JP2002001097A - 少なくとも1つの気相および少なくとも1つの液相の接触、物質分配ならびに熱および/または物質交換のための多機能サブアセンブリー - Google Patents

少なくとも1つの気相および少なくとも1つの液相の接触、物質分配ならびに熱および/または物質交換のための多機能サブアセンブリー

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 注入点の数を減らして、噴霧形態または液膜
形態で表面全体にわたって最適な気体および液体の分配
を確保する。適正な熱交換または物質交換を確保するた
めに、気体および液体間に有効な接触を生じさせる。反
応器内の嵩を最小化する。 【解決手段】 少なくとも1つの気相および少なくとも
1つの液相の接触、物質分配ならびに熱および/または
物質交換を確保する、少なくとも1つの粒状固体床を有
する容器の多機能サブアセンブリーであって、各下降管
1が、その上下部間に、下降管1の軸線に直角な流れ断面
を有する少なくとも1つのエレメントで構成された少な
くとも1つの充填物5を有し、エレメントが、流通帯域
における下降管1の横断面全体にわたって伸び、かつ液
相および気相が通過する複数のセルで構成され、セル
が、下降管1内での流体の流通を実質的に半径方向に導
くことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、接触、物質分配、
並びに熱および/または物質交換を確保する多機能サブ
アセンブリー(sub-assembly)であって、少なくとも一部
が水素である少なくとも1つの気相と少なくとも1つの
液相とを含みかつ全体的に下降流モードで前記粒状固体
床(または固体粒子)を流通する流体の分配を最適化し
得る、少なくとも1つの粒状固体床を含む容器のサブア
センブリーに関する。特に、本発明は、少なくとも一部
が水素である少なくとも1つの気相を含む2相または多
相混合物の分配への前記サブアセンブリーの適用に関す
る。本発明は、また、上端の近くに第1の液体流体およ
び第2の気体流体の入口を備え、少なくとも1つの粒状
固体床を有し、かつ前記床の上方に多機能サブアセンブ
リーを有する容器に関する。
【0002】このサブアセンブリーは、 ・通常は反応器である容器の頂部、 ・または、粒状床からの出口(容器の横断面全体にわた
って次の粒状床に供給する)、 ・または、補助流体(例えば、熱移送ガス、急冷ガスと
呼ばれる冷却ガス、または水素化反応のような反応を行
うためのガス)の導入手段の後ろ、 に配置し得る。
【0003】本発明は、特に、気相が一部水素で構成さ
れる、気体/液体分配器の分野に適用される。本発明
は、特に、以下の全ての場合、即ち、 ・気相が液相と比較して大部分を占める場合、即ち、気
体と液体との容積比が、通常3:1を越え、一般に40
0:1未満である(3<気体容積/液体容積<400)
場合、 ・反応が高い発熱を伴うものであって、気体/液体混合
物を冷却するために反応器内に補助流体(通常、気体)
を導入する必要がある場合、 ・反応が、化合物(例えば、水素H)を液相中に溶解
させるために均質接触を必要とする場合、 に適用される。
【0004】特に、本発明は、あらゆる水素化クラッキ
ング、水素化処理、水素化脱硫、水素化脱窒、全体的お
よび選択的水素化、および/または液体留分の水素化脱
金属に適用し得るのみならず、部分または全体酸化反
応、アミノ化、アセチル酸化、アンモ酸化、および塩素
化のようなハロゲン化反応に適用し得る。
【0005】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】水素
化脱硫、水素化脱窒および水素化クラッキングの特定の
分野において、高効率の転換を達成するために(例えば
硫黄30ppm以下を含む生成物を得るために)、気体
および液体、主として液体の良好な分配が必要とされ
る。これは、これらの容積比が、一般に約3:1〜40
0:1、通常は約10:1〜200:1となるためであ
る。急冷の場合には、冷却を行うために導入される気体
と、通常プロセス流体と呼ばれる、実施されるプロセス
からの流体との間に、極めて良好な接触が要求される。
【0006】気体と比較して液体の割合が小さいことに
起因して、先行技術において使用された1つの可能性
は、例えば、液体を通過させるための複数の孔と、気体
を通過させるための複数の下降管とを備えた分配トレイ
を使用することよりなる。このような装置の記述は、例
えば、米国特許US−A−3353924、US−A−
4385033およびUS−A−3855068から得
られる。
【0007】しかしながら、このような解決策は、トレ
イの使用の適応性(flexibility)に関して問題を引き起
こし、また、トレイが完全に水平でない場合、および/
またはトレイ上への液体流および気体流の大量の降下に
よって生じる逆流のために、異なる複数のオリフィスか
らの不規則な供給を生じさせる。
【0008】このような欠点を克服するために、当業者
は、複数のトレイの特有の配列を用いるに至った。最後
のトレイは、例えば米国特許US−A−5232283
に記載されているように、液相および気相を個別に回収
し分配する手段を備えるか、または、例えば米国特許U
S−A−4126539、US−A−4126540、
US−A−4836989およびUS−A−54627
19に記載されているように、液相および気相を混合物
形態で回収し分配する手段を備えている。
【0009】その形式のトレイおよび配列の別の欠点
は、下降管または孔からの出口において液体の拡散がな
いことである。そこで、当業者は、特にフランス特許出
願FR−A−2745202や米国特許US−A−56
88445に記載されているように、注入点の数を相当
増やすようにしたが、その数は、例えばフランス特許出
願FR−A−2654952や国際特許出願WO−A−
95/35159およびWO−A−97/46303に
記載されているように、トレイの強度によって、また
は、オリフィス若しくは下降管の出口における噴流擾乱
型システムの使用によって制限される。
【0010】さらに、通常気体であるが液体であっても
よい補助流体を使用する冷却が要求される発熱反応の場
合、提案された上記システムは、一般に、次のような一
連の内部手段、即ち、米国特許US−A−483698
9、US−A−5232283、US−A−54627
19およびUS−A−5567396やヨーロッパ特許
EP−A−0716881に記載されているような、急
冷流体を導入するための手段、プロセス流体を冷却しか
つ均質にするための混合室、および2重分配トレイのシ
ステムを備えている。それらの特許で提案されているそ
れらの異なる解決策の間での相違は、使用される混合室
の複雑性(1対の室、ブレード、バッフル)によっても
たらされる。
【0011】最適でない分配の性質に加えて、それらの
システムを用いることによる大きな障害は、その嵩(反
応器内に占める空間)である。先行技術のシステムで
は、下降管内での気体の速度は、一般に毎秒0.5〜5
センチメートル(cm/s)であり、液体の速度は、一
般に0.05〜1cm/sである。そのような速度は、
混合および分散の両方を可能にするには低すぎるもので
あり、これは、大きな欠点となる。
【0012】本発明の目的は、先行技術において提案さ
れた解決策の欠点を少なくとも一部克服することにあ
り、かつ、 ・注入点の数を減らすことによって、噴霧形態または薄
い液膜形態で表面全体にわたって最適な気体および液体
の分配を確保すること、 ・適正な熱交換(急冷機能)または物質交換(例えば液
相に水素を溶解させること)を確保するために、気体お
よび液体間に有効な接触を生じさせること、 ・反応器内の嵩を最小化すること(上述のすべての機能
を行うための単一のトレイの使用)、 にある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
部が水素である少なくとも1つの気相および少なくとも
1つの液相の接触、物質分配、ならびに熱および/また
は物質交換を確保する、少なくとも1つの粒状固体床を
有する容器の多機能サブアセンブリー(sub-assembly)に
関するものであって、前記相は、全体的に下降流モード
で前記粒状固体床を流通し、前記サブアセンブリーは、
粒状固体床の上方に配置される少なくとも1つの分配ト
レイ(P)を備えているとともに、複数の下降管(downcome
r)または管(tube)(1)を備えており、各下降管の上には
少なくとも1つの噴流擾乱装置が載せられ、各下降管
は、その上部に前記下降管内への前記気相の大部分の導
入のための少なくとも1つの流れ断面(cross section o
f flow)(22)(即ち、流路(22)または上部入口(22))を
有し、前記下降管の前記上部と下部との間におけるトレ
イ(P)の上方に前記下降管への前記液相の大部分の導入
のための少なくとも1つの流れ断面(cross section of
flow)(2)(即ち、流路(2)または側方入口(2))を有し、
かつ、その下部に前記下降管内で形成された2相または
多相混合物を前記下部の下方に位置する粒状固体床上に
分配するための少なくとも1つの該混合物の流れ断面(c
ross section of flow)(23)(即ち、流路(23)または下
部出口(23))を有しており、該サブアセンブリーは、各
下降管が、その上部と下部との間に、該下降管の軸線に
対して本質的に直角な流れ断面(the cross section for
flow of which)(即ち、流路)を有する少なくとも1
つのエレメントによって構成された少なくとも1つの充
填物(5)を有し、前記エレメントが、流通帯域における
下降管の横断面全体にわたって伸びているとともに、前
記液相および気相が通過する複数のセルで構成されてお
り、前記セルが、前記下降管内での流体の流通を実質的
に半径方向に導くことを特徴とする。
【0014】換言すれば、前記サブアセンブリーは、少
なくとも1つの気相および少なくとも1つの液相を含
み、下降流で粒状固体床を流通し、かつ反応器の入口管
路または上方の粒状固体床から来る混合物を分配するた
めの装置の一部を形成する。
【0015】各下降管または管は、分配トレイ(P)の上
方でかつ前記分配トレイ(P)に最も近接する流れ断面
(即ち、流路(22)または上部入口(22))の下方において
異なるレベルに位置する少なくとも2つの液相の流れ断
面(2)(即ち、液相用流路(2)または液相用側方入口
(2))を備えている。これらの断面は、例えば、周面の
複数のレベル、好ましくは2つまたは3つのレベルにあ
けられた孔(apertures)である。該孔の数および径は、
要求される適応性(flexibility)が得られるように算定
される。孔は、任意の形状を有し、例えばほぼ円形であ
る。また、これらの通路(2)は、下降管または管(1)にそ
の高さ方向または幅方向にあけられた切り込み(slot)で
あってもよく、それらの数は、好ましくは2つまたは3
つであって、要求される適応性(flexibility)が得られ
るように算定される。液体のレベルが前記トレイ(P)の
上方に設定されるように、分配トレイ(P)に最も近接す
る液相の流れ断面(2)は、前記トレイ(P)から必要な距離
をおいて配置されている。これらの下降管または管(1)
の上部には、入口管路または上方の粒状固体床から来る
噴流を砕いて気体および液体を分離させるキャップ(噴
流擾乱装置)が載せられている。液体は、孔または切り
込みを通して管内に入り、気体は、キャップと下降管ま
たは管(1)の頂部との間の流れ断面(22)を通して上部か
ら入る。
【0016】下降管または管(1)内での充填物の使用に
より、気体/液体混合物にエネルギーを供給することが
でき、かつ下降管または管(1)内において高い速度を生
じさせる。使用される充填物は、例えば、特に参照番号
SMVまたはSMXとして知られているSulzer型充填
物、参照番号がRMTであるようなKoch-Glitsch社によ
る充填物、スタティックミキサーまたは塔充填物に関す
るそれらの会社からの特許に記載されている充填物のう
ちの1つ、またはヨーロッパ特許EP−A−07198
50に定義されている充填物である。このような充填物
は、それらが、流れ断面(即ち、流路)が容器の軸線に
対して本質的に直角である少なくとも1つのエレメント
によって構成されていることを特徴とする。このエレメ
ントは、流通帯域において容器の横断面全体にわたって
伸び、かつ、プロセス液体、プロセス気体または急冷流
体が通過する複数のセルによって構成されており、これ
らのセルは、下降管内での流体の流通を実質的に半径方
向に導く。この充填物によって、気体と液体との間での
極めて良好な接触が生じ、かつ、熱交換(急冷機能)お
よび/または物質交換(溶解機能)が促進される。
【0017】本発明の1つの実施形態において、サブア
センブリーは、各下降管の下部の流れ断面(23)の近く
に、前記下降管内で形成される2相または多相混合物を
分散させる少なくとも1つの手段を備える。
【0018】本発明の1つの実施形態において、各下降
管は、少なくとも2つの隣接しない充填物を有し、その
最後の充填物は、前記下降管内で形成された2相または
多相混合物を分散させる前記機能を確保する。本発明の
具体的な実施の形態において、各下降管の下部の流れ断
面(23)の近くに配置されかつ前記下降管内で形成された
2相または多相混合物を分散させる前記機能を果たす最
後の充填物は、下降管内に位置する部分と、前記下降管
の外に位置する部分とを備えている。
【0019】本発明の別の実施の形態では、前記下降管
内で形成された2相または多相混合物の分散を確保する
手段は、前記下降管の下部の流れ断面(23)の下方に同断
面に近接して配置される、調節された空間率(controlle
d porosity)を有する噴流擾乱装置である。本発明で
は、各下降管が個別に噴流擾乱装置を備えてもよいし、
1つの噴流擾乱装置が1そろいの複数の下降管に使用さ
れてもよいし、あるいは1つの噴流擾乱装置が容器の断
面全体にわたって伸びていてもよい。
【0020】通常、下降管は、分配トレイ(P)の上方に
ある部分と、分配トレイ(P)の下方にある部分とを備え
る。換言すれば、管は、トレイの底部を通って伸びてい
る。
【0021】前記下降管内で形成された2相または多相
混合物の分散を確保する手段が充填物である場合、それ
は、好ましくは、所要の拡散(噴霧形態での表面への噴
霧)を生じさせるための特定の角度を有する充填物から
選ばれる。拡散角度は、標準的には10°〜60°であ
り、好ましい機能は、30°程度の拡散角度を得ること
である。前記下降管内で形成された2相または多相混合
物の分散を確保する手段が噴流擾乱装置である場合、そ
れは、好ましくは、気体および液体の流量割合(液膜形
態での粒状固体床表面への散布)に依存する調節された
空間率を有する特定の噴流擾乱装置である。表面積比
(噴流擾乱装置の空隙表面積/全表面積)で表される空
間率は、噴流擾乱装置の表面積の5〜50%、好ましく
は噴流擾乱装置の表面積の10〜20%の範囲である。
【0022】本発明の装置は、次の利点を有する。即
ち、 ・該装置により、注入点の数が減る。1m当たりの下
降管の密集度は、標準的には1〜150本、好ましくは
10〜50本の範囲である。 ・気体/液体比が大きい(少量の液体のみを分配するの
が困難である)場合、該装置により、表面全体にわたっ
て液体が細かく分配される。拡散角度は、下降管の出口
で拡散システム(噴流擾乱装置または特殊な充填物)を
使用することによって、大いに増大される。先行技術の
システムでは、拡散角度はほぼ0である。 ・急冷機能が一体化され、これにより伝熱効率が促進さ
れる。 ・空間に関する節減が相当に大きい(急冷組立体がな
い)。 ・溶解機能が、反応器内の異なるレベルに組み入れられ
る。 ・該システムは、適応性があり(flexible)、かつ堅牢で
ある。
【0023】本発明は、また、上端の近くに第1の液体
流体および第2の気体流体の入口を備えた容器であっ
て、少なくとも1つの粒状固体床を有し、前記床の上方
に上記に定義されたサブアセンブリーが取り付けられて
いる容器に関する。前記容器は、前記サブアセンブリー
の上方に、前記第1または第2の流体と同一のまたはこ
れらとは異なる、好ましくは気体である第3の流体の少
なくとも1つの側方入口を備えている。通常、前記第3
の流体は、前記第1および第2の流体のうち少なくとも
1つとの熱交換流体および/または物質交換流体であ
る。この容器は、標準的には、粒状固体床が触媒床であ
って、接触反応を行うのに使用され、具体的には、反応
体の1つが水素である接触反応を行うのに使用される。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の更なる利点および特徴
が、下記の添付図面を参照してなされる以下の実施例の
記載から明らかになる。 ・図1は、本出願人のフランス特許出願FR−A−27
45202などに示されている先行技術の実施形態の原
理を示す。 ・図2は、下降管の内部に充填物を備えた本発明のサブ
アセンブリーを示す。 ・図3および4は、下降管内で形成された2相または多
相混合物を分散させる手段を備えたサブアセンブリーの
2つの実施形態を示す。 ・図5(a)および5(b)は容器の概略図であって、
図5(a)の容器は、急冷機能を果たす混合室を備えた
先行技術の分配手段(例えば、米国特許US−A−52
32283参照)を有し、図5(b)の容器は、本発明
によるサブアセンブリーを有している。 ・図6は、ある実験モデルについて行われたテスト中に
撮影された写真であって、先行技術の分配装置の下方に
おいて、このような装置を使用した場合に得られる不十
分な分散を示すプレキシガラス(Plexiglass)の透明部分
を示す写真である。 ・図7は、ある実験モデルについて行われたテスト中に
撮影された写真であって、本発明のサブアセンブリーの
下方において、下降管が図2に関連して記載されている
ように単一の充填物を含む場合に得られる分散角度の実
質的改善を示す写真である。
【0025】図1は、周面の複数のレベルに孔(2)があ
けられた管(1)を備えた先行技術の装置の一部を示す。
孔の数および径は、要求される適応性(flexibility)の
機能として算出される。液体のレベルが確定される。そ
の高さは、一般に50〜200mmである。下降管の高
さは、通常100〜500mm、好ましくは250〜4
50mmの範囲である。これらの管の上部の上には、入
口管路または上方の粒状固体床から来る噴流を砕いて気
体と液体を分離させるキャップ(2)(噴流擾乱装置)が
載せられている。管は、トレイ(P)の底部を越えて標準
的には20〜100mmの範囲の高さだけ伸びている
(4)。液体は、孔から管内に侵入し、気体は、上部(22)
から入る。下降管の出口(23)において、最大で下降管の
径と同じ幅を有する2相混合物の噴流が生成される。
【0026】図2は、周面の2つのレベルに孔(2)があ
けられた管(1)を備えた本発明によるサブアセンブリー
の一部を示す。孔の数および径は、要求される適応性(f
lexibility)の機能として算出される。液体のレベルが
確定される。その高さは、一般に50〜200mmであ
る。下降管の高さは、標準的には100〜500mm、
好ましくは250〜450mmの範囲である。これらの
管の上部の上には、入口管路または上方の粒状固体床か
ら来る噴流を砕いて気体と液体の分離を可能にするキャ
ップ(3)(噴流擾乱装置)が載せられている。管は、ト
レイ(P)の底部を越えて標準的には20〜100mmの
範囲の高さだけ伸びている(4)。液体は、孔から管内に
侵入し、気体は上部(22)から入る。下降管の内部には、
トレイ(P)に最も近い孔(2)とこのトレイ(P)から最も離
れた孔(2)との間の距離よりも長い高さにわたって、参
照番号SMVで販売されているSulzer型充填物(5)が充
填されている。この充填物は、流れ断面が容器の軸線に
対して本質的に直角である少なくとも1つのエレメント
によって構成されていることを特徴とする。このエレメ
ントは、流通帯域において容器の横断面全体にわたって
伸び、かつプロセス液体、プロセス気体および急冷流体
が通過する複数のセルによって構成されている。これら
のセルは、流体の流通を実質的に半径方向に導く。管
(1)内で形成された2相混合物は、この管の下端(23)か
ら出る。
【0027】充填物は、二重の機能を有する。即ち、 ・触媒表面への優れた散布を生じ得る液体小滴の噴霧を
生じさせる。 ・補助気体が導入される場合に、2つの補助機能、即
ち、一方の相と他方の相(気体/気体、液体/液体)と
の間での物質交換、および1つの相と2つのプロセス相
(気体/プロセス気体、液体/プロセス液体)との間で
の熱交換が行われる。
【0028】図3および4は、管(1)の下端の近くに配
置された補助手段を備えている本発明のサブアセンブリ
ーの一部を示しており、該補助手段は、下降管の出口に
おいて気体/液体混合物の分散を増加させて、触媒表面
のより広い範囲に噴霧するものである。
【0029】図3の概略図において、この補助手段は、
所要の分散(噴霧形態での表面上への散布)を生じさせ
るための特定の角度を有する充填物(6)である。分散角
度は、10°〜60°、好ましくは30°程度である。
この充填物は、50mm程度の高さにわたって位置し、
かつ管(1)の下端の約20mm下方まで伸びる。その他
の要素は、図2に関して記載された要素と同じである。
【0030】図4の概略図において、この補助手段は、
液体および気体の流量割合(液膜形態での表面積上への
散布)に依存する調節された空間率を伴う特殊な噴流擾
乱装置(7)である。空間率は、5%〜50%、好ましく
は10%〜20%である。下降管の下端と噴流擾乱装置
との間の距離は、10〜200mmの範囲、好ましくは
50〜100mm程度の範囲である。その他の要素は、
図2に関して記載された要素と同じである。
【0031】図5(a)は、複数の触媒床(56)を有する
接触反応器を示している。該反応器は、頭上のディフュ
ーザー(overhead diffuser)(51)と、適正な気体および
液体の分配を確保する2段式トレイ(52)と、触媒床(56)
と、補助相(気体または液体)を導入する管(53)と、急
冷機能または物質移動を確保するための混合室(54)と、
気体/液体混合物を適当に再分配するための更ににもう
1つの2重通過トレイとを備えている。このアセンブリ
ーによって、反応器の容積の少なくとも20%が占めら
れる。
【0032】図5(b)は、本発明のサブアセンブリー
を備えた、複数の触媒床を有する容器を示しており、該
サブアセンブリーは、分配の改善(噴霧効果の増大)に
加えて、反応器内において内部手段によって占められる
スペースを最小限に抑えることができる(2重通過トレ
イまたは混合室は存在しない)。図2および5(a)に
示された参照番号と同じ参照番号によって表された要素
は、これらの図に関して記載されている要素と同じであ
る。噴流擾乱装置(3)の形態は、図2に示されている形
態とは異なる。この噴流擾乱装置は、管(1)の上に固定
されたデフレクター(deflector)であって、該デフレク
ターは、管(1)の上端および下端に対して斜めになった
入口を形成する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本出願人のフランス特許出願FR−A−274
5202などに示されている先行技術の実施形態の原理
を示す図である。
【図2】下降管の内部に充填物を備えた本発明のサブア
センブリーを示す図である。
【図3】下降管内で形成された2相または多相混合物を
分散させる手段を備えたサブアセンブリーの実施形態を
示す図である。
【図4】下降管内で形成された2相または多相混合物を
分散させる手段を備えたサブアセンブリーのもう1つの
実施形態を示す図である。
【図5】容器の概略図であって、図5(a)の容器は、
急冷機能を果たす混合室を備えた先行技術の分配手段
(例えば、米国特許US−A−5232283参照)を
有し、図5(b)の容器は、本発明によるサブアセンブ
リーを有している。
【図6】ある実験モデルについて行われたテスト中に撮
影された写真であって、先行技術の分配装置の下方にお
いて、このような装置を使用した場合に得られる不十分
な分散を示すプレキシガラス(Plexiglass)の透明部分を
示す写真である。
【図7】ある実験モデルについて行われたテスト中に撮
影された写真であって、本発明のサブアセンブリーの下
方において、下降管が図2に関連して記載されているよ
うに単一の充填物を含む場合に得られる分散角度の実質
的改善を示す写真である。
【符号の説明】
(P):分配トレイ (1):下降管 (2):液相の流れ断面 (22):気相の流れ断面 (23):混合物の流れ断面 (3):噴流擾乱装置 (5):充填物 (6):充填物 (7):噴流擾乱装置 (51):頭上のディフューザー (53):補助相導入管 (56):触媒床
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C10G 47/00 C10G 47/00 (72)発明者 ロベール アゴエロ フランス国 ヴィエンヌ リュ エルネ ビゾ 8 (72)発明者 チエリー ゴーチエ フランス国 ブリニェ ドメン ドゥ ラ ロト 4 Fターム(参考) 4G070 AA01 AA03 AB07 BB06 CA18 CB02 CB17 DA22 4G075 AA02 AA45 BA05 BB05 BD03 BD17 DA02 EA01 EB09 EC01 EC30 EE02 FA01 FA11

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一部が水素である少なくとも
    1つの気相および少なくとも1つの液相の接触、物質分
    配ならびに熱および/または物質交換を確保する、少な
    くとも1つの粒状固体床を有する容器の多機能サブアセ
    ンブリーであって、前記相は、全体的に下降流モードで
    前記粒状固体床を流通し、前記サブアセンブリーは、前
    記粒状固体床の上方に配置される少なくとも1つの分配
    トレイ(P)を備えているとともに、複数の下降管(1)を備
    えており、各下降管の上には少なくとも1つの噴流擾乱
    装置が載せられ、各下降管は、その上部に前記下降管内
    への前記気相の大部分の導入のための少なくとも1つの
    流れ断面(22)を有し、前記下降管の前記上部と下部との
    間におけるトレイ(P)の上方に前記下降管内への前記液
    相の大部分の導入のための少なくとも1つの流れ断面
    (2)を有し、かつ、その下部に前記下降管内で形成され
    た2相または多相混合物を前記下部の下方に位置する粒
    状固体床の上に分配するための少なくとも1つの該混合
    物の流れ断面(23)を有しており、該サブアセンブリー
    は、各下降管が、その上部と下部との間に、流れ断面が
    該下降管の軸線に対して本質的に直角である少なくとも
    1つのエレメントによって構成された少なくとも1つの
    充填物を有し、前記エレメントが、流通帯域における下
    降管の横断面全体にわたって伸びているとともに、前記
    液相および気相が通過する複数のセルで構成されてお
    り、前記セルが、前記下降管の内側での流体の流通を実
    質的に半径方向に導くことを特徴とする、多機能サブア
    センブリー。
  2. 【請求項2】 各下降管の下部の流れ断面(23)の近くに
    配置されて、前記下降管内で形成された2相または多相
    混合物を分散させる少なくとも1つの手段を備えてい
    る、請求項1記載のサブアセンブリー。
  3. 【請求項3】 各下降管が、少なくとも2つの接触しな
    い充填物を有しており、最後の充填物が、各下降管の下
    部の流れ断面(23)の近くに配置されて、前記下降管内で
    形成された2相または多相混合物の前記分散機能を果た
    す、請求項2記載のサブアセンブリー。
  4. 【請求項4】 各下降管の下部の流れ断面(23)の近くに
    配置されて、前記下降管内で形成された2相または多相
    混合物の前記分散機能を果たす最後の充填物が、下降管
    の内部に位置する部分と、下降管の外部に位置する部分
    とを備えている、請求項3記載のサブアセンブリー。
  5. 【請求項5】 下降管内で形成された2相または多相混
    合物の分散を行う手段が、前記下降管の下部の流れ断面
    (23)の下方に同断面に近接して配置される、調節された
    空間率を有する噴流擾乱装置である、請求項2記載のサ
    ブアセンブリー。
  6. 【請求項6】 下降管が、分配トレイ(P)の上方でかつ
    前記分配トレイ(P)に最も近接する流れ断面(22)の下方
    において異なるレベルに位置する少なくとも2つの液相
    の流れ断面(2)を備えている、請求項1〜5のいずれか
    1つに記載のサブアセンブリー。
  7. 【請求項7】 液相の流れ断面が、任意の形状の孔およ
    び/または切り込みである、請求項1〜6のいずれか1
    つに記載のサブアセンブリー。
  8. 【請求項8】 液体のレベルが前記トレイ(P)の上方に
    設定されるように、分配トレイ(P)に最も近接する液相
    の流れ断面(2)が、前記トレイ(P)から必要な距離をおい
    て配置されている、請求項1〜7のいずれか1つに記載
    のサブアセンブリー。
  9. 【請求項9】 下降管が、分配トレイ(P)の上方に位置
    する部分と、分配トレイ(P)の下方に位置する部分とを
    備えている、請求項1〜8のいずれか1つに記載のサブ
    アセンブリー。
  10. 【請求項10】 上端の近くに第1の液体流体および第
    2の気体流体の入口を備えた容器であって、少なくとも
    1つの粒状固体床を有し、前記床の上方に請求項1〜9
    のいずれか1つに記載のサブアセンブリーが取り付けら
    れている容器において、前記容器が、前記サブアセンブ
    リーの上方に、前記第1または第2の流体と同一のまた
    はこれらとは異なる、好ましくは気体である第3の流体
    の少なくとも1つの側方入口を備えていることを特徴と
    する、容器。
  11. 【請求項11】 前記第3の流体が、前記第1および第
    2の流体のうち少なくとも1つの流体との熱交換および
    /または物質交換のための流体である、請求項10記載
    の容器。
  12. 【請求項12】 粒状固体床が触媒床であって、接触反
    応を行うためのものである、請求項10または11記載
    の容器。
  13. 【請求項13】 反応体の1つが水素であって、接触反
    応を行うためのものである、請求項10〜12のいずれ
    か1つに記載の容器。
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