JP2002008544A - Plasma display and manufacturing method of the same - Google Patents

Plasma display and manufacturing method of the same

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JP2002008544A
JP2002008544A JP2000185345A JP2000185345A JP2002008544A JP 2002008544 A JP2002008544 A JP 2002008544A JP 2000185345 A JP2000185345 A JP 2000185345A JP 2000185345 A JP2000185345 A JP 2000185345A JP 2002008544 A JP2002008544 A JP 2002008544A
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JP
Japan
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phosphor
plasma display
partition
pattern
partition wall
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Application number
JP2000185345A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Komatsu
隆史 小松
Yoshitaka Terao
芳孝 寺尾
Seikan Go
済煥 呉
Seiho Cho
世芳 張
Yukitaka Yamada
幸香 山田
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Samsung R&D Institute Japan Co Ltd
Original Assignee
Samsung Yokohama Research Institute
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display and a manufacturing method of the same which can increase a brightness of phosphor by increasing surface area substantially, without increasing the area occupied by phosphor, to obtain a brighter luminous surface with a certain dosage of ultraviolet ray. SOLUTION: For the plasma display, a transparent substrate 21 and a transparent substrate (not shown) are arranged facing with each other, and a plurality of barrier ribs 23 are formed between those substrates, and each concave parts separately formed by those barrier ribs 23 is made to be a discharge cell 26, and phosphor 27 is formed at inner surface of each discharge cells 26, and an unevenness is formed at the surface of bottom part of the phosphor 27b and/or the side part of the phosphor 27a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ及びその製造方法に係り、特に、ハイビジョン用の
大画面、高画質の表示デバイスとして用いて好適なプラ
ズマディスプレイ及びその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a plasma display suitable for use as a large-screen, high-quality display device for high-definition television and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ハイビジョン用の大画面、高画質
の表示デバイスとしてプラズマディスプレイ(PDP)
が注目されている。このプラズマディスプレイは、自然
な階調表示が得られ、色再現性、応答性がよく、比較的
安価に大型化ができるという様々な特徴を有する。図1
1は、従来のプラズマディスプレイを示す分解斜視図で
あり、AC型プラズマディスプレイ(AC−PDP)の
例である。このプラズマディスプレイは、2枚のガラス
基板(透明基板)1,2が互いに対向配置され、前面側
のガラス基板1のガラス基板2に対向する側の一主面に
は、ストライプ状の複数の透明電極3,3,…が互いに
平行に形成され、これらの透明電極3,3,…は透明な
誘電体層4で覆われ、さらにこの誘電体層4上にMgO
等からなる透明な保護膜5が形成されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a plasma display (PDP) has been used as a large-screen, high-quality display device for hi-vision.
Is attracting attention. This plasma display has various features such that a natural gradation display is obtained, color reproducibility and responsiveness are good, and the size can be increased relatively inexpensively. Figure 1
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a conventional plasma display, which is an example of an AC plasma display (AC-PDP). In this plasma display, two glass substrates (transparent substrates) 1 and 2 are arranged opposite to each other, and a plurality of stripe-shaped transparent substrates are provided on one main surface of the front glass substrate 1 on the side facing the glass substrate 2. Are formed in parallel with each other, these transparent electrodes 3, 3,... Are covered with a transparent dielectric layer 4, and the dielectric layer 4 is further covered with MgO.
A transparent protective film 5 is formed.

【0003】一方、背面側のガラス基板2のガラス基板
1に対向する側の一主面には、上述した透明電極3,
3,…に直交するようにストライプ状の複数のアドレス
電極6,6,…が形成され、これらのアドレス電極6,
6,…は反射率の高い誘電体層7で覆われ、この誘電体
層7上には、アドレス電極6,6,…と平行で、かつ、
これらアドレス電極6,6,…の間に位置する複数の隔
壁8,8,…が設けられ、これらの隔壁8,8,…によ
り、ガス放電を行う空間である溝状の放電セル9,9,
…が形成されている。これらの放電セル9,9,…の内
側には、3原色R、G、B(赤、緑、青)に対応する蛍
光体10,10,…が形成されている。そして、これら
対向する2枚のガラス基板1,2を合わせて、各放電セ
ル9,9,…の内部に147nmのXe共鳴放射光を利
用するNe−Xe、He−Xe等の混合ガスを封入した
状態で、周囲をシールガラス等により封着した構成にな
っている。
On the other hand, one main surface of the rear glass substrate 2 on the side facing the glass substrate 1 is provided with the above-described transparent electrodes 3 and 3.
A plurality of stripe-shaped address electrodes 6, 6,... Are formed so as to be orthogonal to 3, 3,.
Are covered with a dielectric layer 7 having a high reflectivity, and on this dielectric layer 7 are parallel to the address electrodes 6, 6,.
A plurality of partition walls 8, 8,... Located between the address electrodes 6, 6,... Are provided, and the partition walls 8, 8,. ,
... are formed. The phosphors 10, 10,... Corresponding to the three primary colors R, G, B (red, green, blue) are formed inside these discharge cells 9, 9,. Then, the two glass substrates 1 and 2 facing each other are put together, and a mixed gas such as Ne-Xe or He-Xe using Xe resonance radiation of 147 nm is sealed in each discharge cell 9, 9,. In this state, the periphery is sealed with a seal glass or the like.

【0004】前記透明電極3,3,…およびアドレス電
極6,6,…は、それぞれ外部に引き出されており、こ
れらに接続された端子に選択的に電圧を印加すること
で、選択的に放電セル9,9,…内の各電極3,6間に
放電を発生させ、この放電により放電セル9,9,…内
の蛍光体10,10,…からの励起光を外部に表示する
ようになっている。このときの発光面は、放電セル9,
9,…に面した蛍光体10,10,…の表面部分とな
る。
The transparent electrodes 3, 3,... And the address electrodes 6, 6,... Are respectively drawn out to the outside, and are selectively discharged by selectively applying a voltage to the terminals connected thereto. A discharge is generated between the electrodes 3, 6 in the cells 9, 9,..., And the discharge causes the excitation light from the phosphors 10, 10,... In the discharge cells 9, 9,. Has become. The light emitting surface at this time is the discharge cell 9,
The surface portions of the phosphors 10, 10,.

【0005】次に、このプラズマディスプレイの製造方
法について説明する。まず、平板状のガラス基板1の一
主面に、スクリーン印刷法等でITO(Indium Tin Oxi
de)等の導電ペーストをストライプ状に塗布し、その後
所定の温度で焼成してストライプ状の透明電極3,3,
…とする。次いで、これらの透明電極3,3,…が形成
されたガラス基板1上に誘電体材料を塗布し、その後所
定の温度で焼成して透明な誘電体層4とする。さらに、
この誘電体層4上にMgO等を主成分とする保護膜材料
を塗布し、その後所定の温度で焼成して透明な保護膜5
とする。
Next, a method of manufacturing the plasma display will be described. First, ITO (Indium Tin Oxi) is formed on one main surface of the flat glass substrate 1 by screen printing or the like.
de) or the like is applied in the form of a stripe, and then baked at a predetermined temperature to form the stripe-shaped transparent electrodes 3,3.
... Next, a dielectric material is applied on the glass substrate 1 on which the transparent electrodes 3, 3,... Are formed, and then fired at a predetermined temperature to form a transparent dielectric layer 4. further,
A protective film material mainly composed of MgO or the like is applied on the dielectric layer 4 and then fired at a predetermined temperature to form a transparent protective film 5.
And

【0006】また、平板状のガラス基板2の一主面に、
スクリーン印刷法等で銀(Ag)を主成分とする導電ペ
ーストを塗布し、その後所定の温度で焼成して透明電極
3,3,…に直交するストライプ状のアドレス電極6,
6,…とする。次いで、アドレス電極6,6,…及びガ
ラス基板2全面に反射率の高い誘電体材料を塗布し、そ
の後所定の温度で焼成して反射率の高い誘電体層7とす
る。次いで、スクリーン印刷法あるいはロールコータ法
等を用いて誘電体層7の全面に隔壁材料を塗布し、その
後、乾燥させる。次いで、この隔壁材料上に、ドライフ
ィルムレジスト(DFR)等のフォトレジストでパター
ンを形成し、その後、サンドブラスト法等によりパター
ン以外の部分の隔壁材料を取り除き、所定の温度で焼成
することにより、誘電体層7上にアドレス電極6,6,
…の間に位置する所定の形状の隔壁8,8,…を形成す
る。
On one main surface of the flat glass substrate 2,
A conductive paste containing silver (Ag) as a main component is applied by a screen printing method or the like, and then fired at a predetermined temperature to form a stripe-shaped address electrode 6 orthogonal to the transparent electrodes 3.
6, ... Next, a dielectric material having high reflectance is applied to the address electrodes 6, 6,... And the entire surface of the glass substrate 2, and then baked at a predetermined temperature to form a dielectric layer 7 having high reflectance. Next, a barrier rib material is applied to the entire surface of the dielectric layer 7 using a screen printing method or a roll coater method, and then dried. Next, a pattern is formed on the partition material with a photoresist such as a dry film resist (DFR), and thereafter, the partition material other than the pattern is removed by a sandblast method or the like, and baked at a predetermined temperature to obtain a dielectric material. The address electrodes 6, 6,
Are formed in a predetermined shape located between.

【0007】ここで、誘電体材料は、焼成により隔壁
8,8,…より硬度が高くなる等、サンドブラスト法で
は切削され難い材料となっている。また、隔壁材料は、
塗布・乾燥後の形状保持のためのバインダーである有機
物をできるだけ少なくする等、サンドブラスト法により
切削され易い材料となっている。以上により、隔壁8,
8,…により、ガス放電を行う空間である溝状の放電セ
ル9,9,…が形成される。
Here, the dielectric material is hard to be cut by the sand blast method, for example, the hardness becomes higher than the partition walls 8, 8,... By firing. In addition, the partition material is
It is a material that can be easily cut by sandblasting, for example, by minimizing the amount of organic substances as a binder for maintaining the shape after coating and drying. As described above, the partition 8,
The groove-shaped discharge cells 9, 9, which are spaces for performing gas discharge, are formed by 8,.

【0008】次いで、スクリーン印刷法等を用いて放電
セル9,9,…の内側に3原色R、G、B(赤、緑、
青)に対応するペースト状の蛍光体材料を塗布し、その
後乾燥・焼成することにより、この蛍光体材料に含まれ
る溶剤や有機バインダー等が飛び、固化した蛍光体1
0,10,…とする。その後、これらのガラス基板1,
2を対向配置してガラス基板1,2同士を貼り合わせ、
各放電セル9,9,…の内部にNe−Xe、He−Xe
等の混合ガスを封入し、周囲をシールガラス等により封
着する。以上により、所定の特性を有するプラズマディ
スプレイを得ることができる。
Next, the three primary colors R, G, B (red, green,
By applying a paste-like phosphor material corresponding to (blue), followed by drying and baking, a solvent, an organic binder, and the like contained in the phosphor material are spattered to solidify the phosphor 1
0, 10,... Then, these glass substrates 1
2 are opposed to each other and the glass substrates 1 and 2 are stuck together.
Ne-Xe, He-Xe inside each of the discharge cells 9, 9,...
And the surroundings are sealed with a seal glass or the like. As described above, a plasma display having predetermined characteristics can be obtained.

【0009】上述したサンドブラスト法は、パターンが
形成された隔壁材料上に、粒径が20μmから30μm
程度のガラスビーズ、炭化カルシウム等の粉体を吹き付
ることにより、パターンが形成された部分の隔壁材料を
残すと共に、パターンが形成されていない部分の隔壁材
料を削り取る方法である。このサンドブラスト法では、
隔壁材料上に形成されたパターン化されたDFR等によ
りパターン下の隔壁材料が切削されないため、パターン
が形成された部分の隔壁材料が残る。また、パターン下
以外の部分の隔壁材料が切削された後は、反射率の高い
誘電体層7が露出するが、この誘電体層7の表面は焼成
されて隔壁材料に比して硬度が高くなっているため、切
削は誘電体層7の表面で止まり、隔壁8,8,…が形成
されることとなる。
In the above-mentioned sand blast method, the particle size is 20 μm to 30 μm on the partition wall material on which the pattern is formed.
By spraying powder such as glass beads or calcium carbide to a certain extent, the partition wall material at the portion where the pattern is formed is left and the partition wall material at the portion where the pattern is not formed is scraped off. In this sandblasting method,
Since the partition material under the pattern is not cut by the patterned DFR or the like formed on the partition material, the partition material at the portion where the pattern is formed remains. Also, after the partition material other than the portion under the pattern is cut, the dielectric layer 7 having a high reflectivity is exposed. However, the surface of the dielectric layer 7 is baked and has a higher hardness than the partition material. , The cutting stops at the surface of the dielectric layer 7, and the partition walls 8, 8,... Are formed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のプラ
ズマディスプレイにおいては、誘電体層7の表面が平坦
であるために、誘電体層7上に形成された蛍光体10,
10,…の表面も誘電体層7に沿って平坦になるため、
蛍光体10,10,…の輝度が低く、したがって、画面
をより明るくすることができないという問題点があっ
た。蛍光体10,10,…の輝度を高めるためには、そ
の表面積を大きくすればよいのであるが、近年の画素の
小型化、薄厚化への要求の高まりにより、放電セルに対
してもさらなる小型化が求められており、蛍光体10,
10,…の表面積を大きく取るにも限界がある。
Incidentally, in the conventional plasma display, since the surface of the dielectric layer 7 is flat, the phosphors 10 and 10 formed on the dielectric layer 7 are not provided.
Since the surfaces of 10,... Are also flat along the dielectric layer 7,
There is a problem that the brightness of the phosphors 10, 10,... Is low, so that the screen cannot be made brighter. In order to increase the brightness of the phosphors 10, 10,..., The surface area of the phosphors should be increased. However, due to the recent demand for smaller and thinner pixels, the size of the discharge cells is further reduced. , Phosphor 10,
There is also a limit in increasing the surface area of 10,.

【0011】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、蛍光体の占有面積を増加させることなく実
質的に表面積を増加させることで、蛍光体の輝度を高め
ることができ、その結果、同じ紫外線量でもより明るい
画面が得られるプラズマディスプレイ及びその製造方法
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and can increase the luminance of a phosphor by substantially increasing the surface area without increasing the area occupied by the phosphor. As a result, an object is to provide a plasma display capable of obtaining a brighter screen even with the same amount of ultraviolet light, and a method for manufacturing the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次のようなプラズマディスプレイ及びその
製造方法を採用した。すなわち、請求項1記載のプラズ
マディスプレイは、一対の透明基板が対向配置され、こ
れら透明基板間に複数の隔壁が形成され、これら隔壁に
より画成されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これ
らの放電セル各々の内面に蛍光体が形成されてなるプラ
ズマディスプレイにおいて、前記蛍光体の底面部および
/または側面部の表面に凹凸が形成されていることを特
徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following plasma display and a method of manufacturing the same. That is, in the plasma display according to the first aspect, a pair of transparent substrates are disposed to face each other, a plurality of partitions are formed between the transparent substrates, and each concave portion defined by these partitions serves as a discharge cell. In a plasma display in which a phosphor is formed on the inner surface of each discharge cell, irregularities are formed on the surface of the bottom surface and / or the side surface of the phosphor.

【0013】このプラズマディスプレイでは、従来では
平坦な形状であった前記蛍光体の底面部および/または
側面部の表面に凹凸を形成したことにより、簡単な構造
で蛍光体の放電セルにおける占有面積を増加させること
なく有効な表面積を増加させることが可能である。すな
わち、従来の平坦な形状では、各隔壁間の互いに対向す
る側面と、これら隔壁間の底部の誘電体層上とに形成さ
れた蛍光体の表面積の部分が有効な蛍光面積となるが、
本発明では、蛍光体の底面部および/または側面部の表
面に凹凸を形成することで、前記底面部および/または
側面部の表面積が増加し、この増加した部分を含む表面
積全体が有効な蛍光面積となる。これにより、蛍光体の
発光効率が高まり、輝度が高まる。その結果、同じ紫外
線量でもより明るい画面が得られる。
In this plasma display, the unevenness is formed on the bottom surface and / or the side surface of the phosphor, which has been conventionally flat, so that the area occupied by the phosphor in the discharge cells can be reduced with a simple structure. It is possible to increase the effective surface area without increasing it. In other words, in the conventional flat shape, the surface area of the phosphor formed on the opposing side surfaces between the partition walls and on the bottom dielectric layer between the partition walls is an effective fluorescent area,
In the present invention, the surface area of the bottom surface and / or the side surface is increased by forming irregularities on the surface of the bottom surface and / or the side surface of the phosphor, and the entire surface area including the increased portion is effective fluorescent light. Area. Thereby, the luminous efficiency of the phosphor increases, and the luminance increases. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0014】請求項2記載のプラズマディスプレイは、
請求項1記載のプラズマディスプレイにおいて、前記凹
凸は波型であることを特徴とする。このプラズマディス
プレイでは、前記蛍光体の底面部および/または側面部
の表面に波型の凹凸を形成したことにより、蛍光体の有
効な表面積をさらに増加させることが可能である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a plasma display comprising:
2. The plasma display according to claim 1, wherein the irregularities are corrugated. In this plasma display, the effective surface area of the phosphor can be further increased by forming corrugations on the surface of the bottom and / or the side of the phosphor.

【0015】請求項3記載のプラズマディスプレイは、
請求項1または2記載のプラズマディスプレイにおい
て、一方の前記透明基板の表面の前記放電セルそれぞれ
に対応する領域に凹凸が形成され、これら凹凸上に前記
蛍光体が形成されていることを特徴とする。このプラズ
マディスプレイでは、請求項1記載のプラズマディスプ
レイと同様の作用が得られる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a plasma display.
3. The plasma display according to claim 1, wherein irregularities are formed in regions corresponding to the discharge cells on the surface of one of the transparent substrates, and the phosphor is formed on these irregularities. . With this plasma display, the same operation as the plasma display according to the first aspect can be obtained.

【0016】すなわち、このプラズマディスプレイで
は、前記透明基板の表面の前記放電セルそれぞれに対応
する領域に凹凸を形成することで、前記領域上に形成さ
れた蛍光体の底面部の表面にも前記凹凸に対応する凹凸
が形成されることとなり、前記底面部の表面積が増加
し、この増加した部分を含む表面積全体が有効な蛍光面
積となる。これにより、蛍光体の発光効率が高まり、輝
度が高まる。その結果、同じ紫外線量でもより明るい画
面が得られる。
That is, in this plasma display, by forming irregularities on the surface of the transparent substrate corresponding to each of the discharge cells, the irregularities are also formed on the surface of the bottom surface of the phosphor formed on the region. Is formed, and the surface area of the bottom portion increases, and the entire surface area including the increased portion becomes an effective fluorescent area. Thereby, the luminous efficiency of the phosphor increases, and the luminance increases. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0017】請求項4記載のプラズマディスプレイは、
請求項1、2または3記載のプラズマディスプレイにお
いて、前記隔壁は、前記透明基板の表面に平行な断面が
波型であることを特徴とする。このプラズマディスプレ
イでは、前記隔壁の前記透明基板の表面に平行な断面を
波型とすることで、該隔壁の側面に形成される蛍光体の
表面積が増加し、この増加した部分を含む表面積全体が
有効な蛍光面積となる。これにより、蛍光体の発光効率
が高まり、輝度が高まる。その結果、同じ紫外線量でも
より明るい画面が得られる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a plasma display comprising:
4. The plasma display according to claim 1, wherein the partition has a corrugated cross section parallel to the surface of the transparent substrate. In this plasma display, by making the cross section of the partition wall parallel to the surface of the transparent substrate into a wavy shape, the surface area of the phosphor formed on the side surface of the partition wall increases, and the entire surface area including the increased portion is reduced. This is an effective fluorescent area. Thereby, the luminous efficiency of the phosphor increases, and the luminance increases. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0018】請求項5記載のプラズマディスプレイは、
請求項1、2または3記載のプラズマディスプレイにお
いて、前記隔壁の側面に凹凸が形成されていることを特
徴とする。このプラズマディスプレイでは、請求項4記
載のプラズマディスプレイと同様の作用が得られる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a plasma display comprising:
4. The plasma display according to claim 1, wherein irregularities are formed on side surfaces of the partition wall. In this plasma display, the same operation as the plasma display according to the fourth aspect can be obtained.

【0019】すなわち、このプラズマディスプレイで
は、前記隔壁の側面に凹凸を形成することで、前記側面
上に形成された蛍光体の表面にも前記凹凸に対応する凹
凸が形成されることとなり、前記蛍光体の側面部の表面
積が増加し、この増加した部分を含む表面積全体が有効
な蛍光面積となる。これにより、蛍光体の発光効率が高
まり、輝度が高まる。その結果、同じ紫外線量でもより
明るい画面が得られる。
That is, in this plasma display, by forming irregularities on the side surfaces of the partition, irregularities corresponding to the irregularities are also formed on the surface of the phosphor formed on the side surfaces. The surface area of the side of the body increases, and the entire surface area including the increased portion becomes an effective fluorescent area. Thereby, the luminous efficiency of the phosphor increases, and the luminance increases. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0020】請求項6記載のプラズマディスプレイの製
造方法は、一対の透明基板が対向配置され、これら透明
基板間に複数の隔壁が形成され、これら隔壁により画成
されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これらの放電
セル各々の内面に蛍光体が形成されてなるプラズマディ
スプレイの製造方法において、一方の前記透明基板の表
面の複数の前記放電セルそれぞれに対応する領域を切削
または触刻して底面が凹凸の凹部を形成し、これら凹部
の内面に前記蛍光体を形成することを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a plasma display, a pair of transparent substrates are disposed to face each other, a plurality of partitions are formed between the transparent substrates, and each of the recesses defined by these partitions is connected to a discharge cell. In a method of manufacturing a plasma display, wherein a phosphor is formed on the inner surface of each of these discharge cells, a region corresponding to each of the plurality of discharge cells on the surface of one of the transparent substrates is cut or stamped to form a bottom surface. Form concaves and convexes, and form the phosphor on the inner surface of these concaves.

【0021】このプラズマディスプレイの製造方法で
は、一方の前記透明基板の表面の複数の前記放電セルそ
れぞれに対応する領域を切削または触刻して底面が凹凸
の凹部を形成するので、該凹部内に蛍光体を形成すれ
ば、該蛍光体の表面にも前記凹凸に対応する凹凸が形成
されることとなり、簡単なプロセスで、蛍光体の放電セ
ルにおける占有面積を増加させることなく、その有効な
表面積を大幅に増加させることが可能である。
In this method of manufacturing a plasma display, a region corresponding to each of the plurality of discharge cells on the surface of one of the transparent substrates is cut or stamped to form a concave portion having a concave and convex bottom surface. If the phosphor is formed, irregularities corresponding to the irregularities are also formed on the surface of the phosphor, and the effective surface area of the phosphor is increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor in the discharge cells. Can be greatly increased.

【0022】請求項7記載のプラズマディスプレイの製
造方法は、請求項6記載のプラズマディスプレイの製造
方法において、前記透明基板の表面に前記隔壁を形成す
るための隔壁層を形成し、該隔壁層の前記放電セルそれ
ぞれに対応する領域を切削または触刻して底面が凹凸の
凹部を形成することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the method for manufacturing a plasma display according to the sixth aspect, a partition layer for forming the partition is formed on a surface of the transparent substrate, and A region corresponding to each of the discharge cells is cut or stamped to form a concave portion having a concave and convex bottom surface.

【0023】このプラズマディスプレイの製造方法で
は、前記透明基板の表面に前記隔壁を形成するための隔
壁層を形成し、該隔壁層の前記放電セルそれぞれに対応
する領域を切削または触刻して底面が凹凸の凹部を形成
するので、簡単なプロセスで、蛍光体の放電セルにおけ
る占有面積を増加させることなく、その有効な表面積を
大幅に増加させることが可能である。また、隔壁層の前
記放電セルそれぞれに対応する領域に底面が凹凸の凹部
を形成するので、隔壁と底面が凹凸の凹部とを一括して
形成することが可能になり、該凹部を形成するための工
程を別途用意する必要がない。
In this method of manufacturing a plasma display, a partition layer for forming the partition is formed on the surface of the transparent substrate, and regions of the partition layer corresponding to the discharge cells are cut or stamped to form a bottom surface. Form a concave and convex portion, the effective surface area can be greatly increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor in the discharge cell. In addition, since a concave portion having a concave and convex bottom surface is formed in a region corresponding to each of the discharge cells of the partition layer, it is possible to collectively form the concave portion having a concave and convex bottom surface and form the concave portion. It is not necessary to prepare a separate process.

【0024】請求項8記載のプラズマディスプレイの製
造方法は、請求項6または7記載のプラズマディスプレ
イの製造方法において、一方の前記透明基板上または前
記隔壁層上に、前記隔壁を形成するための隔壁用パター
ン、及び該隔壁用パターンから独立しかつ該隔壁用パタ
ーンの幅より狭い幅の凹凸形成用パターンを形成し、次
いで、これらのパターンを用いて前記透明基板または前
記隔壁層を切削または触刻し、該透明基板または前記隔
壁層に複数の隔壁及び底面が凹凸の凹部を形成すること
を特徴とする。
According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a plasma display manufacturing method according to the sixth or seventh aspect, wherein the partition is formed on one of the transparent substrate and the partition layer. Pattern, and a concavo-convex forming pattern independent of the partition wall pattern and having a width smaller than the width of the partition wall pattern, and then cutting or stamping the transparent substrate or the partition wall layer using these patterns. The transparent substrate or the partition layer is formed with a plurality of partitions and a concave portion having an uneven bottom surface.

【0025】このプラズマディスプレイの製造方法で
は、前記凹凸形成用パターンは、隔壁用パターンに比べ
て幅が狭く、かつ独立していることにより、前記透明基
板または前記隔壁層をサンドブラスト法を用いて切削す
ると、まず、凹凸形成用パターンにより被覆されていな
い透明基板または隔壁層の表面が切削される。切削が進
行する途中で凹凸形成用パターンが飛ばされるので、そ
の後は該凹凸形成用パターンが形成されていた透明基板
または隔壁層の表面も切削されることになる。これによ
り、前記透明基板または前記隔壁層の表面に、凹凸形成
用パターンが形成されていた部分が高く、形成されてい
ない部分が低い凹凸を容易に形成することが可能であ
る。
In this method of manufacturing a plasma display, the pattern for forming concavities and convexities is narrower and independent of the pattern for partitioning, so that the transparent substrate or the partitioning layer is cut using a sandblast method. Then, first, the surface of the transparent substrate or the partition layer that is not covered with the pattern for forming unevenness is cut. Since the concavo-convex pattern is skipped during the cutting, the surface of the transparent substrate or the partition layer on which the concavo-convex pattern has been formed is also cut thereafter. Thereby, it is possible to easily form unevenness on the surface of the transparent substrate or the partition layer where the pattern for forming unevenness is formed is high and the portion where the pattern is not formed is low.

【0026】請求項9記載のプラズマディスプレイの製
造方法は、請求項8記載のプラズマディスプレイの製造
方法において、前記凹凸形成用パターンは、前記隔壁用
パターンの延在方向に沿って複数形成されていることを
特徴とする。このプラズマディスプレイの製造方法で
は、前記凹凸形成用パターンを、前記隔壁用パターンの
延在方向に沿って複数形成したことで、隔壁間に、その
延在方向に沿って複数の山を有する凹凸を底面とした凹
部を形成する。
According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a plasma display according to the eighth aspect, a plurality of the concavo-convex forming patterns are formed along an extending direction of the partition wall pattern. It is characterized by the following. In this method for manufacturing a plasma display, by forming a plurality of the concavo-convex formation patterns along the extending direction of the partition wall pattern, the unevenness having a plurality of peaks between the partition walls along the extending direction is formed. A concave portion is formed as a bottom surface.

【0027】請求項10記載のプラズマディスプレイの
製造方法は、請求項8または9記載のプラズマディスプ
レイの製造方法において、前記隔壁用パターンは波型で
あることを特徴とする。このプラズマディスプレイの製
造方法では、前記隔壁用パターンを波型としたことで、
隔壁の断面を前記透明基板または前記隔壁層に対して波
型に加工することが容易である。これにより、隔壁の側
面を波型に加工することができ、該隔壁の側面上に形成
される蛍光体の表面積を容易に増加させることが可能で
ある。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method of the eighth or ninth aspect, the partition pattern is corrugated. In this method for manufacturing a plasma display, the partition pattern is corrugated,
It is easy to process the cross section of the partition into a corrugated shape with respect to the transparent substrate or the partition layer. Thereby, the side surface of the partition can be processed into a corrugated shape, and the surface area of the phosphor formed on the side surface of the partition can be easily increased.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明は、対向配置した一対の透
明基板間に複数の隔壁を形成し、これら隔壁により画成
されたそれぞれの凹部を放電セルとし、これらの放電セ
ル各々の内面に蛍光体を形成したプラズマディスプレイ
及びその製造方法に関するもので、その第1〜第5の実
施の形態を図面を参照しながら以下に説明する。なお、
本発明のプラズマディスプレイは、背面側のガラク基板
に特徴があり、前面側のガラス基板は従来と全く同様の
構成であるから、第1〜第5の実施の形態では、背面側
のガラス基板を中心に説明を行うものとする。また、こ
れらの実施の形態では、従来と全く同様の構成について
は同一の符号を付し、その説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the present invention, a plurality of partitions are formed between a pair of transparent substrates opposed to each other, and each recess defined by these partitions is used as a discharge cell, and the inner surface of each of these discharge cells is formed. The present invention relates to a plasma display on which a phosphor is formed and a method of manufacturing the same, and first to fifth embodiments will be described below with reference to the drawings. In addition,
The plasma display of the present invention is characterized by a rear-side glass substrate, and the front-side glass substrate has exactly the same configuration as the conventional one. Therefore, in the first to fifth embodiments, the rear-side glass substrate is used. The explanation will be focused on. In these embodiments, components identical to those in the related art are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0029】[第1の実施の形態]本発明の第1の実施
の形態のプラズマディスプレイ及びその製造方法につい
て図面に基づき説明する。図1はプラズマディスプレイ
の背面側のガラス基板(透明基板)を示す断面図、図2
は図1のA−A線に沿う断面図であり、これらの図にお
いて、符号21は背面側のガラス基板(透明基板)であ
り、前記ガラス基板1に対向する表面の所定箇所にはA
g、Ag−Pd等を主成分とするストライプ状のアドレ
ス電極6が複数形成されている。これらのアドレス電極
6,6,…は前面側のガラス基板1上に形成された透明
電極3,3,…に直交するように構成されている。
[First Embodiment] A plasma display according to a first embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a glass substrate (transparent substrate) on the back side of the plasma display, and FIG.
1 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1. In these figures, reference numeral 21 denotes a rear glass substrate (transparent substrate).
A plurality of stripe-shaped address electrodes 6 mainly composed of g, Ag-Pd or the like are formed. These address electrodes 6, 6,... Are configured to be orthogonal to the transparent electrodes 3, 3,.

【0030】これらのアドレス電極6,6,…は反射率
の高い誘電体層22で覆われ、この誘電体層22上に
は、アドレス電極6,6,…と平行で、かつ、これらの
アドレス電極6,6,…の両側に位置するストライプ状
の隔壁23がそれぞれ設けられ、さらに、隔壁23,2
3と誘電体層22により挟まれた領域の底部、すなわち
誘電体層22の上面には隔壁23,23の延在方向に沿
って隔壁材残部25,25,…が残されている。この隔
壁材残部25は、その表面の隔壁23,23の延在方向
に沿った断面が波型状とされたもので、サンドブラスト
法により隔壁材料を切削して隔壁23,23を形成する
際に誘電体層22上に残されたものである。
These address electrodes 6, 6,... Are covered with a dielectric layer 22 having a high reflectance, and on the dielectric layer 22, the address electrodes 6, 6,. Are provided on both sides of the electrodes 6, 6,..., Respectively.
.. Are left along the extending direction of the partitions 23 on the bottom of the region sandwiched between the dielectric layer 3 and the dielectric layer 22, that is, on the upper surface of the dielectric layer 22. The partition wall material remaining portion 25 has a corrugated cross section along the direction in which the partition walls 23, 23 extend on its surface, and is used for forming the partition walls 23, 23 by cutting the partition wall material by sandblasting. It is left on the dielectric layer 22.

【0031】この隔壁23,23と、隔壁材残部25,
25,…が残された誘電体層22により画成された凹部
それぞれが、ガス放電を行う空間である溝状の放電セル
26とされている。これらの放電セル26,26,…の
内側、すなわち隔壁23,23の各側面、及び隔壁材残
部25,25,…が残された誘電体層22上には、3原
色R、G、B(赤、緑、青)に対応する蛍光体27,2
7,…が形成されている。この蛍光体27は、隔壁23
の側面上に形成された蛍光体側部27aと、放電セル2
6の底部を構成する隔壁材残部25,25,…及び誘電
体層22上に形成された蛍光体底部27bとにより構成
されている。
The partition walls 23, 23 and the partition wall remaining portion 25,
Each of the recesses defined by the dielectric layer 22 in which 25,... Are left is a groove-shaped discharge cell 26 which is a space for performing gas discharge. The three primary colors R, G, B (inside the discharge cells 26, 26,..., That is, on the side surfaces of the partition walls 23, 23, and on the dielectric layer 22 where the partition wall material remaining portions 25, 25,. Phosphors 27 and 2 corresponding to red, green and blue)
7,... Are formed. This phosphor 27 is used for the partition 23.
Phosphor side portion 27a formed on the side surface of discharge cell 2
6 and a phosphor bottom portion 27b formed on the dielectric layer 22.

【0032】隔壁23の側面は平坦であるから、該側面
上に形成された蛍光体側部27aの表面も平坦である
が、隔壁材残部25,25,…が残された誘電体層22
の表面は隔壁23,23の延在方向に沿った断面が波型
状であるから、この隔壁材残部25,25,…及び誘電
体層22上に形成された蛍光体底部27bの表面も波型
状になる。そして、このガラス基板21と前記ガラス基
板1を合わせて、各放電セル26,6,…の内部に14
7nmのXe共鳴放射光を利用するNe−Xe、He−
Xe等の混合ガスを封入した状態で、周囲をシールガラ
ス等により封着した構成になっている。
Since the side surface of the partition wall 23 is flat, the surface of the phosphor side portion 27a formed on the side surface is also flat, but the dielectric layer 22 in which the partition wall material remaining portions 25, 25,.
The cross section of the surface along the extending direction of the partition walls 23 has a wavy shape, so that the surfaces of the remaining partition wall members 25, 25,... And the phosphor bottom 27b formed on the dielectric layer 22 also have a wavy shape. Be shaped. Then, the glass substrate 21 and the glass substrate 1 are put together, and the discharge cells 26, 6,.
Ne-Xe, He- using 7 nm Xe resonance radiation
In a state where a mixed gas such as Xe is sealed, the periphery is sealed with a seal glass or the like.

【0033】アドレス電極6,6,…及び前記透明電極
3,3,…は、それぞれ外部に引き出されており、これ
らに接続された端子に選択的に電圧を印加することで、
選択的に放電セル26,26,…内の各電極3,6間に
放電を発生させ、この放電により放電セル26,26,
…内の蛍光体27,27,…からの励起光を外部に表示
するようになっている。このときの発光面は、放電セル
26,26,…に面した蛍光体27,27,…の表面部
分となる。
The address electrodes 6, 6,... And the transparent electrodes 3, 3,... Are respectively drawn out to the outside, and by selectively applying a voltage to the terminals connected to them,
A discharge is selectively generated between the electrodes 3, 6 in the discharge cells 26, 26,..., And this discharge causes the discharge cells 26, 26,.
The excitation light from the phosphors 27, 27,... In the. The light emitting surface at this time is the surface of the phosphors 27, 27,... Facing the discharge cells 26, 26,.

【0034】ここで、放電セル26,26,…の形状
が、例えば、従来の技術で説明したような細溝形状(図
11の放電セル9,9,…)であれば、前記各隔壁8,
8,…の互いに対向する平坦な側面と、これら隔壁8,
8,…間の底部に形成される平坦な底面(誘電体層7の
表面)とに形成された蛍光体10,10,…の表面積部
分が有効な蛍光体表面積となる。
Here, if the shape of the discharge cells 26, 26,... Is, for example, a narrow groove shape (discharge cells 9, 9,. ,
, Flat side surfaces facing each other, and these partition walls 8,
The surface area of the phosphors 10, 10,... Formed on the flat bottom surface (the surface of the dielectric layer 7) formed at the bottom between 8,.

【0035】これに対し、本実施の形態のプラズマディ
スプレイでは、蛍光体27の有効な表面積部分は、隔壁
23の側面上に形成された蛍光体側部27aの平坦な表
面積部分と、放電セル26の底部を構成する隔壁材残部
25,25,…及び誘電体層22上に形成された蛍光体
底部27bの波型状の表面積部分との和になる。蛍光体
27の有効な表面積部分の増加分は、蛍光体底部27b
の実際の表面積部分から該蛍光体底部27bの占有面積
部分を除いた部分であるから、蛍光体の有効な表面積を
増加させることが可能になる。したがって、本実施の形
態のプラズマディスプレイでは、蛍光体27の占有面積
を増加させることなく、有効な表面積部分を増加させる
ことができ、その結果、その輝度を従来よりも向上させ
ることが可能になる。
On the other hand, in the plasma display of the present embodiment, the effective surface area of the phosphor 27 is determined by the flat surface area of the phosphor side 27 a formed on the side surface of the partition wall 23 and the effective surface area of the discharge cell 26. .. And the corrugated surface area of the phosphor bottom 27b formed on the dielectric layer 22. The increase in the effective surface area of the phosphor 27 is due to the phosphor bottom 27b.
The effective surface area of the phosphor can be increased because the actual surface area is the part excluding the area occupied by the phosphor bottom 27b. Therefore, in the plasma display of the present embodiment, the effective surface area can be increased without increasing the occupied area of the phosphor 27, and as a result, the luminance can be improved as compared with the related art. .

【0036】次に、このプラズマディスプレイの製造方
法について図3に基づき説明する。まず、図3(a)に
示すように、ガラス基板21の表面の電極形成領域全体
に、スクリーン印刷法により、Ag、Ag−Pd等を主
成分とする導電ペースト31を印刷する。この時、導電
ペースト31の膜厚は5〜10μm程度になるように調
整する。その後、この導電ペースト31を150℃で1
0分程度加熱して乾燥させ、所望の電極パターンで露光
(400mJ/cm2)、現像(Na2CO3溶液)を
行い、その後、550℃で10分間焼成し、透明電極
3,3,…に直交するストライプ状のアドレス電極6,
6,…とする。
Next, a method of manufacturing the plasma display will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 3A, a conductive paste 31 containing Ag, Ag-Pd, or the like as a main component is printed on the entire electrode forming region on the surface of the glass substrate 21 by a screen printing method. At this time, the thickness of the conductive paste 31 is adjusted to be about 5 to 10 μm. Then, the conductive paste 31 is heated at 150 ° C. for 1 hour.
Heat for about 0 minutes to dry, expose (400 mJ / cm 2) and develop (Na 2 CO 3 solution) with the desired electrode pattern, then bake at 550 ° C. for 10 minutes, and stripes perpendicular to transparent electrodes 3, 3,. Address electrodes 6,
6, ...

【0037】次いで、アドレス電極6,6,…及びガラ
ス基板21全面に反射率の高い誘電体材料32を塗布
し、その後所定の温度で焼成して反射率の高い誘電体層
22とする。誘電体材料32は、焼成により隔壁23,
23,…より硬度が高くなる等、サンドブラスト法では
切削され難い材料であることが好ましい。次いで、スク
リーン印刷法あるいはロールコータ法等を用いて誘電体
層22の全面に隔壁材料を塗布し、その後、乾燥させて
隔壁層33とする。この隔壁材料は、塗布・乾燥後の形
状保持のためのバインダーである有機物をできるだけ少
なくする等、サンドブラスト法により切削され易い材料
であることが好ましい。
Next, a dielectric material 32 having a high reflectivity is applied to the entire surface of the address electrodes 6, 6,... And the glass substrate 21, and then fired at a predetermined temperature to form a dielectric layer 22 having a high reflectivity. The dielectric material 32 is formed by firing the partition walls 23,
23,... It is preferable that the material is hard to be cut by the sandblasting method, for example, the hardness becomes higher. Next, a barrier rib material is applied to the entire surface of the dielectric layer 22 using a screen printing method or a roll coater method, and then dried to form the barrier layer 33. The partition wall material is preferably a material that is easily cut by sandblasting, for example, by minimizing the amount of an organic substance as a binder for maintaining the shape after coating and drying.

【0038】次いで、この隔壁層33上に、耐サンドブ
ラスト性のドライフィルムレジスト(DFR)等のフォ
トレジストをパターニングする。このパターンは、図4
に示すように、隔壁層33の隔壁以外の部分を切削して
隔壁を形成するためのストライプ状の隔壁用パターン3
4,34,…と、隔壁用パターン34,34,…間の隔
壁層33を切削してその底面を波型とするために隣接す
る隔壁用パターン34,34の間にこれら隔壁用パター
ン34,34と独立かつ直交するように形成されて隔壁
用パターン34の幅より狭い幅のストライプ状の波型形
成用パターン(凹凸形成用パターン)35とにより構成
される。ここでは、DFRとして、例えば、ORDYL
BF405(東京応化製)を用い、露光(約300m
J/cm2)、現像(Na2CO3 0.3%溶液)を
行って耐サンドブラスト性を有するパターンとした。
Next, a photoresist such as a sand blast resistant dry film resist (DFR) is patterned on the partition layer 33. This pattern is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a stripe-shaped partition pattern 3 for forming a partition by cutting a portion other than the partition of the partition layer 33.
, 34,.. And the partition wall layer 33 between the partition wall patterns 34, 34,. 34, a stripe-shaped corrugated pattern (pattern for forming concavities and convexities) 35 formed so as to be independent and orthogonal to the pattern 34 and having a width smaller than the width of the partition wall pattern 34. Here, as the DFR, for example, ORDYL
Exposure (about 300m) using BF405 (manufactured by Tokyo Ohka)
J / cm 2) and development (0.3% solution of Na 2 CO 3) to obtain a pattern having sandblast resistance.

【0039】その後、隔壁用パターン34及び波型形成
用パターン35,35,…をマスクとし、サンドブラス
トマシン(不二製作所製)を用いて研磨材(WA#80
0)を隔壁層33の表面に吹きつけ、隔壁層33を切削
する。この切削工程では、まず、図3(b)に示すよう
に、隔壁用パターン34及び波型形成用パターン35に
より被覆されていない隔壁層33の表面部分が切削され
る。
Then, using the partition wall pattern 34 and the corrugation forming patterns 35, 35,... As a mask, an abrasive (WA # 80) using a sand blasting machine (manufactured by Fuji Seisakusho).
0) is sprayed on the surface of the partition layer 33 to cut the partition layer 33. In this cutting step, first, as shown in FIG. 3B, a surface portion of the partition layer 33 not covered with the partition pattern 34 and the corrugated pattern 35 is cut.

【0040】波型形成用パターン35は、隔壁用パター
ン34に比べて幅が狭いので、切削が進行する間に幅の
狭い波型形成用パターン35が飛ばされ、図3(c)に
示すように、波型形成用パターン35が形成されていた
隔壁層33の表面も切削され、誘電体層22上に、波型
形成用パターン35に対応する部分が頂部、それ以外の
部分が頂部から下り勾配となる傾斜面とされた波型の隔
壁材料33a,33a,…が残される。
Since the corrugation forming pattern 35 is narrower than the partition wall pattern 34, the corrugation forming pattern 35 having a smaller width is skipped during cutting as shown in FIG. 3 (c). In addition, the surface of the partition layer 33 on which the corrugation forming pattern 35 is formed is also cut, and a portion corresponding to the corrugation forming pattern 35 is formed on the dielectric layer 22 at the top, and the other portions are formed from the top. The corrugated partition wall materials 33a, 33a,... Which are formed as inclined surfaces are left.

【0041】その後、隔壁用パターン34を除去し、次
いで所定の温度で焼成することにより、図3(d)に示
すように、誘電体層22上に、所定の形状の隔壁23,
23,…及び隔壁材残部25,25,…を形成する。こ
の隔壁23,23,…と、波型状の隔壁材残部25,2
5,…が形成された誘電体層22とにより囲まれた領域
が、ガス放電を行う空間である溝状の放電セル26とな
る。
Thereafter, the partitioning pattern 34 is removed, and then baked at a predetermined temperature, so that a predetermined shape of the partitioning wall 23, 23 is formed on the dielectric layer 22, as shown in FIG.
, And the partition material remaining portions 25, 25,. , And the corrugated partition wall material remaining portions 25, 2
The region surrounded by the dielectric layer 22 on which the 5,... Are formed becomes the groove-shaped discharge cells 26 which are spaces for performing gas discharge.

【0042】次いで、スクリーン印刷法等を用いて放電
セル26,26,…の内側に3原色R、G、B(赤、
緑、青)に対応するペースト状の蛍光体材料を塗布し、
その後乾燥・焼成することにより、この蛍光体材料に含
まれる溶剤や有機バインダー等が飛び去り、固化した蛍
光体27となる。この蛍光体27は、隔壁23の側面上
に形成された部分が平坦な蛍光体側部27aに、放電セ
ル26の底部を構成する隔壁材残部25,25,…及び
誘電体層22上に形成された部分が表面波型状の蛍光体
底部27bになる。
Next, the three primary colors R, G, B (red,
Green, blue)
Thereafter, by drying and baking, the solvent, the organic binder, and the like contained in the phosphor material are removed, and the phosphor 27 is solidified. The phosphor 27 is formed on the phosphor side portion 27a where the portion formed on the side surface of the partition wall 23 is flat, on the partition wall material remaining portions 25 constituting the bottom of the discharge cell 26, and on the dielectric layer 22. The resulting portion becomes a surface wave type phosphor bottom 27b.

【0043】その後、これらのガラス基板21,1を対
向配置してガラス基板21,1同士を貼り合わせ、各放
電セル26,26,…の内部にNe−Xe、He−Xe
等の混合ガスを封入し、周囲をシールガラス等により封
着する。以上により、所定の特性を有するプラズマディ
スプレイを得ることができる。
Thereafter, the glass substrates 21 and 1 are arranged to face each other, and the glass substrates 21 and 1 are bonded to each other, and Ne-Xe, He-Xe
And the surroundings are sealed with a seal glass or the like. As described above, a plasma display having predetermined characteristics can be obtained.

【0044】以上説明したように、本実施の形態のプラ
ズマディスプレイによれば、放電セル26の底部の誘電
体層22の上面に波型状の隔壁材残部25,25,…を
形成し、これら波型状の隔壁材残部25,25,…上に
表面が波型状の蛍光体底部27bを形成したので、蛍光
体27の底面部の表面積をその占有面積以上に増加させ
ることで、この蛍光体27の有効な蛍光面積を大幅に増
加させることができ、したがって、蛍光体27の発光効
率を高め、輝度を高めることができる。その結果、同じ
紫外線量でもより明るい画面を得ることができる。
As described above, according to the plasma display of the present embodiment, corrugated partition wall material remaining portions 25, 25,... Are formed on the upper surface of dielectric layer 22 at the bottom of discharge cells 26. Since the surface of the phosphor bottom 27b is formed on the corrugated partition wall material remaining portions 25, 25,..., By increasing the surface area of the bottom of the phosphor 27 to an area occupied by the phosphor 27 or more. The effective fluorescent area of the body 27 can be greatly increased, so that the luminous efficiency of the phosphor 27 and the brightness can be increased. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0045】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、隔壁層33上に、隔壁用パターン34
及び波型形成用パターン35をパターニングし、これら
のパターンをマスクとして隔壁層33を切削して波型状
の隔壁材残部25,25,…を形成するので、底部の表
面積が増加した放電セル26を容易に作製することがで
きる。したがって、簡単なプロセスで、蛍光体27の放
電セル26における占有面積を増加させることなく、そ
の有効な表面積を大幅に増加させたプラズマディスプレ
イを製造することができる。また、誘電体層22上に、
隔壁23,23,…と波型状の隔壁材残部25,25,
…とを一括して形成することができるので、放電セル2
6の底部に波型状等の凹部を形成するための工程を別途
用意する必要がない。
According to the method of manufacturing a plasma display of the present embodiment, the partition pattern 34 is formed on the partition layer 33.
And the corrugation forming pattern 35 are patterned, and the partition layer 33 is cut using these patterns as masks to form corrugated partition wall material remaining portions 25, 25,..., So that the discharge cells 26 having an increased bottom surface area. Can be easily produced. Therefore, it is possible to manufacture a plasma display whose effective surface area is greatly increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor 27 in the discharge cells 26. Also, on the dielectric layer 22,
Partition walls 23, 23, ... and corrugated partition wall material remaining parts 25, 25,
Are collectively formed, so that the discharge cells 2
There is no need to separately prepare a step for forming a concave portion having a wavy shape or the like at the bottom of 6.

【0046】[第2の実施の形態]本発明の第2の実施
の形態のプラズマディスプレイ及びその製造方法につい
て図面に基づき説明する。図5はプラズマディスプレイ
の背面側のガラス基板(透明基板)を示す平面図であ
り、本実施の形態のプラズマディスプレイが、上述した
第1の実施の形態のプラズマディスプレイと異なる点
は、第1の実施の形態のプラズマディスプレイでは、誘
電体層22の上面に波型状の隔壁材残部25,25,…
を形成して放電セル26の側面を平坦面、底面を波型と
し、放電セル26の内面に形成される蛍光体27の側面
部分を平坦に、その底面部分を波型にすることで、蛍光
体27の有効な表面積を増加させたのに対し、本実施の
形態のプラズマディスプレイでは、隔壁41の側面を波
型、誘電体層22の表面を平坦面とすることで、隔壁4
1,41及び誘電体層22により画成される放電セル4
2の側面を波型、底面を平坦面とし、放電セル26の内
面に形成される蛍光体27の側面部分を波型に、その底
面部分を平坦にし、蛍光体27の有効な表面積を増加さ
せた点である。
[Second Embodiment] A plasma display according to a second embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a plan view showing a glass substrate (transparent substrate) on the back side of the plasma display. The difference between the plasma display of the present embodiment and the plasma display of the above-described first embodiment is that In the plasma display according to the embodiment, the remaining portions 25, 25,.
Is formed, the side surface of the discharge cell 26 is flat, the bottom surface is corrugated, and the side surface of the phosphor 27 formed on the inner surface of the discharge cell 26 is flat, and the bottom surface is corrugated. While the effective surface area of the body 27 is increased, in the plasma display of the present embodiment, the side wall of the partition 41 is corrugated, and the surface of the dielectric layer 22 is flat, so that the partition 4
Discharge cell 4 defined by the dielectric layers 1 and 41 and the dielectric layer 22
2 has a corrugated side surface, a flat bottom surface, a corrugated side surface portion of the phosphor 27 formed on the inner surface of the discharge cell 26, and a flat bottom surface portion thereof to increase the effective surface area of the phosphor 27. It is a point.

【0047】このプラズマディスプレイを作製するに
は、上述した第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
の製造方法において、隔壁層33上に、隔壁を形成する
ための波型状の隔壁用パターンをパターニングし、この
波型状の隔壁用パターンをマスクとして、サンドブラス
ト法により隔壁層33を切削し、誘電体層22に平行な
断面形状が波型状の隔壁を前記誘電体層22上に形成す
ればよい。
In order to manufacture this plasma display, a corrugated partition wall pattern for forming a partition is patterned on the partition layer 33 in the method of manufacturing a plasma display according to the first embodiment described above. By using the corrugated partition wall pattern as a mask, the partition wall layer 33 may be cut by sandblasting to form a corrugated partition wall parallel to the dielectric layer 22 on the dielectric layer 22. .

【0048】本実施の形態のプラズマディスプレイによ
れば、隔壁41の側面を波型、誘電体層22の表面を平
坦面とすることで、放電セル26の内面に形成される蛍
光体の側面部分を波型にしたので、蛍光体の側面部分の
表面積をその占有面積以上に増加させることで、第1の
実施の形態のプラズマディスプレイと同様に、蛍光体の
有効な蛍光面積を大幅に増加させることができ、したが
って、蛍光体の発光効率を高め、輝度を高めることがで
きる。その結果、同じ紫外線量でもより明るい画面を得
ることができる。
According to the plasma display of the present embodiment, the side surface of the partition 41 is corrugated, and the surface of the dielectric layer 22 is flat, so that the side surface of the phosphor formed on the inner surface of the discharge cell 26 is formed. Is shaped like a wave, so that the surface area of the side surface portion of the phosphor is increased beyond its occupied area, thereby significantly increasing the effective phosphor area of the phosphor as in the plasma display of the first embodiment. Therefore, the luminous efficiency of the phosphor can be increased, and the luminance can be increased. As a result, a brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0049】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、隔壁層33上に波型状の隔壁用パター
ンをパターニングしたので、隔壁の断面を隔壁層33に
対して波型に加工することができ、側面の表面積が増加
した放電セルを容易に作製することができる。したがっ
て、簡単なプロセスで、蛍光体の放電セルにおける占有
面積を増加させることなく、その有効な表面積を大幅に
増加させたプラズマディスプレイを製造することができ
る。
According to the manufacturing method of the plasma display of the present embodiment, since the corrugated partition pattern is patterned on the partition layer 33, the cross section of the partition is processed into the corrugated shape with respect to the partition layer 33. Thus, a discharge cell having an increased side surface area can be easily manufactured. Therefore, it is possible to manufacture a plasma display whose effective surface area is greatly increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor in the discharge cells.

【0050】[第3の実施の形態]本発明の第3の実施
の形態のプラズマディスプレイ及びその製造方法につい
て図面に基づき説明する。図6はプラズマディスプレイ
の背面側のガラス基板(透明基板)を示す断面図、図7
は図6のB−B線に沿う断面図であり、これらの図にお
いて、符号51は背面側のガラス基板(透明基板)であ
り、このガラス基板51の放電セルを形成する領域に
は、直接切削により垂直上方に延びる隔壁52,52,
…が形成され、これらの隔壁52,52及び隔壁52,
52間の底面により画成された凹部が、底面が波型で側
面が平坦な溝53とされている。
[Third Embodiment] A plasma display and a method of manufacturing the same according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a sectional view showing a glass substrate (transparent substrate) on the back side of the plasma display, and FIG.
6 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 6. In these figures, reference numeral 51 denotes a rear glass substrate (transparent substrate). Partition walls 52, 52, 52, 52
Are formed, and these partition walls 52, 52 and 52,
A concave portion defined by the bottom surface between the grooves 52 is a groove 53 whose bottom surface is corrugated and whose side surfaces are flat.

【0051】この溝53の底面の所定箇所には、Ag、
Ag−Pd等を主成分とするストライプ状のアドレス電
極54が形成され、各アドレス電極54は反射率の高い
誘電体層55で覆われている。これらの隔壁52,52
と、誘電体層55により画成された凹部が、ガス放電を
行う空間である溝状の放電セル56とされている。これ
らの放電セル56,56,…の内側、すなわち隔壁5
2,52の各側面、及び誘電体層55上には、3原色
R、G、B(赤、緑、青)に対応する蛍光体57,5
7,…が形成されている。
At a predetermined position on the bottom surface of the groove 53, Ag,
Stripe-shaped address electrodes 54 mainly composed of Ag-Pd or the like are formed, and each address electrode 54 is covered with a dielectric layer 55 having a high reflectance. These partition walls 52, 52
And a concave portion defined by the dielectric layer 55 is a groove-shaped discharge cell 56 which is a space for performing gas discharge. The inside of these discharge cells 56, 56,.
2 and 52 and on the dielectric layer 55, the phosphors 57 and 5 corresponding to the three primary colors R, G and B (red, green and blue).
7,... Are formed.

【0052】この蛍光体57は、隔壁52の側面上に形
成された表面が平坦な蛍光体側部57aと、誘電体層5
5上に形成された表面が波型の蛍光体底部57bとによ
り構成されている。この溝53の側面は平坦とされてい
るから、この側面上に形成された蛍光体側部57aの表
面も平坦面であるが、溝53の底面はその延在方向に沿
って波型とされているから、この底面上に形成された蛍
光体底部57bの表面も波型状の面になる。そして、こ
のガラス基板51と前記ガラス基板1を合わせて、各放
電セル56,56,…の内部にNe−Xe、He−Xe
等の混合ガスを封入した状態で、周囲をシールガラス等
により封着した構成になっている。
The phosphor 57 includes a phosphor side portion 57 a having a flat surface formed on the side surface of the partition wall 52 and a dielectric layer 5.
The surface formed on 5 is constituted by a corrugated phosphor bottom portion 57b. Since the side surface of the groove 53 is flat, the surface of the phosphor side portion 57a formed on this side surface is also flat, but the bottom surface of the groove 53 is corrugated along its extending direction. Therefore, the surface of the phosphor bottom portion 57b formed on this bottom surface also becomes a wavy surface. Then, when the glass substrate 51 and the glass substrate 1 are combined, Ne-Xe, He-Xe
In a state where a mixed gas such as that described above is sealed, the periphery is sealed with a seal glass or the like.

【0053】このプラズマディスプレイでは、蛍光体5
7の有効な表面積部分は、隔壁52の側面上に形成され
た蛍光体側部57aの平坦な表面積部分と、放電セル5
6の底部を構成する誘電体層55上に形成された蛍光体
底部57bの波型状の表面積部分との和である。この蛍
光体57においても、上述した第1の実施の形態のプラ
ズマディスプレイと同様、蛍光体57の占有面積を増加
させることなく、有効な表面積部分を増加させることが
でき、その結果、その輝度を従来よりも向上させること
が可能になる。
In this plasma display, the phosphor 5
7 has a flat surface area of the phosphor side 57a formed on the side surface of the partition wall 52 and a discharge cell 5
6 is the sum of the phosphor bottom portion 57b formed on the dielectric layer 55 constituting the bottom portion and the wavy surface area. Also in this phosphor 57, as in the plasma display of the first embodiment described above, the effective surface area can be increased without increasing the occupied area of the phosphor 57, and as a result, the luminance is reduced. It becomes possible to improve it conventionally.

【0054】次に、このプラズマディスプレイの製造方
法について図7に基づき説明する。まず、図8(a)に
示すように、超音波洗浄装置等を用いて平板状のガラス
基板51を洗浄して乾燥させた後、このガラス基板51
上に、図4に示す隔壁用パターン34及び波型形成用パ
ターン35をパターニングする。隔壁用パターン34及
び波型形成用パターン35の基本的な形状は、上述した
第1の実施の形態の隔壁用パターン34及び波型形成用
パターン35と同様である。本実施の形態では、上記パ
ターンをマスクとして厚みのあるガラス基板51を直接
切削する際の、切削深さ、切削速度等を考慮して隔壁用
パターン34及び波型形成用パターン35の実際の幅や
長さ等が設定される。
Next, a method of manufacturing the plasma display will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 8A, the flat glass substrate 51 is cleaned and dried using an ultrasonic cleaning device or the like, and then the glass substrate 51 is dried.
The partition pattern 34 and the corrugated pattern 35 shown in FIG. 4 are patterned. The basic shapes of the partition wall pattern 34 and the corrugated pattern 35 are the same as the partition wall pattern 34 and the corrugated pattern 35 of the first embodiment described above. In the present embodiment, the actual widths of the partition wall pattern 34 and the corrugated pattern 35 in consideration of the cutting depth, the cutting speed, and the like when directly cutting the thick glass substrate 51 using the pattern as a mask. And length are set.

【0055】その後、隔壁用パターン34及び波型形成
用パターン35,35,…をマスクとし、サンドブラス
トマシン(不二製作所製)を用いて研磨材(WA#80
0)をガラス基板51の表面に吹きつけ、ガラス基板5
1を直接切削する。この切削工程では、図8(b)に示
すように、まず、隔壁用パターン34及び波型形成用パ
ターン35により被覆されていないガラス基板51の表
面部分が切削される。
After that, using the partition wall pattern 34 and the corrugation forming patterns 35, 35,... As a mask, an abrasive (WA # 80) using a sand blast machine (manufactured by Fuji Seisakusho).
0) is sprayed on the surface of the glass substrate 51,
Cut 1 directly. In this cutting step, as shown in FIG. 8B, first, the surface portion of the glass substrate 51 not covered with the partition wall pattern 34 and the corrugated pattern 35 is cut.

【0056】波型形成用パターン35は、隔壁用パター
ン34に比べて幅が狭いので、切削が進行する間に幅の
狭い波型形成用パターン35が飛ばされてしまい、図8
(c)に示すように、波型形成用パターン35が形成さ
れていたガラス基板51の表面も切削されることとな
る。この切削が進行することにより、ガラス基板51
に、側面61aが平坦面、底面61bが波型とされた溝
61が形成される。この底面61bは、波型形成用パタ
ーン35に対応する部分が頂部、それ以外の部分が頂部
から下り勾配となる傾斜面とされた波型である。これに
より、ガラス基板51に、隔壁52,52,…及びこれ
らの隔壁52,52間に形成された底面が波型で側面が
平坦な溝53を一括形成することができる。
Since the corrugation forming pattern 35 is narrower than the partition wall pattern 34, the corrugation forming pattern 35 having a smaller width is skipped during the cutting as shown in FIG.
As shown in (c), the surface of the glass substrate 51 on which the corrugated pattern 35 has been formed is also cut. As this cutting proceeds, the glass substrate 51
A groove 61 having a flat side surface 61a and a corrugated bottom surface 61b is formed. The bottom surface 61b has a corrugated shape in which a portion corresponding to the corrugation forming pattern 35 is a top portion, and other portions are inclined surfaces having a downward slope from the top portion. This makes it possible to collectively form, on the glass substrate 51, the partitions 53, 52,... And the grooves 53 formed between the partitions 52, 52 with a corrugated bottom surface and flat side surfaces.

【0057】このサンドブラスト法においては、研磨材
として炭酸カルシウム、あるいは、ガラスビーズ等を使
用した場合、ソーダライムガラス等の材質からなるガラ
ス基板51に対して切削力が弱く、切削が充分に行われ
ない恐れがあるので、充分な切削力を有する炭化ケイ素
粉末を使用することが好ましい。この場合、切削力の強
い炭化ケイ素粉末に対応するために、前記フォトレジス
トとしては、アルカリに溶けにくく、かつ、ガラス転移
点が高く、固化した後も柔らかい材質のものを採用する
のが好ましく、さらには、ガラス基板51に対する接着
力およびサンドブラストに対する耐切削性の高さを基
に、ドライフィルムレジストを選択するのが好ましい。
In this sand blasting method, when calcium carbonate, glass beads, or the like is used as the abrasive, the cutting force is weak on the glass substrate 51 made of a material such as soda lime glass, and sufficient cutting is performed. Therefore, it is preferable to use a silicon carbide powder having a sufficient cutting force. In this case, in order to cope with silicon carbide powder having a high cutting force, it is preferable that the photoresist is made of a material that is hardly soluble in alkali, has a high glass transition point, and is soft after solidification, Further, it is preferable to select a dry film resist based on the adhesive strength to the glass substrate 51 and the high cutting resistance against sandblasting.

【0058】その後、図8(d)に示すように、隔壁用
パターン34を除去し、溝61が形成されたガラス基板
51の表面を覆うように図示しない電極シートでラミネ
ートした後、この電極シートの、パターニングされるア
ドレス電極に対応した位置及び形状のスリットが複数形
成されたフォトマスク(図示せず)を用いてマスキング
した後、前記電極シート上の、前記各スリットに対応す
る部分の露光(UV)・現像を行い、前記電極シートの
余分な部分を除去する。その後、残った電極シートを焼
成し、溝61の底面61bにアドレス電極54を形成す
る。
After that, as shown in FIG. 8D, the partitioning pattern 34 is removed, and a lamination is performed with an electrode sheet (not shown) so as to cover the surface of the glass substrate 51 in which the groove 61 is formed. After masking using a photomask (not shown) in which a plurality of slits having a position and a shape corresponding to an address electrode to be patterned are formed, exposure of a portion corresponding to each slit on the electrode sheet ( UV) ・ Development is performed to remove excess portions of the electrode sheet. Thereafter, the remaining electrode sheet is fired to form the address electrodes 54 on the bottom surfaces 61b of the grooves 61.

【0059】このアドレス電極54が形成された溝61
の底部61bを覆うように誘電体シート(図示せず)で
ラミネートした後、焼成し、アドレス電極54を覆うよ
うに誘電体層55を形成する。この誘電体層55と隔壁
52,52とにより囲まれた領域が、図7に示すガス放
電を行う空間である溝状の放電セル56となる。
The groove 61 in which the address electrode 54 is formed
After laminating with a dielectric sheet (not shown) so as to cover the bottom portion 61b of the substrate, baking is performed to form a dielectric layer 55 so as to cover the address electrodes 54. A region surrounded by the dielectric layer 55 and the partition walls 52, 52 becomes a groove-shaped discharge cell 56 which is a space for performing gas discharge shown in FIG.

【0060】次いで、スクリーン印刷法等を用いて放電
セル56,56,…の内側に3原色R、G、B(赤、
緑、青)に対応するペースト状の蛍光体材料を塗布し、
その後乾燥・焼成することにより、この蛍光体材料に含
まれる溶剤や有機バインダー等が飛び去り、固化した蛍
光体57となる。この蛍光体57は、隔壁52の側面上
に形成された部分が平坦な蛍光体側部57aに、放電セ
ル56の底部を構成する誘電体層55上に形成された部
分が表面波型状の蛍光体底部57bになる。
Next, the three primary colors R, G, B (red,
Green, blue)
Thereafter, by drying and baking, the solvent, the organic binder, and the like contained in the phosphor material are removed, and the phosphor 57 is solidified. The phosphor 57 has a flat portion 57a formed on the side surface of the partition wall 52, and a surface wave type fluorescent portion formed on the dielectric layer 55 constituting the bottom of the discharge cell 56. It becomes the body bottom 57b.

【0061】その後、これらのガラス基板51,1を対
向配置してガラス基板51,1同士を貼り合わせ、各放
電セル56,56,…の内部にNe−Xe、He−Xe
等の混合ガスを封入し、周囲をシールガラス等により封
着する。以上により、所定の特性を有するプラズマディ
スプレイを得ることができる。
Thereafter, the glass substrates 51, 1 are arranged facing each other, and the glass substrates 51, 1 are bonded to each other, and Ne-Xe, He-Xe
And the surroundings are sealed with a seal glass or the like. As described above, a plasma display having predetermined characteristics can be obtained.

【0062】以上説明したように、本実施の形態のプラ
ズマディスプレイによれば、ガラス基板51に隔壁5
2,52及び底面が波型状の溝53を形成し、溝53の
底面にアドレス電極54及びこれを覆う誘電体層55を
形成し、放電セル56を構成する隔壁52,52の側
面、及び誘電体層55上に蛍光体57を形成したので、
ガラス基板51に形成された溝53の底面を波型状とす
ることで、誘電体層55上に形成された蛍光体57の表
面が前記溝53の底面と同一形状の波型状となり、蛍光
体57の底面部分の表面積を増加させることができ、こ
の増加した部分を含む表面積全体を有効な蛍光面積とす
ることができる。したがって、蛍光体の輝度を高めるこ
とができ、同じ紫外線量でもより明るい画面を得ること
ができる。
As described above, according to the plasma display of the present embodiment, the partition wall 5 is formed on the glass substrate 51.
2, 52 and a bottom surface form a corrugated groove 53, an address electrode 54 and a dielectric layer 55 covering the address electrode 54 are formed on the bottom surface of the groove 53, and the side surfaces of the partition walls 52, 52 constituting the discharge cell 56; Since the phosphor 57 is formed on the dielectric layer 55,
By making the bottom surface of the groove 53 formed in the glass substrate 51 into a wavy shape, the surface of the phosphor 57 formed on the dielectric layer 55 becomes a wavy shape having the same shape as the bottom surface of the groove 53. The surface area of the bottom portion of the body 57 can be increased, and the entire surface area including the increased portion can be an effective fluorescent area. Therefore, the brightness of the phosphor can be increased, and a brighter screen can be obtained even with the same amount of ultraviolet light.

【0063】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、ガラス基板51上に隔壁用パターン3
4及び波型形成用パターン35をパターニングし、次い
でサンドブラスト法により前記パターンをマスクとして
ガラス基板51に底面が波型で側面が平坦な溝53を形
成し、この溝53の底面に誘電体層55を形成し、この
誘電体層55上及び隔壁52の側面に蛍光体57を形成
するので、簡単なプロセスで、蛍光体57の有効な表面
積を大幅に増加させることができる。したがって、蛍光
体の輝度が高いプラズマディスプレイを容易に、しかも
低コストで作製することができる。また、ガラス基板5
1に、溝53及び隔壁52,52,…を一括して形成す
ることができるので、放電セル56の底部に波型状等の
凹部を形成するための工程を別途用意する必要がない。
According to the manufacturing method of the plasma display of the present embodiment, the partition pattern 3 is formed on the glass substrate 51.
4 and a pattern 35 for forming a corrugation, and then a groove 53 having a corrugated bottom surface and a flat side surface is formed in the glass substrate 51 by sandblasting using the pattern as a mask. Is formed, and the phosphor 57 is formed on the dielectric layer 55 and the side surface of the partition wall 52. Therefore, the effective surface area of the phosphor 57 can be greatly increased by a simple process. Therefore, a plasma display having a high luminance of the phosphor can be easily manufactured at low cost. In addition, the glass substrate 5
Since the grooves 53 and the partitions 52, 52,... Can be formed collectively, there is no need to separately prepare a step for forming a corrugated concave portion at the bottom of the discharge cell 56.

【0064】[第4の実施の形態]本発明の第4の実施
の形態のプラズマディスプレイ及びその製造方法につい
て図面に基づき説明する。図9はプラズマディスプレイ
の背面側のガラス基板(透明基板)を示す一部破断斜視
図であり、本実施の形態のプラズマディスプレイは、上
述した第1の実施の形態のプラズマディスプレイと第2
の実施の形態のプラズマディスプレイを組み合わせた構
成である。
[Fourth Embodiment] A plasma display and a method of manufacturing the same according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a partially cutaway perspective view showing a glass substrate (transparent substrate) on the back side of the plasma display. The plasma display according to the present embodiment is different from the plasma display according to the first embodiment described above with respect to the second embodiment.
The configuration is a combination of the plasma displays of the embodiments.

【0065】すなわち、誘電体層22の上面に、波型状
の隔壁材残部25,25,…及び側面が延在方向に沿っ
て波型状となる隔壁41が一括形成され、隔壁41,4
1と隔壁材残部25,25,…及び誘電体層22により
画成される領域が放電セルとされ、この放電セル内に蛍
光体71が形成されている。この蛍光体71の表面は、
側面部分及び底面部分共に波型である。
That is, on the upper surface of the dielectric layer 22, the corrugated partition wall material remaining portions 25, 25,... And the partition walls 41 whose side faces are corrugated along the extending direction are collectively formed.
1 and the partition material remaining portions 25, 25,... And the dielectric layer 22 are used as discharge cells, and the phosphors 71 are formed in the discharge cells. The surface of the phosphor 71 is
Both the side and bottom portions are corrugated.

【0066】波型状の隔壁材残部25,25,…及び隔
壁41を一括形成するには、誘電体層22の上面に形成
された隔壁層上に、平面視波型状の隔壁を形成するため
の波型状の隔壁用パターン、及び隣接する隔壁用パター
ンの間に独立して形成されるストライプ状の波型形成用
パターンを形成し、サンドブラスト法により、これらの
パターンを用いて前記隔壁層を切削すればよい。
In order to form the wavy partition wall material remaining portions 25, 25,... And the partition walls 41 at once, a planer wave type partition wall is formed on the partition layer formed on the upper surface of the dielectric layer 22. A corrugated partitioning pattern for forming, and a striped corrugated forming pattern independently formed between adjacent partitioning patterns are formed, and the partition layer is formed using these patterns by sandblasting. May be cut.

【0067】本実施の形態のプラズマディスプレイによ
れば、誘電体層22の上面に、波型状の隔壁材残部2
5,25,…及び側面が延在方向に沿って波型となる隔
壁41を形成し、この隔壁41の側面上及び隔壁材残部
25,25,…上に蛍光体71を形成することで、蛍光
体71の表面を、側面部分及び底面部分共に波型とした
ので、蛍光体の側面部分及び底面部分双方の表面積をそ
の占有面積以上に増加させることができ、蛍光体の有効
な蛍光面積をさらに増加させることができる。したがっ
て、蛍光体の輝度をさらに高めることができ、同じ紫外
線量でもさらに明るい画面を得ることができる。
According to the plasma display of this embodiment, the wavy partition wall material remaining 2
, 25,... And the side walls are corrugated along the extending direction, and the phosphors 71 are formed on the side surfaces of the partition walls 41 and the remaining partition walls 25, 25,. Since the surface of the phosphor 71 is corrugated on both the side surface and the bottom surface, the surface area of both the side surface and the bottom surface of the phosphor can be increased beyond its occupied area, and the effective fluorescent area of the phosphor can be increased. Can be further increased. Therefore, the luminance of the phosphor can be further increased, and a brighter screen can be obtained even with the same amount of ultraviolet light.

【0068】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、サンドブラスト法を用いることによ
り、蛍光体の輝度が高いプラズマディスプレイを容易
に、しかも低コストで作製することができる。
According to the method of manufacturing a plasma display of the present embodiment, a plasma display having a high luminance of a phosphor can be easily manufactured at low cost by using the sandblast method.

【0069】[第5の実施の形態]本発明の第5の実施
の形態のプラズマディスプレイ及びその製造方法につい
て図面に基づき説明する。図10はプラズマディスプレ
イの背面側のガラス基板(透明基板)を示す一部破断斜
視図であり、本実施の形態のプラズマディスプレイは、
上述した第2の実施の形態のプラズマディスプレイと第
3の実施の形態のプラズマディスプレイを組み合わせた
構成である。
[Fifth Embodiment] A plasma display and a method of manufacturing the same according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a partially cutaway perspective view showing a glass substrate (transparent substrate) on the back side of the plasma display.
This is a configuration in which the plasma display according to the second embodiment and the plasma display according to the third embodiment are combined.

【0070】すなわち、ガラス基板51の放電セルを形
成する領域に、平面視波型状の隔壁81及び底面が波型
状の溝82が一括形成され、溝82の底面にアドレス電
極54及び誘電体層55が形成され、隔壁81,81と
誘電体層55により画成される領域が放電セルとされ、
この放電セル内に蛍光体83が形成されている。この蛍
光体83の表面は、側面部分及び底面部分共に波型であ
る。
That is, in a region of the glass substrate 51 where discharge cells are to be formed, a partition wall 81 having a wave-like shape in plan view and a groove 82 having a wave-like bottom surface are collectively formed, and an address electrode 54 and a dielectric material are formed on the bottom surface of the groove 82. A layer 55 is formed, and a region defined by the partition walls 81 and 81 and the dielectric layer 55 is used as a discharge cell.
A phosphor 83 is formed in the discharge cell. The surface of the phosphor 83 has a wavy shape on both the side surface portion and the bottom surface portion.

【0071】平面視波型状の隔壁81及び底面が波型状
の溝82を一括形成するには、ガラス基板51上に、波
型状の隔壁を形成するための平面視波型状の隔壁用パタ
ーン、及び隣接する隔壁用パターンの間に独立して形成
されるストライプ状の波型形成用パターンを形成し、サ
ンドブラスト法により、これらのパターンを用いてガラ
ス基板51を切削すればよい。
In order to collectively form the ribs 81 having a wave-like shape in plan view and the grooves 82 having a wave-like bottom surface, a wave-like partition for forming wave-like ribs is formed on the glass substrate 51. And a stripe-shaped corrugated pattern formed independently between adjacent patterns and adjacent partition patterns, and the glass substrate 51 may be cut using these patterns by sandblasting.

【0072】本実施の形態のプラズマディスプレイによ
れば、ガラス基板51に、平面視波型状の隔壁81及び
底面が波型状の溝82を一括形成し、溝82の底面に形
成された誘電体層55と隔壁81,81により画成され
る領域を放電セルとし、この放電セル内に蛍光体83を
形成したので、蛍光体の側面部分及び底面部分双方の表
面積をその占有面積以上に増加させることができ、蛍光
体の有効な蛍光面積をさらに増加させることができる。
したがって、蛍光体の輝度をさらに高めることができ、
同じ紫外線量でもさらに明るい画面を得ることができ
る。
According to the plasma display of this embodiment, on the glass substrate 51, the partition wall 81 having a wave shape in plan view and the groove 82 having a wave shape on the bottom surface are collectively formed, and the dielectric formed on the bottom surface of the groove 82 is formed. Since the area defined by the body layer 55 and the partition walls 81, 81 is used as a discharge cell, and the phosphor 83 is formed in the discharge cell, the surface area of both the side surface portion and the bottom surface portion of the phosphor is increased beyond the occupied area. And the effective fluorescent area of the phosphor can be further increased.
Therefore, the brightness of the phosphor can be further increased,
A brighter screen can be obtained with the same amount of ultraviolet light.

【0073】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、サンドブラスト法を用いることによ
り、蛍光体の輝度が高いプラズマディスプレイを容易
に、しかも低コストで作製することができる。
According to the method for manufacturing a plasma display of the present embodiment, a plasma display having a high luminance of the phosphor can be easily manufactured at low cost by using the sandblast method.

【0074】以上、本発明のプラズマディスプレイ及び
その製造方法の各実施の形態について図面に基づき説明
してきたが、具体的な構成は上述した各実施の形態に限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で設計の変更等が可能である。例えば、上記の実施の形
態では、サンドブラスト法を用いて波型を形成したが、
サンドブラスト法以外の方法、例えばエッチングを用い
て形成してもよいのは勿論である。
The embodiments of the plasma display and the method of manufacturing the same according to the present invention have been described above with reference to the drawings. However, the specific structure is not limited to the above-described embodiments. The design can be changed without departing from the gist. For example, in the above embodiment, the corrugation was formed by using the sand blast method,
Of course, it may be formed by a method other than the sandblast method, for example, by etching.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上説明した様に、本発明の請求項1、
4または5記載のプラズマディスプレイによれば、放電
セル各々の内面に形成された蛍光体の底面部および/ま
たは側面部の表面に凹凸を形成したので、簡単な構造で
蛍光体の放電セルにおける占有面積を増加させることな
く、有効な表面積を増加させることができる。したがっ
て、蛍光体の輝度を高めることができ、同じ紫外線量で
もより明るい画面を得ることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention,
According to the plasma display described in 4 or 5, the unevenness is formed on the bottom surface and / or side surface of the phosphor formed on the inner surface of each discharge cell, so that the phosphor is occupied by the discharge cell with a simple structure. The effective surface area can be increased without increasing the area. Therefore, the brightness of the phosphor can be increased, and a brighter screen can be obtained even with the same amount of ultraviolet light.

【0076】請求項2記載のプラズマディスプレイによ
れば、前記蛍光体の底面部および/または側面部の表面
に波型の凹凸を形成したので、蛍光体の有効な表面積を
さらに増加させることができる。したがって、蛍光体の
輝度をさらに高めることができ、同じ紫外線量でもより
明るい画面を得ることができる。
According to the second aspect of the present invention, the corrugated irregularities are formed on the bottom and / or side surfaces of the phosphor, so that the effective surface area of the phosphor can be further increased. . Therefore, the brightness of the phosphor can be further increased, and a brighter screen can be obtained even with the same amount of ultraviolet light.

【0077】請求項3記載のプラズマディスプレイによ
れば、前記透明基板の表面の前記放電セルそれぞれに対
応する領域に凹凸を形成したので、この領域上に形成さ
れた蛍光体の底面部の表面積を増加させることができ、
有効な蛍光面積を増加させることができる。したがっ
て、蛍光体の輝度を高めることができ、同じ紫外線量で
もより明るい画面を得ることができる。
According to the third aspect of the present invention, since the unevenness is formed on the surface of the transparent substrate corresponding to each of the discharge cells, the surface area of the bottom surface of the phosphor formed on this area is reduced. Can be increased,
The effective fluorescent area can be increased. Therefore, the brightness of the phosphor can be increased, and a brighter screen can be obtained even with the same amount of ultraviolet light.

【0078】請求項6記載のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、一方の前記透明基板の表面の複数の前
記放電セルそれぞれに対応する領域を切削または触刻し
て底面が凹凸の凹部を形成し、これら凹部の内面に前記
蛍光体を形成するので、簡単なプロセスで、蛍光体の放
電セルにおける占有面積を増加させることなく、その有
効な表面積を大幅に増加させることができる。したがっ
て、蛍光体の輝度が高いプラズマディスプレイを容易
に、しかも低コストで作製することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, a region corresponding to each of the plurality of discharge cells on the surface of one of the transparent substrates is cut or stamped to form a concave portion having an uneven bottom surface. Since the phosphor is formed on the inner surfaces of these recesses, the effective surface area can be greatly increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor in the discharge cells. Therefore, a plasma display having a high luminance of the phosphor can be easily manufactured at low cost.

【0079】請求項7記載のプラズマディスプレイの製
造方法によれば、前記透明基板の表面に前記隔壁を形成
するための隔壁層を形成し、該隔壁層の前記放電セルそ
れぞれに対応する領域を切削または触刻して底面が凹凸
の凹部を形成するので、簡単なプロセスで、蛍光体の放
電セルにおける占有面積を増加させることなく、その有
効な表面積を大幅に増加させることができる。したがっ
て、蛍光体の輝度が高いプラズマディスプレイを容易
に、しかも低コストで作製することができる。
According to a seventh aspect of the present invention, a partition layer for forming the partition is formed on the surface of the transparent substrate, and regions of the partition layer corresponding to the discharge cells are cut. Alternatively, the bottom surface is formed by touching, so that the effective surface area can be greatly increased by a simple process without increasing the area occupied by the phosphor in the discharge cell. Therefore, a plasma display having a high luminance of the phosphor can be easily manufactured at low cost.

【0080】請求項8、9または10記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法によれば、一方の前記透明基板上
または前記隔壁層上に、前記隔壁を形成するための隔壁
用パターン、及び該隔壁用パターンから独立しかつ該隔
壁用パターンの幅より狭い幅の波型形成用パターンを形
成し、次いで、これらのパターンを用いて前記透明基板
または前記隔壁層を切削または触刻し、該透明基板また
は前記隔壁層に複数の隔壁及び底面が凹凸の凹部を形成
するので、前記隔壁及び前記凹部を一括形成することが
できる。したがって、製造工程が増加したり、製造コス
トが高くなる等のおそれがない。
According to the method for manufacturing a plasma display according to claim 8, 9 or 10, a partition pattern for forming the partition on one of the transparent substrate or the partition layer, and the pattern for the partition Independent from and forming a corrugated pattern having a width smaller than the width of the partition wall pattern, and then cutting or touching the transparent substrate or the partition wall layer using these patterns, Since the plurality of partitions and the concave portions whose bottom surfaces are uneven are formed in the partition layer, the partition walls and the concave portions can be formed collectively. Therefore, there is no fear that the number of manufacturing steps increases or the manufacturing cost increases.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態のプラズマディス
プレイの背面側のガラス基板の要部を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of a glass substrate on the back side of a plasma display according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1のA−A線に沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】 本発明の第1の実施の形態のプラズマディス
プレイの製造方法を示す過程図である。
FIG. 3 is a process chart showing a method of manufacturing the plasma display according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第1の実施の形態のプラズマディス
プレイの製造方法において用いられるパターンを示す平
面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a pattern used in the method for manufacturing a plasma display according to the first embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第2の実施の形態のプラズマディス
プレイの背面側のガラス基板の要部を示す平面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view showing a main part of a glass substrate on the back side of a plasma display according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第3の実施の形態のプラズマディス
プレイの背面側のガラス基板の要部を示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a main part of a glass substrate on the back side of a plasma display according to a third embodiment of the present invention.

【図7】 図6のB−B線に沿う断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 6;

【図8】 本発明の第3の実施の形態のプラズマディス
プレイの製造方法を示す過程図である。
FIG. 8 is a process chart showing a method of manufacturing a plasma display according to a third embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の第4の実施の形態のプラズマディス
プレイの背面側のガラス基板の要部を示す一部破断斜視
図である。
FIG. 9 is a partially broken perspective view showing a main part of a glass substrate on the back side of a plasma display according to a fourth embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の第5の実施の形態のプラズマディ
スプレイの背面側のガラス基板の要部を示す一部破断斜
視図である。
FIG. 10 is a partially broken perspective view showing a main part of a glass substrate on the back side of a plasma display according to a fifth embodiment of the present invention.

【図11】 従来のプラズマディスプレイを示す分解斜
視図である。
FIG. 11 is an exploded perspective view showing a conventional plasma display.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガラス基板(透明基板) 3 透明電極 4 誘電体層 5 透明な保護膜 6 アドレス電極 7 誘電体層 8 隔壁 9 放電セル 10 蛍光体 21 ガラス基板(透明基板) 22 誘電体層 23 隔壁 25 隔壁材残部 26 放電セル 27 蛍光体 27a 蛍光体側部 27b 蛍光体底部 31 導電ペースト 32 誘電体材料 33 隔壁層 33a 隔壁材料 34 隔壁用パターン 35 波型形成用パターン(凹凸形成用パターン) 41 隔壁 42 放電セル 51 ガラス基板(透明基板) 52 隔壁 53 溝 54 アドレス電極 55 誘電体層 56 放電セル 57 蛍光体 57a 蛍光体側部 57b 蛍光体底部 61 溝 61a 側面 61b 底面 71 蛍光体 81 隔壁 82 溝 83 蛍光体 1, glass substrate (transparent substrate) 3 transparent electrode 4 dielectric layer 5 transparent protective film 6 address electrode 7 dielectric layer 8 partition 9 discharge cell 10 phosphor 21 glass substrate (transparent substrate) 22 dielectric layer 23 partition 25 Partition material remaining 26 Discharge cell 27 Phosphor 27a Phosphor side 27b Phosphor bottom 31 Conductive paste 32 Dielectric material 33 Partition layer 33a Partition material 34 Partition pattern 35 Waveform forming pattern (irregularity forming pattern) 41 Partition 42 discharge Cell 51 Glass substrate (transparent substrate) 52 Partition wall 53 Groove 54 Address electrode 55 Dielectric layer 56 Discharge cell 57 Phosphor 57a Phosphor side part 57b Phosphor bottom part 61 Groove 61a Side surface 61b Bottom 71 Phosphor 81 Partition wall 82 Groove 83 Phosphor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 呉 済煥 神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2−7 株式 会社サムスン横浜研究所電子研究所内 (72)発明者 張 世芳 神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2−7 株式 会社サムスン横浜研究所電子研究所内 (72)発明者 山田 幸香 神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2−7 株式 会社サムスン横浜研究所電子研究所内 Fターム(参考) 2H025 AA03 AA04 AB11 AB20 AC01 AD01 FA33 5C027 AA09 5C028 FF16 5C040 FA01 GF02 GF12 GF19 GG09 JA09 JA12 MA03 MA22  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kure Jihwan 2-7 Sugazawa-cho, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Electronics Research Laboratory, Samsung Yokohama R & D Co., Ltd. 2-7 Inside the Samsung Yokohama Research Laboratory Electronic Research Laboratory (72) Inventor Yuka Yamada 2-7 Sugazawa-machi, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Samsung Yokohama Research Laboratory Electronic Research Laboratory F-term (reference) 2H025 AA03 AA04 AB11 AB20 AC01 AD01 FA33 5C027 AA09 5C028 FF16 5C040 FA01 GF02 GF12 GF19 GG09 JA09 JA12 MA03 MA22

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の透明基板が対向配置され、これら
透明基板間に複数の隔壁が形成され、これら隔壁により
画成されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これらの
放電セル各々の内面に蛍光体が形成されてなるプラズマ
ディスプレイにおいて、 前記蛍光体の底面部および/または側面部の表面に凹凸
が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレ
イ。
1. A pair of transparent substrates are opposed to each other, a plurality of partitions are formed between the transparent substrates, and each concave portion defined by the partitions is a discharge cell, and an inner surface of each of the discharge cells is formed. What is claimed is: 1. A plasma display comprising a phosphor, wherein irregularities are formed on a surface of a bottom surface and / or a side surface of the phosphor.
【請求項2】 前記凹凸は波型であることを特徴とする
請求項1記載のプラズマディスプレイ。
2. The plasma display according to claim 1, wherein the irregularities are corrugated.
【請求項3】 一方の前記透明基板の表面の前記放電セ
ルそれぞれに対応する領域に凹凸が形成され、これら凹
凸上に前記蛍光体が形成されていることを特徴とする請
求項1または2記載のプラズマディスプレイ。
3. The surface of one of the transparent substrates, wherein irregularities are formed in regions corresponding to the discharge cells, and the phosphor is formed on the irregularities. Plasma display.
【請求項4】 前記隔壁は、前記透明基板の表面に平行
な断面が波型であることを特徴とする請求項1、2また
は3記載のプラズマディスプレイ。
4. The plasma display according to claim 1, wherein said partition has a corrugated cross section parallel to a surface of said transparent substrate.
【請求項5】 前記隔壁の側面に凹凸が形成されている
ことを特徴とする請求項1、2または3記載のプラズマ
ディスプレイ。
5. The plasma display according to claim 1, wherein irregularities are formed on side surfaces of the partition.
【請求項6】 一対の透明基板が対向配置され、これら
透明基板間に複数の隔壁が形成され、これら隔壁により
画成されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これらの
放電セル各々の内面に蛍光体が形成されてなるプラズマ
ディスプレイの製造方法において、 一方の前記透明基板の表面の複数の前記放電セルそれぞ
れに対応する領域を切削または触刻して底面が凹凸の凹
部を形成し、これら凹部の内面に前記蛍光体を形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
6. A pair of transparent substrates are disposed to face each other, a plurality of partitions are formed between the transparent substrates, and each concave portion defined by these partitions serves as a discharge cell, and an inner surface of each of the discharge cells is formed. In a method of manufacturing a plasma display having a phosphor formed thereon, a region corresponding to each of the plurality of discharge cells on a surface of one of the transparent substrates is cut or stamped to form a concave portion having a concave and convex bottom surface. Forming the phosphor on the inner surface of the plasma display.
【請求項7】 前記透明基板の表面に前記隔壁を形成す
るための隔壁層を形成し、該隔壁層の前記放電セルそれ
ぞれに対応する領域を切削または触刻して底面が凹凸の
凹部を形成することを特徴とする請求項6記載のプラズ
マディスプレイの製造方法。
7. A partition layer for forming the partition wall is formed on the surface of the transparent substrate, and a region of the partition layer corresponding to each of the discharge cells is cut or stamped to form a concave portion having an uneven bottom surface. 7. The method for manufacturing a plasma display according to claim 6, wherein:
【請求項8】 前記透明基板上または前記隔壁層上に、
前記隔壁を形成するための隔壁用パターン、及び該隔壁
用パターンから独立しかつ該隔壁用パターンの幅より狭
い幅の凹凸形成用パターンを形成し、次いで、これらの
パターンを用いて前記透明基板または前記隔壁層を切削
または触刻し、該透明基板または前記隔壁層に複数の隔
壁及び底面が凹凸の凹部を形成することを特徴とする請
求項6または7記載のプラズマディスプレイの製造方
法。
8. On the transparent substrate or the partition layer,
The partition wall pattern for forming the partition wall, and a concavo-convex formation pattern having a width independent of the partition wall pattern and smaller than the width of the partition wall pattern, and then using these patterns, the transparent substrate or 8. The method according to claim 6, wherein the partition layer is cut or stamped to form a plurality of partitions and concave portions having irregularities on the bottom surface of the transparent substrate or the partition layer.
【請求項9】 前記凹凸形成用パターンは、前記隔壁用
パターンの延在方向に沿って複数形成されていることを
特徴とする請求項8記載のプラズマディスプレイの製造
方法。
9. The method according to claim 8, wherein a plurality of the concavo-convex forming patterns are formed along an extending direction of the partition wall pattern.
【請求項10】 前記隔壁用パターンは波型であること
を特徴とする請求項8または9記載のプラズマディスプ
レイの製造方法。
10. The method of manufacturing a plasma display according to claim 8, wherein the partition pattern is corrugated.
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CN100370500C (en) * 2006-01-13 2008-02-20 四川世纪双虹显示器件有限公司 Method for enlarging fluorescence powder luminescence area of plasma display panel

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