JP2001500065A - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置

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JP2001500065A JP10513339A JP51333998A JP2001500065A JP 2001500065 A JP2001500065 A JP 2001500065A JP 10513339 A JP10513339 A JP 10513339A JP 51333998 A JP51333998 A JP 51333998A JP 2001500065 A JP2001500065 A JP 2001500065A
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サッター,リロイ,ヴァーノン
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ザ ドミノ コーポレイション
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Abstract

(57)【要約】 レーザマーキング装置は多数の個別レーザデバイス(1)を有し、これらのデバイスが互いに所定角度で取り付けられている。これらのレーザデバイスの出力端(2)は互いに近接して隣接配置されており、多数のレーザビーム・リディレクタ(5)が前記レーザ出力端(2)から出射されたレーザビーム(3)を遮るように配置され、これによりレーザビーム経路の長さを伸ばすと共に前記レーザビーム(3)間の角度を小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】 レーザ装置 本発明は、レーザに係り、とくに、マーキングやコーディングの応用分野で使 用するレーザ装置の光学系に関する。 このような応用分野で使用するときに好適なレーザ装置が、米国特許第4,6 18,961号、同第4,891,819号、および同第5,095,490号 で説明されている。さらに、米国特許第4,652,722号では、固定反射手 段、ビーム管、および焦点レンズに関連させた複数のコヒーレントなレーザビー ムを利用したレーザ装置が説明されており、これによりマーキング表示が付与さ れ、または基板表面への永久的な改質がなされる。この米国特許第4,652, 722号のクレーム1で開示されている特徴は、光学経路を短縮できるというこ とであり、その明細書には、反射手段を使って光学経路をどのようにして短縮す るかについて説明されている。 多重レーザチャンネルを利用するコンパクトで且つ商用的に実行可能なレーザ マーキング装置をつくるときの主要な問題の一つは、チャンネルアセンブリの物 理的サイズを小さくし、同時に、所望の光学的マーキング特性を得るために必要 な光学的構成を簡単化できるようにレーザチャンネルを位置決めすることである 。通常、個々のレーザの物理的サイズの制約に因って、光学的間隔と、最適な光 学的性能を得るのに必要なレーザ間の角度関係とを同時には容易に達成し得るも のではない。この問題を解決するために、米国特許第4,652,722号にお いて発明者らが教示している1つの方法は、レーザを平行に近い向きに配置し、 各ビームを光学的に再方向 付け(re-direct)して、光学経路を短縮すると共に個々のレーザビーム間に所 望の角度関係を確立するようにする手法である。 しかしながら、上述した特許明細書では、多重ドットによって適切な小ささの 文字サイズを提供するという課題を扱っていない。 米国特許第5,168,401号およびPCT国際公開第96/04584号 には、レーザダイオードから出射された個々のレーザビームのコリメーションに 関する光学装置が説明されているが、これには本発明に関係する課題が述べられ ていない。欧州特許第538,044号には、米国特許第4,652,722号 および同第5,389,771号が開示しているのと類似したシステム、すなわ ち、点光源から照射されたシングルビームを折り返すための装置と特性の点で類 似したシステムが開示されている。しかし、これらの特許明細書のいずれも、本 発明に特別に関連するものとは認められない。 本発明によれば、レーザ装置は、複数の個別のレーザを備え、これらのレーザ のそれぞれは出力端を有し、かつ、これらのレーザは互いに所定角度で取り付け られており、前記レーザ出力端を互いに近接して配置するとともに、複数のレー ザビーム・リディレクタ(redirector)が前記レーザ出力端から出射されたレー ザビームを遮るように配置され、前記レーザビーム・リディレクタは前記レーザ ビームの経路長を伸ばし且つ前記レーザビーム間の角度差を低減するように配置 されている。 この手段を用いて、提供される光学システムは適切に間隔を空けた複数のマー クを生成して、移動している基板上に文字・数字両用の、グラフィックの、およ び/または機械で読取り可能なマークを生成することができる。その一方で、典 型的には生産ラインなど、比較的小さいスペースに適合する非常にコンパクトな システムを提供することができる。 このレーザビーム・リディレクタは好適にはミラーまたは屈折光学プリズムで ある。 ステアリング・ミラーを光学経路に付加してレーザビーム間の角度を変えるこ とができ、この角度を電気的信号によって所望量だけステアリング可能である。 レンズを使ってレーザビームをターゲット上にフォーカスさせてもよく、この レーザビームは好適にはレーザビーム・リディレクタとレンズとの間で交差する ように配置される。このレンズは好適には、レーザビームが交差する位置と、そ の交差点からレンズの焦点長である距離fだけ離れたターゲット面との間に位置 決めされる。 本発明によれば、前記レーザビームを複数のターゲットに方向付けるためのレ ーザビーム分割デバイスを備えていてもよく、この場合、レーザビーム・リディ レクタとレンズそれぞれとの間でのレーザビームの各経路長は、好適には前記タ ーゲットそれぞれに上述した如く与える長さであり、好適な一例として、等しい 長さである。 添付図面を参照して本発明による装置の例を以下に説明し、添付図面において 、 図1は本装置の第1の例を示す平面図であり、 図2は本装置を示す側面立面図であり、 図3は、比較説明のために添付した、本発明に拠るレーザビーム・リディレク タを設けないレーザマーキング・システムを示す図であり、 図4A〜4Fは図1の装置で使用されているミラーの詳細を示す図であり、 図5、6および7は本発明に基づく装置の第2、第3、および第4の別の例を 示す図であり、 図8および9は本発明の基礎を成す原理を説明するためのビーム 図であり、 図10はレーザビームをフォーカスさせるレンズ配置を示す図であり、 図11および12は本発明に係るさらに別の実施例を例示する図であり、およ び、 図13はレーザマーキング用の2組以上のレーザビームを用いる本発明の実施 例を例示する図である。 コンパクトなレーザマーキング用またはレーザコーディング用のデバイスを製 造するために、個々の出力端2を互いに隣接させた状態で、個別のレーザ1が図 1および3に示す如く互い違いに重ねた状態で近接して配置されている。図3に 示す如く、これにより生じる各レーザビーム3間の角度は、それらビームが通常 のフォーカス用レンズ4を通過すると、そのレンズ4から適宜な距離f離れた位 置でトータル距離Dにわたって互いに間隔を空けられる。これは、大部分のマー キング用途にとってあまりにも大きい距離である。 この図3を用いた例との比較において、図1および2が示すことは、複数のミ ラーアセンブリ5,6を用いて、レーザビーム3の全体の経路をLからL1に伸 長させ、同時に、個々のレーザビーム3間の角度を減少させる様子であり、これ により、図3に示した装置のトータル分離距離Dよりもかなり小さいトータル分 離距離D1を有するビームの組を生成することができる。第1の再方向付け(re- directing)ミラーアセンブリ5は複数のミラー51を有し、この各ミラーがビ ーム3の組を第2の再方向付けミラーアセンブリ6の各領域に対して再方向付け (re-direct)するための適当に異なる反射角度を有する。このミラーアセンブ リ6は角度45°に設定した1つのミラー61を有し、このミラー61がビーム 3を焦点合わせレンズ4に向けて再方向付けする。 本構成の幾何学的形状およびレンズ4の焦点距離によって、ターゲット基板上 に生成することができるマークのドット間隔およびドットサイズが決定される( 図8および9に関連して以下に説明される如く)。そして、マーキング用ドット の分離状態は、ドット個々でまたはドットグループのいずれか毎に、焦点合わせ レンズ4の位置におけるレーザビーム3間の角度を変更することより調整するよ うにすればよい。 レーザ1から出射されるレーザビーム3のビーム間の分離角度は、最初、4. 33°であり、図4A〜4Fにさらに詳細に示すミラーアセンブリ5の個別のミ ラー51によって0.2°〜1.0°の間で変更される(図4A〜4Fに示す構 成は0.8度で変更する場合である)。図4A〜4Dは、図的には、図4Eの断 面A−A,B−B,C−CおよびD−Dのそれぞれにおける互いに直交する2つ の別々の断面における、個々のミラー51を形成するミラー表面、それらの間隔 、および相対角度を示す。これらの断面それぞれの位置は図4Eに示してあり、 図4Eおよび4Fはミラーアセンブリ5および6を示す。図4Fは図4Eに対し て90°の位置にある断面図であり、これにより複数のミラー表面51の内の1 つのみが表されている。 図5、6および7は、別の実施例を側面図として示す。図5では、追加の、調 整可能なミラーアセンブリ7および8が採用されており、これにより、ミラーア センブリ5および6によってなされるビーム角度調整に起因するビーム長調整と は別にビーム長調整が可能になっている。図6の実施例は追加のミラーアセンブ リ9を示しており、このアセンブリはビーム3を当該ビームの元の方向の面を横 切って再方向付けする。また、図7の実施例は、図5及び6に示した例の特徴を 組み合わせたものである。 図4A〜4Cはミラーアセンブリ5および6の詳細を更に説明している。 本発明の概念の基礎を成している理論は以下の通りであり、図8および9に関 して説明する。 図8は、焦点距離fのレンズから距離D1にあり、その焦点合わせレンズから 距離D2にある近接面表面で一連のフォーカスされたレーザスポットを形成する 複数の角度付けしたレーザの幾何学的な構成を表している。図9は、回折効果を 含め、図8に示すレーザのうちの2つの隣接したレーザの光学的な配置構成を示 す。図9では、この隣接したレーザは互いに角度φであり、最も接近した位置に おいて中心間同士で距離Yだけ離れている。内径W1のレーザ開口から出た各レ ーザビームはその出口開口のファーフィールドに角度θで広がり、焦点距離fの レンズによってスポット径W2にフォーカスされ、隣接するレーザスポットの状 態から分離距離Sだけ離れる。 最も低い次数のガウシアン・レーザビームの一般的な光学理論にしたがい、1 次の薄いレンズによる近似法を使うと、次のような演算ができる。 まず、レーザ理論の基礎的事項から、ガウシアン・ビームウエストW1を有し てレーザ開口から出射されるレーザビームが生じる発散は の関係式で与えられる。ここで、λは導波管から出射される光の波長であり、π は3.14159の値に近似される物理定数である。 レンズを通してフォーカスされるガウシアン・レーザビームについては、以下 の関係式が容易に導かれ、それらはかかる主題に基づ く標準的な教科書に載っている。すなわち、および である。ここで、D2はレンズから最小の焦点スポットサイズW2までの距離(主 焦点距離)である。 最後に、レーザチャンネル間の角度が小さいという基準状態を適用すると、t an(φ)はおよそφに等しくなり、これにより式が簡単なジオメトリによって 表される。すなわち、 となる。 したがって、これらの方程式の組から、焦点スポットサイズW2、所定の焦点 スポットサイズW2に対するスポット分離S、主焦点距離D2、およびジオメトリ のパラメータ(W1,D2,およびφ)および光学的パラメータ(fおよびλ)の 所定の組に対するスポット分離Sを導くことができる。 演算の例: 一例として、以下の値が与えられる。 λ = 10.6×10-4cm(炭酸ガスレーザの波長) f = 5.0cm W1 = 0.40cm D1 = 130cm φ = 0.01ラジアン これらの値から以下の値が導出される。 θ = 0.0337ラジアン (式(1)から) W2 = 0.0116cm (式(2)から) D2 = 5.1cm (式(3)から) S = 0.051cm (式(4)から) 上述した値は、3.0mmを僅かに超える7個のドットによるキャラクタ(文 字)に典型的な値であり、その場合にはキャラクタの高さHは に等しくなる。ここで、Nはレーザチャンネル数であり、Sは最小ドットサイズ (主焦点面であり、必ずしも焦点面ではない)におけるドット間の分離であり 、W2はこの面でフォーカスされたビーム径である。そこで、式(4)を上記関 係式に代入すると、 が得られる。ここで、φは焦点レンズに入るレーザチャンネル間の角度であり、 D2はレンズからレーザビームの主焦点までの距離である。スポットの分離状態 が測定される面から距離fだけ離れたレンズの焦点面では、D2=fと単純化で きるので、上記式は と単純化できる。 この式によって、キャラクタの高さと、レンズの焦点面におけるレーザビーム 角度およびレンズ焦点距離との間の関係が確立される。ミラーシステムはこの隣 接レーザビーム間の角度φを変更して、ビーム経路を商用的に実行可能な長さに 伸ばし、その一方でビーム分離角度を調整して上述した式(3)の所望のキャラ クタ高さを得ることができる。 上述した考察によって、マーキングする基板を焦点面21に置くことが望まし いということも明らかになる。それは、ここに置くことで、レーザビーム3が最 も鋭くフォーカスされ且つスポット幅W2が最も小さくなるからである。しかし 、ほかの基準を考慮して、ミラー6と基板に関するレンズ4の最適な位置決めを 行うようにしてもよい。 図10を参照すれば、以下の関係が成り立つことが分かる。すなわち、である。ここで、Nmaxはレーザビームの総数であり、Ψは最も外側のレーザビ ーム23および24間の角度である。 したがって、式(7)および(8)から、ドット幅W2を無視すると、 が成立することが分かる。 そこで、Ψおよびfは、レンズ4とビーム交差点20との間の距 離Cとは無関係であることは明らかであるので、焦点面21におけるキャラクタ 高さHも距離Cとは無関係になる。 相似の三角形を比較することで、 が成立することが分かる。ここで、Lはレンズ4とレーザビームが収束する点2 2との間の距離であり、aは最も外側のレーザビーム23がレンズ4に入射する 位置におけるレンズ4の光学軸からの半径方向の距離であり、Yは、レンズ4の 光学軸に沿って前記点22に向かって進むレンズ4から距離Xの位置における、 レンズ4の光学軸から最も外側のレーザビーム23までの半径方向の距離である 。 薄いレンズに関する式から、 が既知である。ここで、Cは交差点20とレンズ4との間の距離である。 また、角度が小さいときには、 が成り立つことが分かる。 式(10)から、Xに関するYの微分が演算される。その結果を式(11)お よび(12)と組み合わせて、 の式が表され、f=Cのときには、 となる。 この結果から、レンズ4をビーム交差点20より向こうに距離f、すなわちレ ンズの焦点長、の位置に置くと、キャラクタの高さHは焦点面の近くで一定にな ることが分かる。すなわち、焦点面21の内および外における位置に関するキャ ラクタ高さの変化は、距離Cおよびfを互いに一致させることにより、零にする ことができる。 これにより、本装置を使えば曲面や凹凸のある面の上にも、キャラクタ高さを 著しく変化させることなく、マーキングすることができ、特徴ある商用的な利点 を提供できる。 これらの特徴を有した装置の実施例に係るほかの例を図11および12に示す 。この装置は、ビーム拡張器(beam extender)ハウジング30、レンズアセン ブリ31、およびエアノズル・アセンブリ32を備える。レーザビーム3はビー ムシャッター・アセンブリ33を通して与えられ、このレーザ出力はビーム・シ ュラウド34によりシールドされる。このビーム・シュラウドによって、この装 置を用いるオペレータが偶然にレーザ照射に曝されるという事態を防止できる。 また、このビーム・シュラウド34はレーザマーキング領域を囲い、レーザマー キングの工程で発生する破片をポート36を介して真空クリーナ装置(図示せず )によって吸引することができる。 ビーム拡張器ハウジング30をシールすることで、ミラー5,6,7および8 のクリーンな状態が維持され、レーザマーキング工程で レーザにより生じる周囲の塵芥および破片の影響を受けないことが保証される。 クリーンなフィルタリングされた空気を空気ノズルアセンブリ32を介して循環 させ、レーザマーキング工程で生じる破片や残留物がレンズアセンブリ31内に 配置した焦点合わせレンズ4を汚染することを防止する。レンズ焦点調整ねじ3 5を使ってレンズアセンブリ31を調整することで、レンズ4を精細にチューニ ングすることができる。 さらに図13を参照すると、本発明の実施例はビーム分割デバイス40を内蔵 することができ、このビーム分割デバイスは、レーザビーム3の一組が1以上の 位置でレーザマーキングすることを可能とする。図13に示す多重ライン装置に は2つのレンズアセンブリ31が取り付けられ、第3のレンズアセンブリの位置 にはプラグ41が取り付けられる。このプラグ41をレンズアセンブリ31に取 り換えると、ビーム分割デバイスはレーザビーム3をさらに分割して、3箇所に レーザマーキングすることができる。 動作時には、レーザビーム3がミラーアセンブリ5および6を介して多重ライ ンビーム拡張器ハウジング42に入り、ミラーアセンブリ5および6は前述した ようにビームの全体経路を伸ばす。次に、このビームは回転検流計上に装着され たミラーを備えるビーム分割デバイス40に入射する。このミラーは当然に、例 えば圧電素子または磁石誘導デバイスといった、振動的な回転運動を提供するこ とができる複数のデバイスのいずれかに装着してもよい。 ビーム分割デバイス40は、必要に応じて、別の再方向付けミラー43上にレ ーザビーム3を連続的に再方向付けすることができる。再方向付けミラー43は 、レーザビーム3をレンズアセンブリ31に収容した焦点合わせレンズ4に向け て方向付けするもので、ミラーアセンブリ6と焦点合わせレンズ3との間のビー ム3の経路の全 体長が等しくなるように配置されている。 このため、複数のレーザビーム3の光学的特性は、それらのビームがどの焦点 合わせレンズを通るかには関係無く同一になり、コンパクトな装置によって上述 した有利な長所を複数の目標上で発揮させることができる。
【手続補正書】 【提出日】平成11年3月12日(1999.3.12) 【補正内容】 明細書 レーザ装置 本発明は、レーザに係り、とくに、マーキングやコーディングの応用分野で使 用するレーザ装置の光学系に関する。 このような応用分野で使用するときに好適なレーザ装置が、米国特許第4,6 18,961号、同第4,891,819号、および同第5,095,490号 で説明されている。さらに、米国特許第4,652,722号では、固定反射手 段、ビーム管、および焦点レンズに関連させた複数のコヒーレントなレーザビー ムを利用したレーザ装置が説明されており、これによりマーキング表示が付与さ れ、または基板表面への永久的な改質がなされる。この米国特許第4,652, 722号のクレーム1で開示されている特徴は、光学経路を短縮できるというこ とであり、その明細書には、反射手段を使って光学経路をどのようにして短縮す るかについて説明されている。 多重レーザチャンネルを利用するコンパクトで且つ商用的に実行可能なレーザ マーキング装置をつくるときの主要な問題の一つは、チャンネルアセンブリの物 理的サイズを小さくし、同時に、所望の光学的マーキング特性を得るために必要 な光学的構成を簡単化できるようにレーザチャンネルを位置決めすることである 。通常、個々のレーザの物理的サイズの制約に因って、光学的間隔と、最適な光 学的性能を得るのに必要なレーザ間の角度関係とを同時には容易に達成し得るも のではない。この問題を解決するために、米国特許第4,652,722号にお いて発明者らが教示している1つの方法は、レーザを平行に近い向きに配置し、 各ビームを光学的に再方向 付け(re-direct)して、光学経路を短縮すると共に個々のレーザビーム間に所 望の角度関係を確立するようにする手法である。 しかしながら、上述した特許明細書では、多重ドットによって適切な小ささの 文字サイズを提供するという課題を扱っていない。 米国特許第5,168,401号およびPCT国際公開第96/04584号 には、レーザダイオードから出射された個々のレーザビームのコリメーションに 関する光学装置が説明されているが、これには本発明に関係する課題が述べられ ていない。欧州特許第538,044号には、米国特許第4,652,722号 および同第5,389,771号が開示しているのと類似したシステム、すなわ ち、点光源から照射されたシングルビームを折り返すための装置と特性の点で類 似したシステムが開示されている。しかし、これらの特許明細書のいずれも、本 発明に特別に関連するものとは認められない。 本発明によれば、レーザ装置は、複数の個別のレーザを備え、これらのレーザ のそれぞれはレーザビームを出射する出力端を有し、かつ、これらのレーザは れらのレーザビームが交差するように 互いに所定角度で取り付けられており、前 記レーザ出力端を互いに近接して配置するとともに、複数のレーザビーム・リデ ィレクタ(redirector)が前記レーザ出力端から出射されたレーザビームを遮る ように配置され、前記レーザビーム・リディレクタは前記レーザビームの経路長 を伸ばし且つ前記レーザビーム間の角度差を低減するように配置され、前記レー ザビーム・リディレクタは前記レーザの出力端と前記レーザビームが交差する交 差点との間に配置され る。 この手段を用いて、提供される光学システムは適切に間隔を空けた複数のマー クを生成して、移動している基板上に文字・数字両用の、グラフィックの、およ び/または機械で読取り可能なマークを 生成することができる。その一方で、典型的には生産ラインなど、比較的小さい スペースに適合する非常にコンパクトなシステムを提供することができる。 このレーザビーム・リディレクタは好適にはミラーまたは屈折光学プリズムで ある。 ステアリング・ミラーを光学経路に付加してレーザビーム間の角度を変えるこ とができ、この角度を電気的信号によって所望量だけステアリング可能である。 レンズを使ってレーザビームをターゲット上にフォーカスさせてもよい。この レンズは好適には、レーザビームが交差する位置と、その交差点からレンズの焦 点長である距離fだけ離れたターゲット面との間に位置決めされる。 本発明によれば、前記レーザビームを複数のターゲットに方向付けるためのレ ーザビーム分割デバイスを備えていてもよく、この場合、レーザビーム・リディ レクタとレンズそれぞれとの間でのレーザビームの各経路長は、好適には前記タ ーゲットそれぞれに上述した如く与える長さであり、好適な一例として、等しい 長さである。 添付図面を参照して本発明による装置の例を以下に説明し、添付図面において 、 図1は本装置の第1の例を示す平面図であり、 図2は本装置を示す側面立面図であり、 図3は、比較説明のために添付した、本発明に拠るレーザビーム・リディレク タを設けないレーザマーキング・システムを示す図であり、 図4A〜4Fは図1の装置で使用されているミラーの詳細を示す図であり、 図5、6および7は本発明に基づく装置の第2、第3、および第 4の別の例を示す図であり、 図8および9は本発明の基礎を成す原理を説明するためのビーム図であり、 図10はレーザビームをフォーカスさせるレンズ配置を示す図であり、 図11および12は本発明に係るさらに別の実施例を例示する図であり、およ び、 図13はレーザマーキング用の2組以上のレーザビームを用いる本発明の実施 例を例示する図である。 コンパクトなレーザマーキング用またはレーザコーディング用のデバイスを製 造するために、個々の出力端2を互いに隣接させた状態で、個別のレーザ1が図 1および3に示す如く互い違いに重ねた状態で近接して配置されている。図3に 示す如く、これにより生じる各レーザビーム3間の角度は、それらビームが通常 のフォーカス用レンズ4を通過すると、そのレンズ4から適宜な距離f離れた位 置でトータル距離Dにわたって互いに間隔を空けられる。これは、大部分のマー キング用途にとってあまりにも大きい距離である。 この図3を用いた例との比較において、図1および2が示すことは、複数のミ ラーアセンブリ5,6を用いて、レーザビーム3の全体の経路をLからL1に伸 長させ、同時に、個々のレーザビーム3間の角度を減少させる様子であり、これ により、図3に示した装置のトータル分離距離Dよりもかなり小さいトータル分 離距離D1を有するビームの組を生成することができる。第1の再方向付け(re- directing)ミラーアセンブリ5は複数のミラー51を有し、この各ミラーがビ ーム3の組を第2の再方向付けミラーアセンブリ6の各領域に対して再方向付け (re-direct)するための適当に異なる反射角度を有する。このミラーアセンブ リ6は角度45°に設 定した1つのミラー61を有し、このミラー61がビーム3を焦点合わせレンズ 4に向けて再方向付けする。 本構成の幾何学的形状およびレンズ4の焦点距離によって、ターゲット基板上 に生成することができるマークのドット間隔およびドットサイズが決定される( 図8および9に関連して以下に説明される如く)。そして、マーキング用ドット の分離状態は、ドット個々でまたはドットグループのいずれか毎に、焦点合わせ レンズ4の位置におけるレーザビーム3間の角度を変更することより調整するよ うにすればよい。 レーザ1から出射されるレーザビーム3のビーム間の分離角度は、最初、4. 33°であり、図4A〜4Fにさらに詳細に示すミラーアセンブリ5の個別のミ ラー51によって0.2°〜1.0°の間で変更される(図4A〜4Fに示す構 成は0.8度で変更する場合である)。図4A〜4Dは、図的には、図4Eの断 面A−A,B−B,C−CおよびD−Dのそれぞれにおける互いに直交する2つ の別々の断面における、個々のミラー51を形成するミラー表面、それらの間隔 、および相対角度を示す。これらの断面それぞれの位置は図4Eに示してあり、 図4Eおよび4Fはミラーアセンブリ5および6を示す。図4Fは図4Eに対し て90°の位置にある断面図であり、これにより複数のミラー表面51の内の1 つのみが表されている。 図5、6および7は、別の実施例を側面図として示す。図5では、追加の、調 整可能なミラーアセンブリ7および8が採用されており、これにより、ミラーア センブリ5および6によってなされるビーム角度調整に起因するビーム長調整と は別にビーム長調整が可能になっている。図6の実施例は追加のミラーアセンブ リ9を示しており、このアセンブリはビーム3を当該ビームの元の方向の面を横 切って 再方向付けする。また、図7の実施例は、図5及び6に示した例の特徴を組み合 わせたものである。 図4A〜4Cはミラーアセンブリ5および6の詳細を更に説明している。 本発明の概念の基礎を成している理論は以下の通りであり、図8および9に関 して説明する。 図8は、焦点距離fのレンズから距離D1にあり、その焦点合わせレンズから 距離D2にある近接面表面で一連のフォーカスされたレーザスポットを形成する 複数の角度付けしたレーザの幾何学的な構成を表している。図9は、回折効果を 含め、図8に示すレーザのうちの2つの隣接したレーザの光学的な配置構成を示 す。図9では、この隣接したレーザは互いに角度φであり、最も接近した位置に おいて中心間同士で距離Yだけ離れている。内径W1のレーザ開口から出た各レ ーザビームはその出口開口のファーフィールドに角度θで広がり、焦点距離fの レンズによってスポット径W2にフォーカスされ、隣接するレーザスポットの状 態から分離距離Sだけ離れる。 最も低い次数のガウシアン・レーザビームの一般的な光学理論にしたがい、1 次の薄いレンズによる近似法を使うと、次のような演算ができる。 まず、レーザ理論の基礎的事項から、ガウシアン・ビームウエストW1を有し てレーザ開口から出射されるレーザビームが生じる発散は (1) の関係式で与えられる。ここで、λは導波管から出射される光の波長であり、π は3.14159の値に近似される物理定数である。 レンズを通してフォーカスされるガウシアン・レーザビームについては、以下 の関係式が容易に導かれ、それらはかかる主題に基づく標準的な教科書に載って いる。すなわち、 (2) および (3) である。ここで、D2はレンズから最小の焦点スポットサイズW2 までの距離(主焦点距離)である。 最後に、レーザチャンネル間の角度が小さいという基準状態を適用すると、t an(φ)はおよそφに等しくなり、これにより式が簡単なジオメトリによって 表される。すなわち、 (4) となる。 したがって、これらの方程式の組から、焦点スポットサイズW2、所定の焦点 スポットサイズW2に対するスポット分離S、主焦点距離D2、およびジオメトリ のパラメータ(W1,D1,およびφ)および光学的パラメータ(fおよびλ)の 所定の組に対するスポット分離Sを導くことができる。 演算の例: 一例として、以下の値が与えられる。 λ = 10.6×10-4cm(炭酸ガスレーザの波長) f = 5.0cm W1 = 0.40cm D1 = 130cm φ = 0.01ラジアン これらの値から以下の値が導出される。 θ = 0.0337ラジアン (式(1)から) W2 = 0.0116cm (式(2)から) D2 = 5.1cm (式(3)から) S = 0.051cm (式(4)から) 上述した値は、3.0mmを僅かに超える7個のドットによるキャラクタ(文 字)に典型的な値であり、その場合にはキャラクタの高さHは (5) に等しくなる。ここで、Nはレーザチャンネル数であり、Sは最小ドットサイズ (主焦点面であり、必ずしも焦点面ではない)におけるドット間の分離であり 、W2はこの面でフォーカスされたビーム径である。そこで、式(4)を上記関 係式に代入すると、 (6) が得られる。ここで、φは焦点レンズに入るレーザチャンネル間の角度であり、 D2はレンズからレーザビームの主焦点までの距離である。スポットの分離状態 が測定される面から距離fだけ離れたレンズの焦点面では、D2=fと単純化で きるので、上記式は (7) と単純化できる。 この式によって、キャラクタの高さと、レンズの焦点面におけるレーザビーム 角度およびレンズ焦点距離との間の関係が確立される。ミラーシステムはこの隣 接レーザビーム間の角度φを変更して、ビーム経路を商用的に実行可能な長さに 伸ばし、その一方でビーム分離角度を調整して上述した式(3)の所望のキャラ クタ高さを得ることができる。 上述した考察によって、マーキングする基板を焦点面21に置くことが望まし いということも明らかになる。それは、ここに置くことで、レーザビーム3が最 も鋭くフォーカスされ且つスポット幅W2が最も小さくなるからである。しかし 、ほかの基準を考慮して、ミラー6と基板に関するレンズ4の最適な位置決めを 行うようにしてもよい。 図10を参照すれば、以下の関係が成り立つことが分かる。すなわち、 (8) である。ここで、Nmaxはレーザビームの総数であり、Ψは最も外側のレーザビ ーム23および24間の角度である。 したがって、式(7)および(8)から、ドット幅W2を無視すると、 (9) が成立することが分かる。 そこで、Ψおよびfは、レンズ4とビーム交差点20との間の距離Cとは無関 係であることは明らかであるので、焦点面21におけるキャラクタ高さHも距離 Cとは無関係になる。 相似の三角形を比較することで、 (10) が成立することが分かる。ここで、Lはレンズ4とレーザビームが収束する点2 2との間の距離であり、aは最も外側のレーザビーム23がレンズ4に入射する 位置におけるレンズ4の光学軸からの半径方向の距離であり、Yは、レンズ4の 光学軸に沿って前記点22に向かって進むレンズ4から距離Xの位置における、 レンズ4の光学軸から最も外側のレーザビーム23までの半径方向の距離である 。 薄いレンズに関する式から、 (11) が既知である。ここで、Cは交差点20とレンズ4との間の距離である。 また、角度が小さいときには、 (12) が成り立つことが分かる。 式(10)から、Xに関するYの微分が演算される。その結果を式(11)お よび(12)と組み合わせて、 (13) の式が表され、f=Cのときには、 (14) となる。 この結果から、レンズ4をビーム交差点20より向こうに距離f、すなわちレ ンズの焦点長、の位置に置くと、キャラクタの高さHは焦点面の近くで一定にな ることが分かる。すなわち、焦点面21の内および外における位置に関するキャ ラクタ高さの変化は、距離Cおよびfを互いに一致させることにより、零にする ことができる。 これにより、本装置を使えば曲面や凹凸のある面の上にも、キャラクタ高さを 著しく変化させることなく、マーキングすることができ、特徴ある商用的な利点 を提供できる。 これらの特徴を有した装置の実施例に係るほかの例を図11および12に示す 。この装置は、ビーム拡張器(beam extender)ハウジング30、レンズアセン ブリ31、およびエアノズル・アセンブリ32を備える。レーザビーム3はビー ムシャッター・アセンブリ33を通して与えられ、このレーザ出力はビーム・シ ュラウド34によりシールドされる。このビーム・シュラウドによって、この装 置を用いるオペレータが偶然にレーザ照射に曝されるという事態を防止できる。 また、このビーム・シュラウド34はレーザマーキング領域を囲い、レーザマー キングの工程で発生する破片をポート36を介して真空クリーナ装置(図示せず )によって吸引することができる。 ビーム拡張器ハウジング30をシールすることで、ミラー5,6,7および8 のクリーンな状態が維持され、レーザマーキング工程でレーザにより生じる周囲 の塵芥および破片の影響を受けないことが保証される。クリーンなフィルタリン グされた空気を空気ノズルアセンブリ32を介して循環させ、レーザマーキング 工程で生じる破片や残留物がレンズアセンブリ31内に配置した焦点合わせレン ズ4を汚染することを防止する。レンズ焦点調整ねじ35を使ってレンズアセン ブリ31を調整することで、レンズ4を精細にチューニングすることができる。 さらに図13を参照すると、本発明の実施例はビーム分割デバイス40を内蔵 することができ、このビーム分割デバイスは、レーザビーム3の一組が1以上の 位置でレーザマーキングすることを可能とする。図13に示す多重ライン装置に は2つのレンズアセンブリ31が取り付けられ、第3のレンズアセンブリの位置 にはプラグ41が取り付けられる。このプラグ41をレンズアセンブリ31に取 り換えると、ビーム分割デバイスはレーザビーム3をさらに分割して、3箇所に レーザマーキングすることができる。 動作時には、レーザビーム3がミラーアセンブリ5および6を介して多重ライ ンビーム拡張器ハウジング42に入り、ミラーアセンブリ5および6は前述した ようにビームの全体経路を伸ばす。次に、このビームは回転検流計上に装着され たミラーを備えるビーム分割デバイス40に入射する。このミラーは当然に、例 えば圧電素子または磁石誘導デバイスといった、振動的な回転運動を提供するこ とができる複数のデバイスのいずれかに装着してもよい。 ビーム分割デバイス40は、必要に応じて、別の再方向付けミラー43上にレ ーザビーム3を連続的に再方向付けすることができる。再方向付けミラー43は 、レーザビーム3をレンズアセンブリ31 に収容した焦点合わせレンズ4に向けて方向付けするもので、ミラーアセンブリ 6と焦点合わせレンズ3との間のビーム3の経路の全体長が等しくなるように配 置されている。 このため、複数のレーザビーム3の光学的特性は、それらのビームがどの焦点 合わせレンズを通るかには関係無く同一になり、コンパクトな装置によって上述 した有利な長所を複数の目標上で発揮させることができる。 請求の範囲 1.複数の個別のレーザ(1)を備え、前記レーザ(1)のそれぞれはレーザ ビーム(3)を出射する 出力端(2)を有し、前記レーザ(1)はそれらのレー ザビーム(3)が交差するように 互いに所定角度で取り付けられたレーザ装置で あって、 前記レーザ出力端(2)は互いに近接して配置され、 複数のレーザビーム・リディレクタ(5)が前記レーザ出力端(2)から出射 されたレーザビーム(3)を遮るように配置され、前記レーザビーム・リディレ クタ(5)は前記レーザビームの経路長を伸ばすと共に前記レーザビーム(3) 間の角度を低減するように配置され、前記レーザビーム・リディレクタ(5)は 前記レーザの出力端(2)と前記レーザビーム(3)が交差する交差点(20) との間に配置される ことを特徴とするレーザ装置。 2.前記ビーム経路に前記レーザビーム間の角度を変えるステアリングミラー を付加し、電気的信号によって所要量だけステアリング可能に構成したことを特 徴とする請求項1記載のレーザ装置。 3.前記ビーム経路に1以上の追加のレーザビーム・リディレクタ(6,7, 8)を付加して本装置の1種以上の大きさを変更または減少できるように構成し たことを特徴とする請求項1または2記載のレーザ装置。 4.前記レーザビーム・リディレクタ(6,7,8)はミラーであることを特 徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のレーザ装置。 5.前記レーザビームリディレクタ(6,7,8)は屈折光学プリズムである ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のレーザ装置。 6.前記レーザビーム(3)を複数の目標に向けるためのレーザビーム分割デ バイスを更に備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のレ ーザビーム装置。 7.前記レーザビーム(3)を目標面にフォーカスさせるレンズ(4)を更に 備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ装置。 8.前記レンズ(4)は前記レーザビーム(3)が交差する点(20)とその 交差点(20)から前記レンズ(4)の焦点長である距離fだけ離れた前記ター ゲット表面との間に位置していることを特徴とする請求項7に記載のレーザ装置 。 9.前記レーザビーム・リディレクタ(5)および各レンズ(4)の間で前記 レーザビーム(3)の個々の経路長は等しいことを特徴とする請求項6乃至8の いずれか一項に記載のレーザビーム装置。 【手続補正書】 【提出日】平成11年3月15日(1999.3.15) 【補正内容】 レーザ装置 本発明は、レーザに係り、とくに、マーキングやコーディングの応用分野で使 用するレーザ装置の光学系に関する。 このような応用分野で使用するときに好適なレーザ装置が、米国特許第4,6 18,961号、同第4,891,819号、および同第5,095,490号 で説明されている。さらに、米国特許第4,652,722号では、固定反射手 段、ビーム管、および焦点レンズに関連させた複数のコヒーレントなレーザビー ムを利用したレーザ装置が説明されており、これによりマーキング表示が付与さ れ、または基板表面への永久的な改質がなされる。この米国特許第4,652, 722号のクレーム1で開示されている特徴は、光学経路を短縮できるというこ とであり、その明細書には、反射手段を使って光学経路をどのようにして短縮す るかについて説明されている。 多重レーザチャンネルを利用するコンパクトで且つ商用的に実行可能なレーザ マーキング装置をつくるときの主要な問題の一つは、チャンネルアセンブリの物 理的サイズを小さくし、同時に、所望の光学的マーキング特性を得るために必要 な光学的構成を簡単化できるようにレーザチャンネルを位置決めすることである 。通常、個々のレーザの物理的サイズの制約に因って、光学的間隔と、最適な光 学的性能を得るのに必要なレーザ間の角度関係とを同時には容易に達成し得るも のではない。この問題を解決するために、米国特許第4,652,722号にお いて発明者らが教示している1つの方法は、レーザを平行に近い向きに配置し、 各ビームを光学的に再方向 付け(re-direct)して、光学経路を短縮すると共に個々のレーザビーム間に所 望の角度関係を確立するようにする手法である。 しかしながら、上述した特許明細書では、多重ドットによって適切な小ささの 文字サイズを提供するという課題を扱っていない。 米国特許第5,168,401号およびPCT国際公開第96/04584号 には、レーザダイオードから出射された個々のレーザビームのコリメーションに 関する光学装置が説明されているが、これには本発明に関係する課題が述べられ ていない。欧州特許第538,044号には、米国特許第4,652,722号 および同第5,389,771号が開示しているのと類似したシステム、すなわ ち、点光源から照射されたシングルビームを折り返すための装置と特性の点で類 似したシステムが開示されている。しかし、これらの特許明細書のいずれも、本 発明に特別に関連するものとは認められない。 本発明によれば、レーザ装置は、複数の個別のレーザを備え、これらのレーザ のそれぞれはレーザビームを出射する出力端を有し、かつ、これらのレーザは れらのレーザビームが交差するように 互いに所定角度で取り付けられており、前 記レーザ出力端を互いに近接して配置するとともに、複数のレーザビーム・リデ ィレクタ(redirector)が前記レーザ出力端から出射されたレーザビームを遮る ように配置され、前記レーザビーム・リディレクタは前記レーザビームの経路長 を伸ばし且つ前記レーザビーム間の角度差を低減するように配置され、前記レー ザビーム・リディレクタは前記レーザの出力端と前記レーザビームが交差する交 差点との間に配置され る。 この手段を用いて、提供される光学システムは適切に間隔を空けた複数のマー クを生成して、移動している基板上に文字・数字両用の、グラフィックの、およ び/または機械で読取り可能なマークを 生成することができる。その一方で、典型的には生産ラインなど、比較的小さい スペースに適合する非常にコンパクトなシステムを提供することができる。 このレーザビーム・リディレクタは好適にはミラーまたは屈折光学プリズムで ある。 ステアリング・ミラーを光学経路に付加してレーザビーム間の角度を変えるこ とができ、この角度を電気的信号によって所望量だけステアリング可能である。 レンズを使ってレーザビームをターゲット上にフォーカスさせてもよい。この レンズは好適には、レーザビームが交差する位置と、その交差点からレンズの焦 点長である距離fだけ離れたターゲット面どの間に位置決めされる。 本発明によれば、前記レーザビームを複数のターゲットに方向付けるためのレ ーザビーム分割デバイスを備えていてもよく、この場合、レーザビーム・リディ レクタとレンズそれぞれとの間でのレーザビームの各経路長は、好適には前記タ ーゲットそれぞれに上述した如く与える長さであり、好適な一例として、等しい 長さである。 添付図面を参照して本発明による装置の例を以下に説明し、添付図面において 、 図1は本装置の第1の例を示す平面図であり、 図2は本装置を示す側面立面図であり、 図3は、比較説明のために添付した、本発明に拠るレーザビーム・リディレク タを設けないレーザマーキング・システムを示す図であり、 図4A〜4Fは図1の装置で使用されているミラーの詳細を示す図であり、 図5、6および7は本発明に基づく装置の第2、第3、および第 4の別の例を示す図であり、 図8および9は本発明の基礎を成す原理を説明するためのビーム図であり、 図10はレーザビームをフォーカスさせるレンズ配置を示す図であり、 図11および12は本発明に係るさらに別の実施例を例示する図であり、およ び、 図13はレーザマーキング用の2組以上のレーザビームを用いる本発明の実施 例を例示する図である。 コンパクトなレーザマーキング用またはレーザコーディング用のデバイスを製 造するために、個々の出力端2を互いに隣接させた状態で、個別のレーザ1が図 1および3に示す如く互い違いに重ねた状態で近接して配置されている。図3に 示す如く、これにより生じる各レーザビーム3間の角度は、それらビームが通常 のフォーカス用レンズ4を通過すると、そのレンズ4から適宜な距離f離れた位 置でトータル距離Dにわたって互いに間隔を空けられる。これは、大部分のマー キング用途にとってあまりにも大きい距離である。 この図3を用いた例との比較において、図1および2が示すことは、複数のミ ラーアセンブリ5,6を用いて、レーザビーム3の全体の経路をLからL1に伸 長させ、同時に、個々のレーザビーム3間の角度を減少させる様子であり、これ により、図3に示した装置のトータル分離距離Dよりもかなり小さいトータル分 離距離D1を有するビームの組を生成することができる。第1の再方向付け(re- directing)ミラーアセンブリ5は複数のミラー51を有し、この各ミラーがビ ーム3の組を第2の再方向付けミラーアセンブリ6の各領域に対して再方向付け (re-direct)するための適当に異なる反射角度を有する。このミラーアセンブ リ6は角度45°に設 定した1つのミラー61を有し、このミラー61がビーム3を焦点合わせレンズ 4に向けて再方向付けする。 本構成の幾何学的形状およびレンズ4の焦点距離によって、ターゲット基板上 に生成することができるマークのドット間隔およびドットサイズが決定される( 図8および9に関連して以下に説明される如く)。そして、マーキング用ドット の分離状態は、ドット個々でまたはドットグループのいずれか毎に、焦点合わせ レンズ4の位置におけるレーザビーム3間の角度を変更することより調整するよ うにすればよい。 レーザ1から出射されるレーザビーム3のビーム間の分離角度は、最初、4. 33°であり、図4A〜4Fにさらに詳細に示すミラーアセンブリ5の個別のミ ラー51によって0.2°〜1.0°の間で変更される(図4A〜4Fに示す構 成は0.8度で変更する場合である)。図4A〜4Dは、図的には、図4Eの断 面A−A,B−B,C−CおよびD−Dのそれぞれにおける互いに直交する2つ の別々の断面における、個々のミラー51を形成するミラー表面、それらの間隔 、および相対角度を示す。これらの断面それぞれの位置は図4Eに示してあり、 図4Eおよび4Fはミラーアセンブリ5および6を示す。図4Fは図4Eに対し て90°の位置にある断面図であり、これにより複数のミラー表面51の内の1 つのみが表されている。 図5、6および7は、別の実施例を側面図として示す。図5では、追加の、調 整可能なミラーアセンブリ7および8が採用されており、これにより、ミラーア センブリ5および6によってなされるビーム角度調整に起因するビーム長調整と は別にビーム長調整が可能になっている。図6の実施例は追加のミラーアセンブ リ9を示しており、このアセンブリはビーム3を当該ビームの元の方向の面を横 切って 再方向付けする。また、図7の実施例は、図5及び6に示した例の特徴を組み合 わせたものである。 図4A〜4Cはミラーアセンブリ5および6の詳細を更に説明している。 本発明の概念の基礎を成している理論は以下の通りであり、図8および9に関 して説明する。 図8は、焦点距離fのレンズから距離D1にあり、その焦点合わせレンズから 距離D2にある近接面表面で一連のフォーカスされたレーザスポットを形成する 複数の角度付けしたレーザの幾何学的な構成を表している。図9は、回折効果を 含め、図8に示すレーザのうちの2つの隣接したレーザの光学的な配置構成を示 す。図9では、この隣接したレーザは互いに角度φであり、最も接近した位置に おいて中心間同士で距離Yだけ離れている。内径W1のレーザ開口から出た各レ ーザビームはその出口開口のファーフィールドに角度θで広がり、焦点距離fの レンズによってスポット径W2にフォーカスされ、隣接するレーザスポットの状 態から分離距離Sだけ離れる。 最も低い次数のガウシアン・レーザビームの一般的な光学理論にしたがい、1 次の薄いレンズによる近似法を使うと、次のような演算ができる。 まず、レーザ理論の基礎的事項から、ガウシアン・ビームウエストW1を有し てレーザ開口から出射されるレーザビームが生じる発散は の関係式で与えられる。ここで、λは導波管から出射される光の波長であり、π は3.14159の値に近似される物理定数である。 レンズを通してフォーカスされるガウシアン・レーザビームについては、以下 の関係式が容易に導かれ、それらはかかる主題に基づく標準的な教科書に載って いる。すなわち、 および である。ここで、D2はレンズから最小の焦点スポットサイズW2までの距離(主 焦点距離)である。 最後に、レーザチャンネル間の角度が小さいという基準状態を適用すると、t an(φ)はおよそφに等しくなり、これにより式が簡単なジオメトリによって 表される。すなわち、 となる。 したがって、これらの方程式の組から、焦点スポットサイズW2、所定の焦点 スポットサイズW2に対するスポット分離S、主焦点距離D2、およびジオメトリ のパラメータ(W1,D1,およびφ)および光学的パラメータ(fおよびλ)の 所定の組に対するスポット分離Sを導くことができる。 演算の例: 一例として、以下の値が与えられる。 λ = 10.6×10-4cm(炭酸ガスレーザの波長) f = 5.0cm W1 = 0.40cm D1 = 130cm φ = 0.01ラジアン これらの値から以下の値が導出される。 θ = 0.0337ラジアン (式(1)から) W2 = 0.0116cm (式(2)から) D2 = 5.1cm (式(3)から) S = 0.051cm (式(4)から) 上述した値は、3.0mmを僅かに超える7個のドットによるキャラクタ(文 字)に典型的な値であり、その場合にはキャラクタの高さHは に等しくなる。ここで、Nはレーザチャンネル数であり、Sは最小ドットサイズ (主焦点面であり、必ずしも焦点面ではない)におけるドット間の分離であり 、W2はこの面でフォーカスされたビーム径である。そこで、式(4)を上記関 係式に代入すると、 が得られる。ここで、φは焦点レンズに入るレーザチャンネル間の角度であり、 D2はレンズからレーザビームの主焦点までの距離である。スポットの分離状態 が測定される面から距離fだけ離れたレンズの焦点面では、D2=fと単純化で きるので、上記式は と単純化できる。 この式によって、キャラクタの高さと、レンズの焦点面におけるレーザビーム 角度およびレンズ焦点距離との間の関係が確立される。ミラーシステムはこの隣 接レーザビーム間の角度φを変更して、ビーム経路を商用的に実行可能な長さに 伸ばし、その一方でビーム分離角度を調整して上述した式(3)の所望のキャラ クタ高さを得ることができる。 上述した考察によって、マーキングする基板を焦点面21に置くことが望まし いということも明らかになる。それは、ここに置くことで、レーザビーム3が最 も鋭くフォーカスされ且つスポット幅W2が最も小さくなるからである。しかし 、ほかの基準を考慮して、ミラー6と基板に関するレンズ4の最適な位置決めを 行うようにしてもよい。 図10を参照すれば、以下の関係が成り立つことが分かる。すなわち、 である。ここで、Nmaxはレーザビームの総数であり、Ψは最も外側のレーザビ ーム23および24間の角度である。 したがって、式(7)および(8)から、ドット幅W2を無視すると、 が成立することが分かる。 そこで、Ψおよびfは、レンズ4とビーム交差点20との間の距離Cとは無関 係であることは明らかであるので、焦点面21におけるキャラクタ高さHも距離 Cとは無関係になる。 相似の三角形を比較することで、 が成立することが分かる。ここで、Lはレンズ4とレーザビームが収束する点2 2との間の距離であり、aは最も外側のレーザビーム23がレンズ4に入射する 位置におけるレンズ4の光学軸からの半径方向の距離であり、Yは、レンズ4の 光学軸に沿って前記点22に向かって進むレンズ4から距離Xの位置における、 レンズ4の光学軸から最も外側のレーザビーム23までの半径方向の距離である 。 薄いレンズに関する式から、 が既知である。ここで、Cは交差点20とレンズ4との間の距離である。 また、角度が小さいときには、 が成り立つことが分かる。 式(10)から、Xに関するYの微分が演算される。その結果を式(11)お よび(12)と組み合わせて、 の式が表され、f=Cのときには、 となる。 この結果から、レンズ4をビーム交差点20より向こうに距離f、すなわちレ ンズの焦点長、の位置に置くと、キャラクタの高さHは焦点面の近くで一定にな ることが分かる。すなわち、焦点面21の内および外における位置に関するキャ ラクタ高さの変化は、距離Cおよびfを互いに一致させることにより、零にする ことができる。 これにより、本装置を使えば曲面や凹凸のある面の上にも、キャラクタ高さを 著しく変化させることなく、マーキングすることができ、特徴ある商用的な利点 を提供できる。 これらの特徴を有した装置の実施例に係るほかの例を図11および12に示す 。この装置は、ビーム拡張器(beam extender)ハウジング30、レンズアセン ブリ31、およびエアノズル・アセンブリ32を備える。レーザビーム3はビー ムシャッター・アセンブリ33を通して与えられ、このレーザ出力はビーム・シ ュラウド34によりシールドされる。このビーム・シュラウドによって、この装 置を用いるオペレータが偶然にレーザ照射に曝されるという事態を防止できる。 また、このビーム・シュラウド34はレーザマーキング領域を囲い、レーザマー キングの工程で発生する破片をポート36を介して真空クリーナ装置(図示せず )によって吸引することができる。 ビーム拡張器ハウジング30をシールすることで、ミラー5,6,7および8 のクリーンな状態が維持され、レーザマーキング工程でレーザにより生じる周囲 の塵芥および破片の影響を受けないことが保証される。クリーンなフィルタリン グされた空気を空気ノズルアセンブリ32を介して循環させ、レーザマーキング 工程で生じる破片や残留物がレンズアセンブリ31内に配置した焦点合わせレン ズ4を汚染することを防止する。レンズ焦点調整ねじ35を使ってレンズアセン ブリ31を調整することで、レンズ4を精細にチューニングすることができる。 さらに図13を参照すると、本発明の実施例はビーム分割デバイス40を内蔵 することができ、このビーム分割デバイスは、レーザビーム3の一組が1以上の 位置でレーザマーキングすることを可能とする。図13に示す多重ライン装置に は2つのレンズアセンブリ31が取り付けられ、第3のレンズアセンブリの位置 にはプラグ41が取り付けられる。このプラグ41をレンズアセンブリ31に取 り換えると、ビーム分割デバイスはレーザビーム3をさらに分割して、3箇所に レーザマーキングすることができる。 動作時には、レーザビーム3がミラーアセンブリ5および6を介して多重ライ ンビーム拡張器ハウジング42に入り、ミラーアセンブリ5および6は前述した ようにビームの全体経路を伸ばす。次に、このビームは回転検流計上に装着され たミラーを備えるビーム分割デバイス40に入射する。このミラーは当然に、例 えば圧電素子または磁石誘導デバイスといった、振動的な回転運動を提供するこ とができる複数のデバイスのいずれかに装着してもよい。 ビーム分割デバイス40は、必要に応じて、別の再方向付けミラー43上にレ ーザビーム3を連続的に再方向付けすることができる。再方向付けミラー43は 、レーザビーム3をレンズアセンブリ31 に収容した焦点合わせレンズ4に向けて方向付けするもので、ミラーアセンブリ 6と焦点合わせレンズ3との間のビーム3の経路の全体長が等しくなるように配 置されている。 このため、複数のレーザビーム3の光学的特性は、それらのビームがどの焦点 合わせレンズを通るかには関係無く同一になり、コンパクトな装置によって上述 した有利な長所を複数の目標上で発揮させることができる。 請求の範囲 1.複数の個別のレーザ(1)を備え、前記レーザ(1)のそれぞれはレーザ ビーム(3)を出射する 出力端(2)を有し、前記レーザ(1)はそれらのレー ザビーム(3)が交差するように 互いに所定角度で取り付けられたレーザ装置で あって、 前記レーザ出力端(2)は互いに近接して配置され、 複数のレーザビーム・リディレクタ(5)が前記レーザ出力端(2)から出射 されたレーザビーム(3)を遮るように配置され、前記レーザビーム・リディレ クタ(5)は前記レーザビームの経路長を伸ばすと共に前記レーザビーム(3) 間の角度を低減するように配置され、前記レーザビーム・リディレクタ(5)は 前記レーザの出力端(2)と前記レーザビーム(3)が交差する交差点(20) との間に配置される ことを特徴とするレーザ装置。 2.前記ビーム経路に前記レーザビーム間の角度を変えるステアリングミラー を付加し、電気的信号によって所要量だけステアリング可能に構成したことを特 徴とする請求項1記載のレーザ装置。 3.前記ビーム経路に1以上の追加のレーザビーム・リディレクタ(6,7, 8)を付加して本装置の1種以上の大きさを変更または減少できるように構成し たことを特徴とする請求項1または2記載のレーザ装置。 4.前記レーザビーム・リディレクタ(6,7,8)はミラーであることを特 徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のレーザ装置。 5.前記レーザビームリディレクタ(6,7,8)は屈折光学プリズムである ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のレーザ装置。 6.前記レーザビーム(3)を複数の目標に向けるためのレーザビーム分割デ バイスを更に備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のレ ーザビーム装置。 7.前記レーザビーム(3)を目標面にフォーカスさせるレンズ(4)を更に 備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ装置。 8.前記レンズ(4)は前記レーザビーム(3)が交差する点(20)とその 交差点(20)から前記レンズ(4)の焦点長である距離fだけ離れた前記ター ゲット表面との間に位置していることを特徴とする請求項7に記載のレーザ装置 。 9.前記レーザビーム・リディレクタ(5)および各レンズ(4)の間で前記 レーザビーム(3)の個々の経路長は等しいことを特徴とする請求項6乃至8の いずれか一項に記載のレーザビーム装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.複数の個別のレーザ(1)を備え、前記レーザ(1)のそれぞれは出力端 (2)を有し、前記レーザ(1)は互いに所定角度で取り付けられたレーザ装置 であって、 前記レーザ出力端(2)は互いに近接して配置され、 複数のレーザビーム・リディレクタ(5)が前記レーザ出力端(2)から出射 されたレーザビーム(3)を遮るように配置され、前記レーザビーム・リディレ クタ(5)は前記レーザビームの経路長を伸ばすと共に前記レーザビーム(3) 間の角度を低減するように配置されることを特徴とするレーザ装置。 2.前記ビーム経路に前記レーザビーム間の角度を変えるステアリングミラー を付加し、電気的信号によって所要量だけステアリング可能に構成したことを特 徴とする請求項1記載のレーザ装置。 3.前記ビーム経路に1以上の追加のレーザビーム・リディレクタ(6,7, 8)を付加して本装置の1種以上の大きさを変更または減少できるように構成し たことを特徴とする請求項1または2記載のレーザ装置。 4.前記レーザビーム・リディレクタ(6,7,8)はミラーであることを特 徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のレーザ装置。 5.前記レーザビームリディレクタ(6,7,8)は屈折光学プリズムである ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記 載のレーザ装置。 6.前記レーザビーム(3)を複数の目標に向けるためのレーザビーム分割デ バイスを更に備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のレ ーザビーム装置。 7.前記レーザビーム(3)を目標面にフォーカスさせるレンズ(4)を更に 備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載のレーザ装置。 8.前記ビーム(3)が前記レーザビーム・リディレクタ(5)と前記レンズ (4)の間で交差するように配置され、前記レンズ(4)は前記レーザビーム( 3)が交差する点(20)とその交差点(20)から前記レンズ(4)の焦点長 である距離fだけ離れた前記ターゲット表面との間に位置していることを特徴と する請求項7に記載のレーザ装置。 9.前記レーザビーム・リディレクタ(5)および各レンズ(4)の間で前記 レーザビーム(3)の個々の経路長は等しいことを特徴とする請求項6乃至8の いずれか一項に記載のレーザビーム装置。
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