JP2001344823A - Optical information recording medium, method for producing the same and recording and reproducing method for the same - Google Patents

Optical information recording medium, method for producing the same and recording and reproducing method for the same

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JP2001344823A
JP2001344823A JP2000168114A JP2000168114A JP2001344823A JP 2001344823 A JP2001344823 A JP 2001344823A JP 2000168114 A JP2000168114 A JP 2000168114A JP 2000168114 A JP2000168114 A JP 2000168114A JP 2001344823 A JP2001344823 A JP 2001344823A
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JP
Japan
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layer
optical information
information recording
recording medium
light absorbing
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Japanese (ja)
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Mayumi Uno
真由美 宇野
Noboru Yamada
昇 山田
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high density optical information recording medium capable of suppressing the erasure of adjacent information when recording is carried out at a higher density and to provide a method for producing the medium and recording and reproducing methods for the medium. SOLUTION: The optical information recording medium has at least a recording layer whose optical characteristic can be reversibly varied by irradiation with laser light, a light absorbing layer and a reflecting layer. The complex index of refraction n-ik of the light absorbing layer at the wavelength of the laser light satisfies the conditions A; 0<n<2.5 and 0<k<=5, the conditions B; 2.5<=n<=6.0 and 3.5<=k<=5.0 or the condition C; 5<k<=8 and the wavelength of the laser light is in the range of 300-500 nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光線の照
射等の光学的な手段を用い、高密度、高速度での情報の
記録再生、及び書き換えが可能な光学情報記録媒体とそ
の製造方法、及びその記録再生方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording / reproducing and rewriting information at high density and high speed by using optical means such as laser beam irradiation, and a method of manufacturing the same. It relates to the recording / reproducing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】大容量、高速度での情報の記録及び書き
換えが可能な媒体として、光磁気記録媒体や相変化形記
録媒体等の光学情報記録媒体が知られている。これらの
光記録媒体は、記録材料にレーザー光を局所的に照射す
ることにより生じる記録材料の光学特性の違いを記録と
して利用したものである。
2. Description of the Related Art Optical information recording media such as magneto-optical recording media and phase-change recording media are known as media capable of recording and rewriting information at a high capacity and at a high speed. These optical recording media utilize a difference in optical characteristics of the recording material caused by locally irradiating the recording material with a laser beam as recording.

【0003】これらの光学情報記録媒体は、必要に応じ
てランダムアクセスが可能であり、かつ可搬性にも優れ
るという大きな利点を有しているため、高度情報化社会
においてますますその重要性が高まっている。例えばコ
ンピュータを通じた個人データや映像情報等の記録、保
存や、医療の分野、学術分野、或いは可搬なデジタルビ
デオレコーダーの記録媒体、家庭用ビデオテープレコー
ダーの置き換え等、様々な分野で利用、或いは利用する
試みがなされている。現在、これらの光学情報記録媒体
について、アプリケーションの高性能化や画像情報の高
性能化に伴い、さらに大容量化(高密度化)、高速化を
達成することが求められている。
[0003] These optical information recording media have a great advantage that they can be randomly accessed as required and are also highly portable, and thus their importance is increasing in the advanced information society. ing. For example, recording and preserving personal data and video information through a computer, medical fields, academic fields, portable digital video recorder recording media, home video tape recorder replacement, etc. Attempts have been made to use it. At present, these optical information recording media are required to achieve higher capacities (higher densities) and higher speeds in accordance with higher performance of applications and higher performance of image information.

【0004】さらなる高密度化を達成する手段として、
記録に用いるレーザー光の短波長化、或いはレーザー光
の高NA(開口数)化が従来より提案されている。これ
らはいずれもレーザー光の最小スポット径を小さくする
ことを可能にするため、より小さいマークの記録が可能
となり、記録材料の膜面内方向において、より高密度の
書き込みが原理的に可能となる。しかし、非常に高密度
で信号の書き込みを行う場合、信号の書き換え時に、既
に書き込まれている隣接マークへ熱的、或いは光学的な
影響を及ぼし、隣接マークを消去してしまうという、い
わゆる隣接消去が生じやすくなることが知られている。
[0004] As means for achieving higher densification,
Conventionally, shortening the wavelength of laser light used for recording or increasing the NA (numerical aperture) of laser light has been proposed. In each of these cases, it is possible to reduce the minimum spot diameter of the laser beam, so that it is possible to record a smaller mark, and in principle, higher density writing is possible in the in-plane direction of the recording material. . However, when a signal is written at a very high density, when a signal is rewritten, the adjacent mark already written is thermally or optically affected and the adjacent mark is erased. Is known to easily occur.

【0005】光吸収層を設けることにより、媒体の特性
を向上させる試みは、これまでにいくつかなされてい
る。例えば、特開平5−159360号公報には、記録
層と吸収層と放熱層とを設けることにより、オーバーラ
イト消去率を向上させる技術が開示されている。この発
明では、吸収層で光吸収を生じさせることにより、記録
層の異なる光学状態間での吸収率差を調節することがで
き、オーバーライト消去率が向上することが開示されて
いる。しかしこの発明においては、記録層での光吸収を
調節することが主な目的であり、青色波長において既述
の隣接消去を低減するための工夫については述べられて
いない。また、青色波長での高密度記録を行う際に、光
吸収層がとるべき最適な光学定数範囲や吸収率も考慮さ
れていない。この発明において吸収層は、Ti、Ni、
W等の金属といった、使用レーザー光において吸収特性
を持つ材料とされているが、吸収層の熱伝導率を制御す
ることによって、吸収層での発熱を調節し、記録感度を
向上させる工夫については述べられていない。
There have been several attempts to improve the characteristics of a medium by providing a light absorbing layer. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-159360 discloses a technique for improving the overwrite erasing rate by providing a recording layer, an absorption layer, and a heat dissipation layer. According to the present invention, it is disclosed that by causing light absorption in the absorption layer, the difference in absorptance between different optical states of the recording layer can be adjusted, and the overwrite erasure rate is improved. However, in the present invention, the main purpose is to adjust the light absorption in the recording layer, and there is no mention of a device for reducing the aforementioned adjacent erasure at the blue wavelength. Further, when performing high-density recording at a blue wavelength, the optimum optical constant range and absorptance to be taken by the light absorbing layer are not considered. In the present invention, the absorption layer is made of Ti, Ni,
It is a material such as metal such as W that has absorption characteristics for the used laser light. However, by controlling the thermal conductivity of the absorption layer, the heat generated in the absorption layer is adjusted to improve the recording sensitivity. Not stated.

【0006】また例えば、特開平8−329525号公
報には、反射層を2層設けることにより、多数回の繰り
返しが可能となる技術が開示されている。しかし、この
発明においても、青色波長で高密度記録を行う際の隣接
消去の低減については述べられておらず、このとき光吸
収層がとるべき最適な光学定数範囲についても考慮され
ていない。
[0006] For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-329525 discloses a technique in which two reflective layers are provided so that the reflective layers can be repeated many times. However, even in the present invention, reduction of adjacent erasure when performing high-density recording at a blue wavelength is not described, and no consideration is given to an optimum optical constant range to be taken by the light absorbing layer at this time.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】高密度化を達成するた
めに、隣接マーク間の距離をさらに短くした場合、信号
の書き換え時に、既に書き込まれている隣接マークへ熱
的、或いは光学的な影響を及ぼし、隣接マークを消去し
てしまうという、いわゆる隣接消去の課題が生じる。特
に、近年開発の進んでいる青色波長域のレーザー光を用
いて、さらなる小スポット径にて高密度記録を行う場
合、この隣接消去が大きな課題となる。隣接消去が生じ
る場合、原理的にはより小スポット径での記録が可能で
あっても、実用上、高密度化を達成した媒体を提供する
ことができなくなる。
When the distance between adjacent marks is further shortened to achieve higher density, when signals are rewritten, thermal or optical influences on already written adjacent marks are made. And erases the adjacent mark, which is a problem of so-called adjacent erasure. In particular, when high-density recording is performed with a smaller spot diameter using a laser beam in the blue wavelength region, which has been developed in recent years, this adjacent erasure is a major problem. When adjacent erasure occurs, even if recording with a smaller spot diameter is possible in principle, it is practically impossible to provide a medium with a higher density.

【0008】また、この隣接消去を低減するために、従
来赤色波長で使用可能なSi系、Ti系等の吸収層を媒
体に設けた場合であっても、光学的、熱的な特性が不十
分であり、隣接消去を低減することはできないという課
題がある。
Further, in order to reduce the adjacent erasure, even if the medium is provided with a Si-based or Ti-based absorption layer which can be conventionally used at a red wavelength, the optical and thermal characteristics are not good. There is a problem that it is sufficient and the adjacent erase cannot be reduced.

【0009】本発明は上記課題を解決し、青色波長域の
レーザーを用いてさらなる高密度記録を行う場合でも、
隣接消去を低減させることが可能な媒体を提供すること
を目的としている。これにより、さらなる高密度記録媒
体を実現することが可能となる。
[0009] The present invention solves the above-mentioned problems, and performs higher-density recording using a laser in a blue wavelength range.
It is an object of the present invention to provide a medium capable of reducing adjacent erasure. This makes it possible to realize a higher density recording medium.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光学情報記録媒体は、レーザー光の照射に
よって光学特性が可逆的に変化しうる記録層と、光吸収
層と、反射層とを少なくとも有し、前記レーザー光の波
長における前記光吸収層の複素屈折率n−ikが、条件
A:0<n<2.5かつ0<k≦5、条件B:2.5≦
n≦6.0かつ3.5≦k≦5.0、及び条件C:5<
k≦8から選択されるいずれかの条件を満たし、かつ前
記レーザー光の波長が300nmから500nmの範囲
内にあることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an optical information recording medium according to the present invention comprises a recording layer whose optical characteristics can be reversibly changed by irradiation with a laser beam, a light absorbing layer, and a reflective layer. And the complex refractive index n-ik of the light absorbing layer at the wavelength of the laser light is such that condition A: 0 <n <2.5 and 0 <k ≦ 5, condition B: 2.5 ≦
n ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.0, and condition C: 5 <
It satisfies one of the conditions selected from k ≦ 8, and the wavelength of the laser light is in a range of 300 nm to 500 nm.

【0011】これにより、隣接マーク間隔が非常に狭い
場合であっても書き込み時の隣接消去を低減することが
でき、より高密度な光学情報記録媒体が可能となる。
As a result, even when the interval between adjacent marks is very small, adjacent erasure at the time of writing can be reduced, and a higher density optical information recording medium can be realized.

【0012】前記記録層の上下に接して、界面層が設け
られていることがより好ましい。この好ましい例によれ
ば、より高密度で記録を行った場合でも十分な消去特性
を得ることができ、本発明による隣接消去低減の効果を
より顕著に発揮することができる。
More preferably, an interface layer is provided above and below the recording layer. According to this preferred example, sufficient erasing characteristics can be obtained even when recording is performed at a higher density, and the effect of reducing adjacent erasing according to the present invention can be more remarkably exhibited.

【0013】前記光吸収層の800Kにおける熱伝導率
は、0.01W/(m・K)以上、5.0W/(m・
K)以下であることが好ましい。これにより、マーク書
き込みによる発熱時において、最適な熱バランスを保つ
ことが可能となり、隣接消去の低減効果がより効果的に
得られる。
The thermal conductivity of the light absorbing layer at 800 K is 0.01 W / (m · K) or more and 5.0 W / (m · K).
K) It is preferably the following. This makes it possible to maintain an optimal heat balance at the time of heat generation due to mark writing, and more effectively reduce the adjacent erasure.

【0014】前記光吸収層は、アモルファス状態である
ことが好ましい。この好ましい例によれば、上記の好ま
しい熱伝導率の範囲を満たすことが容易に可能となり、
隣接消去をより効果的に低減することができる。
The light absorbing layer is preferably in an amorphous state. According to this preferred example, it is possible to easily satisfy the above-described preferred range of the thermal conductivity,
Adjacent erasure can be reduced more effectively.

【0015】前記光吸収層は、In−Sb、Sn−T
e、Cr−Te、Al−Sb、Pb−Te、Au、A
g、Cu、Ni、Cr、Pt、Nb、Pd、Sn、S
b、Bi、In、Znのうちのいずれかを少なくとも含
む材料から形成されていることが好ましい。この好まし
い例によれば、光吸収層の複素屈折率が既述の良好な範
囲を満たすことが容易に可能となる。
The light absorbing layer is made of In-Sb, Sn-T
e, Cr-Te, Al-Sb, Pb-Te, Au, A
g, Cu, Ni, Cr, Pt, Nb, Pd, Sn, S
It is preferable to be formed from a material containing at least one of b, Bi, In, and Zn. According to this preferred example, the complex refractive index of the light absorbing layer can easily satisfy the above-mentioned favorable range.

【0016】前記光吸収層は、Geを含む材料から形成
されていることが好ましい。この好ましい例によれば、
光吸収層の複素屈折率及び熱伝導率が、既述の良好な範
囲を満たすことが容易に可能となり、本発明による効果
をより容易に得ることができる。
It is preferable that the light absorbing layer is formed of a material containing Ge. According to this preferred example,
The complex refractive index and the thermal conductivity of the light absorbing layer can easily satisfy the above-mentioned favorable ranges, and the effects of the present invention can be more easily obtained.

【0017】前記光吸収層は、窒素、酸素、炭素のうち
のいずれかを少なくとも含む材料から形成されているこ
とが好ましい。この好ましい例によれば、上記の好まし
い熱伝導率の範囲を満たすことが容易に可能となり、隣
接消去をより効果的に低減することができる。
It is preferable that the light absorbing layer is formed of a material containing at least one of nitrogen, oxygen and carbon. According to this preferred example, it is possible to easily satisfy the above-mentioned preferable range of the thermal conductivity, and it is possible to more effectively reduce adjacent erasure.

【0018】前記光吸収層の膜厚は、5nm以上、60
nm以下であることが好ましい。この好ましい例によれ
ば、より容易に隣接消去を低減することが可能となる。
The light absorbing layer has a thickness of 5 nm or more and 60
nm or less. According to this preferred example, adjacent erasure can be more easily reduced.

【0019】前記光吸収層と前記記録層との間に、断熱
層を少なくとも1層有することが好ましい。この好まし
い例によれば、最適な熱バランスを保つことが可能とな
り、隣接消去の低減効果をより効果的に得ることが可能
となる。
Preferably, at least one heat insulating layer is provided between the light absorbing layer and the recording layer. According to this preferred example, it is possible to maintain an optimal heat balance, and it is possible to more effectively obtain the effect of reducing adjacent erasure.

【0020】前記断熱層は、SiとOとを少なくとも含
む材料から形成されていることが好ましい。この好まし
い例によれば、熱を遮断するという断熱層の効果をより
容易に得ることが可能となる。
Preferably, the heat insulating layer is formed of a material containing at least Si and O. According to this preferred example, it is possible to more easily obtain the effect of the heat insulating layer of blocking heat.

【0021】前記光吸収層に接して前記反射層が設けら
れていることが好ましい。この好ましい例によれば、光
吸収層で発生した熱量が反射層によって効果的に冷却さ
れるため、隣接消去の低減がより顕著に可能となる。
It is preferable that the reflection layer is provided in contact with the light absorption layer. According to this preferred example, the amount of heat generated in the light absorption layer is effectively cooled by the reflection layer, so that adjacent erasure can be more significantly reduced.

【0022】前記記録層は、Ge、Sb、In、Teの
うちのいずれかを少なくとも含むことが好ましい。この
好ましい例によれば、異なる光学特性を有する状態間の
光学特性差を容易に大きくとることが可能となるため、
より高密度での記録が容易に可能であり、本発明による
隣接消去低減の効果が特に顕著に得られる。
The recording layer preferably contains at least one of Ge, Sb, In, and Te. According to this preferred example, the optical property difference between the states having different optical properties can be easily increased, so that
Recording at higher density is easily possible, and the effect of reducing adjacent erasure according to the present invention is particularly remarkably obtained.

【0023】前記記録層は、Nを含むことが好ましい。
この好ましい例によれば、記録膜面内での熱伝導率を低
減することが可能となるため、隣接消去低減の効果がよ
り顕著に得られる。
It is preferable that the recording layer contains N.
According to this preferred example, the thermal conductivity in the recording film surface can be reduced, so that the effect of reducing adjacent erasure can be more remarkably obtained.

【0024】前記記録層の膜厚は、1nm以上、15n
m以下であることが好ましい。これにより、より効果的
に隣接消去を低減することが可能となり、本発明で得ら
れる効果が特に顕著に得られる。
The thickness of the recording layer is 1 nm or more and 15 n
m or less. This makes it possible to more effectively reduce adjacent erasure, and the effect obtained by the present invention is particularly remarkably obtained.

【0025】また、上記課題を解決するために、本発明
の光学情報記録媒体の製造方法は、レーザー光の照射に
よって光学特性が可逆的に変化しうる記録層を作製する
工程と、光吸収層を作製する工程と、反射層を作製する
工程とを少なくとも有し、前記レーザー光の波長におけ
る前記光吸収層の複素屈折率n−ikが、条件A:0<
n<2.5かつ0<k≦5、条件B:2.5≦n≦6.
0かつ3.5≦k≦5.0、及び条件C:5<k≦8か
ら選択されるいずれかの条件を満たし、かつ前記レーザ
ー光の波長が300nmから500nmの範囲内にある
ことを特徴とする。これにより、隣接消去特性に優れ、
かつ高密度化が可能な光学情報記録媒体の製造が可能と
なる。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention comprises a step of producing a recording layer whose optical characteristics can be reversibly changed by irradiation with a laser beam; And a step of forming a reflective layer, wherein the complex refractive index n-ik of the light absorbing layer at the wavelength of the laser light is such that the condition A: 0 <
n <2.5 and 0 <k ≦ 5, Condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.
0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.0, and condition C: any one selected from 5 <k ≦ 8 is satisfied, and the wavelength of the laser light is in the range of 300 nm to 500 nm. And As a result, the adjacent erase characteristics are excellent,
In addition, it is possible to manufacture an optical information recording medium capable of increasing the density.

【0026】前記反射層を作製する工程は、前記光吸収
層を作製する工程の直前又は直後に設けられていること
が好ましい。この好ましい例によれば、本発明による隣
接消去低減の効果をより顕著に得ることができる。
It is preferable that the step of forming the reflective layer is provided immediately before or immediately after the step of forming the light absorbing layer. According to this preferred example, the effect of reducing adjacent erasure according to the present invention can be more remarkably obtained.

【0027】次に、上記課題を解決するために、本発明
の光学情報記録媒体の記録再生方法は、基板上に、レー
ザー光の照射によりアモルファス状態と結晶状態との間
を可逆的に変化しうる記録層と、光吸収層と、反射層と
を少なくとも有し、前記レーザー光の波長における前記
光吸収層の複素屈折率n−ikが、条件A:0<n<
2.5かつ0<k≦5、条件B:2.5≦n≦6.0か
つ3.5≦k≦5.0、及び条件C:5<k≦8から選
択されるいずれかの条件を満たす光学情報記録媒体を用
いて、情報の記録、再生、消去を行う方法であり、光学
系によりレーザー光を微小スポットに絞りこみ、レーザ
ーの照射により記録層のうちの局所的な一部分がアモル
ファス状態へと可逆的に変化しうるアモルファス状態生
成パワーレベルをP1、同じくレーザーの照射により結
晶状態へと可逆的に変化しうる結晶状態生成パワーレベ
ルをP2、前記P1、P2のいずれのパワーレベルより
も低く、そのパワーレベルでのレーザー照射によって記
録マークの光学的な状態が影響を受けず、かつその照射
によって媒体から記録マークの再生のために十分な反射
率が得られるパワーレベルを再生パワーレベルP3とし
たとき、前記レーザー光のパワーをP1とP2のレベル
の間で適度に変調させることにより情報の記録、及び消
去を行い、P3のパワーのレーザー光を照射することに
より情報記録の再生を行うことを特徴とし、かつP1及
びP2のレベルのレーザー光を照射する際のレーザー光
の波長が300nmから500nmの範囲内にあること
を特徴とする。
Next, in order to solve the above-mentioned problems, a recording / reproducing method for an optical information recording medium according to the present invention is characterized in that a substrate is reversibly changed between an amorphous state and a crystalline state by laser light irradiation. At least a recording layer, a light-absorbing layer, and a reflective layer, and the complex refractive index n-ik of the light-absorbing layer at the wavelength of the laser light is: Condition A: 0 <n <
2.5 and 0 <k ≦ 5, condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.0, and condition C: any condition selected from 5 <k ≦ 8 Is a method of recording, reproducing, and erasing information using an optical information recording medium that satisfies the following conditions.The laser beam is narrowed down to a small spot by an optical system, and a local part of the recording layer is amorphous by laser irradiation. The power level for generating an amorphous state that can be reversibly changed to a state is P1, the power level for generating a crystalline state that can be reversibly changed to a crystalline state by laser irradiation is P2, and any of the power levels P1 and P2. The optical power of the recording mark is not affected by the laser irradiation at that power level, and the reflectance is sufficient to reproduce the recording mark from the medium by the irradiation. When the level is a reproduction power level P3, information is recorded and erased by appropriately modulating the power of the laser light between the levels P1 and P2, and the laser light of P3 power is irradiated. It is characterized in that information recording and reproduction are performed, and the wavelength of the laser light when irradiating the laser light at the levels P1 and P2 is in the range of 300 nm to 500 nm.

【0028】これにより、マーク間隔をさらに狭くした
場合であっても隣接消去を低減することができるため、
さらなる高密度化記録が可能な光学情報記録媒体の記録
再生方法を提供することが可能となる。
As a result, even if the mark interval is further reduced, adjacent erasure can be reduced.
It is possible to provide a recording / reproducing method for an optical information recording medium capable of recording with higher density.

【0029】前記アモルファス状態生成パワーレベルP
1は、10mW以下であることが好ましい。この好まし
い例によれば、記録膜面内へ投入される余分な熱量を低
減することができ、本発明による隣接消去の効果を顕著
に得ることが可能となる。
The amorphous state generating power level P
1 is preferably 10 mW or less. According to this preferred example, it is possible to reduce the amount of excess heat input into the recording film surface, and it is possible to remarkably obtain the effect of adjacent erasure according to the present invention.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、以下に具
体例を用いて説明する。本発明における光学情報記録媒
体の層構成の一例を図1に示す。但し、本発明は上記構
成に限定されるものではなく、例えば、図1において、
界面層3、或いは界面層5、或いはこれら両方を設けな
い構成、或いは反射層8が2つの反射層から成る構成、
或いは基板1と保護層2との間に別の層を有する構成、
或いは保護層2をすべて界面層3で置き換えた構成、断
熱層6をすべて界面層5で置き換えた構成、或いは反射
層8のレーザー入射と反対側に別の層を設ける構成等、
種々の構成に適用することが可能である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below using specific examples. FIG. 1 shows an example of the layer configuration of the optical information recording medium according to the present invention. However, the present invention is not limited to the above configuration. For example, in FIG.
A configuration in which the interface layer 3 or the interface layer 5 or both are not provided, or a configuration in which the reflective layer 8 includes two reflective layers,
Or a configuration having another layer between the substrate 1 and the protective layer 2,
Alternatively, a configuration in which the protective layer 2 is entirely replaced by the interface layer 3, a configuration in which the heat insulating layer 6 is entirely replaced by the interface layer 5, or a configuration in which another layer is provided on the reflection layer 8 on the side opposite to the laser incidence.
It can be applied to various configurations.

【0031】図1において基板1は、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクレート、ポリオレフィン系樹脂、
またはガラス等より成り、レーザー光線を導くための案
内溝が施されていることが好ましい。
In FIG. 1, a substrate 1 is made of polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyolefin resin,
Alternatively, it is preferable that the guide groove is made of glass or the like and has a guide groove for guiding a laser beam.

【0032】保護層2は、記録材料の保護と、記録層で
の効果的な光吸収を可能にするといった光学特性の調節
とを主な目的として設けられる。保護層2の材料として
は、ZnS等の硫化物、ZnSe等のセレン化物、Si
−O、Al−O、Ti−O、Ta−O、Zr−O等の酸
化物、Ge−N、Cr−N、Si−N、Al−N、Nb
−N、Mo−N、Ti−N、Zr−N、Ta−N等の窒
化物、Ge−O−N、Cr−O−N、Si−O−N、A
l−O−N、Nb−O−N、Mo−O−N、Ti−O−
N、Zr−O−N、Ta−O−N等の窒酸化物、Ge−
C、Cr−C、Si−C、Al−C、Ti−C、Zr−
C、Ta−C等の炭化物、Si−F、Al−F、Ca−
F等の弗化物、その他誘電体、或いはこれらの適当な組
み合わせ(例えばZnS−SiO2等)など、上記目的
が達成可能な材料を用いる。
The protective layer 2 is provided mainly for the purpose of protecting the recording material and adjusting the optical characteristics such as enabling effective light absorption in the recording layer. Examples of the material of the protective layer 2 include sulfides such as ZnS, selenides such as ZnSe, and Si.
Oxides such as -O, Al-O, Ti-O, Ta-O, Zr-O, Ge-N, Cr-N, Si-N, Al-N, Nb
Nitrides such as -N, Mo-N, Ti-N, Zr-N, Ta-N, Ge-ON, Cr-ON, Si-ON, A
1-ON, Nb-ON, Mo-ON, Ti-O-
Nitride oxide such as N, Zr-ON, Ta-ON, Ge-
C, Cr-C, Si-C, Al-C, Ti-C, Zr-
Carbides such as C and Ta-C, Si-F, Al-F, Ca-
A material that can achieve the above object, such as a fluoride such as F, another dielectric, or an appropriate combination thereof (for example, ZnS—SiO 2 ) is used.

【0033】界面層3、5は記録層4の酸化、腐食、変
形等の防止といった記録層保護の役割を担うとともに、
記録層4と保護層2を構成する原子の原子拡散を防止す
ることによる繰り返し記録特性向上、及び記録層4の結
晶化を促進することによる消去特性の向上といった役割
を担っている。界面層3、5を設ける位置は、記録層4
のいずれか一方の界面のみでもよいが、上記の効果を遺
憾なく発揮するためには、記録層4の両側に設けること
がより好ましい。特に、記録層4の膜厚が比較的薄い場
合、記録層が結晶化しにくくなるが、界面層3、5を両
側に設けることにより、記録層の結晶化が促進され高い
消去性能を得ることが可能となる。
The interface layers 3 and 5 have a role of protecting the recording layer, such as preventing oxidation, corrosion, and deformation of the recording layer 4, and
It plays a role of improving the repetitive recording characteristics by preventing the diffusion of atoms constituting the recording layer 4 and the protective layer 2 and improving the erasing characteristics by promoting the crystallization of the recording layer 4. The position where the interface layers 3 and 5 are provided is the recording layer 4
Although only one of the interfaces may be used, it is more preferable to provide the interface on both sides of the recording layer 4 in order to exhibit the above-mentioned effects without regret. In particular, when the thickness of the recording layer 4 is relatively small, the recording layer is hardly crystallized. However, by providing the interface layers 3 and 5 on both sides, crystallization of the recording layer is promoted and high erasing performance can be obtained. It becomes possible.

【0034】なお、界面層3、5中に含有される成分が
情報の繰り返し記録に伴い記録層4に拡散する場合もあ
りうる。この観点から、記録層4の光学変化を妨げにく
い材料を界面層3、5の構成材料として用いることが好
ましい。
The components contained in the interface layers 3 and 5 may diffuse into the recording layer 4 as information is repeatedly recorded. From this viewpoint, it is preferable to use a material that does not hinder the optical change of the recording layer 4 as a constituent material of the interface layers 3 and 5.

【0035】界面層3、5を構成する材料は、先に述べ
た役割を果たす材料であればよい。具体的には、Ge−
N、Cr−N、Si−N、Al−N、Nb−N、Mo−
N、Ti−N、Zr−N、Ta−N等の窒化物、或いは
Ge−O−N、Cr−O−N、Si−O−N、Al−O
−N、Nb−O−N、Mo−O−N、Ti−O−N、Z
r−O−N、Ta−O−N等の窒酸化物、或いはSi−
O、Al−O、Ti−O、Ta−O、Zr−O等の酸化
物、或いはGe−C、Cr−C、Si−C、Al−C、
Ti−C、Zr−C、Ta−C等の炭化物、或いはSi
−F、Al−F、Ca−F等の弗化物、その他の誘電体
材料、或いはこれら材料の適当な混合物を主成分として
用いることができる。
The material constituting the interface layers 3 and 5 may be any material that plays the role described above. Specifically, Ge-
N, Cr-N, Si-N, Al-N, Nb-N, Mo-
Nitride such as N, Ti-N, Zr-N, Ta-N, or Ge-ON, Cr-ON, Si-ON, Al-O
-N, Nb-ON, Mo-ON, Ti-ON, Z
Nitride oxide such as r-ON, Ta-ON, or Si-
O, Al-O, Ti-O, Ta-O, oxides such as Zr-O, or Ge-C, Cr-C, Si-C, Al-C,
Carbides such as Ti-C, Zr-C, Ta-C, or Si
Fluoride such as -F, Al-F, Ca-F, other dielectric materials, or an appropriate mixture of these materials can be used as a main component.

【0036】特に、窒化物または窒酸化物を主成分とし
て用いた場合は一般的に緻密な膜を形成できる場合が多
く、上記既述の効果が非常に顕著に得られるため特に好
ましい。
In particular, when a nitride or a nitride oxide is used as a main component, a dense film can be generally formed in many cases, and the above-mentioned effects are very remarkably obtained.

【0037】界面層3、5の膜厚は1nm以上であるこ
とが好ましい。これは膜厚が1nm未満の場合、上で述
べた保護層2と記録層4との原子拡散の防止効果が低下
するためである。
The thickness of the interface layers 3, 5 is preferably 1 nm or more. This is because, when the film thickness is less than 1 nm, the effect of preventing the above-described atom diffusion between the protective layer 2 and the recording layer 4 is reduced.

【0038】記録層4は、光学特性が可逆的に変化する
材料より構成する。相変化形記録媒体の場合、Te、S
eを主成分とするカルコゲナイド系材料を用いることが
好ましい。例えばTe−Sb−Ge、Te−Sb、Te
−Sb−In、Te−Sb−In−Ag、Te−Sb−
Sn−Ge、Te−Sb−Ge−Se、Te−Sn−S
b、Te−Bi−Sn−Ge、In−Sb−Se、In
−Te−Se等を主成分とする材料が挙げられる。
The recording layer 4 is made of a material whose optical characteristics change reversibly. In the case of a phase change recording medium, Te, S
It is preferable to use a chalcogenide-based material containing e as a main component. For example, Te-Sb-Ge, Te-Sb, Te
-Sb-In, Te-Sb-In-Ag, Te-Sb-
Sn-Ge, Te-Sb-Ge-Se, Te-Sn-S
b, Te-Bi-Sn-Ge, In-Sb-Se, In
A material mainly containing -Te-Se or the like can be used.

【0039】記録層4中にはNが含まれることが好まし
い。記録層4中にNを添加した場合、記録層4の膜面内
での熱伝導率が低下し、より隣接消去が起こりにくくな
るため、本発明の効果が遺憾なく発揮されるからであ
る。Nの添加量は、0.5原子mol%以上、15原子
mol%以下とすることが好ましい。0.5原子mol
%以下の場合、Nの添加効果が十分に得られにくくなる
ためであり、15原子mol%以上とした場合、記録材
料の光学変化が小さくなり、より高密度での記録をする
上で不利になるためである。
The recording layer 4 preferably contains N. This is because, when N is added to the recording layer 4, the thermal conductivity in the film surface of the recording layer 4 is reduced, and the adjacent erasure is less likely to occur. It is preferable that the amount of N added is 0.5 atomic mol% or more and 15 atomic mol% or less. 0.5 atom mol
% Or less, it is difficult to sufficiently obtain the effect of adding N. If the amount is 15 atomic mol% or more, the optical change of the recording material becomes small, which is disadvantageous in recording at higher density. It is because it becomes.

【0040】記録層4の膜厚は、1nm以上、15nm
以下であることが好ましい。これは膜厚が1nm未満の
場合、記録材料が層状になりにくいためであり、15n
m以上の場合、記録層面内での熱拡散が大きくなるた
め、高密度で記録を行った際に隣接消去が生じ易くなる
ためである。
The thickness of the recording layer 4 is 1 nm or more and 15 nm
The following is preferred. This is because when the film thickness is less than 1 nm, the recording material does not easily form a layer,
In the case of m or more, thermal diffusion in the recording layer surface becomes large, so that adjacent erasure is likely to occur when recording is performed at high density.

【0041】断熱層6は、上記保護層2と同様の役割、
即ち、記録材料の保護と、記録層での効果的な光吸収を
可能にするための光学特性の調節といった役割に加え
て、光吸収層7で生じた熱が記録層4へ拡散することを
防ぐという、熱遮断の役割をも担っている。これは、光
吸収層7で生じた熱が記録層4へ拡散し、書き込みマー
クを消去してしまうことを防ぐためである。
The heat insulating layer 6 has the same role as the protective layer 2,
That is, in addition to the role of protecting the recording material and adjusting the optical characteristics to enable effective light absorption in the recording layer, it is necessary to prevent the heat generated in the light absorbing layer 7 from diffusing into the recording layer 4. It also plays the role of heat insulation to prevent it. This is to prevent the heat generated in the light absorbing layer 7 from diffusing into the recording layer 4 and erasing the written mark.

【0042】断熱層6を形成する具体的な材料として
は、例えば、ZnS等の硫化物、ZnSe等のセレン化
物、Si−O、Al−O、Ti−O、Ta−O、Zr−
O等の酸化物、Ge−N、Cr−N、Si−N、Al−
N、Nb−N、Mo−N、Ti−N、Zr−N、Ta−
N等の窒化物、Ge−O−N、Cr−O−N、Si−O
−N、Al−O−N、Nb−O−N、Mo−O−N、T
i−O−N、Zr−O−N、Ta−O−N等の窒酸化
物、Ge−C、Cr−C、Si−C、Al−C、Ti−
C、Zr−C、Ta−C等の炭化物、Si−F、Al−
F、Ca−F等の弗化物、その他誘電体、或いはこれら
の適当な組み合わせ(例えばZnS−SiO 2等)な
ど、上記目的が達成可能な材料を用いる。
As a specific material for forming the heat insulating layer 6,
Is, for example, a sulfide such as ZnS or a selenide such as ZnSe
Material, Si-O, Al-O, Ti-O, Ta-O, Zr-
Oxides such as O, Ge-N, Cr-N, Si-N, Al-
N, Nb-N, Mo-N, Ti-N, Zr-N, Ta-
Nitride such as N, Ge-ON, Cr-ON, Si-O
-N, Al-ON, Nb-ON, Mo-ON, T
Nitrogen oxidation of i-ON, Zr-ON, Ta-ON, etc.
Material, Ge-C, Cr-C, Si-C, Al-C, Ti-
Carbides such as C, Zr-C, Ta-C, Si-F, Al-
Fluoride such as F, Ca-F, other dielectrics, or these
(For example, ZnS-SiO TwoEtc.)
For example, a material that can achieve the above object is used.

【0043】特に、断熱層6中にSiとOとが含まれる
ことが好ましい。この場合、断熱層6中にSi−Oの結
合が形成されやすくなるため、断熱層6の熱伝導率が低
くなり、熱遮断の効果をより大きく得ることができる。
It is particularly preferable that the heat insulating layer 6 contains Si and O. In this case, since the bond of Si—O is easily formed in the heat insulating layer 6, the thermal conductivity of the heat insulating layer 6 is reduced, and the effect of heat insulation can be further increased.

【0044】断熱層6の膜厚は50nm以上とすること
がさらに好ましい。これにより、断熱効果をより大きく
得ることが可能となる。
More preferably, the thickness of the heat insulating layer 6 is 50 nm or more. This makes it possible to obtain a greater heat insulating effect.

【0045】反射層8は、Au、Ag、Cu、Al、N
i、Cr、Ti等の金属、或いは適宜選択された金属の
合金より形成する。反射層8は、放熱効果や記録層4で
の効果的な光吸収等の光学的効果を得るために設ける。
反射層8を設ける場合、その膜厚は1nm以上であるこ
とが好ましい。反射層8が1nm未満の場合、膜が均一
な層状となることが困難となり、熱的、光学的な効果が
低下するためである。
The reflection layer 8 is made of Au, Ag, Cu, Al, N
It is formed from a metal such as i, Cr, Ti, or an alloy of a metal appropriately selected. The reflection layer 8 is provided to obtain an optical effect such as a heat radiation effect and effective light absorption in the recording layer 4.
When the reflective layer 8 is provided, it is preferable that the thickness is 1 nm or more. If the thickness of the reflective layer 8 is less than 1 nm, it is difficult to form a uniform layer, and the thermal and optical effects are reduced.

【0046】次に、本発明の主要部分をなす光吸収層7
について説明する。光吸収層7の役割を以下に説明す
る。まず、マーク書き込み時の温度上昇過程において
は、光吸収層7において光吸収が生じることによる熱量
の発生が起こり、これによって記録層4付近での発熱を
助けることができるため、マークの記録感度が向上す
る。次に、マーク書き込み終了時の冷却過程において
は、光吸収層7で発生した熱量は、反射層8によって直
ちに冷却されるため、記録層4へ悪影響を及ぼさない。
Next, the light absorbing layer 7 which is a main part of the present invention will be described.
Will be described. The role of the light absorbing layer 7 will be described below. First, in the process of increasing the temperature at the time of writing a mark, heat is generated due to light absorption in the light absorbing layer 7, which can help generate heat near the recording layer 4. improves. Next, in the cooling process at the end of mark writing, the amount of heat generated in the light absorbing layer 7 is immediately cooled by the reflective layer 8 and does not adversely affect the recording layer 4.

【0047】以上のように、光吸収層7を設けることに
よって、記録層4での温度上昇を助けることが可能とな
ることから、マーク書き込み時に記録層4へ余分な熱量
が投入されることを防ぐことが可能になり、より低パワ
ーでも十分な振幅の得られるマークの書き込みが可能と
なる。このため、マーク書き込み時に隣接したマークを
消去してしまう、いわゆる隣接消去が生じることを防止
することが可能となる。
As described above, the provision of the light absorbing layer 7 can help increase the temperature in the recording layer 4. This makes it possible to write a mark with a sufficient amplitude even with lower power. For this reason, it is possible to prevent the adjacent marks from being erased when writing marks, that is, so-called adjacent erasure is caused.

【0048】上記役割を達成するためには、光吸収層7
に求められる条件として主に以下の3つが挙げられる。
1つ目の条件は、記録に用いるレーザー光の波長におい
て、適度な光吸収を有することである。これは、上記役
割を可能とするためには必須の条件である。2つ目の条
件は、熱伝導率が適切な範囲内にあることである。これ
は、上記役割を可能とするためには、光吸収層7の膜面
内での熱伝導がある一定の範囲内にあることが求められ
るためである。3つ目の条件は、機械的、及び化学的な
安定性が十分であることである。光吸収層7において
は、光吸収による発熱が生じるが、このような場合であ
っても膜の破壊、変形、クラック、酸化といった変化が
起こらないような材料でなければならない。
To achieve the above role, the light absorbing layer 7
The following three conditions are mainly required.
The first condition is that it has appropriate light absorption at the wavelength of the laser beam used for recording. This is an essential condition for enabling the above role. The second condition is that the thermal conductivity is within an appropriate range. This is because, in order to enable the above role, it is required that the heat conduction in the film surface of the light absorbing layer 7 be within a certain range. The third condition is that mechanical and chemical stability are sufficient. The light absorbing layer 7 generates heat due to light absorption. Even in such a case, the light absorbing layer 7 must be made of a material that does not cause a change such as breakage, deformation, crack, or oxidation.

【0049】上記1つ目の条件を達成するために、光吸
収層7として、記録を行うレーザー光の波長における複
素屈折率n−ikが、条件A:0<n<2.5かつ0<
k≦5、或いは条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5
≦k≦5.0、或いは条件C:5<k≦8のうちいずれ
かの条件を満たす材料を用いる。ここで、記録に用いる
レーザー光の波長は、300nmから500nmの範囲
内である。
In order to achieve the first condition, as the light absorbing layer 7, the complex refractive index n-ik at the wavelength of the laser beam for recording has a condition A: 0 <n <2.5 and 0 <
k ≦ 5 or condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5
A material that satisfies any one of ≦ k ≦ 5.0 or condition C: 5 <k ≦ 8 is used. Here, the wavelength of the laser beam used for recording is in the range of 300 nm to 500 nm.

【0050】光吸収層7がこの複素屈折率の範囲を満た
す場合、記録層4の光学特性差を大きく保ったまま、光
吸収層7における光吸収を生じさせることができるた
め、既に述べたメカニズムによって、隣接消去を低減す
ることが可能となる。この複素屈折率範囲の根拠につい
て、以下に具体的に述べる。
When the light-absorbing layer 7 satisfies the complex refractive index range, light absorption in the light-absorbing layer 7 can be caused while maintaining a large difference in the optical characteristics of the recording layer 4. This makes it possible to reduce adjacent erasure. The basis of this complex refractive index range will be specifically described below.

【0051】まず、図1と同じ構成を有する媒体につい
て、光吸収層7の光学定数のみを変化させ、媒体の特性
が良好に得られる範囲を、光学計算により見積もった。
光学計算は、多層膜中の各層の光学定数と膜厚を決め、
多層膜中の全ての界面において光エネルギー保存則に基
づく式を導き、この連立方程式を解くことによって、多
層膜全体での反射率、透過率、光吸収層7における吸収
率を求めた。
First, with respect to a medium having the same configuration as that of FIG. 1, only the optical constant of the light absorption layer 7 was changed, and the range in which the characteristics of the medium were obtained favorably was estimated by optical calculation.
Optical calculation determines the optical constant and film thickness of each layer in the multilayer film,
Formulas based on the law of conservation of light energy were derived at all interfaces in the multilayer film, and the simultaneous equations were solved to determine the reflectance, the transmittance, and the absorptivity of the light absorbing layer 7 in the entire multilayer film.

【0052】ここで、媒体をなす各層の膜厚は、記録層
4を10nm、光吸収層7を20nm、反射層8を80
nmで固定し、保護層2及び断熱層6の膜厚を変化させ
たときに得られる、媒体の反射率差の最大値△Rmaxを
算出した。各層をなす材料は、記録層4がGe29Sb14
Te542、保護層2及び断熱層6はともにZnSにS
iO2を20mol%混合した材料、反射層8はAl98
Cr2とした。光吸収層7の複素屈折率n−ikは、n
を1から6まで、kを1から8まで変化させ、それぞれ
の場合において、△Rmaxを求めた。また、△Rmaxは、
記録層4が結晶状態であるときの反射率が、アモルファ
ス状態であるときの反射率よりも小さい場合にのみ着目
して算出した。図2にこの光学計算の結果を示す。
Here, the thickness of each layer constituting the medium is 10 nm for the recording layer 4, 20 nm for the light absorbing layer 7, and 80 nm for the reflecting layer 8.
The maximum value ΔRmax of the reflectance difference of the medium obtained when the thickness was fixed at nm and the thicknesses of the protective layer 2 and the heat insulating layer 6 were changed was calculated. The material forming each layer is such that the recording layer 4 is Ge 29 Sb 14
Te 54 N 2 , the protective layer 2 and the heat insulating layer 6 are both S
A material in which 20 mol% of iO 2 is mixed, the reflection layer 8 is made of Al 98
Cr 2 was used. The complex refractive index n-ik of the light absorption layer 7 is n
Was changed from 1 to 6 and k was changed from 1 to 8, and in each case, ΔRmax was determined. △ Rmax is
The calculation was performed by focusing attention only on the case where the reflectance when the recording layer 4 was in the crystalline state was smaller than the reflectance when the recording layer 4 was in the amorphous state. FIG. 2 shows the result of this optical calculation.

【0053】図2によると、条件A:0<n<2.5か
つ0<k≦5を満たす場合、或いは条件B:2.5≦n
≦6.0かつ3.5≦k≦5.0を満たす場合、或いは
条件C:5<k≦8を満たす場合のいずれの場合につい
ても、△Rmaxが15%以上の大きい値をとることがわ
かる。この最適な複素屈折率の範囲については、記録層
4が結晶状態であるときの反射率が、アモルファス状態
であるときの反射率よりも大きい場合についても、同様
の結果が得られた。また、記録層4としてGe−Sb−
Teの組成の異なるものを用いた場合、或いは反射層8
として別の材料を用いた場合についても、同様の結果が
得られた。
According to FIG. 2, condition A: 0 <n <2.5 and 0 <k ≦ 5, or condition B: 2.5 ≦ n
In any case where ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.0 or when Condition C: 5 <k ≦ 8, ΔRmax may take a large value of 15% or more. Understand. Regarding the optimum range of the complex refractive index, similar results were obtained when the reflectance when the recording layer 4 was in the crystalline state was larger than the reflectance when the recording layer 4 was in the amorphous state. Further, Ge-Sb-
When a material having a different composition of Te is used, or when the reflective layer 8
The same result was obtained when another material was used as the material.

【0054】条件Aを満たしている場合、nが比較的小
さいため、光吸収層7で過度の光吸収が生じず、媒体の
大きい反射率差と光吸収層7での適度な光吸収とを容易
に両立させることができる。このため、隣接消去の低減
効果を大きく得ることができる。条件Aを満たす具体的
な材料としては、例えばIn−Sb、Sn−Te、Cr
−Te、Al−Sb、Pb−Te、Au、Ag、Cu、
Ni、Cr、Pt、Nb、Pd、Sn、Sb、Bi、I
n、Zn、或いはこれらの材料を組み合わせた材料、例
えばNi−Cr、Au−Cr等、或いはこれらの材料を
少なくとも1つ含む材料が挙げられる。或いは、Si
C、SiO2、TiO2、TiN等の誘電体、或いは、こ
れらの誘電体に金属や半導体などの別の材料を添加し、
条件Aを満たすようにした材料を用いてもよい。以上の
ような光学的に良好な特性を有する材料を主成分とし、
熱伝導率を後述の適切な範囲内になるように材料組成等
を調節したものを用いることがさらに好ましい。
When the condition A is satisfied, since n is relatively small, excessive light absorption does not occur in the light absorbing layer 7, and a large difference in reflectivity of the medium and an appropriate light absorption in the light absorbing layer 7 are achieved. It can be easily compatible. For this reason, the effect of reducing adjacent erasure can be greatly increased. Specific materials satisfying the condition A include, for example, In—Sb, Sn—Te, Cr
-Te, Al-Sb, Pb-Te, Au, Ag, Cu,
Ni, Cr, Pt, Nb, Pd, Sn, Sb, Bi, I
n, Zn, or a material combining these materials, such as Ni-Cr, Au-Cr, or a material containing at least one of these materials. Alternatively, Si
C, SiO 2 , TiO 2 , a dielectric such as TiN, or another material such as a metal or a semiconductor is added to these dielectrics,
A material satisfying the condition A may be used. As a main component, a material having optically favorable characteristics as described above,
It is more preferable to use a material whose material composition and the like are adjusted so that the thermal conductivity falls within an appropriate range described later.

【0055】条件Bを満たしている場合、条件Cを満た
す場合と比較すれば、やや△Rmaxが小さくなるもの
の、信号振幅は十分得られる程度の大きい△Rmaxが得
られ、かつ光吸収層7での適度な光吸収を得ることがで
きる。このため、隣接消去の低減効果を大きく得ること
ができる。条件Bを満たす具体的な材料としては、例え
ばGe−W、Ge−Mn、Ge−Cr等のGeを含む材
料等が挙げられる。これらの材料についても、条件Aを
満たす材料と同様、熱伝導率を後述の適切な範囲内にな
るように材料組成等を調節したものを用いることが好ま
しい。
When condition B is satisfied, ΔRmax is slightly reduced as compared with the case where condition C is satisfied, but a large ΔRmax is obtained at which the signal amplitude can be sufficiently obtained. , A moderate light absorption can be obtained. For this reason, the effect of reducing adjacent erasure can be greatly increased. As a specific material that satisfies the condition B, for example, a Ge-containing material such as Ge-W, Ge-Mn, and Ge-Cr is exemplified. As for these materials, it is preferable to use those whose material composition and the like are adjusted so that the thermal conductivity falls within an appropriate range described later, similarly to the materials satisfying the condition A.

【0056】条件Cを満たしている場合、△Rmaxが非
常に大きくなるという利点がある。しかしこれは、光吸
収層7での光吸収が、条件Aや条件Bを満たす場合と比
較して、やや低下しているためであり、隣接消去低減の
効果は、条件Aや条件Bを満たす場合に比べると、やや
小さくなってしまう。このため、信号振幅をより大きく
とることを優先させたいが、隣接消去特性も同時に低減
したいという場合に用いればよい。例えば、溝部とラン
ド部が交互に形成された基板を用いて、溝部のみに記録
する場合のように、隣接消去はやや生じにくいが、信号
振幅を大きくとる必要がある記録条件などで、この条件
Cを満たす材料を採用するとよい。条件Cを満たす具体
的な材料としては、例えばAl、Al−Cr、Al−W
等が挙げられる。また、この場合についても、熱伝導率
を後述の適切な範囲内になるように材料組成等を調節し
たものを用いることが好ましい。
When the condition C is satisfied, there is an advantage that ΔRmax becomes very large. However, this is because the light absorption in the light absorbing layer 7 is slightly reduced as compared with the case where the conditions A and B are satisfied, and the effect of the adjacent erase reduction satisfies the conditions A and B. It is slightly smaller than in the case. For this reason, it is only necessary to give priority to increasing the signal amplitude, but also to reduce adjacent erasure characteristics at the same time. For example, as in the case where recording is performed only in the groove portion using a substrate in which the groove portion and the land portion are alternately formed, adjacent erasure is slightly unlikely to occur, but the recording condition in which the signal amplitude needs to be large is used. It is preferable to use a material that satisfies C. Specific materials satisfying the condition C include, for example, Al, Al-Cr, Al-W
And the like. Also in this case, it is preferable to use a material whose material composition and the like are adjusted so that the thermal conductivity falls within an appropriate range described later.

【0057】条件A、B、Cのいずれも満たしていな
い、2.5<nかつ0≦k<3.5の場合、光吸収層7
での光吸収率が非常に大きくなり、媒体としての光学特
性差が小さくなってしまう。このため、隣接消去は低減
できても、高密度記録を行った際に十分大きい信号を得
ることが困難となり、高密度化を達成する上で不利とな
る。
If none of the conditions A, B and C is satisfied, and 2.5 <n and 0 ≦ k <3.5, the light absorbing layer 7
The optical absorptance of the medium becomes very large, and the difference in optical characteristics as a medium becomes small. For this reason, even if adjacent erasure can be reduced, it is difficult to obtain a sufficiently large signal when performing high-density recording, which is disadvantageous in achieving high density.

【0058】光吸収層7の光学定数は、分光器やエリプ
ソメータ等を用いて測定できる。この際、測定サンプル
としては、SiやSiO2等の適切な基板上に、光吸収
層7の材料を、光学定数を測定可能な膜厚だけ作製した
ものを用いればよい。光吸収層7の材料の同定は、電子
分光化学分析法(ESCA)、オージェ電子分光法(A
UGE)、2次イオン質量分析(SIMS)等の分析手
法を用いて行い、これと同等の材料となるように測定サ
ンプルを作製すればよい。
The optical constant of the light absorbing layer 7 can be measured using a spectroscope or an ellipsometer. At this time, as the measurement sample, a material in which the material of the light absorption layer 7 is formed on an appropriate substrate such as Si or SiO 2 by a thickness capable of measuring the optical constant may be used. The material of the light absorbing layer 7 is identified by electron spectrochemical analysis (ESCA), Auger electron spectroscopy (A
UGE), secondary ion mass spectrometry (SIMS), or the like, and a measurement sample may be prepared so as to be a material equivalent thereto.

【0059】記録レーザー光の光吸収層7における光吸
収率は、5%以上、40%以下とすることが好ましい。
これは、5%よりも小さい場合、光吸収層7の隣接消去
低減効果が低下してしまうためであり、40%より大き
い場合、先に述べたように媒体の光学特性差が低下する
ためである。また、40%より大きい場合は、光吸収層
7での熱発生が非常に大きくなるため、光吸収層7の破
壊・酸化等の機械的・化学的変化が生じやすくなるとい
う欠点もある。
The light absorption of the recording laser light in the light absorbing layer 7 is preferably 5% or more and 40% or less.
This is because if it is smaller than 5%, the effect of reducing the adjacent erasure of the light absorbing layer 7 is reduced, and if it is larger than 40%, the optical characteristic difference of the medium is reduced as described above. is there. On the other hand, when it is larger than 40%, heat generation in the light absorbing layer 7 becomes extremely large, so that there is a disadvantage that mechanical and chemical changes such as destruction and oxidation of the light absorbing layer 7 easily occur.

【0060】光吸収層7として、種々の材料を検討した
結果、光吸収層7の800Kにおける熱伝導率が0.0
1W/(m・K)以上、5.0W/(m・K)以下であ
るものを用いたときに、特に優れた隣接消去低減効果を
得ることができることを、本発明者らは見い出した。こ
れは、光吸収層7の熱伝導率が5.0W/(m・K)よ
り大きい場合は、光吸収層7の膜面内での熱伝導が大き
く生じるため、記録層4での発熱を助けにくくなり、感
度向上効果が低減するためと考えられる。また、光吸収
層7の熱伝導率が0.01W/(m・K)より小さい場
合は、光吸収層7において、非常に局所的な発熱が生じ
るため、膜破壊などが生じやすくなり好ましくない。8
00Kにおける値を考慮する根拠は、記録層4の融点が
一般に800K〜900Kであり、信号の記録の際に
は、光吸収層7の付近が800K近傍まで昇温すること
が多いため、このときの熱伝導率が問題となるからであ
る。
As a result of examining various materials for the light absorbing layer 7, the thermal conductivity at 800K of the light absorbing layer 7 was 0.0
The present inventors have found that a particularly excellent adjacent erase reduction effect can be obtained when a material having a value of 1 W / (m · K) or more and 5.0 W / (m · K) or less is used. This is because, when the thermal conductivity of the light absorbing layer 7 is larger than 5.0 W / (m · K), the heat conduction in the film surface of the light absorbing layer 7 is large, so that the heat generation in the recording layer 4 is reduced. It is considered that it is difficult to help and the effect of improving sensitivity is reduced. If the thermal conductivity of the light absorbing layer 7 is smaller than 0.01 W / (m · K), the light absorbing layer 7 generates extremely local heat, which is likely to cause film destruction or the like, which is not preferable. . 8
The basis for considering the value at 00K is that the melting point of the recording layer 4 is generally 800K to 900K, and the temperature near the light absorbing layer 7 often rises to near 800K during signal recording. This is because the thermal conductivity of the material becomes a problem.

【0061】光吸収層7の熱伝導率の測定については、
まず光交流法を用いて熱拡散率を測定し、これに熱容量
を掛けた値を熱伝導率として算出した。光交流法とは、
試料上にマスクを置き、マスク上面から交流熱を光照射
した際に、マスク端から十分離れた位置での交流温度振
幅を位置の関数として求めることにより、熱拡散率を算
出するものである。ここで、熱拡散率の測定サンプルと
しては、光吸収層7の材料を短冊状(例えば5mm×3
0mm程度)のポリイミド等の適切な基板上に、適切な
膜厚(例えば0.3μm程度)だけ作製したサンプルを
用いればよい。光吸収層7の材料の同定は、前記ESC
A、AUGE、SIMS等の分析手法を用いて行い、こ
れと同等の材料となるように測定サンプルを作製すれば
よい。
For the measurement of the thermal conductivity of the light absorbing layer 7,
First, the thermal diffusivity was measured by using the optical alternating current method, and the value obtained by multiplying this by the heat capacity was calculated as the thermal conductivity. What is the optical exchange method?
When a mask is placed on a sample and AC heat is irradiated from the upper surface of the mask, the thermal diffusivity is calculated by obtaining the AC temperature amplitude at a position sufficiently distant from the mask edge as a function of the position. Here, as a sample for measuring the thermal diffusivity, the material of the light absorbing layer 7 is formed in a strip shape (for example, 5 mm × 3 mm).
A sample formed on an appropriate substrate such as polyimide (about 0 mm) with an appropriate thickness (for example, about 0.3 μm) may be used. The material of the light absorbing layer 7 is identified by the ESC
A, AUGE, SIMS, or another analysis method may be used, and a measurement sample may be prepared so as to be a material equivalent thereto.

【0062】光吸収層7はアモルファス状態であること
が好ましい。このとき、既述の良好な熱伝導率の範囲を
満たすことが容易に可能となる。
The light absorbing layer 7 is preferably in an amorphous state. At this time, it is possible to easily satisfy the above-mentioned favorable range of thermal conductivity.

【0063】また、光吸収層7は、窒素、酸素、炭素の
うちのいずれかを少なくとも含む材料とすることが好ま
しい。このような材料を用いた場合、光吸収層7の最適
な熱伝導率範囲を容易に満たすことが可能となるためで
ある。このとき、光吸収層7の光学定数が、既述の条件
A、B、Cのいずれかを満たすように含有量を調節す
る。
The light absorption layer 7 is preferably made of a material containing at least one of nitrogen, oxygen and carbon. This is because, when such a material is used, the optimum thermal conductivity range of the light absorption layer 7 can be easily satisfied. At this time, the content is adjusted so that the optical constant of the light absorbing layer 7 satisfies any of the above-described conditions A, B, and C.

【0064】光吸収層7の膜厚は、5nm以上、60n
m以下であることが好ましい。膜厚が5nm未満の場合
は、光吸収が小さくなるため、光吸収層としての役割が
低減してしまうためである。また、60nmを超えた場
合は、光吸収層7での光吸収が過度に大きくなりやすい
ため、記録層4の光学特性変化の低下や、熱発生による
光吸収層7の変形といった課題が生じやすくなるためで
ある。
The thickness of the light absorbing layer 7 is 5 nm or more and 60 n
m or less. When the thickness is less than 5 nm, light absorption is reduced, and the role as a light absorption layer is reduced. On the other hand, when the thickness exceeds 60 nm, the light absorption in the light absorbing layer 7 tends to be excessively large. It is because it becomes.

【0065】光吸収層7は、反射層8に接して設けるこ
とが好ましい。これは、既に述べたように、本発明によ
る隣接消去低減の効果を発揮するためには、信号の記録
が終了した後の冷却時に、光吸収層7で生じた発熱を瞬
時に冷却する必要があるが、反射層8と光吸収層7が接
している場合、これがより効果的に可能となるためであ
る。
The light absorption layer 7 is preferably provided in contact with the reflection layer 8. This is because, as described above, in order to achieve the effect of reducing the adjacent erasure according to the present invention, it is necessary to instantaneously cool the heat generated in the light absorption layer 7 at the time of cooling after the completion of signal recording. However, when the reflection layer 8 and the light absorption layer 7 are in contact with each other, this is possible more effectively.

【0066】次に、これらの光学情報記録媒体の製造方
法について述べる。上記光学情報記録媒体を構成する多
層膜を作製する方法としては、スパッタリング法、真空
蒸着、化学蒸着(CVD)等の方法が可能である。ここ
では一例として、スパッタリング法を用いて説明する。
図3に成膜装置の一例の概略図を示す。
Next, a method for manufacturing these optical information recording media will be described. As a method of producing the multilayer film constituting the optical information recording medium, a method such as a sputtering method, a vacuum deposition, and a chemical vapor deposition (CVD) can be used. Here, as an example, description is made using a sputtering method.
FIG. 3 shows a schematic diagram of an example of a film forming apparatus.

【0067】真空容器9には排気口15を通して真空ポ
ンプ(図示省略)を接続してあり、真空容器内を高真空
に保つことができるようになっている。ガス供給口14
からは、一定流量の希ガス、窒素、酸素、またはこれら
の混合ガスを供給することができるようになっている。
図中10は基板であり、基板10の自公転を行うための
駆動装置11に取り付けられている。12はスパッタタ
ーゲットであり、陰極13に接続されている。陰極13
は、図示は省略したが、スイッチを通して直流電源また
は高周波電源に接続されている。また、真空容器9を接
地することにより、真空容器9と基板10は陽極に保た
れている。
A vacuum pump (not shown) is connected to the vacuum vessel 9 through an exhaust port 15 so that the inside of the vacuum vessel can be maintained at a high vacuum. Gas supply port 14
Can supply a constant flow of a rare gas, nitrogen, oxygen, or a mixed gas thereof.
In the figure, reference numeral 10 denotes a substrate, which is attached to a driving device 11 for rotating the substrate 10 on its own axis. Reference numeral 12 denotes a sputter target, which is connected to the cathode 13. Cathode 13
Although not shown, is connected to a DC power supply or a high-frequency power supply through a switch. Also, by grounding the vacuum container 9, the vacuum container 9 and the substrate 10 are kept at the anode.

【0068】成膜ガスは希ガス、或いは場合に応じて希
ガスに微量の窒素、或いは酸素等を混合したガスを用い
る。希ガスとしては、Ar、Kr等の成膜可能なガスを
用いればよい。
As a film forming gas, a rare gas or a gas obtained by mixing a small amount of nitrogen, oxygen, or the like with a rare gas as necessary is used. As the rare gas, a gas capable of forming a film, such as Ar or Kr, may be used.

【0069】記録層4や保護層2、断熱層6を作製する
際、希ガスと微量の窒素、或いは微量の酸素との混合ガ
スを用いることが好ましい。この場合、各層の熱伝導率
が低下し、より効果的に隣接消去の低減効果を得ること
ができる。またこの場合、媒体の繰り返し記録時の物質
移動を抑制できるため、繰り返し記録特性が向上すると
いう利点もある。
When forming the recording layer 4, the protective layer 2, and the heat insulating layer 6, it is preferable to use a mixed gas of a rare gas and a trace amount of nitrogen or a trace amount of oxygen. In this case, the thermal conductivity of each layer is reduced, and the effect of reducing adjacent erasure can be more effectively obtained. In this case, since mass transfer during repeated recording on the medium can be suppressed, there is an advantage that the repeated recording characteristics are improved.

【0070】界面層3、5を構成する主成分として窒化
物や酸化物、或いは窒酸化物を用いる場合、反応性スパ
ッタリング法によりスパッタを行うと良好な膜質の膜が
得られる場合が多い。例えば、界面層としてGe−Cr
−Nを用いる場合、Ge、Crを少なくとも含む材料を
ターゲットとし、成膜ガスとして希ガスと窒素との混合
ガスを用いる。或いは希ガスと、N2O、NO2、NO、
2等の窒素原子を含むガスとの混合ガス、或いは希ガ
スと上記の窒素原子を含むガスの適当な組み合わせで構
成されるガスとの混合ガスを用いてもよい。
When a nitride, an oxide or a nitride oxide is used as a main component of the interface layers 3 and 5, a good quality film is often obtained by sputtering by a reactive sputtering method. For example, Ge-Cr is used as an interface layer.
When -N is used, a material containing at least Ge and Cr is used as a target, and a mixed gas of a rare gas and nitrogen is used as a deposition gas. Alternatively, a rare gas and N 2 O, NO 2 , NO,
A mixed gas of a gas containing a nitrogen atom such as N 2 or a mixed gas of a rare gas and a gas composed of an appropriate combination of the above-described gas containing a nitrogen atom may be used.

【0071】光吸収層7、及び反射層8を成膜する際に
は、成膜ガスとして、Ar、Kr等の希ガスを用いるこ
とが好ましい。また、光吸収層7の材料として、窒素、
或いは酸素、或いは炭素を含ませる場合、成膜ガス中に
それぞれ、窒素原子を含むガス、酸素原子を含むガス、
炭素原子を含むガスを混合して用いてもよい。
When forming the light absorbing layer 7 and the reflecting layer 8, it is preferable to use a rare gas such as Ar or Kr as a film forming gas. Further, as a material of the light absorbing layer 7, nitrogen,
Alternatively, when oxygen or carbon is contained, a gas containing a nitrogen atom, a gas containing an oxygen atom,
A mixture of gases containing carbon atoms may be used.

【0072】反射層8を作製する工程は、光吸収層7を
作製する工程の直前、或いは直後に設けることが好まし
い。この好ましい例によれば、既に述べたように、より
効果的に隣接消去を低減することが可能となる。
The step of forming the reflection layer 8 is preferably provided immediately before or after the step of forming the light absorbing layer 7. According to this preferred example, as described above, adjacent erasure can be more effectively reduced.

【0073】次に、以上のようにして形成した光学情報
記録媒体の記録再生方法の一例について述べる。図4
に、記録再生に用いる装置の一例の概略を示す。信号の
記録再生、消去には、レーザー光源16と、対物レンズ
17を搭載した光ヘッド18と、レーザー光を照射する
位置を所定の位置へと導くための駆動装置19、トラッ
ク方向及び膜面に垂直な方向の位置を制御するためのト
ラッキング制御装置及びフォーカシング制御装置(図示
省略)と、レーザーパワーを変調するためのレーザー駆
動装置(図示省略)、媒体を回転させるための回転制御
装置20とを用いる。なお、21は媒体(光ディスク)
である。
Next, an example of a recording / reproducing method for the optical information recording medium formed as described above will be described. FIG.
FIG. 1 schematically shows an example of an apparatus used for recording and reproduction. For recording, reproducing and erasing signals, a laser light source 16, an optical head 18 having an objective lens 17 mounted thereon, a driving device 19 for guiding a laser beam irradiation position to a predetermined position, a track direction and a film surface A tracking control device and a focusing control device (not shown) for controlling the position in the vertical direction, a laser driving device (not shown) for modulating the laser power, and a rotation control device 20 for rotating the medium. Used. 21 is a medium (optical disk)
It is.

【0074】信号の記録、消去は、まず媒体21を回転
制御装置20を用いて回転させ、光学系によりレーザー
光を微小スポットに絞りこんで、媒体へレーザー光を照
射することにより行う。レーザーの照射により記録層の
うちの局所的な一部分がアモルファス状態へと可逆的に
変化しうるアモルファス状態生成パワーレベルをP1、
同じくレーザーの照射により結晶状態へと可逆的に変化
しうる結晶状態生成パワーレベルをP2とし、レーザー
パワーをP1とP2の間で変調させることで記録マー
ク、或いは消去部分を形成し、情報の記録、消去、及び
上書き記録を行う。P1のパワーを照射する部分は、パ
ルスの列で形成する、いわゆるマルチパルスとするのが
一般的である。
Recording and erasing of signals are performed by first rotating the medium 21 using the rotation control device 20, narrowing the laser beam to a minute spot by the optical system, and irradiating the medium with the laser beam. An amorphous state generation power level at which a local part of the recording layer can be reversibly changed to an amorphous state by laser irradiation is P1,
Similarly, the power of the crystal state generation power that can be reversibly changed to the crystal state by laser irradiation is set to P2, and the laser power is modulated between P1 and P2 to form a recording mark or an erased portion, thereby recording information. , Erase, and overwrite recording. Generally, a portion to be irradiated with the power of P1 is a so-called multi-pulse formed by a train of pulses.

【0075】また、前記P1、P2のいずれのパワーレ
ベルよりも低く、そのパワーレベルでのレーザー照射に
よって記録マークの光学的な状態が影響を受けず、かつ
その照射によって媒体から記録マークの再生のために十
分な反射率が得られるパワーレベルを再生パワーレベル
P3とし、P3のパワーのレーザービームを照射するこ
とにより得られる媒体からの信号を検出器で読み取り、
情報信号の再生を行う。
The optical level of the recording mark is not affected by the laser irradiation at the power level lower than either of the power levels P1 and P2, and the irradiation of the recording mark from the medium is not affected by the irradiation. The power level at which sufficient reflectivity is obtained is set to the reproduction power level P3, and the signal from the medium obtained by irradiating the laser beam with the power of P3 is read by the detector.
The information signal is reproduced.

【0076】信号の記録に用いるレーザー光の波長は、
300nmから500nmの範囲内とする。このように
青色波長域のレーザー光を用いた場合、最小スポット径
をより小さくすることができ、従来よりも高密度での記
録が可能となる。
The wavelength of the laser beam used for signal recording is
The range is 300 nm to 500 nm. When the laser beam in the blue wavelength range is used, the minimum spot diameter can be made smaller, and recording at a higher density than before can be performed.

【0077】信号の再生を行うレーザー波長は、記録を
行うレーザー波長とは必ずしも同一である必要はなく、
異なる波長のレーザーを用いてもよい。
The laser wavelength for reproducing signals is not necessarily required to be the same as the laser wavelength for recording.
Lasers of different wavelengths may be used.

【0078】アモルファス生成パワーP1は、10mW
以下であることが好ましい。これは、本発明による光学
情報記録媒体を用いる場合、記録感度が向上するため、
10mW以下の低パワーでも十分に大きい信号振幅が得
られるが、このように低いパワーで記録を行った場合に
は、隣接消去の影響をより受けにくくなり、高密度化を
図ることができるためである。
The amorphous generation power P1 is 10 mW
The following is preferred. This is because when using the optical information recording medium according to the present invention, the recording sensitivity is improved,
Although a sufficiently large signal amplitude can be obtained even with a low power of 10 mW or less, when recording is performed with such a low power, the influence of adjacent erasure is less likely to occur, and a higher density can be achieved. is there.

【0079】[0079]

【実施例】(実施例1)次に、具体的な実施例をもって
本発明をさらに詳細に述べる。一例として図1の構成に
おいて、基板1を厚さ0.6mm、直径120mmのデ
ィスク状ポリカーボネート樹脂、保護層2、断熱層6を
ともにZnSにSiO2を20mol%混合した材料、
界面層3、5をともにGeCrN、記録層4をGe29
15Te 542、光吸収層7をNiCr、反射層8をA
gPdCu合金、とした。各層の膜厚は、保護層2を1
00nm、界面層3、5をともに5nm、記録層4を1
0nm、断熱層6を54nm、光吸収層7を20nm、
反射層8を80nmとした。
[Embodiment 1] Next, a specific embodiment will be described.
The present invention will be described in further detail. As an example, in the configuration of FIG.
In this case, the substrate 1 has a thickness of 0.6 mm and a diameter of 120 mm.
Disc-like polycarbonate resin, protective layer 2 and heat insulating layer 6
Both are ZnS and SiOTwo20 mol% mixed material,
The interface layers 3 and 5 are both GeCrN, and the recording layer 4 is Ge29S
bFifteenTe 54NTwo, The light absorption layer 7 is NiCr, and the reflection layer 8 is A
gPdCu alloy. The thickness of each layer is as follows.
00 nm, the interface layers 3 and 5 were both 5 nm, and the recording layer 4 was 1
0 nm, the heat insulation layer 6 is 54 nm, the light absorption layer 7 is 20 nm,
The reflective layer 8 was set to 80 nm.

【0080】ここで、記録層4を成膜する際は、Arに
窒素を2.5体積%混合したガスを、全圧が0.13P
aとなるように供給し、陰極にDC1.27W/cm2
のパワーを投入して行った。保護層2、断熱層6を成膜
する際には、Arに酸素を1.0体積%混合したガスを
全圧が0.13Paとなるように供給し、陰極に高周波
電源を用いて5.10W/cm2のパワーを投入して行
った。光吸収層7、及び反射層8を成膜する際は、とも
にArガスを全圧0.26Paになるように供給し、D
C4.45W/cm2のパワーを投入して行った。界面
層3、5を成膜する際は、ともにターゲット材料をGe
Cr、スパッタガスをArと窒素との混合ガス、スパッ
タガス圧を1.33Pa、スパッタガス中の窒素体積を
40%、スパッタパワー密度を高周波6.37W/cm
2として成膜を行った。
Here, when forming the recording layer 4, a gas in which Ar is mixed with 2.5% by volume of nitrogen is applied at a total pressure of 0.13 Pg.
a, and DC 1.27 W / cm 2
Power was turned on. When forming the protective layer 2 and the heat insulating layer 6, a gas in which Ar is mixed with 1.0% by volume of oxygen is supplied so that the total pressure becomes 0.13 Pa, and a high-frequency power source is used as a cathode. The test was performed by applying a power of 10 W / cm 2 . When forming the light absorption layer 7 and the reflection layer 8, Ar gas is supplied so as to have a total pressure of 0.26 Pa.
C 4.45 W / cm 2 power was applied. When forming the interface layers 3 and 5, both target materials are Ge
Cr, a mixed gas of Ar and nitrogen as a sputtering gas, a sputtering gas pressure of 1.33 Pa, a nitrogen volume in the sputtering gas of 40%, and a sputtering power density of a high frequency of 6.37 W / cm.
As No. 2 , a film was formed.

【0081】以上の方法によって作製した媒体を媒体
(1)とする。比較のために、図5に示すように、光吸
収層7を設けない以外は媒体(1)と全く同様とした構
成を有する媒体を媒体(0)とする。また、別の比較例
として、光吸収層7としてSiを用いた媒体を媒体(1
00)とする。ここで、波長400nmにおいて、媒体
(1)の光吸収層7をなすNiCrの複素屈折率n−i
kは1.8−i3.2、媒体(100)の光吸収層7を
なすSiの複素屈折率は、4.8−i0.2であった。
The medium manufactured by the above method is referred to as medium (1). For comparison, as shown in FIG. 5, a medium (0) has the same configuration as the medium (1) except that the light absorption layer 7 is not provided. Further, as another comparative example, a medium using Si as the light absorbing layer 7 was used as the medium (1).
00). Here, at a wavelength of 400 nm, the complex refractive index ni of NiCr forming the light absorbing layer 7 of the medium (1) is shown.
k was 1.8-i3.2, and the complex refractive index of Si forming the light absorption layer 7 of the medium (100) was 4.8-i0.2.

【0082】次に、これらの媒体のディスク特性の評価
を行った。その方法を以下に示す。まず、記録・再生を
行うレーザー光として、波長400nm、対物レンズの
開口数が0.65のものを用いた。最短マーク長は、
0.26μm、ディスク回転速度は線速8.6m/sと
し、トラックピッチについては、0.34μmごとに溝
部とランド部が交互に形成される基板を用いた。
Next, the disk characteristics of these media were evaluated. The method is described below. First, a laser beam having a wavelength of 400 nm and a numerical aperture of an objective lens of 0.65 was used as a laser beam for recording / reproducing. The shortest mark length is
The substrate used was 0.26 μm, the disk rotation speed was 8.6 m / s, and the track pitch was a substrate in which grooves and lands were alternately formed every 0.34 μm.

【0083】ディスクの特性評価は、信号のC/N比、
及びオーバーライト消去特性、及び隣接消去特性につい
て行った。C/N比の評価は、(8−16)変調方式で
3T長さのマーク(マーク長0.265μm)を、適正
なレーザーパワーで記録し、このC/N比を測定するこ
とにより行った。オーバーライト消去特性の評価は(8
−16)変調方式での3T長さのマークを適正なレーザ
ーパワーで記録した後、同じパワーで11T長さのマー
クをオーバーライトし、このときの3Tマークの振幅低
下分(以下、3T消去率という。)を測定することによ
り行った。
The evaluation of the characteristics of the disk was carried out using the C / N ratio of the signal,
And overwrite erase characteristics and adjacent erase characteristics. The evaluation of the C / N ratio was performed by recording a mark (mark length 0.265 μm) having a length of 3T by an (8-16) modulation method with an appropriate laser power and measuring the C / N ratio. . The evaluation of the overwrite erasing characteristic is (8
-16) After recording a mark of 3T length in the modulation method with an appropriate laser power, overwrite a mark of 11T length with the same power and reduce the amplitude of the 3T mark at this time (hereinafter referred to as 3T erasure rate). ) Was measured.

【0084】隣接消去特性の評価は、まず、溝部のある
トラックに3T長さのマークを適正パワーにて10回繰
り返し記録した後、信号振幅を測定する。次に、隣接す
る両側のランド部のトラックについて、3T長さのマー
クと11T長さのマークを、交互に繰り返し50回づつ
計100回記録した後、消去を行うレーザーパワーを走
査することによってトラック全周のマークを消去した。
この後に再度、先程の真ん中の溝部のトラックでの3T
長さのマークの信号振幅を測定し、両側のトラックに信
号を書き込む前に測定した振幅からの低下分を隣接消去
の発生量として測定した。
In the evaluation of the adjacent erasure characteristic, first, a mark having a length of 3T is repeatedly recorded on a track having a groove at an appropriate power ten times, and then the signal amplitude is measured. Next, marks of 3T length and marks of 11T length are alternately recorded on the adjacent land tracks on both sides alternately 50 times, that is, 100 times in total, and then the laser power for erasing is scanned. Marks around the entire circumference have been deleted.
After this, again, 3T on the track in the middle groove part
The signal amplitude of the length mark was measured, and the decrease from the amplitude measured before writing the signal to the tracks on both sides was measured as the amount of occurrence of adjacent erasure.

【0085】表1に、以上の方法によって媒体(1)、
媒体(0)、及び媒体(100)を評価した結果を示
す。
Table 1 shows that the media (1),
The results of evaluating the medium (0) and the medium (100) are shown.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】ここで、C/N比については、50dB以
上得られた場合を◎、50dB未満48dB以上であっ
たものを○、48dB未満であったものを×として示し
た。オーバーライト消去特性については、得られた3T
消去率が30dB以上の場合を○、30dB未満の場合
を×として示した。隣接消去特性については、振幅低下
量が1dB以下のものを◎、1dBより大きく5dB以
下のものを○、5dBより大きいものを×として示し
た。
Here, regarding the C / N ratio, 場合 indicates that a C / N ratio of 50 dB or more was obtained, ○ indicates that the C / N ratio was less than 50 dB and was 48 dB or more, and X indicates that the C / N ratio was less than 48 dB. Regarding the overwrite erasing characteristic, the obtained 3T
The case where the erasing rate is 30 dB or more is indicated by ○, and the case where the erasing ratio is less than 30 dB is indicated by ×. Regarding the adjacent erasure characteristics, those where the amplitude reduction amount is 1 dB or less are indicated by ◎, those that are greater than 1 dB and 5 dB or less are indicated by ○, and those that are greater than 5 dB are indicated by x.

【0088】表1から明らかなように、媒体(1)では
大きいC/N比と良好なオーバーライト消去特性、及び
良好な隣接消去特性が得られている。これに対し媒体
(0)では、C/N比、オーバーライト消去特性につい
ては良好であるが、隣接消去特性が大きく悪化してい
る。媒体(1)は媒体(0)と比較して記録感度が良好
であり、設定レーザーパワーが低くてすむため、隣接消
去が生じにくくなっている。また、媒体(100)で
は、オーバーライト消去特性及び隣接消去特性は良好で
あるが、C/N比が低下している。これは、光吸収層7
での光吸収量が大きくなりすぎ、媒体の反射率差が低減
したためである。媒体(1)では、光吸収層7において
適度な光吸収を有するため、C/N比の低下なく、隣接
消去特性を向上させることが可能となっている。
As is clear from Table 1, the medium (1) has a large C / N ratio, good overwrite erasing characteristics, and good adjacent erasing characteristics. On the other hand, in the medium (0), the C / N ratio and the overwrite erasing property are good, but the adjacent erasing property is greatly deteriorated. The medium (1) has better recording sensitivity than the medium (0) and requires a lower set laser power, so that adjacent erasure is less likely to occur. In the medium (100), the overwrite erasing characteristics and the adjacent erasing characteristics are good, but the C / N ratio is low. This is the light absorption layer 7
This is because the amount of light absorbed by the medium becomes too large, and the difference in the reflectance of the medium is reduced. In the medium (1), since the light absorbing layer 7 has an appropriate light absorption, it is possible to improve the adjacent erasing characteristic without lowering the C / N ratio.

【0089】本発明の別の実施例として、光吸収層7の
材料をそれぞれInSb、InSbN、PbTe、S
b、SiO2−Au、Ge−Cr、Ge−W、Al−C
r、Al−Wとした以外は全て媒体(1)と同様とした
媒体をそれぞれ媒体(2)〜媒体(10)とする。表2
に、媒体(2)〜(10)について先と同様の評価を行
った結果を示す。
As another embodiment of the present invention, the material of the light absorbing layer 7 is InSb, InSbN, PbTe, and Sb, respectively.
b, SiO 2 —Au, Ge—Cr, Ge—W, Al—C
The mediums which were all the same as the medium (1) except that r and Al-W were used are referred to as mediums (2) to (10), respectively. Table 2
The results of the same evaluation as described above for the media (2) to (10) are shown below.

【0090】[0090]

【表2】 [Table 2]

【0091】表2において、各媒体の光吸収層7をなす
材料の波長400nmにおける複素屈折率n−ikは、
いずれも条件A:0<n<2.5かつ0<k≦5、或い
は条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5≦k≦5.
0、或いは条件C:5<k≦8のいずれかを満たしてい
る。表2中には、これらの材料の光学定数がA、B、C
いずれの条件を満たしているかも併記する。
In Table 2, the complex refractive index n-ik at a wavelength of 400 nm of the material forming the light absorbing layer 7 of each medium is as follows:
In each case, condition A: 0 <n <2.5 and 0 <k ≦ 5, or condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.
0 or condition C: 5 <k ≦ 8 is satisfied. In Table 2, the optical constants of these materials are A, B, C
Which condition is satisfied is also described.

【0092】表2から明らかなように、媒体(2)〜
(10)についても媒体(1)と同様、C/N比を低下
させることなく隣接消去特性が良好であることがわか
る。光吸収層7が条件A、Bを満たしている場合、C/
N比、オーバーライト消去特性、及び隣接消去特性の全
てについて、良好な特性が得られている。条件Cを満た
す場合は、やや隣接消去特性が低下している。これは、
光吸収層7における条件Cの光吸収が条件A、Bの場合
に比べてやや低下しているためである。
As is clear from Table 2, the media (2) to
As for the medium (1), it can be seen that the adjacent erasing characteristic is good for the medium (1) without lowering the C / N ratio. When the light absorbing layer 7 satisfies the conditions A and B, C /
Good characteristics are obtained for all of the N ratio, the overwrite erasing characteristics, and the adjacent erasing characteristics. When the condition C is satisfied, the adjacent erasing characteristics are slightly lowered. this is,
This is because the light absorption under the condition C in the light absorbing layer 7 is slightly lower than that under the conditions A and B.

【0093】また、光吸収層7の材料として、SnT
e、AlSb、Cr−Te、Au−Cr、Ag−Cr、
Ag−Mg、Cu−Cr、Pt−Cr、Nb−Cr、P
d−W、Bi−Te、In−Te、Zn、Ge−W、G
e−Mnを用いた場合も、媒体(1)とほぼ同様の良好
な隣接消去特性、及び良好なC/N比が得られた。
Further, as a material of the light absorbing layer 7, SnT
e, AlSb, Cr-Te, Au-Cr, Ag-Cr,
Ag-Mg, Cu-Cr, Pt-Cr, Nb-Cr, P
d-W, Bi-Te, In-Te, Zn, Ge-W, G
Also in the case of using e-Mn, good adjacent erasing characteristics and a good C / N ratio almost similar to those of the medium (1) were obtained.

【0094】以上のように、記録レーザー光の波長を3
00nmから500nmとし、光吸収層を設け、その複
素屈折率n−ikが、条件A:0<n<2.5かつ0<
k≦5、或いは条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5
≦k≦5.0、或いは条件C:5<k≦8のうちいずれ
かの条件を満たすことによって、光吸収層において適度
な光吸収を生じさせることができ、隣接消去の低減が可
能となった。
As described above, the wavelength of the recording laser beam is set to 3
The light absorption layer is provided from 00 nm to 500 nm, and its complex refractive index n-ik is set so that the condition A: 0 <n <2.5 and 0 <
k ≦ 5 or condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5
By satisfying any one of ≦ k ≦ 5.0 or condition C: 5 <k ≦ 8, appropriate light absorption can be caused in the light absorbing layer, and adjacent erasure can be reduced. Was.

【0095】(実施例2)次に、本発明の別の実施例に
ついて述べる。図1に示す構成を有し、保護層2を70
nm、断熱層6を107nmとした以外は前記媒体
(1)と全く同様とした媒体を媒体(11)とする。ま
た、媒体(11)において、光吸収層7をAl−Cr、
及びAl−Wとした以外は全て同様とした媒体を、それ
ぞれ媒体(12)、媒体(13)とする。媒体(11)
〜媒体(13)について、実施例1と同様の評価を行っ
た結果を表3に示す。
(Embodiment 2) Next, another embodiment of the present invention will be described. The protective layer 2 has the configuration shown in FIG.
The medium (11) is exactly the same as the medium (1) except that the thickness of the heat insulating layer 6 is 107 nm. In the medium (11), the light absorption layer 7 is made of Al-Cr,
And the same medium except that Al-W was used as the medium (12) and medium (13), respectively. Medium (11)
Table 3 shows the results of the same evaluation as in Example 1 for the medium (13).

【0096】[0096]

【表3】 [Table 3]

【0097】表3から明らかなように、これら3つの媒
体についても実施例1の場合と同様、C/N比、オーバ
ーライト消去特性、及び隣接消去特性ともに良好な値が
得られている。また、媒体(12)、媒体(13)の結
果と、実施例1における媒体(9)、媒体(10)の結
果とをそれぞれ比較すると、媒体(12)、及び媒体
(13)の方が隣接消去特性が向上している。これは、
媒体(12)、媒体(13)においては、断熱層6の膜
厚が比較的厚いため、記録レーザー照射後の冷却時に断
熱効果をより顕著に発揮することができ、隣接消去特性
が向上しているものと考えられる。
As is clear from Table 3, good values were obtained for these three media, as in the case of the first embodiment, in all of the C / N ratio, the overwrite erase characteristic, and the adjacent erase characteristic. When the results of the medium (12) and the medium (13) are compared with the results of the medium (9) and the medium (10) in Example 1, respectively, the medium (12) and the medium (13) are adjacent to each other. Erasure characteristics are improved. this is,
In the medium (12) and the medium (13), since the heat insulating layer 6 has a relatively large thickness, the heat insulating effect can be more remarkably exerted at the time of cooling after irradiation of the recording laser, and the adjacent erasing property is improved. It is thought that there is.

【0098】(実施例3)次に、媒体(11)と同様の
構成を有し、光吸収層7の材料をAu98Cr2、Au80
Cr20、Au60Cr40、Au40Cr60、Au20Cr80
Au2Cr98、Cr、Cr83710、Cr651520
Cr452530とした以外は媒体(11)と全く同様と
した媒体をそれぞれ、媒体(14)〜媒体(23)とす
る。表4に、これらの光吸収層7をなす材料の800K
における熱伝導率を、既述の方法で測定した結果も同時
に示す。表4中、熱伝導率の欄において、aは、800
Kにおける熱伝導率の値が、0.01W/(m・K)よ
り小さい場合であり、bは0.01W/(m・K)以
上、5.0W/(m・K)以下の場合であり、cは5.
0W/(m・K)より大きい場合を示している。これら
媒体(14)〜(23)について、実施例1と同様の評
価を行った結果を表4に示す。
(Embodiment 3) Next, the light absorbing layer 7 has the same structure as that of the medium (11), and is made of Au 98 Cr 2 or Au 80.
Cr 20, Au 60 Cr 40, Au 40 Cr 60, Au 20 Cr 80,
Au 2 Cr 98 , Cr, Cr 83 O 7 N 10 , Cr 65 O 15 N 20 ,
The media exactly the same as the media (11) except for using Cr 45 O 25 N 30 are referred to as media (14) to medium (23), respectively. Table 4 shows the 800K materials of these light absorbing layers 7.
The results obtained by measuring the thermal conductivity in the above-mentioned method are also shown. In Table 4, in the column of thermal conductivity, a is 800
The value of the thermal conductivity at K is less than 0.01 W / (m · K), and the value of b is 0.01 W / (m · K) or more and 5.0 W / (m · K) or less. Yes, c is 5.
The case where it is larger than 0 W / (m · K) is shown. Table 4 shows the results of the same evaluation as in Example 1 for these media (14) to (23).

【0099】[0099]

【表4】 [Table 4]

【0100】表4から明らかなように、いずれの媒体に
ついても、良好な特性が得られているが、光吸収層の熱
伝導率が0.01W/(m・K)以上、5.0W/(m
・K)以下の条件bを満たす場合、より良好な隣接消去
特性が得られている。これは、既述の光吸収層7による
隣接消去低減メカニズムが、上記の熱伝導率範囲を満た
す場合に、より顕著に得られるためである。
As is clear from Table 4, good characteristics were obtained for all the media, but the thermal conductivity of the light absorbing layer was 0.01 W / (m · K) or more and 5.0 W / (M
K) When the following condition b is satisfied, a better adjacent erase characteristic is obtained. This is because the above-described mechanism for reducing adjacent erasure by the light absorption layer 7 can be more remarkably obtained when the above thermal conductivity range is satisfied.

【0101】(実施例4)次に、媒体(11)と同様の
構成を有し、光吸収層7の膜厚を2nm、3nm、5n
m、10nm、20nm、50nm、60nm、80n
m、100nmと変化させた以外は媒体(8)と同様と
した媒体を、それぞれ媒体(24)〜媒体(32)とす
る。これらの媒体について、実施例1と同様の評価を行
った結果を表5に示す。
Example 4 Next, the same structure as the medium (11) was used, and the thickness of the light absorbing layer 7 was 2 nm, 3 nm, and 5 nm.
m, 10 nm, 20 nm, 50 nm, 60 nm, 80 n
Mediums (24) to (32) are the same as the medium (8) except that they were changed to m and 100 nm, respectively. Table 5 shows the results of the same evaluation as in Example 1 for these media.

【0102】[0102]

【表5】 [Table 5]

【0103】表5から明らかなように、いずれの媒体に
ついても、良好な特性が得られているが、光吸収層7の
膜厚が5nm以上、60nm以下の条件を満たす場合、
より良好な隣接消去特性と良好なC/N比が両立して得
られている。これは、光吸収層7の膜厚が5nmより小
さい場合、光吸収層としての効果が低下し、隣接消去特
性の向上効果が薄れるためであり、膜厚が60nmより
大きい場合、光吸収層7での光吸収が非常に大きくなる
ため、媒体としての光学特性差が低下し、C/N比がや
や低下してしまうためである。
As is clear from Table 5, good characteristics are obtained for all the media. However, when the thickness of the light absorbing layer 7 satisfies the condition of 5 nm or more and 60 nm or less,
A better adjacent erase characteristic and a better C / N ratio are obtained. This is because, when the thickness of the light absorbing layer 7 is smaller than 5 nm, the effect as the light absorbing layer is reduced, and the effect of improving the adjacent erasing characteristic is weakened. This is because the light absorption in the medium becomes very large, so that the difference in optical characteristics as a medium is reduced, and the C / N ratio is slightly reduced.

【0104】[0104]

【発明の効果】以上で述べたように、レーザー光の照射
によって、光学特性が可逆的に変化しうる記録層と、光
吸収層と、反射層とを少なくとも有し、光吸収層の複素
屈折率n−ikが、条件A:0<n<2.5かつ0<k
≦5、或いは条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5≦
k≦5.0、或いは条件C:5<k≦8のうちいずれか
の条件を満たし、かつ前記レーザー光の波長を300n
mから500nmの範囲内とすることにより、隣接マー
クを消去することなく、より高密度での記録が可能な光
学情報記録媒体とその記録再生方法を提供することが可
能となる。
As described above, the light absorption layer has at least the recording layer, the light absorption layer, and the reflection layer whose optical characteristics can be reversibly changed by the irradiation of the laser beam. When the rate n-ik is less than the condition A: 0 <n <2.5 and 0 <k
≦ 5, or condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5 ≦
k ≦ 5.0 or Condition C: Any one of 5 <k ≦ 8 is satisfied, and the wavelength of the laser beam is 300 n
By setting the range from m to 500 nm, it is possible to provide an optical information recording medium capable of recording at higher density without erasing adjacent marks and a recording / reproducing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における層構成の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration according to the present invention.

【図2】本発明における光吸収層の光学定数範囲を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing an optical constant range of a light absorbing layer in the present invention.

【図3】本発明における成膜装置の一例を示す概略図で
ある。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a film forming apparatus according to the present invention.

【図4】本発明における記録再生装置の一例を示す概略
図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a recording / reproducing apparatus according to the present invention.

【図5】従来の層構成の一例を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a conventional layer configuration.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 保護層 3 界面層 4 記録層 5 界面層 6 断熱層 7 光吸収層 8 反射層 9 真空容器 10 基板 11 基板駆動装置 12 スパッタターゲット 13 陰極 14 ガス供給口 15 排気口 16 レーザー光源 17 対物レンズ 18 光ヘッド 19 駆動装置 20 回転制御装置 21 媒体 101 基板 102 保護層 103 界面層 104 記録層 105 界面層 106 断熱層 108 反射層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Protective layer 3 Interface layer 4 Recording layer 5 Interface layer 6 Heat insulation layer 7 Light absorption layer 8 Reflection layer 9 Vacuum container 10 Substrate 11 Substrate drive 12 Sputter target 13 Cathode 14 Gas supply port 15 Exhaust port 16 Laser light source 17 Objective Lens 18 Optical head 19 Drive device 20 Rotation control device 21 Medium 101 Substrate 102 Protective layer 103 Interface layer 104 Recording layer 105 Interface layer 106 Heat insulation layer 108 Reflection layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/004 G11B 7/26 531 7/26 531 B41M 5/26 X Fターム(参考) 2H111 EA04 EA23 EA32 FA01 FA11 FA12 FA14 FA17 FA21 FA24 FA25 FB05 FB06 FB09 FB10 FB12 FB16 FB17 FB19 FB21 FB23 FB24 FB25 GA01 5D029 JA01 JB35 MA02 MA04 MA28 5D090 AA01 BB05 BB17 CC01 CC04 DD01 DD05 EE02 FF11 KK03 KK06 5D121 AA01 AA03 AA05 JJ08 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G11B 7/004 G11B 7/26 531 7/26 531 B41M 5/26 X F term (reference) 2H111 EA04 EA23 EA32 FA01 FA11 FA12 FA14 FA17 FA21 FA24 FA25 FB05 FB06 FB09 FB10 FB12 FB16 FB17 FB19 FB21 FB23 FB24 FB25 GA01 5D029 JA01 JB35 MA02 MA04 MA28 5D090 AA01 BB05 BB17 CC01 CC04 DD01 DD05 EE02 FF11 KK03 A05A08 A121

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザー光の照射によって光学特性が可
逆的に変化しうる記録層と、光吸収層と、反射層とを少
なくとも有し、前記レーザー光の波長における前記光吸
収層の複素屈折率n−ikが、条件A:0<n<2.5
かつ0<k≦5、条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.
5≦k≦5.0、及び条件C:5<k≦8から選択され
るいずれかの条件を満たし、かつ前記レーザー光の波長
が300nmから500nmの範囲内にあることを特徴
とする光学情報記録媒体。
1. A complex refractive index of the light absorbing layer at a wavelength of the laser light, comprising at least a recording layer whose optical characteristics can be reversibly changed by irradiation with the laser light, a light absorbing layer, and a reflecting layer. When n-ik is the condition A: 0 <n <2.5
And 0 <k ≦ 5, Condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.
Optical information characterized by satisfying any condition selected from 5 ≦ k ≦ 5.0 and condition C: 5 <k ≦ 8, and the wavelength of the laser light is in a range of 300 nm to 500 nm. recoding media.
【請求項2】 前記記録層の上下に接して、界面層が設
けられている請求項1に記載の光学情報記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein an interface layer is provided above and below the recording layer.
【請求項3】 前記光吸収層の800Kにおける熱伝導
率が、0.01W/(m・K)以上、5.0W/(m・
K)以下である請求項1に記載の光学情報記録媒体。
3. The thermal conductivity of the light absorbing layer at 800 K is 0.01 W / (m · K) or more and 5.0 W / (m · K).
K) The optical information recording medium according to claim 1, wherein
【請求項4】 前記光吸収層が、アモルファス状態であ
る請求項1に記載の光学情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 1, wherein said light absorbing layer is in an amorphous state.
【請求項5】 前記光吸収層が、In−Sb、Sn−T
e、Cr−Te、Al−Sb、Pb−Te、Au、A
g、Cu、Ni、Cr、Pt、Nb、Pd、Sn、S
b、Bi、In、及びZnからなる群から選択される少
なくとも一つを含む材料から形成されている請求項1に
記載の光学情報記録媒体。
5. The light-absorbing layer is made of In-Sb, Sn-T.
e, Cr-Te, Al-Sb, Pb-Te, Au, A
g, Cu, Ni, Cr, Pt, Nb, Pd, Sn, S
The optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium is formed of a material including at least one selected from the group consisting of b, Bi, In, and Zn.
【請求項6】 前記光吸収層が、Geを含む材料から形
成されている請求項1に記載の光学情報記録媒体。
6. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the light absorbing layer is formed from a material containing Ge.
【請求項7】 前記光吸収層が、窒素、酸素、及び炭素
から選択される少なくとも一つを含む材料から形成され
ている請求項1に記載の光学情報記録媒体。
7. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the light absorbing layer is formed from a material containing at least one selected from nitrogen, oxygen, and carbon.
【請求項8】 前記光吸収層の膜厚が、5nm以上、6
0nm以下である請求項1に記載の光学情報記録媒体。
8. The light absorption layer has a thickness of 5 nm or more and 6
2. The optical information recording medium according to claim 1, which has a thickness of 0 nm or less.
【請求項9】 前記光吸収層と前記記録層との間に、断
熱層を少なくとも1層有する請求項1に記載の光学情報
記録媒体。
9. The optical information recording medium according to claim 1, wherein at least one heat insulating layer is provided between the light absorbing layer and the recording layer.
【請求項10】 前記断熱層が、SiとOとを少なくと
も含む材料から形成されている請求項9に記載の光学情
報記録媒体。
10. The optical information recording medium according to claim 9, wherein the heat insulating layer is formed from a material containing at least Si and O.
【請求項11】 前記光吸収層に接して前記反射層が設
けられている請求項1に記載の光学情報記録媒体。
11. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the reflection layer is provided in contact with the light absorption layer.
【請求項12】 前記記録層が、Ge、Sb、In、及
びTeから選択される少なくとも一つを含む請求項1に
記載の光学情報記録媒体。
12. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer contains at least one selected from Ge, Sb, In, and Te.
【請求項13】 前記記録層が、Nを含む請求項1に記
載の光学情報記録媒体。
13. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer contains N.
【請求項14】 前記記録層の膜厚が、1nm以上、1
5nm以下である請求項1に記載の光学情報記録媒体。
14. The recording layer having a thickness of 1 nm or more,
2. The optical information recording medium according to claim 1, which has a thickness of 5 nm or less.
【請求項15】 レーザー光の照射によって光学特性が
可逆的に変化しうる記録層を作製する工程と、光吸収層
を作製する工程と、反射層を作製する工程とを少なくと
も有し、前記レーザー光の波長における前記光吸収層の
複素屈折率n−ikが、条件A:0<n<2.5かつ0
<k≦5、条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5≦k
≦5.0、及び条件C:5<k≦8から選択されるいず
れかの条件を満たし、かつ前記レーザー光の波長が30
0nmから500nmの範囲内にあることを特徴とする
光学情報記録媒体の製造方法。
15. The laser according to claim 1, further comprising a step of forming a recording layer whose optical characteristics can be reversibly changed by irradiation with a laser beam, a step of forming a light absorbing layer, and a step of forming a reflective layer. When the complex refractive index n-ik of the light absorbing layer at the wavelength of light is the condition A: 0 <n <2.5 and 0
<K ≦ 5, condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k
≦ 5.0 and condition C: 5 <k ≦ 8, and the wavelength of the laser light is 30
A method for producing an optical information recording medium, wherein the optical information recording medium is within a range of 0 nm to 500 nm.
【請求項16】 前記反射層を作製する工程が、前記光
吸収層を作製する工程の直前又は直後に設けられている
請求項15に記載の光学情報記録媒体の製造方法。
16. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 15, wherein the step of forming the reflection layer is provided immediately before or immediately after the step of forming the light absorbing layer.
【請求項17】 基板上に、レーザー光の照射によりア
モルファス状態と結晶状態との間を可逆的に変化しうる
記録層と、光吸収層と、反射層とを少なくとも有し、前
記レーザー光の波長における前記光吸収層の複素屈折率
n−ikが、条件A:0<n<2.5かつ0<k≦5、
条件B:2.5≦n≦6.0かつ3.5≦k≦5.0、
及び条件C:5<k≦8から選択されるいずれかの条件
を満たす光学情報記録媒体を用いて、情報の記録、再
生、消去を行う方法であり、光学系によりレーザー光を
微小スポットに絞りこみ、レーザーの照射により記録層
のうちの局所的な一部分がアモルファス状態へと可逆的
に変化しうるアモルファス状態生成パワーレベルをP
1、同じくレーザーの照射により結晶状態へと可逆的に
変化しうる結晶状態生成パワーレベルをP2、前記P
1、P2のいずれのパワーレベルよりも低く、そのパワ
ーレベルでのレーザー照射によって記録マークの光学的
な状態が影響を受けず、かつその照射によって媒体から
記録マークの再生のために十分な反射率が得られるパワ
ーレベルを再生パワーレベルP3としたとき、前記レー
ザー光のパワーをP1とP2のレベルの間で適度に変調
させることにより情報の記録、及び消去を行い、P3の
パワーのレーザー光を照射することにより情報記録の再
生を行うことを特徴とし、かつP1及びP2のレベルの
レーザー光を照射する際のレーザー光の波長が300n
mから500nmの範囲内にあることを特徴とする光学
情報記録媒体の記録再生方法。
17. A substrate having at least a recording layer capable of reversibly changing between an amorphous state and a crystalline state by irradiation with a laser beam, a light absorbing layer, and a reflecting layer, When the complex refractive index n-ik of the light absorbing layer at a wavelength is the condition A: 0 <n <2.5 and 0 <k ≦ 5,
Condition B: 2.5 ≦ n ≦ 6.0 and 3.5 ≦ k ≦ 5.0,
And condition C: a method for recording, reproducing, and erasing information using an optical information recording medium that satisfies one of the conditions selected from 5 <k ≦ 8. In this case, the power of the amorphous state generating power level at which a local part of the recording layer can be reversibly changed to the amorphous state by laser irradiation is set to P.
1. Similarly, the crystal state generation power level which can be reversibly changed to the crystal state by laser irradiation is P2,
1, lower than the power level of P2, the laser irradiation at the power level does not affect the optical state of the record mark, and the reflectivity is sufficient for reproducing the record mark from the medium by the irradiation. When the power level at which the power is obtained is set to the reproduction power level P3, information recording and erasing are performed by appropriately modulating the power of the laser light between the levels P1 and P2, and the laser light having the power of P3 is output. It is characterized in that the information recording is reproduced by irradiating, and the wavelength of the laser light at the time of irradiating the laser light of P1 and P2 level is 300n.
A recording / reproducing method for an optical information recording medium, wherein the distance is within a range from m to 500 nm.
【請求項18】 前記アモルファス状態生成パワーレベ
ルP1が、10mW以下である請求項17に記載の光学
情報記録媒体の記録再生方法。
18. The recording / reproducing method for an optical information recording medium according to claim 17, wherein said amorphous state generation power level P1 is 10 mW or less.
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