JP2002012893A - Cleansing composition - Google Patents
Cleansing compositionInfo
- Publication number
- JP2002012893A JP2002012893A JP2000193452A JP2000193452A JP2002012893A JP 2002012893 A JP2002012893 A JP 2002012893A JP 2000193452 A JP2000193452 A JP 2000193452A JP 2000193452 A JP2000193452 A JP 2000193452A JP 2002012893 A JP2002012893 A JP 2002012893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- present
- carbon atoms
- weight
- cleaning
- alicyclic hydrocarbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、精密機
械、精密機械部品、ガラス、プラスチック表面などのフ
ラックス、油脂汚れ、金属粉末や塩による汚れなどの洗
浄に適した新規洗浄用組成物に関する。The present invention relates to a novel cleaning composition suitable for cleaning LSIs, precision machines, precision machine parts, fluxes on oily surfaces such as glass and plastics, grease stains, stains with metal powders and salts, and the like.
【０００２】[0002]
【従来技術】前記技術分野の洗浄にさいしては、従来、
環境や人体に問題のあるフロン、代替フロン、トリクロ
ロエタンあるいはトルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素、酢酸ブチル、酢酸エチルなどのエステル類、メチ
ルエチルケトンやアセトンなどのケトン類、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール類など有機溶剤中毒予防
規則、別表第六の二記載の有機溶剤などが洗浄剤として
用いられてきた。しかしながら、これらの溶剤は、人体
に有害であるだけではなく、オゾン層を破壊したり、温
室効果を助長するなど地球環境を悪化させるおそれがあ
り、その代替品の出現が強く求められている。2. Description of the Related Art Conventionally, for cleaning in the above technical field,
Organic substances such as chlorofluorocarbon, trichloroethane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, and alcohols such as isopropyl alcohol, which are problematic for the environment and the human body. Organic solvents described in the Solvent Poisoning Prevention Regulations, Appendix 6-2 have been used as cleaning agents. However, these solvents are not only harmful to the human body, but also may degrade the global environment such as destroying the ozone layer and promoting the greenhouse effect, and the emergence of alternatives is strongly demanded.
【０００３】このような状況下で、グリコールエーテル
を洗浄剤成分として使用することが提案されているが、
この場合はいずれのケースもグリコールエーテルの水溶
性である性質を利用し、界面活性剤とともに水系で利用
するものであり、その効果はまだ充分満足できるもので
はない。Under such circumstances, it has been proposed to use glycol ether as a detergent component.
In each case, the water solubility of the glycol ether is used in each case, and the glycol ether is used in an aqueous system together with a surfactant, and the effect is not yet sufficiently satisfactory.
【０００４】さらに、特開平５−１２５３９５号公報に
おいては、グリコール系溶剤、アミン類および／または
界面活性剤からなる洗浄用組成物が開示されているが、
アミン類や界面活性剤を使用すると廃液処理にいろいろ
な問題点が生じる。すなわち、アミン類や界面活性剤を
使用すると、被洗浄物に付着するため、アルコールや純
水などの試薬でリンスする必要があり、その結果、工程
数が増えるうえ、洗浄廃液の量も増大し、廃液処理の負
荷が大きくなる。また、これらのリンス液がアルカリ性
を示す場合には、中和の必要があり、一層廃液量が増大
するという問題がある。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-125395 discloses a cleaning composition comprising a glycol solvent, an amine and / or a surfactant.
The use of amines and surfactants causes various problems in waste liquid treatment. In other words, when amines or surfactants are used, they adhere to the object to be cleaned, and must be rinsed with a reagent such as alcohol or pure water. As a result, the number of steps increases, and the amount of cleaning waste liquid increases. In addition, the load of waste liquid treatment increases. Further, when these rinsing liquids show alkalinity, they need to be neutralized, and there is a problem that the amount of waste liquid further increases.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フロ
ン、代替フロン、塩素系溶剤あるいはトルエン、キシレ
ンなどの炭化水素に代わり、オゾン層を破壊せず人体に
も安全で、廃水処理に難点がなく、かつ極性のものから
非極性のものまで広い範囲に至って高い洗浄能力を発揮
できる電子部品、機械、精密部品などの洗浄に適した洗
浄用組成物を提供する点にある。An object of the present invention is to replace chlorofluorocarbons, chlorofluorocarbons, chlorinated solvents or hydrocarbons such as toluene and xylene in place of destroying the ozone layer and safe for the human body. An object of the present invention is to provide a cleaning composition suitable for cleaning electronic parts, machines, precision parts, and the like, which can exhibit high cleaning performance in a wide range from polar to non-polar ones.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、（Ａ）
炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜９のグリコール
エーテル系化合物、（Ｂ）炭素数５〜２０の脂肪族およ
び／または脂環族の炭化水素および（Ｃ）トリアゾール
系化合物を含有することを特徴とする洗浄用組成物に関
する。Means for Solving the Problems The first aspect of the present invention is that (A)
Contains a glycol ether compound having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 9 carbon atoms, (B) an aliphatic and / or alicyclic hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms, and (C) a triazole compound. A cleaning composition characterized by the following:
【０００７】本発明の第二は、（Ａ）炭素数１〜１０、
好ましくは炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物
１０〜９５重量％、（Ｂ）炭素数５〜２０の脂肪族およ
び／または脂環族の炭化水素５〜９０重量％および
（Ｃ）トリアゾール系化合物１ｐｐｍ〜５重量％を含有
することを特徴とする油成分除去のための洗浄用組成物
に関する。A second aspect of the present invention is that (A) a carbon number of 1 to 10,
Preferably 10 to 95% by weight of a glycol ether compound having 1 to 9 carbon atoms, (B) 5 to 90% by weight of an aliphatic and / or alicyclic hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms and (C) a triazole compound The present invention relates to a cleaning composition for removing an oil component, comprising 1 ppm to 5% by weight.
【０００８】本発明の第三は、（Ａ）炭素数１〜１０、
好ましくは炭素数１〜９のグリコールエーテル系化合物
５０〜９５重量％、（Ｂ）炭素数５〜２０の脂肪族およ
び／または脂環族の炭化水素５〜５０重量％および
（Ｃ）トリアゾール系化合物１ｐｐｍ〜５重量％を含有
することを特徴とするハンダフラックス除去のための洗
浄用組成物に関する。[0008] The third aspect of the present invention is that (A) carbon number 1 to 10,
Preferably 50 to 95% by weight of a glycol ether compound having 1 to 9 carbon atoms, 5 to 50% by weight of (B) an aliphatic and / or alicyclic hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms and (C) a triazole compound The present invention relates to a cleaning composition for removing solder flux, comprising 1 ppm to 5% by weight.
【０００９】本発明で用いる炭素数１〜１０のグリコー
ルエーテル系化合物（Ａ）は、水に対する溶解度がほぼ
無限大のものであり、かつイソパラフィンやシクロヘキ
サンなどの炭素数５〜２０の脂肪族および／または脂環
族炭化水素（Ｂ）と自由に混合、溶解できるので、本発
明においては、極性が極端に異なるこれら（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の配合割合を自由に変更して、フラックス洗
浄用からＬＳＩあるいはオイルの洗浄にいたる極めて幅
広い洗浄用途に有効である。The glycol ether compound (A) having 1 to 10 carbon atoms used in the present invention has an almost infinite solubility in water, and has 5 to 20 carbon atoms such as isoparaffin and cyclohexane. Alternatively, since it can be freely mixed and dissolved with the alicyclic hydrocarbon (B), in the present invention, the mixing ratio of the component (A) and the component (B) having extremely different polarities is freely changed to perform flux cleaning. It is effective for an extremely wide range of cleaning applications from cleaning to LSI or oil cleaning.
【００１０】また、本発明における（Ａ）成分も（Ｂ）
成分も、それぞれ沸点が約８０〜３００℃の範囲の化合
物をカバーしているので、（Ａ）成分と（Ｂ）成分のな
かからそれぞれほぼ同程度の沸点をもつ成分を選択する
ことにより、低沸点領域はもとより８０〜３００℃程度
の任意の範囲の沸点をもつ洗浄用組成物を調合すること
が可能である。In the present invention, the component (A) is also a component (B).
The components also cover compounds having a boiling point in the range of about 80 to 300 ° C., respectively. Therefore, by selecting components having substantially the same boiling point from the components (A) and (B), low components can be obtained. It is possible to prepare a cleaning composition having a boiling point in an arbitrary range of about 80 to 300 ° C. as well as a boiling point.
【００１１】印刷インキなど樹脂成分を含む材料の洗浄
には、（Ｂ）成分としてシクロヘキサンのような脂環族
炭化水素の使用がとくに効果的である。The use of an alicyclic hydrocarbon such as cyclohexane as the component (B) is particularly effective for cleaning a material containing a resin component such as printing ink.
【００１２】本発明組成物は、被洗浄物により、好まし
い組成範囲がやや異なってくる。本発明に用いるグリコ
ールエーテル系化合物（Ａ）はオイルも溶解するが特に
極性の物質を溶解する効果が高く、本発明の脂肪族また
は脂環族炭化水素（Ｂ）はオイル洗浄力が非常に高い。
そのため、洗浄したい汚れの種類や素材の種類によっ
て、つまり、用途によって、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
配合比率の好適範囲が存在する。The preferred composition range of the composition of the present invention is slightly different depending on the object to be cleaned. The glycol ether compound (A) used in the present invention dissolves oil but has a particularly high effect of dissolving polar substances, and the aliphatic or alicyclic hydrocarbon (B) of the present invention has a very high oil detergency. .
Therefore, there is a suitable range of the mixing ratio of the component (A) and the component (B) depending on the type of dirt or material to be cleaned, that is, depending on the use.
【００１３】又、実際の汚れは単一の物質であることの
方がむしろ少なく、オイルの中にも微量の金属粉末や塩
などの極性物質が混入していたり、フラックス汚れにも
オイル性のものが付着していたりするので、両方の成分
を必ず含むことが現実的な洗浄力の向上に非常に効果的
である。用途別にその範囲をまとめると以下の表１のよ
うになる。[0013] In addition, actual dirt is rarely a single substance, and a small amount of a polar substance such as metal powder or salt is mixed in the oil. It is extremely effective to include both components without fail, since the substances are adhered to them, and it is very effective to actually improve the cleaning power. Table 1 below summarizes the range for each application.
【００１４】[0014]
【表１】 [Table 1]
【００１５】本発明に用いる（Ａ）成分のグリコールエ
ーテル系化合物としては、エチレングリコールジメチル
エーテル(沸点ｂｐ８５℃、引火点ＦＰ−２℃)、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル(ｂｐ１２１℃、Ｆ
Ｐ３２℃)、エチレングリコールモノメチルエーテル(ｂ
ｐ１２５℃、ＦＰ３９℃)、プロピレングリコールモノ
プロピルエーテル(ｂｐ１５０℃、ＦＰ４９℃)、エチレ
ングリコールモノイソプロピルエーテル(ｂｐ１４２
℃、ＦＰ４６℃)、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル(ｂｐ１７０℃、ＦＰ６２℃)、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル(ｂｐ１８７℃、ＦＰ７６
℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ｂｐ２
３１℃、ＦＰ１１７℃)、エチレングリコールモノイソ
プロピルエーテル(ｂｐ１４２℃、ＦＰ４６℃)、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル(ｂｐ１６２℃、ＦＰ
７１℃)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル(ｂｐ２４２℃、ＦＰ１１３℃)、トリエチレングリコ
ールモノブチルエーテル(ｂｐ２７１℃、ＦＰ１５６
℃)、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(ｂｐ
２９５℃、ＦＰ１８２℃)などを挙げることができ、使
用にあたってはこれらの１種または２種以上を選択使用
することができる。As the glycol ether compound of the component (A) used in the present invention, ethylene glycol dimethyl ether (boiling point bp 85 ° C., flash point FP-2 ° C.), propylene glycol monomethyl ether (bp 121 ° C., F
P32 ° C), ethylene glycol monomethyl ether (b
p125 ° C, FP39 ° C), propylene glycol monopropyl ether (bp 150 ° C, FP49 ° C), ethylene glycol monoisopropyl ether (bp 142
FP46 ° C), propylene glycol monobutyl ether (bp 170 ° C, FP62 ° C), dipropylene glycol monomethyl ether (bp 187 ° C, FP76
° C), diethylene glycol monobutyl ether (bp2
31 ° C., FP 117 ° C.), ethylene glycol monoisopropyl ether (bp 142 ° C., FP 46 ° C.), diethylene glycol diethyl ether (bp 162 ° C., FP
71 ° C), tripropylene glycol monomethyl ether (bp 242 ° C, FP113 ° C), triethylene glycol monobutyl ether (bp 271 ° C, FP156
° C), polyethylene glycol monomethyl ether (bp
295 ° C., FP 182 ° C.) and the like, and one or more of these can be selected for use.
【００１６】本発明で用いる（Ｂ）成分の脂肪族炭化水
素としては、ｎ−ペンタン、ジメチルエチルメタン、ｎ
−ヘキサン、２−メチルペンタン、３−メチルペンタ
ン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタ
ン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘ
キサン、２，２−ジメチルペンタン、２，３−ジメチル
ペンタン、２，４−ジメチルペンタン、３，３−ジメチ
ルペンタン、３−エチルペンタン、２，２，３−トリメ
チルブタン、あるいはｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−
デカン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、ｎ−トリデカ
ン、ｎ−テトラデカン、ｎ−ペンタデカン、ｎ−ヘキサ
デカン、ｎ−ヘプタデカン、ｎ−オクタデカン、ｎ−ノ
ナデカン、ｎ−エイコサンなどのパラフィンあるいはこ
れらのイソ構造体（イソパラフィン）を挙げることがで
き、使用にあたっては、これらの１種または２種以上を
選択使用することができる。たとえば、俗にいうイソパ
ラフィンは、Ｃ６〜Ｃ８あるいはＣ６〜Ｃ９の混合物な
どの形で石油中に存在するが、このような混合物の形で
あっても本発明においては充分使用できる。これらのイ
ソパラフィンとしては、商品名ＩＰソルベント１０１６
(ｂｐ７３〜１４０℃、ＦＰ−１２℃)、アイソパーＥ
(ｂｐ１１３〜１３８℃、ＦＰ７℃)、アイソパーＧ(ｂ
ｐ１５６〜１７５℃、ＦＰ４１℃)、アイソパーＨ(ｂｐ
１７６〜１９２℃、ＦＰ５３℃)、アイソパーＬ(ｂｐ１
８８〜２１０℃、ＦＰ６４℃)、ＩＰソルベント１６２
０(ｂｐ１６６〜２０２℃、ＦＰ４９℃)、ＩＰソルベン
ト２０２８(ｂｐ２１３〜２６２℃、ＦＰ８６℃)、アイ
ソパーＭ(ｂｐ２０８〜２５４℃、ＦＰ８３℃)、ＩＰソ
ルベント２８３５(ｂｐ２７７〜３５３℃、ＦＰ１３９
℃)などがある。またｎ−パラフィンとして、ｂｐ１６
９〜１７３℃、ＦＰ５３℃のもの、ｂｐ１８９〜１９４
℃、ＦＰ７０℃のもの、ｂｐ２０８〜２１１℃、ＦＰ８
６℃のもの、ｂｐ２２６〜２２９℃、ＦＰ９９℃のもの
なども使用できる。The aliphatic hydrocarbon (B) used in the present invention includes n-pentane, dimethylethylmethane, n-pentane,
-Hexane, 2-methylpentane, 3-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, n-heptane, 2-methylhexane, 3-methylhexane, 2,2-dimethylpentane, 2, 3-dimethylpentane, 2,4-dimethylpentane, 3,3-dimethylpentane, 3-ethylpentane, 2,2,3-trimethylbutane, or n-octane, n-nonane, n-
Paraffins such as decane, n-undecane, n-dodecane, n-tridecane, n-tetradecane, n-pentadecane, n-hexadecane, n-heptadecane, n-octadecane, n-nonadecane, n-eicosane, and isostructures thereof. (Isoparaffin), and one or more of these can be selected for use. For example, commonly-known isoparaffins are present in petroleum in the form of a mixture of C 6 -C 8 or C 6 -C 9 , and such a mixture can be sufficiently used in the present invention. These isoparaffins include trade name IP Solvent 1016
(bp 73-140 ° C, FP-12 ° C), Isopar E
(bp 113-138 ° C, FP7 ° C), Isopar G (b
p156-175 ° C, FP41 ° C), Isopar H (bp
176-192 ° C, FP53 ° C), Isopar L (bp1
88-210 ° C, FP64 ° C), IP Solvent 162
0 (bp 166-202 ° C, FP49 ° C), IP Solvent 2028 (bp 213-262 ° C, FP86 ° C), Isopar M (bp 208-254 ° C, FP83 ° C), IP Solvent 2835 (bp 277-353 ° C, FP139)
° C). Also, as n-paraffin, bp16
9-173 ° C, FP53 ° C, bp 189-194
° C, FP70 ° C, bp 208 ~ 211 ° C, FP8
6 ° C., bp 226 to 229 ° C., FP 99 ° C. and the like can also be used.
【００１７】本発明に用いるもう１つの（Ｂ）成分であ
る脂環族炭化水素としては、シクロペンタン、シクロヘ
キサンあるいはこれらのアルキル基置換体を挙げること
ができる。勿論、本発明においては脂環族炭化水素同士
の混合物として使用することができるが、脂環族炭化水
素と脂肪族炭化水素との混合物の形でも使用することが
できる。The alicyclic hydrocarbon, which is another component (B) used in the present invention, includes cyclopentane, cyclohexane and their alkyl group-substituted products. Of course, in the present invention, it can be used as a mixture of alicyclic hydrocarbons, but it can also be used in the form of a mixture of an alicyclic hydrocarbon and an aliphatic hydrocarbon.
【００１８】本発明で使用する第３の成分（Ｃ）である
トリアゾール系化合物としては、１，２，３−ベンゾト
リアゾール、４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、
５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、クロロベンゾ
トリアゾールなどが挙げられる。その使用量は全組成物
に対し１ｐｐｍ〜５重量％、好ましくは１０ｐｐｍ〜２
重量％、とくに好ましくは１０ｐｐｍ〜０．５重量％で
ある。The triazole compound as the third component (C) used in the present invention includes 1,2,3-benzotriazole, 4-methyl-1H-benzotriazole,
5-methyl-1H-benzotriazole, chlorobenzotriazole and the like. The amount used is 1 ppm to 5% by weight, preferably 10 ppm to 2% by weight based on the total composition.
%, Particularly preferably from 10 ppm to 0.5% by weight.
【００１９】とくに銀あるいは銀メッキしたものの表面
は、着色しやすく、また光沢を失ってくもりやすいの
で、洗浄剤の選択が重要である。水道水、アルコール類
あるいはグリコールエーテル類をそれぞれ単独で使用し
て洗浄すると、銀表面にくもりや着色が生じるが、本発
明の（Ａ）成分と（Ｂ）成分を併用した洗浄剤を用いる
場合には、このような欠陥は生じにくいが、ベンゾトリ
アゾール系防錆剤を併用した場合は、その効果は顕著で
ある。In particular, the surface of silver or silver-plated material is liable to be colored and lose its luster, so it is important to select a cleaning agent. Washing using tap water, alcohols or glycol ethers alone causes clouding or coloring on the silver surface. However, when using a detergent which uses the components (A) and (B) of the present invention in combination, Although such defects are unlikely to occur, the effect is remarkable when a benzotriazole-based rust inhibitor is used in combination.
【００２０】一旦着色した銀表面は、過酸化水素で処理
すると、脱色して白く光る表面を取り戻すことができる
が、下手にリンスすると、また着色やくもりを生ずる。
このような場合には、本発明のトリアゾール含有洗浄用
組成物が好適である。なお、ベンゾトリアゾール系防錆
剤の効果は銅表面に対しても同様の効果がある。Once treated with hydrogen peroxide, the colored silver surface can be decolorized to regain a shiny white surface, but if rinsed poorly, it again becomes colored and cloudy.
In such a case, the triazole-containing cleaning composition of the present invention is suitable. In addition, the effect of the benzotriazole-based rust inhibitor has the same effect on the copper surface.
【００２１】[0021]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより何等限定するものではない。なお、
以下の実施例における％は、いずれも重量％である。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is in no way limited thereby. In addition,
All percentages in the following examples are percentages by weight.
【００２２】実施例１〜１０、比較例１〜１６ （１）本発明の洗浄用組成物は、下記の組成割合により
調整した。Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 16 (1) The cleaning composition of the present invention was prepared by the following composition ratio.
【表２】 ＊ １，２，３−ベンゾトリアゾール[Table 2] * 1,2,3-benzotriazole
【００２３】（２）試験片の作成 ステンレスに銀メッキして得たチップ銅板およびただの
チップ銅板に切削加工油を噴霧し、表面を僅かに汚して
試験片とする。(2) Preparation of Test Specimen A chip copper plate obtained by silver-plating stainless steel and a simple chip copper plate are sprayed with cutting oil, and the surface is slightly stained to obtain a test piece.
【００２４】（３）洗浄方法 （ｉ）各試験片を洗浄剤に５分間浸漬して引き上げ、汚
れ落ち効果を観察する。 （ii）２４時間後、銀表面の色の状態を観察する。(3) Cleaning method (i) Each test piece is immersed in a cleaning agent for 5 minutes and lifted up, and the stain removal effect is observed. (Ii) After 24 hours, the state of the color on the silver surface is observed.
【表３】 [Table 3]
【００２５】[0025]
【発明の効果】（１）本発明により、無極性のものから
極性の強いものまでを広く洗浄することのできる新規洗
浄用組成物を提供することができた。 （２）本発明の洗浄用組成物は、環境や人体に問題があ
るフロン、代替フロン、トリクロロエタンあるいはトル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素を用いないので、
地球環境に極めて優しい組成物である。 （３）ベンゾトリアゾールの併用により、表面がくもっ
たり、着色しやすい銀や銅などの表面洗浄やリンスに極
めて好適である。(1) According to the present invention, a novel cleaning composition capable of cleaning a wide range from nonpolar to highly polar ones can be provided. (2) The cleaning composition of the present invention does not use an aromatic hydrocarbon such as chlorofluorocarbon, trichloroethane, toluene, or xylene, which is problematic for the environment and the human body.
It is a composition that is extremely friendly to the global environment. (3) The combined use of benzotriazole is extremely suitable for surface washing and rinsing of silver, copper, or the like, whose surface is easily clouded or colored.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大前 吉則 兵庫県神戸市中央区東川崎町１丁目３番３ 号 ケミプロ化成株式会社内 Ｆターム(参考） 4H003 DA05 DA12 DA14 DA15 DB01 DB02 EB20 ED03 ED29 FA01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Yoshinori Omae 1-3-3 Higashikawasaki-cho, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo F-term (reference) in Chemipro Kasei Co., Ltd. 4H003 DA05 DA12 DA14 DA15 DB01 DB02 EB20 ED03 ED29 FA01
Claims (3)
テル系化合物、（Ｂ）炭素数５〜２０の脂肪族および／
または脂環族の炭化水素および（Ｃ）トリアゾール系化
合物を含有することを特徴とする洗浄用組成物。1. A glycol ether compound having 1 to 10 carbon atoms, (B) an aliphatic compound having 5 to 20 carbon atoms and / or
Alternatively, a cleaning composition comprising an alicyclic hydrocarbon and (C) a triazole-based compound.
テル系化合物１０〜９５重量％、（Ｂ）炭素数５〜２０
の脂肪族および／または脂環族の炭化水素５〜９０重量
％および（Ｃ）トリアゾール系化合物１ｐｐｍ〜５重量
％を含有することを特徴とする油成分除去のための洗浄
用組成物。(A) 10 to 95% by weight of a glycol ether compound having 1 to 10 carbon atoms, (B) 5 to 20 carbon atoms.
A cleaning composition for removing an oil component, comprising 5 to 90% by weight of an aliphatic and / or alicyclic hydrocarbon of (1) and 1 ppm to 5% by weight of a (C) triazole compound.
テル系化合物５０〜９５重量％、（Ｂ）炭素数５〜２０
の脂肪族および／または脂環族の炭化水素５〜５０重量
％および（Ｃ）トリアゾール系化合物１ｐｐｍ〜５重量
％を含有することを特徴とするハンダフラックス除去の
ための洗浄用組成物。(A) 50 to 95% by weight of a glycol ether compound having 1 to 10 carbon atoms, (B) 5 to 20 carbon atoms.
A cleaning composition for removing solder flux, comprising 5 to 50% by weight of an aliphatic and / or alicyclic hydrocarbon of (1) and 1 ppm to 5% by weight of a (C) triazole compound.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000193452A JP2002012893A (en) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | Cleansing composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000193452A JP2002012893A (en) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | Cleansing composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002012893A true JP2002012893A (en) | 2002-01-15 |
Family
ID=18692443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000193452A Pending JP2002012893A (en) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | Cleansing composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002012893A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006070259A (en) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Tokuyama Corp | Cleanser composition |
| JP2009526132A (en) * | 2006-02-08 | 2009-07-16 | アクリメッド インコーポレイテッド | Methods and compositions for metal nanoparticle treated surfaces |
| CN109612817A (en) * | 2018-11-27 | 2019-04-12 | 湖北建研科峰工程质量检测有限公司 | A kind of composite extractant and detection method for the detection of elastomer modified asphalt waterproof roll solubles content |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03146597A (en) * | 1989-11-01 | 1991-06-21 | Henkel Hakusui Kk | Cleaning composition of printed circuit board |
| JPH05239495A (en) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Detergent for paste |
| JPH0790298A (en) * | 1993-09-24 | 1995-04-04 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Cleaning agent |
| JPH09194891A (en) * | 1995-11-13 | 1997-07-29 | Japan Energy Corp | Lowly corrosive cleaning composition |
-
2000
- 2000-06-27 JP JP2000193452A patent/JP2002012893A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03146597A (en) * | 1989-11-01 | 1991-06-21 | Henkel Hakusui Kk | Cleaning composition of printed circuit board |
| JPH05239495A (en) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Detergent for paste |
| JPH0790298A (en) * | 1993-09-24 | 1995-04-04 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Cleaning agent |
| JPH09194891A (en) * | 1995-11-13 | 1997-07-29 | Japan Energy Corp | Lowly corrosive cleaning composition |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006070259A (en) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Tokuyama Corp | Cleanser composition |
| JP2009526132A (en) * | 2006-02-08 | 2009-07-16 | アクリメッド インコーポレイテッド | Methods and compositions for metal nanoparticle treated surfaces |
| CN109612817A (en) * | 2018-11-27 | 2019-04-12 | 湖北建研科峰工程质量检测有限公司 | A kind of composite extractant and detection method for the detection of elastomer modified asphalt waterproof roll solubles content |
| CN109612817B (en) * | 2018-11-27 | 2021-09-17 | 湖北建研科峰工程质量检测有限公司 | Composite extracting agent for detecting soluble matter content of elastomer modified asphalt waterproof coiled material and detection method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU720172B2 (en) | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an environmentally safe solvent | |
| US5849106A (en) | Cleaning process | |
| JP3256630B2 (en) | Cleaning method | |
| JP6056345B2 (en) | Cleaning composition and cleaning method using the same | |
| US6197734B1 (en) | High wax content heavy oil remover | |
| JP2002012893A (en) | Cleansing composition | |
| JPH0551599A (en) | Detergent composition | |
| WO2006068192A1 (en) | Cleaner composition | |
| JPH0925497A (en) | Detergent for wax and water-soluble processing solution | |
| JPH0680995A (en) | Low-residue detergent | |
| CN108085168A (en) | A kind of flexible circuit board scavenger specially and preparation method and application | |
| JPH10292138A (en) | Composition for peeling off coated film | |
| JPH0881698A (en) | Detergent composition | |
| KR101079814B1 (en) | Semi-aqueous cleaning composition | |
| JP2000008080A (en) | Industrial detergent composition and cleaning using the same | |
| JPH05287300A (en) | Detergent composition | |
| TW572796B (en) | Method of cleaning articles and cleaning system | |
| JP3319930B2 (en) | Alkylsulfosuccinate-containing compositions that significantly reduce the interfacial tension between various substances and water | |
| JP2002012895A (en) | Cleansing composition | |
| CN108949383B (en) | Cleaning agent composition and cleaning method using same | |
| JPH06254519A (en) | Alcohol-based detergent | |
| JP2001137792A (en) | Cleaning method | |
| JPH09310100A (en) | Cleanser for removing oil and fat | |
| WO2001021750A1 (en) | Detergent | |
| KR20060049033A (en) | Cleaning agent composition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070529 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100518 |