JP2002008254A - Information recorder - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は高密度光ディスクの
原盤作成に用いる情報記録装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording apparatus used for producing a master of a high-density optical disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】光ディスクの原盤作成工程は一般にマス
タリング工程といわれ、光ディスクの高密度化に際して
大きく寄与するのは、言うまでもなくホトレジストを塗
布したガラス板にレーザ光を照射することによって感光
させ、ピット群もしくは溝を形成するためのカッティン
グである。2. Description of the Related Art A mastering process of an optical disk is generally called a mastering process, and it is a matter of course that a large contribution to the density increase of an optical disk is made by irradiating a glass plate coated with a photoresist with a laser beam to expose the glass plate to a pit group. Alternatively, it is cutting for forming a groove.
【0003】光ディスクの高密度化を図るため、即ち、
前記カッティングにおいて微細なピット群及び溝を形成
するためには、上記ホトレジストを塗布したガラス板に
照射するレーザ光のスポットサイズをできるだけ微小な
サイズに絞り込む必要があって、そのためのアプローチ
として記録レーザビームの波長を短くすることが考えら
れる。In order to increase the density of an optical disk,
In order to form fine pit groups and grooves in the cutting, it is necessary to narrow down the spot size of the laser beam applied to the photoresist-coated glass plate to as small a size as possible. May be shortened.
【0004】例えば、容量650MBのCD(コンパク
トディスク)ではそのカッティング時において波長44
0nmのHe−Cd(ヘリカド)レーザが用いられ、容
量4.7GBのDVDではそのカッティング時において
波長351nmのUVレーザが用いられており、これら
の各種ディスクの高密度化の変遷は、カッティングにお
けるレーザ波長の依存度の高さを示すものである。For example, in the case of a CD (compact disk) having a capacity of 650 MB, a wavelength of 44
A 0 nm He-Cd (Helicad) laser is used, and a 4.7 GB DVD uses a 351 nm wavelength UV laser at the time of DVD cutting. It shows the degree of dependence on wavelength.
【0005】ところで、光ディスクのカッティングにお
いてはその装置(以下、レーザビームレコーダLBRと
記述する)のシステム制御にかかる問題から、主記録レ
ーザビームとは別に、主記録レーザビームを絞り込む対
物レンズのフォーカス制御のための誤差検出のために副
レーザビームを用いている。この副レーザビームの光源
の有する波長は、上記ホトレジストを感光させないため
に、主記録レーザビームの有する波長と大きく異なる波
長が選ばれている。例えば、波長632nmのHe−N
e(ヘリウムネオン)レーザ、もしくは波長780nm
の半導体レーザを用いることが多い。[0005] By the way, in the cutting of the optical disk, the focus control of the objective lens for narrowing down the main recording laser beam separately from the main recording laser beam due to the problem of system control of the apparatus (hereinafter referred to as a laser beam recorder LBR). The sub-laser beam is used for error detection. The wavelength of the light source of the sub laser beam is selected to be significantly different from the wavelength of the main recording laser beam so as not to expose the photoresist. For example, He-N with a wavelength of 632 nm
e (helium neon) laser, or 780 nm wavelength
Semiconductor laser is often used.
【0006】従って、LBRのフォーカス制御は、その
制御対象が主記録レーザビームを前記ホトレジストを塗
布したガラス板に集光するための対物レンズであるにも
かかわらず、その誤差検出は異なる波長を有する別のレ
ーザビームによるという、極めて変則的なものとなって
いる。Therefore, in the LBR focus control, the error detection has a different wavelength even though the object to be controlled is an objective lens for focusing the main recording laser beam on the glass plate coated with the photoresist. It is extremely anomalous because of another laser beam.
【0007】従って、主記録レーザビームと副レーザビ
ームの焦点深度の波長依存性によって、副レーザビーム
を用いたフォーカス制御系における対物レンズの最適制
御位置は、主記録レーザビームにとって必ずしも最適制
御位置とは限らないという問題を生むことになる。Therefore, due to the wavelength dependence of the focal depth of the main recording laser beam and the sub-laser beam, the optimum control position of the objective lens in the focus control system using the sub-laser beam is not necessarily the optimum control position for the main recording laser beam. Will not always be a problem.
【0008】この問題を回避するための一般的方法は、
副レーザビームを用いることにより成立したフォーカス
制御系に所定のオフセット量を加えることによって、副
レーザビームにとっての最適制御位置を強制的に逸脱さ
せ、即ち、デフォーカスさせることによって主記録ビー
ムにとっての対物レンズの最適制御位置にシフトさせる
というものである。[0008] A general approach to avoid this problem is:
By adding a predetermined offset amount to the focus control system established by using the sub-laser beam, the optimum control position for the sub-laser beam is forcibly deviated. This is to shift to the optimal control position of the lens.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】さて、最近では容量1
5GB以上の高密度光ディスクの種々の方式が提案され
ており、これらの高密度光ディスクのカッティングには
主記録レーザビームの光源として波長300nm以下の
DeepUVレーザを用いる必要性が検討されていて、
実際に前記波長帯のレーザによる記録実験が開始されて
いる。By the way, recently, the capacity 1
Various types of high-density optical disks of 5 GB or more have been proposed, and the necessity of using a DeepUV laser having a wavelength of 300 nm or less as a light source of a main recording laser beam for cutting these high-density optical disks has been studied.
Actually, recording experiments with lasers in the above-mentioned wavelength band have been started.
【0010】従って、主記録レーザビームを絞り込む対
物レンズのフォーカス制御をなすための副レーザビーム
の波長(前述したように、632nm以上)と主記録レ
ーザビームとの波長の長さの差はさらに大きい値とな
り、この事実は前述した焦点深度の違いによる副レーザ
ビームを用いたフォーカス制御系における対物レンズの
最適制御位置は、主記録レーザビームにとって必ずしも
最適制御位置とは限らないという問題をさらに拡大する
ことになる。Therefore, the difference between the wavelength of the sub-laser beam for controlling the focus of the objective lens for narrowing down the main recording laser beam (632 nm or more as described above) and the main recording laser beam is even greater. This fact further increases the problem that the optimal control position of the objective lens in the focus control system using the sub-laser beam due to the difference in the depth of focus is not always the optimal control position for the main recording laser beam. Will be.
【0011】一例を述べると、前述したDVDをカッテ
ィングする場合は、主記録レーザビームの光源として波
長351nmのレーザを用い、副レーザビームの光源と
して波長632nmのレーザを用いているため、For example, when cutting the above-mentioned DVD, a laser having a wavelength of 351 nm is used as a light source of a main recording laser beam, and a laser having a wavelength of 632 nm is used as a light source of a sub-laser beam.
【0012】[0012]
【数1】 (Equation 1)
【0013】で与えられる焦点深度は、対物レンズのN
Aを0.9とすると、前者では217nmであり、後者
では390nmとなってその差は173nmとなり、一
方、主記録レーザビームの光源として波長248nmの
DeepUVレーザを用いた時、(数1)により同様の
計算をすると、前者では154nmであり、後者では3
90nmとなってその差は236nmにも達し、主記録
レーザビームの光源として波長351nmのレーザを用
いたDVDのカッティングの場合の1.4倍程度にも増
加する。The depth of focus given by
Assuming that A is 0.9, the former is 217 nm, the latter is 390 nm, and the difference is 173 nm. On the other hand, when a Deep UV laser having a wavelength of 248 nm is used as the light source of the main recording laser beam, Similar calculations show that the former is 154 nm and the latter is 3 nm.
At 90 nm, the difference reaches 236 nm, which is about 1.4 times as large as that in DVD cutting using a laser having a wavelength of 351 nm as a light source of the main recording laser beam.
【0014】換言すれば、この事実は従来の技術で説明
した、副レーザビームによる対物レンズの最適制御位置
から主記録レーザビームにとっての対物レンズの最適制
御位置へシフトさせるために、フォーカス制御系に加え
る所定のオフセット量が1.4倍に増加させなくてはな
らないことを意味するものである。In other words, this fact is necessary for the focus control system to shift from the optimal control position of the objective lens by the auxiliary laser beam to the optimal control position of the objective lens for the main recording laser beam as described in the prior art. This means that the predetermined offset amount to be added must be increased by a factor of 1.4.
【0015】一般にオフセットの加算が、フォーカス制
御系にとって好ましくないのは周知の事実であって、過
大なオフセットの加算が制御動作の安定性に著しく影響
を及ぼすことは言うまでもないことである。It is a well-known fact that adding an offset is generally undesirable for a focus control system, and it goes without saying that adding an excessively large offset significantly affects the stability of the control operation.
【0016】従って、前述したように、高密度化に伴っ
て、主記録レーザビームの光源として波長300nm以
下のDeepUVレーザを用いることはフォーカス制御
系にとって好ましくないオフセットの加算を促進するこ
とにほかならず、即ち、安定性を著しく欠いた状態でフ
ォーカス制御系が成立することになり、所望の記録密度
に適合したピットまたは溝が形成されない可能性が生じ
ることとなる。Accordingly, as described above, the use of a deep UV laser having a wavelength of 300 nm or less as the light source of the main recording laser beam in accordance with the increase in the density increases the addition of an offset which is undesirable for the focus control system. In other words, the focus control system is established in a state where the stability is extremely poor, and there is a possibility that pits or grooves suitable for a desired recording density cannot be formed.
【0017】本発明は上記課題に鑑み、安定したフォー
カス制御のもとで高密度光ディスクの原盤カッティング
を実現するLBR、即ち、情報記録装置を提供すること
を目的とものである。In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an LBR, ie, an information recording apparatus, that realizes master disc cutting of a high-density optical disc under stable focus control.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、フォーカス制御系に加算するオフセットの
量を極力小さくする、即ち、フォーカス制御のための誤
差検出手段としての副レーザビームの波長と主記録レー
ザビームの有する波長の差を小さくするため、前記副レ
ーザビームの波長を400nmから450nmとしたこ
とを特徴とした情報記録装置である。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention minimizes the amount of offset to be added to the focus control system, that is, the use of a sub-laser beam as an error detection means for focus control. An information recording apparatus characterized in that the wavelength of the sub-laser beam is changed from 400 nm to 450 nm in order to reduce the difference between the wavelength and the wavelength of the main recording laser beam.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明の情報記録装置の実
施の形態について、図面を参照しながら説明する。Embodiments of an information recording apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0020】図1は本発明の実施の形態における情報記
録装置、即ち、LBRの構成を示したものである。図1
において、1は主記録ビームを発振する主記録レーザで
あり、その波長はDeepUV領域の248nmを有す
る。2は光変調器を用いたレーザパワー安定器であっ
て、前記主記録レーザ1の出力光(光線A)を入力光と
し、パワー設定手段3によって前記レーザパワー安定器
2の出力光(光線B)の有するパワーを所定の値に安定
化する目的で設けられている。FIG. 1 shows the configuration of an information recording apparatus, that is, an LBR according to an embodiment of the present invention. Figure 1
In the figure, reference numeral 1 denotes a main recording laser that oscillates a main recording beam, and has a wavelength of 248 nm in the Deep UV region. Reference numeral 2 denotes a laser power stabilizer using an optical modulator. The output light (light A) of the main recording laser 1 is used as input light, and the output light (light B) of the laser power stabilizer 2 is ) Is provided for the purpose of stabilizing the power of the power supply to a predetermined value.
【0021】また、4は光変調器であり、信号発生器5
の出力信号に基づいて、前記レーザパワー安定器2の出
力光(光線B)に対し光の強度変調を施すために設けら
れている。また、光変調器4の出力光(光線C)は第一
のビームスプリッタ6を介して図1の紙面右側に直進
し、ダイクロイックミラー7によってその進行方向を紙
面下側に変えられ対物レンズ8を介してホトレジストが
塗布されたガラス原盤9に照射されることとなる。この
光は、前述したように、光変調器4の作用によって信号
発生器5の出力信号に基づいた光の強度変調がなされて
いるため、前記ガラス原盤9上におけるホトレジストの
感光度合が変化することとなって、前記信号発生器5の
出力信号が情報として記録されることになる。Reference numeral 4 denotes an optical modulator, and a signal generator 5
Is provided for performing light intensity modulation on the output light (light beam B) of the laser power stabilizer 2 based on the output signal of The output light (light beam C) of the optical modulator 4 travels straight to the right side of the paper of FIG. 1 through the first beam splitter 6, and its traveling direction is changed to the lower side of the paper by the dichroic mirror 7, so that the objective lens 8 is moved. Irradiation is performed on the glass master 9 on which the photoresist is applied. As described above, since the intensity of the light is modulated based on the output signal of the signal generator 5 by the action of the optical modulator 4 as described above, the sensitivity of the photoresist on the glass master 9 changes. Thus, the output signal of the signal generator 5 is recorded as information.
【0022】なお、対物レンズ8の開口率(NA)は
0.9とし、前記ガラス原盤9は回転駆動手段(図示は
省略する)によって所定の回転数で回転しているものと
する。The aperture ratio (NA) of the objective lens 8 is assumed to be 0.9, and the glass master 9 is rotated at a predetermined rotation speed by a rotation driving means (not shown).
【0023】一方、光線Dは、前記ガラス原盤9に照射
された光線Cの反射光がダイクロイックミラー7及び第
一のビームスプリッタ6の作用によって、ビデオカメラ
22の受光部に入力されている光線であって、さらにビ
デオカメラ22の出力信号はオシロスコープ23に入力
されている。On the other hand, the light beam D is a light beam which is the reflected light of the light beam C applied to the glass master 9 and which is input to the light receiving portion of the video camera 22 by the action of the dichroic mirror 7 and the first beam splitter 6. Further, the output signal of the video camera 22 is input to the oscilloscope 23.
【0024】従って、ビデオカメラ22及びオシロスコ
ープ23は光線D、即ち、前記ガラス原盤9に照射され
た光線Cの反射光の観察光学系を構成しており、この観
察光学系は、光線Cが正しく前記ガラス原盤9に焦点を
結ぶように対物レンズ8が制御されているかどうかを監
視する目的で設けたものである。そして図2は光線Cの
反射光プロフィールの一例を示す図であって、対物レン
ズ8の制御状態により、オシロスコープ23で観測され
る波形がどのようになるかを示したものである。Therefore, the video camera 22 and the oscilloscope 23 constitute an observation optical system for the light beam D, that is, the reflected light of the light beam C applied to the glass master 9. It is provided to monitor whether or not the objective lens 8 is controlled so as to focus on the glass master 9. FIG. 2 is a view showing an example of the reflected light profile of the light beam C, and shows how the waveform observed by the oscilloscope 23 changes depending on the control state of the objective lens 8.
【0025】図2によると波形100は光線Cが正しく
前記ガラス原盤9に焦点を結んだ時、即ち、ジャストフ
ォーカス時の波形を示しており、また、光線Cが正しく
前記ガラス原盤9に焦点を結んでいない時、即ち、デフ
ォーカス時には波形101に示すような波形が観測され
る。According to FIG. 2, a waveform 100 shows a waveform when the light beam C is correctly focused on the glass master 9, that is, a waveform at the time of the just focus, and the light beam C correctly focuses on the glass master 9. When it is not connected, that is, at the time of defocus, a waveform as shown in waveform 101 is observed.
【0026】次に、図1に戻り、実施の形態におけるフ
ォーカス制御系について説明する。21はフォーカス誤
差検出のための副レーザビームの光源であるフォーカス
用レーザであって、本実施の形態ではその波長が400
nmの半導体レーザを用いた。Next, returning to FIG. 1, the focus control system in the embodiment will be described. Reference numeral 21 denotes a focusing laser which is a light source of a sub-laser beam for detecting a focusing error.
nm semiconductor laser was used.
【0027】なお、半導体レーザの使用に際しては、そ
の出力光を平行光にするためのコリーメートレンズと、
そのアスペクト比を等しくするためのビーム成形プリズ
ムで構成された光学系に前記半導体レーザの出力光をと
おすことが必要だが、本発明の目的とは直接的な関係が
ないため、図1においては省略した。When a semiconductor laser is used, a collimate lens for converting the output light into parallel light,
Although it is necessary to pass the output light of the semiconductor laser through an optical system composed of a beam shaping prism for equalizing the aspect ratio, it is omitted in FIG. 1 because it has no direct relation to the object of the present invention. did.
【0028】さて、フォーカス用レーザ21を出た副レ
ーザビームである光線Eは第二のビームスプリッタ1
2、ダイクロイックミラー7、対物レンズ8を介してホ
トレジストが塗布されたガラス原盤9に直進し、その反
射光は再び第二のビームスプリッタ12の作用によって
紙面右側に方向を変えられ、フォーカス誤差検出光学系
13(点線で囲んだ部分)に入射する。本実施の形態に
おいてはフォーカス誤差検出光学系として、検出レンズ
14、円筒レンズ15、4分割ホトディテクタ16で構
成された、よく知られた非点収差検出光学系を用いた。A light beam E, which is a sub-laser beam emitted from the focusing laser 21, is transmitted to the second beam splitter 1.
2. The light travels straight through the glass master 9 coated with the photoresist through the dichroic mirror 7 and the objective lens 8, and the reflected light is redirected to the right side of the drawing by the action of the second beam splitter 12 again. The light enters the system 13 (portion surrounded by a dotted line). In the present embodiment, a well-known astigmatism detection optical system including a detection lens 14, a cylindrical lens 15, and a four-segment photodetector 16 is used as the focus error detection optical system.
【0029】従って、4分割ホトディテクタ16の各々
のホトエレメントからの光電変換信号a,b,c,dを
フォーカス制御駆動回路17に入力し、(a+c)−
(b+d)の演算後、所定のループ利得を確保し、所定
の位相補償を施し、電力増幅して対物レンズ8を駆動す
るアクチュエータ10を励振することによってフォーカ
ス制御が成立することになる。Accordingly, the photoelectric conversion signals a, b, c, d from the respective photoelements of the four-division photodetector 16 are input to the focus control drive circuit 17, and are calculated as (a + c)-
After the calculation of (b + d), a predetermined loop gain is secured, a predetermined phase compensation is performed, power is amplified, and an actuator 10 for driving the objective lens 8 is excited to achieve focus control.
【0030】ただし、ここで述べたフォーカス制御の成
立は、従来の技術で説明したようにあくまでフォーカス
用レーザ21による副レーザビーム(即ち、光線E)の
対物レンズ8に対するフォーカス制御の成立であって、
主記録ビーム(即ち、光線C)の対物レンズ8に対する
フォーカス制御の成立とは異なるものである。従って、
従来の技術でも説明したが、主記録ビーム(即ち、光線
C)がホトレジストが塗布されたガラス原盤9に正しく
焦点を結ぶためには、オフセット加算手段18によっ
て、前述したフォーカス制御系に所定のオフセット量を
加える必要がある。However, the establishment of the focus control described here is merely the establishment of the focus control of the sub-laser beam (that is, the light beam E) by the focusing laser 21 on the objective lens 8 as described in the background art. ,
This is different from the establishment of the focus control of the main recording beam (that is, the light beam C) on the objective lens 8. Therefore,
As described in the related art, in order for the main recording beam (that is, the light beam C) to correctly focus on the glass master 9 coated with the photoresist, a predetermined offset is applied to the focus control system by the offset adding means 18. You need to add an amount.
【0031】なお、適量のオフセット量を見極める手段
は、前述したように図2に示したオシロスコープ23の
波形を観測することによるものであって、図2における
100に示したように、その波形のピークが最大となる
ようにオフセット加算手段18により加算するオフセッ
ト量を調整する。The means for determining an appropriate offset amount is based on observing the waveform of the oscilloscope 23 shown in FIG. 2 as described above, and as shown by 100 in FIG. The offset amount to be added by the offset adding means 18 is adjusted so that the peak becomes maximum.
【0032】本実施の形態では、主記録レーザビームの
光源として波長248nmの主記録レーザを用い、副レ
ーザビームの光源として波長400nmのフォーカス用
レーザを用いた。それぞれの焦点深度を再び(数1)に
よって計算すると、前者では154nmであり、後者で
は247nmとなってその差は93nmとなって、発明
が解決しようとする課題で説明したように、主記録レー
ザビームの光源として波長248nmのDeepUVレ
ーザを用い、副レーザビームの光源として波長632n
mのレーザを用いた時の焦点深度はそれぞれ、154n
mと390nmであって、その差は236nmであった
ことを思い出せば、本実施の形態ではフォーカス制御の
ための副レーザビームの光源の波長を小さくする方向に
変えることによって、その焦点深度の差が263nmか
ら93nmに抑えることができることを示している。In the present embodiment, a main recording laser having a wavelength of 248 nm is used as a light source for a main recording laser beam, and a focusing laser having a wavelength of 400 nm is used as a light source for a sub laser beam. When the respective focal depths are again calculated by (Equation 1), the former is 154 nm, the latter is 247 nm, and the difference is 93 nm. As described in the problem to be solved by the invention, the main recording laser A Deep UV laser having a wavelength of 248 nm is used as a light source of the beam, and a wavelength of 632 n is used as a light source of the sub laser beam.
The depth of focus when using a laser of m
Recall that m and 390 nm, and the difference was 236 nm. In this embodiment, by changing the wavelength of the light source of the sub-laser beam for focus control to a smaller direction, the difference in the depth of focus is obtained. Can be suppressed from 263 nm to 93 nm.
【0033】この事実は、副レーザビームにとっての最
適制御位置を強制的に逸脱させ、即ち、デフォーカスさ
せて主記録ビームにとっての対物レンズの最適位置にシ
フトさせるためのフォーカス制御系へのオフセットの加
算量が極めて小さくできるということを意味しており、
そのオフセットの加算量を93/263(=35%)に
少なくすることができることを意味するものである。従
って、フォーカス制御系へのオフセットの加算は必要で
はあるものの、その量は、フォーカス制御系の安定性を
阻害するものではない。This fact indicates that the optimum control position for the sub-laser beam is forcibly deviated, that is, the offset to the focus control system for defocusing and shifting to the optimum position of the objective lens for the main recording beam. It means that the amount of addition can be extremely small,
This means that the offset addition amount can be reduced to 93/263 (= 35%). Therefore, although the addition of the offset to the focus control system is necessary, the amount does not impair the stability of the focus control system.
【0034】その理由は、従来の技術及び発明が解決し
ようとする課題で説明したように、DVDの場合は、そ
のカッティング時において波長351nmの主記録ビー
ムを用い、フォーカス制御のための誤差検出手段として
副レーザビームは波長632nmを用いている。この時
の焦点深度の差は173nmであって、換言すれば、1
73nmに相当するオフセット量の加算が必要であった
が、本実施の形態における93nmより大きいにもかか
わらず、フォーカス制御にかかる安定性については全く
問題がないということをDVDのディスクの普及という
実績が証明しているからである。The reason is, as described in the background of the invention and the problem to be solved by the invention, in the case of a DVD, a main recording beam having a wavelength of 351 nm is used at the time of cutting, and an error detecting means for focus control is used. The auxiliary laser beam has a wavelength of 632 nm. The difference in the depth of focus at this time is 173 nm, in other words, 1
Although it was necessary to add an offset amount equivalent to 73 nm, the fact that there is no problem with the stability of focus control despite the fact that it is larger than 93 nm in the present embodiment indicates that the spread of DVD discs Because it has proved.
【0035】しかも、本実施の形態によれば、上記した
DVDのカッティング時における場合より、フォーカス
制御に加算するオフセット量は少なくて良いということ
が今までの議論によって明らかとなっており、即ち、従
来よりもフォーカス制御にかかる安定性を促進すること
が可能となる。Moreover, according to the present embodiment, it has been clarified by the previous discussion that the offset amount to be added to the focus control may be smaller than that in the above-described DVD cutting. It is possible to promote the stability of the focus control more than before.
【0036】同様の議論を、本実施の形態と同様に主記
録レーザビームの光源として波長248nmの主記録レ
ーザを用い、副レーザビームの光源として波長400n
mの代りに波長450nmのにフォーカス用レーザを用
いた場合に適用すると、そのときの焦点深度の計算結果
は再び(数1)によって、前者では154nmであり、
後者では278nmとなりその差は124nmとなっ
て、副レーザビームの光源として波長400nmのフォ
ーカス用レーザを用いた場合の93nmと比較すると、
31nmの増加はあるものの、発明が解決しようとする
課題で説明したように、主記録レーザビームの光源とし
て波長248nmのDeepUVレーザを用い、副レー
ザビームの光源として波長632nmのレーザを用いた
時の焦点深度の差である236nmと比較すれば充分に
小さな値であって、しかも、DVDのカッティング時に
おける、波長351nmの主記録ビームを用い、フォー
カス制御のための誤差検出手段としての副レーザビーム
の波長を632nmとしたときの焦点深度の差の173
nmよりも小さいため、副レーザビームにとっての最適
制御位置を強制的に逸脱させ、即ち、デフォーカスさせ
て主記録ビームにとっての対物レンズの最適位置にシフ
トさせるためのフォーカス制御系へのオフセットの加算
が、フォーカス制御系の安定性を阻害する要因とはなら
ないと結論づけることができる。A similar discussion was made, as in the present embodiment, by using a main recording laser having a wavelength of 248 nm as a light source of a main recording laser beam and a wavelength of 400 n as a light source of a sub-laser beam.
When applied to the case where a focusing laser is used at a wavelength of 450 nm instead of m, the calculation result of the depth of focus at that time is again 154 nm according to (Equation 1).
In the latter case, the difference is 278 nm, and the difference is 124 nm. Compared with 93 nm when a focusing laser having a wavelength of 400 nm is used as a sub-laser beam light source,
Although there is an increase of 31 nm, as described in the problem to be solved by the invention, when a Deep UV laser having a wavelength of 248 nm is used as a light source of the main recording laser beam and a laser having a wavelength of 632 nm is used as a light source of the sub-laser beam. Compared with the difference of 236 nm, which is the difference in the depth of focus, the value is sufficiently small. In addition, at the time of cutting a DVD, the main recording beam having a wavelength of 351 nm is used, and the sub-laser beam as an error detecting means for focus control is used. 173 of difference in depth of focus when wavelength is 632 nm
nm, forcibly deviating from the optimum control position for the sub-laser beam, that is, adding an offset to the focus control system for defocusing and shifting to the optimum position of the objective lens for the main recording beam. Can be concluded that they do not hinder the stability of the focus control system.
【0037】なお、本実施の形態のように波長が400
nmの副レーザビームの、波長248nmの主記録ビー
ムに対してその感光特性が最適化されたホトレジストに
対する感光性は、波長400nmの可視光と波長248
nmのDeepUV光の有するエネルギーが大きく異な
るためほとんどなく、従って、副レーザビームの照射に
よる影響、例えば、ディスク化後の再生信号の品質劣化
等はない。It is to be noted that the wavelength is 400 as in this embodiment.
The sensitivity of a sub-laser beam having a wavelength of 248 nm to a photoresist whose photo-sensitivity has been optimized with respect to a main recording beam having a wavelength of 248 nm is as follows.
Since there is a great difference in the energy of Deep UV light of nm, there is almost no energy. Therefore, there is no influence due to the irradiation of the sub-laser beam, for example, there is no deterioration in the quality of the reproduced signal after disc-forming.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上のように、本発明はフォーカス誤差
検出のための副レーザビームの有する波長を400nm
から450nmの範囲とすることによって、主記録ビー
ムの有する波長が300nm以下である高密度光ディス
クのカッティングを安定なフォーカス制御のもとに実現
することができる。As described above, according to the present invention, the wavelength of the auxiliary laser beam for detecting the focus error is set to 400 nm.
In this case, cutting of a high-density optical disc having a main recording beam having a wavelength of 300 nm or less can be realized under stable focus control.
【図1】本発明の情報記録装置の構成図FIG. 1 is a configuration diagram of an information recording apparatus according to the present invention.
【図2】主記録ビーム反射光のプロフィールの一例を示
す図FIG. 2 is a diagram showing an example of a profile of reflected light of a main recording beam.
1 主記録レーザ 2 レーザパワー安定器 3 パワー設定手段 4 光変調器 5 信号発生器 6,12 ビームスプリッタ 7 ダイクロイックミラー 8 対物レンズ 9 ガラス原盤 10 アクチュエータ 13 フォーカス誤差検出光学系 14 検出レンズ 15 円筒レンズ 16 4分割ホトディテクタ 17 フォーカス制御駆動回路 18 オフセット加算手段 A,B,C,D,E 光線 a,b,c,d ホトエレメント光電変換信号 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Main recording laser 2 Laser power stabilizer 3 Power setting means 4 Optical modulator 5 Signal generator 6, 12 Beam splitter 7 Dichroic mirror 8 Objective lens 9 Glass master 10 Actuator 13 Focus error detection optical system 14 Detection lens 15 Cylindrical lens 16 Four-division photodetector 17 Focus control drive circuit 18 Offset addition means A, B, C, D, E rays a, b, c, d Photoelement photoelectric conversion signal
フロントページの続き Fターム(参考) 5D090 AA01 BB01 CC01 CC16 DD03 DD05 EE01 FF05 FF11 HH01 KK06 KK13 KK15 LL01 LL08 5D118 AA06 AA13 BA01 BF03 CA11 CD02 CG03 CG07 CG13 CG26 5D119 AA22 AA29 BA01 FA02 FA13 HA36 HA63 5D121 AA02 BB21 BB38 Continued on the front page F term (reference) 5D090 AA01 BB01 CC01 CC16 DD03 DD05 EE01 FF05 FF11 HH01 KK06 KK13 KK15 LL01 LL08 5D118 AA06 AA13 BA01 BF03 CA11 CD02 CG03 CG07 CG13 CG26 5D119 AA22 BB03
Claims (2)
自動焦点制御のための副レーザビームを具備した情報記
録装置であって、前記副レーザビームの有する波長が4
00nmから450nmであることを特徴とした情報記
録装置。1. An information recording apparatus comprising a main laser beam for recording a signal and a sub-laser beam for automatic focus control, wherein the sub-laser beam has a wavelength of 4
An information recording device having a wavelength of from 00 nm to 450 nm.
ムの波長は300nm以下であることを特徴とした、請
求項1に記載の情報記録装置。2. The information recording apparatus according to claim 1, wherein the main laser beam for recording the signal has a wavelength of 300 nm or less.
Priority Applications (1)
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JP2000187258A JP2002008254A (en) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | Information recorder |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2002008254A true JP2002008254A (en) | 2002-01-11 |
Family
ID=18687266
Family Applications (1)
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JP2000187258A Pending JP2002008254A (en) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | Information recorder |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2002008254A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7605979B2 (en) | 2005-04-19 | 2009-10-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device for directing radiation to a layer, apparatus with such device and method using such apparatus |
-
2000
- 2000-06-22 JP JP2000187258A patent/JP2002008254A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US7605979B2 (en) | 2005-04-19 | 2009-10-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device for directing radiation to a layer, apparatus with such device and method using such apparatus |
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