JP2001350253A - Frame for pellicle made of aluminum and method for producing the same - Google Patents

Frame for pellicle made of aluminum and method for producing the same

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JP2001350253A
JP2001350253A JP2000168434A JP2000168434A JP2001350253A JP 2001350253 A JP2001350253 A JP 2001350253A JP 2000168434 A JP2000168434 A JP 2000168434A JP 2000168434 A JP2000168434 A JP 2000168434A JP 2001350253 A JP2001350253 A JP 2001350253A
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JP
Japan
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acid
pellicle frame
aluminum
film
carbon
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Japanese (ja)
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Takayuki Yamaguchi
隆幸 山口
Takeshi Ebihara
健 海老原
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Nippon Light Metal Co Ltd
Original Assignee
Nippon Light Metal Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a frame for a pellicle less liable to fade and capable of accurately transferring a pattern circuit. SOLUTION: In a step S1, a frame material for a pellicle made of aluminum is anodically oxidized in an electrolytic solution of an organic acid having a functional group using at least carbon and oxygen as constitutional elements. In a step S2, the frame material anodically oxidized in the step S1 is dyed with a black organic dye.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LSIの製造や液
晶の製造時等の光線照射によるパターン回路焼き付き工
程に用いるアルミニウム製ペリクル用枠およびその製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum pellicle frame used in a pattern circuit printing step by irradiating a light beam when manufacturing an LSI or a liquid crystal, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】アルミニウム(純アルミニウム又はアル
ミニウム合金)は軽量で加工し易く、また陽極酸化処
理、染色処理等で耐蝕性が付与され、しかも精度よく表
面を黒色化できることから、ペリクル用枠として使用さ
れている。
2. Description of the Related Art Aluminum (pure aluminum or aluminum alloy) is used as a pellicle frame because it is lightweight and easy to process, and is given corrosion resistance by anodic oxidation treatment, dyeing treatment, etc., and can accurately blacken the surface. Have been.

【0003】このようなペリクル用枠を製造する際に
は、まず所定寸法に加工された枠材を硫酸水溶液中で陽
極酸化処理し、その後、その陽極酸化処理された枠材を
有機染料で黒色に染色することが行われている。陽極酸
化処理することで枠材に耐蝕性および耐磨耗性が付与さ
れ、黒色化染色することで異物検査を容易にし、さらに
は照射光線の散乱を防止して、パターン回路を精度良く
焼き付けるよう図られている。
In manufacturing such a pellicle frame, first, a frame material processed to a predetermined size is anodized in a sulfuric acid aqueous solution, and then the anodized frame material is blackened with an organic dye. Dyeing has been performed. The anodic oxidation treatment imparts corrosion resistance and abrasion resistance to the frame material, and blackening and dyeing facilitates inspection of foreign substances, and further prevents scattering of irradiation light and prints the pattern circuit with high accuracy. It is planned.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、LSI製造
時や液晶製造時等のリソグラフィ工程で使用されている
照射光源は、外乱要因の少ない高エネルギー線、例えば
i線(波長365nm)、g線(波長435nm)等の
高エネルギー紫外線が使用されている。
By the way, the irradiation light source used in the lithography process such as at the time of manufacturing an LSI or a liquid crystal is a high-energy ray having few disturbance factors, for example, i-line (wavelength 365 nm), g-line ( High energy ultraviolet rays having a wavelength of 435 nm are used.

【0005】近年、LSIの集積度の増大化からパター
ン回路が緻密になっている。緻密なパターン回路を焼き
付けるには、解像度が高くかつ高エネルギーの遠紫外
線、例えばエキシマレーザー光(波長248nm、波長
193nm等)を光源として用いることが考えられてい
る。
[0005] In recent years, pattern circuits have become finer due to an increase in the degree of integration of LSIs. In order to print a dense pattern circuit, it is considered to use far ultraviolet rays having high resolution and high energy, for example, excimer laser light (wavelength 248 nm, wavelength 193 nm, etc.) as a light source.

【0006】しかしながら、このような高エネルギー紫
外線を使用すると、硫酸陽極酸化皮膜は透明な皮膜であ
ることから、有機染料が照射紫外線により分解を受け、
黒色が退色し易くなり、リソグラフィ工程の際、退色箇
所で照射光線が反射され、転写パターン回路を乱す欠点
がある。
However, when such high-energy ultraviolet rays are used, since the sulfuric acid anodic oxidation film is a transparent film, the organic dye is decomposed by the irradiation ultraviolet rays,
There is a disadvantage in that black is easily discolored, and in the lithography process, irradiation light is reflected at a discolored portion and disturbs the transfer pattern circuit.

【0007】このようなことから、酸化皮膜のポア内に
金属を二次電解処理で析出させる方法が提案されている
(特開平9−236908号公報)。ところが、二次電
解処理ではpH、液温等の液管理が困難であり、さらに
その設備費が高く、また廃液処理も必要である。また、
二次電解処理後に黒色系有機染料層を設けることも考え
られるが、ペリクル用枠の製造工程が複雑となる。
For this reason, a method has been proposed in which a metal is deposited in the pores of an oxide film by secondary electrolytic treatment (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-236908). However, in the secondary electrolytic treatment, it is difficult to control the liquid such as the pH and the liquid temperature, the equipment cost is high, and the waste liquid is also required. Also,
It is conceivable to provide a black organic dye layer after the secondary electrolytic treatment, but the manufacturing process of the pellicle frame becomes complicated.

【0008】本発明の目的は、退色が少なく、パターン
回路を精度良く転写できるペリクル用枠、およびその製
造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a pellicle frame capable of transferring a pattern circuit with high precision with little fading and a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】発明者らは上記従来の欠
点を解決すべく研究をした結果、炭素と酸素を構成元素
とする官能基を有する有機酸陽極酸化皮膜の上に、黒色
系有機染料層を設けた場合は、皮膜厚さを殊更厚くする
必要なく、しかも高エネルギー紫外線を照射しても黒色
系有機染料の退色が少なく、ペリクル用枠として使用し
たときに長期間の使用に耐えることを発見した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied to solve the above-mentioned drawbacks, and as a result, have found that a black organic organic anodic oxide film having a functional group containing carbon and oxygen as constituent elements is formed on the anodic oxide film. When a dye layer is provided, there is no need to particularly increase the thickness of the film, and even when irradiated with high-energy ultraviolet rays, there is little fading of the black organic dye, and it can withstand long-term use when used as a pellicle frame. I discovered that.

【0010】すなわち本発明は、アルミニウム製のペリ
クル用枠材の表面に、炭素または炭素化合物もしくはそ
の両方を分散含有した陽極酸化皮膜が形成され、更に陽
極酸化皮膜上に黒色系染料層が形成されたことを特徴と
するアルミニウム製ペリクル用枠である。ペリクル用枠
に炭素または炭素化合物もしくはその両方を分散含有し
た陽極酸化皮膜を設けることにより、皮膜が黒色系の有
色であるために、照射光線のエネルギーを吸収し、皮膜
の上に更に設けた前記黒色有機染料の退色を防止する効
果を有する。
That is, according to the present invention, an anodic oxide film containing carbon and / or a carbon compound dispersed therein is formed on the surface of an aluminum pellicle frame material, and a black dye layer is formed on the anodic oxide film. This is a pellicle frame made of aluminum. By providing the pellicle frame with an anodized film containing carbon or a carbon compound or both dispersedly, because the film is black in color, it absorbs the energy of the irradiation light and is further provided on the film. It has the effect of preventing fading of the black organic dye.

【0011】また皮膜上に黒色系有機染料層を設けたこ
とにより、皮膜のみで黒色化する必要なく、例えば皮膜
のみで黒色化するためには皮膜厚さを厚くして黒色濃度
を深め、厚くした結果皮膜には大きなクラックが発生し
易くなり、クラックが発生し易ければクラック対策を講
じておかなければならないところを、本発明ではそのよ
うなクラック対策の必要なく、陽極酸化皮膜の厚さを5
〜15μmと薄い厚さの皮膜で黒色系有機染料の退色防
止を達成させることができる。陽極酸化皮膜の厚さは好
ましくは7〜12μmである。
Further, since the black organic dye layer is provided on the film, it is not necessary to blacken only the film. For example, in order to blacken only the film, the thickness of the film is increased and the black density is increased. As a result, large cracks are likely to occur in the film, and if cracks are likely to occur, it is necessary to take measures against cracks, but in the present invention, there is no need for such crack measures, the thickness of the anodic oxide film 5
It is possible to achieve prevention of fading of the black organic dye with a film having a thickness as thin as 15 μm. The thickness of the anodic oxide film is preferably 7 to 12 μm.

【0012】また本発明は、アルミニウム製のペリクル
用枠材を、炭素と酸素を少なくとも構成元素とする官能
基を有する有機酸電解液中で陽極酸化処理する第1の工
程と、陽極酸化処理されたペリクル用枠材を黒色系有機
染料により染色処理する第2の工程とを含むことを特徴
とするアルミニウム製ペリクル用枠の製造方法である。
炭素と酸素を少なくとも構成元素とする官能基を有する
有機酸電解液中で陽極酸化処理することにより、炭素ま
たは炭素化合物もしくはその両方を分散含有した黒色系
の有色陽極酸化皮膜が形成でき、更に黒色系有機染料に
より染色処理することにより、退色の少ない長時間使用
できるペリクル用枠を簡易な工程で製造することができ
る。
Further, the present invention provides a first step of anodizing a pellicle frame material made of aluminum in an organic acid electrolytic solution having a functional group containing carbon and oxygen as at least constituent elements; And a second step of dyeing the pellicle frame material with a black organic dye.
By performing anodic oxidation treatment in an organic acid electrolyte having a functional group containing carbon and oxygen as at least constituent elements, a black colored anodic oxide film containing carbon and / or a carbon compound dispersed therein can be formed, and further black. By dyeing with a system organic dye, a pellicle frame that can be used for a long time with little fading can be manufactured in a simple process.

【0013】また陽極酸化処理する電解液に無機酸を含
有させると皮膜中にポアが形成され易くなって、有機酸
のみの場合よりも数およびその深さが増し、染料の付着
面積が増加して黒色化し易くなる。また染色処理前に、
陽極酸化処理された枠材を酸水溶液へ浸漬することによ
り、該枠材の+帯電量を増加させ、−に帯電している黒
色系有機染料の着き周り性を向上させる。
Further, when an inorganic acid is contained in the electrolytic solution to be anodized, pores are easily formed in the film, the number and the depth of the pores are increased as compared with the case of using only the organic acid, and the area of the dye adhered is increased. Blackened easily. Before dyeing,
By dipping the anodized frame material in an aqueous acid solution, the amount of positive charge of the frame material is increased, and the throwing power of the negatively charged black organic dye is improved.

【0014】炭素と酸素を少なくとも構成元素とする官
能基をカルボキシル基(構造式:−COOH)とするこ
とにより、安定した水溶液が得られるので、良好な黒色
陽極酸化皮膜の生成が可能となる。
When a functional group containing at least carbon and oxygen as a constituent element is a carboxyl group (structural formula: -COOH), a stable aqueous solution can be obtained, and a good black anodic oxide film can be formed.

【0015】無機酸および酸水溶液を硝酸または硫酸も
しくはこれらの混酸を主成分とする酸水溶液とすること
により、安定した酸水溶液で陽極酸化後の染色工程での
黒色化をより向上させる。
When the aqueous solution of an inorganic acid and an acid is an aqueous acid solution containing nitric acid or sulfuric acid or a mixed acid thereof as a main component, blackening in a dyeing step after anodic oxidation is further improved with a stable aqueous acid solution.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明のペリクル用枠について説
明する。ペリクル用枠材としてのアルミニウムの組成は
特に限定するものではないが、加工性、耐蝕性、強度が
求められるので、5000系、6000系、7000系
の合金が適している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A pellicle frame according to the present invention will be described. The composition of aluminum as the pellicle frame material is not particularly limited, but 5000 type, 6000 type, and 7000 type alloys are suitable because workability, corrosion resistance, and strength are required.

【0017】図2は代表的形状を有するペリクル用枠の
斜視図である。図2に示すように、ペリクル用枠11は
矩形状をなし、隅部11Aがアール形状に形成されてい
る。
FIG. 2 is a perspective view of a pellicle frame having a typical shape. As shown in FIG. 2, the pellicle frame 11 has a rectangular shape, and a corner 11A is formed in a round shape.

【0018】図3はペリクル用枠の使用形態を示してお
り、(A)はペリクル用枠をフォトレジストマスクに貼着
装備した状態の断面図、(B)はペリクル用枠の断面図で
ある。図3(A)に示すように、硬質ガラスからなるフォ
トレジストマスク12には、その表面にICやLSIな
どの回路配線図(回路パターン)13が形成されてい
る。このフォトレジストマスク12は図示していない転
写装置(ステッパー)に装備され、回路配線図13が露
光されて、図示していない半導体基板に回路パターンが
転写される。この場合、回路配線図13に塵が付着して
いると、転写された配線図が不鮮明となるので、これを
防止するために、フォトレジストマスク12に光学機器
部品であるペリクル用枠11が貼着される。ペリクル用
枠11には透光性のペリクル膜14が張着されており、
回路配線図13の原図全面をカバーするようにフォトレ
ジストマスク12に貼着される。フォトレジストマスク
12の回路配線図13側の反対側17に上記した同様な
ペリクル用枠11を設けて使用することもある。ペリク
ル用枠11の大きさは、フォトレジストマスク12の大
きさに対応している。
FIGS. 3A and 3B show the use of the pellicle frame. FIG. 3A is a sectional view of the pellicle frame with the pellicle frame attached to a photoresist mask, and FIG. 3B is a sectional view of the pellicle frame. . As shown in FIG. 3A, a circuit wiring diagram (circuit pattern) 13 such as an IC or LSI is formed on a surface of a photoresist mask 12 made of hard glass. The photoresist mask 12 is mounted on a transfer device (stepper) (not shown), the circuit wiring diagram 13 is exposed, and a circuit pattern is transferred to a semiconductor substrate (not shown). In this case, if dust adheres to the circuit wiring diagram 13, the transferred wiring diagram becomes unclear. To prevent this, the pellicle frame 11, which is an optical device component, is attached to the photoresist mask 12. Be worn. A translucent pellicle film 14 is adhered to the pellicle frame 11.
It is attached to the photoresist mask 12 so as to cover the entire original drawing of the circuit wiring diagram 13. The same pellicle frame 11 as described above may be provided on the opposite side 17 of the photoresist mask 12 on the circuit wiring diagram 13 side for use. The size of the pellicle frame 11 corresponds to the size of the photoresist mask 12.

【0019】ペリクル用枠11の一側端面には、図3
(B)に示すように、貼着剤保護膜15が張られた貼着剤
16が予め塗布されており、ペリクル用枠11をフォト
レジストマスク12に貼着する際には、貼着剤保護膜1
5を剥がして貼着剤16の塗布された面をフォトレジス
トマスク12に密着させる。このようにペリクル用枠1
1をフォトレジストマスク12に貼着すると、塵はペリ
クル膜14で遮られ回路配線図13に付着することがな
い。また、ペリクル膜14に塵が付着しても、塵はレン
ズを通過した外部光源からの光により焦点がぼけて結像
されないから、半導体基板面に結像される像は、原図通
りの回路配線図が転写される。
FIG. 3 shows one end surface of the pellicle frame 11 on one side.
As shown in (B), a patch 16 on which a patch protective film 15 is stretched is applied in advance, and when the pellicle frame 11 is attached to the photoresist mask 12, the adhesive protection is performed. Membrane 1
5 is peeled off and the surface on which the adhesive 16 is applied is brought into close contact with the photoresist mask 12. Thus, the pellicle frame 1
When 1 is adhered to the photoresist mask 12, the dust is blocked by the pellicle film 14 and does not adhere to the circuit wiring diagram 13. Also, even if dust adheres to the pellicle film 14, the dust is defocused by the light from the external light source passing through the lens and is not imaged, so that the image formed on the semiconductor substrate surface is the circuit wiring as shown in the original drawing. The figure is transcribed.

【0020】上記ペリクル用枠には陽極酸化皮膜が形成
されている。陽極酸化皮膜中に炭素または炭素化合物も
しくはその両方が分散していると皮膜が黒色系に着色す
るので、この皮膜の上に黒色有機染料層を設けたペリク
ル用枠とする。このような枠とすることにより、リソグ
ラフィ工程でペリクル用枠に高エネルギー紫外線を照射
しても、図1に示す如く、照射光線1は厚さの薄い黒色
有機染料層2を通過し、通過した照射光線3はペリクル
用枠材のアルミニウム地6表面に設けられた炭素または
炭素化合物もしくはその両方が分散している陽極酸化皮
膜4でエネルギーが減衰し、ポア5内壁面および皮膜表
面に付着した黒色有機染料層2に対して分解が生じ難く
なり、退色し難くなる。有機染料としては、例えばサン
ド社製サノダール ディープ ブラック MLW等が適当
である。
An anodized film is formed on the pellicle frame. If carbon or a carbon compound or both are dispersed in the anodic oxide film, the film is colored black, so that a pellicle frame having a black organic dye layer provided on this film is used. With such a frame, even when the pellicle frame is irradiated with high-energy ultraviolet rays in the lithography process, as shown in FIG. 1, the irradiation light beam 1 passes through the thin black organic dye layer 2 and passes therethrough. The energy of the irradiation light 3 is attenuated by the anodic oxide film 4 in which carbon or a carbon compound or both are dispersed provided on the surface of the aluminum base 6 of the pellicle frame material, and the black light adheres to the inner wall surface of the pore 5 and the film surface. The organic dye layer 2 is less likely to be decomposed and is less likely to fade. As the organic dye, for example, SANODAL DEEP BLACK MLW manufactured by Sando Co., Ltd. is suitable.

【0021】皮膜の色を黒色に着色させるためには、皮
膜の厚さを30μm以上とするのがよいが、皮膜は厚さ
があり過ぎると、陽極酸化処理後に割れが発生するの
で、厚さを15μm以下に止めることが好ましい。より
好ましくは12μm以下である。このようにすることに
より、酸化皮膜には割れがなく、塵埃発生の虞がないペ
リクル用枠とすることができ、リソグラフィ工程で塵埃
による回路転写の不良発生がなく、正確な回路転写がで
きる。
In order to color the coating black, it is preferable that the thickness of the coating is 30 μm or more. However, if the coating is too thick, cracks occur after anodizing treatment. Is preferably kept to 15 μm or less. More preferably, it is 12 μm or less. By doing so, it is possible to provide a pellicle frame in which the oxide film has no cracks and there is no danger of generating dust, and there is no occurrence of circuit transfer failure due to dust in the lithography process, and accurate circuit transfer can be performed.

【0022】次に、上記ペリクル用枠の製造方法につい
て説明する。図4は、ペリクル用枠の製造手順を示して
いる。まず、炭素と酸素を少なくとも構成元素とする官
能基を有する有機酸電解液中でペリクル用枠材を陽極酸
化処理する(ステップS1)。次に、陽極酸化処理され
たペリクル用枠材を黒色系有機染料により染色処理する
(ステップS2)。
Next, a method of manufacturing the pellicle frame will be described. FIG. 4 shows a manufacturing procedure of the pellicle frame. First, the pellicle frame material is anodized in an organic acid electrolyte having a functional group containing carbon and oxygen as constituent elements (step S1). Next, the pellicle frame material that has been anodized is dyed with a black organic dye (step S2).

【0023】陽極酸化皮膜は、電解質を含む電解液中で
金属を陽極として電気分解させ、発生した酸素により金
属が酸化し、金属表面に酸化皮膜を形成するものであ
る。金属がアルミニウムである場合、表面が酸化アルミ
ニウムとなり、電流の通過するポア(孔)を多数形成し
ながら次第に皮膜に成長していくわけであるが、皮膜中
に炭素または炭素化合物もしくはその両方が分散含有す
るのは次の理由によるものと思われる。
The anodic oxide film is formed by electrolysis using a metal as an anode in an electrolytic solution containing an electrolyte, and the generated oxygen oxidizes the metal to form an oxide film on the metal surface. When the metal is aluminum, the surface becomes aluminum oxide and gradually grows into a film while forming a large number of pores through which electric current passes. However, carbon or a carbon compound or both are dispersed in the film. It is thought that it is contained for the following reasons.

【0024】すなわち、電解液が電解質として炭素と酸
素を少なくとも構成元素とする官能基を有する有機酸を
含むと、陽極酸化処理に際してこの官能基が炭素と酸素
に分解し、アルミニウムの表面が酸化アルミニウムとな
って皮膜として成長していく過程で、分解した炭素ある
いは官能基あるいは有機酸等の炭素化合物が皮膜中に取
り込まれていく。
That is, when the electrolytic solution contains an organic acid having a functional group containing at least carbon and oxygen as constituent elements as an electrolyte, the functional group is decomposed into carbon and oxygen at the time of anodic oxidation treatment, and the surface of aluminum becomes aluminum oxide. In the process of growing as a film, decomposed carbon or a carbon compound such as a functional group or an organic acid is incorporated into the film.

【0025】炭素および炭素化合物は蛍光X線分析法と
赤外分光分析法の両方を用いて分析することにより確認
することができる。
[0025] Carbon and carbon compounds can be confirmed by analysis using both fluorescent X-ray analysis and infrared spectroscopy.

【0026】陽極酸化処理条件は例えば次のとおりであ
る。炭素と酸素を少なくとも構成元素とする官能基とし
てはカルボキシル基等があり、このような官能基を有す
る有機酸としては、例えば、下記の構造式で示されるマ
レイン酸等が適当である。
The conditions of the anodizing treatment are, for example, as follows. A functional group containing at least carbon and oxygen as a constituent element includes a carboxyl group and the like. As the organic acid having such a functional group, for example, maleic acid represented by the following structural formula is suitable.

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】特に炭素と酸素を少なくとも構成元素とす
る官能基がカルボキシル基であると、上述した如く有機
酸量少なく、黒色系陽極酸化皮膜の生成が可能である。
処理の好ましい一例を示すと以下のとおりである。 有機酸量:0.1〜30wt%水溶液、好ましくは1〜
10wt%水溶液 電流 :直流または交流もしくは交直重畳 電流密度:0.5〜4A/dm、好ましくは1〜3A
/dm 電圧 :〜120V、好ましくは40〜80V 液温度 :5〜40℃、好ましくは15〜25℃
Particularly, carbon and oxygen are at least constituent elements.
When the functional group is a carboxyl group,
With a small amount of acid, a black anodic oxide film can be formed.
A preferred example of the processing is as follows. Organic acid amount: 0.1 to 30 wt% aqueous solution, preferably 1 to
10 wt% aqueous solution Current: DC or AC or superimposed AC / DC Current density: 0.5 to 4 A / dm2, Preferably 1-3A
/ Dm2  Voltage: ~ 120V, preferably 40 ~ 80V Liquid temperature: 5 ~ 40 ° C, preferably 15 ~ 25 ° C

【0029】上記の方法で陽極酸化処理されたペリクル
用枠を有機染料で染色する。有機染料としては上述した
如く、例えばサンド社製 サノダール ディープ ブラッ
ク MLW等が適当である。
The pellicle frame anodized by the above method is dyed with an organic dye. As described above, for example, Sanodal Deep Black MLW manufactured by Sando is suitable as the organic dye.

【0030】有機染料の染色処理条件は例えば次のとお
りである。 上記の有機染料量:5〜20g/L、好ましくは10〜
15g/L 液温度 :50〜60℃、好ましくは55〜6
0℃
The conditions for dyeing the organic dye are as follows, for example. The amount of the above organic dye: 5 to 20 g / L, preferably 10 to 20 g / L
15 g / L liquid temperature: 50 to 60 ° C., preferably 55 to 6
0 ° C

【0031】染色処理後陽極酸化皮膜に発生したポア
(孔)を閉じ、塵埃の溜まる虞をなくすために封孔処理
することが好ましい。
It is preferable that pores formed in the anodic oxide film after the dyeing treatment are closed, and a sealing treatment is carried out in order to eliminate the possibility of accumulation of dust.

【0032】染色処理するとポア壁を含む皮膜上に染料
層が形成されるが、この場合、ポア壁面に付着した染料
層は皮膜平面に付着した染料層より染料の面密度が高く
黒色化に対する寄与度が高い。この染料層の厚さは1〜
数分子層と考えられる。
When the dyeing treatment is performed, a dye layer is formed on the film including the pore wall. In this case, the dye layer adhered to the pore wall has a higher areal density of the dye than the dye layer adhered to the film plane, and contributes to blackening. High degree. The thickness of this dye layer is 1 to
Considered several molecular layers.

【0033】上述の有機酸を含む電解液に添加する無機
酸としては例えば、硫酸または燐酸あるいはこれらの混
酸が適当である。無機酸の添加量は0.5〜30wt%
が好ましい。無機酸を添加することにより、皮膜にポア
が均整に形成される。この無機酸を添加した場合の皮膜
中ポアの寸法は、電解液の種類、温度、電解条件等によ
って変動するが、おおよそ内径が250〜500Å程
度、隣接するポアとポア間の壁厚さが1000〜200
0Å程度、ポア底の皮膜厚さが1000〜2000Å程
度である。
As the inorganic acid to be added to the above-mentioned electrolyte containing an organic acid, for example, sulfuric acid, phosphoric acid or a mixed acid thereof is suitable. Addition amount of inorganic acid is 0.5 to 30 wt%
Is preferred. By adding the inorganic acid, pores are uniformly formed in the film. The dimensions of the pores in the film when this inorganic acid is added vary depending on the type of electrolyte, temperature, electrolysis conditions, etc., but the inner diameter is about 250 to 500 °, and the wall thickness between adjacent pores is 1000 ~ 200
The film thickness of the pore bottom is about 1000 ° and about 2000 °.

【0034】陽極酸化処理後のペリクル用枠を、例えば
硝酸または硫酸もしくはこれらの混酸の水溶液中に浸漬
させると、このペリクル用枠の+帯電量を増加させ、−
に帯電している黒色系有機染料の着き周り性を向上させ
る。酸の量は例えば0.5〜50wt%水溶液、好まし
くは5〜40wt%水溶液である。
When the pellicle frame after the anodizing treatment is immersed in, for example, an aqueous solution of nitric acid or sulfuric acid or a mixed acid thereof, the + charge amount of the pellicle frame is increased, and
Improves the coverage of black organic dyes that are electrically charged. The amount of the acid is, for example, a 0.5 to 50 wt% aqueous solution, preferably a 5 to 40 wt% aqueous solution.

【0035】[0035]

【実施例】(実施例1)T6処理されたAA7075ア
ルミニウム合金の中空押出材を切断し、横148mm×
縦122mm×厚さ2mmのペリクル用枠を切削研磨し
て用意し、次の条件で陽極酸化処理、酸水溶液への浸漬
処理、および有機染料による染色処理を行ってペリクル
用枠を製作した。 陽極酸化処理条件 電解液 :スルホサリチル酸5wt%含有する水溶液、
またはマロン酸5wt%含有する水溶液 液温度 :15℃ 電流密度:3A/dm 有機染料による染色処理 有機染料 :サンド社製 サノダール ディープ ブ
ラック MLW 有機染料の濃度:10g/L 液温度 :60℃ 浸漬時間 :10分
(Example 1) AA7075A treated with T6
Cut a hollow extruded material of Luminium alloy, 148mm wide
Cutting and polishing a pellicle frame of 122 mm long x 2 mm thick
Prepared, anodized under the following conditions, immersed in an aqueous acid solution
Pellicle after treatment and dyeing with organic dye
A frame was made. Anodizing treatment conditions Electrolyte: aqueous solution containing 5% by weight of sulfosalicylic acid
Or an aqueous solution containing 5% by weight of malonic acid Liquid temperature: 15 ° C Current density: 3 A / dm2  Dyeing treatment with organic dye Organic dye: SANODAR DEEP
Rack MLW Concentration of organic dye: 10 g / L Liquid temperature: 60 ° C. Immersion time: 10 minutes

【0036】なお、スルホサリチル酸を含有する場合を
実施例1−1と、マロン酸を含有する場合を実施例1−
2とする。また、スルホサリチル酸およびマロン酸のそ
れぞれの構造式を下記に示す。
Example 1-1 contains sulfosalicylic acid, and Example 1-1 contains malonic acid.
Let it be 2. The structural formulas of sulfosalicylic acid and malonic acid are shown below.

【0037】[0037]

【化2】 Embedded image

【0038】[0038]

【化3】 Embedded image

【0039】上記の条件でペリクル用枠材を陽極酸化処
理し、酸化皮膜厚さ2,10,20,30μmをそれぞ
れ形成させた。この枠について色調の評価はハンターの
色差式による明度指数L*を用いて表示した。また皮膜
の割れを10倍拡大法で検査し、目視検査で割れの発生
割合を測定した。またこの枠について陽極酸化処理を蛍
光X線分析法および赤外分光分析法で分析したところ、
炭素ないしは炭素化合物が検出された。また前記陽極酸
化処理した別の枠を上記の条件で有機染料による染色処
理を10分間施しペリクル用枠とした。この枠について
下記条件で紫外線照射テストして耐退色性を目視検査し
た。その結果を表1に示す。 紫外線照射テスト条件 使用波長 :235.7nm 紫外線出力:15W 照射時間 :100時間
Under the above conditions, the pellicle frame material was anodized to form oxide film thicknesses of 2, 10, 20, and 30 μm, respectively. The evaluation of the color tone of this frame was indicated using a lightness index L * based on the Hunter's color difference formula. The film was inspected for cracks by a 10-fold magnification method, and the percentage of occurrence of cracks was measured by visual inspection. The frame was analyzed for anodic oxidation by X-ray fluorescence analysis and infrared spectroscopy.
Carbon or carbon compounds were detected. Further, another frame subjected to the anodizing treatment was subjected to a dyeing treatment with an organic dye under the above conditions for 10 minutes to obtain a pellicle frame. This frame was subjected to an ultraviolet irradiation test under the following conditions to visually inspect fading resistance. Table 1 shows the results. UV irradiation test conditions Wavelength used: 235.7 nm UV output: 15 W Irradiation time: 100 hours

【0040】(実施例2)実施例1で使用した条件の電
解液に更に硫酸0.5wt%含有させた液を使用し、他
の条件は実施例1と同様にして処理した。測定項目、そ
の条件も同じとした。その結果を表1に示す。
(Example 2) A solution in which 0.5 wt% of sulfuric acid was further added to the electrolytic solution under the conditions used in Example 1 was used, and the other conditions were the same as in Example 1. The measurement items and the conditions were the same. Table 1 shows the results.

【0041】なお、スルホサリチル酸と硫酸を含有する
場合を実施例2−1と、マロン酸と硫酸を含有する場合
を実施例2−2とする。
The case containing sulfosalicylic acid and sulfuric acid is referred to as Example 2-1 and the case containing malonic acid and sulfuric acid is referred to as Example 2-2.

【0042】(比較例1)実施例1で使用した条件の電
解液の代わりに硫酸15wt%含有する電解液を使用
し、他の条件は実施例1と同様にして処理した。酸化皮
膜厚さも2,10,20,30μmのそれぞれを形成さ
せ、測定項目、その条件も同じとした。その結果を表1
に示す。なお、本比較例は表1中では比較例1−1とす
る。
Comparative Example 1 An electrolytic solution containing 15% by weight of sulfuric acid was used in place of the electrolytic solution used in Example 1, and the other conditions were the same as in Example 1. Oxide film thicknesses of 2, 10, 20, and 30 μm were formed, and the measurement items and conditions were the same. Table 1 shows the results.
Shown in This comparative example is referred to as Comparative Example 1-1 in Table 1.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】表1中、耐退色性の欄の○印は目視検査で
退色が認められなかったものを、×印は目視検査で退色
が認められたものを示す。また、割れの発生割合の欄に
おいて、0/5は5個の枠に全てに割れが発生しなかっ
たことを、1/5は1個の枠に割れが発生したことを、
5/5は全ての枠に割れが発生したことをそれぞれ示し
ている。明度指数L*値が低いほど黒色系に着色してい
ることを示す。
In Table 1, a circle in the column of fading resistance indicates that no fading was observed by visual inspection, and a cross indicates that fading was observed by visual inspection. In the column of crack occurrence ratio, 0/5 means that no cracks occurred in all five frames, and 1/5 means that cracks occurred in one frame.
5/5 indicates that cracks occurred in all the frames. The lower the lightness index L * value, the more the color is colored black.

【0045】表1の結果から次のことが判る。すなわ
ち、陽極酸化皮膜中に炭素または炭素化合物もしくはそ
の両方を含有している皮膜は黒色系に着色し、紫外線照
射に対して黒色系有機染料に耐退色性を付与できること
が判る。皮膜厚さが厚くなるに従い黒色系着色が濃色化
し、10μmで皮膜はすでに着色し、紫外線照射に対し
て黒色系有機染料に耐退色性を付与できることが判る。
The following can be seen from the results in Table 1. That is, it is found that the film containing carbon or carbon compound or both in the anodic oxide film is colored black, and the black organic dye can be provided with fading resistance to ultraviolet irradiation. It can be seen that as the film thickness increases, the black color becomes deeper and the film is already colored at 10 μm, and that the black organic dye can be given fading resistance to ultraviolet irradiation.

【0046】また、炭素と酸素を少なくとも構成元素と
する官能基を有する有機酸電解液中で陽極酸化処理する
と、酸化皮膜は黒色系に着色し、紫外線照射に対して黒
色系有機染料に耐退色性を付与できることが判る。さら
に上記有機酸電解液に硫酸を含有させた電解液中で処理
すると、一層黒色系に着色する効果のあることが判る。
また酸化皮膜厚さが薄いと割れの発生し難くなることが
判る。
When anodizing is performed in an organic acid electrolyte having a functional group containing at least carbon and oxygen as constituent elements, the oxide film is colored black and is resistant to discoloration to a black organic dye upon irradiation with ultraviolet rays. It can be seen that the property can be imparted. Further, it can be seen that when the above-mentioned organic acid electrolyte is treated in an electrolyte containing sulfuric acid, the organic acid electrolyte has an effect of further coloring black.
Also, it can be seen that when the thickness of the oxide film is small, cracks hardly occur.

【0047】また比較例1−1からは、硫酸電解液によ
る陽極酸化皮膜は透明で、紫外線照射に対して黒色系有
機染料が退色してしまうことが判る。
From Comparative Example 1-1, it can be seen that the anodic oxide film formed by the sulfuric acid electrolytic solution is transparent, and the black organic dye fades upon irradiation with ultraviolet rays.

【0048】(実施例3) 陽極酸化処理条件 電解液:スルホサリチル酸5wt%、マロン酸5wt
%、スルホサリチル酸5wt%+硫酸0.5wt%、カ
ルボキシル基及びスルホン基が官能基のスルホフタル酸
5wt%+硫酸0.5wt%、またはカルボキシル基が
官能基であるマロン酸5wt%+硫酸0.5wt%
(Example 3) Anodizing treatment conditions Electrolyte solution: sulfosalicylic acid 5 wt%, malonic acid 5 wt%
%, 5% by weight of sulfosalicylic acid + 0.5% by weight of sulfuric acid, 5% by weight of sulfophthalic acid having a carboxyl group and a sulfone group + 0.5% by weight of sulfuric acid, or 5% by weight of malonic acid having a functional group of a carboxyl group + 0.5% of sulfuric acid %

【0049】上記の電解液、実施例1の液温度・電流密
度の条件で陽極酸化皮膜処理し厚さ10μmの皮膜を形
成させ、下記条件で種々酸含有量を変えた酸水溶液に浸
漬し、次いで実施例1と同じ条件で有機染料による染色
処理を施し温水封孔をしたペリクル用枠とした。この枠
について、紫外線照射前後の色調を測定した。紫外線照
射条件は実施例1と同じである。色調の評価はハンター
の色差式による明度指数L*を用いて表示した。その結
果を表2に示す。 酸水溶液への浸漬処理条件 酸水溶液:硝酸濃度0.1,10,20,30,40w
t%含有する水溶液 液温度 :25℃ 浸漬時間:1分
Anodizing film treatment was performed under the conditions of the above electrolytic solution and the temperature and current density of Example 1 to form a film having a thickness of 10 μm, and the film was immersed in an acid aqueous solution having various acid contents under the following conditions. Next, a pellicle frame was dyed with an organic dye under the same conditions as in Example 1 and sealed with hot water. With respect to this frame, the color tone before and after the ultraviolet irradiation was measured. The ultraviolet irradiation conditions are the same as in the first embodiment. The evaluation of the color tone was indicated using a lightness index L * according to the Hunter's color difference formula. Table 2 shows the results. Immersion treatment conditions in acid aqueous solution Acid aqueous solution: nitric acid concentration 0.1, 10, 20, 30, 40 w
Aqueous solution containing t% Liquid temperature: 25 ° C Immersion time: 1 minute

【0050】なお、スルホサリチル酸で処理し、酸水溶
液へ浸漬しない場合を実施例3−1、マロン酸で処理
し、酸水溶液へ浸漬しない場合を実施例3−2、スルホ
サリチル酸と硫酸を含有した電解液で処理し、酸水溶液
へ浸漬しない場合を実施例3−3、スルホフタル酸と硫
酸を含有した電解液で処理し、硝酸濃度0.1の酸水溶
液へ浸漬する場合を実施例3−4、以下同様にマロン酸
と硫酸を含有し硝酸濃度10の場合を実施例3−5、ス
ルホフタル酸と硫酸を含有し硝酸濃度20の場合を実施
例3−6、スルホフタル酸と硫酸を含有し硝酸濃度30
の場合を実施例3−7、スルホフタル酸と硫酸を含有し
硝酸濃度40の場合を実施例3−8とする。また、スル
ホフタル酸の構造式を下記に示す。
In Example 3-1 where treatment with sulfosalicylic acid was carried out without immersion in an aqueous acid solution, and in Example 3-2 where treatment was carried out with malonic acid and without immersion in an aqueous acid solution, sulfosalicylic acid and sulfuric acid were contained. Example 3-3 is a case where the cell is treated with an electrolytic solution and is not immersed in an acid aqueous solution. Similarly, the case of containing malonic acid and sulfuric acid and having a nitric acid concentration of 10 in Example 3-5, the case of containing sulfophthalic acid and sulfuric acid and having a nitric acid concentration of 20 in Example 3-6, and containing nitric acid containing sulfophthalic acid and sulfuric acid. Concentration 30
The case of Example 3-7 is referred to as Example 3-7, and the case of containing sulfophthalic acid and sulfuric acid and having a nitric acid concentration of 40 is referred to as Example 3-8. The structural formula of sulfophthalic acid is shown below.

【0051】[0051]

【化4】 Embedded image

【0052】(実施例4)実施例3と同じ条件で陽極酸
化処理した後、下記条件で種々酸含有量を変えた酸水溶
液に浸漬し、次いで実施例1と同じ条件で有機染料によ
る染色処理を施しペリクル用枠とした。この枠につい
て、紫外線照射前後の色調を測定した。紫外線照射条件
は実施例1と同じである。その結果を表2に示す。 酸水溶液への浸漬処理条件 酸水溶液:硫酸濃度0.1,10,20,30,40w
t%含有する水溶液 液温度 :25℃ 浸漬時間:1分
(Example 4) After anodizing under the same conditions as in Example 3, immersion in an aqueous acid solution having various acid contents under the following conditions, and then dyeing with an organic dye under the same conditions as in Example 1 To give a pellicle frame. With respect to this frame, the color tone before and after the ultraviolet irradiation was measured. The ultraviolet irradiation conditions are the same as in the first embodiment. Table 2 shows the results. Immersion treatment conditions in acid aqueous solution Acid aqueous solution: sulfuric acid concentration 0.1, 10, 20, 30, 40 w
Aqueous solution containing t% Liquid temperature: 25 ° C Immersion time: 1 minute

【0053】なお、本実施例では全てが電解質としてス
ルホフタル酸5wt%と硫酸0.5wt%を含有してい
る。陽極酸化後浸漬する酸水溶液が硫酸濃度0.1の場
合を実施例4−1、硫酸濃度10の場合を実施例4−
2、硫酸濃度20の場合を実施例4−3、硫酸濃度30
の場合を実施例4−4、硫酸濃度40の場合を実施例4
−5とする。
In this embodiment, all contain 5 wt% of sulfophthalic acid and 0.5 wt% of sulfuric acid as electrolytes. Example 4-1 when the acid aqueous solution to be immersed after anodic oxidation was 0.1 in sulfuric acid concentration, and Example 4- in the case of 10% sulfuric acid concentration
2. The case of sulfuric acid concentration of 20 was used in Example 4-3, sulfuric acid concentration of 30.
Example 4-4 in the case of (1) and Example 4 in the case of sulfuric acid concentration of 40
-5.

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】表2の結果から次のことが判る。すなわ
ち、有機酸陽極酸化電解液に酸を含有していないペリク
ル用枠(実施例3−1,実施例3−2)の染色後の明度
指数L*1が28.0であるのに対し、有機酸陽極酸化電
解液に酸を含有させたペリクル用枠(実施例3−3)の
染色後の明度指数L*が27.1と低くなっていて、電解
液に酸を含有させると有機染料に着き周り性が良好で濃
色化できることが判る。
The following can be seen from the results in Table 2. That is, the lightness index L * 1 after dyeing of the pellicle frame containing no acid in the organic acid anodizing electrolyte (Example 3-1 and Example 3-2) is 28.0, The lightness index L * after dyeing of the pellicle frame containing an acid in the organic acid anodizing electrolyte (Example 3-3) is as low as 27.1. It can be seen that the toner has good surrounding properties and can be darkened.

【0056】また、有機酸陽極酸化処理後に酸水溶液に
浸漬しないペリクル用枠材(実施例3−3)の染色後の
明度指数L*1が27.1であるのに対して、酸水溶液に
浸漬したペリクル用枠材(実施例3−4,3−6,3−
7,3−8及び実施例4−1,4−2,4−3,4−
4,4−5)は、有機染料による染色処理において、染
色後の明度指数L*1が26.7〜22.4と低くなってお
り、陽極酸化処理後に酸水溶液に浸漬すると有機染料の
着き周り性が良好となることが判る。
The lightness index L * 1 after dyeing of the pellicle frame material (Example 3-3) which was not immersed in the aqueous acid solution after the organic acid anodic oxidation treatment was 27.1. Frame material for immersed pellicle (Examples 3-4, 3-6, 3-
7, 3-8 and Examples 4-1, 4-2, 4-3, 4-
No. 4,4-5) shows that the lightness index L * 1 after dyeing is as low as 26.7 to 22.4 in the dyeing treatment with an organic dye. It turns out that surrounding property becomes favorable.

【0057】また比較例で作成したペリクル用枠の明度
は照射後L*2が49.6となり、照射前と照射後の明度
差ΔLは20.8で激しく退色していることが判る。
The lightness of the pellicle frame prepared in the comparative example was L * 2 after irradiation of 49.6, and the lightness difference ΔL between before and after irradiation was 20.8, indicating that the color was sharply faded.

【0058】[0058]

【発明の効果】上述したように、本発明のアルミニウム
製ペリクル用枠は、酸化皮膜中に炭素を含有しており、
高エネルギーの紫外線を照射しても黒色系有機染料の退
色が少なく、長期間の使用に耐えることができる。その
結果、リソグラフィ工程における回路転写費用の低コス
ト化が図れ、さらには照射光線の反射が少なく、回路パ
ターンをぼかすことなく精密に転写できる。
As described above, the aluminum pellicle frame of the present invention contains carbon in the oxide film,
Even when irradiated with high-energy ultraviolet rays, there is little fading of the black organic dye, and it can withstand long-term use. As a result, the circuit transfer cost in the lithography process can be reduced, and furthermore, the reflection of the irradiation light is small, and the circuit pattern can be precisely transferred without blurring.

【0059】また、陽極酸化処理の電解液の電解質に炭
素と酸素を少なくとも含有する官能基を持つ有機酸を使
用するので、容易に酸化皮膜中に炭素を含有させること
ができ、しかも陽極酸化処理電解液中に酸を含有させた
り、陽極酸化処理後に酸含有水溶液中に浸漬するだけ
で、有機染料が着き易くなり、染色時間の短縮化が図れ
る。
In addition, since an organic acid having a functional group containing at least carbon and oxygen is used as the electrolyte of the electrolytic solution of the anodizing treatment, carbon can be easily contained in the oxide film. The organic dye can be easily attached and the dyeing time can be shortened simply by adding an acid to the electrolyte or immersing it in an acid-containing aqueous solution after the anodic oxidation treatment.

【0060】さらに、高エネルギーの紫外線を照射して
も黒色系有機染料の退色が少なく、長期間の使用に耐え
る効果を有するペリクル用枠を簡単な工程で製造でき
る。
Further, a pellicle frame having little effect of fading of the black organic dye even when irradiated with high-energy ultraviolet rays and having an effect of withstanding long-term use can be manufactured by a simple process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ペリクル用枠の断面の一辺を模式的に拡大して
示した説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing one side of a cross section of a pellicle frame in an enlarged manner.

【図2】本発明に係るアルミニウム製ペリクル用枠の斜
視図である。
FIG. 2 is a perspective view of an aluminum pellicle frame according to the present invention.

【図3】ペリクル用枠の使用形態を示しており、(A)は
ペリクル用枠をフォトレジストマスクに貼着装備した状
態の断面図、(B)はペリクル用枠の断面図である。
3A and 3B show a usage form of a pellicle frame, in which FIG. 3A is a cross-sectional view showing a state in which the pellicle frame is attached to a photoresist mask, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the pellicle frame.

【図4】ペリクル用枠の製造手順を示したフローチャー
トである。
FIG. 4 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a pellicle frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 照射光線 2 黒色系有機染料層 3 通過照射光線 4 陽極酸化皮膜 5 ポア(孔) 6 ペリクル用枠材のアルミニウム地 7 通過照射光線3がアルミニウム地6に反射して向き
を変えた反射光 8 皮膜4中に取り込まれた炭素または炭素化合物 11 ペリクル用枠 11A 隅部 12 フォトレジストマスク 13 回路配線図 14 ペリクル膜 15 貼着剤保護膜 16 貼着剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Irradiation light 2 Black organic dye layer 3 Passing irradiation light 4 Anodized film 5 Pore (hole) 6 Aluminum ground of pellicle frame material 7 Reflected light whose passing irradiation light 3 was reflected by aluminum ground 6 and changed its direction 8 Carbon or carbon compound taken in film 4 11 Pellicle frame 11A Corner 12 Photoresist mask 13 Circuit wiring diagram 14 Pellicle film 15 Adhesive protective film 16 Adhesive

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム製のペリクル用枠材の表面
に、炭素または炭素化合物もしくはその両方を分散含有
した陽極酸化皮膜が形成され、更に該陽極酸化皮膜上に
黒色系有機染料層が形成されたことを特徴とするアルミ
ニウム製ペリクル用枠。
An anodic oxide film containing carbon and / or a carbon compound dispersed therein is formed on the surface of an aluminum pellicle frame material, and a black organic dye layer is formed on the anodic oxide film. An aluminum pellicle frame.
【請求項2】 前記陽極酸化皮膜の厚さが5〜15μm
であることを特徴とする請求項1記載のアルミニウム製
ペリクル用枠。
2. The anodic oxide film has a thickness of 5 to 15 μm.
The aluminum pellicle frame according to claim 1, wherein:
【請求項3】 アルミニウム製のペリクル用枠材を、炭
素と酸素を少なくとも構成元素とする官能基を有する有
機酸電解液中で陽極酸化処理する第1の工程と、 陽極酸化処理された前記ペリクル用枠材を黒色系有機染
料により染色処理する第2の工程と、を含むことを特徴
とするアルミニウム製ペリクル用枠の製造方法。
3. A first step of anodizing an aluminum pellicle frame material in an organic acid electrolyte having a functional group containing at least carbon and oxygen as constituent elements, and the anodized pellicle. A second step of dyeing the frame material with a black organic dye. A method for manufacturing an aluminum pellicle frame.
【請求項4】 前記有機酸電解液に無機酸を含有させる
ことを特徴とする請求項3記載のアルミニウム製ペリク
ル用枠の製造方法。
4. The method for producing an aluminum pellicle frame according to claim 3, wherein the organic acid electrolyte contains an inorganic acid.
【請求項5】 前記第2の工程の前に、前記第1の工程
で陽極酸化処理されたペリクル用枠材を酸水溶液へ浸漬
する工程を挿入することを特徴とする請求項3又は4記
載のアルミニウム製ペリクル用枠の製造方法。
5. The method according to claim 3, wherein a step of dipping the pellicle frame material anodized in the first step in an aqueous acid solution is inserted before the second step. Manufacturing method of aluminum pellicle frame.
【請求項6】 前記官能基が、カルボキシル基であるこ
とを特徴とする請求項3又は4記載のアルミニウム製ペ
リクル用枠の製造方法。
6. The method for producing an aluminum pellicle frame according to claim 3, wherein the functional group is a carboxyl group.
【請求項7】 前記無機酸が、硫酸または燐酸もしくは
これらの混酸を主成分とする無機酸であることを特徴と
する請求項4記載のアルミニウム製ペリクル用枠の製造
方法。
7. The method for producing an aluminum pellicle frame according to claim 4, wherein the inorganic acid is an inorganic acid containing sulfuric acid, phosphoric acid or a mixed acid thereof as a main component.
【請求項8】 前記酸水溶液が、硝酸または硫酸もしく
はこれらの混酸を主成分とする酸水溶液であることを特
徴とする請求項5記載のアルミニウム製ペリクル用枠の
製造方法。
8. The method for producing an aluminum pellicle frame according to claim 5, wherein the aqueous acid solution is an aqueous acid solution containing nitric acid, sulfuric acid or a mixed acid thereof as a main component.
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