JP2001510555A - D▲下2▼からのエネルギーとヘリウムの同時生産 - Google Patents

D▲下2▼からのエネルギーとヘリウムの同時生産

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Abstract

(57)【要約】 ガス状態の重水素を特に活性を有する金属触媒と高温において接触させることによってエネルギーを確実に発生することができることが発見されている。このプロセスから得られる生成物は、質量(4)のヘリウムである。従って、D+D→He−4+24MeVの反応が現れる。金属「水添」触媒の中でごく一部のみがこのプロセスで活性を有し、いずれの触媒候補が活性を有するかを予め予測することは不可能であった。従って、特に活性を有する触媒を識別するため、簡単な篩分テストを考案した。このプロセスに使用する最も有望な触媒は、ある種の支持体に担持されたプラチナ族の金属である。パラジウムは都合のよい金属であるが、プラチナ及び恐らくその他のPGMもまた活性を有している。触媒床を介して蒸気配管を行い、蒸気の形態で発生した熱を除去することによってこの手順をスケールアップし、商業的規模でエネルギーを発生することを構想することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 D2からのエネルギーとヘリウムの同時生産 背景技術 DまたはD+Tの種々の核融合反応が非常に大量のエネルギーを産出し、この ような反応は、自然水、とりわけ海水には極めて大量のDが含有されているため 、長期的なエネルギーの生産にとって非常に有望であることが現在よく認識され ている。 この種の制御されたプラズマ融合の可能性の研究には相当多額の資金が費やさ れているが、レーザー光によって発生する核融合の量は僅かである。これらの結 果は前向きのものであるが、道のりはまだ遠く、実用的な結果を得るには、巨額 の資金していることは明らかである。 過去数年聞において、多数の研究者は比較的厳しくない研究室の条件でこのよ うな核融合を得ることがる可能性に注目し、」低温」すなわち「変則的」核融合 を達成している。多くの示唆に富む、あるいは恐らくは肯定的な結果が得られて いるが、一般的に容認されるには再現性が無く、または十分に肯定的ではない。 これ迄最も明らかに肯定的な業績はヤマグチ(Jpn.J.Appl.Physics,29(1666.19 90))のものであるが、ヤマグチ自身ばかりか他の何人かがこの業績を再現した という報告は未だなされていない。 金属触媒は水素分子の電子と強力に相互作用を行うことができ、幾つかのケー スでは、金属触媒上または金属触媒内にに吸着された活性分子または原子さえも 得られることが、化学者によく知られている。ある時、私はある種の触媒が重水 素を活性化するので、保護電子雲を大きくかき乱すか取り除いてやれば、核に自 己反応を行わせる、即ち核融合を行わせることができる可能性に注目した。私は 、このような効果がヤマグチのつかのまの成功の実際の原因であり、恐らくは他 の幾つかの可能性のある「低温核融合」を示唆する結果ではないかと信じている 。 何ケ月も以前、私は、活性を有する「水添」触媒であることが分かっている種々 の金属とD2ガスを接触させることによって、D2ガスがエネルギーを発生するこ とができるという示俊を得始めていた。 これらの手順は実験によって改良したが、尚不安定であり、予測不可能であっ た。 私は、特に活性を有する触媒をD2によって構成されるガスと少なくとも13 0℃の温度で接触させることによって、エネルギーを発生することができると判 断している。 このプロセスでは、水添触媒の中である部分のみが活性を有するため、私は特 に活性を有する触媒を識別する篩分プロセスを考案した。この篩分プロセスでは 、還元して揮発分を除去した触媒をH2及びD2ガスと隣合わせでまたは連続して 約1乃至2atmゲージ圧と約150乃至200の湿度で接触させる。特に不活 性である触媒は、H2とD2の間で温度増加の差分を示さない。特に活性を有する 触媒は、H2と比較して、D2では少なくとも2℃、好ましくは5℃超の温度の増 加を示す。 私は、この触媒による自己反応の生成物は、質量4のヘリウムのみがであるこ とを、発見した。測定可能な量の中性子、三重水素、または質量3のヘリウムは 生成されなかった。このことは、全く予期しないことであり、H,D及びTによ って可能な核融合反応に関して公表されている議論に反している。 発明の開示 多くの実験の結果、私は: 1)重水素の触媒による明確な触媒による自己反応によって、エネルギーを都 合よく得ることのできる−般的な条件を発見し; 2)特に活性を有する触媒を識別する篩分手順を確立し; 3)上記の触媒による核融合の(唯一の)生成物は事実上ヘリウムであると判 断した。 発明を実施するための最良の形態 本出願は、私が91年6月11日に出願した出願番号07/713,302、 91年8月23日に出願した出願番号07/749,149、92年2月4日に 出願した出願番号07/830,718、93年10月13日に出願した出願番 号08/135,021、94年1月27日に出願した出願番号08/188, 948、94年6月20日に出願した出願番号08/262,777、及び95 年6月2日に出願した出願番号08/459,763の一部継続出願であり、こ れらの出願の内の全ての出願は一部継続出願であり、これらは全て参考としてこ こに包含されている。 私の最初の肯定的な結果は、ある種の金属触媒をD2ガスによって圧縮し、次 いで揮発分を除去することによって得られ、これによって私はヤマグチの結果を フォローし、これを確認した。しかし、これは必然的にバッチ・プロセスであり 、大量のエネルギーを発生せず、従って、大規模で使用できる見通しは殆ど無か った。 現在、私は、少なくとも130℃の温度でD2によって構成されるガスを特に 活性を有する水添触媒と接触させることによって、大量のエネルギー(1ワット をはるかに超える)を発生することができることを発見している。 1.−般的な手順と有用な材料 本発明の最も重要な要素は、特に活性を有する金属水添触媒を発見し、これを 識別することである。このような触媒の候補は無数に存在し、これらの中で比較 的小さな割合の物のみが本プロセスで特に活性を有している。本発明の中心は、 このような特に活性を有する触媒が存在すると判断し、かつこのような触媒を識 別するには観察のみに頼らなければならないと判断することであり、ここでは肯 定的な結果が発生する前に多くの否定的な結果が行き交うものである。今迄のと ころ、候補物質から優先的に選択を行うような信頼性のある指針は存在しない。 最も簡単に分類した場合、特に活性を有する触媒は、支持体に担持されたプラ チナ族金属(PGM)の水添触媒であり、これは活性触媒であることが既に知ら れ、装置産業で広く使われている。 これらのPGMの中で最も広く使用されているのがPtとPdであり、 勿論RhもRuも使用することができ、時にはIrも使用される。PtとPdは いずれも特に活性を有する触媒を生ずることが分かっており、Rhもまた有用で あることが示唆されている。Ruは、これが特に活性を有する触媒であることが 明らかになると、非常に低コストであり、また使用上潜在的に耐久性を有してい るため、好適に使用することができる。 プラチナ族金属は、PtまたはPdのブラックまたはスポンジ等の他の形態で も、本当に特に活性を有している。 支持体に担持されたNi触媒は、PGM触媒ほど一般的に活性を有していない が、装置産業でまた広く使用されている。本発明でNiが特に活性を有する触媒 であることが明らかになると、これは、PGMと比較して、非常に低コストであ り広範に入手可能であるため、好適な実施例となる。種々の支持体をPGMに使 用することができる。しかし、−般的に、Niの添加量はPGMよりも多く、通 常10%超である。ラネーNiもまた時として装置産業に使用され、特に活性を 有していることが明らかになると、支持体に担持されたNi触媒と同様に有用で ある。 種々の他の金属も活性を有する水添触媒であることが知られており、幾つかの 実施例では特に活性を有することが判明する可能性がある。種々の形態の支持体 に担持されたRe、ラネーCo、Ti及び希土類も有用性を有する可能性がある 。 種々の金属の混合物は、時として特に活性を有する水添触媒であることがよく 知られており、従って有望な特に活性を有する触媒である可能性がある。特に興 味のあるのは、PGM同士の混合物とPGMとReとの混合物である。 支持体の材料は、活性炭素、黒鉛、アルミナ、シリカ、珪藻土、粘土、ゼオラ イト等の周知の−般的に使用されている物のいずれか1つである。 支持体に装填した約1/2%乃至5%(好ましくは約1%)の金属、及び活性 炭素の支持体に装填した金属は、種々の水添に有用であることが知られ、従って 活性炭素に1%のPdと1%のPtを装填すると、いずれも幾つかの場合には特 に活性を有することが分かっている。 特に活性を有する触媒は、粉末または微細化した形態でもよく、またはペレッ トまたは筒状物のような多孔性の集合体でもよい。大切なことは、触媒がD2に よって構成される燃料ガスを大量に吸収または吸着することができなければなら ないことである。 特に活性を有する触媒と接触するこの燃料ガスは、D2によって構成される。 しかし、実際のD2の含有量は100%に近ずく必要はない。原子比でH2を数パ ーセント含有することは、特に有害ではない。5%乃至10%のレベルにおいて のみ、H2の希釈効果が反応速度を顕著に遅くする程度に迄十分大きなものとな る。燃料にO2が含有されると、これは含有量に関わらず有害であるが、その理 由はこれがD2と触媒反応を行ってD2Oを形成し、このD2Oは不活性であるか らである。また、H2O、HDOとD2Oは好ましくないが、その理由は、これら が優先的に特に活性を有する領域を占拠し、D2の所望の自己反応を妨げるから である。 N2は燃料ガス内で単に希釈剤として機能し、いずれの妥当な割合においても 殆ど影響を有していない。COも時としてまた単なる希釈剤である。CO2は優 先的に活性領域を占拠し、好ましくない。しかし、COとCO2はいずれの燃料 ガスにおいても、主要な成分にはならない。 ここで所望している反応の生成物であるHeは重要であり、燃料ガスの否定的 な構成要素である。しかし、所望の反応の極端な活力によって原子の規模でのこ のような局部的な分裂が発生するため、Heは触媒内にトラップされるのではな く、触媒から解放される。従って、HeはN2と同様に単なる希釈剤として機能 する。Heの含有量が5%または10%以上に上昇する程度に燃料ガスが反応す る場合のみ、汚染した燃料ガスを抽気し、新鮮なD2を補給するのが好ましい。 市販の重水素ガスの大部分(または全て)は、燃料として全く満足できるもの である。研究用及びCP用のグレードの重水素ガスは恐らく不必要に純度が高く 、コストがより高い。 この自己反応の行われる温度は、重要であると考えられる。150−200℃ の温度水準において、反応は妥当な速度で行われ、温度は熱を水に伝達して蒸気 即ち非常に望ましい伝達媒体を発生することができる程度に十分高い水準にあり 、これによってタービンに動力を供給し、エネルギーをある場所から他の場所に 搬送する。約150℃未満の温度では、所望の反応速度はより遅く、蒸気を生成 するための温度差は実用に供することができない程度に低い。しかし、もし希望 すれば、動作温度は200℃よりも大幅に高いのが望ましい。驚くべき ことに、D2燃料は、200℃を大きく超える温度においてさえ、触媒と密接な 関連を有している。触媒からのD2の移転を有利にする温度においてさえ、時代 の趨勢に逆らって高い圧力を使用することができる。従って、この反応の温度の 上限は、使用する材料の強度によって設定することができ、300℃、または5 00℃またはこれ以上に高くすることができる。 このプロセスで使用する圧力は、温度程重要ではない。特に150乃至200 ℃のより低い動作温度では、例え絶対圧力が1atmであっても、燃料は触媒に 非常に吸収または吸着される。活性触媒のあるものは燃料を強力に誘引するため 、部分的に真空が発生する。従って、広い範囲の圧力を有用に使用することがで きる。時には部分的に圧力の存在する可能性がある。一般的に、1乃至10at mの絶対圧力を容易に得ることができ、これは容易に封入することができ、有用 である。特別の条件下では、最高100atm以上の圧力好ましく、有用である 。 使用する装置は、温度と圧力を制御することができれば、いずれの一般的に漏 洩に対して万全な構造を有する容器でもよく、配管と接続され、この配管を介し て水またはその他の熱伝導流体が循環する。具体的な構成は、広い範囲で変化す ることが可能である。 しかし、この装置の設計は、3つの要素によって支配されている。 1)上で述べたように、触媒は、発生したエネルギーを除去するため、熱伝導 流体を搬送する配管(「蒸気配管」)と良好に接触しなければならない。 2)触媒は、変換された燃料を補給するため、燃料ガスと良好に接触しなけれ ばならない。このことは、触媒が薄い層状で存在し、このことはガスと触媒との 界面の近傍においても全て同様であることを意味する。この意味で、1つの層の 厚さの上限は約1インチである。 3)燃料と接触する触媒の大きくて薄い表面を有する反応装置を設計すること が困難である限りにおいて、燃料は触媒床を介して連続的に供給するのが好まし い。従って、好適な反応装置の設計は、定置型(または好ましくは流動型)の触 媒床であり、この触媒床は熱伝導配管を取り囲むと共にこれと密着するものであ り、この配管を介して燃料ガスが強制的に吸引されて循環し、触媒と新鮮な燃料 の間で連続的に接触の行われることを保障するものである。 このD2の自己反応によって生成されるのはHeのみであり、中性子、三重水 素またはその他の放射性物質は生成されないので、構造材料は単純な鋼、炭素鋼 でも可能である。腐食または脆化(水素脆化を除いて)を生じるものは、何も存 在しない。最も高いコストをかけたとしても、302または304ステンレス鋼 を有利に使用することができる。316ステンレスまたはジルコニウムのような 新種の材料は、全く不必要である。生成物はヘリウム、即ち、最も不活性且つ性 質の温和なガスであるので、このプロセスでは危険な放射線廃棄物を生成しない (CO2よりもはるかに環境を破壊しない)。従って、有用なD2燃料を回収する ために抽気された材料を処理した後、He生成物は、もし希望すれば、大気中に 排出することができ、これは−般的に行なわれるであろう。 ところで、本プロセスは、明らかにD+D→質量4のヘリウムの反応によって 、殆ど24MeVを放出するが、これは巨大且つ驚くべき程度に好都合な量のエ ネルギーである。実際、この反応は、確かにかつて人間がマクロの規模で行った 最も活気に満ちたな反応である。(これ以上に活気に満ちた反応には物質−反物 質の減衰があるが、これは地球上では、マクロの規模で実行することはできない )。 2.特に活性を有する触媒の篩分手順 可能性のある触媒は無限に存在し、特に活性を有するのはこれらの触媒の中で 僅かの部分のみであることが証明されているので、本発明を実際に適用するため には、簡単で容易に実行することのできる篩分手順が必須である。例え最も有望 な候補物質から出発した場合でも、支持体に担持されたPGM水添触媒の全てが 特に活性を有するわけではないので、一様に否定的な結果を伴う際限のない実験 を回避するため、篩分手順が必要である。実際、3個、10個または100個の 否定的な結果を得た後、または最初に激励を受けた後でさえ、大部分の研究者は ギブアップして何か他のことを試みようとする。この要素は、「低温」すなわち 「異常」核融合における以前の多くの試みにおいて既に十分「決め手」になって いるものである。 本発明は、このような篩分テストに基礎を置くものである。このテストは詳細 にわたって厳密である必要はないが、約150℃と200℃(より高い温度を 使用することができるが、これは不必要である)の間の温度において、当初1乃 至3atmの絶対圧力で(この圧力は、テストが進行するのに従って、一般的に 変化する)還元して揮発分を除去した触媒候補をH2とD2によって構成されるガ スと接触させなければならない。 触媒はH2と反応しないために還元された状態でなければならず、一部には還 元反応によって不正確な基準温度を与えるに違いない。また触媒は、燃料ガスを 吸収または吸着することができるように、揮発分を除去されなければならない。 実験装置はH2基準ガスを使用して安定した温度状態にし、上記の安定した温 度は「基準」温度である。次に、H2ガスは、数分間真空を導入することによっ て良好な真空状態に移行する(一部の触媒は容易に吸着または吸収したH2を解 放しない)。次に、同様の装置、熱の導入、構成を使用して実験を反復するが、 この場合には、H2の代わりにD2を使用する。 もしD2が最終的に到達した温度がH2の到達した温度とほぼ同じまたは2℃未 満だけ大きければ、触媒候補は特に活性を有しているとは考えられない(2℃よ りもはるかに小さい温度差のある場合、これは純粋の結果であり、単なる実験上 の人為的な結果ではないと確信することはかなり困難である)。もしD2が到達 した温度がH2の到達した温度と比較して少なくとも5℃超であれば、この触媒 は明らかに特に活性を有している。実際には10℃超の温度差を測定している。 篩分装置として適しているのは上記の装置が唯一のものではなく、下記の装置 と手順を使用しても私は実験に成功することができた。 私は、一本の標準口径のパイプの雌の出口に取り付けた出入口用バルブと圧力 計、固体を添加及び除去するための大口径のパイプの雌の出口、この容器の底部 近くに到達する熱電対の筒及び300シリーズのステンレス製ガスボンベの底部 にきっちと適合するフラスコ加熱用マントルを有する1.7リットルのWWII 酸素ボンベを改造した。 熱電対の筒の端部を覆うように十分な量の触媒候補を加え、装置を密封し、次 いで高性能のメカニカル・ポンプによって真空引きを行う。H2ガスを圧力が約 2atmになるように加え、温度を約1時間で125乃至150℃に上昇させ、 この容器を再び排気した。次に、H2ガスを再び加え、温度を上昇させ、もし必 要があれば、温度が定常状態に到達し、触媒が還元され(もし必要ならば)全て の水分が無くなる迄、このサイクルを反復する。 次に、冷却した容器に2atmのH2を充填し、特定の値を有する電圧と電流 (私のケースでは約50Vと1.5A)によって加熱用ジャケットを加熱し、約 150乃至200℃の範囲で少なくとも約1時間温度が定常状態になる迄、この 温度を観察した。 H2をポンピングすることによってこの容器から揮発分を慎重に除去し、この 容器を冷却した。次に、2atmのD2ガスを加え、上記と同じ電圧と電流によ って加熱用ジャケットを加熱した。次に、温度が通常1時間または2時間以内に 定常水準に到達する迄、この温度を注意深く見守る。もし観察した温度がH2の 到達した温度を十分上回れば、H2に対して発生しなかった反応がD2に対しては 明らかに発生したことになり、この触媒は特に活性を有すると考えられる。 この手順は余りにも単純且つ精緻さを欠くようにみえるが、これは信頼できる ものである。私は、時にはH2とD2の間を行き来して最初の結果を確認した。テ ストでは、異なったロットの触媒の試料間で識別を行ってもよい。 D2を使用した場合には、特に活性を有する触媒は決して完全に安定な温度に は到達せず、上記の温度は数週間にわたって常に緩慢に上昇する。 3.本手順は質量が4のヘリウム生成物のみを生成する 私は、中性子を判定するための十分な装備と経験を有するある有力な設備で大 規模なテストを行った。私が最終的に干渉の存在しない静寂な時間に到達すると 、数分間にわたって背景上に中性子が存在しなかった。従って、D+D→n+ヘ リウム−3の反応は発生しない。 私は、三重水素に対して分析を行った。数週間にわたる運転によって得られた 生成物に含有される三重水素は蒸留水に含まれる三重水素と等価であり、事実こ のプロセスで三重水素が添加されたという兆候はは存在しなかった。従って、D +D→H+Tは、測定可能な程度には発生しない。理論的には、この反応はn+ ヘリウム−3を生成する程度と同程度に発生すべきであり、従って両方ともゼロ であるという事実は理論と矛盾しない。 困難に遭遇した後、私は低質量の原子を慎重に選別するように校正した大型の 磁気セクタ質量分析器にアクセスした。私が送付したサンプルは数部の空気によ って希釈されて実際のサンプルになっている(取り扱いの拙さによって)ので、 分析結果では、多量の空気が示されることになる。しかし、分析では約100p pmの質量4のヘリウムが検出された。この量は、H2をD2と交換した場合の温 度上昇に基づく熱均衡から計算したヘリウムの上限にほぼ対応する漏洩に対する 補正を行った。 約100ppmの量で検出されたヘリウムの量が空気中で検出されるヘリウム の量と比較してはるかに高いものである限り、この結果は決定的であり、質量4 のヘリウムが有意な量で生成され、これは明らかに元素状態で存在する生成物で ある。以上が私の見解である。 例 1 圧力計、ボンベの底部近くに到達する熱電対の筒、出入口用バルブ,及び3/ 4インチのプラグの付いた固体の添加除去用の開口部を設け、半球状の電熱マン トルによって下方外部と底部を加熱するようにした容量1700mlの300シ リーズのステンレス・スチール・ボンベに、極めて綿毛状で軽量の62%のH2 Oの含有する活性炭素上に担持した1%のPt28.0gを投入した。 次に、この容器を密封し、択一的に約100℃に加熱し、容器内の圧力が10 0℃Cで1psiaよりもはるかに低くなる迄、高性能のメカニカル真空ポンプ によって排気した。次に、この容器に高純度(グレード4)の水素ガスを圧力が 32psiaになる迄充填した。 加熱マントル上で60Vで数時間か熱した後、この容器を156℃と18 1 /2psiaで安定させた。 次に、この容器をメカニカル真空ポンプで十分排気し、32.5psiaにな る迄、グレード2.5の重水素を充填した。次に、この容器を加熱マントル上で 再び60Vで数時間加熱し、66℃で安定させた。 加熱マントルに供給する電流は、H2の場合には1.79Aであり、D2の場合 には1.78Aであり、これらには有意な差は存在しなかった。同一電力を投入 した場合のH2に対するD2の湿度差は10℃であり、これは数ワットの発電に 対応した。 数日間電圧を60Vに保持すると、D2を含有する容器の温度は更に1または 2℃上昇した。 例 2 55%のH2Oを含有する活性炭素上に担持した1%のPd21.9gを使用 して例1を反復し、同じ手順で触媒から残存する水を除去した。 水素を使用して、容器を加熱用マントル上で60Vにおいて温度152℃と圧 力31psiaで安定させた。 重水素を使用して、容器を加熱用マントル上で60Vにおいて湿度167.5 ℃と圧力39.5psiaで安定させた。 従って、H2とD2の間の温度増加の差は15.5℃であった。 例 3 38%のH2Oを含有する活性炭素上に担持した5%のPd19.2gを使用 して例1を反復し、同じ手順で触媒から残存する水を除去した。 水素を使用して、容器を加熱用マントル上で60Vにおいて温度165℃で安 定させた。 重水素を使用して、容器を加熱用マントル上で60Vにおいて温度169.5 ℃で安定させた。 従って、H2とD2の間の温度増加の差は4.5℃であり、これは特定の活性を 示す境界線上にあった。 5%のPdの添加は1%のPdの添加よりも効率が悪いことが示されている。 例 IV 1%のPd触媒を使用する以外は、上記と同様に例IIを反復した。H2とD2 を使用した場合に到達する温度は殆ど同じであり、従って特別の活性は認められ なかった。
【手続補正書】特許法第184条の4第4項 【提出日】平成9年11月14日(1997.11.14) 【補正内容】 請求の範囲 1.重水素ガスの触媒による核融合によってエネルギーとヘリウム4を同時に 生産し、D2ガスと金属触媒とを接触させることによって改善が行われ、上記の 触媒はPd、Pt、Ru、Rh及びIrのグループから選択された金属であり、 上記の金属は約1/2乃至1%のレベルで炭素基板に装填される上記のプロセス であって: 上記のプロセスの温度は、少なくとも約130℃であり; 圧力は少なくとも1−10atmである; ことを特徴とするプロセス。 2.電力出力は、触媒10g当り数ワットであることを特徴とする請求の範囲 第1項記載のプロセス。 3.上記の温度は150℃超であることを特徴とする請求の範囲第2項記載の プロセス。 4.上記の温度は約300℃未満であることを特徴とする請求の範囲第2項記 載のプロセス。 5.上記の金属はPdであることを特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセ ス。 6.上記の金属はPtであることを特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセ ス。 7.上記の金属はPdとRu、Rh、Pt、Ir及びNiよって構成されるグ ループから選択した金属との混合物であることを特徴とする請求の範囲第2項記 載のプロセス。 8.上記の基板は黒鉛であることを特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセ ス。 9.上記の基板は活性炭素であることを特徴とする請求の範囲第2項記載のプ ロセス。 10.上記のD2は市販グレードのD2であることを特徴とする請求の範囲第2 項記載のプロセス。 11.上記のD2は原子炉グレードのD2Oの電気分解によって生成されること を特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセス。 12.上記の構成は、蒸気管を取り囲む触媒の固定床によって構成されること を特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセス。 13.上記の構成は、蒸気管を取り囲む触媒の流動床によって構成されること を特徴とする請求の範囲第2項記載のプロセス。 14.上記の温度は、150乃至300℃の範囲であることを特徴とする請求 の範囲第1項記載のプロセス。 15.上記の金属はPdであることを特徴とする請求の範囲第1項記載のプロ セス。 16.上記の金属はPdとRu、Rh、Pt、Ir及びNiによって構成され るグループから選択した金属との混合物であることを特徴とする請求の範囲第1 項記載のプロセス。 17.上記の基板は活性炭素であることを特徴とする請求の範囲第1項記載の プロセス。 18.上記のD2はD2Oの電気分解によって生成されることを特徴とする請求 の範囲第1項記載のプロセス。 19.上記の構成は、蒸気管を取り囲む触媒の固定床によって構成されること を特徴とする請求の範囲第1項記載のプロセス。 20.上記の構成は、蒸気管を取り囲む触媒の流動床によって構成されること を特徴とする請求の範囲第1項記載のプロセス。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.D2によって構成される燃料ガスと特に活性を有する金属水添触媒を約1 30℃超の温度で接触させることを特徴とするエネルギー発生プロセス。 2.上記燃料ガスは、市販のグレードのD2であることを特徴とする請求の範 囲第1項記載のプロセス。 3.上記の燃料ガスは、原子炉グレードの重水の電気分解によって生成された D2であることを特徴とする請求の範囲第1項記載のプロセス。 4.上記の温度は、150℃超であることを特徴とする請求の範囲第1項記載 のプロセス。 5.上記金属触媒中の金属は、Pd、Pt、Rh、Ru、Ir、Re、Ni、 T1及び希土類によって構成されるグループから選択されることを特徴とする請 求の範囲第1項記載のプロセス。 6.上記金属触媒中の金属は、Pd、Pt及びRuによって構成されるグルー プから選択されることを特徴とする請求の範囲第5項記載のプロセス。 7.上記金属は、Pdであることを特徴とする請求の範囲第5項記載のプロセ ス。 8.上記金属は、Niであることを特徴とする請求の範囲第5項記載のプロセ ス。 9.上記金属触媒は、Pd、Pt、Rh、Ru、Ir及びReによって構成さ れるグループから選択された2つ以上の金属の混合物を含有することを特徴とす る請求の範囲第5項記載のプロセス。 10.上記のの金属触媒は、活性炭素、黒鉛、シリカ、アルミナ、珪藻土、ゼ オライト及び粘土によって構成されるグループから選択された支持体上に担持さ れていることを特徴とする請求の範囲第5項記載のプロセス。 11.動作圧力は、約100atm未満であることを特徴とする請求の範囲第 1項記載のプロセス。 12.上記の金属触媒は、熱伝達配管を取囲む固定床内に位置し、上記の燃料 ガスは上記の床を介して循環することを特徴とする請求の範囲第1項記載のプ ロセス。 13.上記の金属触媒は、熱伝達配管を取囲む流動床内に位置し、上記の燃料 ガスは上記の床を介して循環することを特徴とする請求の範囲第1項記載のプロ セス。 14.質量4のヘリウムを上記のエネルギーと同時に生成することを特徴とす る請求の範囲第4項記載のプロセス。 15.上記の燃料ガスは、市販グレードのD2であることを特徴とする請求の 範囲第14項記載のプロセス。 16.上記の燃料ガスは、原子炉グレードの重水の電気分解によって生成され たD2であることを特徴とする請求の範囲第14項記載のプロセス。 17.上記の金属触媒中の金属は、Pd、Pt、Rh、Ru、Ir、Re、N i、Ti及び希土類によって構成されるグループから選択されることを特徴とす る請求の範囲第14項記載のプロセス。 18.上記の金属触媒中の金属は、Pd、Pt、Ru、Rh、Re及びNiに よって構成されるグループから選択されることを特徴とする請求の範囲第14項 記載のプロセス。 19.上記の金属触媒は、活性炭素、黒鉛、シリカ、アルミナ、珪藻土、ゼオ ライト及び粘土によって構成されるグループから選択された支持体上に担持され ていることを特徴とする請求の範囲第14項記載のプロセス。 20.上記の金属触媒は、熱伝達配管を取囲む流動床内に位置し、上記の燃料 ガスは上記の床を介して循環することを特徴とする請求の範囲第14項記載のプ ロセス。
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