glass 23.

【0030】次に、図3Cに示すように、各グリッドG
1 〜G5 、静電コンバーゼンス手段Cを同軸上に所定間
隔をもって配置され状態で、軟化されている両ビードガ
ラス23A及び23B間に持ち来し、ビードガラス23
Aおよび23Bを押し付けるようにして、各電極部品を
ビードガラス23A、23Bに保持、固定する。これに
より、目的の電子銃21が得られる。
Next, as shown in FIG. 3C, each grid G
1 to G 5 , the electrostatic convergence means C is coaxially arranged at a predetermined interval, and is brought between the softened bead glasses 23A and 23B to form the bead glass 23.
A and 23B are pressed and each electrode component is held and fixed to bead glasses 23A and 23B. Thus, the intended electron gun 21 is obtained.

【0031】本実施の形態に係る電子銃の製造方法によ
れば、Cr2 3 被膜26を有するビードガラス23
〔23A、23B〕を形成して、このビードガラス23
に各電極を保持、固定することにより、沿面放電を低減
させた電子銃21を製造することができる。加熱工程
時、Cr2 3 被膜26も同時に加熱溶融され、一部の
Cr2 3 がビードガラス23内へ拡散されてCr2
3 拡散領域32を形成し、Cr2 3被膜26の一部3
3がビードガラス23に食い込むように結晶化すること
により、膜強度、即ち被膜26のビードがラス23への
被着力を向上することができる。
According to the method of manufacturing an electron gun according to the present embodiment, the bead glass 23 having the Cr 2 O 3 coating 26
[23A, 23B] to form the bead glass 23
By holding and fixing the electrodes to each other, the electron gun 21 with reduced surface discharge can be manufactured. During the heating step, the Cr 2 O 3 coating 26 is also heated and melted at the same time, and a part of the Cr 2 O 3 is diffused into the bead glass 23 to form the Cr 2 O 3.
3 A diffusion region 32 is formed and a part 3 of the Cr 2 O 3 coating 26 is formed.
By crystallizing 3 so as to bite into the bead glass 23, the film strength, that is, the adhesion of the bead of the film 26 to the lath 23 can be improved.

【0032】陰極線管の製造工程においては、電子銃が
封止、排気された後に通常動作時よりも高い電圧を与え
て強制的に放電を発生させて耐電圧を向上させる、いわ
ゆるコンディショニング、あるいはノッキングといった
工程がある。上述の被膜26が真空蒸着などによって形
成されただけの薄膜では、このコンディショニング、あ
るいはノッキングの工程での放電によって簡単に剥離、
脱落する。また、通常動作時における放電においても同
様である。このようになっては、被膜26として当初の
目的を満たすことができない。しかしながら、本製法で
は、上述したように、加熱工程で同時に被膜26も加熱
され、一部が拡散され、一部がビードガラスに食い込む
ように結晶化することで、膜強度が向上し、コンディシ
ョニング、あるいはノッキング工程、通常駆動時の放電
においても、被膜26の剥離、脱落は生じない。
In the manufacturing process of the cathode ray tube, after the electron gun is sealed and evacuated, a voltage higher than that in normal operation is applied to forcibly generate a discharge to improve the withstand voltage, so-called conditioning or knocking. There is such a process. In a thin film in which the above-mentioned coating film 26 is formed only by vacuum deposition or the like, it is easily peeled off by discharge in this conditioning or knocking process.
take off. The same applies to discharge during normal operation. In this case, the film 26 cannot satisfy the original purpose. However, in the present manufacturing method, as described above, the coating film 26 is also heated at the same time in the heating step, and a part of the film is diffused and crystallized so as to partially penetrate the bead glass, whereby the film strength is improved, and the conditioning, Alternatively, the coating film 26 does not peel or fall off even in the knocking step or in the discharge during normal driving.

【0033】本発明は、電子銃が配置された領域の沿面
放電が発生し易い絶縁体表面に、上述した2次電子放出
係数が1を超えない物質による被膜を形成して陰極線管
を構成することができる。図5は、上述した電子銃21
を備えたカラー陰極線管の一実施の形態を示す。このカ
ラー陰極線管41は、ガラス管体2のパネル3の内面に
カラー蛍光面4が形成されると共に、蛍光面4に対向し
て色選別機構5が形成され、ネック部6内に本実施の形
態に係る電子銃21が配置されて成る。さらに、ネック
部6の電子銃が配置された領域のの内壁面、或いは電子
銃21のビードガラス23のネック部内壁面側の外面に
も2次電子放出係数が1を超えない金属酸化物絶縁被
膜、例えば上述と同様のCr2 3 被膜26を被着形成
することも可能である。
According to the present invention, a cathode ray tube is formed by forming a coating of a substance having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on the surface of an insulator in which creeping discharge is likely to occur in a region where an electron gun is arranged. be able to. FIG. 5 shows the electron gun 21 described above.
1 shows an embodiment of a color cathode-ray tube provided with. The color cathode ray tube 41 has a color fluorescent screen 4 formed on the inner surface of the panel 3 of the glass tube body 2 and a color selection mechanism 5 formed opposite the fluorescent screen 4. An electron gun 21 according to the embodiment is arranged. Further, a metal oxide insulating film having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 is formed on the inner wall surface of the neck portion 6 in the region where the electron gun is arranged or on the outer surface of the bead glass 23 of the electron gun 21 on the inner wall surface side of the neck portion. For example, it is also possible to form a Cr 2 O 3 coating 26 similar to that described above.

【0034】本実施の形態のカラー陰極線管によれば、
沿面放電が発生し易いビードガラス23〔23A、23
B〕の表面、ネック部内壁面に、2次電子放出係数が1
を超えない金属酸化物絶縁被膜の例えばCr2 3 被膜
26を被着形成することにより、不要輻射による電子が
ビードガラス23表面やネック部内壁面に入射されて
も、2次電子放出雪崩の発生を抑制でき、沿面放電を低
減することができる。従って、沿面放電の生じにくい信
頼性の高いカラー陰極線管が得られる。なお、本発明
は、カラー陰極線管以外の他の陰極線管にも適用でき
る。
According to the color cathode ray tube of the present embodiment,
Bead glass 23 [23A, 23 where creepage discharge is likely to occur]
B], the secondary electron emission coefficient is 1
By forming a metal oxide insulating film, for example, a Cr 2 O 3 film 26 which does not exceed 200 nm, a secondary electron emission avalanche is generated even when electrons due to unnecessary radiation enter the surface of the bead glass 23 or the inner wall surface of the neck portion. Can be suppressed, and creeping discharge can be reduced. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable color cathode ray tube in which creeping discharge hardly occurs. The present invention can be applied to cathode ray tubes other than the color cathode ray tube.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明に係る電子銃によれば、ビードガ
ラスの表面に2次電子放出係数が1を超えない物質の被
膜を形成することにより、2次電子放出雪崩の発生を抑
制することができる。また、2次電子放出雪崩に伴うビ
ードガラス表面のチャージアップを抑制でき、トリプル
ジャンクションからの電子の電界放出を抑制することが
できる。この結果、ビードガラスでの沿面放電を低減す
ることができる。ビードガラス表面の被膜物質として、
例えばCr2 3 のような金属酸化物を用いるときは、
2次電子放出率が電子のどのような入射エネルギーに対
しても1を超えず、2次電子放出雪崩の発生を抑制でき
る。
According to the electron gun of the present invention, the formation of a secondary electron emission avalanche can be suppressed by forming a film of a substance having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on the surface of the bead glass. Can be. In addition, charge-up on the bead glass surface due to the secondary electron emission avalanche can be suppressed, and field emission of electrons from the triple junction can be suppressed. As a result, creeping discharge at the bead glass can be reduced. As a coating material on the bead glass surface,
For example, when using a metal oxide such as Cr 2 O 3 ,
The secondary electron emission rate does not exceed 1 for any incident energy of electrons, and the occurrence of secondary electron emission avalanches can be suppressed.

【0036】2次電子放出係数が電子のどのような入射
エネルギーに対しても1を超えない物質として、例えば
Cr2 3 のような金属酸化物を用いることにより、ビ
ーディング工程において物質の組成変化を伴わずに膜強
度を向上させることが可能になる。
By using a metal oxide such as Cr 2 O 3 as a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 for any incident energy of electrons, the composition of the substance in the beading process can be improved. It is possible to improve the film strength without any change.

【0037】ビードガラス表面に形成されている上記2
次電子放出係数が1を超えない物質による被膜が、ビー
ディング工程での加熱でビードガラスに拡散し又は/及
び結晶化した構成とすることにより、膜強度が向上し、
陰極線管の製造でのコンディショニングやノッキング工
程のとき、或いは通常動作時における放電のときに、上
記被膜が剥離、脱落することがない。
The above 2 formed on the surface of the bead glass
A film made of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 is diffused into bead glass by heating in the beading step or / and crystallized, thereby improving the film strength.
The coating does not peel off or fall off during a conditioning or knocking step in the manufacture of a cathode ray tube or during a discharge during a normal operation.

【0038】本発明に係る電子銃の製造方法によれば、
ビードガラスでの沿面放電が低減した電子銃を製造でき
ると共に、ビードガラスを軟化する加熱工程を利用して
金属酸化物被膜を加熱するので、金属酸化物被膜のビー
ドガラス表面への被着力を強化することができる。
According to the method for manufacturing an electron gun according to the present invention,
An electron gun with reduced creeping discharge on the bead glass can be manufactured, and the metal oxide film is heated using a heating process to soften the bead glass, so the adhesion of the metal oxide film to the bead glass surface is enhanced. can do.

【0039】本発明に係る陰極線管によれば、電子銃が
配された領域の沿面放電が発生し易い絶縁体表面に2次
電子放出係数が1を超えない物質による被膜を形成する
ことにより、沿面放電が抑制された信頼性の高い陰極線
管を提供することができる。また、上記電子銃を備える
ことにより、特にビードガラスでの沿面放電が抑制され
た陰極線管を提供することができる。
According to the cathode ray tube of the present invention, a film made of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 is formed on the insulator surface where the surface discharge is likely to occur in the region where the electron gun is arranged, A highly reliable cathode ray tube in which creeping discharge is suppressed can be provided. Further, by providing the above-described electron gun, it is possible to provide a cathode ray tube in which creeping discharge particularly in bead glass is suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電子銃の一実施の形態を示す構成
図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of an electron gun according to the present invention.

【図2】図1におけるビードガラスの拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the bead glass in FIG.

【図3】A〜C 本発明に係る電子銃の製造方法の一実
施の形態を示す製造工程図である。
3A to 3C are manufacturing process diagrams showing one embodiment of a method for manufacturing an electron gun according to the present invention.

【図4】A、B 本発明に係る金属酸化物被膜の説明図
である。
4A and 4B are explanatory diagrams of a metal oxide film according to the present invention.

【図5】本発明に係る陰極線管の一実施の形態を示す構
成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing one embodiment of a cathode ray tube according to the present invention.

【図6】従来の陰極線管の例を示す構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram showing an example of a conventional cathode ray tube.

【図7】電子銃での電界集中による電子の電界放出が発
生し易い部分を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view showing a portion where electron field emission easily occurs due to electric field concentration in the electron gun.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2・・・ガラス管体、3・・・パネル、4・・・蛍光
面、5・・・色選別機構、6・・・ネック部、21・・
電子銃、K〔KR 、KG 、KB 〕、G1 〜G5 ・・・グ
リッド、C・・・静電コンバーゼンス手段、22・・・
支持ピン、23〔23A、23B〕・・・ビードガラ
ス、26・・・2次電子放出係数が1を超えない物質に
よる被膜、31・・・バーナ、41・・・陰極線管
2 ... Glass tube, 3 ... Panel, 4 ... Phosphor screen, 5 ... Color selection mechanism, 6 ... Neck, 21 ...
Electron gun, K [K R, K G, K B], G 1 ~G 5 ... grid, C ... electrostatic convergence means, 22 ...
Support pins, 23 [23A, 23B] ··· bead glass, 26 · · · coating with a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1, 31 · · burner, 41 · cathode ray tube

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の電極を保持したビードガラスの面
に2次電子放出係数が1を超えない物質による被膜が形
成されて成ることを特徴とする電子銃。
1. An electron gun comprising a bead glass holding a plurality of electrodes, on which a film made of a substance having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 is formed.
【請求項2】 前記被膜が金属酸化物で形成されて成る
ことを特徴とする請求項1に記載の電子銃。
2. The electron gun according to claim 1, wherein said coating is formed of a metal oxide.
【請求項3】 ビードガラスの面に2次電子放出係数が
1を超えない物質による被膜を有し、 ビーディング工程での加熱で前記被膜物質が、ビードガ
ラスに拡散又は/及び結晶化されて成ることを特徴とす
る電子銃。
3. A bead glass having a coating made of a material having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on a surface thereof, wherein the coating material is diffused and / or crystallized in the bead glass by heating in a beading process. An electron gun, comprising:
【請求項4】 前記被膜が金属酸化物で形成されて成る
ことを特徴とする請求項3に記載の電子銃。
4. The electron gun according to claim 3, wherein said coating is formed of a metal oxide.
【請求項5】 ビードガラスの面に2次電子放出係数が
1を超えない金属酸化物被膜を形成する工程と、 前記ビードガラスの軟化と同時に、前記金属酸化物被膜
の被着力を強化する加熱工程と、 前記ビードガラスに複数の電極を固定する工程を有する
ことを特徴とする電子銃の製造方法
5. A step of forming a metal oxide film having a secondary electron emission coefficient not exceeding 1 on a surface of the bead glass, and heating the softening of the bead glass and simultaneously strengthening the adherence of the metal oxide film. And a step of fixing a plurality of electrodes to the bead glass.
【請求項6】 電子銃が配置された領域の沿面放電が発
生し易い絶縁体表面に、2次電子放出係数が1を超えな
い物質による被膜が形成されて成ることを特徴とする陰
極線管。
6. A cathode ray tube, wherein a coating made of a substance whose secondary electron emission coefficient does not exceed 1 is formed on an insulator surface in which creeping discharge easily occurs in a region where an electron gun is arranged.
【請求項7】 前記被膜が金属酸化物で形成されて成る
ことを特徴とする請求項6に記載の陰極線管。
7. The cathode ray tube according to claim 6, wherein the coating is formed of a metal oxide.
【請求項8】 請求項1に記載の電子銃を備えて成るこ
とを特徴とする陰極線管。
8. A cathode ray tube comprising the electron gun according to claim 1.
【請求項9】 請求項3に記載の電子銃を備えて成るこ
とを特徴とする陰極線管。
9. A cathode ray tube comprising the electron gun according to claim 3.
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