JP2002009018A - Dicing film for semiconductor wafer - Google Patents

Dicing film for semiconductor wafer

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JP2002009018A
JP2002009018A JP2000183501A JP2000183501A JP2002009018A JP 2002009018 A JP2002009018 A JP 2002009018A JP 2000183501 A JP2000183501 A JP 2000183501A JP 2000183501 A JP2000183501 A JP 2000183501A JP 2002009018 A JP2002009018 A JP 2002009018A
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JP
Japan
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film
resin
weight
semiconductor wafer
dicing film
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Application number
JP2000183501A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Sasaki
佐々木  秀樹
Jun Takagi
潤 高木
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Mitsubishi Plastics Inc
Original Assignee
Mitsubishi Plastics Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film which can be used ideally as a dicing film for semiconductor wafer which is used at the time of dicing a semiconductor wafer and is made of a material containing no chlorine. SOLUTION: This dicing film is composed of a resin substantially containing no chlorine and has at least one mixed-resin layer containing (A) 20-80 wt.% propylene-based resin, (B) 10-50% copolymer of an aromatic vinyl compound and conjugated diene or its hydrogenated derivative resin, and (C) 0-40 wt.% petroleum resin, terpene resin, coumarone-indene resin, rosin-based resin, or their hydrogenated derivatives.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハのダ
イシングの際に用いる半導体ウエハ用ダイシングフィル
ムに関するもので、特に塩素を含まない材料からなるフ
ィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing film for a semiconductor wafer used for dicing a semiconductor wafer, and more particularly to a film made of a chlorine-free material.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハの製造工程において、所定
の回路パターンが形成されたシリコンウエハを個々のチ
ップに切断分離するダイシンク操作を、確実かつ容易に
行うために、シリコンウエハを粘着フィルムに貼り付け
カットする方法が行われている。この粘着フィルムは、
通常ダイシングフィルム(またはダイシングシート、あ
るいは、ダイシングテープ)と呼ばれている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor wafer manufacturing process, a silicon wafer is attached to an adhesive film in order to reliably and easily perform a die sink operation of cutting and separating a silicon wafer having a predetermined circuit pattern formed into individual chips. A way to cut has been done. This adhesive film is
It is usually called a dicing film (or dicing sheet or dicing tape).

【0003】カット方式には、ハーフカット方式とフル
カット方式があるが、前者は切断されたシリコンウエハ
自体が異物となるなどの問題があるため、シリコンウエ
ハを厚さ方向に全体を切断する後者の方法が採用されて
いる。
The cutting method includes a half-cut method and a full-cut method. The former method has a problem in that the cut silicon wafer itself becomes a foreign substance. Therefore, the latter method cuts the entire silicon wafer in the thickness direction. The method is adopted.

【0004】この方法では、ウエハをカットしチップ状
とした後、フィルムを放射状にエキスパンディング(延
伸)し、チップ間を一定間隔に広げて、チップをニード
ル等で突き上げると同時に、真空コレット、エアピンセ
ット等で吸着する方法等によりピックアップする方法が
一般的である。この際、ピックアップ性を良好にするた
めには、各チップ間の間隔が充分に開き、さらにX−Y
方向の間隔が均一に整列していることが望ましい。した
がって、フィルムが、エキスパンド時に、ネッキングを
生じない伸び分布の均一性を有している必要がある。
In this method, after a wafer is cut into chips, the film is radially expanded (stretched), the chips are widened at regular intervals, the chips are pushed up with a needle or the like, and at the same time, a vacuum collet and air are drawn. A method of picking up by a method of sucking with tweezers or the like is generally used. At this time, in order to improve the pickup property, the interval between the chips is sufficiently widened, and furthermore, XY
It is desirable that the intervals in the directions are uniformly aligned. Therefore, the film needs to have a uniform elongation distribution that does not cause necking when expanded.

【0005】また、チップをニードル等で突き上げると
共に、真空コレット、エアピンセット等で吸着ピックア
ップする際に、エキスパンディング後の残留応力が、ピ
ックアップ箇所に集中し、チップをピックアップできな
かったり、周囲に整列している他のチップの乱れや飛散
を引き起こすことがある。このためエキスパンディング
時に発生した応力をピックアップ時までに必要充分に緩
和させる必要がある。このように、ダイシングフィルム
の特性として、使用する基材フィルムの伸び分布の均一
性や応力緩和性、言い換えれば、特定の粘弾性特性や引
張り伸び特性を規定する必要がある。
In addition, when the chips are pushed up by a needle or the like, and the suction pickup is performed by a vacuum collet, air tweezers or the like, the residual stress after the expansion is concentrated at the pickup location, and the chips cannot be picked up or aligned around. This may cause turbulence or scattering of other chips. For this reason, it is necessary to reduce the stress generated at the time of expanding to a sufficient extent by the time of pickup. As described above, as the characteristics of the dicing film, it is necessary to define uniformity of the elongation distribution and stress relaxation of the base film to be used, in other words, specific viscoelastic characteristics and tensile elongation characteristics.

【0006】半導体ウエハ用ダイシングフィルムとして
は、表面に粘着剤層を設けた軟質のポリ塩化ビニル(P
VC)製のフィルムが多く使用されてきた。これは、軟
質PVCフィルムが、エキスパンド時におけるネッキン
グを生じない伸び分布の均一性、及び、チップのピック
アップ時には局部的な応力が生じていない応力緩和性を
有しているからである。
As a dicing film for a semiconductor wafer, a soft polyvinyl chloride (P) having an adhesive layer on its surface is used.
VC) films have been widely used. This is because the soft PVC film has uniformity of elongation distribution that does not cause necking during expansion, and stress relaxation that does not generate local stress during chip pickup.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】近年、PVCに対し焼
却時に発生する塩化水素ガスの発生や含有する可塑剤の
溶出など、環境への影響が懸念され、PVC以外の樹脂
が検討されている。本用途においても、軟質PVCフィ
ルムに変わる材料として、主にオレフィン系樹脂からな
る各種材料構成のフィルムが提案されている。しかしな
がら、前述の要求品質を十分に満足するフィルムは、完
成されておらず、現在に至ってもほとんど軟質PVCフ
ィルムが使用されているのが現状である。
In recent years, there have been concerns about environmental effects such as the generation of hydrogen chloride gas generated during incineration of PVC and the elution of contained plasticizers, and resins other than PVC have been studied. Also in this application, as a material replacing the flexible PVC film, films of various material constitutions mainly composed of olefin-based resins have been proposed. However, a film that sufficiently satisfies the above-mentioned required quality has not been completed, and at present, almost at present, a soft PVC film is used.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討を
重ねた結果、上記諸特性に優れたPVC以外の樹脂から
なるフィルムを得ることに成功した。すなわち、本発明
の目的は、エキスパンディング後のチップ整列性に優
れ、ピックアップ時のピックアップ性に優れた半導体ウ
エハ用ダイシングフィルムを提供することにあり、本発
明の要旨は、実質的に塩素を含まない樹脂からなり、下
記(A)、(B)、及び(C)を主成分とする混合樹脂
層を少なくとも1層有する半導体ウエハ用ダイシングフ
ィルムにある。 (A)プロピレン系樹脂20〜80重量% (B)ビニル芳香族化合物と共役ジエンとの共重合体ま
たはその水素添加誘導体樹脂10〜50重量% (C)石油樹脂、テルペン樹脂、クマロン−インデン樹
脂、ロジン系樹脂、またはそれらの水素添加誘導体0〜
40重量%
As a result of intensive studies, the present inventors have succeeded in obtaining a film made of a resin other than PVC excellent in the above-mentioned various properties. That is, an object of the present invention is to provide a dicing film for a semiconductor wafer which is excellent in chip alignment after expansion and has excellent pickup performance at the time of pickup, and the gist of the present invention substantially contains chlorine. A dicing film for a semiconductor wafer having at least one mixed resin layer composed of a non-resin and having the following (A), (B) and (C) as main components. (A) 20 to 80% by weight of a propylene-based resin (B) 10 to 50% by weight of a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene or a hydrogenated derivative thereof (C) Petroleum resin, terpene resin, cumarone-indene resin , Rosin-based resins, or their hydrogenated derivatives 0
40% by weight

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の半導体ウエハ用ダイシングフィルムは、実質的
に塩素を含まない樹脂からなり、下記(A)、(B)、
及び(C)を主成分とする混合樹脂層を少なくとも1層
有する半導体ウエハ用ダイシングフィルムであって、特
定の粘弾性特性、および引張り伸び特性を有している。 (A)プロピレン系樹脂20〜80重量% (B)ビニル芳香族化合物と共役ジエンとの共重合体ま
たはその水素添加誘導体樹脂10〜50重量% (C)石油樹脂、テルペン樹脂、クマロン−インデン樹
脂、ロジン系樹脂、またはそれらの水素添加誘導体0〜
40重量%
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The dicing film for a semiconductor wafer of the present invention is made of a resin that does not substantially contain chlorine and comprises the following (A), (B),
And a dicing film for a semiconductor wafer having at least one mixed resin layer containing (C) as a main component and having specific viscoelastic properties and tensile elongation properties. (A) 20 to 80% by weight of a propylene-based resin (B) 10 to 50% by weight of a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene or a hydrogenated derivative thereof (C) Petroleum resin, terpene resin, cumarone-indene resin , Rosin-based resins, or their hydrogenated derivatives 0
40% by weight

【0010】ここで、(A)成分であるプロピレン系樹
脂はプロピレンを70モル%以上含有する樹脂であっ
て、フィルムとしての強度維持と、以下の(B)、
(C)成分との良好な相溶性を達成するために必要な材
料である。プロピレンホモポリマー、プロピレンとエチ
レンまたは炭素数4〜12のα−オレフィンとのコポリ
マー、あるいはこれらの混合物を例示することができ
る。プロピレン含有量が70モル%未満であると結晶性
が低すぎて、フィルム全体としての強度アップや前述の
物性を達成しえない。
Here, the propylene resin as the component (A) is a resin containing propylene in an amount of 70 mol% or more.
This is a material necessary for achieving good compatibility with the component (C). A propylene homopolymer, a copolymer of propylene with ethylene or an α-olefin having 4 to 12 carbon atoms, or a mixture thereof can be exemplified. If the propylene content is less than 70 mol%, the crystallinity is too low, and the strength of the film as a whole and the above-mentioned physical properties cannot be achieved.

【0011】また、プロピレン系樹脂の含有量としては
結晶性にもよるが20〜80重量%、好ましくは30〜
70重量%とするのが良い。20重量%未満では混合樹
脂層の強度が不十分となり、80重量%を超えた場合に
は結晶性が高くなり過ぎて、本用途に必要な粘弾性挙動
や引張り伸び特性を得難いという問題がある。
The content of the propylene resin depends on the crystallinity, but is 20 to 80% by weight, preferably 30 to 80% by weight.
The content is preferably set to 70% by weight. If it is less than 20% by weight, the strength of the mixed resin layer is insufficient, and if it exceeds 80% by weight, the crystallinity becomes too high, and it is difficult to obtain the viscoelastic behavior and tensile elongation characteristics required for this application. .

【0012】(B)成分であるビニル芳香族化合物と共
役ジエンとの共重合体またはその水素添加誘導体樹脂
は、一般にゴム弾性を有し、柔軟で破れにくく、透明性
も良好であるという特性を有しており、またその重合形
態などによりビニル芳香族化合物のもつ剛直性と共役ジ
エンのもつエラストマー性をバランスさせることによ
り、本発明の目的を達成するのに適している。この種の
共重合体としてはスチレン−ブタジエン共重合体やスチ
レン−イソプレン共重合体、またそれらの水素添加誘導
体などが知られている。なお、スチレン含有量としては
10〜40重量%が好ましく、10重量%未満では強度
不足になったり、十分な柔軟性が得られず、また40重
量%を超えると均一な伸び特性が得られなかったり、他
成分との相溶性が低下するといった問題がある。
The copolymer (B) of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene or a hydrogenated derivative resin thereof generally has rubber elasticity, is soft and resistant to tearing, and has good transparency. It is suitable for achieving the object of the present invention by balancing the rigidity of the vinyl aromatic compound and the elastomeric property of the conjugated diene depending on the polymerization form and the like. Known copolymers of this type include styrene-butadiene copolymers, styrene-isoprene copolymers, and hydrogenated derivatives thereof. The styrene content is preferably from 10 to 40% by weight, and if it is less than 10% by weight, strength is insufficient or sufficient flexibility cannot be obtained, and if it exceeds 40% by weight, uniform elongation characteristics cannot be obtained. And the compatibility with other components is reduced.

【0013】(B)成分の混合樹脂層に対する割合とし
ては10〜50重量%が好適であり、10重量%未満で
は添加の効果が十分得られず50重量%を超えると機械
的強度が不足するほか、弾性率が低すぎるため、物性的
に本用途に必要な諸特性を達しえない。この種の材料と
しては(A)成分であるプロピレン系重合体樹脂との相
溶性や溶融押出し成形時の架橋反応を抑制する点から、
水素添加誘導体が好ましい。
The proportion of the component (B) to the mixed resin layer is preferably from 10 to 50% by weight, and if it is less than 10% by weight, the effect of addition cannot be sufficiently obtained. If it exceeds 50% by weight, the mechanical strength is insufficient. In addition, since the elastic modulus is too low, various properties required for the present application cannot be achieved physically. As this kind of material, from the viewpoint of compatibility with the propylene polymer resin as the component (A) and suppressing a crosslinking reaction at the time of melt extrusion molding,
Hydrogenated derivatives are preferred.

【0014】上記内容の(A)成分であるプロピレン系
樹脂と、(B)成分であるビニル芳香族化合物と共役ジ
エンとの共重合体、またはその水素添加誘導体樹のみで
は、混合物全体としてのガラス転移温度が低いことや、
結晶性がまだ高すぎることにより、所定の粘弾性特性を
確保できる範囲が狭く、またコスト的にも不利になり易
い。そこで、さらに(C)成分を第三成分として添加す
ることが好ましい。(C)成分である石油樹脂等を添加
することにより組成物のガラス転移温度を高め、またプ
ロピレン系樹脂の結晶性を低下させることができ、所望
の粘弾性特性や引張り伸び特性を達成できる。
With only the copolymer of a propylene resin as the component (A) and a vinyl aromatic compound and a conjugated diene as the component (B), or a hydrogenated derivative thereof, only the glass as a whole mixture is obtained. Low transition temperature,
When the crystallinity is still too high, the range in which the predetermined viscoelastic properties can be secured is narrow, and the cost tends to be disadvantageous. Therefore, it is preferable to further add the component (C) as a third component. By adding a component (C) such as a petroleum resin, the glass transition temperature of the composition can be increased, and the crystallinity of the propylene-based resin can be reduced, so that desired viscoelastic properties and tensile elongation properties can be achieved.

【0015】(C)成分の混合樹脂層に対する割合とし
ては、0〜40重量%、好ましくは10〜40重量%の
範囲であり、10重量%未満では添加の効果が十分得ら
れにくく、40重量%を超えると機械的強度が不足する
他、相溶性の限界を超えた場合には表面への経時的なブ
リードを招き、フィルムのブロッキング等を惹起するこ
とがある。
The proportion of the component (C) with respect to the mixed resin layer is in the range of 0 to 40% by weight, preferably 10 to 40% by weight. %, The mechanical strength is insufficient, and when it exceeds the limit of compatibility, bleeding of the surface over time is caused, which may cause blocking of the film.

【0016】本発明のフィルムは、動的粘弾性測定によ
り周波数10Hz、温度20℃で測定した貯蔵弾性率
(E′)が70〜700MPa、損失正接(tanδ)
が0.2〜0.8の範囲にあることが好ましい。ここ
で、E′が70未満であると柔かすぎて、変形に対する
応力が小さすぎ作業性が低下し易い。また、E′が70
0MPaを超えると、硬くて伸びにくく、不均一な伸び
を示すため、本用途に適しにくい。
The film of the present invention has a storage elastic modulus (E ') of 70 to 700 MPa measured at a frequency of 10 Hz and a temperature of 20 ° C. by dynamic viscoelasticity measurement, and a loss tangent (tan δ).
Is preferably in the range of 0.2 to 0.8. Here, if E ′ is less than 70, the workability is likely to be too low because the stress for deformation is too small. If E 'is 70
If it exceeds 0 MPa, it is hard and difficult to elongate, and exhibits non-uniform elongation.

【0017】また、上記のtanδが0.2未満である
と、フィルムのエキスパンド後の応力の緩和が不十分な
ため、エキスパンディング後の残留応力がピックアップ
箇所に集中し、チップをピックアップできなかったり、
周囲の整列しているチップの乱れや飛散が発生する可能
性がある。また、tanδが0.8を超えると、フィル
ムが伸びすぎて、復元までに時間がかかりすぎ作業効率
が低下し易かったり、かえって、ピックアップ適性が損
なわれたりする。
If the tan δ is less than 0.2, the stress after the expansion of the film is insufficiently relaxed, so that the residual stress after the expansion is concentrated at the pickup location, and the chip cannot be picked up. ,
There is a possibility that turbulence or scattering of the surrounding aligned chips may occur. On the other hand, if tan δ exceeds 0.8, the film is excessively stretched, and it takes too much time for restoration, and the work efficiency is likely to be reduced, or on the contrary, the suitability for pickup is impaired.

【0018】本発明においては、フィルムの応力歪み曲
線を測定した時のフィルムのMD方向(引取り方向)に
対するTD方向(MD方向の直角方向)の引張り応力比
が、引張り伸び率200%までの範囲において0.7〜
1.3の範囲にあることが好ましい。フィルムをエキス
パンドする際、フィルムのMD方向とTD方向の応力バ
ランスが取れていないと、フィルムは均一な伸びを示し
にくくなるためである。
In the present invention, when the stress-strain curve of the film is measured, the ratio of the tensile stress in the TD direction (the direction perpendicular to the MD direction) to the MD direction (the drawing direction) of the film is up to a tensile elongation of 200%. 0.7 ~ in range
It is preferably in the range of 1.3. This is because, when the film is expanded, if the stress in the MD direction and the TD direction of the film is not balanced, the film is less likely to exhibit uniform elongation.

【0019】さらに、フィルムのMD方向、TD方向共
に、引張り伸び率25%の応力(σ 25)に対する引張
り伸び率100%の応力(σ100)の比(σ100
σ )が1.2以上であることが好ましく、引張り応
力の比(σ100/σ25)が1.2未満では、フィル
ムは均一な伸びを示しにくい。
Further, in the MD and TD directions of the film,
The stress (σ) at a tensile elongation of 25% 25) Against tension
Stress at 100% elongation (σ100) Ratio (σ100/
σ2 5) Is preferably 1.2 or more.
Force ratio (σ100/ Σ25) Is less than 1.2, fill
Is difficult to exhibit uniform elongation.

【0020】上述した内容の混合樹脂層を少なくとも1
層有する本発明のフィルムには、所望によりPVC以外
の樹脂層と積層することも可能である。他の積層樹脂と
しては、ポリオレフィン系重合体や柔軟なスチレン−ブ
タジエンエラストマーなどが挙げられ、これらと積層す
ることによりフィルムの製膜の安定性や耐ブロッキング
性、粘着性、滑り性などを付与することができる。
At least one mixed resin layer having the above-described content
If desired, the film of the present invention having a layer can be laminated with a resin layer other than PVC. Other laminating resins include polyolefin polymers and flexible styrene-butadiene elastomers, and by laminating with these, impart film-forming stability, blocking resistance, tackiness, and slipperiness. be able to.

【0021】ここで、上記のポリオレフィン系重合体と
しては、低密度ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体(EVA)、エチレン−アルキルアルキレート共
重合体、エチレン−アクリル酸共重合体などが好適に使
用できる。実用上は、例えばEVAを好適に使用するこ
とができ、このEVAとしては、酢酸ビニル含量が5〜
25重量%、好ましくは10〜20重量%, メルトフ
ローレシオ(MFR)が0.2〜10g/10分(19
0℃、2.16kg荷重)のものが、強度や柔軟性、フ
ィルム成形加工性などの面で好適である。
As the polyolefin polymer, low density polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-alkyl alkylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer and the like are preferably used. Can be used. In practical use, for example, EVA can be suitably used, and the EVA has a vinyl acetate content of 5 to 5.
25% by weight, preferably 10 to 20% by weight, having a melt flow ratio (MFR) of 0.2 to 10 g / 10 min (19
(0 ° C., 2.16 kg load) are preferable in terms of strength, flexibility, film forming processability, and the like.

【0022】本発明のフィルムは、押出機から材料を溶
融押出しして、インフレーション成形法、またはTダイ
成形法によりフィルム状に製膜することにより得られ
る。積層フィルムとする場合には多層ダイにより共押出
しするのが有利である。実質的には成形されたフィルム
のMD方向とTD方向伸び特性のバランスを得るため
に、インフレーション法が好適であり、その際のブロー
アップ比は4以上が好ましい。フィルムの厚みは、50
〜150μm、代表的には70〜100μmである。ま
た、本発明のフィルムは必要に応じて帯電防止性、滑り
性などの性能を付与するために各種添加剤を添加するこ
とができる。
The film of the present invention can be obtained by melt-extruding a material from an extruder and forming it into a film by an inflation molding method or a T-die molding method. In the case of forming a laminated film, it is advantageous to co-extrude with a multilayer die. In order to substantially obtain the balance between the elongation characteristics in the MD and TD directions of the formed film, the inflation method is suitable, and the blow-up ratio at this time is preferably 4 or more. The thickness of the film is 50
150150 μm, typically 70-100 μm. Further, the film of the present invention may contain various additives as necessary to impart properties such as antistatic properties and slip properties.

【0023】また、本発明の半導体ウエハ用ダイシング
フィルムは、一般的には、以上説明した内容の基材フィ
ルムに、粘着剤層を設けて使用することがなされる。こ
の時、本発明で規定される動的粘弾性や引張り応力の範
囲は、厳密には基材フィルムに粘着剤層を加えた特性と
すべきであるが、通常、支配的なのは基材フィルムの特
性であり、基材フィルムの特性と考えて差し支えない。
上記の粘着剤層には、通常、ベースポリマーと架橋剤、
光重合開始剤、及び粘着付与樹脂が含有される。粘着剤
層は、紫外線及び/又は放射線により重合硬化反応を起
こすものが、好適に使用される。
The dicing film for a semiconductor wafer of the present invention is generally used by providing a pressure-sensitive adhesive layer on the substrate film described above. At this time, the range of the dynamic viscoelasticity and the tensile stress specified in the present invention should be strictly the characteristics of the base film plus the pressure-sensitive adhesive layer. It is a characteristic and may be considered as a characteristic of the base film.
In the pressure-sensitive adhesive layer, usually, a base polymer and a crosslinking agent,
A photopolymerization initiator and a tackifier resin are contained. As the pressure-sensitive adhesive layer, one that causes a polymerization and curing reaction by ultraviolet light and / or radiation is suitably used.

【0024】重合硬化反応を起こすものは、半導体ウエ
ハを貼着後、紫外線及び/又は放射線を照射することに
より体積収縮を伴った重合反応により硬化し、塑性流動
性が低下するので、粘着力が低下し、チップのピックア
ップを容易に行うことができる。粘着剤層のベースポリ
マーとしては、アクリル系ポリマーが用いられることが
多く、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸及びそれら
のエステル(以下、「(メタ)アクリル酸エステル」と
いう)からなるポリマー、アクリル酸、メタクリル酸及
びそれらのエステルと共重合可能な不飽和単量体、例え
ば酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリルなどとの共
重合体である。(メタ)アクリル酸エステルの例として
は(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチ
ル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イ
ソブチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アク
リル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)
アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸グリシジルなど
のモノマーを挙げることができる。
[0099] The one which causes a polymerization-curing reaction is cured by a polymerization reaction accompanied by volume shrinkage by irradiating ultraviolet rays and / or radiation after attaching a semiconductor wafer, and the plastic fluidity is lowered. Therefore, the chip can be easily picked up. As the base polymer of the pressure-sensitive adhesive layer, an acrylic polymer is often used. Specifically, a polymer composed of acrylic acid, methacrylic acid and their esters (hereinafter, referred to as “(meth) acrylic ester”), acrylic It is a copolymer with an unsaturated monomer copolymerizable with an acid, methacrylic acid or an ester thereof, for example, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile and the like. Examples of (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. Isopropyl, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, (meth)
Monomers such as nonyl acrylate and glycidyl (meth) acrylate can be mentioned.

【0025】なお、アクリル系ポリマー中には、架橋剤
との反応点(架橋点)となるCOOH基を有する(メ
タ)アクリル酸もしくはOH基を有する(メタ)アクリ
ル酸2−ヒドロキシエチルなどの反応性モノマーを1〜
5重量%有することが好ましく、その分子量としては2
00,000〜800,000の範囲のものが好まし
い。アクリル系ポリマーの分子量が200,000未満
であると粘着剤層の十分な凝集力が保てにくく、また8
00,000を超えるものでは重合時の溶液の粘度が高
くなり過ぎ、取扱いが困難となり易い。粘度を下げるた
め、溶剤を加えて希釈することも可能であるが大量の溶
剤を必要とし、経済的でない。
In the acrylic polymer, a reaction such as (meth) acrylic acid having a COOH group or 2-hydroxyethyl (meth) acrylate having an OH group, which serves as a reaction point (crosslinking point) with a crosslinking agent. 1 to
5% by weight, and its molecular weight is 2
Those in the range of 00,000 to 800,000 are preferred. If the molecular weight of the acrylic polymer is less than 200,000, it is difficult to maintain a sufficient cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer.
If it exceeds 000, the viscosity of the solution at the time of polymerization becomes too high, and handling tends to be difficult. It is possible to add a solvent to dilute the mixture to reduce the viscosity, but it requires a large amount of solvent and is not economical.

【0026】上記の光重合開始剤は、紫外線を照射する
ことにより励起、活性化してラジカルを生成し、同時に
添加した、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、オリゴエステルアクリレー
ト等の分子内に紫外線及び/又は放射線重合性炭素−炭
素二重結合を少なくとも2個以上有するアクリル樹脂系
化合物等の硬化剤を、ラジカル重合により硬化させる作
用を有する。
The above-mentioned photopolymerization initiator is excited and activated by irradiation with ultraviolet rays to generate radicals, and trimethylolpropane triacrylate, which is added at the same time,
A curing agent such as an acrylic resin-based compound having at least two ultraviolet and / or radiation polymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule such as pentaerythritol triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, or oligoester acrylate is subjected to radical polymerization. Has the effect of curing.

【0027】具体的には、例えば4−フェノキシジクロ
ロアセトフェノン、4−t−ブチルジクロロアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4
−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)
−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4
−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチル
チオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1等の
アセトフェノン系光重合開始剤、
Specifically, for example, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2
-Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4
-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl)
-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4
Such as-(2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 Acetophenone-based photopolymerization initiator,

【0028】ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン系
光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、
ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’
−メチルジフェニルサルファイド、3,3’−ジメチル
−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系光
重合開始剤、チオキサントン、2−クロルチオキサント
ン、2−メチルチオキサントン、
Benzoin, benzoin methyl ether,
Benzoin-based photopolymerization initiators such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, benzophenone, benzoylbenzoic acid,
Methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4 '
Benzophenone-based photopolymerization initiators such as -methyldiphenylsulfide, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone,

【0029】2,4−ジメチルチオキサントン、イソプ
ロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソ
プロピルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開
始剤、α−アシロキシムエステル、アシルホスフィンオ
キサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジ
ル、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、2−エチル
アントラキノン、4’,4”−ジエチルイソフタロフェ
ノン等の特殊光重合開始剤などを挙げることができる。
Thioxanthone-based photopolymerization initiators such as 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, α-acyloxime esters, acylphosphines Specific photopolymerization initiators such as oxide, methylphenylglyoxylate, benzyl, camphorquinone, dibenzosuberone, 2-ethylanthraquinone, 4 ′, 4 ″ -diethylisophthalophenone and the like can be mentioned.

【0030】本発明においては、前記粘着剤層に、さら
に十分な凝集力を付与せしめるために、所望に応じて架
橋剤を添加することもできる。該架橋剤は、アクリル系
ポリマーを三次元架橋させ、粘着剤層に更に十分な凝集
力を付与することができる。該架橋剤としては、例えば
ポリイソシアネート化合物、ポリグリシジル化合物、ア
ジリジン化合物、メラミン化合物、多価金属キレート化
合物等の公知のものが使用できる。前記架橋剤を添加す
る際の配合割合は、アクリル系ポリマー100重量部に
対して0.05重量部以上15重量部未満、特に0.1
重量部以上12重量部未満の範囲であるのが好ましい。
架橋剤の配合割合が0.05重量部未満の場合には、架
橋剤を添加した効果が得られにくく、また15重量部以
上の場合には過剰となり粘着剤層中に遊離残存し、ウエ
ハ(チップ)を汚染する原因となり易く好ましくない。
In the present invention, a cross-linking agent may be added, if desired, in order to impart a sufficient cohesive force to the pressure-sensitive adhesive layer. The cross-linking agent can three-dimensionally cross-link the acrylic polymer, and can impart more sufficient cohesive force to the pressure-sensitive adhesive layer. As the crosslinking agent, for example, known compounds such as a polyisocyanate compound, a polyglycidyl compound, an aziridine compound, a melamine compound, and a polyvalent metal chelate compound can be used. The mixing ratio when the crosslinking agent is added is 0.05 parts by weight or more and less than 15 parts by weight, particularly 0.1 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acrylic polymer.
It is preferably in the range of not less than 12 parts by weight and not more than 12 parts by weight.
When the compounding ratio of the crosslinking agent is less than 0.05 part by weight, the effect of adding the crosslinking agent is hardly obtained, and when it is 15 parts by weight or more, it becomes excessive and remains free in the pressure-sensitive adhesive layer, and the wafer ( This is not preferable because it easily causes contamination of the chip).

【0031】さらに、紫外線及び/又は放射線照射前後
の粘着力及び凝集力のバランスを好適に保つため、前記
粘着剤層に粘着付与樹脂を添加する。該粘着付与樹脂と
しては、ロジン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン樹
脂、テルペンフェノール樹脂、フェノール樹脂、キシレ
ン樹脂、クマロン樹脂、クマロンインデン樹脂、スチレ
ン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族
芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系炭化水素樹脂、及び
これらの変性品、誘導体、水素添加品等が挙げられる
が、特に限定されるものではなく、アクリル系ポリマー
との相溶性を勘案して適宜選択することができる。
Further, a tackifying resin is added to the pressure-sensitive adhesive layer in order to properly maintain the balance between the pressure-sensitive adhesive force and the cohesive force before and after the irradiation of ultraviolet light and / or radiation. As the tackifier resin, rosin resin, rosin ester resin, terpene resin, terpene phenol resin, phenol resin, xylene resin, coumarone resin, coumarone indene resin, styrene resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, Aliphatic aromatic copolymer petroleum resins, alicyclic hydrocarbon resins, and modified products, derivatives and hydrogenated products thereof, but are not particularly limited, and are compatible with acrylic polymers. Can be appropriately selected in consideration of the above.

【0032】粘着剤層の厚さは特に限定されるものでは
ないが、5〜30μm程度であるのが好ましい。本発明
において、粘着剤層を前記基材上に形成し、半導体ウエ
ハ用ダイシングフィルムを製造するには、粘着剤層を構
成する成分をそのまま、または適当な有機溶剤により溶
液化し、塗布又は散布等により基材上に塗工し、例えば
80〜100℃、30秒〜10分間程度、加熱処理等に
より乾燥させることにより得ることができる。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably about 5 to 30 μm. In the present invention, to form a pressure-sensitive adhesive layer on the substrate, to produce a dicing film for a semiconductor wafer, the components constituting the pressure-sensitive adhesive layer as it is, or a solution with an appropriate organic solvent, and applied or sprayed For example, at 80 to 100 ° C. for about 30 seconds to 10 minutes, followed by drying by heat treatment or the like.

【0033】本発明の半導体ウエハ用ダイシングフィル
ムを使用するには、公知の方法で用いることができ、例
えば、半導体ウエハ用ダイシングフィルムを半導体ウエ
ハに貼り付けて固定した後、回転丸刃で半導体ウエハを
素子小片(チップ)に切断する。その後、前記加工用粘
着シートの基材側から紫外線及び/又は放射線を照射
し、次いで専用治具を用いて前記ウエハ加工用粘着シー
トを放射状にエキスパンディング(拡大)し素子小片
(チップ)間を一定間隔に広げた後、素子小片(チッ
プ)をニードル等で突き上げると共に、真空コレット、
エアピンセット等で吸着する方法等によりピックアップ
すると同時にマウンティングすれば良い。
The dicing film for a semiconductor wafer of the present invention can be used by a known method. For example, after a dicing film for a semiconductor wafer is attached to a semiconductor wafer and fixed, the semiconductor wafer is rotated with a rotary round blade. Is cut into element pieces (chips). Then, ultraviolet rays and / or radiation are irradiated from the substrate side of the pressure-sensitive adhesive sheet for processing, and then the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer processing is radially expanded (expanded) using a special jig, and the space between the element pieces (chips) is reduced. After spreading at regular intervals, push up the element pieces (chips) with a needle or the like, and use a vacuum collet,
The pickup may be carried out at the same time as the pickup by a method of sucking with air tweezers or the like.

【0034】[0034]

【実施例】実験(NO1〜7) 以下、実施例により、本発明の効果を明らかにするが、
これらの例により本発明は何ら制限を受けるものではな
い。なお、基材フィルム自体の特性・性能は、以下に示
す方法により測定、評価した。
EXAMPLES Experiments (NO1 to 7) Hereinafter, the effects of the present invention will be clarified by Examples.
The present invention is not limited by these examples. The properties and performance of the base film itself were measured and evaluated by the following methods.

【0035】1) E' 、tanδ 岩本製作所(株)製「粘弾性スペクトルメーターVES
−F3」を用い、振動周波数10Hz,温度20℃でフ
ィルムの横方向について測定、評価した。
1) E ', tan δ “Viscoelastic spectrum meter VES” manufactured by Iwamoto Seisakusho Co., Ltd.
-F3 "was measured and evaluated in the transverse direction of the film at a vibration frequency of 10 Hz and a temperature of 20 ° C.

【0036】2)引張り伸び−応力特性 (株)島津製作所製「AGS−H500N」を用いてフ
ィルムのMD方向、TD方向それぞれについて幅10m
m長さ100mmの短冊状のサンプルを採取し、チャッ
ク間40mm、引張り速度200mm/min、温度2
0℃で引張り試験を行なって測定、評価した。
2) Tensile elongation-stress characteristics Using an "AGS-H500N" manufactured by Shimadzu Corporation, a film having a width of 10 m in each of the MD and TD directions.
A strip-shaped sample having a length of 100 mm and a length of 100 mm was collected, the distance between chucks was 40 mm, the pulling speed was 200 mm / min, and the temperature was
A tensile test was performed at 0 ° C. to measure and evaluate.

【0037】(NO1) (A)成分 プロピレン−エチレンランダム共重合体(エチレン3モ
ル%、230℃における MFR=2.3g/10分):40重量% (B)成分 スチレン20重量%、ポリイソプレン80重量%からな
るスチレン−イソプレン−スチレンのトリブロック共重
合体の水素添加誘導体:40重量% (C)成分 シクロペンタジエン系石油樹脂の水素添加誘導体(軟化
点125℃):20重量% 上記内容の3成分からなる樹脂混合物を中間層して50
μm、一方酢酸ビニル含有量15重量%、MFR=2.3
のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)を表裏層と
してそれぞれ15μm、総厚み80μmになるように共
押出しインフレーション法によりブローアップ比(膨ら
まされた筒状フィルムの直径/環状ダイの直径 BU
R)を5としてフィルムを製膜した。
(NO1) Component (A) Propylene-ethylene random copolymer (ethylene 3 mol%, MFR at 230 ° C. = 2.3 g / 10 min): 40% by weight Component (B) Component styrene 20% by weight, polyisoprene Hydrogenated derivative of triblock copolymer of styrene-isoprene-styrene consisting of 80% by weight: 40% by weight Component (C) Hydrogenated derivative of cyclopentadiene-based petroleum resin (softening point 125 ° C.): 20% by weight An intermediate layer of a three-component resin mixture is used for 50
μm, while the vinyl acetate content is 15% by weight, MFR = 2.3
Blow-up ratio (diameter of expanded tubular film / diameter of annular die BU) by co-extrusion using an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) as a front and back layer so as to have a thickness of 15 μm and a total thickness of 80 μm, respectively.
R) was set to 5, and a film was formed.

【0038】 このフィルム物性を測定した結果 (1)粘弾性特性(20℃,10Hz)E'=200MPa tanδ=4.0 (2)引張り伸び−応力特性 MD方向、TD方向の応力比(σMD/TD) 50%伸び :σTD/MD=1.11 100%伸び:σTD/MD=1.14 引張り伸び特性(σ100/σ25) MD方向 1.42 TD方向 1.36Results of measuring the physical properties of the film (1) Viscoelastic properties (20 ° C., 10 Hz) E ′ = 200 MPa tan δ = 4.0 (2) Tensile elongation-stress properties Stress ratio (σ MD ) in MD and TD directions / TD ) 50% elongation: σ TD / MD = 1.11 100% elongation: σ TD / MD = 1.14 Tensile elongation characteristics (σ 100 / σ 25 ) MD direction 1.42 TD direction 1.36

【0039】(NO2)BURを4とした以外はNO1と
同一内容にてフィルムを採取した。
(NO2) A film was collected in the same manner as in NO1, except that BUR was set to 4.

【0040】(NO3)中間層の混合樹脂層の配合比率
を下記の内容とした以外はNO1と同一内容にてフィル
ムを採取した。 (A)成分:30重量% (B)成分:50重量% (C)成分:20重量%
(NO3) A film was sampled in the same manner as in NO1, except that the mixing ratio of the mixed resin layer of the intermediate layer was as described below. (A) component: 30% by weight (B) component: 50% by weight (C) component: 20% by weight

【0041】(NO4)中間層の混合樹脂層の配合比率
を下記の内容とした以外はNO1と同一内容にてフィル
ムを採取した。 (A)成分:90重量% (B)成分:5重量% (C)成分:5重量%
(NO4) A film was sampled in the same manner as in NO1, except that the mixing ratio of the mixed resin layer of the intermediate layer was as described below. (A) component: 90% by weight (B) component: 5% by weight (C) component: 5% by weight

【0042】(NO5)BURを3とした以外は、NO1
と同一内容にてフィルムを採取した。
(NO5) NO1 except that BUR was set to 3.
A film was collected with the same contents as described above.

【0043】(NO6)中間層の混合樹脂層の配合比率
を下記の内容とし、BURを4とした以外はNO1と同
一内容にてフィルムを採取した。 (A)成分:20重量% (B)成分:60重量% (C)成分:20重量%
(NO6) A film was sampled in the same manner as in NO1 except that the mixing ratio of the mixed resin layer of the intermediate layer was as follows, and BUR was 4. (A) component: 20% by weight (B) component: 60% by weight (C) component: 20% by weight

【0044】(NO7)市販されているPVC製ダイシ
ング用フィルム(厚み100μm)の物性を評価した。
(NO7) The physical properties of a commercially available PVC dicing film (thickness: 100 μm) were evaluated.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】実験(NO8〜13) アクリル酸2−エチルヘキシル50重量部と、アクリル
酸ブチル10重量部、酢酸ビニル37重量部、メタアク
リル酸2−ヒドロキシエチル3重量部とを共重合して得
られた重量平均分子量500,000の共重合体(アク
リル系ポリマー)100重量部に対し、分子量が25,
000の多官能ウレタンアクリレート系オリゴマー69
重量部、光重合開始剤として2,2−ジメトキシ−2−
フェニルアセトフェノンを多官能ウレタンアクリレート
系オリゴマー100重量部に対して8重量部、軟化点1
00℃、脂肪族:芳香族のモル比が6:4から成る脂肪
族芳香族共重合系石油樹脂をアクリル系ポリマー100
重量部に対して14重量部、ポリイソシアネート系架橋
剤をアクリル系ポリマー100重量部に対して7重量部
を配合した粘着剤層となる樹脂溶液を、剥離処理した厚
さ38μmのPETフィルム(三菱化学ポリエステルフ
ィルム社製 「ダイアホイルT−100−30」)に乾
燥後の厚さが10μmになるように塗工し、80℃で5
分間乾燥した。
Experiments (NO8-13) 50 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 10 parts by weight of butyl acrylate, 37 parts by weight of vinyl acetate, and 3 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate were obtained. 100 weight parts of a copolymer (acrylic polymer) having a weight average molecular weight of 500,000,
000 polyfunctional urethane acrylate oligomer 69
Parts by weight, 2,2-dimethoxy-2- as a photopolymerization initiator
8 parts by weight of phenylacetophenone per 100 parts by weight of a polyfunctional urethane acrylate oligomer, and a softening point of 1
An aliphatic-aromatic copolymer petroleum resin having a molar ratio of aliphatic: aromatic of 6: 4 at 00 ° C. was converted to an acrylic polymer 100
A 38 μm-thick PET film (Mitsubishi Corporation) obtained by subjecting a resin solution to be an adhesive layer prepared by mixing 14 parts by weight to 7 parts by weight of a polyisocyanate-based crosslinking agent to 100 parts by weight of an acrylic polymer with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer "Diafoil T-100-30" manufactured by Chemical Polyester Film Co., Ltd.
Dried for minutes.

【0047】その後、この粘着剤付き離型フィルムに、
上記NO1〜NO7の基材フィルムをラミネートし、粘
着剤付き半導体ウエハ用ダイシングフィルムを作製し
た。得られたダイシングフィルムを室温で7日以上熟成
後、半導体ウエハに貼着し、回転丸刃を用いて切断(ダ
イシング)、エキスパンディング、ピックアップ試験の
加工適性試験を行い、その結果を表2に示した。なお、
加工適性試験は、以下に示す方法により測定、評価し
た。
Thereafter, the release film with the adhesive is
The substrate films of NO1 to NO7 were laminated to produce a dicing film for a semiconductor wafer with an adhesive. After aging the obtained dicing film at room temperature for 7 days or more, it was affixed to a semiconductor wafer, and cut (diced), expanded, and picked up using a rotating round blade. The results were shown in Table 2. Indicated. In addition,
The processing suitability test was measured and evaluated by the following methods.

【0048】3)ダイシング適性 貼着した6インチウエハを25μmのダイヤモンドブレ
ードでシートへの切り込み量を20μmに設定し、3.
1mm角のチップにフルカットした。この際、チップ飛
びの有無を観察した。チップ飛びが無く良好なものを
(○)、チップ飛びが発生したものを(×)とした。
3) Suitability for dicing A 6-inch wafer that has been adhered is cut into a sheet with a diamond blade of 25 μm at a cutting amount of 20 μm.
Full cut into 1 mm square chips. At this time, the presence or absence of chip fly was observed. A sample without chip fly was evaluated as good (○), and a sample with chip fly was evaluated as (x).

【0049】ダイシング後、基材面より10cmの距離
から80W/cmの高圧水銀ランプを用いて15秒間紫
外線を照射し、粘着剤層を硬化させた。その後室温まで
冷却して次の評価を行った。
After the dicing, ultraviolet rays were irradiated from a distance of 10 cm from the substrate surface using a high-pressure mercury lamp of 80 W / cm for 15 seconds to cure the pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the temperature was cooled to room temperature, and the next evaluation was performed.

【0050】4)エキスパンディング適性 専用の治具を用いて、半導体ウエハ用ダイシングフィル
ムを20mmのストロークで放射状にエキスパンディン
グ(延伸)した。この際の平均チップ間隔とX−Y方向
のチップの間隔差を測定した。また、粘着シートの弛み
具合及びアルミリングからの粘着シートの剥離、脱落の
有無を目視観察した。上記間隔差の測定において、平均
のチップ間隔が1.0mm以上で、且つX−Y方向のチ
ップ間隔差が0.1mm未満、粘着シートの弛みや剥
離、脱落が発生しなかったものを(○)、チップ間隔が
上記範囲以外のもの、粘着シートの弛みや、剥離、脱落
が発生したものを(×)とした。
4) Suitability for Expanding Using a dedicated jig, the dicing film for a semiconductor wafer was radially expanded (stretched) at a stroke of 20 mm. At this time, the difference between the average chip interval and the interval between the chips in the XY directions was measured. In addition, the degree of loosening of the pressure-sensitive adhesive sheet and the presence or absence of peeling and falling off of the pressure-sensitive adhesive sheet from the aluminum ring were visually observed. In the measurement of the gap difference, an average chip gap of 1.0 mm or more, a chip gap difference in the X-Y direction of less than 0.1 mm, and a sheet in which loosening, peeling, or falling off of the pressure-sensitive adhesive sheet did not occur (() ), Those having a chip interval other than the above range, and those in which the pressure-sensitive adhesive sheet was loosened, peeled, or dropped were evaluated as (x).

【0051】5)ピックアップ適性 基材下部より1.5mm間隔4本ニードルで1.04m
m突き上げ、真空角錐コレットにより200個のチップ
をピックアップした時にピックアップ出来なかった個数
を測定した。また、ピックアップ箇所周囲のチップの乱
れ、飛散を目視で観察した。ピックアップミスがなく、
チップの乱れ、飛散が認められないものを(○)、ピッ
クアップミスがなく、飛散は認められなかったが若干乱
れがあったものを(△)、ピックアップミスが発生した
り、チップの乱れ、飛散が認められたものを(×)とし
た。
5) Suitability for pickup 1.04 m with four needles at 1.5 mm intervals from the lower part of the base material
m, the number of chips that could not be picked up when 200 chips were picked up by the vacuum pyramid collet was measured. Further, the disturbance and scattering of the chip around the pickup location were visually observed. There is no pick-up mistake,
If there is no chip disturbance or scattering (○), there is no pick-up error, and no scattering is observed, but there is slight disturbance (△). The ones with were recognized as (x).

【0052】6)総合評価 各評価の全てにおいて良好であり、ダイシングフィルム
として問題がなくまた環境上の影響を少なく使用できる
ものを(○)、若干問題があるが使用可能なものを
(△)、問題がありダイシングフィルムとして使用でき
ないもの、環境上の影響が大きいものを(×)とした。
6) Comprehensive evaluation A dicing film which is good in all of the evaluations and has no problem as a dicing film and which can be used with little environmental impact ()), and a film which has some problem but can be used (△) Those which had a problem and could not be used as a dicing film and those which had a large environmental impact were rated as (x).

【0053】[0053]

【表2】 [Table 2]

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明の半導体ウエハ用ダイシングフィ
ルムは、伸び分布の均一性や応力緩和性、すなわち、特
定の粘弾性特性や引張り伸び特性を有しているので、エ
キスパンディング時の延伸性に優れ、チップが均一に整
列する。また、充分な応力緩和性を持つため、ピックア
ップ時に局所的な応力の集中が無く、チップの整列性が
保持され、ピックアップも容易になる。
The dicing film for a semiconductor wafer of the present invention has uniformity of elongation distribution and stress relaxation, that is, specific viscoelastic properties and tensile elongation properties. Excellent, chips are evenly aligned. In addition, since it has a sufficient stress relaxation property, there is no local concentration of stress at the time of pickup, the alignment of the chips is maintained, and the pickup becomes easy.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09J 7/02 C09J 123/14 123/14 151/02 151/02 H01L 21/78 M Fターム(参考) 4F071 AA13 AA20 AA22 AA39 AF06Y AF14Y AF21Y AH19 BC01 4J002 AC08X AF02Y BA01Y BB12W BB14W BB15W BK00Y GJ00 4J004 AA10 AB07 CA04 CC03 CE01 DB02 FA08 4J040 DF031 DF032 DF061 DF062 EC231 EC232 FA141 FA142 GA04 GA07 HB19 HB41 HD06 HD27 JA01 JA12 JB08 KA13 KA16 KA26 LA01 LA06 LA11 MA04 MB03 NA20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09J 7/02 C09J 123/14 123/14 151/02 151/02 H01L 21/78 MF term (Reference) 4F071 AA13 AA20 AA22 AA39 AF06Y AF14Y AF21Y AH19 BC01 4J002 AC08X AF02Y BA01Y BB12W BB14W BB15W BK00Y GJ00 4J004 AA10 AB07 CA04 CC03 CE01 DB02 FA08 4J040 DF031 DF03212 DF061B06 EA07 LA11 MA04 MB03 NA20

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 実質的に塩素を含まない樹脂からなり、
下記(A)、(B)、及び(C)を主成分とする混合樹
脂層を少なくとも1層有する半導体ウエハ用ダイシング
フィルム。 (A)プロピレン系樹脂20〜80重量% (B)ビニル芳香族化合物と共役ジエンとの共重合体ま
たはその水素添加誘導体樹脂10〜50重量% (C)石油樹脂、テルペン樹脂、クマロン−インデン樹
脂、ロジン系樹脂、またはそれらの水素添加誘導体0〜
40重量%
(1) a resin substantially free of chlorine;
A dicing film for a semiconductor wafer having at least one mixed resin layer containing the following (A), (B) and (C) as main components. (A) 20 to 80% by weight of a propylene-based resin (B) 10 to 50% by weight of a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene or a hydrogenated derivative thereof (C) Petroleum resin, terpene resin, cumarone-indene resin , Rosin-based resins, or their hydrogenated derivatives 0
40% by weight
【請求項2】 動的粘弾性測定により周波数10Hz、
温度20℃で測定した貯蔵弾性率(E′)が70〜70
0MPa、損失正接(tanδ)が0.2〜0.8の範
囲にあることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハ
用ダイシングフィルム。
2. A dynamic viscoelasticity measurement at a frequency of 10 Hz,
The storage elastic modulus (E ′) measured at a temperature of 20 ° C. is 70 to 70.
2. The dicing film for a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the loss tangent (tan δ) is in a range of 0.2 to 0.8.
【請求項3】 フィルムのMD方向(引取り方向)に対
するTD方向(MD方向の直角方向)の引張り応力比
(σMD/TD)が、伸び率200%までの範囲におい
て0.7〜1.3の範囲にあることを特徴とする請求項
1乃至2記載の半導体ウエハ用ダイシングフィルム。
3. The tensile stress ratio (σ MD / TD ) in the TD direction (perpendicular to the MD direction) with respect to the MD direction (drawing direction) of the film is 0.7 to 1. 3. The dicing film for a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the thickness is in the range of 3.
【請求項4】 フィルムのMD方向、TD方向共に、引
張り伸び率25%の応力(σ25)に対する引張り伸び
率100%の応力(σ100)の比(σ10
σ25)が1.2以上であることを特徴とする請求項1
乃至3記載の半導体ウエハ用ダイシングフィルム。
4. MD direction of the film, in the TD direction both the ratio of the tensile elongation of 25% stress (sigma 25) for the tensile elongation of 100% of the stress (σ 100) (σ 10 0 /
σ 25 ) is 1.2 or more.
4. The dicing film for a semiconductor wafer according to any one of items 1 to 3.
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