JP2002025104A - Integrated optical head device - Google Patents

Integrated optical head device

Info

Publication number
JP2002025104A
JP2002025104A JP2000215881A JP2000215881A JP2002025104A JP 2002025104 A JP2002025104 A JP 2002025104A JP 2000215881 A JP2000215881 A JP 2000215881A JP 2000215881 A JP2000215881 A JP 2000215881A JP 2002025104 A JP2002025104 A JP 2002025104A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical head
semiconductor
head device
semiconductor laser
integrated optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000215881A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002025104A5 (en
Inventor
Kimio Tateno
公男 立野
Masahide Tokuda
正秀 徳田
Takeshi Shimano
健 島野
Shigeru Nakamura
滋 中村
Yasuyuki Arikawa
康之 有川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2000215881A priority Critical patent/JP2002025104A/en
Publication of JP2002025104A publication Critical patent/JP2002025104A/en
Publication of JP2002025104A5 publication Critical patent/JP2002025104A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Head (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form spots of three semiconductor lasers having different wavelengths on an optical disk with a low aberration in an optical head for recording and reproducing different kinds of optical disks such as CD, DVD and disk for flue-violet semiconductor laser with one device, and to realize miniaturization, thinning, and integration of the head simultaneously. SOLUTION: The positions of two light emitting points of a double wavelength monolithic GaAs semiconductor laser and a light emitting point of a GaN semiconductor laser having a wavelength of blue-violet are formed in left-right asymmetry, and the positions of three semiconductor laser light emitting points of different wavelengths are arranged closely, and thus the head is integrated by performing index-alignment on an OEIC, a PD pattern and a substrate with a reflecting mirror.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気信号で変調さ
れた半導体レーザ光を光ディスク上に当て、記録、ある
いは再生する装置の技術分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of an apparatus for irradiating a semiconductor laser beam modulated by an electric signal onto an optical disk and recording or reproducing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、波長780nmのCD、CD-ROM、CD-R、C
D-Rewritable仕様と、波長650nmのDVD、DVD-ROM、DVD-R
AM仕様の各種光ディスクをいずれもかけることのできる
光ディスク装置が登場したが、異なる波長の半導体レー
ザ毎に光源部と光検知器が分離している。さらに将来的
には、記録密度をさらに向上した青色、あるいは、紫色
以下の短波長レーザがつかわれる状況にあり、光ヘッド
の部品点数増加は避けられない見通しである。このた
め、光源と光検知器の実装集積密度があがらず、光ディ
スク装置全体の小型化、薄型化が阻まれていた。このた
め、従来から特開平1-150244や、日経エレクトロニク
ス、 1999.11.29 (No. 758),p49に見られるように、光
ディスクの再生ヘッドの光検知器部分と半導体レーザを
ハイブリッド集積化する試みがなされて来た。しかし、
上記公知例には、半導体レーザの位置決め誤差の低減の
必要性が記載されているだけで、位置合わせ精度向上の
具体的な方法については何も開示されていない。
2. Description of the Related Art Recently, a 780 nm wavelength CD, CD-ROM, CD-R, C
D-Rewritable specification, DVD, DVD-ROM, DVD-R with wavelength of 650nm
An optical disk device that can play any type of optical disk of the AM specification has appeared, but a light source unit and a photodetector are separated for each semiconductor laser having a different wavelength. In the future, blue or violet or shorter wavelength lasers with further improved recording density will be used, and an increase in the number of parts of the optical head is expected to be inevitable. For this reason, the mounting density of the light source and the photodetector has not been increased, and the miniaturization and thinning of the entire optical disc device have been hindered. For this reason, as described in JP-A-1-150244, Nikkei Electronics, Nov. 29, 1999 (No. 758), p49, attempts have been made to hybrid-integrate a photodetector portion of a reproducing head of an optical disc with a semiconductor laser. It has been done. But,
The above-mentioned known example only describes the necessity of reducing the positioning error of the semiconductor laser, but does not disclose any specific method for improving the positioning accuracy.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】光ディスクの記録再生
ヘッドの集積化には、上記波長の異なる3種の半導体レ
ーザを並列に配置し、一つの光学系で三つの半導体レー
ザのスポットを光ディスク上に形成する必要がある。し
かし、該光学系は比較的開口数の大きい対物レンズを持
っており、画角、すなわち、低収差を保証する光軸方向
に対する中心光線(物点と像点を結ぶ線)の角度は有限
である。言いかえれば、3個の半導体レーザのうちの一
個を、光ディスク上で十分収差の取れたスポットに形成
できても、他方のスポットは収差でボケてしまうという
事体が生じる。また、3個の半導体レーザの発光点の相
対位置合わせも重要な課題である。従って、上記従来例
では、装置全体の薄型化、小型化が抱える問題を完全に
解決されたとは言い難い状況である。
In order to integrate an optical disk recording / reproducing head, three types of semiconductor lasers having different wavelengths are arranged in parallel, and one optical system is used to place three semiconductor laser spots on the optical disk. Need to be formed. However, the optical system has an objective lens having a relatively large numerical aperture, and the angle of view, that is, the angle of the central ray (the line connecting the object point and the image point) with respect to the optical axis direction that guarantees low aberration is finite. is there. In other words, even if one of the three semiconductor lasers can be formed as a spot with sufficient aberration on the optical disc, the other spot is blurred by the aberration. Another important issue is the relative alignment of the light emitting points of the three semiconductor lasers. Therefore, in the above-described conventional example, it is difficult to say that the problem of the thinning and miniaturization of the entire device has been completely solved.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、これらの課題
を解決して、波長780nmのCD、波長650nmのDVD、そし
て、波長400nm近辺の新しい超高密度光ディスクなど、
各種光ディスクを互換性を持って記録再生できるドライ
バ装置全体の小型化、薄型化のためのブレークスルーを
提供するものである。即ち、波長780nm、650nmの異なる
2個の発光部を持つモノリシックなGaAs半導体レーザ
と、波長410nmのGaN半導体レーザを、対応する波長に感
度を持つ自動焦点検出、および、トラッキング検出用光
検知器をモノリシックに形成した半導体基板からなる集
積モジュールを搭載した光ヘッドにより、光ディスクを
記録再生する装置において、該2種の半導体レーザの発
光点を、前記GaAs半導体レーザと前記GaN半導体レーザ
との中央に対して左右非対称位置に形成し、該複数の発
光点を該光ヘッド光学系の画角が許容する範囲内にはい
るように互いに近づけて配列する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves these problems and provides a CD having a wavelength of 780 nm, a DVD having a wavelength of 650 nm, and a new ultra-high-density optical disk having a wavelength of around 400 nm.
An object of the present invention is to provide a breakthrough for reducing the size and thickness of a driver device capable of recording and reproducing various optical disks with compatibility. That is, a monolithic GaAs semiconductor laser having two light emitting portions having different wavelengths of 780 nm and 650 nm, and a GaN semiconductor laser having a wavelength of 410 nm are provided with an automatic focus detection and a photodetector for tracking detection having sensitivity to the corresponding wavelengths. In an apparatus for recording / reproducing an optical disk by an optical head equipped with an integrated module composed of a monolithically formed semiconductor substrate, the light emitting points of the two types of semiconductor lasers are shifted with respect to the center between the GaAs semiconductor laser and the GaN semiconductor laser. The light emitting points are arranged close to each other so as to be within an allowable range of the angle of view of the optical head optical system.

【0005】具体的には以下の通りである。第一の手段
は、波長780nmと波長650nmの異なる2種のGaAs半導体レ
ーザをモノリシックに作成したレーザ光源と、波長400n
m近辺のGaN半導体レーザと、これらの異なる波長に対応
する三種の光検知器をマスク精度で位置合わせした上で
該2個の半導体レーザをハイブリッド集積化し、モノリ
シック並みに部品点数を削減する。そして、従来、複数
光路であった光ヘッドを単一の光路とし、かつ、該3個
の半導体レーザの発光点を左右非対称位置に形成し、該
発光点を互いに近づけて配列した集積モジュールを提供
するものである。
[0005] The details are as follows. The first means is a laser light source made monolithically of two types of GaAs semiconductor lasers having different wavelengths of 780 nm and 650 nm,
After the GaN semiconductor laser near m and the three types of photodetectors corresponding to these different wavelengths are aligned with the mask accuracy, the two semiconductor lasers are hybrid-integrated to reduce the number of parts to the level of a monolithic. In addition, an integrated module is provided in which the optical head, which has conventionally been a plurality of optical paths, is changed to a single optical path, and the light emitting points of the three semiconductor lasers are formed at asymmetric positions in the left and right directions, and the light emitting points are arranged close to each other. Is what you do.

【0006】本発明の第2の手段は、光検知器を形成し
たシリコン基板上と、半導体レーザ双方に位置合わせ用
のインデクスマークをつけて、可視光、あるいは赤外光
を照射し、それらの像をCCDや撮像管などの光電変換面
に結ばせてコンピュータに取りこみ、各々のマークの重
心や形を計算して位置合わせを行うものである。重心計
算のため、位置合わせ精度はサブミクロンのオーダーで
達成可能である。
A second means of the present invention is to apply an index mark for alignment to both a silicon substrate on which a photodetector is formed and a semiconductor laser, and to irradiate visible light or infrared light, The image is formed on a photoelectric conversion surface such as a CCD or image pickup tube, captured into a computer, and the center of gravity and shape of each mark are calculated to perform alignment. Due to the centroid calculation, alignment accuracy can be achieved on the order of sub-microns.

【0007】本発明の第三の手段は、光検知器を形成し
たシリコン基板上に反射ミラーを形成するものである。
すなわち、9.7度近辺のオフ基板を用意し、シリコン
の異方性エッチングにより45度近辺の反射ミラーを形
成し、半導体レーザからのビームをこのミラーで反射さ
せ、シリコン基板面に対し、ほぼ直角方向にビームを曲
げるものである。
[0007] A third means of the present invention is to form a reflection mirror on a silicon substrate on which a photodetector is formed.
That is, an off-substrate near 9.7 degrees is prepared, a reflection mirror near 45 degrees is formed by anisotropic etching of silicon, and a beam from a semiconductor laser is reflected by this mirror. The beam is bent at right angles.

【0008】本発明の第4の手段は、光検知器を形成し
たシリコン基板上に光検知器で発生した光電流を電気的
に増幅するアンプをモノリシックに形成し、かつ、斜め
ミラー、位置合わせインデクスマークを作り付けるもの
である。
According to a fourth aspect of the present invention, an amplifier for electrically amplifying a photocurrent generated by a photodetector is monolithically formed on a silicon substrate on which a photodetector is formed, and a diagonal mirror and a positioning device are provided. An index mark is created.

【0009】本発明の第5の手段は、シリコンカーバイ
ドのような熱伝導率の高い基板に位置合わせ用のインデ
クスマークを付け、高い精度で該2個の半導体レーザ、
反射用のプリズムミラー、光検知器、そして、アンプを
ハイブリッド集積するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, an index mark for positioning is provided on a substrate having a high thermal conductivity such as silicon carbide, and the two semiconductor lasers are accurately aligned.
This is a hybrid integration of a prism mirror for reflection, a photodetector, and an amplifier.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は本発明による光ヘッドの構
成を示すものである。すなわち、半導体基板1、2波長
モノリシックGaAs半導体レーザチップ4a、1波長GaN半
導体レーザ4b、反射ミラー5、光検知器7、8、9など
からなる集積モジュール100からのレーザ光は、それ
ぞれ、ビーム6a,6b,6cとなり、コリメータレンズ10で
平行光となり、立上げミラー11、回折格子板12など
を経て対物レンズ13に至り、光ディスク14面にスポ
ット15a、15b,16として形成される。対物レンズ
13は半導体レーザ波長に応じて複数個からなる場合、
あるいは、複数の波長の光を集光できる単体の場合があ
る。該レンズはアクチュエータ17により、光ディスク
の回転に伴う動きに応じて記録面上に焦点合わせされ、
かつ、トラッキング、すなわち、ディスク面上の記録ト
ラック18を追随するものである。かくして、半導体レ
ーザのオン・オフに応じて信号が光ディスク上にピット
の列として記録され、あるいは、既に記録されたピット
を読み出して信号を再生するものである。このように、
集積モジュール100に複数の半導体レーザを集積すれ
ば、コリメータレンズ10、対物レンズ13、立ち上げ
ミラー11などが一個となり、光ヘッドの光路を単一化
することができる。すなわち、本光ヘッドを使えば、例
えば、厚さ1.2mmのCD、CD−Rを、GaAs半導体レーザ4
aのうちの波長λa(=780nm)の発光部分で記録再生し、
厚さ0.6mmのDVD、DVD-RAMをGaAs半導体レーザ4aのうち
の波長λb(=650nm)の発光部分で記録再生し、さらに、
波長λc(=400nm)近辺のGaN半導体レーザ4bで記録再生
することができる。
FIG. 1 shows the structure of an optical head according to the present invention. That is, the laser light from the integrated module 100 composed of the semiconductor substrate 1, the two-wavelength monolithic GaAs semiconductor laser chip 4a, the one-wavelength GaN semiconductor laser 4b, the reflection mirror 5, the photodetectors 7, 8, 9 and the like is respectively a beam 6a , 6b, and 6c, which are collimated by the collimator lens 10, reach the objective lens 13 via the rising mirror 11, the diffraction grating plate 12, and the like, and are formed as spots 15a, 15b, and 16 on the optical disk 14 surface. When the objective lens 13 is composed of a plurality according to the wavelength of the semiconductor laser,
Alternatively, there is a case where a single substance capable of condensing light of a plurality of wavelengths is used. The lens is focused on the recording surface by the actuator 17 in accordance with the movement accompanying the rotation of the optical disk,
In addition, tracking, that is, tracking of the recording track 18 on the disk surface. Thus, a signal is recorded as an array of pits on the optical disk according to the ON / OFF of the semiconductor laser, or the pits already recorded are read out to reproduce the signal. in this way,
If a plurality of semiconductor lasers are integrated in the integrated module 100, the collimator lens 10, the objective lens 13, the rising mirror 11, and the like become one, and the optical path of the optical head can be unified. That is, if the present optical head is used, for example, a 1.2 mm thick CD or CD-R can be
Recording / reproducing at the light emitting portion of wavelength λa (= 780 nm) of a,
A 0.6 mm thick DVD or DVD-RAM is recorded / reproduced with the light emitting portion of wavelength λb (= 650 nm) of the GaAs semiconductor laser 4a.
Recording and reproduction can be performed by the GaN semiconductor laser 4b near the wavelength λc (= 400 nm).

【0011】図2は回折格子12を説明するものであ
る。これは偏光性の4分割回折格子23と4分の一波長
板24を張り合わせて一体にした複合素子で、半導体レ
ーザチップ側に偏光性の4分割回折格子を向けて配置す
る。偏光性の4分割回折格子は、複屈折性の光学結晶板
や液晶板からなり、入射光が常光線の場合は屈折せずに
透過し、異常光線の場合は回折格子として作用する。半
導体レーザ4a,4bから出射された直線偏光のビーム6a,6
b,6cは、偏光性の4分割回折格子と4分の1波長板の複
合素子12に入射した時、常光線として入射した場合は
偏光性回折格子部分では回折せずにそのまま透過して、
複合素子12の4分の1波長板により円偏光となる。光
ディスクで反射したレーザビーム6a,6b,6cは、複合素子
12の4分の1波長板により異常光線となり、偏光性の
4分割回折格子で回折される。図2に示した複合素子は
境界線21と22で4つの領域に分割されている。円2
0はレーザビーム6a,6bあるいは6cを示し、4分割回折
格子により、4つの+一次回折光と4つの一1次回折光
に分離されて、半導体基板1の光検知器部7、または8
に至り、光電変換されて自動焦点信号、トラックング信
号、そして、情報信号となる。以下詳細に説明する。
FIG. 2 illustrates the diffraction grating 12. This is a composite element in which a polarizing four-divided diffraction grating 23 and a quarter-wave plate 24 are bonded and integrated, and the polarizing four-divided diffraction grating is arranged facing the semiconductor laser chip side. The polarizing four-divided diffraction grating is made of a birefringent optical crystal plate or a liquid crystal plate. When incident light is ordinary light, it is transmitted without refraction, and when incident light is extraordinary light, it acts as a diffraction grating. Linearly polarized beams 6a, 6 emitted from the semiconductor lasers 4a, 4b
b, 6c, when incident on the composite element 12 of the polarizing quarter-diffraction grating and the quarter-wave plate, when incident as ordinary light, is transmitted as it is without diffracting in the polarizing diffraction grating portion,
Circularly polarized light is produced by the quarter-wave plate of the composite element 12. The laser beams 6a, 6b, and 6c reflected by the optical disk become extraordinary rays by the quarter-wave plate of the composite element 12, and are diffracted by the polarizing four-division grating. The composite device shown in FIG. 2 is divided into four regions by boundaries 21 and 22. Yen 2
Numeral 0 denotes a laser beam 6a, 6b or 6c, which is divided into four + first-order diffracted lights and four first-order diffracted lights by a four-divided diffraction grating, and the photodetector part 7 or 8 of the semiconductor substrate 1 is separated.
, And are photoelectrically converted into an auto-focus signal, a tracking signal, and an information signal. This will be described in detail below.

【0012】図3(a)は、コリメートレンズ10側か
ら見た半導体基板1の表面を示す。32aで示す8つの
黒塗りの4分の1円は、上記回折格子23で分離された
波長λaのレーザビームを示し、32bで示す8つの塗
りつぶさない4分の1円は回折格子で分離された波長λ
bのレーザビームを示す。32cは波長λcに対応して
いる。7は焦点ずれ検出信号を得るための光検出素子
で、波長λaのレーザビーム32aを受光する8つの短
冊型光検出素子7aと、波長λbのレーザビーム32b
を受光する8つの短冊型光検出素子7b、波長λcのレ
ーザビーム32cを受光する8つの短冊型光検出素子7c
とからなる。焦点ずれ検出方法は、4分割ビームによる
ナイフエッジ法(フーコー法)を用い、図3(a)に示
したごとくアルミニューム等の導電性薄膜33で結線す
れば、ワイヤーボンディング用パット34のA端子とB
端子から差動用の信号が得られる。8はトラックずれ検
出信号と情報再生信号を得るための光検出素子で、4つ
の光検出素子8の出力信号は半導体基板上に形成したア
ンプ35を通りパット34のD端子とE端子とF端子と
G端子から出力される。9は半導体レーザチップ4aと
4bの発光光量を監視するための光検出素子で、光検出
素子9の出力信号はパット34のC端子から出力され
る。点31a、31b、31cは、半導体レーザチップ
4aと4bから放射したレーザビーム6a、6b、6c
の半導体ミラー5面上の反射位置を示す。
FIG. 3A shows the surface of the semiconductor substrate 1 as viewed from the collimator lens 10 side. Eight black quarter circles indicated by 32a indicate the laser beams of the wavelength λa separated by the diffraction grating 23, and eight unfilled quarter circles indicated by 32b are separated by the diffraction grating. Wavelength λ
4B shows a laser beam. 32c corresponds to the wavelength λc. Reference numeral 7 denotes a photodetector for obtaining a defocus detection signal, which includes eight strip-shaped photodetectors 7a for receiving a laser beam 32a having a wavelength λa, and a laser beam 32b having a wavelength λb.
And eight strip-shaped photodetectors 7c for receiving the laser beam 32c of the wavelength λc.
Consists of The defocus detection method uses the knife edge method (Fouco method) using a four-divided beam, and if the wires are connected by a conductive thin film 33 of aluminum or the like as shown in FIG. And B
A signal for differential is obtained from the terminal. Reference numeral 8 denotes a photodetector for obtaining a track shift detection signal and an information reproduction signal. Output signals of the four photodetectors 8 pass through an amplifier 35 formed on a semiconductor substrate, and are connected to a D terminal, an E terminal, and an F terminal of a pad 34. And output from the G terminal. Reference numeral 9 denotes a photodetector for monitoring the amount of light emitted from the semiconductor laser chips 4a and 4b, and an output signal of the photodetector 9 is output from a terminal C of the pad 34. The points 31a, 31b and 31c correspond to the laser beams 6a, 6b and 6c emitted from the semiconductor laser chips 4a and 4b.
The reflection position on the surface of the semiconductor mirror 5 is shown.

【0013】例えば、図2に示した4つの領域の回折格
子ピッチPがすべて等しく回折格子の方向が縦線21に
対して+α度、−α度、+3α度、−3α度、とし、ま
たコリメートレンズの焦点距離をfcとすれば、回折格
子で分離された波長λaのレーザビーム32aは、点3
1aを中心とした半径Ra=fc*λa/Pの円周上で
中心から2α度の間隔の位置に集光する。同様に、回折
格子で分離された波長λbのレーザビーム32bは、点
31bを中心とした半径Rb=fc*λb/Pの円周上
で中心から2α度の間隔の位置に集光する。回折格子で
分離された波長λcのレーザビーム32cは、点31c
を中心とした半径Rc=fc*λc/Pの円周上で中心
から2α度の間隔の位置に集光する。点31aと31c
の間隔である半導体レーザチップ4aと4bの発光点間
隔Dを、ほぼD≒fc*(λc−λa)/Pとすれば、
波長λaのレーザビームの集光位置と波長λcのレーザ
ビームの集光位置をほぼ一致させることができ、本実施
例のように、異なる波長のビームで光検出素子やアンプ
を共通化でき、半導体基板1の表面を節約できるばかり
か、ワイヤーボンディング用パットや出力線の数を低減
できるので、半導体基板1を収納するパッケージの小型
化にも効果がある。
For example, the diffraction grating pitches P of the four regions shown in FIG. 2 are all equal, and the directions of the diffraction gratings are + α, −α, + 3α, and −3α with respect to the vertical line 21. Assuming that the focal length of the lens is fc, the laser beam 32a of wavelength λa separated by the diffraction grating
The light is condensed on the circumference of a radius Ra = fc * λa / P centered on 1a at a position spaced by 2α degrees from the center. Similarly, the laser beam 32b of the wavelength λb separated by the diffraction grating is condensed on a circumference of a radius Rb = fc * λb / P centered on the point 31b and at a position spaced by 2α degrees from the center. The laser beam 32c of the wavelength λc separated by the diffraction grating is
Is condensed at a position at an interval of 2α degrees from the center on a circle having a radius Rc = fc * λc / P centered at. Points 31a and 31c
If the light emitting point distance D between the semiconductor laser chips 4a and 4b, which is the distance between the light emitting points, is approximately D ≒ fc * (λc−λa) / P,
The converging position of the laser beam of wavelength λa and the converging position of the laser beam of wavelength λc can be substantially matched, and as in this embodiment, the photodetector and the amplifier can be shared by beams of different wavelengths, Not only can the surface of the substrate 1 be saved, but also the number of pads for wire bonding and the number of output lines can be reduced, which is also effective in reducing the size of the package that houses the semiconductor substrate 1.

【0014】図3(b)は、図3(a)の点線AA‘位
置における半導体基板1の断面構造を示す。半導体ミラ
ー5はレーザチップ取付け面2に対して45度の角度で
形成するのが好適である。例えば、シリコン基板による
ミラー面の加工では、シリコン(100)面を水酸化カリ
ウム系の水溶液でエッチングすると、(100)面に対す
る(111)面のエッチング速度がほぼ2桁遅い為に、平
坦な(111)面を斜面とする四角錐台状の凹部が形成さ
れるという異方性エッチングに基づいている。このと
き、 (111)面が(100)面となす角は約54.7°と
なるため、45度の半導体ミラーを形成するためには、
例えば表面に対して結晶軸が傾斜したオフアングル約
9.7度のシリコン基板を用いる必要がある。しかしなが
ら、オフアングル角は、光検出素子や電子回路形成のた
めの半導体プロセスの適合性も考慮して決める必要があ
り、半導体ミラー5が45度からずれる場合があり、レ
ーザビーム6a、6b、6cの出射方向が半導体基板1
の垂直方向からずれる場合がある。
FIG. 3B shows a cross-sectional structure of the semiconductor substrate 1 at a position indicated by a dotted line AA ′ in FIG. The semiconductor mirror 5 is preferably formed at an angle of 45 degrees with respect to the laser chip mounting surface 2. For example, in processing a mirror surface using a silicon substrate, when the silicon (100) surface is etched with a potassium hydroxide-based aqueous solution, the etching rate of the (111) surface with respect to the (100) surface is almost two orders of magnitude slower. This is based on anisotropic etching in which a truncated quadrangular pyramid-shaped recess having the (111) plane as an inclined surface is formed. At this time, since the angle between the (111) plane and the (100) plane is about 54.7 °, in order to form a 45 ° semiconductor mirror,
For example, it is necessary to use a silicon substrate having an off-angle of about 9.7 degrees whose crystal axis is inclined with respect to the surface. However, the off-angle angle needs to be determined in consideration of the suitability of the semiconductor process for forming the photodetector and the electronic circuit, and the semiconductor mirror 5 may deviate from 45 degrees, and the laser beams 6a, 6b, and 6c Of the semiconductor substrate 1
May deviate from the vertical direction.

【0015】図4(a)は、反射ミラーとして、異方性エ
ッチングによる加工ではなく、反射プリズム50を搭載
するものである。一般に、光ディスクの記録用半導体レ
ーザでは、再生専用型に比べて出力が高く、入力電力が
大きい。このため熱が発生し、これを放熱する構造を採
用する必要がある。通常、この種の半導体レーザのサブ
マウントには、シリコンカーバイトが使われる。本発明
の一実施例では、シリコンカーバイド基板51の上に半
導体レーザ4a,4bを半田付けする。半導体レーザからの
ビームは、反射ミラープリズム50で反射され、図3で
説明したと同じ光路を経て信号再生される。光検知器群
7,8を形成したシリコン基板52、53はシリコンカ
ーバイト基板51に半田付けされる。このとき、半田バ
ンプ群54によるセルフアライメント方式を使って半導
体レーザの発光点との相対位置合わせを高精度に行うこ
とができる。図4(b)は図4(a)のAA断面図である。図
4(c)は図4(a)の立面図である。
FIG. 4A shows an example in which a reflecting prism 50 is mounted as a reflecting mirror instead of processing by anisotropic etching. In general, a recording semiconductor laser for an optical disc has a higher output and a larger input power than a read-only semiconductor laser. For this reason, heat is generated, and it is necessary to adopt a structure for radiating the heat. Normally, silicon carbide is used for the submount of this type of semiconductor laser. In one embodiment of the present invention, the semiconductor lasers 4a and 4b are soldered on the silicon carbide substrate 51. The beam from the semiconductor laser is reflected by the reflecting mirror prism 50, and the signal is reproduced through the same optical path as described with reference to FIG. The silicon substrates 52 and 53 on which the photodetector groups 7 and 8 are formed are soldered to the silicon carbide substrate 51. At this time, relative alignment with the light emitting point of the semiconductor laser can be performed with high accuracy using a self-alignment method using the solder bump group 54. FIG. 4B is a sectional view taken along the line AA of FIG. FIG. 4 (c) is an elevation view of FIG. 4 (a).

【0016】図5は本発明による半導体レーザの発光点
位置を示すものである。すなわち、CD、CD-R、CD-Rewri
table光ディスクの波長λaに対応する発振波長を持つ半
導体レーザ部分とDVD、DVD-RAM光ディスクの波長λbに
対応する発振波長をもつ半導体レーザ部分をGaAs基板上
にモノリシックに形成する4a。そして、該二つの発光
点5a,5bを通常、半導体レーザの中央にある発光点位置
51a,51bと異なり、中央より左右非対称の位置に形
成する。一方、波長400nm近辺の青紫色の発振波長を持
つGaN基板の半導体レーザ4bの発光点5cを通常の発
光位置51cではなく、隣接する2波長モノリシック半
導体レーザ側に寄せて形成する。そして、両者の発光点
位置が近づく方向に2種の半導体レーザを実装する。こ
うすれば、図1で示した単路光学系において、3つの発
光点がつくる画角を小さく取ることが可能となり、光デ
ィスク上でのスポット15a、15b、16を低い収差
で形成することができる。
FIG. 5 shows a light emitting point position of the semiconductor laser according to the present invention. That is, CD, CD-R, CD-Rewri
(4a) A semiconductor laser portion having an oscillation wavelength corresponding to the wavelength λa of the optical disk and a semiconductor laser portion having an oscillation wavelength corresponding to the wavelength λb of DVD and DVD-RAM optical disks are monolithically formed on the GaAs substrate. The two light emitting points 5a and 5b are usually formed at positions asymmetrical from the center, unlike the light emitting point positions 51a and 51b at the center of the semiconductor laser. On the other hand, the light emitting point 5c of the semiconductor laser 4b of the GaN substrate having a blue-violet oscillation wavelength around 400 nm is formed not to the normal light emitting position 51c but to the adjacent two-wavelength monolithic semiconductor laser side. Then, two types of semiconductor lasers are mounted in a direction in which both light emitting point positions approach. In this way, in the single-path optical system shown in FIG. 1, the angle of view formed by the three light emitting points can be made small, and the spots 15a, 15b, and 16 on the optical disk can be formed with low aberration. .

【0017】図6(a),(b)は半導体基板1の収納パッケ
ージである。すなわち、導通ピン201のついたパッケ
ージ基板200、および、シリコン基板202からな
る。図6(b)は、図6(a)におけるA-A断面図であり、キ
ャップ203、パッケージの封止ウインド204からな
っている。パッケージのウインド204は、図1におけ
る複合素子12を兼ねることができる。
FIGS. 6A and 6B show a package for storing the semiconductor substrate 1. FIG. That is, the package substrate 200 includes the conductive pins 201 and the silicon substrate 202. FIG. 6B is a sectional view taken along the line AA in FIG. 6A and includes a cap 203 and a package sealing window 204. The package window 204 can also serve as the composite element 12 in FIG.

【0018】図7(a),(b),(c)は、半導体基板1を収納
したパッケージの別の例である。すなわち、図7(a)
はパッケージの構造を示し、(b)は破線AA‘におけ
る断面図、(c)は破線BB‘における断面図である。
42はリード線で半導体基板1のパット34とボンディ
ングワイヤーで接続される。半導体基板1を取付ける台
座43面は、レーザビーム6aや6bの出射方向が垂直
方向となるように傾けてある。44は半導体基板1を密
閉するための硝子カバーで、硝子カバー44の内側には
レーザビーム6aや6bの外周部分を反射するための反
射面45が設けてある。反射面45による反射ビームを
半導体基板1の光検出素子9で受光し、半導体レーザチ
ップ4aと4bの発光光量を監視するための信号を得
る。
FIGS. 7A, 7B and 7C show another example of a package containing the semiconductor substrate 1. FIG. That is, FIG.
FIG. 3B is a sectional view taken along a broken line AA ′, and FIG. 3C is a sectional view taken along a broken line BB ′.
Reference numeral 42 denotes a lead wire which is connected to the pad 34 of the semiconductor substrate 1 by a bonding wire. The surface of the pedestal 43 on which the semiconductor substrate 1 is mounted is inclined such that the emission directions of the laser beams 6a and 6b are vertical. Reference numeral 44 denotes a glass cover for sealing the semiconductor substrate 1, and a reflection surface 45 for reflecting the outer peripheral portions of the laser beams 6a and 6b is provided inside the glass cover 44. The light beam reflected by the reflection surface 45 is received by the photodetector 9 of the semiconductor substrate 1, and a signal for monitoring the amount of light emitted from the semiconductor laser chips 4a and 4b is obtained.

【0019】次に、複数の半導体レーザをシリコン半導
体基板に高い精度で搭載する方法について、図8、9、
10、および、図11を用いて説明する。すなわち、
図8は本発明によるインデクスパターン400をシリコ
ン基板1に付けたものである。401はソルダーパター
ンであり、この上に半導体レーザを半田接着する。ソル
ダパターン401には、電極パターン402が繋げて形
成される。
Next, a method of mounting a plurality of semiconductor lasers on a silicon semiconductor substrate with high accuracy will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIGS. That is,
FIG. 8 shows a silicon substrate 1 having an index pattern 400 according to the present invention. Reference numeral 401 denotes a solder pattern, on which a semiconductor laser is bonded by soldering. An electrode pattern 402 is connected to the solder pattern 401.

【0020】一方、図9は対応する半導体レーザ4a、
4bの裏面に形成したソルダパターン501、および、
位置合わせ用のインデクスパターン502である。図1
0は基板1上のインデクスパターン400と半導体レー
ザ4a,4bの裏面上のインデクスパターン502を位置合
わせする方法を説明するものである。すなわち、基板
1、及び、半導体レーザ4a,4bを赤外線600で表面、
あるいは、裏面から照明し、反射光、あるいは、透過光
を顕微鏡601で受け、インデクスパターンを拡大して
ビデオモニタ602に映し出す。そして、コンピュータ
603により各々のインデクスパターン400、502
のセンター位置を算出し、二つのセンターの位置ずれが
一定の値になるまで、基板1、あるいは、半導体レーザ
4a、あるいは4bを微動する。位置合わせが完了した時点
でタクトボンドし、ソルダーリフロー炉にかけて半田接
着を終了する。
FIG. 9 shows a corresponding semiconductor laser 4a,
4b, a solder pattern 501 formed on the back surface, and
This is an index pattern 502 for positioning. Figure 1
Numeral 0 describes a method of aligning the index pattern 400 on the substrate 1 with the index pattern 502 on the back surfaces of the semiconductor lasers 4a and 4b. That is, the surface of the substrate 1 and the semiconductor lasers 4a and 4b are
Alternatively, the light is illuminated from the back side, the reflected light or the transmitted light is received by the microscope 601, and the index pattern is enlarged and projected on the video monitor 602. Then, each index pattern 400, 502 is
Of the substrate 1 or the semiconductor laser until the displacement between the two centers becomes a constant value.
Finely move 4a or 4b. When the alignment is completed, tact bonding is performed, and the solder bonding is completed in a solder reflow furnace.

【0021】図11は、半導体レーザ4a,4bをミラー付
基板1に半田実装した場合の断面図で、図3(a)のA−A
‘に対応する。半導体レーザの裏面に電極501、位置合
わせ用のインデクスパターン502、が形成されてお
り、電極402、ソルダ401が形成された基板1上に半田
付けされる。半導体レーザと基板の位置合わせはインデ
クスパターン502と400の間で行われる。半導体レー
ザ4a,4bからのビームは発光点704を発してミラー5で
反射され、ビームスプリッタ、対物レンズ、そして、光
ディスクに至る。発光点704からのビームが基板の底
面で蹴られないように、基板1には台座705が形成さ
れている。
FIG. 11 is a cross-sectional view when the semiconductor lasers 4a and 4b are mounted on the mirror-attached substrate 1 by soldering.
Corresponding to '. An electrode 501 and an index pattern 502 for alignment are formed on the back surface of the semiconductor laser, and are soldered on the substrate 1 on which the electrode 402 and the solder 401 are formed. The alignment between the semiconductor laser and the substrate is performed between the index patterns 502 and 400. Beams from the semiconductor lasers 4a and 4b emit a light emitting point 704 and are reflected by the mirror 5 to reach a beam splitter, an objective lens, and an optical disk. A pedestal 705 is formed on the substrate 1 so that the beam from the light emitting point 704 is not kicked on the bottom surface of the substrate.

【0022】図12は本発明による集積モジュールの他
の実施例である。すなわち、シリコン、あるいはGaN基
板1に光検知器32 a、32b、32cからの光電流を増
幅するアンプ900をモノリシックに形成するものであ
る。かくして、部品点数削減による集積度の向上をはか
ることが可能となる。
FIG. 12 shows another embodiment of the integrated module according to the present invention. That is, the amplifier 900 for amplifying the photocurrent from the photodetectors 32a, 32b, 32c is monolithically formed on the silicon or GaN substrate 1. Thus, it is possible to improve the degree of integration by reducing the number of components.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数個の半導体レーザを搭載する光ヘッドを小型、集積
化することが可能となり、CD、DVD,青紫レーザ対応
光ディスクなど再生、記録を問わず光ディスク装置全体
の小型、薄型化が実現できる。
As described above, according to the present invention,
An optical head on which a plurality of semiconductor lasers are mounted can be reduced in size and integrated, and the entire optical disk device can be reduced in size and thickness regardless of reproduction or recording, such as an optical disk compatible with CD, DVD, and blue-violet laser.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による集積光源モジュールを搭載した単
一光路の光ヘッド。
FIG. 1 is an optical head having a single optical path on which an integrated light source module according to the present invention is mounted.

【図2】ビーム分割用複合素子。FIG. 2 is a composite element for beam splitting.

【図3】本発明による集積光源の構造図。FIG. 3 is a structural view of an integrated light source according to the present invention.

【図4】プリズムミラーを配置した集積光源。FIG. 4 is an integrated light source provided with a prism mirror.

【図5】半導体レーザの発光点位置を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a light emitting point position of a semiconductor laser.

【図6】集積光源のパッケージ形態。FIG. 6 shows a package form of an integrated light source.

【図7】本発明による集積光源を横形のフラットパッケ
ージに搭載した図。
FIG. 7 is a diagram in which the integrated light source according to the present invention is mounted on a horizontal flat package.

【図8】本発明による集積光源の集積基板と位置合わせ
インデクス、半田パターン、電極を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing an integrated substrate, an alignment index, a solder pattern, and electrodes of an integrated light source according to the present invention.

【図9】半導体レーザに付けた位置合わせ用のインデク
スパターン。
FIG. 9 is an index pattern for alignment applied to a semiconductor laser.

【図10】インデクス付の半導体レーザ光源と、対応す
るインデクスパターンの付いた集積基板を位置合わせす
る方法を示す。
FIG. 10 shows a method of aligning a semiconductor laser light source with an index and an integrated substrate with a corresponding index pattern.

【図11】図3(a)のA−A‘断面図。FIG. 11 is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【図12】本発明による集積基板にアンプ、光検知器な
どOEIC(Optoelectric IntegratedCircuit)をモノリシッ
クに集積化した場合の図。
FIG. 12 is a diagram showing a case where an OEIC (Optoelectric Integrated Circuit) such as an amplifier and a photodetector is monolithically integrated on an integrated substrate according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:半導体基板、2:半導体レーザ取りつけ面、4a:
2波長モノリシック半導体レーザチップ,4b:1波長半
導体レーザチップ、5:反射ミラー、6a,6b、6c:半
導体レーザからのビーム、7:光検知器、8:光検知
器、9:光モニター検知器、10:コリメータレンズ、
11:立ち上げミラー、12:回折格子と波長板の複合
素子、13対物レンズ、14:光ディスク、15a、1
5b、16:光スポット、17:アクチュエータ、1
8:トラック。21:境界線、22:回折格子、23:
回折格子、24:4分の1波長板。31a,31b、31
c:ミラー上のスポット、32a,32b、32c:自動焦点検出
光スポット、33:配線、34:電極パット、35:アン
プ。5a,5b,5c:本発明による半導体レーザの発光点、51
a,51b,51c;通常の半導体レーザの発光点位置、20
0:パッケージ台、201:導通ピン、203:キャッ
プ、204:ウインド。41:ケース、42:リードフ
レーム、43:台、44:ウインド、45:反射膜。4
00:インデクスマーク、401:ソルダーパターン、
402:電極パターン。501:半導体レーザの電極パ
ターン、502:半導体レーザのインデクスマーク。6
00:赤外線、601:赤外線カメラ、602:モニタ
ー、603:コンピュータ。704:半導体レーザの発
光点、705:台。900:アンプ付きのOEIC基板。
1: semiconductor substrate, 2: semiconductor laser mounting surface, 4a:
2 wavelength monolithic semiconductor laser chip, 4b: 1 wavelength semiconductor laser chip, 5: reflection mirror, 6a, 6b, 6c: beam from semiconductor laser, 7: light detector, 8: light detector, 9: light monitor detector , 10: collimator lens,
11: rising mirror, 12: composite element of diffraction grating and wave plate, 13 objective lens, 14: optical disk, 15a, 1
5b, 16: light spot, 17: actuator, 1
8: Truck. 21: boundary line, 22: diffraction grating, 23:
Diffraction grating, 24: quarter wave plate. 31a, 31b, 31
c: spot on a mirror, 32a, 32b, 32c: light spot for automatic focus detection, 33: wiring, 34: electrode pad, 35: amplifier. 5a, 5b, 5c: emission point of the semiconductor laser according to the present invention, 51
a, 51b, 51c; light emitting point position of normal semiconductor laser, 20
0: package base, 201: conduction pin, 203: cap, 204: window. 41: case, 42: lead frame, 43: table, 44: window, 45: reflective film. 4
00: index mark, 401: solder pattern,
402: electrode pattern. 501: electrode pattern of the semiconductor laser, 502: index mark of the semiconductor laser. 6
00: infrared, 601: infrared camera, 602: monitor, 603: computer. 704: emission point of the semiconductor laser, 705: stage. 900: OEIC board with amplifier.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01S 5/022 H01S 5/022 5/026 5/026 (72)発明者 島野 健 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 中村 滋 茨城県ひたちなか市稲田1410番地 株式会 社日立製作所デジタルメディア製品事業部 内 (72)発明者 有川 康之 茨城県ひたちなか市稲田1410番地 株式会 社日立製作所デジタルメディア製品事業部 内 Fターム(参考) 5D119 AA02 AA41 BA01 CA10 EC45 EC47 FA05 FA08 JA57 LB04 MA09 NA05 5F073 AB06 AB27 AB29 CA01 EA04 FA13 FA23 FA27 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01S 5/022 H01S 5/022 5/026 5/026 (72) Inventor Ken Shimano Kenichi Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Chome 280 Hitachi Central Research Laboratory, Inc. (72) Inventor Shigeru Nakamura 1410 Inada, Hitachinaka-shi, Ibaraki Pref. Digital Media Products Division, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Yasuyuki Arikawa 1410 Inada, Hitachinaka-shi, Ibaraki Stock Hitachi Digital Media Products Division F-term (reference) 5D119 AA02 AA41 BA01 CA10 EC45 EC47 FA05 FA08 JA57 LB04 MA09 NA05 5F073 AB06 AB27 AB29 CA01 EA04 FA13 FA23 FA27

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】波長780nm、650nmの異なる2個の発光部を
持つモノリシックなGaAs半導体レーザと、波長410nmのG
aN半導体レーザを、対応する波長に感度を持つ自動焦点
検出、および、トラッキング検出用光検知器をモノリシ
ックに形成した半導体基板からなる集積モジュールを搭
載した光ヘッドにより、光ディスクを記録再生する装置
において、該2種の半導体レーザの発光点を、前記GaAs
半導体レーザと前記GaN半導体レーザとの中央に対して
左右非対称位置に形成し、該複数の発光点を該光ヘッド
光学系の画角が許容する範囲内にはいるように互いに近
づけて配列したことを特徴とする集積光ヘッド装置。
1. A monolithic GaAs semiconductor laser having two light emitting portions having different wavelengths of 780 nm and 650 nm, and a G laser having a wavelength of 410 nm.
aN semiconductor laser, automatic focus detection with sensitivity to the corresponding wavelength, and an optical head mounted with an integrated module consisting of a semiconductor substrate monolithically formed with a photodetector for tracking detection, in an apparatus for recording and reproducing optical disks, The emission points of the two types of semiconductor lasers are
The semiconductor laser and the GaN semiconductor laser are formed at right and left asymmetric positions with respect to the center, and the plurality of light emitting points are arranged close to each other so that the angle of view of the optical head optical system is within an allowable range. An integrated optical head device comprising:
【請求項2】請求項1記載の集積光ヘッド装置におい
て、該複数の半導体レーザ、および、該半導体基板のい
ずれか、または両方に位置合わせ用のマークを付けたこ
とを特徴とする集積光ヘッド装置。
2. An integrated optical head device according to claim 1, wherein said plurality of semiconductor lasers and / or one or both of said semiconductor substrates are provided with alignment marks. apparatus.
【請求項3】請求項1記載の集積光ヘッド装置におい
て、該半導体基板に斜めミラーをエッチング加工し、か
つ、該複数の半導体レーザ、および、該半導体基板のい
ずれか、または両方に位置合わせ用のマークを付けたこ
とを特徴とする集積光ヘッド装置。
3. An integrated optical head device according to claim 1, wherein an oblique mirror is etched on said semiconductor substrate, and said plurality of semiconductor lasers and / or one or both of said semiconductor substrates are aligned. An integrated optical head device characterized by the following mark.
【請求項4】請求項1記載の集積光ヘッド装置におい
て、該光検知器からの光電流を増幅するアンプを該半導
体基板にモノリシックに形成し、かつ、斜めミラーを加
工した該半導体基板、及び、該半導体レーザのいずれ
か、または、両方に位置合わせ用のマークを付けたこと
を特徴とする集積光ヘッド装置。
4. An integrated optical head device according to claim 1, wherein an amplifier for amplifying a photocurrent from said photodetector is monolithically formed on said semiconductor substrate, and said semiconductor substrate is processed with an oblique mirror. An integrated optical head device, wherein a mark for alignment is attached to one or both of the semiconductor lasers.
【請求項5】請求項1記載の集積光ヘッド装置におい
て、該光検知器、光電流増幅器をモノリシックに形成
し、かつ、斜めミラーを加工した該半導体基板と、該半
導体レーザとにつける位置合わせ用のマークを、該半導
体レーザと、該基板が接する面に付け、赤外の透過光、
あるいは反射光で画像処理による位置合わせをするたこ
とを特徴とする集積光ヘッド装置。
5. The integrated optical head device according to claim 1, wherein said photodetector and said photocurrent amplifier are formed monolithically, and said semiconductor substrate on which a diagonal mirror is processed and said semiconductor laser are aligned. Mark for the semiconductor laser and the surface in contact with the substrate, infrared transmitted light,
Alternatively, an integrated optical head device in which alignment is performed by image processing using reflected light.
【請求項6】請求項2記載の集積光ヘッド装置におい
て、位置合わせ用のマークを付け、かつ、光検知器をモ
ノリシックに形成した基板に位置合わせ用のマークを付
け、かつ、45°の傾斜を持つプリズムミラーをシリコ
ンカーバイトの放熱基板上にハイブリッド集積したこと
を特徴とする集積光ヘッド装置。
6. An integrated optical head device according to claim 2, wherein a mark for positioning is provided, and a mark for positioning is provided on a substrate on which a photodetector is formed in a monolithic manner, and a 45 ° inclination is provided. An integrated optical head device, wherein a prism mirror having the following is hybrid-integrated on a heat sink substrate of silicon carbide.
【請求項7】前記GaAs半導体レーザの発光点は、GaAsレ
ーザーチップの中央よりも端に寄せて形成されているこ
とを特徴とする請求項1記載の集積光ヘッド装置。
7. The integrated optical head device according to claim 1, wherein a light emitting point of said GaAs semiconductor laser is formed closer to an end than a center of the GaAs laser chip.
【請求項8】前記GaN半導体レーザの発光点は、Ga
Nレーザーチップの中央よりも端に寄せて形成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の集積光ヘッド装置。
8. The light emitting point of the GaN semiconductor laser is Ga
2. The integrated optical head device according to claim 1, wherein the N laser chip is formed closer to the end than the center.
【請求項9】請求項1記載の集積光ヘッド装置におい
て、該光検知器からの光電流を増幅するアンプを該半導
体基板にハイブリッドに搭載し、かつ、斜めミラーを加
工した該半導体基板、及び、該半導体レーザのいずれ
か、または、両方に位置合わせ用のマークを付けたこと
を特徴とする集積光ヘッド装置。
9. An integrated optical head device according to claim 1, wherein an amplifier for amplifying a photocurrent from said photodetector is mounted on said semiconductor substrate in a hybrid manner, and said semiconductor substrate is formed with a diagonal mirror, and An integrated optical head device, wherein a mark for alignment is attached to one or both of the semiconductor lasers.
JP2000215881A 2000-07-12 2000-07-12 Integrated optical head device Pending JP2002025104A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000215881A JP2002025104A (en) 2000-07-12 2000-07-12 Integrated optical head device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000215881A JP2002025104A (en) 2000-07-12 2000-07-12 Integrated optical head device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002025104A true JP2002025104A (en) 2002-01-25
JP2002025104A5 JP2002025104A5 (en) 2004-12-16

Family

ID=18711235

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000215881A Pending JP2002025104A (en) 2000-07-12 2000-07-12 Integrated optical head device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002025104A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032454A (en) * 2004-07-13 2006-02-02 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor laser package and manufacturing method thereof
JP2006108168A (en) * 2004-09-30 2006-04-20 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor laser apparatus, optical pickup apparatus, and optical recording medium driving apparatus
US7260132B2 (en) 2005-04-08 2007-08-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor laser apparatus
WO2008020581A1 (en) * 2006-08-16 2008-02-21 Alps Electric Co., Ltd. Light-emitting device and hologram reproducer employing the light-emitting device
JP2010027148A (en) * 2008-07-18 2010-02-04 Sharp Corp Optical pickup apparatus
JP2010044859A (en) * 2001-06-04 2010-02-25 Panasonic Corp Optical pickup head and information recording/reproducing apparatus
JP2010258467A (en) * 2010-06-25 2010-11-11 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor laser device and optical pickup device
US7924664B2 (en) 2003-06-26 2011-04-12 Hitachi-Lg Data Storage, Inc. Optical disk apparatus, optical head, and detection signal processing method thereof
USRE43126E1 (en) 2001-06-04 2012-01-24 Panasonic Corporation Optical pickup head and information recording/reproducing device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010044859A (en) * 2001-06-04 2010-02-25 Panasonic Corp Optical pickup head and information recording/reproducing apparatus
USRE43126E1 (en) 2001-06-04 2012-01-24 Panasonic Corporation Optical pickup head and information recording/reproducing device
US7924664B2 (en) 2003-06-26 2011-04-12 Hitachi-Lg Data Storage, Inc. Optical disk apparatus, optical head, and detection signal processing method thereof
JP2006032454A (en) * 2004-07-13 2006-02-02 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor laser package and manufacturing method thereof
JP2006108168A (en) * 2004-09-30 2006-04-20 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor laser apparatus, optical pickup apparatus, and optical recording medium driving apparatus
JP4731148B2 (en) * 2004-09-30 2011-07-20 三洋電機株式会社 Semiconductor laser device, optical pickup device, and optical recording medium driving device
US7260132B2 (en) 2005-04-08 2007-08-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor laser apparatus
WO2008020581A1 (en) * 2006-08-16 2008-02-21 Alps Electric Co., Ltd. Light-emitting device and hologram reproducer employing the light-emitting device
JP2010027148A (en) * 2008-07-18 2010-02-04 Sharp Corp Optical pickup apparatus
JP2010258467A (en) * 2010-06-25 2010-11-11 Sanyo Electric Co Ltd Semiconductor laser device and optical pickup device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1047051A2 (en) Light emitting module and compatible optical pickup device adopting the same
US6937554B2 (en) Optical pickup apparatus having an improved holographic unit, and optical disk drive including the same
JP3614746B2 (en) Semiconductor laser device and optical pickup device
US6134208A (en) Optical pickup device with a plurality of laser couplers
KR100632860B1 (en) Optical head and fabrication method
JP2004227746A (en) Optical pickup device and semiconductor laser device
KR100253810B1 (en) Optical source module with two kinds of wavelengths and optical pickup device thereof
JP2002025104A (en) Integrated optical head device
US7106681B1 (en) Optical head arrangements with single substrate lasers
KR20030061268A (en) Diode laser module and application equipment
US7113471B2 (en) Optical pickup device with a plurality of laser couplers
US6504812B2 (en) Optical pickup device with a plurality of laser couplers
JP3361335B2 (en) Semiconductor laser device
JP2001143297A (en) 3-laser module and optical head or optical information medium recorder-reproducer using the module
JPH1049904A (en) Optical pickup
KR100293464B1 (en) optical source module for generating beams different from the wave length and method for fabricating the same and optical pick-up apparatus using the same
JPH1027374A (en) Semiconductor laser module
JPH11242828A (en) Optical device and optical pickup device
JP2002304761A (en) Optical pickup device
JPH05205339A (en) Magnetooptical recording polarization optical system
JP2003059094A (en) Optical pickup device and method of manufacturing the same
JP2003059069A (en) Optical pickup device and optical disk unit
JPH0773493A (en) Optical pickup and optical disk device loading the same
JPH11283274A (en) Optical device
JP2001143311A (en) Optical head device and optical information processor

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040109

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050701

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051004

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051201

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20060418

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060905

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070227