JP2001335394A - 単結晶育成装置 - Google Patents

単結晶育成装置

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JP2001335394A
JP2001335394A JP2000154253A JP2000154253A JP2001335394A JP 2001335394 A JP2001335394 A JP 2001335394A JP 2000154253 A JP2000154253 A JP 2000154253A JP 2000154253 A JP2000154253 A JP 2000154253A JP 2001335394 A JP2001335394 A JP 2001335394A
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JP
Japan
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single crystal
steady
cap nut
crucible
shaft
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JP2000154253A
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Inventor
Toshiyuki Abe
俊之 阿部
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 構成部品である引上げシャフトや袋ナットに
ついて高価なモリブデン等を適用せずにその熱劣化が防
止される単結晶育成装置を提供すること。 【解決手段】 圧力容器2と、圧力容器内に配置された
ルツボ6と、ルツボの上方側に昇降可能に設けられた引
上げシャフト7と、引上げシャフトの下方側端部に袋ナ
ット8を介し連結されたステディ9と、ステディの下方
側端部に取付られた種結晶ホルダー10とを備え液体封止
引上げ法により単結晶を育成する単結晶育成装置1であ
って、上記ステディ9に耐熱性材料で構成されかつ取付
部基端側から上方側へ向かってその内径が連続的に拡が
る漏斗状傾斜壁22を有すると共に袋ナットと引上げシャ
フトの下方側を覆ってその過熱を防止する筒状遮熱体20
が設けられていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば可視発光ダ
イオード(LED)基板として利用されるリン化ガリウ
ム(以下、GaPと略称する)等の単結晶を液体封止引
上げ法により育成する際に用いられる単結晶育成装置に
係り、特に、構成部品である引上げシャフトや袋ナット
の熱劣化が防止される単結晶育成装置の改良に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】この種の単結晶育成装置として、例え
ば、図5に示すような育成装置が知られている。すなわ
ち、この単結晶育成装置aは、100気圧程度の高圧に
耐えられる圧力容器bと、この圧力容器b内に配置され
た略円筒形状のカーボン製断熱材cと、この断熱材cの
内側に配置された加熱用カーボンヒータdと、このヒー
タdの内側に配置されかつ図示外のサセプター内に収容
されると共に上記サセプターと共に矢印方向へ回転する
ルツボeと、このルツボeの上方側に昇降可能に設けら
れかつ矢印方向へ回転する引上げシャフトfと、この引
上げシャフトfの下方側端部に袋ナットgを介し連結さ
れたステディhと、このステディhの下方側端部に取付
けられた種結晶ホルダーiとでその主要部が構成されて
いる。
【0003】また、上記ルツボe内には原料jである、
例えばGaP多結晶が投入され、かつ、この原料j表面
は液体封止材kとしてのB23により覆われている。
【0004】尚、一例として挙げた上記GaPの融点は
1465℃であり、このときのリン(P)の分解圧は約
35気圧と非常に高い。このため、液体封止引上げ法で
は原料融液(GaPの融液)表面を上記液体封止材kで
覆うと共に、圧力容器b内に高圧不活性ガスを充填して
容器b内を高圧に設定しGaP融液の分解を防止してい
る。
【0005】そして、この単結晶育成装置aを用い、G
aP等の単結晶が以下のようにして育成される。すなわ
ち、ルツボe内に原料jであるGaP多結晶を充填する
と共に、必要に応じてn型不純物若しくはp型不純物を
添加し、かつ、液体封止材kとしてのB23を投入す
る。次に、加熱用カーボンヒータdに通電してルツボe
内のGaP多結晶を融点まで昇温させ、かつ、GaP多
結晶が融解した後、GaPの融液温度を結晶育成が可能
な最適な温度まで降温させる。次に、上記引上げシャフ
トfを回転させながら降下させ、上記種結晶ホルダーi
で保持された種結晶mをGaPの融液に接触させると共
に、ルツボe内の温度を徐々に下げてGaPの単結晶を
育成させる。
【0006】ここで、結晶育成中の上記加熱用カーボン
ヒータdの制御については自動直径制御装置(ADC)
によって行われている。すなわち、後述する引上げシャ
フトfの中空部内に付設された重量センサ(図示せず)
によって育成される単結晶の重量がモニターされ、この
測定値により育成された単結晶の直径が計算されて加熱
用カーボンヒータdの出力値をコントロールしている。
【0007】尚、上記引上げシャフトfは、図6に示す
ようにステンレスあるいはハステロイX(商品名)等の
ニッケル合金から成る中空の棒状体で構成され、かつ、
この中空部内に上記重量センサが付設されていると共
に、下方側端部にはステンレス等で構成された袋ナット
gと螺合するネジ部が形成されている。また、この引上
げシャフトfに連結される上記ステディhは、ステンレ
ス等に較べて耐熱性に優れた材料であるモリブデンから
成る中空の棒状体で構成され、かつ、上方側端部には上
記袋ナットgと螺合するネジ部が形成されている。ま
た、上記種結晶ホルダーiはステディhと同様に耐熱性
材料であるモリブデンで構成され、その上方側端部をス
テディhの中空部に嵌入させて保持されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の単
結晶育成装置を用いて、例えばGaP等の単結晶を育成
する場合、より長尺あるいは大口径の単結晶が得られる
ようにするため上記ルツボeの径を大きくしたりその材
料充填量を多く設定すると、結晶に歪みが蓄積され易く
なってクラック等が発生する問題があつた。
【0009】例えば、直径100mmの石英ルツボが組
込まれた従来の単結晶育成装置を用いかつ上記ルツボ内
への材料充填量を1.1kg程度に設定した場合に上記
クラック等の問題は見られないが、上記石英ルツボの直
径を110mm程度の大口径にしかつその材料充填量を
1.5〜1.6kg程度に設定するとクラックが発生し
易くなる問題が確認されている。
【0010】しかし、例えば図5に示すようにカーボン
製断熱材cの上方側にその開放部の一部を覆うようなカ
ーボン製第二断熱材nを設けたり、加熱用カーボンヒー
タdの材質や形状を変更する等して上記圧力容器b内の
温度分布、特に、結晶が育成される上記ルツボ付近の温
度分布が緩やかになるような工夫を施した場合には、ル
ツボの径を大きく設定したりその材料充填量を多くして
も上記問題が起こり難くなることも確認されている。
【0011】但し、ルツボ付近の温度分布が緩やかとな
るような上記工夫を施した場合、ルツボ付近では高温の
ガスの対流や輻射による伝熱が激しくなるため、カーボ
ン製第二断熱材nにおける開放部近傍の温度が従来より
高くなる(例えば、950〜1030℃)傾向がみら
れ、ステンレスあるいはニッケル合金等で構成された引
上げシャフトや袋ナット等が熱劣化を引起こす新たな問
題が発生する。
【0012】そして、引上げシャフトや袋ナットの寿命
が従来の1/4程度になってしまうことからこれ等部材
の交換作業を頻繁に行なう必要が生じ、その分、単結晶
育成装置の稼動率が悪くなる問題点を有していた。
【0013】尚、これ等問題に対処するため、上記引上
げシャフトや袋ナットについてステンレスあるいはニッ
ケル合金より耐熱性に優れたモリブデン等で構成する方
法も考えられる。すなわち、上記ステディや種結晶ホル
ダーと同様、難融金属であるモリブデン(融点:260
0℃)にて引上げシャフトや袋ナットを構成すれば、9
50〜1030℃程度の温度に晒されてもこれ等部材の
熱劣化が起こり難いからである。
【0014】しかし、難融性という有利な特性を有する
反面、モリブデンは剛性が強くてその加工性に難を有
し、かつ、値段が高い欠点を有しており、長尺の引上げ
シャフトをモリブデンで構成した場合、コスト的に対応
困難な別な問題が存在した。
【0015】他方、袋ナットのみをモリブデンで構成し
た場合には、ステンレスあるいはニッケル合金等で構成
された引上げシャフトと上記袋ナットの熱膨張率の違い
に起因して袋ナットが引上げシャフトのネジ部を壊して
しまう問題が存在した。
【0016】本発明はこの様な問題点に着目してなされ
たもので、その課題とするところは、構成部品である引
上げシャフトや袋ナットの材料について高価なモリブデ
ン等を適用せずにその熱劣化が防止される単結晶育成装
置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項1に係
る発明は、圧力容器と、圧力容器内に配置されたルツボ
と、ルツボの上方側に昇降可能に設けられた引上げシャ
フトと、引上げシャフトの下方側端部に袋ナットを介し
連結されたステディと、ステディの下方側端部に取付ら
れた種結晶ホルダーとを備え、液体封止引上げ法により
単結晶を育成する単結晶育成装置を前提とし、上記ステ
ディには、耐熱性材料で構成されかつ取付部基端側から
上方側へ向かってその内径が連続的に拡がる漏斗状傾斜
壁を有すると共に上記袋ナットと引上げシャフトの下方
側を覆ってその過熱を防止する筒状遮熱体が設けられて
いることを特徴とするものである。
【0018】また、請求項2に係る発明は、請求項1記
載の発明に係る単結晶育成装置を前提とし、上記漏斗状
傾斜壁の傾斜角が、ステディの中心軸を基準にして水平
方向へ10度〜30度の範囲内に設定されていることを
特徴とし、請求項3に係る発明は、請求項1または2記
載の発明に係る単結晶育成装置を前提とし、育成される
単結晶がリン化ガリウム単結晶であることを特徴とする
ものである。
【0019】そして、請求項1〜3記載の発明に係る単
結晶育成装置によれば、耐熱性材料で構成されかつ取付
部基端側から上方側へ向かってその内径が連続的に拡が
る漏斗状傾斜壁を有すると共に袋ナットと引上げシャフ
トの下方側を覆ってその過熱を防止する筒状遮熱体がス
テディに設けられているため、上記引上げシャフトや袋
ナットの材料について高価なモリブデン等を適用しなく
ともその熱劣化を防止することが可能となる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
【0021】この実施の形態に係る単結晶育成装置1
は、図1に示すように圧力容器2と、この圧力容器2内
に配置された略円筒形状のカーボン製断熱材3と、この
断熱材3の上方側にその開放部の一部を覆うように設け
られたカーボン製第二断熱材4と、上記カーボン製断熱
材3の内側に配置された加熱用カーボンヒータ5と、こ
のヒータ5の内側に配置されかつ図示外のサセプター内
に収容されると共に上記サセプターと共に矢印方向へ回
転するルツボ6と、このルツボ6の上方側に昇降可能に
設けられかつ矢印方向へ回転する引上げシャフト7と、
この引上げシャフト7の下方側端部に袋ナット8を介し
連結されたステディ9と、このステディ9の下方側端部
に取付けられた種結晶ホルダー10とでその主要部が構
成され、かつ、従来の育成装置と相違して上記ステディ
9の略中間部位に図2に示すような筒状遮熱体20が取
付けられている。
【0022】すなわち、上記ステディ9の下方側外周面
にはネジが切られており、このネジ部に上記筒状遮熱体
20の下方側ネジ部21が螺合されて取付けられている
(図3参照)と共に、同じくステディ9の上記ネジ部に
螺合された抑えナット11により筒状遮熱体20はステ
ディ9に固定されるようになっている。
【0023】また、上記筒状遮熱体20は、耐熱性材料
であるモリブデンにて構成され、かつ、ステディ9の取
付部基端側から上方側へ向かってその内径が連続的に拡
がる漏斗状傾斜壁22を有すると共に、上記袋ナット8
と引上げシャフト7の下方側を覆うように配置されてい
る。
【0024】尚、上記引上げシャフト7は、従来と同
様、ステンレスあるいはハステロイX(商品名)等のニ
ッケル合金から成る中空の棒状体で構成され、袋ナット
8もステンレスあるいはニッケル合金等で構成されてい
る。また、上記ステディ9と種結晶ホルダー10も、従
来と同様、耐熱性材料であるモリブデン等にて構成され
ている。
【0025】そして、この実施の形態に係る単結晶育成
装置1においては、上記ステディ9の略中間部位に筒状
遮熱体20が取付けられているため、高温ガスの対流や
輻射熱に晒され易かった袋ナット8や引上げシャフト7
等の構成部品が保護されてその過熱を防止することが可
能となる。
【0026】従って、上記袋ナット8や引上げシャフト
7等の熱劣化が起こり難いため、これ等部材の交換作業
を頻繁に行なう必要が無くなることから、単結晶育成装
置1の稼動率を向上させることが可能となる。
【0027】尚、上記筒状遮熱体20については、その
全体を大きくすると反射板のような役目になってしま
い、GaP等の単結晶を育成するときに圧力容器2内の
温度分布が変化してしまうことがあるため、上記温度分
布に影響を与えないような大きさ、形状にすることが望
ましい。そして、筒状遮熱体20における漏斗状傾斜壁
22の傾斜角については、この筒状遮熱体20が取付け
られる上記ステディ9の中心軸25(図4参照)を基準
にして水平方向へ10度〜30度の範囲内に設定するこ
とが望ましい(請求項2)。上記漏斗状傾斜壁22の傾
斜角が10度未満であると筒状遮熱体20にて袋ナット
8や引上げシャフト7の下方側を覆うことができないこ
とがあり、また、漏斗状傾斜壁22の傾斜角が30度を
超えてしまうと漏斗状傾斜壁22が反射板として機能し
上記圧力容器2内の温度分布が変化してしまうことがあ
るからである。従って、筒状遮熱体20における漏斗状
傾斜壁22の傾斜角については、上記ステディ9の中心
軸25を基準にして水平方向へ10度〜30度の範囲内
に設定することが望ましい。
【0028】
【実施例】以下、図1に示された単結晶育成装置を用い
た本発明の実施例について具体的に説明する。
【0029】まず、ルツボ6内にGaP多結晶1500
gと、n型不純物としてのTe適量と、液体封止材とし
てのB23を210g投入する。
【0030】次に、種結晶ホルダー10に取付けられた
種結晶30に偏芯が無いことを確認した後、圧力容器2
を閉じる。
【0031】そして、上記圧力容器2内を真空にした
後、この圧力容器2内に不活性ガス(N2)を充填して
圧力容器2内を不活性ガス雰囲気下にし、次いで、加熱
用カーボンヒータ5に通電してルツボ6内のGaP多結
晶を融点(1465℃)以上に昇温しGaP多結晶の融
液を確認した。
【0032】次に、引上げシャフト7を回転させながら
降下させ、種結晶ホルダー10で保持された上記種結晶
30をGaPの融液に接触させると共に、GaPの融液
温度を結晶育成が可能な最適な温度まで降温させてGa
Pの単結晶を育成させた。
【0033】この結晶育成は安定に行われ1480gの
GaP単結晶が得られた。冷却後、上記圧力容器2内の
掃除と整備を行い、かつ、迎えナット11を回してステ
ディ9から取外すと共に、筒状遮熱体20も回してステ
ディ9から取外した。
【0034】そして、上記引上げシャフト7の下方側と
上記袋ナット8について観察したところ、これ等部品の
熱劣化は確認されなかった。
【0035】このような作業を結晶育成毎行い、引上げ
シャフト7と袋ナット8について観察を繰返したが熱劣
化は確認されず、かつ、従来の育成条件と比較しても優
劣差は見られず、むしろ600〜700Run/本の交
換となって、引上げシャフト7と袋ナット8の寿命が長
くなる傾向を確認することができた。
【0036】
【発明の効果】請求項1〜3記載の発明に係る単結晶育
成装置によれば、耐熱性材料で構成されかつ取付部基端
側から上方側へ向かってその内径が連続的に拡がる漏斗
状傾斜壁を有すると共に袋ナットと引上げシャフトの下
方側を覆ってその過熱を防止する筒状遮熱体がステディ
に設けられているため、上記引上げシャフトや袋ナット
の材料について高価なモリブデン等を適用しなくともそ
の熱劣化を防止することが可能となる。
【0037】従って、上記袋ナットや引上げシャフト等
の熱劣化が起こり難いためこれ等部材の交換作業を頻繁
に行なう必要が無くなり、その分、単結晶育成装置の稼
動率を向上できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る単結晶育成装置の構
成を示す説明図。
【図2】上記単結晶育成装置の構成部品である筒状遮熱
体の概略斜視図。
【図3】図1の部分拡大図。
【図4】図1の部分拡大図。
【図5】従来例に係る単結晶育成装置の構成を示す説明
図。
【図6】図5の部分拡大図。
【符号の説明】
1 単結晶育成装置 2 圧力容器 3 断熱材 4 第二断熱材 5 加熱用カーボンヒータ 6 ルツボ 7 引上げシャフト 8 袋ナット 9 ステディ 10 種結晶ホルダー 11 抑えナット 20 筒状遮熱体 22 漏斗状傾斜壁

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧力容器と、圧力容器内に配置されたルツ
    ボと、ルツボの上方側に昇降可能に設けられた引上げシ
    ャフトと、引上げシャフトの下方側端部に袋ナットを介
    し連結されたステディと、ステディの下方側端部に取付
    られた種結晶ホルダーとを備え、液体封止引上げ法によ
    り単結晶を育成する単結晶育成装置において、 上記ステディには、耐熱性材料で構成されかつ取付部基
    端側から上方側へ向かってその内径が連続的に拡がる漏
    斗状傾斜壁を有すると共に上記袋ナットと引上げシャフ
    トの下方側を覆ってその過熱を防止する筒状遮熱体が設
    けられていることを特徴とする単結晶育成装置。
  2. 【請求項2】上記漏斗状傾斜壁の傾斜角が、ステディの
    中心軸を基準にして水平方向へ10度〜30度の範囲内
    に設定されていることを特徴とする請求項1記載の単結
    晶育成装置。
  3. 【請求項3】育成される単結晶が、リン化ガリウム単結
    晶であることを特徴とする請求項1または2記載の単結
    晶育成装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101303130B1 (ko) 2011-02-15 2013-09-09 관동대학교산학협력단 GaAs 잉곳 제조장치
JP2016204166A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101303130B1 (ko) 2011-02-15 2013-09-09 관동대학교산학협력단 GaAs 잉곳 제조장치
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