JP2001341188A - Roll for polymeric film sheet, apparatus and method for manufacturing polymeric film sheet using the same, and polymeric film sheet - Google Patents

Roll for polymeric film sheet, apparatus and method for manufacturing polymeric film sheet using the same, and polymeric film sheet

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JP2001341188A JP2000168018A JP2000168018A JP2001341188A JP 2001341188 A JP2001341188 A JP 2001341188A JP 2000168018 A JP2000168018 A JP 2000168018A JP 2000168018 A JP2000168018 A JP 2000168018A JP 2001341188 A JP2001341188 A JP 2001341188A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for continuously manufacturing a polymeric film sheet excellent in surface smoothness and the polymeric film sheet obtained using the same. SOLUTION: A roll for the polymeric film sheet has a coating layer comprising a silicon oxide compound containing fluorine-containing organosilane on its surface. The polymeric film sheet manufacturing apparatus has this roll, an extruder and a T-die or a hanger coat die. The polymeric film sheet manufacturing method using this apparatus is disclosed. The polymeric film sheet of which the maximum surface roughness (Rmax) is 0.1 μm or less is also disclosed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高分子シートの製
造に於いて、平滑性に優れた高耐熱性高分子シートを効
率良く製造する装置と、これを製造する方法、並びにこ
れを用いて製造した高分子シートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for efficiently producing a high heat resistant polymer sheet having excellent smoothness, a method for producing the same, and a method for producing the same. It relates to the produced polymer sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子工業用途等に高分子のフィルムおよ
びシートが種々利用されている。これらの用途のうち、
ガラス板代替や金属板代替の用途で用いられるものにつ
いては、例えば液晶表示素子用基板のように極めて平滑
性が良好である即ち表面粗さが極めて小さいことが要求
される用途が有る。従来、平滑性が良好である高分子フ
ィルムおよびシートを製造する場合には、高分子の溶液
を研磨ガラス基板や研磨スチールベルト上にキャスト
し、溶剤を揮発させてフィルムを得るキャスト法が広く
用いられている。しかし、キャストでは、200μmを
越える厚さのフィルムを得ることが困難であったり、溶
剤を揮発させるための加熱にエネルギーを要すること
や、溶剤そのものが有害物質である場合が多いという問
題点がある。
2. Description of the Related Art Various types of polymer films and sheets have been used for applications in the electronics industry. Of these uses,
As a material used as a substitute for a glass plate or a metal plate, there is a use such as a substrate for a liquid crystal display device which requires extremely good smoothness, that is, a very small surface roughness. Conventionally, when producing polymer films and sheets having good smoothness, a casting method of casting a polymer solution on a polished glass substrate or a polished steel belt and evaporating the solvent to obtain a film is widely used. Have been. However, casting has problems that it is difficult to obtain a film having a thickness of more than 200 μm, heat is required for heating to evaporate the solvent, and the solvent itself is often a harmful substance. .

【0003】一方、上記のような問題点を持たない高分
子フィルムシートの製造方法として押出がある。一般に
押出によりフィルムシートを製造する場合、Tダイもし
くはコートハンガーダイから押し出されたフィルムシー
トを冷却ロールで引き取って加工する。しかし、このよ
うな方法でフィルムシートを製造すると、ダイ由来のス
ジ状の厚み不良であるダイラインが発生するという問題
点がある。引取ロールを平滑な研磨面を持つ金属ロール
にし、冷却ではなく加熱することにより高分子フィルム
シートを密着させることによりダイラインを低減する方
法も考案されているが、高分子が緩和して十分にダイラ
インが低減されるためには高分子をガラス転移点(T
g)以上に加熱することが必要である一方、高分子をT
g以上とすると金属面への付着性が高まりロールへのと
られが発生して連続生産ができなくなるという問題が起
こる。付着が防止できるロールとしては、フッ素化ゴム
やポリテトラフルオロエチレン製のロールが有るが、こ
れらでは金属のような研磨ができないため十分な平滑性
が得られないという問題がある。
On the other hand, there is extrusion as a method for producing a polymer film sheet which does not have the above-mentioned problems. Generally, when a film sheet is manufactured by extrusion, a film sheet extruded from a T die or a coat hanger die is taken up by a cooling roll and processed. However, when a film sheet is manufactured by such a method, there is a problem that a streak-shaped die line having a thickness defect derived from a die is generated. A method has been devised in which the take-up roll is made of a metal roll having a smooth polished surface, and the polymer film sheet is brought into close contact with the polymer film sheet by heating, not cooling, to reduce the die line. In order for the polymer to have a low glass transition point (T
g) or more;
If the amount is more than g, the adhesion to the metal surface is increased, so that there is a problem that a roll is generated and continuous production cannot be performed. Rolls that can prevent adhesion include rolls made of fluorinated rubber or polytetrafluoroethylene. However, these rolls cannot be polished like metals, and thus have a problem that sufficient smoothness cannot be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの製造に於いて高分子の付着しに
くいロールを提供するものであり、さらに平滑性に優れ
た高分子シートを効率よく製造する手法および平滑性良
好な高分子フィルムシートを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a roll to which a polymer is unlikely to adhere in the production of a polymer sheet, and to provide a polymer sheet having excellent smoothness. An object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a polymer film sheet having good smoothness.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、(1)ロール
表面が含フッ素オルガノシランを含む酸化珪素化合物で
コーティングされた高分子フィルムシート用ロール、
(2)一般式(1)〜(3)で表されるアルコキシシラ
ンのうち最低1種を必須成分とするアルコキシシラン溶
液をロールに塗布し脱水縮合してロール表面をコーティ
ングした高分子フィルムシート用ロール、
According to the present invention, there is provided (1) a roll for a polymer film sheet, wherein the roll surface is coated with a silicon oxide compound containing a fluorinated organosilane.
(2) For a polymer film sheet coated with an alkoxysilane solution containing at least one of the alkoxysilanes represented by the general formulas (1) to (3) as an essential component, and dehydration-condensed to coat the roll surface. roll,

【化2】 (式中、FR1はフッ素を含む有機基を、FR2〜 FR3
はフッ素を含む有機基またはフッ素を含まない有機基を
表しFR1〜 FR3は互いに同じであっても異なっても
良く、R1〜R3はアルキル基を表し互いに同じであって
も異なっても良い) (3)ロールの表面粗さの最大(Rmax)が0.1μ
m以下である第(1)項または第(2)項記載の高分子
フィルムシート用ロール、(4)少なくとも押出機、T
ダイもしくはコートハンガーダイ、第(1)〜(3)項
いずれか記載のロールを有する高分子フィルムシートの
製造装置、(5)少なくとも押出機、Tダイもしくはコ
ートハンガーダイ、及び引き取りロールを有する高分子
フィルムシートの製造装置において、引き取りロールが
第(1)〜(3)項いずれか記載のロールである高分子
フィルムシートの製造装置、(6)Tダイもしくはコー
トハンガーダイから押し出された高分子フィルムシート
を引取ロールで引き取る高分子シートの製造において、
押し出された高分子が最初に接触する引取ロールが第
(1)〜(3)項いずれか記載のロールであり、該引取
ロールの温度が該高分子のガラス転移温度以上の温度で
ある高分子シートの製造方法、(7)第(6)項記載の
高分子シートの製造方法により製造した高分子シート、
(8)表面粗さの最大(Rmax)が0.1μm以下で
ある第(7)項記載の高分子シート、である。
Embedded image (Wherein FR 1 represents an organic group containing fluorine, and FR 2 to FR 3
Represents an organic group containing fluorine or an organic group containing no fluorine, and FR 1 to FR 3 may be the same or different from each other, and R 1 to R 3 may be an alkyl group and may be the same or different. (3) The maximum surface roughness (Rmax) of the roll is 0.1 μm.
m, the roll for a polymer film sheet according to item (1) or (2), (4) at least an extruder, T
A die or a coat hanger die, an apparatus for producing a polymer film sheet having the roll according to any one of (1) to (3), (5) at least an extruder, a T-die or a coat hanger die, and a roll having a take-up roll. In the apparatus for producing a molecular film sheet, the apparatus for producing a polymer film sheet, wherein the take-up roll is a roll according to any one of (1) to (3), (6) the polymer extruded from a T die or a coat hanger die In the production of polymer sheets that take up film sheets with take-up rolls,
The take-up roll to which the extruded polymer contacts first is the roll according to any one of (1) to (3), wherein the temperature of the take-up roll is equal to or higher than the glass transition temperature of the polymer. (7) a polymer sheet produced by the method for producing a polymer sheet according to (6),
(8) The polymer sheet according to (7), wherein the maximum surface roughness (Rmax) is 0.1 μm or less.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の高分子フィルムシート用
ロールは、表面が含フッ素オルガノシランを含む酸化珪
素化合物でコーティングされているものである。この化
合物は、金属やガラスの表面にコーティングした場合
に、表面に含フッ素基が偏析するために非常に表面エネ
ルギーが低い、即ちTg以上の温度の高分子が付着しに
くい表面が得られる。同様に表面エネルギーが低いポリ
テトラフルオロエチレンは溶剤不溶であるため切削によ
って成形するが、硬度が低く研磨ができないために平滑
な表面が得られない。これに対し、本発明中の一般式
(1)〜(3)で表される含フッ素オルガノシランを含
む酸化珪素化合物の前駆体は溶剤可溶であるため、コー
ト前の金属ロール下地を平滑に研磨した後に前駆体溶液
をコーティングして乾燥および脱水縮合することにより
平滑な面を持つロールを得ることができ、付着の問題が
起こりにくく、かつ、平滑である高分子フィルムシート
用ロールを得ることが出来る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The roll for a polymer film sheet of the present invention has a surface coated with a silicon oxide compound containing fluorine-containing organosilane. When this compound is coated on the surface of a metal or glass, a surface having a very low surface energy due to segregation of fluorine-containing groups on the surface, that is, a surface to which a polymer having a temperature of Tg or higher is difficult to adhere is obtained. Similarly, polytetrafluoroethylene having a low surface energy is formed by cutting because it is insoluble in a solvent, but cannot be polished because of its low hardness, so that a smooth surface cannot be obtained. On the other hand, since the precursor of the silicon oxide compound containing the fluorine-containing organosilane represented by the general formulas (1) to (3) in the present invention is solvent-soluble, the metal roll base before coating is smoothed. A roll having a smooth surface can be obtained by coating the precursor solution after polishing and then drying and dehydrating and condensing to obtain a roll for a polymer film sheet which is less likely to cause adhesion problems and is smooth. Can be done.

【0007】本発明中の一般式(1)で表されるアルコ
キシシランの例を挙げると、
[0007] Examples of the alkoxysilane represented by the general formula (1) in the present invention include:

【化3】 等であるがこれらに限定されるものではない。一般式
(2)で表されるアルコキシシランの例を挙げると、
Embedded image Etc., but are not limited to these. As an example of the alkoxysilane represented by the general formula (2),

【化4】 等であるがこれらに限定されるものではない。一般式
(3)で表されるアルコキシシランの例を挙げると、
Embedded image Etc., but are not limited to these. As an example of the alkoxysilane represented by the general formula (3),

【化5】 等であるがこれらに限定されるものではない。Embedded image Etc., but are not limited to these.

【0008】本発明の高分子フィルムシート用ロールを
用いて平滑なシートを得る場合には、表面粗さの最大値
Rmaxが0.1μm以下であることが好ましい。ここ
でRmaxは、ロール面の任意の位置を幅2mm走査し
て測定した場合を言う。また、プリズムシート等の凹凸
形状を持つシートの製造の場合には凹凸を形成したロー
ルを用いることによりこれを転写して成形することも可
能である。
When a smooth sheet is obtained by using the polymer film sheet roll of the present invention, the maximum value Rmax of the surface roughness is preferably 0.1 μm or less. Here, Rmax refers to a case where an arbitrary position on the roll surface is scanned and scanned at a width of 2 mm. In the case of manufacturing a sheet having an uneven shape such as a prism sheet, it is also possible to transfer and form the sheet by using a roll having an uneven shape.

【0009】本発明の高分子フィルムシート用ロール
は、、Tg以上の温度の高分子が付着しにくいので、押
出によるフィルムシート製造装置での使用に好適であ
る。特に、複数のロールを用いて引き取りを行う際に押
し出された高分子が最初に接触するロールにこれを用い
ることによりこのロール面を転写したフィルムシートを
得るのに適する。さらに、その最にロールの温度を高分
子のTg以上にしておくことが効果的である。
The polymer film sheet roll of the present invention is suitable for use in a film sheet manufacturing apparatus by extrusion, since a polymer having a temperature of Tg or higher does not easily adhere thereto. In particular, it is suitable for obtaining a film sheet on which the roll surface has been transferred by using this for the roll that is first contacted by the polymer extruded when taking out using a plurality of rolls. Furthermore, it is effective to set the temperature of the roll to Tg or higher of the polymer at the end.

【0010】本発明中の高分子シートに用いることがで
きる高分子の例を挙げると、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリアミド、ポリスルホン、ポ
リエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエステ
ルイミド、ポリエーテルエーテルケトン等であるがこれ
らに限定されるものではない。これらの中でも、ポリメ
チルメタクリレート、ポリエーテルスルホン、ポリカー
ボネート等の平滑性が良好なシートは、光学材料や電子
工業用材料として優れたものである。平滑性はRmax
が0.1μm以下であることが好ましい。
Examples of polymers that can be used in the polymer sheet of the present invention include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate, polyamide, polysulfone, and polyether. Examples thereof include, but are not limited to, sulfone, polyetherimide, polyesterimide, and polyetheretherketone. Among these, sheets having good smoothness, such as polymethyl methacrylate, polyether sulfone, and polycarbonate, are excellent as optical materials and materials for the electronic industry. The smoothness is Rmax
Is preferably 0.1 μm or less.

【0011】[0011]

【実施例】以下本発明を実施例、比較例によって説明す
るが、本発明は実施例により何ら限定されるものではな
い。シートの光学的物性は次の方法により測定した。 (1)シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20m
m間隔で測定した平均値。 (2)高分子シートの表面粗さの最大(Rmax) 接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200)により、高分子シートの幅方向に2mmのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。 (3)ロール面の表面粗さの最大(Rmax) (株)ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、ロールの任
意の場所を幅方向に2mm幅を測定したときの凹凸の最
大値。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the examples. The optical properties of the sheet were measured by the following methods. (1) Sheet thickness 20 m in the width direction of the polymer sheet with a contact type dial gauge
Average value measured at m intervals. (2) Maximum surface roughness of polymer sheet (Rmax) Contact type precision step meter (manufactured by TENCOR INSTRUMENTS, AlPHA-ST)
EP200) is the maximum value of the concavities and convexities measured over the entire width of the polymer sheet at a scan width of 2 mm in the width direction. (3) Maximum surface roughness of the roll surface (Rmax) The maximum value of the unevenness when a 2 mm width is measured at an arbitrary position on the roll in the width direction using a contact type surface roughness meter manufactured by Mitutoyo Corporation.

【0012】《実施例1》式(4)で表される3,3,
3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン87.3
0g(0.4モル)とテトラメトキシシラン91.33
g(0.6モル)を1000gの2−プロパノール中に
溶解した。さらに水10.0gを加えて撹拌した後室温
で12時間放置した。この溶液を、表面をRmax=
0.04μmに研磨した直径500mmのスチールロー
ルにディップコートし、80℃で予備乾燥した後窒素雰
囲気中200℃2時間硬化することにより、表面が含フ
ッ素オルガノシランを含む酸化珪素化合物でコーティン
グされた高分子フィルムシート用ロールを作製した。コ
ートハンガーダイを備えた押出機を用いて、押出温度3
50℃でポリエーテルスルホン(以下、PESと略す)
を押し出し、温度を225℃に制御した前記の表面が含
フッ素オルガノシランを含む酸化珪素化合物でコーティ
ングされたロールで引き取り、さらにこれと同じ回転数
である温度を120℃に制御した表面をRmax=0.
04μmに研磨した直径500mmのスチールロールを
介した後に巻き取り、厚さ200μmのPESフィルム
を得た。PESのTgは220℃であった。得られたP
ESフィルムのRmaxは0.04μmであった。
<< Embodiment 1 >> 3,3 represented by formula (4)
87.3 3-trifluoropropyltrimethoxysilane
0 g (0.4 mol) and tetramethoxysilane 91.33
g (0.6 mol) was dissolved in 1000 g of 2-propanol. After 10.0 g of water was further added and stirred, the mixture was left at room temperature for 12 hours. This solution was coated with Rmax =
The surface was coated with a silicon oxide compound containing fluorinated organosilane by dip coating on a steel roll having a diameter of 500 mm polished to 0.04 μm, pre-drying at 80 ° C., and then curing in a nitrogen atmosphere at 200 ° C. for 2 hours. A roll for a polymer film sheet was prepared. Using an extruder equipped with a coat hanger die, an extrusion temperature of 3
Polyether sulfone at 50 ° C (hereinafter abbreviated as PES)
, And the surface whose temperature was controlled at 225 ° C. was taken up by a roll coated with a silicon oxide compound containing fluorinated organosilane, and the surface whose temperature was controlled at 120 ° C. at the same rotation speed was Rmax = 0.
After passing through a steel roll having a diameter of 500 mm polished to 04 μm, the film was wound up to obtain a PES film having a thickness of 200 μm. The Tg of PES was 220 ° C. P obtained
Rmax of the ES film was 0.04 μm.

【0013】《実施例2》式(8)で表されるジメトキ
シメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン4
0.45g(0.2モル)とテトラメトキシシラン12
1.78g(0.8モル)を1000gの2−プロパノ
ール中に溶解した。さらに水10.0gを加えて撹拌し
た後室温で12時間放置した。この溶液を、表面をRm
ax=0.04μmに研磨した直径500mmのスチー
ルロールにディップコートし、80℃で予備乾燥した後
窒素雰囲気中170℃2時間硬化することにより、表面
が含フッ素オルガノシランを含む酸化珪素化合物でコー
ティングされた高分子フィルムシート用ロールを作製し
た。コートハンガーダイを備えた押出機を用いて、押出
温度300℃でポリカーボネート(以下、PCと略す)
を押し出し、温度を160℃に制御した前記の表面が含
フッ素オルガノシランを含む酸化珪素化合物でコーティ
ングされているロールで引き取り、さらにこれと同じ回
転数である温度を80℃に制御した表面をRmax=
0.04μmに研磨した直径500mmのスチールロー
ルを介した後に巻き取り、厚さ100μmのPCフィル
ムを得た。PCのTgは140℃であった。得られたP
CフィルムのRmaxは0.03μmであった。
Example 2 Dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane 4 represented by the formula (8)
0.45 g (0.2 mol) and tetramethoxysilane 12
1.78 g (0.8 mol) were dissolved in 1000 g of 2-propanol. After 10.0 g of water was further added and stirred, the mixture was left at room temperature for 12 hours. This solution is treated with Rm
ax = 0.04 μm, dip-coated on a 500 mm diameter steel roll, pre-dried at 80 ° C, and then cured in a nitrogen atmosphere at 170 ° C for 2 hours to coat the surface with a silicon oxide compound containing fluorinated organosilane The prepared roll for a polymer film sheet was produced. Using an extruder equipped with a coat hanger die, polycarbonate (hereinafter abbreviated as PC) at an extrusion temperature of 300 ° C.
, And the surface whose temperature was controlled at 160 ° C. was taken up by a roll coated with a silicon oxide compound containing fluorine-containing organosilane, and the surface whose temperature was controlled at 80 ° C. at the same rotation speed was Rmax. =
After passing through a steel roll having a diameter of 500 mm polished to 0.04 μm, it was wound up to obtain a PC film having a thickness of 100 μm. The Tg of PC was 140 ° C. P obtained
Rmax of the C film was 0.03 μm.

【0014】《比較例》表面が含フッ素オルガノシラン
を含む酸化珪素化合物でコーティングされているロール
のかわりに表面をRmax=0.04μmに研磨した直
径500mmのスチールロールを用いた以外は実施例1
と同様にしてPESの押出を行ったところ、温度を22
5℃に制御した前記ロールにPESが剥離できずに付着
してしまう問題が発生し、安定してフィルムを成形する
ことが出来なかった。
<< Comparative Example >> Example 1 except that a 500 mm diameter steel roll whose surface was polished to Rmax = 0.04 μm was used instead of a roll whose surface was coated with a silicon oxide compound containing fluorine-containing organosilane.
When PES was extruded in the same manner as in
There was a problem that PES could not be peeled off and adhered to the roll controlled at 5 ° C., and a film could not be formed stably.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明の高分子フィルムシート用ロー
ル、これを用いた高分子フィルムシート製造装置、高分
子フィルムシートの製造方法を用いることにより、表面
平滑性が良好な高分子シートを、安定して効率よく連続
製造することができる。
By using the polymer film sheet roll of the present invention, the polymer film sheet manufacturing apparatus using the same, and the polymer film sheet manufacturing method, a polymer sheet having good surface smoothness can be stably obtained. As a result, continuous production can be performed efficiently.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ロール表面が含フッ素オルガノシランを含
む酸化珪素化合物でコーティングされたことを特徴とす
る高分子フィルムシート用ロール。
1. A roll for a polymer film sheet, wherein the roll surface is coated with a silicon oxide compound containing a fluorine-containing organosilane.
【請求項2】一般式(1)〜(3)で表されるアルコキ
シシランのうち少なくとも1種を必須成分とするアルコ
キシシラン溶液をロールに塗布し脱水縮合してロール表
面をコーティングしたことを特徴とする高分子フィルム
シート用ロール。 【化1】 (式中、 FR1はフッ素を含む有機基を、FR2〜 FR
3はフッ素を含む有機基またはフッ素を含まない有機基
を表し、FR1〜 FR3は互いに同じであっても異なっ
ても良く、R1〜R3はアルキル基を表し互いに同じであ
っても異なっても良い)
2. A roll surface is coated by applying an alkoxysilane solution containing at least one of the alkoxysilanes represented by the general formulas (1) to (3) as an essential component, followed by dehydration condensation to coat the roll surface. For polymer film sheet. Embedded image (Wherein, FR 1 represents an organic group containing fluorine, and FR 2 to FR
3 represents an organic group containing fluorine or an organic group containing no fluorine, FR 1 to FR 3 may be the same or different, and R 1 to R 3 may be an alkyl group and may be the same. May be different)
【請求項3】ロールの表面粗さの最大(Rmax)が
0.1μm以下である請求項1または2記載の高分子フ
ィルムシート用ロール。
3. The polymer film sheet roll according to claim 1, wherein the maximum surface roughness (Rmax) of the roll is 0.1 μm or less.
【請求項4】少なくとも押出機、Tダイもしくはコート
ハンガーダイ、及び請求項1〜3いずれか記載のロール
を有する高分子フィルムシートの製造装置。
4. An apparatus for producing a polymer film sheet having at least an extruder, a T die or a coat hanger die, and a roll according to claim 1.
【請求項5】少なくとも押出機、Tダイもしくはコート
ハンガーダイ、及び引き取りロールを有する高分子フィ
ルムシートの製造装置において、引き取りロールが請求
項1〜3いずれか記載のロールである高分子フィルムシ
ートの製造装置。
5. An apparatus for producing a polymer film sheet having at least an extruder, a T die or a coat hanger die, and a take-up roll, wherein the take-up roll is a roll according to any one of claims 1 to 3. manufacturing device.
【請求項6】Tダイもしくはコートハンガーダイから押
し出された高分子フィルムシートを引取ロールで引き取
る高分子シートの製造方法において、押し出された高分
子が最初に接触する引取ロールが請求項1〜3いずれか
記載のロールであり、該引取ロールの温度が該高分子の
ガラス転移温度以上の温度である高分子シートの製造方
法。
6. A method for producing a polymer sheet in which a polymer film sheet extruded from a T-die or a coat hanger die is taken by a take-up roll, wherein the extruded polymer is brought into first contact with a take-up roll. The method for producing a polymer sheet according to any one of the preceding claims, wherein the temperature of the take-up roll is equal to or higher than the glass transition temperature of the polymer.
【請求項7】請求項6記載の高分子シートの製造方法に
より製造した高分子シート。
7. A polymer sheet produced by the method for producing a polymer sheet according to claim 6.
【請求項8】表面粗さの最大(Rmax)が0.1μm
以下である請求項7記載の高分子シート。
8. The maximum surface roughness (Rmax) is 0.1 μm.
The polymer sheet according to claim 7, wherein
JP2000168018A 2000-06-05 2000-06-05 Polymer film sheet roll, polymer film sheet manufacturing apparatus using the roll, polymer film sheet manufacturing method, and polymer film sheet Expired - Fee Related JP4370691B2 (en)

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