JP2001353654A - Workpiece polishing device - Google Patents

Workpiece polishing device

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JP2001353654A
JP2001353654A JP2001012269A JP2001012269A JP2001353654A JP 2001353654 A JP2001353654 A JP 2001353654A JP 2001012269 A JP2001012269 A JP 2001012269A JP 2001012269 A JP2001012269 A JP 2001012269A JP 2001353654 A JP2001353654 A JP 2001353654A
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polishing
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tank
rotating shaft
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MUUTECH KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a workpiece polishing device capable of polishing a workpiece uniformly along the whole surface even when it is large or when it has a relatively complicated form without large-sizing a structure or requiring large power. SOLUTION: This workpiece polishing device 1 comprises an oscillation mechanism 10 comprising a rotary shaft 6 on which a workpiece is installed at one end, a rotation means 7 to rotate the rotary shaft 6 around its axial center, a moving means 8 to move the rotary shaft 6, and an oscillation means 9 to oscillate the rotary shaft 6 so that it is movable along an arc-shaped track on one end side, a tank 3, and a control part to control an oscillation mechanism. The workpiece is inserted into polishing medium in the tank 3, it is rotated around the axial center to be movable along an arc-shaped track till it is inclined to a horizontal surface by this movement, and it is moved along a straight track while keeping this inclination, so it is controlled to be polished. Moving passages of the workpiece in the polishing medium can be controlled by the control part as desired.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば車のアルミ
ホイール、マフラーのような金属製のワークを、研磨粒
子を使用して研磨するワークの研磨装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a work polishing apparatus for polishing a metal work such as an aluminum wheel or a muffler of a car using abrasive particles.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種のワークの研磨装置としては、タ
ンクに収容された研磨粒子及び液体からなる研磨媒体中
に、回転手段により回転される回転軸の先端に固定され
たワークを挿入し、タンクを回転させることにより前記
研磨媒体を流動させて、ワークと研磨粒子との摩擦によ
りワークを研磨するものが知られている。このような装
置では、タンクを回転させなければならないため装置自
体が大型化し、かつ大きな動力が必要であったため、研
磨媒体の活発な流動が必要な大きなワークには向いてい
なかった。この問題を解決するためのタンクを回転させ
ずワーク自体を動かす技術が、特開平11―21666
0で開示されている。この公報で開示された装置は、先
端に装着されたワークをタンクに収容された研磨媒体中
に挿入するための回転シャフトと、この回転シャフト
を、これの軸心を中心として回転される回転駆動部と、
回転シャフトをこれの軸心を含む面に沿って円振動又は
前後、左右に振動される振動手段とにより構成されてい
る。この装置では、タンクを回転させる代わりに、ワー
クを回転シャフトを介して研磨粒子内で振動させること
により、ワークの研磨を行うようにしている。このよう
な装置は、タンクを回転させるのと比較して、構成が小
型になり、かつ電力も小さくて済む効果を有する。
2. Description of the Related Art As a work polishing apparatus of this type, a work fixed at the tip of a rotating shaft rotated by a rotating means is inserted into a polishing medium containing abrasive particles and a liquid contained in a tank. It is known that the polishing medium is caused to flow by rotating a tank, and the workpiece is polished by friction between the workpiece and abrasive particles. In such an apparatus, since the tank itself must be rotated, the apparatus itself becomes large, and a large power is required. Therefore, the apparatus is not suitable for a large work that requires an active flow of the polishing medium. A technique for solving this problem and moving the work itself without rotating the tank is disclosed in JP-A-11-21666.
0. The apparatus disclosed in this publication includes a rotating shaft for inserting a workpiece mounted on the tip into a polishing medium contained in a tank, and a rotary drive for rotating the rotating shaft about its axis. Department and
The rotating shaft is constituted by a vibrating means that vibrates in a circular vibration or in a front-back, left-right direction along a plane including the axis of the rotating shaft. In this apparatus, instead of rotating the tank, the work is polished by vibrating the work in the abrasive particles via a rotating shaft. Such an apparatus has an effect that the configuration is small and the electric power is small as compared with rotating the tank.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の技術では、例えば、タイヤのホイールのように、外
面ばかりか内周面も研磨しなければならないような、ワ
ークの場合には、内周面に対して研磨粒子が、均一な分
布で、接触並びに流動することができない。このため、
この技術では、ワークの外面と内面との間で研磨に相違
が生じ、また、内面では研磨が不均一になる問題があっ
た。このような問題は、外面でも、例えば、凹所が形成
されているようなワークの場合、この凹所の内面は、外
面に対して研磨の相違や不均一が生じる。このため、こ
の従来の技術は、大きいワークや、比較的形状の複雑な
ワークの研磨には適さなかった。
However, according to this conventional technique, in the case of a work in which not only the outer surface but also the inner peripheral surface must be polished, such as a wheel of a tire, the inner peripheral surface is not used. In contrast, the abrasive particles cannot contact and flow with a uniform distribution. For this reason,
In this technique, there is a difference in polishing between the outer surface and the inner surface of the work, and there is a problem that the polishing is uneven on the inner surface. Such a problem is caused, for example, in the case of a work in which a recess is formed on the outer surface, the inner surface of the recess has a difference in polishing and unevenness with respect to the outer surface. Therefore, this conventional technique is not suitable for polishing a large work or a work having a relatively complicated shape.

【0004】従って、本発明の目的は、構造が大型には
ならず、かつ大きい電力を必要としないで、大きいワー
クや、比較的形状の複雑なワークで有っても、表面全体
に渡って均一に研磨することの可能な、ワークの研磨装
置を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a large-sized work or a work having a relatively complicated shape over the entire surface without increasing the size of the structure and requiring large power. An object of the present invention is to provide a workpiece polishing apparatus capable of performing uniform polishing.

【0005】また、本発明の他の目的は、研磨媒体中の
ワークの移動経路を、任意に制御し得るワークの研磨装
置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a workpiece polishing apparatus capable of arbitrarily controlling a movement path of a workpiece in a polishing medium.

【0006】また、本発明の他の目的は、ワークの形状
に対応して、表面全体に渡って均一に研磨し得るワーク
の研磨装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide an apparatus for polishing a work which can be uniformly polished over the entire surface according to the shape of the work.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し目的を
達成するために、本発明のワークの研磨装置は、下記の
如く構成されている。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems and achieve the object, a workpiece polishing apparatus of the present invention is configured as follows.

【0008】本発明のワークの研磨装置は、中に多数の
研磨粒子と液体とからなる研磨媒体が収容されるタンク
と、一端側にワークが取り付けられる回転軸と、この回
転軸を、この回転軸の軸心を中心として回転させる回転
手段と、前記回転軸を前記軸心に沿って移動させる移動
手段と、前記回転軸を、これの一端側が円弧軌道に沿っ
て移動可能なように揺動させる揺動手段と、前記ワーク
が、前記研磨媒体中で、前記軸心を中心として回転され
ながら、円弧軌道に沿って移動され、この移動により水
平面に対して傾斜した状態にされ、この傾斜を保持した
まま直線軌道で移動され、これら移動が繰り返されて、
前記研磨媒体により研磨されるように、前記回転手段、
前記移動手段、及び前記揺動手段により、前記回転軸を
駆動し、制御させる制御手段とを具備している。
The work polishing apparatus of the present invention comprises a tank in which a polishing medium composed of a large number of abrasive particles and a liquid is accommodated, a rotating shaft on one end of which a work is mounted, and a rotating shaft for rotating the rotating shaft. Rotating means for rotating about the axis of the shaft, moving means for moving the rotating shaft along the axis, and swinging the rotating shaft such that one end of the rotating shaft can move along an arc orbit. The swinging means and the work are moved along an arc trajectory in the polishing medium while being rotated about the axis, and the movement is made to be inclined with respect to a horizontal plane. It is moved in a linear orbit while holding it, these movements are repeated,
The rotating means so as to be polished by the polishing medium,
And a control unit for driving and controlling the rotating shaft by the moving unit and the swinging unit.

【0009】この構成により、このワークの研磨装置
は、このワーク自身の移動による研磨により、構造が大
型にはならず、かつ大きい電力を必要としないで、大き
いワークや、比較的形状の複雑なワークで有っても、表
面全体に渡って均一に研磨し得る。
[0009] With this configuration, the work polishing apparatus does not increase the size of the structure and does not require a large amount of power due to polishing by moving the work itself. Even if it is a work, it can be polished uniformly over the entire surface.

【0010】また、本発明のワークの研磨装置は、前記
回転軸、前記回転手段、前記移動手段、及び前記揺動手
段を前記軸線と交差する方向に移動させる揺動機構移動
手段をさらに具備し、前記制御部は、前記揺動機構移動
手段の駆動を制御することが出来る。
[0010] The apparatus for polishing a workpiece of the present invention further includes a swing mechanism moving means for moving the rotating shaft, the rotating means, the moving means, and the swing means in a direction intersecting the axis. The control section can control the driving of the swing mechanism moving means.

【0011】この構成により、研磨媒体中のワークの移
動の自由度が増える。従って、ワークが活発に移動する
とともに、研磨媒体も活発に流動し得る。このため、こ
のワークの研磨装置は、比較的形状の複雑なワークで有
っても、表面全体に渡って均一に研磨し得るとともに、
研磨媒体中のワークの移動経路を、さらに任意に設定し
得る。
With this configuration, the degree of freedom of movement of the work in the polishing medium increases. Therefore, while the workpiece moves actively, the polishing medium can also flow actively. For this reason, this work polishing apparatus can polish uniformly over the entire surface even if the work is relatively complicated in shape,
The movement path of the work in the polishing medium can be further arbitrarily set.

【0012】本発明のワークの研磨装置は、一端側にワ
ークが取り付けられる回転軸と、この回転軸を、この回
転軸の軸心を中心として回転させる回転手段と、前記回
転軸を、前記軸心に沿った方向、及び/又は、前記軸心
に直交する方向に移動させる移動手段と、前記回転軸
を、これの一端側が円弧軌道に沿って移動可能なように
揺動させる揺動手段と、を有する揺動機構を具備してい
るとともに、前記揺動機構の駆動を制御する制御部と中
に多数の研磨粒子を有する研磨媒体が収容されるタンク
と、を具備しており、前記制御部は、前記ワークが前記
軸心を中心として回転される動作と、前記ワークが前記
軸心に沿った方向に移動される動作と、前記ワークが前
記軸心と交差する方向に移動される動作と、前記ワーク
が揺動手段による前記円弧軌道に沿って移動される動作
とを有する動作グループから1つ又は複数の動作を選定
し、選定された単一の動作、又は選定された動作の組み
合わされた動作を、前記研磨媒体中で前記ワークが行い
前記研磨媒体により研磨されるように、前記揺動機構の
駆動を制御することを特徴とする。
A workpiece polishing apparatus according to the present invention is characterized in that a rotating shaft to which the workpiece is attached at one end side, a rotating means for rotating the rotating shaft about the axis of the rotating shaft, and the rotating shaft, Moving means for moving in a direction along the center and / or in a direction perpendicular to the axis, and rocking means for rocking the rotating shaft such that one end of the rotating shaft is movable along an arc-shaped orbit; And a control unit for controlling the driving of the oscillating mechanism, and a tank in which a polishing medium having a large number of abrasive particles is accommodated, and The part includes an operation of rotating the work about the axis, an operation of moving the work in a direction along the axis, and an operation of moving the work in a direction intersecting the axis. And the workpiece is moved forward by the swinging means. Selecting one or more actions from a group of actions having an action to be moved along an arc trajectory, and selecting the selected single action or a combination of the selected actions in the polishing media. The driving of the swing mechanism is controlled so that the work is performed and polished by the polishing medium.

【0013】この構成により、このワークの研磨装置
は、このワーク自身の移動による研磨により、構造が大
型にはならず、かつ大きい電力を必要としないで、大き
いワークや、比較的形状の複雑なワークで有っても、表
面全体に渡って均一に研磨し得る。また、このワークの
研磨装置は、揺動機構の駆動によるワークの動作が、前
記動作グループ中から任意に選定し得るため、研磨媒体
中のワークの移動経路を、制御部の制御により任意に制
御し得る。
[0013] With this configuration, the work polishing apparatus does not increase the size of the structure and does not require a large amount of power due to polishing by moving the work itself. Even if it is a work, it can be polished uniformly over the entire surface. Further, in this work polishing apparatus, the operation of the work by driving the swinging mechanism can be arbitrarily selected from the operation groups, so that the movement path of the work in the polishing medium is arbitrarily controlled by the control of the control unit. I can do it.

【0014】また、前記制御部は、前記動作グループの
動作を組み合わせることで、前記ワークが前記回転軸の
軸心の沿って回転される動作と、前記ワークが円弧軌道
に沿って移動され、水平面に対して傾斜した状態にされ
る動作と、前記ワークがこの傾斜を保持したまま直線軌
道で移動される動作と、を前記ワークが行うように前記
揺動機構を制御し得る。
The control unit may combine the operations of the operation groups to perform an operation of rotating the work along the axis of the rotating shaft, and to move the work along an arc trajectory, The swing mechanism can be controlled so that the work performs an operation of making the work inclined with respect to, and an operation of moving the work on a linear trajectory while maintaining the inclination.

【0015】この構成により、このワークの研磨装置
は、ワーク表面全体に渡って均等に研磨媒体に接触させ
ることが出来、比較的形状の複雑なワークで有っても、
表面全体に渡って均一に研磨し得る。
With this configuration, the work polishing apparatus can uniformly contact the polishing medium over the entire surface of the work, and even if the work has a relatively complicated shape,
Polishing can be uniform over the entire surface.

【0016】また、前記揺動機構を前記軸線と交差する
方向に移動させる揺動機構移動手段をさらに具備し、前
記制御部は、前記揺動機構移動手段の駆動を制御するこ
とが出来る。
Further, the apparatus further comprises a swing mechanism moving means for moving the swing mechanism in a direction intersecting the axis, and the control unit can control the driving of the swing mechanism moving means.

【0017】この構成により、制御部が揺動機構移動手
段の駆動を制御するため前記動作グループに新たなる動
作が追加されるので、ワークの移動の自由度が増える。
従って、ワークが活発に移動するとともに、研磨媒体も
活発に流動し得る。このため、このワークの研磨装置
は、比較的形状の複雑なワークで有っても、表面全体に
渡って均一に研磨し得るとともに、研磨媒体中のワーク
の移動経路を、さらに任意に制御し得る。
According to this configuration, a new operation is added to the operation group because the control unit controls the driving of the swinging mechanism moving means, so that the degree of freedom in moving the work is increased.
Therefore, while the workpiece moves actively, the polishing medium can also flow actively. For this reason, this work polishing apparatus can uniformly polish the entire surface even if the work has a relatively complicated shape, and further arbitrarily controls the movement path of the work in the polishing medium. obtain.

【0018】また、前記制御部は、ワークの長手方向の
寸法が、長手方向と直交する方向の寸法より大きい場
合、前記揺動機構移動手段を駆動させるように制御する
ことが出来る。
[0018] Further, the control unit can control the swing mechanism moving means to be driven when the dimension of the work in the longitudinal direction is larger than the dimension in the direction orthogonal to the longitudinal direction.

【0019】この構成により、制御部は、研磨対象であ
るワークの形状に合わせて、揺動機構及び揺動機構移動
手段を制御するため、研磨媒体中のワークの移動経路
を、より任意に制御し得る。
With this configuration, the control unit controls the swing mechanism and the swing mechanism moving means in accordance with the shape of the work to be polished, and thus more arbitrarily controls the movement path of the work in the polishing medium. I can do it.

【0020】また、前記タンクは、前記タンクを振動可
能に支持する複数の弾性部材と、前記タンクを振動させ
る加振手段とを有し得る。
Further, the tank may have a plurality of elastic members for supporting the tank so as to vibrate, and vibrating means for vibrating the tank.

【0021】この構成により、このワークの研磨装置
は、タンク中の研磨媒体を活発に流動させ、短時間に、
そして均一にワークを研磨することを可能にする。
With this configuration, the polishing apparatus for a work allows the polishing medium in the tank to actively flow, and
And it becomes possible to polish a work uniformly.

【0022】また、前記タンクは、前記底部が湾曲して
構成され得る。
Further, the tank may be configured such that the bottom is curved.

【0023】この構成により、タンク中の研磨媒体をよ
り活発に流動させることが出来、短時間に、そして均一
にワークを研磨することを可能にする。
With this configuration, the polishing medium in the tank can flow more actively, and the work can be uniformly polished in a short time.

【0024】また、前記タンクは、このタンク中の研磨
粒子を通過させることなく、前記研磨媒体とワークとの
研磨かすを通過させる複数の孔を備えた内タンクと、こ
の内タンクを中に収容し、前記複数の孔を通過した前記
研磨かすを排出する排出口を底部に備える外タンクとを
有し得る。
Further, the tank has an inner tank provided with a plurality of holes through which polishing chips between the polishing medium and the work pass without passing abrasive particles in the tank, and the inner tank is accommodated therein. And an outer tank provided at the bottom with a discharge port for discharging the polishing residue that has passed through the plurality of holes.

【0025】この構成により、このワークの研磨装置
は、ワーク研磨の終了後のタンク中の研磨媒体から、研
磨かすと研磨粒子とを分離し、この研磨かすを排出口へ
と排出することが出来、前記タンク中の研磨粒子を前記
研磨かすから効果的に分離させることが出来る。
With this configuration, the work polishing apparatus can separate the polishing debris and the abrasive particles from the polishing medium in the tank after the completion of the work polishing, and discharge the polishing debris to the discharge port. The abrasive particles in the tank can be effectively separated from the polishing residue.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施の形態
に係るワークの研磨装置を説明する。まず、本実施の形
態に従ったワークの研磨装置1の構成を、図1乃至図4
を参照して説明する。図1は、ワークの研磨装置1の概
略的な一部切欠側面図、図2(a)は、図1のワークの
研磨装置の回転軸6の枢支部を拡大した断面図、図2
(b)、図3(a)、及び図3(b)は、回転軸6の変
形例を示す側面図である。図4は、図1のワークの研磨
装置1の部分的な分解斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A work polishing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described below. First, the configuration of a workpiece polishing apparatus 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic partially cutaway side view of a work polishing apparatus 1, and FIG. 2A is an enlarged cross-sectional view of a pivot portion of a rotating shaft 6 of the work polishing apparatus of FIG. 1.
FIGS. 3B, 3A, and 3B are side views showing modified examples of the rotating shaft 6. FIG. 4 is a partially exploded perspective view of the workpiece polishing apparatus 1 of FIG.

【0027】このワークの研磨装置1は、中に多数の研
磨粒子21と液体とを有する研磨媒体2が収容されるタ
ンク3を具備している。さらにこのワークの研磨装置1
は、ワーク4を取り付けるワーク取り付け部5を一端に
有している回転軸6と、この回転軸6をこの軸心を中心
として回転(自転)させる回転手段7と、前記回転軸6
を前記軸心に沿って移動させる移動手段8と、前記回転
軸6をこの回転軸6の一端側が円弧軌道に沿って移動可
能なように揺動させる揺動手段9とを有する揺動機構1
0を具備している。さらに、このワークの研磨装置1
は、揺動機構10の駆動を制御する制御部(図示せず)
を具備している。
The work polishing apparatus 1 includes a tank 3 in which a polishing medium 2 having a large number of polishing particles 21 and a liquid is stored. Further, a polishing apparatus 1 for this work
A rotating shaft 6 having a work mounting portion 5 for attaching the work 4 at one end, a rotating means 7 for rotating (rotating) the rotating shaft 6 about this axis, and the rotating shaft 6
Swinging mechanism 1 having a moving means 8 for moving the rotating shaft 6 along the axis, and a swinging means 9 for swinging the rotating shaft 6 so that one end of the rotating shaft 6 can move along the circular orbit.
0 is provided. In addition, this work polishing apparatus 1
A control unit (not shown) for controlling the driving of the swing mechanism 10
Is provided.

【0028】また、このワークの研磨装置1は、回転軸
6に取り付けられたワーク4をタンク3に対して出し入
れをするように、揺動機構10を移動させる入出機構1
1をさらに有している。
The work polishing apparatus 1 moves the swinging mechanism 10 so that the work 4 attached to the rotating shaft 6 can be moved in and out of the tank 3.
1 is further provided.

【0029】前記タンク3は、上面が同一平面で夫々開
口を有した内タンク31並びに外タンク32と、この開
口付近に設けられ、タンク3中に液体(水)を供給する
給水口36とを有している。この内タンク31中には、
前記多数の研磨粒子21と、前記給水口36から供給さ
れる水とが収容され、この中で研磨媒体2が構成されて
いる。前記水は、界面活性剤を含んでいることが好まし
いが、この水が含んでいる成分において限定されること
はない。
The tank 3 has an inner tank 31 and an outer tank 32 having the same upper surface and an opening, respectively, and a water supply port 36 provided near the opening to supply liquid (water) into the tank 3. Have. In this inner tank 31,
The large number of abrasive particles 21 and the water supplied from the water supply port 36 are accommodated therein, and the polishing medium 2 is formed therein. The water preferably contains a surfactant, but is not limited to the components contained in the water.

【0030】前記内タンク31は、中の水と、研磨によ
り生じるワーク4並びに研磨粒子21の摩耗粉と、によ
る研磨かす、即ち汚泥、を通過させ得る複数の孔33を
底部に有している。各々の孔33は、前記研磨粒子21
が通り抜けない程度の大きさで形成されている。例え
ば、底面の直径が約7mmの円錐形の研磨媒体を用いた
場合、直径約5mmの円形の孔である。しかし、上記の
各孔33の寸法は、一例であり限定されることはない。
また、これらの孔33は、底部に均等な間隔で配置され
ていることが好ましいが、この配置に限定されることは
ない。また、これらの孔33は、前記内タンク31の底
部以外の他の部分、又は全面にわたってあけられていて
もよい。本実施の形態において、前記内タンク31の底
面は湾曲して形成されているが、この形状に限定される
ことはない。
The inner tank 31 has a plurality of holes 33 at a bottom portion thereof through which polishing residue, that is, sludge, by water contained therein and abrasion powder of the work 4 and the abrasive particles 21 generated by the polishing can be passed. . Each hole 33 is provided with the abrasive particles 21.
Are formed so as not to pass through. For example, when a conical polishing medium having a bottom surface diameter of about 7 mm is used, the hole is a circular hole having a diameter of about 5 mm. However, the size of each hole 33 is an example and is not limited.
Further, these holes 33 are preferably arranged at equal intervals on the bottom, but are not limited to this arrangement. In addition, these holes 33 may be formed in a portion other than the bottom of the inner tank 31 or over the entire surface. In the present embodiment, the bottom surface of the inner tank 31 is curved, but is not limited to this shape.

【0031】前記外タンク32は、前記内タンク31を
底面から所定の間隔で離間させて、中に収容している。
この外タンク32の底部には、内タンク31を通過した
液体及び研磨かすを排出する排出口34が設けられてお
り、このために底面は、排出口34への前記液体及び研
磨かすの流れをよくするべく、この排出口34に向けて
傾斜している。また、この外タンク32の底部は、排出
口34と反対側、即ち傾斜面の上部には、液体及び摩耗
粉を洗い流すシャワー35を有している。
The outer tank 32 houses the inner tank 31 at a predetermined interval from the bottom surface.
At the bottom of the outer tank 32, there is provided a discharge port 34 for discharging the liquid and the polishing debris that have passed through the inner tank 31. For this purpose, the bottom surface is configured to prevent the flow of the liquid and the polishing debris to the discharge port 34. It is inclined toward the outlet 34 for better quality. The bottom of the outer tank 32 has a shower 35 for washing away liquid and abrasion powder on the side opposite to the discharge port 34, that is, on the upper part of the inclined surface.

【0032】以下に図4を参照して、揺動機構10を説
明する。まず、図2(a)、(b)を参照して揺動機構
10の回転軸6を説明する。
The swing mechanism 10 will be described below with reference to FIG. First, the rotation shaft 6 of the swing mechanism 10 will be described with reference to FIGS.

【0033】揺動機構10の回転軸6は、垂直方向に延
びる回転軸本体61と、この回転軸本体61の一端に設
けられた枢支部61a(図2(a))に枢支され、ワー
ク4を取り付けるワーク取り付け部5と、このワーク取
り付け部5を、前記軸心に対して90度回動されたワー
ク取り付け位置及び前記軸心に沿って配置されたワーク
研磨位置に選択的に固定する固定手段63と、前記回転
軸本体61の他端に固定され、回転手段7から動力を伝
達される歯車62と、を有している。
The rotating shaft 6 of the swinging mechanism 10 is pivotally supported by a rotating shaft main body 61 extending in the vertical direction and a pivot 61a (FIG. 2A) provided at one end of the rotating shaft main body 61. And a work mounting portion 5 for mounting the work 4 and selectively fixing the work mounting portion 5 to a work mounting position rotated by 90 degrees with respect to the axis and a work polishing position arranged along the axis. It has a fixing means 63 and a gear 62 fixed to the other end of the rotating shaft main body 61 and to which power is transmitted from the rotating means 7.

【0034】ワーク取り付け部5には、下部にワーク4
が、ボルト止めなどによる公知の固定手段により取り付
けられる。図2(a)に示すように、このワーク取り付
け部5は、この回転軸本体61の一端のヒンジ状の枢支
部(枢支ピン)61aにより、紙面に沿った面内で前記
軸心に対して少なくとも90度回動し得るように、回転
軸本体61に枢支されている。また、この取り付け部5
と回転軸本体61との枢支部61aには、この回転軸本
体61に沿って摺動可能な固定手段(ロック筒)63が
設けられている。このロック筒63は、図2(a)に示
す下方位置で回転軸本体61に対してクリック留めされ
得ると共に、ワーク取り付け部5からはずれるように、
矢印で示すように上方に移動され得る。図2(a)に示
すように、ロック筒63が下方位置に移動されたときに
は、取り付け部5が(かくして、これに装着されたワー
クが)回転軸本体61の軸心に沿った状態(ワーク研磨
位置)に維持される。一方ロック筒63を上方に移動さ
せた状態で、ワーク取り付け部5を前記回転軸本体61
に対して所定角度、例えば、90度、回動させてから、
ロック筒63を下方に移動させて、これの下端を取り付
け部5の枢支されている側の端部に当接させることによ
り、取り付け部材5は、この位置(ワーク取り付け位
置)に維持される。このワーク取り付け位置では、取り
付け部材が略水平に伸びているので、ワークの装着操作
(及び取り外し操作)を容易に行うことが出来る。前記
ワーク取り付け部5の回転軸本体61への枢支並びに固
定は、枢支ピン61a及びロック筒63によりなされて
いるが、他の公知の枢支手段及び固定手段を用いること
も可能であり、限定されることはない。
The work mounting part 5 has a work 4
Are attached by known fixing means such as bolting. As shown in FIG. 2 (a), the work mounting portion 5 is moved by a hinge-shaped pivot portion (pivot pin) 61a at one end of the rotating shaft main body 61 with respect to the axis in a plane along the paper surface. The pivot shaft 61 is pivotally supported so that it can rotate at least 90 degrees. In addition, this mounting portion 5
A fixing means (lock cylinder) 63 slidable along the rotary shaft main body 61 is provided in a pivotal support portion 61 a between the rotary shaft main body 61 and the rotary shaft main body 61. The lock cylinder 63 can be clicked on the rotating shaft main body 61 at the lower position shown in FIG.
It can be moved upward as indicated by the arrow. As shown in FIG. 2A, when the lock cylinder 63 is moved to the lower position, the mounting portion 5 (and thus the work attached thereto) is aligned with the axis of the rotary shaft main body 61 (workpiece). (Polishing position). On the other hand, with the lock cylinder 63 moved upward, the work mounting part 5 is
After a predetermined angle, for example, 90 degrees,
By moving the lock cylinder 63 downward and bringing the lower end of the lock cylinder 63 into contact with the end of the mounting portion 5 on the pivotally supported side, the mounting member 5 is maintained at this position (work mounting position). . At this work mounting position, the mounting member extends substantially horizontally, so that the work mounting operation (and the removing operation) can be easily performed. The pivoting and fixing of the work mounting portion 5 to the rotating shaft main body 61 is performed by a pivoting pin 61a and a lock cylinder 63, but other known pivoting means and fixing means may be used. It is not limited.

【0035】また、本実施の形態においては、回転軸6
は、枢支部61a及び固定手段63が1つのみで構成さ
れているが、これらを複数個設けて回転軸を多関節にす
ることも可能である。例えば図2(b)に示すように、
回転軸6は、垂直に延びる回転軸本体61と、この回転
軸本体の下端部に前述と同様な手段で枢支部61aに枢
支され、ロック筒63により回転軸本体61に対して9
0度回動させられた状態で固定されている回転軸本体6
1’と、この回転軸本体61’の前記枢支部61aの反
対側の端部で前述と同様な手段で枢支部61aに枢支さ
れ、ロック筒63により垂直に固定されているワーク取
り付け部5とを有している。上記の構成により、ワーク
4のワーク取り付け部5への取り付けの際、このワーク
取り付け部5がワーク4を下から支持するため、ワーク
4が重い場合であっても、容易にワークの取り付け作業
を行うことができる。
In the present embodiment, the rotation shaft 6
Has only one pivotal support 61a and one fixing means 63, but it is also possible to provide a plurality of these and make the rotation axis multi-joint. For example, as shown in FIG.
The rotating shaft 6 is vertically supported by a rotating shaft main body 61, and at a lower end portion of the rotating shaft main body by a pivot support 61 a by the same means as described above.
Rotating shaft main body 6 fixed in a state of being rotated 0 degrees
1 'and a work mounting portion 5 which is pivotally supported by the pivot portion 61a at the end opposite to the pivot portion 61a of the rotating shaft main body 61' by the same means as described above, and which is vertically fixed by the lock cylinder 63. And With the above configuration, when the work 4 is mounted on the work mounting part 5, the work mounting part 5 supports the work 4 from below, so that even when the work 4 is heavy, the work mounting work can be easily performed. It can be carried out.

【0036】次に揺動機構10の回転手段7について説
明する。
Next, the rotating means 7 of the swing mechanism 10 will be described.

【0037】本実施の形態において、回転手段7は、回
転軸6に回転力を与えるモーター71と、このモーター
の回転軸72の自由端部に取着され、かくしてこの回転
軸6の歯車62に回転力を伝達するように接続された歯
車73とを有する。かくしてこの回転手段7は、歯車7
3により歯車62に回転力を伝達し、自身の軸心を中心
としてこの回転軸6を回転させる。この実施の形態にお
いて、これら歯車62,73は、モーター71の回転を
回転軸6に伝達し得るならば、ベルトによる力の伝達な
どのような公知である他の力伝達手段で構成されていて
もかまわないし、歯車62,73を無くし、回転軸6,
72が一体的に形成されていてもかまわない。しかし、
装置のメンテナンスを容易にするために、回転軸6,7
2は別体とすることが好ましい。
In this embodiment, the rotating means 7 comprises a motor 71 for applying a rotating force to the rotating shaft 6 and a free end of a rotating shaft 72 of the motor, and thus a gear 62 of the rotating shaft 6. And a gear 73 connected to transmit the rotational force. Thus, the rotating means 7 includes the gear 7
The rotation force is transmitted to the gear 62 by 3 and the rotation shaft 6 is rotated about its own axis. In this embodiment, these gears 62 and 73 are constituted by other known force transmission means such as transmission of force by a belt, if the rotation of the motor 71 can be transmitted to the rotating shaft 6. It does not matter, the gears 62 and 73 are eliminated,
72 may be formed integrally. But,
To facilitate the maintenance of the device,
Preferably, 2 is separate.

【0038】また、本実施の形態において回転軸6は、
1つのみであるが、図3(a)に示すように回転軸6は、
前記回転手段7の歯車73に複数(この場合は2つ)の
歯車73’を介して複数の歯車62で接続されるように
複数設けられることも出来るし、また、図3(b)に示
すようにワーク取り付け部5に取り付けられたワーク4
の下方にさらにワーク取り付け部5’を接続し、このワ
ーク取り付け部5’にワーク4’を取り付けるように、
回転軸6の垂直方向に2つワーク取り付け部を有するこ
ともできる。これらのように、前記回転軸6は、数、形
状、取り付けられるワークの数においても限定されるこ
とはない。
In this embodiment, the rotating shaft 6 is
Although there is only one, as shown in FIG.
A plurality of gears 73 can be provided so as to be connected to the gear 73 of the rotating means 7 via a plurality of (two in this case) gears 73 ′ and a plurality of gears 62, or as shown in FIG. Work 4 attached to the work mounting part 5
A work attachment portion 5 'is further connected to the lower part of the work, and a work 4' is attached to the work attachment portion 5 '.
It is also possible to have two work mounting portions in the vertical direction of the rotating shaft 6. As described above, the rotating shaft 6 is not limited in number, shape, or number of works to be attached.

【0039】以下で図4を参照して、揺動機構10の移
動手段8及び揺動手段9を説明する。まず、揺動機構1
0の前記移動手段8は、前記回転軸6を回転可能に支持
すると共に回転手段7のモーター71を支持している回
転手段支持台81と、下端がこの回転手段支持台81に
固定されており、上端が移動シリンダー83のピストン
ロッド83aの先端に固定されている略L字形状の移動
シリンダー接続部82と、この移動シリンダー接続部8
2を介して回転手段支持台81を移動させる移動シリン
ダー83と、前記回転手段支持台81を案内する案内部
84とを具備している。
The moving means 8 and the oscillating means 9 of the oscillating mechanism 10 will be described below with reference to FIG. First, the swing mechanism 1
The rotation means 8 is a rotation means support base 81 rotatably supporting the rotating shaft 6 and also supporting a motor 71 of the rotation means 7, and a lower end is fixed to the rotation means support base 81. A substantially L-shaped moving cylinder connecting portion 82 having an upper end fixed to the tip of the piston rod 83a of the moving cylinder 83;
2 comprises a moving cylinder 83 for moving the rotating means support base 81 through the support member 2 and a guide portion 84 for guiding the rotating means support base 81.

【0040】前記回転手段支持台81は、垂直方向に延
びた基部81aと、この基部81aの一方の面(表面)
に対して垂直方向に延出しているモーター支持片81b
と、このモーター支持片81bと平行に前記基部81a
から延出している回転軸支持片81cとを有している。
このモーター支持片81b及び回転軸支持片81cに
は、各々孔81d、81eが形成されている。
The rotating means support base 81 has a base 81a extending in the vertical direction, and one surface (front surface) of the base 81a.
Motor support piece 81b extending in the vertical direction with respect to
And the base 81a in parallel with the motor support piece 81b.
And a rotation shaft support piece 81c extending from the rotation shaft support piece 81c.
Holes 81d and 81e are formed in the motor support piece 81b and the rotating shaft support piece 81c, respectively.

【0041】モーター支持片81bには、回転手段7の
モーター71が上に固定され、このモーター71の回転
軸72がこの孔81dを貫通し、下方に延びている。
The motor 71 of the rotating means 7 is fixed on the motor support piece 81b, and the rotating shaft 72 of the motor 71 extends downward through the hole 81d.

【0042】回転軸支持片81cは、回転軸6を孔81
eに設けられた軸受けにより軸心を中心として回動可能
に支持している。
The rotating shaft supporting piece 81c is formed by inserting the rotating shaft 6 into the hole 81.
The support provided in e is rotatable about the axis.

【0043】モーター支持片81bと、回転軸支持片8
1cとは、離間して配置されており、これらの間の空間
において、前述したように、前記回転手段7の歯車73
と回転軸6の歯車62とが係合されている。
The motor support piece 81b and the rotary shaft support piece 8
1c is spaced apart from the gear 73c of the rotating means 7 in the space between them as described above.
And the gear 62 of the rotating shaft 6 are engaged.

【0044】上記の回転手段支持台81の構成は、一例
であり、前記両回転軸6,72の係合が、前述したよう
な他の公知の力を伝達し得る接続方法によってなされた
場合は、その構成に対応して変化し得るし、前記両回転
軸6,72が一体的に形成された場合も、前記孔81
d、81eを同心上に配置し、回転手段7の回転力を回
転軸6に伝達するのを損なわないような構成に対応し得
る。
The structure of the rotating means support base 81 is merely an example. If the engagement between the rotating shafts 6 and 72 is made by another known connection method capable of transmitting a force as described above. The hole 81 can be changed in accordance with the configuration, and even when the two rotating shafts 6 and 72 are formed integrally,
d and 81e are arranged concentrically, and it can correspond to the structure which does not impair the transmission of the rotational force of the rotating means 7 to the rotating shaft 6.

【0045】基部81aの他方の面(裏面)には、案内
部84と接続されている。この案内部84は、基部81
aの裏面に固着されている2列に配列された摺動部84
aと、これらの摺動部84aを摺動可能に支持する1対
のレール84bとを有している。また、前記基部81a
には、移動シリンダー接続部82の下端が固着されてい
る。この移動シリンダー接続部82の他端は、前記移動
シリンダー83のピストンロッド83aの上端のロッド
ヘッド83bに固定されている。これらピストンロッド
83a及びロッドヘッド83bは、移動シリンダー本体
83cと共に、移動シリンダー83を構成している。こ
の移動シリンダー83は、前記移動シリンダー本体83
cにより前記案内支持台92の裏面に固定にされてい
る。
The other surface (back surface) of the base 81a is connected to a guide portion 84. The guide portion 84 includes a base portion 81
a sliding parts 84 fixed to the back surface
a, and a pair of rails 84b that slidably support these sliding portions 84a. In addition, the base 81a
, The lower end of the moving cylinder connecting portion 82 is fixed. The other end of the moving cylinder connecting portion 82 is fixed to a rod head 83b at the upper end of a piston rod 83a of the moving cylinder 83. The piston rod 83a and the rod head 83b form a moving cylinder 83 together with the moving cylinder main body 83c. The moving cylinder 83 is provided with the moving cylinder body 83.
c, it is fixed to the back surface of the guide support base 92.

【0046】前記揺動機構10の揺動手段9は、前記移
動手段8の案内部84及び移動シリンダー83を支持し
ている案内支持台92と、この案内支持台92を揺動さ
せる揺動シリンダー93と、前記案内支持台92及び揺
動シリンダー93を固定する揺動手段固定部94とを有
している。
The oscillating means 9 of the oscillating mechanism 10 includes a guide support 92 for supporting the guide portion 84 and the movable cylinder 83 of the moving means 8, and an oscillating cylinder for oscillating the guide support 92. 93 and a swing means fixing portion 94 for fixing the guide support base 92 and the swing cylinder 93.

【0047】案内支持台92は、垂直方向に延びた矩形
状の板により構成されている。この案内支持台92の表
面には、1対のレール84bが前記回転軸6の長手方向
に沿うように設けられている。そして、この案内支持台
92の裏面には、この上部において、移動シリンダー8
3が固定され、揺動シリンダー93のピストンロッド9
3aの端部に設けられた第1の枢支部93bを枢支する
第2の枢支部92aが突設されており、また、下部にお
いて、揺動手段固定部94の第3の枢支部94aに枢支
される第4の枢支部92bが突設されている。
The guide support 92 is formed by a rectangular plate extending in the vertical direction. A pair of rails 84b is provided on the surface of the guide support base 92 along the longitudinal direction of the rotary shaft 6. The moving cylinder 8 is provided on the back of the guide support base 92 at the upper part thereof.
3 is fixed, and the piston rod 9 of the swing cylinder 93 is fixed.
A second pivot 92a, which pivotally supports a first pivot 93b provided at the end of 3a, is protruded, and at the lower part, to a third pivot 94a of the swing means fixing portion 94. A fourth pivot portion 92b to be pivotally protruded is provided.

【0048】揺動シリンダー93は、ピストンロッド9
3aを自身の軸心に沿って移動させる。この揺動シリン
ダー93のシリンダー本体93cは、揺動手段固定部9
4に固定された第5の枢支部93dにより枢支されてい
る。
The oscillating cylinder 93 includes the piston rod 9
3a is moved along its own axis. The cylinder body 93c of the oscillating cylinder 93 is attached to the oscillating means fixing portion 9
It is pivotally supported by a fifth pivot 93d fixed to 4.

【0049】揺動手段固定部94は、一対の支柱94b
と、この支柱間に互いに垂直方向に離間して支持され、
水平に延びた3本の水平板94c、94d、94eによ
り梯子状に形成されている。この下方水平板94cの表
面には、前記第3の枢支部94aが突設されており、中
央水平板94dの上面には、前記揺動シリンダー93の
第5の枢支部93dが固定されている。この揺動手段固
定部94の両側面には、夫々以下に詳述する入出機構1
1のレール111bと係合するローラ94fが設けられ
ている。
The rocking means fixing portion 94 includes a pair of columns 94b.
And are supported vertically separated from each other between the columns,
It is formed in a ladder shape by three horizontally extending horizontal plates 94c, 94d and 94e. The third pivot 94a protrudes from the surface of the lower horizontal plate 94c, and the fifth pivot 93d of the swing cylinder 93 is fixed to the upper surface of the central horizontal plate 94d. . On both side surfaces of the swinging means fixing portion 94, an in-and-out mechanism 1 described in detail below, respectively.
A roller 94f that engages with one of the rails 111b is provided.

【0050】ここで再び、図1を参照して、入出機構1
1を説明する。この入出機構11は、揺動機構10を案
内する案内部111と、この揺動機構10をこの案内部
111に沿って上下移動させる入出シリンダー112
と、これら案内部111及び入出シリンダー112を上
に支持している入出機構支持部113とを有している。
Here, referring again to FIG.
1 will be described. The input / output mechanism 11 includes a guide section 111 for guiding the swing mechanism 10 and an input / output cylinder 112 for vertically moving the swing mechanism 10 along the guide section 111.
And an input / output mechanism support portion 113 that supports the guide portion 111 and the input / output cylinder 112 above.

【0051】この案内部111は、タンク3の外部に設
けられた入出機構支持部113に夫々固定され、垂直に
延びた1対の支柱111aを有している。これらの支柱
111aは、互いに対抗する面に長手方向に沿って設け
られたレール111bを夫々有している。各レール11
1bは、前記対抗する面(タンク3側の側面)で、前記
揺動手段固定部94の各対のローラ94fと係合してい
る。この結果、この揺動手段固定部94は、レール11
1bにより垂直方向に移動可能に案内される。
The guide portions 111 are fixed to the input / output mechanism support portions 113 provided outside the tank 3, respectively, and have a pair of vertically extending columns 111a. These columns 111a each have rails 111b provided on the surfaces facing each other along the longitudinal direction. Each rail 11
Reference numeral 1b denotes the opposite surface (side surface on the tank 3 side), which is engaged with each pair of rollers 94f of the rocking means fixing portion 94. As a result, the swing means fixing portion 94 is
1b guides it to be movable in the vertical direction.

【0052】前記入出シリンダー112は、これの下端
が前記入出機構支持部113に固定されて、上方に向か
って垂直に延びている。そして、入出シリンダー112
のピストンロッド112bは、前記揺動手段固定部94
に夫々一端が固定され水平に延びた、上下一対の揺動機
構支持板112aの他端に固定具112cにより固定さ
れている。具体的には、前記上方の揺動機構支持板11
2aと下方の揺動機構支持板112a’との夫々の一端
部は、揺動手段固定部94の上方水平板94eと中央水
平板94dとに夫々固定されている。この結果、揺動手
段固定部94を介して、揺動機構10は、案内部111
に沿って、前記入出シリンダー112によって垂直方向
に移動され得る。
The lower end of the input / output cylinder 112 is fixed to the input / output mechanism support portion 113, and extends vertically upward. And the input / output cylinder 112
The piston rod 112b of the
Are fixed to the other ends of a pair of upper and lower swinging mechanism support plates 112a, each having one end fixed and extending horizontally. Specifically, the upper swing mechanism support plate 11
One end of each of 2a and the lower swing mechanism support plate 112a 'is fixed to the upper horizontal plate 94e and the center horizontal plate 94d of the swing means fixing portion 94, respectively. As a result, the swinging mechanism 10 is guided by the guide 111
Along the vertical direction by the input / output cylinder 112.

【0053】前記ピストンロッド112bには、前記揺
動機構支持板112a及び112a’が設けられている
が、入出シリンダー112のピストン運動にともなって
揺動機構10を前記案内部111に沿って移動されえる
ならば、揺動機構支持板112aのみでもいいし、これ
の数において限定されることはない。また、揺動機構支
持板112aがピストンロッド112bに一体的に形成
されていてもかまわない。即ち、揺動機構支持板112
aは、揺動機構10を案内部111に沿って移動させる
ことが可能であれば、形状、寸法、及び揺動機構10と
の接続位置において限定されることはない。
The oscillating mechanism support plates 112a and 112a 'are provided on the piston rod 112b. The oscillating mechanism 10 is moved along the guide portion 111 with the piston movement of the input / output cylinder 112. If possible, only the swing mechanism support plate 112a may be used, and the number is not limited. Further, the swing mechanism support plate 112a may be formed integrally with the piston rod 112b. That is, the swing mechanism support plate 112
“a” is not limited in shape, size, and connection position with the swing mechanism 10 as long as the swing mechanism 10 can be moved along the guide portion 111.

【0054】入出機構支持部113は、タンク3の下部
において外周に沿ってコの字型に設けられており、案内
部111の夫々の支柱111aの下端部が、タンクの側
部において固定されており、タンクの裏面側の中央で入
出シリンダー112の下端部を固定している。この入出
機構支持部113は、案内部111及び入出シリンダー
112を固定し得るならば、案内部111及び入出シリ
ンダー112の端部以外の部位でも固定し得るし、タン
ク3と一体的に形成され、案内部111及び入出シリン
ダー112を固定することも可能であり、固定位置、形
状において限定されることはない。
The entrance / exit mechanism support portion 113 is provided in a U-shape along the outer periphery at the lower portion of the tank 3, and the lower end of each support 111 a of the guide portion 111 is fixed on the side of the tank. The lower end of the input / output cylinder 112 is fixed at the center on the back side of the tank. If the input / output mechanism support portion 113 can fix the guide portion 111 and the input / output cylinder 112, it can also fix the guide portion 111 and the portion other than the ends of the input / output cylinder 112, and is formed integrally with the tank 3, The guide portion 111 and the input / output cylinder 112 can be fixed, and the fixing position and shape are not limited.

【0055】前記制御部は、前記揺動機構10の回転手
段7,移動手段8、及び揺動手段9を所望の駆動が行わ
れるように制御する。この制御は、電子回路やコンピュ
ーターなど公知のいかなる手段を用いてもよい。この制
御部による揺動機構10の制御は、以下で詳しく説明す
る。
The control section controls the rotating means 7, the moving means 8 and the oscillating means 9 of the oscillating mechanism 10 so that desired driving is performed. This control may use any known means such as an electronic circuit or a computer. The control of the swing mechanism 10 by the control unit will be described in detail below.

【0056】ここで、上記したワークの研磨装置の動作
について説明する。
Here, the operation of the work polishing apparatus will be described.

【0057】図5は、前記ワークの研磨装置の研磨開始
前の状態を示す概略的な一部切欠側面図である。図6
は、前記ワークの研磨装置の研磨作業中の状態を示す概
略的な一部切欠側面図である。
FIG. 5 is a schematic partially cutaway side view showing a state before the polishing of the workpiece polishing apparatus is started. FIG.
FIG. 4 is a schematic partially cutaway side view showing a state during the polishing operation of the workpiece polishing apparatus.

【0058】図5に示すように研磨開始前の状態の前記
ワークの研磨装置1は、揺動機構10が、入出機構11
によりタンクの上方の初期設定配置に配置されている。
このとき、タンク3中には、多数の研磨粒子21が充填
されると共に、開口部の給水口36から水が注入され、
研磨媒体2が作られる。この研磨媒体2は、内タンク3
1の底面から8割程度の高さまで入れられているが、所
望の研磨が行われ得るならば量において限定されること
はない。
As shown in FIG. 5, in the work polishing apparatus 1 before the start of polishing, the swing mechanism 10 includes the input / output mechanism 11
Is arranged in an initial setting arrangement above the tank.
At this time, the tank 3 is filled with a large number of abrasive particles 21 and water is injected from the water supply port 36 at the opening.
A polishing medium 2 is made. This polishing medium 2 has an inner tank 3
Although it is inserted up to about 80% of the height from the bottom surface of 1, the amount is not limited as long as desired polishing can be performed.

【0059】前記初期設定配置では、前記入出シリンダ
ー112により、ピストンロッド112bは最上位位置
に延ばされ、それに伴って、揺動機構支持板112a及
び112a’を介して、揺動手段固定部94も最上位に
保たれている。このとき、この揺動機構10の揺動シリ
ンダー93は、ピストンロッド93aが引っ込んでいる
状態にされ、案内支持台92は、垂直に位置され、かく
して、回転手段支持台81並びに回転軸6も、垂直に位
置されている。
In the above-mentioned initial arrangement, the piston rod 112b is extended to the uppermost position by the input / output cylinder 112, and accordingly, the rocking means fixing portion is moved through the rocking mechanism support plates 112a and 112a '. 94 is also at the top. At this time, the oscillating cylinder 93 of the oscillating mechanism 10 is in a state where the piston rod 93a is retracted, the guide support base 92 is positioned vertically, and thus the rotating means support base 81 and the rotating shaft 6 are also It is located vertically.

【0060】この状態で研磨対象のワーク4をワーク取
り付け位置に回動されているピストン取り付け部5に取
り付ける(図5において破線で示す)。次に、ワーク取
り付け部5をワーク研磨位置に位置へと回動し、ロック
する(実線で示す)。
In this state, the work 4 to be polished is mounted on the piston mounting portion 5 which is rotated to the work mounting position (indicated by a broken line in FIG. 5). Next, the work mounting portion 5 is rotated to the work polishing position and locked (indicated by a solid line).

【0061】上記のようにワーク4の取り付けの完了後
に、前記入出機構11の入出シリンダー112を動作さ
せることにより、揺動機構10を介して回転軸6が、下
方に垂直に移動される。この結果、前記ワーク4は、前
記研磨媒体2中に挿入された研磨開始位置に移動され
る。この研磨開始位置への移動開始の前、中、及び後
で、前記制御部の制御により、前記回転手段7が作動を
開始し、ワーク4が前記回転軸6によって回転させられ
る。前記研磨開始位置は、図6において2点鎖線で示さ
れている。なお、前記回転手段7によるワーク4の回転
は、研磨作業が終了するまで続けられる。
After the mounting of the work 4 is completed as described above, the rotation shaft 6 is vertically moved downward through the swing mechanism 10 by operating the loading / unloading cylinder 112 of the loading / unloading mechanism 11. As a result, the work 4 is moved to a polishing start position inserted into the polishing medium 2. Before, during, and after the start of the movement to the polishing start position, the rotation unit 7 starts operating under the control of the control unit, and the work 4 is rotated by the rotation shaft 6. The polishing start position is indicated by a two-dot chain line in FIG. The rotation of the work 4 by the rotating means 7 is continued until the polishing operation is completed.

【0062】次に、前記制御部の制御により、この揺動
機構10の移動シリンダー83及び揺動シリンダー93
を作動させ、回転軸6の端部に取り付けられているワー
ク4が移動され、研磨作業が行われる。この研磨作業
は、ワークに対して所定の1つ又は複数の動作をさせる
ように、制御部が揺動機構10を制御する。言い換える
と、研磨媒体中のワークが、所定の1つ又は複数の経路
で移動されるように、制御部が制御を行う。本実施の形
態において、ワーク4が第1、第2、及び第3の動作を
行うように制御する。このため、制御部は、ワーク4に
前記第1、第2、及び第3の動作を行わせるために、揺
動機構10の動作可能な動作を示す群である動作グルー
プの中から動作を1つ又は複数の動作の組み合わせを選
定し、選定した動作を行うように揺動機構10を駆動さ
せる。本実施の形態において、前記動作グループは、回
転手段7によるワークの回転動作、移動手段による移動
手段の軸心に沿った方向へのワーク4の移動動作、及び
揺動手段9による回転軸6の一端に取り付けられたワー
ク4が円弧軌道に沿ったように移動するワークの揺動動
作とを有している。
Next, the moving cylinder 83 and the oscillating cylinder 93 of the oscillating mechanism 10 are controlled by the control unit.
Is operated, the work 4 attached to the end of the rotating shaft 6 is moved, and a polishing operation is performed. In this polishing operation, the control unit controls the swing mechanism 10 so that one or more predetermined operations are performed on the work. In other words, the control unit controls the work in the polishing medium to move along one or more predetermined paths. In the present embodiment, control is performed such that the work 4 performs the first, second, and third operations. For this reason, in order to cause the workpiece 4 to perform the first, second, and third operations, the control unit performs one operation from an operation group, which is a group indicating the operable operations of the swing mechanism 10. One or a combination of a plurality of operations is selected, and the swing mechanism 10 is driven so as to perform the selected operation. In the present embodiment, the operation group includes a rotation operation of the work by the rotation unit 7, a movement operation of the work 4 in a direction along the axis of the movement unit by the movement unit, and a movement operation of the rotation shaft 6 by the swing unit 9. The work 4 attached to one end has a swinging motion of the work that moves along an arc trajectory.

【0063】以下に、揺動機構10が行わせるワークの
第1、第2及び第3の動作を、図6を参照して以下で説
明する。なお、この研磨開始位置において、揺動機構1
0の移動シリンダー83は、ピストンロッド83aを最
大に延ばしている状態であり、揺動シリンダー93は、
ピストンロッド93aが引っ込んでいる状態であり、図
5に示している状態と同様である。
Hereinafter, the first, second, and third operations of the work performed by the swing mechanism 10 will be described with reference to FIG. At this polishing start position, the swing mechanism 1
The moving cylinder 83 of 0 is a state in which the piston rod 83a is extended to the maximum, and the swing cylinder 93 is
This is a state where the piston rod 93a is retracted, which is the same as the state shown in FIG.

【0064】前記第1の動作は、前記研磨開始位置から
開始され、回転動作が継続し、楕円の円弧状の軌道に沿
って揺動されるワーク4の動作(移動経路)である。こ
のため、前記制御部は、前記動作グループの中から、前
記回転動作と、前記移動動作並びに揺動動作の組み合わ
せとを選定し、上記動作をおこなうように揺動機構10
を制御する。
The first operation is an operation (moving path) of the work 4 which is started from the polishing start position, continues to rotate, and swings along an elliptical arc-shaped orbit. For this reason, the control unit selects the rotation operation and the combination of the movement operation and the swing operation from the operation group, and controls the swing mechanism 10 so as to perform the above operation.
Control.

【0065】上記第1の動作を行うため前記制御部は、
前記回転手段7による回転動作を継続させることで、ワ
ーク4に回転動作を行わせる。そして、前記制御部は、
ワーク4を楕円の円弧状の軌道に沿って揺動される動作
を行わせるために、移動シリンダー83のピストンロッ
ド83aを自身の軸心沿って縮めるように駆動させる。
この駆動により、モーター支持片81bは、前記案内部
84のレール84bに案内されて移動シリンダー83の
軸心に沿って移動され、かくして、前記回転軸6が自身
の軸心にそって移動される。それと共に、前記制御部
は、揺動シリンダー93にピストンロッド93aを延ば
すように駆動させる。このことにより、揺動手段固定部
94に枢支された案内支持台92は、第3及び第4の枢
支部92b、94aの軸心を中心として反時計方向に回
転手段7を伴って回動される。従って、前記制御部は、
回転軸6の一端、即ちワーク4、を第3及び第4の枢支
部92b、94aの軸心を中心として、円弧状の軌道に
沿って揺動させる。即ち、ワーク4が、回転手段により
回転動作されながら、移動シリンダー83と揺動シリン
ダー93との駆動による回転軸の軸心に沿った移動と円
弧軌道に沿った揺動とにより、楕円の円弧状の軌道に沿
った揺動がされる。このように第1の動作が行われる。
この第1の動作を言い換えると、第1の動作は、ワーク
4が、第3及び第4の枢支部92b、94aの軸心を中
心反時計回りに、徐々に水平面に対して傾斜させなが
ら、下方に移動される動きである。このワーク4の軌道
を、図6において、参照符号120aを付している矢印
によって概略的に示している。前述のようにワーク4を
移動させることで、研磨媒体2が活発に流動し、研磨粒
子研磨中にワーク4の凹部に入った研磨粒子が、この凹
部に留まること防ぎ、ワーク全体に渡って均一な研磨を
行うことが出来る。
In order to perform the first operation, the control unit comprises:
By continuing the rotation operation by the rotation means 7, the work 4 is caused to perform the rotation operation. And the control unit includes:
In order to perform the operation of swinging the work 4 along the elliptical arc-shaped orbit, the piston rod 83a of the moving cylinder 83 is driven to contract along its own axis.
By this driving, the motor support piece 81b is guided along the rail 84b of the guide portion 84 and is moved along the axis of the moving cylinder 83, and thus the rotary shaft 6 is moved along its own axis. . At the same time, the control unit drives the swing cylinder 93 to extend the piston rod 93a. As a result, the guide support base 92 pivotally supported by the swinging means fixing portion 94 rotates with the rotating means 7 counterclockwise around the axes of the third and fourth pivoting portions 92b and 94a. Is done. Therefore, the control unit:
One end of the rotating shaft 6, that is, the work 4, is swung along an arc-shaped orbit about the axes of the third and fourth pivot portions 92b and 94a. That is, while the work 4 is being rotated by the rotating means, the work cylinder 83 and the swing cylinder 93 are driven to move along the axis of the rotating shaft and swing along the circular orbit to form an elliptical arc. Rocking along the orbit of. Thus, the first operation is performed.
In other words, the first operation is such that the workpiece 4 gradually inclines the axes of the third and fourth pivot portions 92b and 94a counterclockwise about the center with respect to the horizontal plane. This is a movement that is moved downward. The trajectory of the workpiece 4 is schematically shown in FIG. 6 by an arrow denoted by reference numeral 120a. By moving the work 4 as described above, the polishing medium 2 actively flows, and the abrasive particles entering the concave portion of the work 4 during polishing of the abrasive particles are prevented from staying in the concave portion, and are uniformly distributed over the entire work. Polishing can be performed.

【0066】この第1の動作は、ワーク4が、前記移動
シリンダー83が最下位に駆動され、揺動シリンダー9
3が、最大に延ばされた円弧移動終点位置(実線で示
す)へと移動されるまで行われる。この円弧移動終点位
置において、ワーク4は、前記移動による水平面に対し
て最大に傾斜した状態にされる。このワーク4が前記円
弧移動終点位置へと移動すると、続いて第2の動作が開
始される。
In the first operation, the workpiece 4 is moved by moving the moving cylinder 83 to the lowest position,
3 is performed until it is moved to the maximum extended arc movement end point position (indicated by a solid line). At this arc movement end point position, the work 4 is in a state of being inclined to the maximum with respect to the horizontal plane due to the movement. When the workpiece 4 moves to the arc end point, the second operation is started.

【0067】前記第2の動作は、回転動作が継続し、前
記水平面に対する傾斜を保持したまま直線軌道で移動さ
れるワークの動作である。このため、前記制御部は、前
記動作グループの中から、前記回転動作と、前記移動動
作とを選定し、上記動作をおこなうように揺動機構10
を制御する。
The second operation is an operation of a work in which the rotation operation is continued and the work is moved in a linear trajectory while maintaining the inclination with respect to the horizontal plane. For this reason, the control unit selects the rotation operation and the movement operation from the operation groups, and controls the swing mechanism 10 to perform the above operation.
Control.

【0068】上記第2の動作を行うため前記制御部は、
前記回転手段7による回転動作を継続させることで、ワ
ーク4に回転動作を行わせる。そして、前記制御部は、
前記水平面に対する傾斜を保持したまま直線軌道でワー
クを移動されるために、前記移動シリンダー83のピス
トンロッド83aを、自身の軸心に沿って延ばすように
駆動させる。このため、モーター支持片81bは、前記
案内部84のレール84bに沿って、第1の動作時とは
反対側に移動される。かくして前記回転軸6を、自身の
軸心に沿って上方に移動させる。このように第2の動作
は、移動シリンダーのみを駆動させる。従って、前記ワ
ーク4は、前記円弧移動終点位置での水平面に対して傾
斜した状態を保ったまま、レール84bに沿って直線的
に上方に移動される第2の動作が行われる。このワーク
4の軌道を、図6において、参照符号120bを付して
いる矢印によって概略的に示している。上述のようにワ
ーク4を移動させることにより、さらに研磨媒体2が活
発に流動し、研磨粒子研磨中にワーク4の凹部に入った
研磨粒子が、この凹部に留まること防ぎ、ワーク全体に
渡って均一な研磨を行うことが出来る。
For performing the second operation, the control unit comprises:
By continuing the rotation operation by the rotation means 7, the work 4 is caused to perform the rotation operation. And the control unit includes:
The piston rod 83a of the moving cylinder 83 is driven so as to extend along its own axis in order to move the work in a linear trajectory while maintaining the inclination with respect to the horizontal plane. For this reason, the motor support piece 81b is moved along the rail 84b of the guide portion 84 to the side opposite to that during the first operation. Thus, the rotating shaft 6 is moved upward along its own axis. Thus, the second operation drives only the moving cylinder. Accordingly, a second operation is performed in which the work 4 is linearly moved upward along the rail 84b while maintaining a state of being inclined with respect to the horizontal plane at the arc movement end point position. The trajectory of the workpiece 4 is schematically shown in FIG. 6 by an arrow denoted by reference numeral 120b. By moving the work 4 as described above, the polishing medium 2 flows more actively, and the abrasive particles that have entered the concave portion of the work 4 during polishing of the abrasive particles are prevented from remaining in the concave portion. Uniform polishing can be performed.

【0069】この第2の動作は、移動シリンダー83に
より、ピストンロッド83aが最上位まで駆動されるま
で行われる。このように、ピストンロッド83aが最上
位まで駆動されると、この移動シリンダー83の動作は
停止し、続いて第3の動作が行われる。
This second operation is performed until the movable cylinder 83 drives the piston rod 83a to the highest position. As described above, when the piston rod 83a is driven to the uppermost position, the operation of the moving cylinder 83 stops, and then the third operation is performed.

【0070】この第3の動作は、研磨開始位置での配置
に戻されるワーク4の動作である。このため、前記制御
部は、前記動作グループの中から、前記揺動動作を選定
し、上記動作をおこなうように揺動機構10を制御す
る。
The third operation is an operation of the work 4 returned to the arrangement at the polishing start position. For this reason, the control unit selects the swing operation from the operation group, and controls the swing mechanism 10 to perform the above operation.

【0071】この第3の動作を行うため前記制御部は、
揺動シリンダー93が、この揺動シリンダー93のピス
トンロッド93aが縮まるように駆動される。従って、
揺動手段固定部94に枢支された案内支持台92は、前
記第3及び第4の枢支部92b、94aの軸心を中心と
して時計方向に回転手段7を伴って回動され、かくし
て、回転軸6かくしてワーク4を回動させる。このよう
にして第3の動作は行われ、ワーク4は、研磨開始位置
に戻される。このワーク4の軌道を、図6において、参
照符号120cを付している矢印によって概略的に示し
ている。
To perform the third operation, the control unit
The swing cylinder 93 is driven so that the piston rod 93a of the swing cylinder 93 is contracted. Therefore,
The guide support base 92 pivotally supported by the swing means fixing portion 94 is rotated clockwise about the axis of the third and fourth pivot portions 92b and 94a with the rotating means 7, and thus, The work 4 is rotated by the rotation shaft 6. Thus, the third operation is performed, and the work 4 is returned to the polishing start position. The trajectory of the work 4 is schematically indicated by an arrow denoted by reference numeral 120c in FIG.

【0072】なお、前記第1、第2、及び第3の動作
は、ワークの所定の研磨が達成されるまで繰り返され
る。
The first, second, and third operations are repeated until a predetermined polishing of the work is achieved.

【0073】上記のように、ワーク4は、揺動機構10
の第1、第2、及び第3の動作による一連の動作が繰り
返されることで、大きいワークや、複雑な形状を有する
ワークに対しても所定の均一な研磨が行われ、ワークの
耐食性の向上及び表面硬度を上げることが出来る。
As described above, the work 4 is moved by the swing mechanism 10.
By repeating a series of operations of the first, second, and third operations, a predetermined uniform polishing is performed even on a large work or a work having a complicated shape, and the corrosion resistance of the work is improved. And the surface hardness can be increased.

【0074】なお、本実施の形態において、第1の動作
においてのワーク4の移動が、楕円状の円弧軌道をして
いるが、この移動は、前記移動シリンダー83及び揺動
シリンダー93の駆動パターンを変化させることで、蛇
行するような軌道をとることも可能であるし、第2の動
作においてワーク4を部分的に円弧軌道で移動させるこ
とも可能である。即ち、ワーク4の軌道の少なくとも一
部分が円弧軌道を通り、少なくとも1部分が水平面に対
して傾斜した状態で直線的に移動され得るならば限定さ
れることはない。さらに、前記揺動機構10による第
1、第2、及び第3の動作は、毎回同一の軌道を取るよ
うに繰り返されているが、所望の研磨がなされ得るなら
ば、毎回異なった軌道をとることも可能である。そし
て、前記回転手段7は、回転軸6を同一の方向に回転さ
せ続けているが、回転方向を研磨中に変えることも可能
であり、この回転方向及び回転速度においても限定され
ることはない。即ち、本実施の形態のワークの研磨装置
1は、前記動作グループの動作の組み合わせにより実現
し得るワークの動作ならば、制御部の制御により自由に
ワークの移動経路を選定し得る。
In the present embodiment, the movement of the work 4 in the first operation is in an elliptical arc trajectory, and this movement is caused by the driving pattern of the moving cylinder 83 and the oscillating cylinder 93. , It is possible to take a meandering trajectory, and it is also possible to move the workpiece 4 partially in an arc trajectory in the second operation. That is, the present invention is not limited as long as at least a part of the trajectory of the work 4 can be moved linearly in a state in which at least one part is inclined with respect to a horizontal plane while passing through an arc trajectory. Further, the first, second, and third operations by the rocking mechanism 10 are repeated so as to take the same trajectory each time, but if the desired polishing can be performed, a different trajectory is used each time. It is also possible. Although the rotating means 7 keeps rotating the rotating shaft 6 in the same direction, the rotating direction can be changed during polishing, and the rotating direction and the rotating speed are not limited. . In other words, the workpiece polishing apparatus 1 of the present embodiment can freely select the movement path of the work under the control of the control unit if the operation of the work can be realized by a combination of the operations of the operation group.

【0075】次に、上記の研磨作業が終了すると、前記
揺動機構10は、前記入出シリンダー112の駆動によ
り、前記研磨開始位置から、前記初期設定位置に移動さ
れ、ワーク取り付け時と同様の方法によりワーク取り付
け部5を操作し、ワーク4が取りはずされる。
Next, when the above-mentioned polishing operation is completed, the swing mechanism 10 is moved from the polishing start position to the initial setting position by driving the loading / unloading cylinder 112, and the same operation as when the work is mounted is performed. The work mounting part 5 is operated by the method, and the work 4 is removed.

【0076】前述の研磨作業を繰り返し行い、研磨媒体
2が、ワーク及び研磨粒子の摩耗粉により、汚れた場
合、水及び摩耗粉の排出、摩耗粉の研磨粒子の回収、及
びタンク内の清掃などのメンテナンス作業が行われる。
このメンテナンス作業は、まず、水及び摩耗粉、即ち研
磨かす、の排出がおこなわれる。この工程は、内タンク
31の孔33により、汚水及び摩耗粉が、外タンク32
に流され、続いて、これらの汚水及び摩耗粉は、前記外
タンク32の底部の傾斜により、底部をつたって、排出
口34に流される。上述の汚水及び摩耗粉の排出中にシ
ャワー35は、水の噴出を開始し、前記汚水及び摩耗粉
を排出口に向けて流す。このことにより、前記汚水及び
摩耗粉からなる汚泥である研磨かすが外タンク32の底
部に溜まることなく、円滑にタンク中から排出が行わ
れ、前記摩耗かすの排出が完了する。この工程により、
前記研磨媒体2は、前記研磨かすと研磨粒子21とが分
離され、この研磨かすを排出口へと排出する。このこと
により、研磨かすからの研磨粒子21の分離するための
手作業、即ち、煩雑な分離作業を行うことなく、内タン
ク中に研磨粒子21を効率よく分離させることが出来
る。次に、内タンク31中の研磨粒子21が、回収され
る工程が行われ、次に、タンク3中の清掃する工程が行
われ、この工程の終了後、前記排出口34は、閉じら
れ、メンテナンス作業が完了する。
When the above-mentioned polishing operation is repeated and the polishing medium 2 is contaminated by the abrasion powder of the workpiece and the abrasive particles, water and abrasion powder are discharged, the abrasion particles of the abrasion powder are collected, and the tank is cleaned. Maintenance work is performed.
In this maintenance work, first, water and abrasion powder, that is, polishing debris are discharged. In this step, sewage and abrasion powder are removed by the holes 33 of the inner tank 31.
Then, the sewage and the abrasion powder flow through the bottom of the outer tank 32 to the discharge port 34 due to the inclination of the bottom of the outer tank 32. During discharge of the above-mentioned sewage and abrasion powder, the shower 35 starts jetting of water, and flows the sewage and the abrasion powder toward an outlet. As a result, the polishing scum, which is the sludge composed of the sewage and the abrasion powder, is smoothly discharged from the tank without accumulating at the bottom of the outer tank 32, and the abrasion scum is completely discharged. By this process,
The polishing medium 2 separates the polishing particles from the polishing particles 21 and discharges the polishing particles to an outlet. This allows the abrasive particles 21 to be efficiently separated into the inner tank without performing a manual operation for separating the abrasive particles 21 from the polishing residue, that is, without performing a complicated separation operation. Next, a step of recovering the abrasive particles 21 in the inner tank 31 is performed, and then a step of cleaning the tank 3 is performed. After the completion of this step, the outlet 34 is closed, Maintenance work is completed.

【0077】上述のように、前記メンテナンス作業は、
容易に、そして短い時間で行うことが出来る。
As described above, the maintenance work includes:
It can be done easily and in a short time.

【0078】以下に図7を参照して、本発明の第2の実
施の形態に従ったワークの研磨装置1’を説明する。な
お、前述した本発明の第1の実施の形態に従ったワーク
の研磨装置1と同じ構成部材は、このワークの研磨装置
1の同じ構成部材を指摘した参照符号を使用して指摘
し、詳細な説明は省略する。
Referring now to FIG. 7, a description will be given of a workpiece polishing apparatus 1 'according to a second embodiment of the present invention. Note that the same components as those of the workpiece polishing apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention described above are indicated using the same reference numerals as those of the workpiece polishing apparatus 1, and details thereof are described. Detailed description is omitted.

【0079】第2の実施の形態に従ったワークの研磨装
置1’は、入出機構支持部113’の両側がタンク3よ
り突出し得る大きさを有している平板状の基台で構成さ
れている。この入出機構支持部113’とタンク3の底
部との間には、所定間隔を有し、かつタンク3を振動可
能に支持し得るように複数の弾性部材200が設けられ
ており、そして、タンク3の側部にタンク3を所望の方
向に(この実施の形態においては矢印で示すような上下
方向に)振動させる例えば振動モーターのような、加振
手段210が設けられている。
The workpiece polishing apparatus 1 'according to the second embodiment is constituted by a flat base having both sides of the input / output mechanism support portion 113' projecting from the tank 3. I have. A plurality of elastic members 200 are provided between the entrance / exit mechanism support portion 113 'and the bottom of the tank 3 so as to have a predetermined interval and to support the tank 3 so as to be able to vibrate. A vibrating means 210, such as a vibrating motor, for vibrating the tank 3 in a desired direction (in this embodiment, in a vertical direction as indicated by an arrow) is provided on a side of the tank 3.

【0080】前記弾性部材200は、タンク3の底部を
支持し、所望の弾性変形をし得るばね、例えばコイルば
ね、で構成されており、入出機構支持部113’に、均
等な間隔で配置されていることが好ましい。しかし、前
記弾性部材200は、上記配置に限定されることはな
く、また、1つの板ばね等のような他の公知のばねであ
ってもよく、さらに、ゴムなどのような他の公知の弾性
部材であってもよい。
The elastic member 200 supports the bottom of the tank 3 and is formed of a spring capable of performing a desired elastic deformation, for example, a coil spring. The elastic member 200 is arranged at equal intervals on the input / output mechanism support portion 113 '. Is preferred. However, the elastic member 200 is not limited to the above arrangement, and may be another known spring such as a single leaf spring or the like, and may be another known spring such as rubber. It may be an elastic member.

【0081】前記加振手段210は、振動をワークの研
磨中に行う。この振動は、好ましくは移動手段8による
ワークの移動方向、即ち図7において上下方向に沿って
なされるが、限定されることはない。このことにより、
タンク3中の研磨媒体2が、活発に流動され、短時間
に、そして均一にワーク4の研磨を行うことが出来る。
この加振手段210は、この実施の形態において、タン
ク3の側部に設けられているが、この配置は自由に選定
可能である。
The vibrating means 210 performs vibration during polishing of the work. This vibration is preferably performed in the moving direction of the work by the moving means 8, that is, in the vertical direction in FIG. 7, but is not limited. This allows
The polishing medium 2 in the tank 3 is actively flowed, and the work 4 can be uniformly polished in a short time.
The vibrating means 210 is provided on the side of the tank 3 in this embodiment, but the arrangement can be freely selected.

【0082】以下に図8を参照して、本発明の第3の実
施の形態に従ったワークの研磨装置1を説明する。図8
は、第3の実施の形態に従ったワークの研磨装置の概略
的な一部切欠側面図である。なお、前述した本発明の第
1及び第2の実施の形態に従ったワークの研磨装置1と
同じ構成部材は、このワークの研磨装置1の同じ構成部
材を指摘した参照符号を使用して指摘し、詳細な説明は
省略する。
Referring to FIG. 8, a workpiece polishing apparatus 1 according to a third embodiment of the present invention will be described below. FIG.
FIG. 9 is a schematic partially cutaway side view of a workpiece polishing apparatus according to a third embodiment. The same components as those of the work polishing apparatus 1 according to the first and second embodiments of the present invention described above are indicated by using the same reference numerals as those of the work polishing apparatus 1. However, detailed description is omitted.

【0083】ワークの研磨装置1”は、揺動機構10を
移動させる揺動機構移動手段12をさらに有すること
と、タンク3”の構成とが、第1及び第2の実施の形態
に従ったワークの研磨装置1、1’と異なっている。そ
れにともなって、本実施の形態の入出機構支持部11
3”も第2の実施の形態と異なっている。本実施の形態
の入出機構支持部113”が、タンク3の底面の長手方
向と直交する方向、及び長手方向において、タンク3の
底面から突出した平板状の基台で構成されている。入出
機構支持部113”は、以下で説明する揺動機構移動手
段12を支持しており、この揺動機構移動手段12を介
して入出機構11”を支持している。また、本実施の形
態のワークの研磨装置1”は、乾式研磨によりワーク
4”を研磨することを意図しているため、給水口36が
省略されている。なお、本実施の形態のワークの研磨装
置1”は、給水口36を設けて、湿式研磨を行うことが
出来るように構成させることも可能である。
The work polishing apparatus 1 ″ further includes a swing mechanism moving means 12 for moving the swing mechanism 10, and the configuration of the tank 3 ″ conforms to the first and second embodiments. It is different from the work polishing apparatuses 1, 1 '. Accordingly, the input / output mechanism support portion 11 of the present embodiment
3 ″ is also different from that of the second embodiment. The entrance / exit mechanism support portion 113 ″ of the present embodiment projects from the bottom surface of the tank 3 in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the bottom surface of the tank 3 and in the longitudinal direction. It is composed of a flat base. The entrance / exit mechanism support unit 113 ″ supports a swing mechanism moving unit 12, which will be described below, and supports the entrance / exit mechanism 11 ″ via the swing mechanism moving unit 12. Further, since the work polishing apparatus 1 "of the present embodiment is intended to polish the work 4" by dry polishing, the water supply port 36 is omitted. The work polishing apparatus 1 ″ according to the present embodiment may be configured so that a water supply port 36 is provided so that wet polishing can be performed.

【0084】ワークの研磨装置1”の揺動機構10は、
第1及び第2の実施の形態の構成と同様に構成されてお
り、入出機構11”により支持されている。入出機構1
1”は、揺動機構10を案内する案内部111”と、揺
動機構10を案内部111”に沿って上下移動させる入
出シリンダー112”と、案内部111”及び入出シリ
ンダー112”を上に支持している入出機構支持部11
3”とを有している。本実施の形態の入出機構11”
は、揺動機構移動手段12に支持されている。
The swing mechanism 10 of the work polishing apparatus 1 ″
It has the same configuration as that of the first and second embodiments, and is supported by an input / output mechanism 11 ″.
1 "is a guide portion 111" for guiding the swing mechanism 10, an input / output cylinder 112 "for vertically moving the swing mechanism 10 along the guide portion 111", and a guide portion 111 "and an input / output cylinder 112". Supporting input / output mechanism support unit 11
3 ". The entrance / exit mechanism 11" of the present embodiment.
Are supported by the swing mechanism moving means 12.

【0085】揺動機構移動手段12は、揺動機構10を
固定し、矢印Xで示す第1方向に沿って揺動機構10を
移動させる第1移動部121と、第1移動部121を支
持し、第1移動部を介し揺動機構10を前記第1方向と
直交する方向である第2方向に沿って移動させる第2移
動部122と、を有している。
The oscillating mechanism moving means 12 fixes the oscillating mechanism 10 and supports the first moving section 121 for moving the oscillating mechanism 10 in a first direction indicated by an arrow X, and supports the first moving section 121. And a second moving unit 122 for moving the swing mechanism 10 via the first moving unit in a second direction orthogonal to the first direction.

【0086】第1移動部121を図8及び図9(a)を
参照して説明する。図9(a)は、第1移動部121の
概略的な上面図である。
The first moving section 121 will be described with reference to FIGS. 8 and 9A. FIG. 9A is a schematic top view of the first moving unit 121. FIG.

【0087】第1移動部121は、揺動機構10を固定
する基台121aと、基台を第1方向に沿って移動し得
るように案内する基台案内部121bと、基台を第1方
向に移動させる駆動力を提供する第1方向シリンダー1
21cと、基台案内部121b並びに第1方向シリンダ
ー121cとを支持する第1移動部本体121dとを有
している。
The first moving section 121 includes a base 121a for fixing the swing mechanism 10, a base guide section 121b for guiding the base so as to be movable along the first direction, and a first base. First directional cylinder 1 for providing a driving force to move in a direction
21c, and a first moving portion main body 121d that supports the base guide portion 121b and the first direction cylinder 121c.

【0088】基台121aには、入出機構11”の案内
部111”、及び入出シリンダー112”の下端が固定
されている。本実施の形態において、基台121aと、
案内部111”並びに入出シリンダー112”とは、一
体的に形成されているが、各々別体で製造された後、組
み合わせることで構成されることも可能である。
The guide portion 111 "of the entry / exit mechanism 11" and the lower end of the entry / exit cylinder 112 "are fixed to the base 121a. In the present embodiment, the base 121a and
The guide portion 111 "and the input / output cylinder 112" are integrally formed, but may be formed by being manufactured separately and then combined.

【0089】基台案内部121bは、1対の基台案内レ
ール121b1と、1対の基台ローラ121b2とを有
しており、これらが協働して基台121aを前記第1の
方向に沿って案内する。1対の基台案内レール121b
1は、前記第1方向に沿って、第1移動部本体121d
の上面に配置されている。1対の基台ローラ121b2
は、1対の基台案内レール121b1に係合し、上面が
基台121aの底部と接続されている。
The base guide section 121b has a pair of base guide rails 121b1 and a pair of base rollers 121b2, which cooperate to move the base 121a in the first direction. I will guide you along. A pair of base guide rails 121b
1 is a first moving unit main body 121d along the first direction.
It is arranged on the upper surface of. A pair of base rollers 121b2
Are engaged with a pair of base guide rails 121b1, and the upper surface is connected to the bottom of the base 121a.

【0090】第1方向シリンダー121cは、自身のピ
ストンロッド121c1の先端に、基台121aと接続
される基台連結部121c2が設けられている。第1方
向シリンダー121cは、第1移動部本体121dの上
面に設けられた溝121d1中に、配置されている。溝
121d1中の第1方向シリンダーは、基台121aと
連結し得るように、基台連結部121c2のみが溝12
1d1から基台121aの底面まで延びている。
The first direction cylinder 121c has a base connecting portion 121c2 connected to the base 121a at the tip of its own piston rod 121c1. The first direction cylinder 121c is arranged in a groove 121d1 provided on the upper surface of the first moving unit main body 121d. The first direction cylinder in the groove 121d1 is connected only to the base connecting portion 121c2 so that it can be connected to the base 121a.
1d1 extends to the bottom surface of the base 121a.

【0091】第2移動部122を図8及び図9(b)を
参照して説明する。図9(b)は、第2移動部122の
概略的な上面図である。
The second moving section 122 will be described with reference to FIGS. 8 and 9B. FIG. 9B is a schematic top view of the second moving unit 122.

【0092】第2移動部122は、第1移動部121と
連結するとともに第1移動部121を前記第2方向に沿
って移動し得るように案内する第1移動部案内部122
aと、第1移動部を前記第2方向に移動させる駆動力を
提供する第2方向シリンダー122bと、第1移動部案
内部122a並びに第1方向シリンダー122bとを支
持する第2移動部本体122cとを有している。
The second moving part 122 is connected to the first moving part 121 and guides the first moving part 121 so as to be able to move in the second direction.
a, a second direction cylinder 122b for providing a driving force for moving the first moving section in the second direction, and a second moving section main body 122c for supporting the first moving section guide section 122a and the first direction cylinder 122b. And

【0093】第1移動部案内部122aは、1対の第1
移動部案内レール122a1と、1対の第1移動部ロー
ラ122a2とを有しており、これらが協働して第1移
動部121を前記第2の方向に沿って案内する。1対の
第1移動部案内レール122a1は、前記第2方向に沿
って、第2移動部本体122cの上面に配置されてい
る。1対の第1移動部ローラ122a2は、第1移動部
本体121dの底部に埋め込まれており、1対の第1移
動部案内レール122a1に係合し得るように構成され
ている。
The first moving section guide section 122a includes a pair of first
It has a moving part guide rail 122a1 and a pair of first moving part rollers 122a2, which cooperate to guide the first moving part 121 in the second direction. The pair of first moving unit guide rails 122a1 is disposed on the upper surface of the second moving unit main body 122c along the second direction. The pair of first moving unit rollers 122a2 is embedded in the bottom of the first moving unit main body 121d, and is configured to be able to engage with the pair of first moving unit guide rails 122a1.

【0094】第2方向シリンダー122bは、自身のピ
ストンロッド122b1の先端に、第1移動部本体12
1dと接続される第1移動部連結部122b2が設けら
れている。第2方向シリンダー122bは、第2移動部
本体122cの上面に設けられた溝122d1中に、配
置されている。溝122d1中の第2方向シリンダー1
22bは、第1移動部本体121dと連結し得るよう
に、第1移動部連結部122c2のみが溝122d1か
ら第1移動部本体121dの底面まで延びている。
The second direction cylinder 122b is provided at the tip of its own piston rod 122b1 with the first moving unit main body 12b.
A first moving unit connecting portion 122b2 connected to 1d is provided. The second direction cylinder 122b is disposed in a groove 122d1 provided on the upper surface of the second moving section main body 122c. Second direction cylinder 1 in groove 122d1
22b, only the first moving portion connecting portion 122c2 extends from the groove 122d1 to the bottom surface of the first moving portion main body 121d so that it can be connected to the first moving portion main body 121d.

【0095】第2移動部本体121dは、入出機構支持
部113”の上面から延びる支柱113aにより下側か
ら支持されている。
The second moving section main body 121d is supported from below by a column 113a extending from the upper surface of the input / output mechanism supporting section 113 ″.

【0096】前記制御部は、上述のようにワークの研磨
装置1”が揺動機構移動手段12を有しているため、第
1の実施の形態の制御部の動作グループにさらに、第1
移動部121によって揺動機構10を介してワーク4”
を第1方向に移動させる第1方向動作と、第2移動部1
22によって揺動機構10を介してワーク4”を第2方
向に移動させる第2方向動作とを含んでいる。
Since the work polishing apparatus 1 ″ has the swing mechanism moving means 12 as described above, the control section further includes the first operation group of the control section of the first embodiment.
The work 4 ″ is moved by the moving unit 121 via the swing mechanism 10.
In a first direction for moving the first direction, and a second moving unit 1
22 for moving the work 4 ″ in the second direction via the swing mechanism 10.

【0097】タンク3”は、第2の実施の形態と同様
に、自身の底部と入出機構支持部113”との間には、
所定間隔を有し、複数の弾性部材200により振動可能
に支持されている。そして、タンク3”の底部には、タ
ンク3”を振動させる例えば振動モーターのような、加
振手段210が設けられている。さらに、タンク3”の
底部には、乾燥した摩耗粉である研磨かすをタンク外に
排出するための孔33”と、この孔33”を通り抜けた
研磨かすを排出させる排出口34”が設けられている。
この排出口34”には、研磨かすを集める集塵箱37が
配置されている。この集塵箱に研磨かすが溜まった場
合、タンク3”の外に引き出し、容易に研磨かすを捨て
ることが可能なように構成されている。
As in the second embodiment, the tank 3 ″ is provided between the bottom of itself and the entrance / exit mechanism support section 113 ″.
It has a predetermined interval and is supported by a plurality of elastic members 200 so as to be able to vibrate. At the bottom of the tank 3 ″, a vibration unit 210 such as a vibration motor that vibrates the tank 3 ″ is provided. Further, at the bottom of the tank 3 ", there are provided a hole 33" for discharging abrasive chips, which are dry abrasion powder, out of the tank and a discharge port 34 "for discharging the polishing chips passing through the hole 33". ing.
A dust collecting box 37 for collecting polishing chips is disposed at the discharge port 34 ". When the polishing chips accumulate in this dust collecting box, it can be pulled out of the tank 3" and the polishing chips can be easily discarded. It is configured as follows.

【0098】前記弾性部材200は、タンク3”の底部
を支持し、所望の弾性変形をし得るばね、例えばコイル
ばねで構成されており、入出機構支持部113”に、均
等な間隔で配置されていることが好ましいが、この配置
に限定されることはなく、また、1つの板ばね等のよう
な他の公知のばねであってもよく、さらに、ゴムなどの
ような他の公知の弾性部材であってもよい。
The elastic member 200 supports the bottom of the tank 3 ", and is formed of a spring capable of performing a desired elastic deformation, for example, a coil spring. The elastic member 200 is disposed at equal intervals on the input / output mechanism supporting portion 113". It is preferable, but not limited to this arrangement, and it may be another known spring such as one leaf spring or the like, and may be another known elastic material such as rubber or the like. It may be a member.

【0099】前記加振手段210は、ワーク4”の研磨
中にタンク3”を振動される。この振動は、好ましくは
移動手段8によるワークの移動方向、即ち図8において
上下方向に沿ってなされる。このことにより、タンク
3”中の研磨媒体2が、活発に流動され、短時間に、そ
して均一にワーク4”の研磨を行うことが出来る。この
加振手段210は、この実施の形態において、タンク3
の底部に設けられているが、この配置は自由に選定可能
である。なお、上記加振手段210による振動の方向
は、本実施の形態において、上下方向になされている
が、研磨媒体2の流動を活性化させ得るならば、振動方
向において限定されることはない。さらに、上記加振手
段210による振動の振幅も、研磨媒体2の流動を活性
化させ得るならば、任意に選定し得る。
The vibrating means 210 vibrates the tank 3 ″ while polishing the work 4 ″. This vibration is preferably performed in the moving direction of the work by the moving means 8, that is, in the vertical direction in FIG. Thus, the polishing medium 2 in the tank 3 "is actively flowed, and the work 4" can be polished uniformly in a short time. In this embodiment, the vibration means 210
The arrangement is freely selectable. In this embodiment, the direction of the vibration by the vibrating means 210 is the vertical direction. However, the direction of the vibration is not limited as long as the flow of the polishing medium 2 can be activated. Further, the amplitude of the vibration by the vibration means 210 can be arbitrarily selected as long as the flow of the polishing medium 2 can be activated.

【0100】また、タンク3”は、自身の底部が湾曲し
ている。この構成により、ワークの研磨により、ワーク
の移動、及び/または、加振手段210による振動によ
り、研磨粒子が活発に流動される。さらに、本実施の形
態のタンク3”の構成のように、自身の開口がすぼまっ
ていることで、活発に流動された研磨粒子21がタンク
3”からこぼれ出ることが防がれる。さらに、タンク
3”の内壁が、曲面を有するように構成されると、さら
に研磨粒子21が活発な流動を助けるため好ましい。
The bottom of the tank 3 ″ is curved. With this configuration, the abrasive particles actively flow due to the movement of the work by polishing the work and / or the vibration by the vibration means 210. Further, as in the configuration of the tank 3 "of the present embodiment, the opening of the tank 3" is narrowed, thereby preventing the actively flowed abrasive particles 21 from spilling out of the tank 3 ". Further, it is preferable that the inner wall of the tank 3 ″ is configured to have a curved surface because the abrasive particles 21 further promote active flow.

【0101】以下にワークの研磨装置1”の動作につい
て、説明する。
The operation of the workpiece polishing apparatus 1 ″ will be described below.

【0102】ワークの研磨装置1”は、研磨対象である
ワークが車のホイールのような長手方向寸法と長手方向
と直行する方向の寸法とが略同一であるような場合、第
1の実施の形態と同様に、回転軸6の一端側に装着され
たワーク4”を研磨媒体中に挿入して、前記研磨開始位
置に配置する。そして、ワークの研磨装置1”は、この
ワーク4”を回転軸6の軸心を中心として回転させなが
ら、円弧軌道に沿って移動させ、水平面に対して傾斜し
た状態にし、この傾斜を保持したまま直線軌道で移動さ
せ、この移動を繰り返すことによりワーク4”を研磨す
るように、揺動機構10を制御部により制御する。
The work polishing apparatus 1 ″ has a first embodiment in which the work to be polished has substantially the same longitudinal dimension as a wheel of a car and the dimension in a direction perpendicular to the longitudinal direction. Similarly to the embodiment, the work 4 ″ mounted on one end side of the rotating shaft 6 is inserted into the polishing medium, and is arranged at the polishing start position. Then, the work polishing apparatus 1 ″ moves the work 4 ″ along an arc trajectory while rotating the work 4 ″ about the axis of the rotating shaft 6, and makes the work 4 ″ inclined with respect to the horizontal plane, and this inclination is maintained. The swinging mechanism 10 is controlled by the control unit so that the workpiece 4 ″ is polished by moving the workpiece 4 in a linear orbit while repeating this movement.

【0103】さらに、ワークの研磨装置1”は、図8中
に示されるようなワーク4”のような長手方向の寸法
が、長手方向と直交する方向より大きい場合、揺動機構
10が上記制御(第1の実施の形態に示す制御部の制
御)とは別の制御が制御部によりされる。上記制御は、
図10を参照して説明する。図10は、タンク3”中の
ワーク4”の移動経路を示す図である。なお、図10中
の実線で示されているワーク4”は、前記研磨開始位置
に配置されたワーク4”を示している。
Further, when the longitudinal dimension of the workpiece polishing apparatus 1 ″ such as the workpiece 4 ″ shown in FIG. 8 is larger than the direction orthogonal to the longitudinal direction, the swing mechanism 10 Control other than (control of the control unit shown in the first embodiment) is performed by the control unit. The above control is
This will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a diagram showing a movement route of the work 4 ″ in the tank 3 ″. The work 4 ″ shown by a solid line in FIG. 10 indicates the work 4 ″ arranged at the polishing start position.

【0104】上記別の制御は、ワークの研磨装置1”の
制御部が、前記動作グループから回転動作を選定し、前
記研磨開始位置に配置されたワーク4”を回転手段7に
よりワーク4”の長手方向中心線を中心に回転させる。
なお、この回転は、ワーク4”の研磨が終了するまで続
けられる。
In the above another control, the control section of the work polishing apparatus 1 ″ selects a rotation operation from the operation group, and the work 4 ″ arranged at the polishing start position is rotated by the rotation means 7 to remove the work 4 ″. Rotate about longitudinal centerline.
This rotation is continued until the polishing of the work 4 ″ is completed.

【0105】続いて、前記制御部は、前記動作グループ
から第1方向動作を選定し、揺動機構移動手段12を制
御し、揺動機構10、かくしてワーク4”を矢印Xと反
対側に移動させる。この移動は、揺動機構移動手段12
の第1移動部121の駆動によりおこなわれる。そし
て、ワーク4”が所定の距離移動すると、前記制御部
は、第1移動部121の駆動を終了させ、前記動作グル
ープから第2方向動作を選定し、第2移動部122を駆
動させ、ワーク4”を矢印Xと直交する方向に移動され
る。続いて、前記制御部は、第2移動部の駆動を止め、
再び第1動作が選定し、第1移動部121の駆動を開始
させ、矢印Xに沿った方向にワーク4”を移動させる。
続いて、前記制御部は、ワーク4”が所定の距離移動す
ると第1移動部121の駆動を終了させ、第2動作を選
定し、第2移動部122が駆動させ、ワーク4”を矢印
Xと直交する方向に移動させて、前記研磨開始位置に再
び戻す。上記制御をワーク4”の研磨が終了するまで続
けられる。
Subsequently, the control unit selects the first direction operation from the operation group, controls the swinging mechanism moving means 12, and moves the swinging mechanism 10, and thus the work 4 ″, to the side opposite to the arrow X. This movement is performed by the swing mechanism moving means 12.
Is performed by driving the first moving unit 121. When the work 4 ″ moves by a predetermined distance, the control unit ends the driving of the first moving unit 121, selects a second direction operation from the operation group, drives the second moving unit 122, and 4 "is moved in a direction orthogonal to the arrow X. Subsequently, the control unit stops driving the second moving unit,
The first operation is selected again, the driving of the first moving unit 121 is started, and the work 4 ″ is moved in the direction along the arrow X.
Subsequently, when the work 4 ″ moves a predetermined distance, the control unit terminates the driving of the first moving unit 121, selects the second operation, drives the second moving unit 122, and moves the work 4 ″ with the arrow X. And then return to the polishing start position again. The above control is continued until the polishing of the work 4 ″ is completed.

【0106】上記のように揺動機構10及び揺動機構移
動手段12が制御されることで、ワーク4”は、自身の
長手方向中心線の角度が変わることなく研磨される。言
い換えると、ワーク4”は、平行移動を繰り返し研磨さ
れる。従って、ワーク4”は、自身の一端、又は多端と
の間の部分を中心として、多端が弧を描くような移動を
させない。このため、ワーク4”は、長手方向寸法が長
手方向と直交する方向より大きくても、弧を描くような
移動をした際のような、前記一端と多端との移動距離及
び速度差が出ないため、全体に渡って均一に研磨される
ことが出来る。
By controlling the oscillating mechanism 10 and the oscillating mechanism moving means 12 as described above, the work 4 ″ is polished without changing the angle of its own longitudinal center line. In other words, the work 4 ″ is polished. 4 ″ is polished by repeating parallel movement. Accordingly, the work 4 "does not move such that the multi-end draws an arc around its one end or a portion between the multi-end. Therefore, the work 4" has a longitudinal dimension orthogonal to the longitudinal direction. Even if it is larger than the direction, there is no difference in the moving distance and the speed between the one end and the multi-end, as in the case of moving in an arc, so that the entire surface can be polished uniformly.

【0107】なお、本実施の形態において、ワーク4”
の研磨は、第1移動部121及び第2移動部122を駆
動させ、矢印Xに沿った方向及び直交する方向に移動さ
せて行われていたが、所望の研磨が達成されるのであれ
ば、どちらか一方のみ駆動させることで研磨を行うこと
も可能である。また、ワーク4”の平行移動により研磨
は、揺動機構10を揺動機構移動手段12により平行移
動させることで行われていたが、移動手段8を自身の軸
心と直交する方向に移動し得るように構成することで行
うことも可能である。このように、本実施の形態のワー
クの研磨装置1”は、制御部の制御により研磨媒体中の
ワーク4”の移動経路を、任意に制御し得る。
In this embodiment, the work 4 ″
Is performed by driving the first moving unit 121 and the second moving unit 122 to move the first moving unit 121 and the second moving unit 122 in the direction along the arrow X and in the direction perpendicular to the arrow X. However, if desired polishing is achieved, It is also possible to perform polishing by driving only one of them. The polishing by the parallel movement of the work 4 ″ has been performed by moving the swing mechanism 10 in parallel by the swing mechanism moving means 12, but the moving means 8 is moved in a direction orthogonal to its own axis. As described above, the work polishing apparatus 1 ″ of the present embodiment can arbitrarily move the movement path of the work 4 ″ in the polishing medium under the control of the control unit. You can control.

【0108】本発明に従ったワークの研磨装置1,
1’,1”は、制御部によって任意に制御し得ること
は、上述の通りである。例えば、制御部は、ワークを回
転軸6の軸心を中心に回転させている状態又は回転させ
ていない状態にし、図11(a)に示すように、ワーク
が回転軸の軸心に沿って移動を繰り返すように揺動機構
10を制御することも可能であるし、図11(b)に示
すように、揺動手段によりワークが円弧に沿った移動を
繰り返すように揺動機構10を制御させることも可能で
あるし、図11(c)に示すように、ワークが上述の回
転軸の軸心に沿った移動と円弧に沿った移動とを同時に
行わせて移動を繰り返すように揺動機構10を制御させ
ることも可能である。
The work polishing apparatus 1 according to the present invention
As described above, 1 ′ and 1 ″ can be arbitrarily controlled by the control unit. For example, the control unit is rotating or rotating the work about the axis of the rotation shaft 6. 11A, the swing mechanism 10 can be controlled so that the workpiece repeats the movement along the axis of the rotating shaft as shown in FIG. 11A, and as shown in FIG. 11B. In this way, the swing mechanism 10 can be controlled so that the work repeats the movement along the arc by the swing means, and as shown in FIG. It is also possible to control the swing mechanism 10 so that the movement along the heart and the movement along the arc are performed simultaneously and the movement is repeated.

【0109】また、例えば、前記制御部により、揺動機
構10と揺動機構移動手段12とをともに駆動させるよ
うに制御させた場合、図11(d)に示すようにワーク
を回転軸6の軸心を中心に回転させている状態にし、ワ
ークが回転軸の軸心と直交する方向に移動を繰り返すよ
うに制御することも可能である。また、ワークを回転軸
6の軸心を中心に回転させている状態又は回転させてい
ない状態にし、図11(e)に示すように、揺動手段に
よりワークが水平面に対して傾斜した状態に保って、回
転軸の軸心と直交する方向に移動を繰り返すように制御
することも可能である。さらに、ワークを回転軸6の軸
心を中心に回転させている状態又は回転させていない状
態にし、図11(f)に示すように、ワークが回転軸の
軸心に沿った方向に移動を繰り返させながら、回転軸の
軸心と直交する方向に移動を繰り返すように制御するこ
とも可能であるし、図11(g)に示すように、揺動手
段によりワークが水平面に対して傾斜した状態に保った
まま、ワークを回転軸の軸心に沿った方向に移動を繰り
返しがら、回転軸の軸心と直交する方向に移動を繰り返
すように制御することも可能である。さらに、ワークを
回転軸6の軸心を中心に回転させている状態又は回転さ
せていない状態にし、図11(h)に示すように、揺動
手段によりワークが円弧軌道に沿って移動を繰り返しな
がら、回転軸の軸心と直交する方向に移動を繰り返すよ
うに制御することも可能であるし、図11(i)に示さ
れるように、ワークが回転軸の軸心に沿った方向に移動
と、円弧軌道に沿った移動とを同時に行いながら、回転
軸の軸心と直交する方向に移動を繰り返すように制御す
ることも可能である。なお、上記各移動は、連続的、又
は間欠的に行うことが可能である。
For example, when the control section controls the swing mechanism 10 and the swing mechanism moving means 12 to be driven together, the work is moved to the rotating shaft 6 as shown in FIG. It is also possible to control so that the workpiece is repeatedly rotated in a direction orthogonal to the axis of the rotating shaft, with the workpiece being rotated about the axis. In addition, the work is rotated or not rotated about the axis of the rotating shaft 6, and as shown in FIG. 11E, the work is tilted with respect to the horizontal plane by the swinging means. It is also possible to control so that the movement is repeated in the direction orthogonal to the axis of the rotating shaft. Further, the work is rotated or not rotated about the axis of the rotation shaft 6, and the work is moved in the direction along the axis of the rotation shaft as shown in FIG. It is also possible to control so as to repeat the movement in the direction orthogonal to the axis of the rotating shaft while repeating, and as shown in FIG. 11 (g), the work is inclined with respect to the horizontal plane by the rocking means. It is also possible to control so that the workpiece is repeatedly moved in the direction along the axis of the rotation axis while maintaining the state, and is repeatedly moved in the direction perpendicular to the axis of the rotation axis. Further, the work is rotated about the axis of the rotary shaft 6 or is not rotated, and the work is repeatedly moved along the arc trajectory by the rocking means as shown in FIG. However, it is also possible to control so as to repeat the movement in the direction orthogonal to the axis of the rotation axis, and as shown in FIG. 11 (i), the work moves in the direction along the axis of the rotation axis. It is also possible to control so as to repeat the movement in the direction orthogonal to the axis of the rotating shaft while simultaneously performing the movement along the arc trajectory. Each of the above-mentioned movements can be performed continuously or intermittently.

【0110】これまで、いくつかの実施の形態について
図面を参照しながら具体的に説明したが、本発明は、上
述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨
を逸脱しない範囲で行なわれるすべての実施を含む。
Although some embodiments have been described in detail with reference to the drawings, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and may be carried out without departing from the scope of the invention. Including all implementations.

【0111】従って、本発明のワークの研磨装置につい
て、以下のことが言える。
Therefore, the following can be said about the workpiece polishing apparatus of the present invention.

【0112】(1)中に多数の研磨粒子と液体とからな
る研磨媒体が収容されるタンクと、一端側にワークが取
り付けられる回転軸と、この回転軸を、この回転軸の軸
心を中心として回転させる回転手段と、前記回転軸を前
記軸心に沿って移動させる移動手段と、前記回転軸を、
これの一端側が円弧軌道に沿って移動可能なように揺動
させる揺動手段と、前記ワークが、前記研磨媒体中で、
前記軸心を中心として回転されながら、円弧軌道に沿っ
て移動され、この移動により水平面に対して傾斜した状
態にされ、この傾斜を保持したまま直線軌道で移動さ
れ、これら移動が繰り返されて、前記研磨媒体により研
磨されるように、前記回転手段、前記移動手段、及び前
記揺動手段により、前記回転軸を駆動し、制御させる制
御部とを具備することを特徴とするワークの研磨装置。
(1) A tank in which a large number of abrasive particles and a liquid are contained in a tank, a rotating shaft on which a work is attached to one end, and the rotating shaft are centered on the rotating shaft. Rotating means for rotating as, moving means for moving the rotation axis along the axis, the rotation axis,
A swinging means for swinging one end of the workpiece so as to be movable along an arc trajectory; and
While being rotated about the axis, it is moved along an arc trajectory, is made to be inclined with respect to a horizontal plane by this movement, is moved in a linear trajectory while maintaining this inclination, and these movements are repeated, An apparatus for polishing a workpiece, comprising: a control unit configured to drive and control the rotating shaft by the rotating unit, the moving unit, and the swing unit so that the workpiece is polished by the polishing medium.

【0113】(2)前記回転軸、前記回転手段、前記移
動手段、及び前記揺動手段を前記軸線と交差する方向に
移動させる揺動機構移動手段をさらに具備し、前記制御
部は、前記揺動機構移動手段の駆動を制御することを特
徴とする(1)に記載のワークの研磨装置。
(2) The apparatus further comprises a rocking mechanism moving means for moving the rotating shaft, the rotating means, the moving means, and the rocking means in a direction intersecting with the axis. The work polishing apparatus according to (1), wherein the driving of the moving mechanism moving means is controlled.

【0114】(3)一端側にワークが取り付けられる回
転軸と、この回転軸を、この回転軸の軸心を中心として
回転させる回転手段と、前記回転軸を、前記軸心に沿っ
た方向、及び/又は、前記軸心に直交する方向に移動さ
せる移動手段と、前記回転軸を、これの一端側が円弧軌
道に沿って移動可能なように揺動させる揺動手段と、を
有する揺動機構を具備しているとともに、前記揺動機構
の駆動を制御する制御部と中に多数の研磨粒子を有する
研磨媒体が収容されるタンクと、を具備しており、前記
制御部は、前記ワークが前記軸心を中心として回転され
る動作と、前記ワークが前記軸心に沿った方向に移動さ
れる動作と、前記ワークが前記軸心と交差する方向に移
動される動作と、前記ワークが揺動手段による前記円弧
軌道に沿って移動される動作とを有する動作グループか
ら1つ又は複数の動作を選定し、選定された単一の動
作、又は選定された動作の組み合わされた動作を、前記
研磨媒体中で前記ワークが行い前記研磨媒体により研磨
されるように、前記揺動機構の駆動を制御することを特
徴とするワークの研磨装置。
(3) A rotating shaft to which a work is attached on one end side, a rotating means for rotating the rotating shaft about the axis of the rotating shaft, and a rotating shaft in a direction along the axis. And / or a rocking mechanism having a moving means for moving in a direction orthogonal to the axis, and a rocking means for rocking the rotating shaft such that one end of the rotating shaft can move along a circular orbit. And a control unit for controlling the driving of the swing mechanism and a tank in which a polishing medium having a large number of polishing particles is stored, and the control unit includes An operation of rotating the work about the axis, an operation of moving the work in a direction along the axis, an operation of moving the work in a direction intersecting the axis, and Moving along the arc path by moving means Selecting one or more operations from an operation group having an operation to be performed, and performing the selected single operation or a combination of the selected operations by the workpiece in the polishing medium. A polishing apparatus for polishing a workpiece, wherein the driving of the swing mechanism is controlled so that the workpiece is polished.

【0115】(4)前記制御部は、前記動作グループの
動作を組み合わせることで、前記ワークを、前記回転軸
の軸心の沿って回転させる動作と、円弧軌道に沿って移
動させ、水平面に対して傾斜した状態にされる動作と、
前記ワークがこの傾斜を保持したまま直線軌道で移動さ
れる動作と、を前記ワークが行うように前記揺動機構を
制御することを特徴とする(3)に記載のワークの研磨
装置。
(4) The control unit combines the operations of the operation groups to rotate the work along the axis of the rotation axis and to move the work along an arc trajectory, and Operation to be tilted,
The workpiece polishing apparatus according to (3), wherein the swing mechanism is controlled so that the workpiece performs an operation of moving the workpiece along a linear trajectory while maintaining the inclination.

【0116】(5)前記揺動機構を前記軸線と交差する
方向に移動させる揺動機構移動手段をさらに具備し、前
記制御部は、前記揺動機構移動手段の駆動を制御するこ
とを特徴とする(3)又は(4)に記載のワークの研磨
装置。
(5) A swing mechanism moving means for moving the swing mechanism in a direction intersecting with the axis is further provided, and the control unit controls the driving of the swing mechanism moving means. The work polishing apparatus according to (3) or (4).

【0117】(6)前記制御部は、ワークの長手方向の
寸法が、長手方向と直交する方向の寸法より大きい場
合、前記揺動機構移動手段を駆動させるように制御する
ことを特徴とする(5)に記載のワークの研磨装置。
(6) The control unit is characterized in that when the dimension of the work in the longitudinal direction is larger than the dimension in the direction orthogonal to the longitudinal direction, the control unit controls the swing mechanism moving means to be driven. The work polishing apparatus according to 5).

【0118】(7)前記タンクは、前記タンクを振動可
能に支持する複数の弾性部材と、前記タンクを振動させ
る加振手段とを有することを特徴とする(1)乃至
(6)のいずれか1に記載のワークの研磨装置。
(7) The tank has a plurality of elastic members for vibrating the tank and vibrating means for vibrating the tank. 2. The apparatus for polishing a workpiece according to claim 1.

【0119】(8)前記タンクは、前記底部が湾曲して
いることを特徴とする(1)乃至(7)のいずれか1に
記載のワークの研磨装置。
(8) The apparatus for polishing a workpiece according to any one of (1) to (7), wherein the bottom of the tank is curved.

【0120】(9)前記タンクは、このタンク中の研磨
粒子を通過させることなく、前記研磨媒体とワークとの
研磨かすを通過させる複数の孔を備えた内タンクと、こ
の内タンクを中に収容し、前記複数の孔を通過した前記
研磨かすを排出する排出口を底部に備える外タンクとを
有することを特徴とする(1)乃至(8)のいずれか1
に記載のワークの研磨装置。
(9) The tank has an inner tank provided with a plurality of holes through which polishing chips between the polishing medium and the workpiece pass without passing the abrasive particles in the tank. (1) to (8), comprising an outer tank which is provided at the bottom thereof and which has a discharge port for discharging the polishing swarf that has passed through the plurality of holes.
A polishing apparatus for a workpiece according to claim 1.

【0121】(10)前記外タンクは、前記底部から前
記研磨かすを洗い流す洗浄手段を有することを特徴とす
る(9)に記載のワークの研磨装置。
(10) The apparatus for polishing a workpiece according to (9), wherein the outer tank has a washing means for washing the polishing residue from the bottom.

【0122】(11)前記回転軸は、前記ワークを取り
付けるワーク取り付け部と、このワーク取り付け部を一
端側で枢支する回転軸本体と、前記ワーク取り付け部
を、前記軸心に対して折り曲げたワーク取り付け位置及
び前記軸心に沿って配置したワーク研磨位置に選択的に
前記回転軸本体に固定する固定手段とを有することを特
徴とする(1)乃至(10)のいずれか1に記載のワー
クの研磨装置。
(11) The rotary shaft has a work mounting portion for mounting the work, a rotary shaft main body pivotally supporting the work mounting portion on one end side, and the work mounting portion is bent with respect to the axis. (1) The fixing device according to any one of (1) to (10), further comprising fixing means for selectively fixing to the rotating shaft main body at a work mounting position and a work polishing position arranged along the axis. Work polishing equipment.

【0123】(12)一端側にワークが取り付けられる
回転軸と、この回転軸を、この回転軸の軸心を中心とし
て回転させる回転手段と、前記回転軸を、前記軸心に沿
った方向、及び/又は、前記軸心に直交する方向に移動
させる移動手段と、前記回転軸を、これの一端側が円弧
軌道に沿って移動可能なように揺動させる揺動手段と、
を有する揺動機構を具備しているとともに、前記揺動機
構の駆動を制御する制御部と中に多数の研磨粒子を有す
る研磨媒体が収容されるタンクと、を具備しているワー
クの研磨装置において、前記揺動機構10の動作可能な
動作を示す群である動作グループの中から、上記動作可
能な動作を1つ又は複数の動作の組み合わせを選定し、
選定された単一の動作、又は選定された動作の組み合わ
された動作を、行うように揺動機構10の駆動を制御
し、前記ワークを所定の移動経路で前記研磨媒体中を移
動させることで、前記ワークの研磨を行うことを特徴と
するワークの研磨方法。
(12) A rotating shaft on which a work is mounted on one end side, rotating means for rotating the rotating shaft about the axis of the rotating shaft, and a rotating shaft in a direction along the axis. And / or a moving means for moving in a direction orthogonal to the axis, and a rocking means for rocking the rotating shaft such that one end of the rotating shaft is movable along an arcuate trajectory;
A polishing apparatus for a workpiece, comprising: a swing mechanism having: a control unit for controlling the drive of the swing mechanism; and a tank in which a polishing medium having a large number of abrasive particles is stored. In the operation group, one or a combination of a plurality of operations is selected as the operable operation from an operation group which is a group indicating the operable operation of the swing mechanism 10.
By controlling the driving of the swing mechanism 10 to perform a selected single operation or a combined operation of the selected operations, and moving the work through the polishing medium along a predetermined moving path. And polishing the work.

【0124】(13)回転軸の一端側に装着されたワー
クを研磨媒体中に挿入する開始位置配置工程と、このワ
ークを前記回転軸の軸心を中心として回転させながら、
円弧軌道に沿って移動させ、水平面に対して傾斜した状
態にし、この傾斜を保持したまま直線軌道で移動させる
移動工程とを有し、この移動工程を繰り返すことにより
ワークを研磨することを特徴とする(12)に記載のワ
ークの研磨方法。
(13) A starting position arranging step of inserting a work mounted on one end side of the rotating shaft into the polishing medium, and while rotating the work about the axis of the rotating shaft,
Moving along a circular arc orbit, making it inclined with respect to the horizontal plane, and moving it in a linear orbit while maintaining this inclination, and polishing the work by repeating this moving step. (12) The method for polishing a work according to (12).

【0125】(14)ワークの長手方向の寸法が、長手
方向と直交する方向の寸法より大きい場合、前記方法
は、前記ワークを前記回転軸の軸心を中心として回転さ
せながら、前記回転軸の軸心と交差する方向に移動させ
る交差方向移動工程をさらに有することを特徴とする
(12)又は(13)に記載のワークの研磨方法。
(14) When the dimension of the workpiece in the longitudinal direction is larger than the dimension in the direction orthogonal to the longitudinal direction, the method includes rotating the workpiece about the axis of the rotating shaft while rotating the workpiece about the axis of the rotating shaft. The method for polishing a workpiece according to (12) or (13), further comprising a cross direction moving step of moving the work in a direction crossing the axis.

【0126】[0126]

【発明の効果】本発明は、構造が大型にはならず、かつ
大きい電力を必要としないで、大きいワークや、比較的
形状の複雑なワークで有っても、表面全体に渡って均一
に研磨することの可能な、ワークの研磨装置並びに研磨
方法を提供する。
According to the present invention, the structure is not large and does not require a large amount of power. Even if the work is a large work or a work having a relatively complicated shape, the work can be uniformly performed over the entire surface. Provided are a workpiece polishing apparatus and a polishing method that can be polished.

【0127】また、本発明は、研磨媒体中のワークの移
動経路を、任意に制御し得るワークの研磨装置を提供す
る。
Further, the present invention provides a workpiece polishing apparatus capable of arbitrarily controlling a movement path of a workpiece in a polishing medium.

【0128】また、本発明は、ワークの形状に対応し
て、表面全体に渡って均一に研磨し得るワークの研磨装
置を提供する。
The present invention also provides a work polishing apparatus capable of uniformly polishing the entire surface according to the shape of the work.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の第1の実施の形態のワークの
研磨装置の概略的な一部切欠側面図である。
FIG. 1 is a schematic partially cutaway side view of a workpiece polishing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2(a)は、図1のワークの研磨装置の回転
軸の枢支部を拡大した断面図である。図2(b)は、図
1のワークの研磨装置の回転軸の第1の変形例を示す断
面図である。
FIG. 2A is an enlarged cross-sectional view of a pivot portion of a rotating shaft of the work polishing apparatus of FIG. 1; FIG. 2B is a cross-sectional view showing a first modified example of the rotating shaft of the workpiece polishing apparatus of FIG.

【図3】図3(a)は、図1のワークの研磨装置の回転
軸の第2の変形例を示す断面図である。図3(b)は、
図1のワークの研磨装置の回転軸の第3の変形例を示す
断面図である。
FIG. 3A is a cross-sectional view showing a second modification of the rotation shaft of the work polishing apparatus of FIG. 1; FIG. 3 (b)
It is sectional drawing which shows the 3rd modification of the rotating shaft of the grinding | polishing apparatus of the workpiece | work of FIG.

【図4】図4は、図1のワークの研磨装置の部分的な分
解斜視図である。
FIG. 4 is a partially exploded perspective view of the work polishing apparatus of FIG. 1;

【図5】図5は、図1のワークの研磨装置の研磨開始前
の状態を示す概略的な一部切欠側面図である。
FIG. 5 is a schematic partially cutaway side view showing a state before the polishing of the work polishing apparatus of FIG. 1 is started;

【図6】図6は、図1のワークの研磨装置の研磨作業中
の状態を示す概略的な一部切欠側面図である。
FIG. 6 is a schematic partially cutaway side view showing a state during a polishing operation of the workpiece polishing apparatus of FIG. 1;

【図7】図7は、本発明の第2の実施の形態のワークの
研磨装置の概略的な一部切欠側面図である。
FIG. 7 is a schematic partially cutaway side view of a workpiece polishing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図8】図8は、本発明の第3の実施の形態のワークの
研磨装置の概略的な一部切欠側面図である。
FIG. 8 is a schematic partially cutaway side view of a workpiece polishing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図9】図9(a)は、第1移動部の概略的な上面図で
ある。図9(b)は、第2移動部の概略的な上面図であ
る。
FIG. 9A is a schematic top view of a first moving unit. FIG. 9B is a schematic top view of the second moving unit.

【図10】図10は、第3の実施の形態のワークの研磨
装置において、タンク中のワークの移動経路を示す概略
的な上面図である。
FIG. 10 is a schematic top view showing a movement path of a work in a tank in the work polishing apparatus according to the third embodiment.

【図11】図11は、本発明のワークの研磨装置の制御
部による制御の例を示す模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram illustrating an example of control by a control unit of a workpiece polishing apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1’、1” 研磨装置 2 研磨媒体 3、3’、3” タンク 4、4’、4” ワーク 5 ワーク取り付け部 6 回転軸 7 回転手段 8 移動手段 9 揺動手段 10 揺動機構 11、11” 入出機構 12 揺動機構移動手段 21 研磨粒子 31 内タンク 32 外タンク 33 孔 34 排出口 35 シャワー 61 回転軸本体 61a 枢支部 63 固定手段 83 移動シリンダー 84 案内部 92 案内支持台 93 揺動シリンダー 94 揺動手段固定部 111、111” 案内部 112、112” 入出シリンダー 113、113” 入出機構支持部 200 弾性部材 210 加振手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 ', 1 "Polishing apparatus 2 Polishing medium 3, 3', 3" Tank 4, 4 ', 4 "Work 5 Work mounting part 6 Rotating shaft 7 Rotating means 8 Moving means 9 Swing means 10 Swing mechanism 11 , 11 ″ in / out mechanism 12 rocking mechanism moving means 21 abrasive particles 31 inner tank 32 outer tank 33 hole 34 outlet 35 shower 61 rotating shaft main body 61a pivotal support 63 fixing means 83 moving cylinder 84 guide portion 92 guide support 93 rocking Cylinder 94 Rocking means fixing part 111, 111 "Guide part 112, 112" In / out cylinder 113, 113 "In / out mechanism support part 200 Elastic member 210 Vibration means

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中に多数の研磨粒子と液体とからなる研
磨媒体が収容されるタンクと、 一端側にワークが取り付けられる回転軸と、 この回転軸を、この回転軸の軸心を中心として回転させ
る回転手段と、 前記回転軸を前記軸心に沿って移動させる移動手段と、 前記回転軸を、これの一端側が円弧軌道に沿って移動可
能なように揺動させる揺動手段と、 前記ワークが、前記研磨媒体中で、前記軸心を中心とし
て回転されながら、円弧軌道に沿って移動され、この移
動により水平面に対して傾斜した状態にされ、この傾斜
を保持したまま直線軌道で移動され、これら移動が繰り
返されて、前記研磨媒体により研磨されるように、前記
回転手段、前記移動手段、及び前記揺動手段により、前
記回転軸を駆動し、制御させる制御部とを具備すること
を特徴とするワークの研磨装置。
1. A tank in which a polishing medium composed of a large number of abrasive particles and a liquid is accommodated, a rotating shaft on which a work is mounted on one end side, and the rotating shaft being centered on the axis of the rotating shaft Rotating means for rotating; moving means for moving the rotating shaft along the axis; rocking means for swinging the rotating shaft such that one end of the rotating shaft is movable along a circular orbit; The work is moved along the arc trajectory in the polishing medium while being rotated about the axis, and is caused to be inclined with respect to the horizontal plane by this movement. And a control unit that drives and controls the rotating shaft by the rotating unit, the moving unit, and the swinging unit so that these movements are repeated and polished by the polishing medium. Polishing device of a work according to claim.
【請求項2】 前記回転軸、前記回転手段、前記移動手
段、及び前記揺動手段を前記軸線と交差する方向に移動
させる揺動機構移動手段をさらに具備し、前記制御部
は、前記揺動機構移動手段の駆動を制御することを特徴
とする請求項1に記載のワークの研磨装置。
2. The apparatus according to claim 1, further comprising: a swing mechanism moving means for moving the rotating shaft, the rotating means, the moving means, and the swing means in a direction intersecting the axis. The apparatus for polishing a workpiece according to claim 1, wherein driving of the mechanism moving means is controlled.
【請求項3】 一端側にワークが取り付けられる回転軸
と、 この回転軸を、この回転軸の軸心を中心として回転させ
る回転手段と、 前記回転軸を、前記軸心に沿った方向、及び/又は、前
記軸心に直交する方向に移動させる移動手段と、 前記回転軸を、これの一端側が円弧軌道に沿って移動可
能なように揺動させる揺動手段と、 を有する揺動機構を具備しているとともに、 前記揺動機構の駆動を制御する制御部と中に多数の研磨
粒子を有する研磨媒体が収容されるタンクと、 を具備しており、 前記制御部は、 前記ワークが前記軸心を中心として回転される動作と、
前記ワークが前記軸心に沿った方向に移動される動作
と、前記ワークが前記軸心と交差する方向に移動される
動作と、前記ワークが揺動手段による前記円弧軌道に沿
って移動される動作とを有する動作グループから1つ又
は複数の動作を選定し、選定された単一の動作、又は選
定された動作の組み合わされた動作を、前記研磨媒体中
で前記ワークが行い前記研磨媒体により研磨されるよう
に、前記揺動機構の駆動を制御することを特徴とするワ
ークの研磨装置。
3. A rotating shaft on which a work is mounted on one end side; rotating means for rotating the rotating shaft about the axis of the rotating shaft; and a direction along the axis, And / or a oscillating mechanism having: a moving means for moving in a direction orthogonal to the axis; A control unit for controlling the driving of the rocking mechanism, and a tank in which a polishing medium having a large number of abrasive particles is accommodated. An operation of rotating about an axis,
An operation in which the work is moved in a direction along the axis, an operation in which the work is moved in a direction intersecting with the axis, and the work is moved along the arc trajectory by a rocking means And selecting one or more operations from the operation group having the operations described above, and performing the selected single operation or the combined operation of the selected operations by the workpiece in the polishing medium. An apparatus for polishing a workpiece, wherein the driving of the swing mechanism is controlled so as to be polished.
【請求項4】 前記制御部は、前記動作グループの動作
を組み合わせることで、前記ワークが前記回転軸の軸心
の沿って回転される動作と、前記ワークが円弧軌道に沿
って移動され、水平面に対して傾斜した状態にされる動
作と、前記ワークがこの傾斜を保持したまま直線軌道で
移動される動作と、を前記ワークが行うように前記揺動
機構を制御することを特徴とする請求項3に記載のワー
クの研磨装置。
And a controller configured to combine the operations of the operation groups so that the work is rotated along an axis of the rotation axis, and the work is moved along an arc trajectory. The swing mechanism is controlled so that the work performs an operation of making the work inclined with respect to the work and an operation of moving the work in a linear trajectory while maintaining the inclination. Item 4. A workpiece polishing apparatus according to Item 3.
【請求項5】 前記揺動機構を前記軸線と交差する方向
に移動させる揺動機構移動手段をさらに具備し、前記制
御部は、前記揺動機構移動手段の駆動を制御することを
特徴とする請求項3又は4に記載のワークの研磨装置。
5. The apparatus according to claim 1, further comprising a swing mechanism moving means for moving the swing mechanism in a direction intersecting with the axis, wherein the control unit controls driving of the swing mechanism moving means. The work polishing apparatus according to claim 3 or 4.
【請求項6】 前記制御部は、ワークの長手方向の寸法
が、長手方向と直交する方向の寸法より大きい場合、前
記揺動機構移動手段を駆動させるように制御することを
特徴とする請求項5に記載のワークの研磨装置。
6. The control unit according to claim 1, wherein the control unit controls the swing mechanism moving unit to be driven when a dimension of the workpiece in a longitudinal direction is larger than a dimension in a direction orthogonal to the longitudinal direction. 6. The polishing apparatus for a workpiece according to 5.
【請求項7】 前記タンクは、前記タンクを振動可能に
支持する複数の弾性部材と、前記タンクを振動させる加
振手段とを有することを特徴とする請求項1乃至6のい
ずれか1項に記載のワークの研磨装置。
7. The tank according to claim 1, wherein the tank has a plurality of elastic members that support the tank so that the tank can be vibrated, and a vibrating unit that vibrates the tank. Polishing device for the described work.
【請求項8】 前記タンクは、前記底部が湾曲している
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載
のワークの研磨装置。
8. The apparatus according to claim 1, wherein the bottom of the tank is curved.
【請求項9】 前記タンクは、このタンク中の研磨粒子
を通過させることなく、前記研磨媒体とワークとの研磨
かすを通過させる複数の孔を備えた内タンクと、この内
タンクを中に収容し、前記複数の孔を通過した前記研磨
かすを排出する排出口を底部に備える外タンクとを有す
ることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記
載のワークの研磨装置。
9. The inner tank having a plurality of holes through which polishing chips between the polishing medium and the workpiece pass without passing the abrasive particles in the tank, and the inner tank is accommodated therein. 9. The apparatus for polishing a workpiece according to claim 1, further comprising: an outer tank provided at a bottom with a discharge port for discharging the polishing swarf that has passed through the plurality of holes. 10.
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