JP2001325888A - Plasma display and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 隔壁の形成にあたり焼成工程を必要とせず、
かつ電極及び誘電体層の形成にスクリーン印刷法が適用
できるプラズマディスプレイ及びその製造方法の提供を
課題とする。
【解決手段】 プラズマディスプレイにおいては、各隔
壁15が基板ガラス12と一体に構成され、これらの間
に、電極配置用隔壁17が配設され、これらの各上端
に、電極18及び誘電体層19が設けられた構成を採用
した。また、その製造方法においては、基板ガラス12
上に各隔壁15を一体に形成する隔壁形成工程と、各隔
壁15間位置に電極配置用隔壁17を設ける電極配置用
隔壁形成工程と、各電極配置用隔壁17上端に電極18
を設ける電極形成工程と、各電極18上に誘電体層19
を設け誘電体層形成工程とを有する方法を採用した。
(57) [Summary] [Problem] A baking step is not required for forming a partition,
It is another object of the present invention to provide a plasma display to which a screen printing method can be applied for forming an electrode and a dielectric layer, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: In the plasma display, each partition 15 is formed integrally with the substrate glass 12, between which an electrode arrangement partition 17 is disposed, and on each upper end thereof, an electrode 18 and a dielectric layer 19 are provided. Was adopted. In the manufacturing method, the substrate glass 12
A partition wall forming step of integrally forming the partition walls 15 thereon, an electrode placement partition wall forming step of providing the electrode placement partition walls 17 at positions between the respective partition walls 15, and an electrode 18 on the upper end of each electrode placement partition wall 17
An electrode forming step of providing a dielectric layer 19 on each electrode 18.
And a step of forming a dielectric layer.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスとし
て用いられるプラズマディスプレイ及びその製造方法に
用いて好適な技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display used as a display device and a technique suitable for a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、プラズマディスプレイは、図36
に示すように、互いに対向する2枚の基板ガラス1,2
により構成され、この基板ガラス1の、基板ガラス2に
対向する一面には、MgO等からなる保護膜を有する透
明な誘電体層3で覆われた複数組の電極4が構成されて
いる。また、他方の基板ガラス2の対向面には、これら
電極4と直交する方向に、反射率の高い誘電体層5で覆
われた複数組の電極6が配置され、さらにその上には、
ガス放電を行う空間である放電セル7を形成するため
に、電極6と平行で、かつ、これら各電極6の間に位置
する複数の隔壁8が設けられている。また、各放電セル
7の内側には、RGB(赤、緑、青)に対応する蛍光体
9が配置されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a plasma display is shown in FIG.
As shown in the figure, two substrate glasses 1 and 2 facing each other
A plurality of sets of electrodes 4 covered with a transparent dielectric layer 3 having a protective film made of MgO or the like are formed on one surface of the substrate glass 1 facing the substrate glass 2. A plurality of sets of electrodes 6 covered with a dielectric layer 5 having high reflectivity are arranged on the opposite surface of the other substrate glass 2 in a direction orthogonal to the electrodes 4, and further thereon,
In order to form a discharge cell 7 which is a space for performing gas discharge, a plurality of partition walls 8 are provided in parallel with the electrodes 6 and located between the electrodes 6. Further, inside each discharge cell 7, a phosphor 9 corresponding to RGB (red, green, blue) is arranged.
【0003】そして、これら対向する2枚の基板ガラス
1,2を合わせて、各放電セル7内部にNe,He等の
希ガスを封入した状態で、周囲をシールガラス等により
封着される構成となっている。前記電極4および電極6
は、それぞれ外部に引き出されており、これらに接続さ
れた端子に選択的に電圧を印加することで、選択的に放
電セル7内の各電極4,6間に放電を発生させ、この放
電により放電セル7内の蛍光体9からの励起光を外部に
表示するようになっている。[0003] The two substrate glasses 1 and 2 facing each other are put together, and the surroundings are sealed with a sealing glass or the like in a state in which a rare gas such as Ne or He is sealed in each discharge cell 7. It has become. The electrode 4 and the electrode 6
Are respectively drawn out to the outside, and by selectively applying a voltage to the terminals connected to them, a discharge is selectively generated between the electrodes 4 and 6 in the discharge cell 7, and this discharge The excitation light from the phosphor 9 in the discharge cell 7 is displayed outside.
【0004】上記説明のプラズマディスプレイの基板ガ
ラス2は、例えば以下に概略説明する方法によって製造
される(図示せず)。まず、元基板ガラスに対して、複
数組の電極6を印刷等の方法でパターン形成し、焼成す
ることで固定した後、これら電極6の形成された元基板
ガラス上に前記反射率の高い誘電体層5を塗布・焼成す
る。その後、これら電極6及び誘電体層5の上を含めて
元基板ガラス上の全面を覆うように隔壁材料を塗布す
る。そして、ドライフィルムレジスト(DFR)等のフ
ォトレジストでパターンを形成した後、サンドブラスト
等によりパターン以外の部分を除去する。The substrate glass 2 of the above-described plasma display is manufactured, for example, by a method outlined below (not shown). First, a plurality of sets of electrodes 6 are patterned on the original substrate glass by a method such as printing and fixed by firing, and then the dielectric material having the high reflectance is placed on the original substrate glass on which these electrodes 6 are formed. The body layer 5 is applied and fired. After that, a partition material is applied so as to cover the entire surface of the original substrate glass including the electrodes 6 and the dielectric layer 5. Then, after forming a pattern with a photoresist such as a dry film resist (DFR), portions other than the pattern are removed by sandblasting or the like.
【0005】このサンドブラストでは、粒径が20〜3
0μm程度のガラスビーズや、炭酸カルシウムなどの研
磨材をノズルより吹き出して前記隔壁材料を切削する。
このとき、前記フォトレジストの下側部分は削り取られ
ずに残り、隔壁6が形成される。隔壁6以外の切削部分
には、前記誘電体層5の膜面が露出するが、予め焼成に
よって硬化されているので前記隔壁材料よりも硬くなっ
ており、この誘電体層5の表面までで切削が止まる。そ
の後、焼成を行うことによって隔壁6の加工が完了す
る。[0005] In this sand blast, the particle size is 20 to 3
An abrasive such as glass beads of about 0 μm or calcium carbonate is blown out from a nozzle to cut the partition wall material.
At this time, the lower portion of the photoresist remains without being removed, and the partition 6 is formed. Although the film surface of the dielectric layer 5 is exposed in the cut portion other than the partition 6, it is hardened by baking in advance, so that it is harder than the material of the partition 5. Stops. Thereafter, by firing, the processing of the partition 6 is completed.
【0006】さらに、この後、隔壁6によって分離され
ているそれぞれの放電セル7内にスクリーン印刷法を用
いて、蛍光体(蛍光体画素)9を形成する。このスクリ
ーン印刷法は、スクリーンを介する印刷手法を用いて、
蛍光体が混入されているペースト状の液体を所定の放電
セル7内に流し込んだ後、これを乾燥させる方法であ
る。Thereafter, phosphors (phosphor pixels) 9 are formed in the respective discharge cells 7 separated by the partition walls 6 by using a screen printing method. This screen printing method uses a printing method via a screen,
This is a method in which a paste-like liquid mixed with a phosphor is poured into a predetermined discharge cell 7 and then dried.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記隔壁材
料は、印刷乾燥後の形状を保つためのバインダーである
有機物の含有量をできるだけ少なくしており、切削加工
しやすい材質となっている。これに対し、誘電体層5
は、焼成が加えられることによって削られにくくできる
ようになっている。しかし、一般にガラス(前記元基板
ガラス)は、このような焼成による熱が加えられると必
ず熱収縮などの変形を起こすため、この変形を避けるた
めには、できるだけ焼成温度を下げるか、もしくは焼成
回数を減らすことが歩留まり向上の点で好ましい。By the way, the above-mentioned partition wall material has a content of an organic substance as a binder for keeping a shape after printing and drying as small as possible, and is a material which is easy to cut. On the other hand, the dielectric layer 5
Is made harder to be cut by firing. However, in general, glass (the original substrate glass) always undergoes deformation such as thermal shrinkage when heat due to such firing is applied. To avoid this deformation, lower the firing temperature as much as possible or reduce the number of firings. Is preferred in terms of improving the yield.
【0008】そのため、特開平8−212918号公報
に開示されているように、元基板ガラスを直にエッチン
グ加工して隔壁を形成する方法が提案されている。この
場合、前記隔壁材料を用いた場合のように隔壁を形成す
るのに焼成を加える工程が不要になるというメリットを
得ることができる。しかしながら、各隔壁間に配置され
る電極及び誘電体層は、各隔壁形成後に形成する必要が
ある。ところが、これら電極及び誘電体層は、通常はス
クリーン印刷法で形成されるのであるが、隔壁高さは通
常、約150μm以上もあるので、これらの間の奥深く
の溝底部まで各材料を到達させることが難しく、スクリ
ーン印刷法を適用するのが困難であるという問題を有し
ていた。[0008] Therefore, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-212918, there has been proposed a method of forming a partition by directly etching an original substrate glass. In this case, it is possible to obtain an advantage that a step of baking is not required for forming the partition as in the case of using the partition material. However, it is necessary to form an electrode and a dielectric layer disposed between each partition after forming each partition. However, these electrodes and the dielectric layer are usually formed by a screen printing method, but the height of the partition walls is usually about 150 μm or more, so that each material reaches the deep groove bottom between them. And it is difficult to apply the screen printing method.
【0009】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、以下の目的を達成しようとするものである。すな
わち、隔壁の形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ
電極及び誘電体層の形成にスクリーン印刷法が適用でき
るプラズマディスプレイ及びその製造方法の提供を目的
とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a plasma display which does not require a firing step in forming a partition wall, and which can be applied with a screen printing method in forming an electrode and a dielectric layer, and a method of manufacturing the same.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイ及びその製造方法は、上記課題を解決するために
以下の手段を採用した。すなわち、請求項1に記載のプ
ラズマディスプレイは、対向する基板ガラス間に複数の
隔壁で区画形成された放電セルを複数有するプラズマデ
ィスプレイにおいて、前記各隔壁は、これらが設けられ
る方の前記基板ガラスと一体に構成され、これら各隔壁
間には、電極配置用隔壁が配設され、これら電極配置用
隔壁上端に、電極及び誘電体層が設けられたことを特徴
とする。Means for Solving the Problems The plasma display of the present invention and the method for manufacturing the same employ the following means to solve the above-mentioned problems. That is, the plasma display according to claim 1 has a plurality of discharge cells partitioned by a plurality of partition walls between opposed substrate glasses, wherein each of the partition walls is the same as the substrate glass on which these are provided. An electrode arrangement partition is disposed between the partition walls, and an electrode and a dielectric layer are provided on the upper end of the electrode arrangement partition.
【0011】上記請求項1に記載のプラズマディスプレ
イによれば、各隔壁は、基板ガラスを切削するなどの方
法によって基板ガラス上に一体形成させることができる
ので、隔壁材料を塗布及び切削する従来の製造方法のよ
うに、各隔壁を硬化させるための焼成を基板ガラスに加
える必要がない。しかも、各電極及び誘電体層は、従来
のように各隔壁間位置の奥深い底部に配設されるのでは
なく、この底部より突出した各電極配置用隔壁上端に配
設される構成であるので、スクリーン印刷法によって電
極や誘電体層を設けるにあたり、従来のようにこれらの
材料を各隔壁間の奥深くまで送り込まなくて済む。According to the first aspect of the present invention, each partition can be integrally formed on the substrate glass by a method such as cutting the substrate glass. Unlike the manufacturing method, it is not necessary to apply baking for hardening each partition to the substrate glass. In addition, since the electrodes and the dielectric layer are not disposed at the deep bottom between the partitions as in the related art, they are disposed at the upper ends of the electrode placement partitions protruding from the bottom. In providing the electrodes and the dielectric layer by the screen printing method, it is not necessary to feed these materials deep between the partition walls as in the related art.
【0012】請求項2に記載のプラズマディスプレイ
は、請求項1に記載のプラズマディスプレイにおいて、
さらに、前記各隔壁上端に誘電体層が設けられるととも
に、前記各隔壁上の前記誘電体層上端と、前記各電極配
置用隔壁上の前記誘電体層上端とが同一高さとされたこ
とを特徴とする。上記請求項2に記載のプラズマディス
プレイによれば、電極配置用隔壁上端のみならず、隔壁
上にも誘電体層を設け、各隔壁上の誘電体層上端と、各
電極配置用隔壁上の誘電体層上端とを同一高さとしたの
で、各隔壁が設けられる側の基板ガラスである背面板
を、他方の基板ガラスである前面板に重ねて貼り合わせ
た際に、背面板と前面板との貼り合わせ面に隙間を形成
することなくシールすることができる。A plasma display according to a second aspect is the plasma display according to the first aspect,
Further, a dielectric layer is provided on the upper end of each partition, and the upper end of the dielectric layer on each partition and the upper end of the dielectric layer on each of the electrode arrangement partition have the same height. And According to the plasma display of claim 2, a dielectric layer is provided not only on the upper end of the electrode arrangement partition but also on the partition, and the dielectric layer upper end on each partition and the dielectric layer on each electrode arrangement partition are provided. Since the upper end of the body layer was the same height, when the rear plate, which is the substrate glass on the side where each partition wall is provided, was overlapped with the front plate, which is the other substrate glass, and bonded together, Sealing can be performed without forming a gap in the bonding surface.
【0013】請求項3に記載のプラズマディスプレイ
は、請求項1に記載のプラズマディスプレイにおいて、
さらに、前記各隔壁上端に誘電体層が設けられるととも
に、前記各隔壁上の前記誘電体層上端が、前記各電極配
置用隔壁上の前記誘電体層上端より高くされたことを特
徴とする。上記請求項3に記載のプラズマディスプレイ
によれば、各隔壁上の誘電体層上端が、各電極配置用隔
壁上の誘電体層上端より高く設定されているので、背面
板と前面板とを貼り合わせた際に、背面板の電極配置用
隔壁上の誘電体層と前面板との間に隙間が形成される。
本発明のプラズマディスプレイでは、電極配置用隔壁の
存在によって、各放電セルが2個の分割放電セルに分割
されるが、各放電セルを構成する2個の分割放電セルが
電極配置用隔壁上の隙間を介して接続される。この結
果、各放電セルを構成する2個の分割放電セルを一緒に
放電させることができ、放電効率を向上することができ
るので、駆動電圧を低減することができる。[0013] The plasma display according to claim 3 is the plasma display according to claim 1,
Further, a dielectric layer is provided on an upper end of each of the partition walls, and an upper end of the dielectric layer on each of the partition walls is higher than an upper end of the dielectric layer on each of the electrode arrangement partition walls. According to the plasma display of the third aspect, since the upper end of the dielectric layer on each partition is set higher than the upper end of the dielectric layer on each partition for electrode arrangement, the back plate and the front plate are bonded. When combined, a gap is formed between the dielectric layer on the electrode arrangement partition of the back plate and the front plate.
In the plasma display of the present invention, each discharge cell is divided into two divided discharge cells due to the presence of the electrode arrangement partition. However, two divided discharge cells constituting each discharge cell are formed on the electrode arrangement partition. It is connected via a gap. As a result, the two divided discharge cells constituting each discharge cell can be discharged together, and the discharge efficiency can be improved, so that the drive voltage can be reduced.
【0014】請求項4に記載のプラズマディスプレイ
は、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の
プラズマディスプレイにおいて、前記各隔壁上端と、前
記各電極配置用隔壁上端との両方に、前記電極が設けら
れたことを特徴とする。上記請求項4に記載のプラズマ
ディスプレイによれば、各隔壁上と各電極配置用隔壁上
に同じ膜厚の誘電体層を形成することにより、容易に、
各隔壁上の誘電体層上端と、各電極配置用隔壁上の誘電
体層上端とを同一高さとすることができる。According to a fourth aspect of the present invention, in the plasma display according to any one of the first to third aspects, both the upper end of each partition and the upper end of the partition for electrode arrangement are provided. , The electrode is provided. According to the plasma display of the fourth aspect, by forming a dielectric layer of the same thickness on each partition and each electrode arrangement partition,
The upper end of the dielectric layer on each partition and the upper end of the dielectric layer on each electrode arrangement partition can be at the same height.
【0015】請求項5に記載のプラズマディスプレイ
は、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の
プラズマディスプレイにおいて、前記各隔壁と前記各電
極配置用隔壁の内、前記各電極配置用隔壁上端にのみ、
前記電極が設けられたことを特徴とする。上記請求項5
に記載のプラズマディスプレイによれば、各隔壁上にダ
ミーとしての電極を形成しなくて済むので、高価な電極
材料を節約して製造コストを低減させることができる。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the plasma display according to any one of the first to third aspects, wherein each of the partition walls and each of the electrode placement partition walls is the electrode arrangement. Only at the top of the bulkhead for
The electrode is provided. Claim 5
According to the plasma display described in (1), it is not necessary to form an electrode as a dummy on each partition, so that expensive electrode materials can be saved and manufacturing costs can be reduced.
【0016】上記請求項6に記載のプラズマディスプレ
イの製造方法は、対向する基板ガラス間に複数の隔壁で
区画形成された放電セルを複数有するプラズマディスプ
レイの製造方法において、前記各隔壁が設けられる方の
前記基板ガラス上に前記各隔壁を一体に形成する隔壁形
成工程と、前記各隔壁間位置に電極配置用隔壁を設ける
電極配置用隔壁形成工程と、前記各電極配置用隔壁上端
に電極を設ける電極形成工程と、前記各電極上に誘電体
層を設ける誘電体層形成工程と、を有することを特徴と
する。According to a sixth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a plasma display having a plurality of discharge cells defined by a plurality of partitions between opposing substrate glasses, each of the partitions is provided. A step of forming the partition walls integrally on the substrate glass, a step of forming an electrode placement partition wall at a position between the partition walls, and providing an electrode at an upper end of each of the electrode placement partition walls. An electrode forming step; and a dielectric layer forming step of providing a dielectric layer on each of the electrodes.
【0017】上記請求項6に記載のプラズマディスプレ
イの製造方法によれば、上記請求項1と同様の作用を得
ることができる。すなわち、各隔壁は、基板ガラスを切
削するなどの方法によって基板ガラス上に一体形成させ
ることができるので、隔壁材料を塗布及び切削する従来
の製造方法のように、各隔壁を硬化させるための焼成を
基板ガラスに加える必要がない。しかも、各電極及び誘
電体層は、従来のように各隔壁間位置の奥深い底部に配
設されるのではなく、この底部より突出した各電極配置
用隔壁上端に配設される構成であるので、スクリーン印
刷法によって電極や誘電体層を設けるにあたり、従来の
ようにこれらの材料を各隔壁間の奥深くまで送り込まな
くて済む。According to the method of manufacturing a plasma display according to the sixth aspect, the same operation as that of the first aspect can be obtained. That is, since each partition can be integrally formed on the substrate glass by a method such as cutting the substrate glass, baking for hardening each partition as in the conventional manufacturing method of applying and cutting the material of the partition. Need not be added to the substrate glass. In addition, since the electrodes and the dielectric layer are not disposed at the deep bottom between the partitions as in the related art, they are disposed at the upper ends of the electrode placement partitions protruding from the bottom. In providing the electrodes and the dielectric layer by the screen printing method, it is not necessary to feed these materials deep between the partition walls as in the related art.
【0018】請求項7に記載のプラズマディスプレイの
製造方法は、請求項6に記載のプラズマディスプレイの
製造方法において、前記隔壁形成工程と前記電極配置用
隔壁形成工程とを、同時に行うことを特徴とする。上記
請求項7に記載のプラズマディスプレイの製造方法によ
れば、これら隔壁形成工程と電極配置用隔壁形成工程と
を共通の工程として一括して行うことで、工数を減らし
て製造コストを削減させることができる。さらには、各
隔壁高さと各電極形成用隔壁高さとを、同じ高さ寸法に
容易に精度良く揃えて形成させることもできる。According to a seventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing a plasma display according to the sixth aspect, the step of forming the partition and the step of forming the partition for electrode arrangement are performed simultaneously. I do. According to the method of manufacturing a plasma display according to the seventh aspect, the partition forming step and the electrode arrangement partition forming step are collectively performed as a common step, so that the number of steps is reduced and the manufacturing cost is reduced. Can be. Further, the height of each partition and the height of each electrode forming partition can be easily and accurately aligned to the same height.
【0019】請求項8に記載のプラズマディスプレイの
製造方法は、請求項7に記載のプラズマディスプレイの
製造方法において、前記隔壁形成工程と前記電極配置用
隔壁形成工程と前記電極形成工程、若しくは、前記隔壁
形成工程と前記電極配置用隔壁形成工程と前記電極形成
工程と前記誘電体層形成工程を、同時に行うことを特徴
とする。上記請求項8に記載のプラズマディスプレイの
製造方法によれば、隔壁形成工程と電極配置用隔壁形成
工程と電極形成工程、若しくは、隔壁形成工程と電極配
置用隔壁形成工程と電極形成工程と誘電体層形成工程を
共通の工程として一括して行うので、さらに、工数を減
らして製造コストを削減させることができる。According to a eighth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display according to the seventh aspect, wherein the partition forming step, the electrode arrangement partition forming step, the electrode forming step, or The partition formation step, the electrode arrangement partition wall formation step, the electrode formation step, and the dielectric layer formation step are performed simultaneously. According to the method for manufacturing a plasma display according to the eighth aspect, the partition forming step, the electrode forming partition forming step and the electrode forming step, or the partition forming step, the electrode forming partition forming step, the electrode forming step, and the dielectric Since the layer forming step is performed collectively as a common step, the number of steps can be further reduced and the manufacturing cost can be reduced.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】本発明は、プラズマディスプレイ
及びその製造方法に関するものであり、その第1〜第7
の実施の形態を図面を参照しながら以下に説明するが、
本発明がこれらに限定解釈されるものでないことは、も
ちろんである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a plasma display and a method of manufacturing the same, and its first to seventh embodiments.
The embodiment will be described below with reference to the drawings,
Of course, the present invention should not be construed as being limited to these.
【0021】[第1の実施の形態]まず、本発明の第1
の実施の形態について説明する。なお、図1は、同実施
の形態のプラズマディスプレイを示す図であって、その
一部を分解した斜視図である。また、図2は、同プラズ
マディスプレイを図1の矢印A方向から見た断面図であ
る。また、図3は、同プラズマディスプレイを図2のB
−B断面から見た断面図である。また、図4〜図9は、
同プラズマディスプレイの製造工程を示す図であって、
図1の矢印A方向から見た図に相当する断面図である。[First Embodiment] First, the first embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram showing the plasma display of the embodiment, and is a partially exploded perspective view. FIG. 2 is a cross-sectional view of the plasma display viewed from the direction of arrow A in FIG. FIG. 3 shows the plasma display in FIG.
It is sectional drawing seen from the -B cross section. 4 to 9 are:
It is a diagram showing a manufacturing process of the same plasma display,
FIG. 2 is a cross-sectional view corresponding to a view seen from a direction of an arrow A in FIG. 1.
【0022】本実施の形態のプラズマディスプレイは、
図1〜図3に示すように、互いに対向する2枚の基板ガ
ラス11,12により構成され、この基板ガラス11
の、基板ガラス12に対向する一面には、MgO等から
なる保護膜13aを有する透明な誘電体層13で覆われ
た複数組の電極14が構成されている。また、他方の基
板ガラス12の対向面には、基板ガラス12と一体に構
成された複数の隔壁15によって区画形成された溝状の
放電セル16が複数設けられて、各隔壁15間には、電
極配置用隔壁17がそれぞれ配設され、これら電極配置
用隔壁17の上端には、電極18及び誘電体層19が設
けられた構成となっている。また、各隔壁15上端に
も、同様に電極18及び誘電体層19が設けられた構成
となっている。The plasma display of this embodiment is
As shown in FIGS. 1 to 3, the substrate glass 11 is composed of two substrate glasses 11 and 12 facing each other.
On one surface facing the substrate glass 12, there are formed a plurality of sets of electrodes 14 covered with a transparent dielectric layer 13 having a protective film 13a made of MgO or the like. Further, a plurality of groove-shaped discharge cells 16 defined by a plurality of partition walls 15 integrally formed with the substrate glass 12 are provided on the opposite surface of the other substrate glass 12, and between the partition walls 15, The electrode arrangement partition walls 17 are provided, respectively, and the electrode 18 and the dielectric layer 19 are provided on the upper ends of these electrode arrangement partition walls 17. In addition, an electrode 18 and a dielectric layer 19 are similarly provided at the upper end of each partition 15.
【0023】基板ガラス12における上記各構成要素の
配置関係は、以下の通りとなっている。すなわち、各隔
壁15及び各放電セル16及び各電極配置用隔壁17及
び各電極18及び各誘電体層19は、互いに平行をな
し、かつ、前記基板ガラス11側の各電極14に対して
直交する方向に延在形成されている。そして、各電極配
置用隔壁17は、各隔壁15間の溝幅方向の略中央部分
に位置し、基板ガラス12と一体に構成されている。こ
れら各電極配置用隔壁17及び各隔壁15の各上端に
は、これに沿った線状の電極18が設けられ、さらに、
これら電極18上端を覆うように同じく線状の前記各誘
電体層19が設けられている。The arrangement relationship of each of the above components in the substrate glass 12 is as follows. That is, each partition 15, each discharge cell 16, each electrode arrangement partition 17, each electrode 18, and each dielectric layer 19 are parallel to each other and orthogonal to each electrode 14 on the substrate glass 11 side. It extends in the direction. The partition wall 17 for electrode arrangement is located at a substantially central portion in the groove width direction between the partition walls 15 and is formed integrally with the substrate glass 12. At each upper end of each of the electrode arrangement partition walls 17 and each of the partition walls 15, a linear electrode 18 is provided along the upper end thereof.
The respective linear dielectric layers 19 are provided so as to cover the upper ends of the electrodes 18.
【0024】本実施形態では、各隔壁15と各電極配置
用隔壁17が同一高さに設定されており、さらに、隔壁
15上の電極18と電極配置用隔壁17上の電極18、
及び隔壁15上の誘電体層19と電極配置用隔壁17上
の誘電体層19は同じ膜厚で形成されている。そして、
このような構成とすることにより、各隔壁15上の誘電
体層19上端と、各電極配置用隔壁17上の誘電体層1
9上端が同一高さに設定されている。In this embodiment, each partition 15 and each electrode arrangement partition 17 are set at the same height, and furthermore, the electrode 18 on the partition 15 and the electrode 18 on the electrode arrangement partition 17
The dielectric layer 19 on the partition 15 and the dielectric layer 19 on the electrode arrangement partition 17 are formed to have the same thickness. And
With such a configuration, the upper end of the dielectric layer 19 on each partition 15 and the dielectric layer 1 on each electrode arrangement partition 17 are formed.
Nine upper ends are set at the same height.
【0025】なお、電極18の内、各電極配置用隔壁1
7上端の電極18は、電気的な接続がなされて前記基板
ガラス11側の電極14との間で放電を行うために設け
られたものであるのに対して、各隔壁15上端に設けら
れる電極18は、基板ガラス11に基板ガラス12を貼
り合わせた際に、電極18の厚み分だけ前記誘電体層1
3の保護膜13aと各隔壁15上端との間に隙間が生じ
るのを防ぐべく、各隔壁15上の誘電体層19と、各電
極配置用隔壁17上の誘電体層19とを同一高さに揃え
るために設けられたものである。It is to be noted that among the electrodes 18, the partition wall 1 for each electrode arrangement is used.
The electrode 18 at the upper end of the electrode 7 is provided for performing electrical discharge between the electrode 14 and the electrode 14 on the substrate glass 11 side, whereas the electrode 18 at the upper end of each of the partition walls 15 is provided. Reference numeral 18 denotes the thickness of the electrode layer 18 when the substrate glass 12 is bonded to the substrate glass 11.
In order to prevent a gap from being formed between the protective film 13a of FIG. 3 and the upper end of each partition 15, the dielectric layer 19 on each partition 15 and the dielectric layer 19 on each electrode arrangement partition 17 have the same height. It is provided in order to align.
【0026】各電極配置用隔壁17は、各隔壁15間に
位置する前記各放電セル16を、均等な2つの空間であ
る分割放電セル16A,16Bに区画している。これら
分割放電セル16A,16B(放電セル16)は、ガス
放電を行う空間として用いられ、その底部部分に、それ
ぞれRGB(赤、緑、青)に対応する蛍光体20が配置
されている。なお、これら蛍光体20は、各隔壁15間
毎にR(赤),G(緑),B(青)のいずれかに対応し
て配置されるが、電極配置用隔壁17を境とする両側の
分割放電セル16A,16B間では、同色の蛍光体20
が配置されるようになっている。Each of the electrode arrangement partitions 17 divides each of the discharge cells 16 located between the partitions 15 into divided discharge cells 16A and 16B which are two equal spaces. These divided discharge cells 16A, 16B (discharge cells 16) are used as spaces for performing gas discharge, and phosphors 20 corresponding to RGB (red, green, blue) are arranged at the bottoms thereof. Note that these phosphors 20 are arranged corresponding to any one of R (red), G (green), and B (blue) between each partition 15, but on both sides of the partition 17 for electrode arrangement. Between the divided discharge cells 16A and 16B of the same color.
Are arranged.
【0027】以上説明の対向する2枚の基板ガラス1
1,12は、互いに重ね合わされた後、各放電セル16
内部にNe,He等の希ガスを封入した状態で、周囲を
シールガラス等により封着される構成となっている。前
記電極14および電極18は、それぞれ外部に引き出さ
れており、これらに接続された端子に選択的に電圧を印
加することで、選択的に放電セル16内の各電極14,
18間に放電を発生させ、この放電によって放電セル1
6内(分割放電セル16A,16B内)の蛍光体20か
らの励起光を外部に表示するようになっている。The two opposing substrate glasses 1 described above
1, 12 are superimposed on each other and then each discharge cell 16
A structure in which a rare gas such as Ne or He is sealed in the inside and the periphery is sealed with a seal glass or the like. The electrode 14 and the electrode 18 are respectively drawn out to the outside, and by selectively applying a voltage to the terminal connected thereto, the electrode 14 and the electrode 18 in the discharge cell 16 are selectively.
A discharge is generated between the discharge cells 18 and the discharge cell 1
Excitation light from the phosphor 20 in 6 (in the divided discharge cells 16A and 16B) is displayed outside.
【0028】ただし、前述したように、基板ガラス12
に設けられた各電極18の内、放電を発生させるために
接続されているのは、電極配置用隔壁17上端に配置さ
れた電極18であり、各隔壁15上端に配置された他方
の電極18は、電気的に接続しないフロート電極として
用いられるか、もしくは放電に差し支えないように接地
される構成となっている。However, as described above, the substrate glass 12
Of the electrodes 18 provided on the electrode 18, the electrode 18 disposed on the upper end of the electrode arrangement partition 17 is connected to generate a discharge, and the other electrode 18 disposed on the upper end of each partition 15 is connected to the other electrode 18. Are used as float electrodes that are not electrically connected, or are grounded so as not to hinder discharge.
【0029】上記説明のプラズマディスプレイの基板ガ
ラス12は、以下に概略説明する方法によって製造され
る。すなわち、元基板ガラスを切削してこれと一体に隔
壁15を形成する隔壁形成工程と、同じく元基板ガラス
を切削して各隔壁間位置に電極配置用隔壁17を元基板
ガラスと一体に形成する電極配置用隔壁形成工程と、こ
れら隔壁15及び電極配置用隔壁17の各上端に電極1
8を形成する電極形成工程と、これら電極18の各上端
に誘電体層19を形成する誘電体層形成工程と、各放電
セル16内(分割放電セル16A,16B内)に蛍光体
20を形成する蛍光体形成工程とを経て製造される。こ
こで、前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔壁形成工程
とは、一括して同時に行われるものであり、以下、まと
めて全隔壁形成工程と呼ぶ。The substrate glass 12 of the above-described plasma display is manufactured by the method outlined below. That is, the partition wall forming step of cutting the original substrate glass to form the partition wall 15 integrally therewith, and similarly cutting the original substrate glass to integrally form the electrode arrangement partition walls 17 with the original substrate glass at positions between the partition walls. The electrode forming partition forming step, and the electrode 1 is formed on each upper end of the partition 15 and the electrode forming partition 17.
Forming electrodes 8, forming a dielectric layer 19 on each upper end of these electrodes 18, and forming a phosphor 20 in each discharge cell 16 (in divided discharge cells 16A and 16B). And a phosphor forming step. Here, the partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step are performed collectively and simultaneously, and are hereinafter collectively referred to as an all partition wall forming step.
【0030】上記各工程を詳細に説明すると、まず全隔
壁形成工程では、前記元基板ガラスを洗浄して乾燥させ
た後、その上面に、耐サンドブラスト性(サンドブラス
トに対する耐切削性)を有するドライフィルムレジスト
等のシート状のフォトレジストを圧着する(図示せ
ず)。そして、このフォトレジストをマスク等によって
露光現像することにより、図4に示すように、隔壁15
及び電極配置用隔壁17の位置及び形状に対応した所定
のパターンのフォトレジスト12Pを形成する(なお、
同図に示す符号12Aが前記元基板ガラスである。)。Each of the above steps will be described in detail. First, in the entire partition wall forming step, the original substrate glass is washed and dried, and then a dry film having sand blast resistance (cut resistance to sand blast) is formed on the upper surface thereof. A sheet-like photoresist such as a resist is pressure-bonded (not shown). Then, this photoresist is exposed and developed by using a mask or the like, so that the partition walls 15 are formed as shown in FIG.
And a photoresist 12P having a predetermined pattern corresponding to the position and shape of the electrode arrangement partition wall 17 is formed (note that
Reference numeral 12A shown in the figure is the original substrate glass. ).
【0031】この後、元基板ガラス12Aのフォトレジ
スト12Pが形成されていない部分をサンドブラストに
より切削し、その後、図5に示すように、フォトレジス
ト12Pを剥離することで、隔壁15及び電極配置用隔
壁17が形成される。そして、これら隔壁15及び電極
配置用隔壁17間に挟み込まれる空間がそれぞれ分割放
電セル16A,16Bとして形成され、電極配置用隔壁
17を境とする両側の空間である一対の分割放電セル1
6A,16Bで、放電セル16が構成される。Thereafter, the portion of the original substrate glass 12A where the photoresist 12P is not formed is cut by sandblasting, and then the photoresist 12P is peeled off as shown in FIG. The partition wall 17 is formed. Spaces sandwiched between the partition wall 15 and the electrode-arranging partition wall 17 are formed as divided discharge cells 16A and 16B, respectively.
The discharge cells 16 are composed of 6A and 16B.
【0032】上記サンドブラストにおいて、炭酸カルシ
ウム、あるいは、ガラスビーズ等を使用する場合には、
ソーダライムガラス等の材質からなる元基板ガラス12
Aに対して切削力が弱く、切削が充分に行われない恐れ
があるので、充分な切削力を有する炭化ケイ素粉末また
はアルミナを使用することが好ましい。この場合、元基
板ガラス12Aに対する接着力および耐サンドブラスト
性の高さから、ドライフィルムレジスト(例えば東京応
化製の商品名「BF403」等)を選択するのが好まし
い。In the above sandblasting, when calcium carbonate or glass beads are used,
Original substrate glass 12 made of a material such as soda lime glass
It is preferable to use silicon carbide powder or alumina having a sufficient cutting force because the cutting force is weaker than that of A and cutting may not be performed sufficiently. In this case, it is preferable to select a dry film resist (for example, trade name “BF403” manufactured by Tokyo Ohka) from the viewpoint of the adhesive strength to the original substrate glass 12A and the high sandblast resistance.
【0033】なお、上記全隔壁形成工程では、サンドブ
ラスト法によって元基板ガラス12Aと一体になるよう
に隔壁15及び電極配置用隔壁17を形成するものとし
たが、これに限らず、ケミカルエッチング法や型成形に
よって形成する方法なども採用可能である。In the above-mentioned all partition forming step, the partition 15 and the electrode-arranging partition 17 are formed so as to be integrated with the original substrate glass 12A by sandblasting. However, the present invention is not limited to this. A method of forming by molding or the like can be adopted.
【0034】続いて、前記電極形成工程、前記誘電体層
形成工程、前記蛍光体形成工程の順序で順次製造が進め
られていく。すなわち、電極形成工程においては、銀ペ
ースト(例えばNamics社製の商品名「XFP−5
369−50L」等)をスクリーン印刷法により、前記
隔壁15及び電極配置用隔壁17の各上端を覆うように
塗布する。このとき、隔壁15及び電極配置用隔壁17
の各上端面部分のみを覆うように前記銀ペーストを塗布
しても良いし、この上端面部分から上端近傍両側面部分
に至るように塗布しても良い。Subsequently, the manufacturing is sequentially performed in the order of the electrode forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step. That is, in the electrode forming step, a silver paste (for example, trade name “XFP-5” manufactured by Namics) is used.
369-50L ") is applied by a screen printing method so as to cover each upper end of the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17. At this time, the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 are formed.
The silver paste may be applied so as to cover only the respective upper end portions, or may be applied from the upper end portion to both side portions near the upper end.
【0035】その後、例えば150℃の加熱条件で10
分間保持して乾燥させ、さらに550℃の加熱条件で1
0分間の焼成を加えることで、図6に示すように電極1
8の形成が完了する。上述したように、隔壁15上に配
置される電極18は、図7に示すように、その両隣の電
極配置用隔壁17と高さ寸法を揃えて、前記基板ガラス
11の誘電体層13との間に隙間gを生じさせないため
に設けられるものである。したがって、これら電極18
の内、隔壁15上に配置されたものは、電気的に接続し
ないフロート電極として用いられるか、もしくは放電に
差し支えないように接地される。このようにして形成さ
れた電極18の厚み寸法としては、例えば5μmの厚み
寸法範囲を適用するのが好ましい。Then, for example, under heating conditions of 150 ° C.
And dried at 550 ° C. for 1 minute.
By baking for 0 minutes, as shown in FIG.
8 is completed. As described above, the electrode 18 arranged on the partition 15 has the same height dimension as the electrode arrangement partition 17 on both sides thereof, as shown in FIG. This is provided so as not to generate a gap g between them. Therefore, these electrodes 18
Among them, the one arranged on the partition wall 15 is used as a float electrode that is not electrically connected, or is grounded so as not to hinder discharge. As the thickness dimension of the electrode 18 thus formed, it is preferable to apply, for example, a thickness dimension range of 5 μm.
【0036】次に、前記誘電体層形成工程に移る。この
工程においては、誘電体ペースト(例えば住友金属鉱山
社製の商品名「GLP−86087」等)をスクリーン
印刷法により、前記電極18の上から覆うように塗布す
る。このとき、各電極18の各上端面部分のみを覆うよ
うに前記誘電体ペーストを塗布しても良いし、この上端
面部分から電極18の上端近傍両側面部分、さらには、
隔壁15及び電極配置用隔壁17の上端近傍両側面部分
をも覆うように塗布しても良い。Next, the process proceeds to the dielectric layer forming step. In this step, a dielectric paste (for example, “GLP-86087” manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) is applied so as to cover the electrode 18 by a screen printing method. At this time, the dielectric paste may be applied so as to cover only the respective upper end surfaces of the respective electrodes 18, or from the upper end surface portions to both side portions near the upper end of the electrode 18, and further,
The coating may be performed so as to cover both side surfaces near the upper end of the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17.
【0037】その後、例えば150℃の加熱条件で10
分間保持して乾燥させ、さらに550℃の加熱条件で1
0分間の焼成を加えることで、図8に示すように誘電体
層19の形成が完了する。このようにして形成された誘
電体層19の厚み寸法としては、例えば10μmの厚み
寸法範囲を適用するのが好ましい。Then, for example, under heating conditions of 150 ° C.
And dried at 550 ° C. for 1 minute.
By performing the baking for 0 minutes, the formation of the dielectric layer 19 is completed as shown in FIG. As the thickness dimension of the dielectric layer 19 thus formed, it is preferable to apply a thickness dimension range of, for example, 10 μm.
【0038】次に、前記蛍光体形成工程に移る。この工
程においては、図1に示した赤、緑、青(R,G,B)
に対応して各放電セル16内底部(すなわち各分割放電
セル16A,16B内の各底部)に、スクリーン、マス
ク等を利用してそれぞれ赤、緑、青(R,G,B)に対
応した3種類の蛍光体ペーストを選択的に印刷する。こ
のとき、各電極配置用隔壁17を境とする両側の分割放
電セル16A,16Bの色が同色となるように蛍光体ペ
ーストの塗布を行うようにする。Next, the process proceeds to the phosphor forming step. In this step, red, green, and blue (R, G, B) shown in FIG.
Corresponding to red, green, and blue (R, G, B) using a screen, a mask, and the like at the bottom inside each discharge cell 16 (that is, each bottom within each divided discharge cell 16A, 16B). Three kinds of phosphor pastes are selectively printed. At this time, the phosphor paste is applied so that the colors of the divided discharge cells 16A and 16B on both sides of each electrode arrangement partition 17 are the same.
【0039】なお、蛍光体粉末には、例えば化成オプト
ニクス社製の緑色蛍光体(商品名「P1G1」)、赤色
蛍光体(商品名「KX504A」)、青色蛍光体(商品
名「KX501A」)をそれぞれスクリーン印刷用ビヒ
クル(例えば奥野製薬社製)に適量混合したものを使用
し、スクリーン印刷法により所定のパターンで形成する
ようにする。その後、例えば150℃の加熱条件で10
分間保持して乾燥させ、さらに450℃のピーク加熱条
件で10分間の焼成を加えることで、図9に示すように
蛍光体20の形成が完了する。The phosphor powder includes, for example, a green phosphor (trade name "P1G1"), a red phosphor (trade name "KX504A"), and a blue phosphor (trade name "KX501A") manufactured by Kasei Optonix. Are mixed in an appropriate amount with a vehicle for screen printing (for example, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), and are formed in a predetermined pattern by a screen printing method. Then, for example, under heating conditions of 150 ° C., 10
After drying for 10 minutes under the peak heating condition of 450 ° C., the formation of the phosphor 20 is completed as shown in FIG.
【0040】以上の各工程を経て製造された基板ガラス
12は、別途製造された前記基板ガラス11との間で、
これらの図示しないターミナル部において電極14と電
極18とをそれぞれ外部に引き出して接続するととも
に、放電セル16内部をNe,He等の希ガスで置換し
て、基板ガラス11,12同士を互いに貼り合わせ、そ
の周囲を図示しないシールガラス等により封着すること
で、図1に示したプラズマディスプレイが完成する。The substrate glass 12 manufactured through the above-described steps is separated from the substrate glass 11 manufactured separately.
In these terminal portions (not shown), the electrodes 14 and 18 are respectively drawn out and connected to the outside, the inside of the discharge cell 16 is replaced with a rare gas such as Ne or He, and the substrate glasses 11 and 12 are bonded to each other. The periphery is sealed with a sealing glass or the like (not shown) to complete the plasma display shown in FIG.
【0041】本実施の形態のプラズマディスプレイで
は、基板ガラス12において、各隔壁15が元基板ガラ
ス12Aと一体に構成され、これら各隔壁15間には、
電極配置用隔壁17が元基板ガラス12Aと一体に形成
され、これら電極配置用隔壁17の各上端に、電極18
及び誘電体層19が設けられている構成を採用した。ま
た、その製造方法においては、元基板ガラス12A上に
各隔壁15を一体に形成する隔壁形成工程と、各隔壁間
位置に電極配置用隔壁17を形成する電極配置用隔壁形
成工程と、各電極配置用隔壁17の上端に電極18を設
ける電極形成工程と、各電極18上に誘電体層19を設
ける誘電体層形成工程と、を有する方法を採用した。In the plasma display of the present embodiment, in the substrate glass 12, each partition 15 is formed integrally with the original substrate glass 12A, and
The electrode arrangement partition walls 17 are formed integrally with the original substrate glass 12A.
And a structure in which a dielectric layer 19 is provided. Further, in the manufacturing method, a partition wall forming step of integrally forming each partition wall 15 on the original substrate glass 12A, an electrode arrangement partition wall forming step of forming an electrode arrangement partition wall 17 at a position between each partition wall, A method including an electrode forming step of providing an electrode 18 on the upper end of the arrangement partition 17 and a dielectric layer forming step of providing a dielectric layer 19 on each electrode 18 was employed.
【0042】したがって、本実施の形態のプラズマディ
スプレイ及びその製造方法によれば、隔壁15及び電極
配置用隔壁17は、元基板ガラス12Aを切削する方法
によって元基板ガラス12A上に一体形成させることが
できるので、前記隔壁材料を塗布及び切削する従来の製
造方法のように、各隔壁15及び電極配置用隔壁17を
硬化させるための焼成を元基板ガラス12Aに加える必
要がない。Therefore, according to the plasma display and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, the partition walls 15 and the electrode arrangement partition walls 17 can be integrally formed on the original substrate glass 12A by a method of cutting the original substrate glass 12A. Since it is possible, it is not necessary to apply baking for hardening the partition walls 15 and the electrode arrangement partition walls 17 to the original substrate glass 12A as in the conventional manufacturing method of applying and cutting the partition wall material.
【0043】しかも、各電極18及び誘電体層19は、
従来のように各隔壁間位置の奥深い底部に配設されるの
ではなく、この底部より突出した各電極配置用隔壁17
の上端に配設される構成であるので、スクリーン印刷法
によって電極18や誘電体層19を形成するにあたり、
従来のようにこれらの材料を各隔壁15間の奥深くまで
送り込まなくて済む。したがって、隔壁15の形成にあ
たり焼成工程を必要とせず、かつ電極18及び誘電体層
19の形成にスクリーン印刷法が適用可能である。In addition, each electrode 18 and dielectric layer 19
Instead of being provided at the deep bottom of each inter-partition position as in the prior art, each electrode arrangement partition 17 protruding from this bottom is provided.
Since the electrode 18 and the dielectric layer 19 are formed by screen printing,
It is not necessary to feed these materials deep between the partition walls 15 as in the related art. Therefore, a baking process is not required for forming the partition wall 15, and the screen printing method can be applied to the formation of the electrode 18 and the dielectric layer 19.
【0044】また、本実施の形態のプラズマディスプレ
イは、基板ガラス12において、各隔壁15上端と、各
電極配置用隔壁17上端との両方に、膜厚の等しい電極
18を設け、さらにその上に、膜厚の等しい誘電体層1
9を設けることにより、各隔壁15上の誘電体層19上
端と、各電極配置用隔壁17上の誘電体層19上端とを
同一高さとする構成を採用した。この構成によれば、各
隔壁15が設けられる側の基板ガラス12である背面板
を、他方の基板ガラス11である前面板に重ねて貼り合
わせた際に、背面板と前面板との貼り合わせ面に隙間が
形成されることなく容易にシールすることができる。す
なわち、隣接する放電セル16間や、分割放電セル16
A,16B間を容易にシールすることが可能となる。In the plasma display of the present embodiment, electrodes 18 having the same film thickness are provided on both the upper end of each partition wall 15 and the upper end of each partition wall 17 for electrode arrangement on the substrate glass 12, and further thereon. , Dielectric layer 1 having the same thickness
By providing 9, the upper end of the dielectric layer 19 on each partition 15 and the upper end of the dielectric layer 19 on each electrode arrangement partition 17 are made the same height. According to this configuration, when the rear plate, which is the substrate glass 12 on the side on which the partition walls 15 are provided, is overlapped with the front plate, which is the other substrate glass 11, the rear plate and the front plate are bonded. Sealing can be easily performed without forming a gap in the surface. That is, between adjacent discharge cells 16 or divided discharge cells 16
It is possible to easily seal between A and 16B.
【0045】また、本実施の形態のプラズマディスプレ
イの製造方法は、前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔
壁形成工程とを同時に行う方法を採用した。この製造方
法によれば、これら隔壁形成工程と電極配置用隔壁形成
工程とを共通の工程として行うことができ、工数を減ら
して製造コストを削減させることが可能となる。さらに
は、各隔壁15の高さと各電極形成用隔壁17の高さと
を、同じ高さ寸法に容易に精度良く揃えて形成させるこ
とも可能となっている。The method of manufacturing a plasma display according to the present embodiment employs a method in which the partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step are performed simultaneously. According to this manufacturing method, the partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step can be performed as a common step, so that the number of steps can be reduced and the manufacturing cost can be reduced. Further, the height of each partition 15 and the height of each electrode forming partition 17 can be easily and accurately aligned to the same height.
【0046】なお、本実施の形態の製造方法では、全隔
壁形成工程、電極形成工程、誘電体層形成工程、蛍光体
形成工程、の順序で製造加工を行うものとしたが、順番
はこれに限らず、電極形成工程後に誘電体層形成工程を
行うことと、全隔壁形成工程後に蛍光体形成工程を行う
こととが規定されていれば良い。以下に、第2〜第4の
実施の形態において、その他の製造方法の例について説
明する。In the manufacturing method of this embodiment, the manufacturing process is performed in the order of the entire partition wall forming step, the electrode forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step. The present invention is not limited to this, and it is only necessary to specify that the dielectric layer forming step is performed after the electrode forming step and the phosphor forming step is performed after the entire partition wall forming step. Hereinafter, examples of other manufacturing methods in the second to fourth embodiments will be described.
【0047】[第2の実施の形態]図10〜図12に基
づいて、上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造する方法を例として、本発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の第2の実施の形態について説明する。
上記第1の実施の形態の製造方法では、全隔壁形成工
程、電極形成工程、誘電体層形成工程、蛍光体形成工
程、の順序で製造加工を行うことにより基板ガラス12
を製造したのに対して、本実施の形態においては、電極
形成工程、全隔壁形成工程、誘電体層形成工程、蛍光体
形成工程、の順序で製造加工を行うことにより基板ガラ
ス12を製造する点が第1の実施の形態と大きく異なっ
ている。なお、本実施の形態において、誘電体層形成工
程と、蛍光体形成工程、及び基板ガラス12を製造して
から第1の実施の形態のプラズマディスプレイを製造す
る方法については第1の実施の形態と同一であるので、
説明は省略する。また、本実施の形態において、第1の
実施の形態と同じ構成要素については同じ参照符号を付
し、説明は省略する。[Second Embodiment] Referring to FIGS. 10 to 12, an example of a method of manufacturing the plasma display of the first embodiment will be described. An embodiment will be described.
In the manufacturing method of the first embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by performing the manufacturing processing in the order of the entire partition wall forming step, the electrode forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step.
In contrast, in the present embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by performing manufacturing processes in the order of the electrode forming step, the entire partition wall forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step. This is significantly different from the first embodiment. Note that, in the present embodiment, the dielectric layer forming step, the phosphor forming step, and the method of manufacturing the substrate glass 12 and then manufacturing the plasma display of the first embodiment are described in the first embodiment. Is the same as
Description is omitted. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0048】はじめに、電極形成工程において、元基板
ガラス12Aを洗浄して乾燥させた後、スクリーン印刷
法により、隔壁15及び電極配置用隔壁17の上端の位
置及び形状(電極18の位置及び形状)に対応させて銀
ペーストを塗布する。その後、例えば150℃の加熱条
件で10分間保持して乾燥させ、さらに550℃の加熱
条件で10分間の焼成を加えることで、図10に示すよ
うに、隔壁15及び電極配置用隔壁17の上端の位置及
び形状に対応させて、電極18を形成する。First, in the electrode forming step, after cleaning and drying the original substrate glass 12A, the position and shape of the upper end of the partition 15 and the electrode-arranging partition 17 (position and shape of the electrode 18) are screen-printed. A silver paste is applied according to the above. Thereafter, for example, by holding for 10 minutes under a heating condition of 150 ° C. and drying, and further performing baking for 10 minutes under a heating condition of 550 ° C., as shown in FIG. The electrode 18 is formed corresponding to the position and the shape of.
【0049】次に、全隔壁形成工程において、各電極1
8を形成した元基板ガラス12Aの上面全体に、耐サン
ドブラスト性を有するドライフィルムレジスト等のシー
ト状のフォトレジストを圧着し、このフォトレジストを
マスク等によって露光現像することにより、図11に示
すように、隔壁15及び電極配置用隔壁17の位置及び
形状に対応させて、すなわち、各電極18の位置及び形
状に対応させて所定のパターンのフォトレジスト12P
を形成する。Next, in the entire partition forming step, each electrode 1
By pressing a sheet-shaped photoresist such as a dry film resist having sandblast resistance on the entire upper surface of the original substrate glass 12A on which the substrate 8 is formed, and exposing and developing the photoresist with a mask or the like, as shown in FIG. The photoresist 12P having a predetermined pattern corresponding to the position and shape of the partition 15 and the electrode-arranging partition 17, that is, corresponding to the position and shape of each electrode 18.
To form
【0050】この後、元基板ガラス12A表面のフォト
レジスト12Pが形成されていない部分をサンドブラス
トにより切削し、その後、フォトレジスト12Pを剥離
することで、図12に示すように、隔壁15及び電極配
置用隔壁17を形成する。そして、これら隔壁15及び
電極配置用隔壁17間に挟み込まれる空間がそれぞれ分
割放電セル16A,16Bとして形成され、電極配置用
隔壁17を境とする両側の空間である一対の分割放電セ
ル16A,16Bで、放電セル16が構成される。この
後、第1の実施の形態で説明したように、誘電体層1
9、蛍光体20を形成することにより基板ガラス12が
製造され、さらにこの基板ガラス12から第1の実施の
形態のプラズマディスプレイを製造することができる。Thereafter, a portion of the surface of the original substrate glass 12A on which the photoresist 12P is not formed is cut by sandblasting, and then the photoresist 12P is peeled off, as shown in FIG. Partition 17 is formed. Spaces sandwiched between the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 are formed as divided discharge cells 16A and 16B, respectively, and a pair of divided discharge cells 16A and 16B which are spaces on both sides of the electrode arrangement partition wall 17 as boundaries. Thus, the discharge cells 16 are configured. Thereafter, as described in the first embodiment, the dielectric layer 1
9. The substrate glass 12 is manufactured by forming the phosphor 20, and the plasma display of the first embodiment can be manufactured from the substrate glass 12.
【0051】このように、電極形成工程、全隔壁形成工
程、誘電体層形成工程、蛍光体形成工程、の順序で製造
加工を行うことにより基板ガラス12を製造することに
よっても上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造することができ、第1の実施の形態のプラズマデ
ィスプレイの製造方法と同等の効果を得ることができ
る。すなわち、本実施の形態の製造方法によれば、隔壁
材料を塗布及び切削する従来の製造方法のように、各隔
壁15及び電極配置用隔壁17を硬化させるための焼成
を元基板ガラス12Aに加える必要がなく、また、隔壁
15の形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極1
8及び誘電体層19の形成にスクリーン印刷法が適用可
能である。As described above, the first embodiment can also be performed by manufacturing the substrate glass 12 by performing the manufacturing process in the order of the electrode forming process, the entire partition forming process, the dielectric layer forming process, and the phosphor forming process. The plasma display according to the embodiment can be manufactured, and the same effects as those of the plasma display manufacturing method according to the first embodiment can be obtained. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, as in the conventional manufacturing method of applying and cutting the partition wall material, baking for hardening each partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 is applied to the original substrate glass 12A. There is no necessity, and no baking step is required for forming the partition 15 and the electrode 1
The screen printing method can be applied to the formation of the dielectric layer 8 and the dielectric layer 19.
【0052】[第3の実施の形態]図13〜図15に基
づいて、上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造する方法を例として、本発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の第3の実施の形態について説明する。
本実施の形態の製造方法は上記第2の実施の形態とほぼ
同様であるが、本実施の形態が第2の実施の形態と異な
っている点は、銀ペーストの焼成と元基板ガラス12A
をサンドブラストにより切削した後のフォトレジスト1
2Pの除去とを同一の工程で行う点が異なっている。な
お、本実施の形態において、誘電体層形成工程と、蛍光
体形成工程、及び基板ガラス12を製造してからプラズ
マディスプレイを製造する方法については第1の実施の
形態と同一であるので、説明は省略する。また、本実施
の形態において、第1の実施の形態と同じ構成要素につ
いては同じ参照符号を付し、説明は省略する。[Third Embodiment] A third embodiment of the method of manufacturing a plasma display according to the present invention will be described with reference to FIGS. 13 to 15 as an example of the method of manufacturing the plasma display of the first embodiment. An embodiment will be described.
The manufacturing method of this embodiment is almost the same as that of the second embodiment, but the present embodiment is different from the second embodiment in that the firing of the silver paste and the base glass 12A
1 after sandblasting
The difference is that 2P removal is performed in the same step. In the present embodiment, a dielectric layer forming step, a phosphor forming step, and a method of manufacturing a plasma display after manufacturing the substrate glass 12 are the same as those in the first embodiment, and therefore will be described. Is omitted. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0053】はじめに、電極形成工程において、元基板
ガラス12Aを洗浄して乾燥させた後、図13に示すよ
うに、スクリーン印刷法により、隔壁15及び電極配置
用隔壁17の上端の位置及び形状(電極18の位置及び
形状)に対応させて銀ペースト18Aを塗布する。その
後、例えば150℃の加熱条件で10分間保持して乾燥
する。ここで、銀ペースト18Aの焼成は行わない。そ
して、電極形成工程の途中、すなわち銀ペースト18A
の焼成を行う前に、次の全隔壁形成工程に移る。First, in the electrode forming step, after cleaning and drying the original substrate glass 12A, as shown in FIG. 13, the position and shape of the upper end of the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 are formed by screen printing (FIG. 13). The silver paste 18A is applied corresponding to the position and shape of the electrode 18). Thereafter, the substrate is dried by holding it at a heating condition of, for example, 150 ° C. for 10 minutes. Here, the baking of the silver paste 18A is not performed. Then, during the electrode forming step, that is, the silver paste 18A
Before baking, the process proceeds to the next step of forming all partitions.
【0054】次に、全隔壁形成工程において、銀ペース
ト18Aを塗布した元基板ガラス12Aの上面全体に、
耐サンドブラスト性を有するフォトレジストを印刷し、
このフォトレジストをマスク等によって露光現像するこ
とにより、図14に示すように、隔壁15及び電極配置
用隔壁17の位置及び形状、すなわち、各銀ペースト1
8Aの位置及び形状に対応させて、所定のパターンのフ
ォトレジスト12Pを形成する。この後、元基板ガラス
12A表面のフォトレジスト12Pが形成されていない
部分をサンドブラストにより切削することにより、隔壁
15及び電極配置用隔壁17を形成する。Next, in the entire partition wall forming step, the entire upper surface of the original substrate glass 12A coated with the silver paste 18A is
Printing a photoresist with sandblast resistance,
By exposing and developing this photoresist using a mask or the like, as shown in FIG. 14, the positions and shapes of the partition walls 15 and the electrode arrangement partition walls 17, that is, each silver paste 1
A photoresist 12P having a predetermined pattern is formed corresponding to the position and shape of 8A. Thereafter, a portion of the surface of the original substrate glass 12A where the photoresist 12P is not formed is cut by sandblasting, thereby forming the partition 15 and the partition 17 for electrode arrangement.
【0055】続いて、全隔壁形成工程におけるフォトレ
ジスト12Pの除去と電極形成工程における銀ペースト
18Aの焼成とを同時に行う。すなわち、図15に示す
ように、例えば、550℃の加熱条件で10分間の焼成
を行うことにより、銀ペースト18Aの焼成を行い、電
極18を形成するとともに、フォトレジスト12Pを焼
失させる。Subsequently, the removal of the photoresist 12P in the entire partition wall forming step and the baking of the silver paste 18A in the electrode forming step are performed simultaneously. That is, as shown in FIG. 15, for example, by baking for 10 minutes under a heating condition of 550 ° C., the baking of the silver paste 18A is performed, thereby forming the electrode 18 and burning out the photoresist 12P.
【0056】そして、隔壁15及び電極配置用隔壁17
間に挟み込まれる空間がそれぞれ分割放電セル16A,
16Bとして形成され、電極配置用隔壁17を境とする
両側の空間である一対の分割放電セル16A,16B
で、放電セル16が構成される。この後、第1の実施の
形態で説明したように、誘電体層19、蛍光体20を形
成することにより基板ガラス12が製造され、さらにこ
の基板ガラス12から第1の実施の形態のプラズマディ
スプレイを製造することができる。Then, the partition wall 15 and the electrode-arranging partition wall 17 are formed.
Spaces sandwiched between the divided discharge cells 16A,
A pair of divided discharge cells 16A and 16B, which are formed as 16B and are spaces on both sides of the electrode arrangement partition 17 as a boundary.
Thus, the discharge cells 16 are configured. Thereafter, as described in the first embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by forming the dielectric layer 19 and the phosphor 20, and the plasma display of the first embodiment is further manufactured from the substrate glass 12. Can be manufactured.
【0057】本実施の形態の製造方法によれば、第1、
第2の実施の形態と同様の効果を得ることができる。す
なわち、本実施の形態の製造方法によれば、隔壁材料を
塗布及び切削する従来の製造方法のように、各隔壁15
及び電極配置用隔壁17を硬化させるための焼成を元基
板ガラス12Aに加える必要がなく、また、隔壁15の
形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極18及び
誘電体層19の形成にスクリーン印刷法が適用可能であ
る。さらに、本実施の形態によれば、銀ペースト18A
の焼成とフォトレジスト12Pの除去を同一の工程で行
うことができるので、第1、第2の実施の形態に比較し
て製造工程を短縮化することができる。According to the manufacturing method of this embodiment, first,
The same effect as in the second embodiment can be obtained. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, each partition 15
It is not necessary to add baking for curing the partition wall 17 for disposing the electrode to the original substrate glass 12A, a baking process is not required for forming the partition wall 15, and screen printing is performed for forming the electrode 18 and the dielectric layer 19. The law is applicable. Further, according to the present embodiment, silver paste 18A
Baking and the removal of the photoresist 12P can be performed in the same step, so that the manufacturing steps can be shortened as compared with the first and second embodiments.
【0058】[第4の実施の形態]図16、図17に基
づいて、上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造する方法を例として、本発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の第4の実施の形態について説明する。
本実施の形態の製造方法は、電極形成工程、全隔壁形成
工程、誘電体層形成工程、蛍光体形成工程、の順序で製
造加工を行うことにより基板ガラス12を製造する点
で、上記第2、第3の実施の形態と共通している。本実
施の形態が第2、第3の実施の形態と異なっている点
は、電極18に、元基板ガラス12Aをサンドブラスト
により切削する際のマスクとしての機能を持たせ、隔壁
15及び電極配置用隔壁17のパターンのフォトレジス
ト12Pを形成しない点のみである。また、本実施の形
態において、誘電体層形成工程と、蛍光体形成工程、及
び基板ガラス12を製造してからプラズマディスプレイ
を製造する方法については第1の実施の形態と同一であ
るので、説明は省略する。また、本実施の形態におい
て、第1の実施の形態と同じ構成要素については同じ参
照符号を付し、説明は省略する。[Fourth Embodiment] Referring to FIGS. 16 and 17, an example of a method of manufacturing the plasma display according to the first embodiment will be described. An embodiment will be described.
The manufacturing method of the present embodiment is different from the second method in that the substrate glass 12 is manufactured by performing manufacturing processing in the order of an electrode forming step, a whole partition forming step, a dielectric layer forming step, and a phosphor forming step. , And the third embodiment. This embodiment is different from the second and third embodiments in that the electrode 18 has a function as a mask when the original substrate glass 12A is cut by sandblasting, and the partition 18 and the electrode The only difference is that the photoresist 12P of the pattern of the partition wall 17 is not formed. Also, in the present embodiment, the dielectric layer forming step, the phosphor forming step, and the method of manufacturing the plasma display after manufacturing the substrate glass 12 are the same as those of the first embodiment, and therefore will be described. Is omitted. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0059】はじめに、電極形成工程において、元基板
ガラス12Aを洗浄して乾燥させた後、スクリーン印刷
法により、隔壁15及び電極配置用隔壁17の上端の位
置及び形状(電極18の位置及び形状)に対応させて銀
ペーストを塗布する。その後、例えば150℃の加熱条
件で10分間保持して乾燥させ、さらに550℃の加熱
条件で10分間の焼成を加えることで、図16に示すよ
うに、隔壁15及び電極配置用隔壁17の上端の位置及
び形状に対応させて、電極18を形成する。First, in the electrode forming step, after cleaning and drying the original substrate glass 12A, the position and shape of the upper end of the partition 15 and the electrode-arranging partition 17 (position and shape of the electrode 18) are screen-printed. A silver paste is applied according to the above. Thereafter, for example, the substrate is dried by holding it at a heating condition of 150 ° C. for 10 minutes, and further baked at a heating condition of 550 ° C. for 10 minutes, as shown in FIG. The electrode 18 is formed corresponding to the position and the shape of.
【0060】本実施の形態においては、電極18を、元
基板ガラス12Aをサンドブラストにより切削する際の
マスクとして機能させるため、電極18が耐サンドブラ
スト性を有するように、電極18の形成を行う。すなわ
ち、焼成後に耐サンドブラスト性を有する銀ペーストを
用いて電極18の形成を行う。また、本実施の形態にお
いては、電極18を元基板ガラス12Aをサンドブラス
トにより切削する際のマスクとして機能させるため、電
極18が形成されない箇所には隔壁が形成されない。し
たがって、この工程において、隔壁15及び電極配置用
隔壁17のすべての形成箇所に対応させて電極18を形
成する必要がある。In this embodiment, the electrode 18 is formed so that the electrode 18 has sandblast resistance in order to function as a mask when the original substrate glass 12A is cut by sandblasting. That is, after firing, the electrode 18 is formed using a silver paste having anti-sandblast properties. Further, in the present embodiment, since the electrode 18 functions as a mask when the original substrate glass 12A is cut by sandblasting, no partition is formed at a portion where the electrode 18 is not formed. Therefore, in this step, it is necessary to form the electrodes 18 corresponding to all the formation positions of the partition walls 15 and the electrode arrangement partition walls 17.
【0061】次に、全隔壁形成工程において、各電極1
8をマスクとし、元基板ガラス12Aの表面において、
電極18が形成されていない部分をサンドブラストによ
り切削することにより、図17に示すように、隔壁15
及び電極配置用隔壁17を形成する。そして、これら隔
壁15及び電極配置用隔壁17間に挟み込まれる空間が
それぞれ分割放電セル16A,16Bとして形成され、
電極配置用隔壁17を境とする両側の空間である一対の
分割放電セル16A,16Bで、放電セル16が構成さ
れる。この後、第1の実施の形態で説明したように、誘
電体層19、蛍光体20を形成することにより基板ガラ
ス12が製造され、さらにこの基板ガラス12から第1
の実施の形態のプラズマディスプレイを製造することが
できる。Next, in the entire partition wall forming step, each electrode 1
8 as a mask, on the surface of the original substrate glass 12A,
By cutting the portion where the electrode 18 is not formed by sandblasting, as shown in FIG.
Then, the electrode arrangement partition 17 is formed. Spaces sandwiched between the partition walls 15 and the electrode arrangement partition walls 17 are formed as divided discharge cells 16A and 16B, respectively.
The discharge cells 16 are constituted by a pair of divided discharge cells 16A and 16B which are spaces on both sides of the electrode arrangement partition wall 17 as a boundary. Thereafter, as described in the first embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by forming the dielectric layer 19 and the phosphor 20.
The plasma display according to the embodiment can be manufactured.
【0062】なお、本実施の形態においては、元基板ガ
ラス12Aをサンドブラストにより切削する前に、銀ペ
ーストの焼成を行うこととしたが、本発明はこれに限定
されるものではなく、銀ペーストの焼成は元基板ガラス
12Aをサンドブラストにより切削した後に行ってもよ
い。この場合には、耐サンドブラスト性を有する銀ペー
ストを用い、焼成前の銀ペーストをマスクとして、元基
板ガラス12Aの切削を行えばよい。なお、耐サンドブ
ラスト性を有する銀ペーストとしては、具体的には、銀
粉末、ガラスフリット、及び耐サンドブラスト性を有す
る樹脂成分からなるものを例示することができる。In the present embodiment, the silver paste is fired before the original substrate glass 12A is cut by sandblasting. However, the present invention is not limited to this. The firing may be performed after the original substrate glass 12A is cut by sandblasting. In this case, the original substrate glass 12A may be cut using a silver paste having sandblast resistance and using the silver paste before firing as a mask. In addition, as a silver paste having sandblast resistance, specifically, a silver paste, a glass frit, and a resin component having sandblast resistance can be exemplified.
【0063】本実施の形態の製造方法によれば、第1〜
第3の実施の形態と同様の効果を得ることができる。す
なわち、本実施の形態の製造方法によれば、隔壁材料を
塗布及び切削する従来の製造方法のように、各隔壁15
及び電極配置用隔壁17を硬化させるための焼成を元基
板ガラス12Aに加える必要がなく、また、隔壁15の
形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極18及び
誘電体層19の形成にスクリーン印刷法が適用可能であ
る。さらに、本実施の形態によれば、フォトレジストの
塗布、露光、現像、除去工程が不要となるので、第1〜
第3の実施の形態に比較して製造工程の短縮化と製造コ
ストの低減を図ることができる。According to the manufacturing method of the present embodiment, first to
The same effect as that of the third embodiment can be obtained. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, each partition 15
It is not necessary to add baking for curing the partition wall 17 for disposing the electrode to the original substrate glass 12A, a baking process is not required for forming the partition wall 15, and screen printing is performed for forming the electrode 18 and the dielectric layer 19. The law is applicable. Further, according to the present embodiment, the steps of coating, exposing, developing, and removing the photoresist are not required, so that
Compared with the third embodiment, the manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.
【0064】以上、第1〜第4の実施の形態の製造方法
では、全隔壁形成工程、電極形成工程、誘電体層形成工
程、蛍光体形成工程を別工程として製造加工を行う場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、これらの工程のうち複数の工程を一括して同時
に行うことも可能である。以下に、第5、第6の実施の
形態において、これらの工程のうち複数の工程を一括し
て同時に行うことを特徴としたその他の製造方法の例に
ついて説明する。As described above, in the manufacturing methods of the first to fourth embodiments, the case where the manufacturing process is performed with the whole partition forming step, the electrode forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step as separate steps has been described. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of steps among these steps can be simultaneously performed simultaneously. Hereinafter, examples of other manufacturing methods in which the fifth and sixth embodiments are characterized in that a plurality of steps among these steps are performed simultaneously and collectively will be described.
【0065】[第5の実施の形態]図18〜図20に基
づいて、上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造する方法を例として、本発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の第5の実施の形態について説明する。
本実施の形態においては、全隔壁形成工程と電極形成工
程とを一括して同時に行うことを特徴としている。な
お、本実施の形態において、誘電体層形成工程と、蛍光
体形成工程、及び基板ガラス12を製造してから第1の
実施の形態のプラズマディスプレイを製造する方法につ
いては第1の実施の形態と同一であるので、説明は省略
する。また、本実施の形態において、第1の実施の形態
と同じ構成要素については同じ参照符号を付し、説明は
省略する。[Fifth Embodiment] A fifth embodiment of the method of manufacturing a plasma display according to the present invention will be described with reference to FIGS. 18 to 20 as an example of the method of manufacturing the plasma display according to the first embodiment. An embodiment will be described.
The present embodiment is characterized in that the entire partition wall forming step and the electrode forming step are performed simultaneously and collectively. Note that, in the present embodiment, the dielectric layer forming step, the phosphor forming step, and the method of manufacturing the substrate glass 12 and then manufacturing the plasma display of the first embodiment are described in the first embodiment. Therefore, the description is omitted. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0066】はじめに、元基板ガラス12Aを洗浄して
乾燥させた後、元基板ガラス12Aの全面に銀ペースト
を塗布し、その後、例えば150℃の加熱条件で10分
間保持して乾燥させ、さらに550℃の加熱条件で10
分間の焼成を加えることで、図18に示すように、元基
板ガラス12Aの全面に電極材18Bを形成する。次い
で、電極材18Bを形成した元基板ガラス12Aの上面
全体に、耐サンドブラスト性を有するドライフィルムレ
ジスト等のシート状のフォトレジストを圧着し、このフ
ォトレジストをマスク等によって露光現像することによ
り、図19に示すように、隔壁15及び電極配置用隔壁
17の位置及び形状に対応させて、所定のパターンのフ
ォトレジスト12Pを形成する。First, after cleaning and drying the original substrate glass 12A, a silver paste is applied to the entire surface of the original substrate glass 12A, and then dried by holding at, for example, a heating condition of 150 ° C. for 10 minutes. 10 ° C under heating condition
By baking for minutes, the electrode material 18B is formed on the entire surface of the original substrate glass 12A, as shown in FIG. Next, a sheet-like photoresist such as a dry film resist having sand blast resistance is pressure-bonded to the entire upper surface of the original substrate glass 12A on which the electrode material 18B is formed, and the photoresist is exposed and developed by using a mask or the like. As shown in FIG. 19, a photoresist 12P having a predetermined pattern is formed in accordance with the positions and shapes of the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17.
【0067】この後、元基板ガラス12A表面及び電極
材18Bのフォトレジスト12Pが形成されていない部
分をサンドブラストにより切削し、その後、フォトレジ
スト12Pを剥離することで、図20に示すように、隔
壁15と電極配置用隔壁17と電極18を一括して形成
することができる。そして、これら隔壁15及び電極配
置用隔壁17間に挟み込まれる空間がそれぞれ分割放電
セル16A,16Bとして形成され、電極配置用隔壁1
7を境とする両側の空間である一対の分割放電セル16
A,16Bで、放電セル16が構成される。この後、第
1の実施の形態で説明したように、誘電体層19、蛍光
体20を形成することにより基板ガラス12が製造さ
れ、さらにこの基板ガラス12から第1の実施の形態の
プラズマディスプレイを製造することができる。Thereafter, the surface of the original substrate glass 12A and the portion of the electrode material 18B where the photoresist 12P is not formed is cut by sandblasting, and then the photoresist 12P is peeled off, as shown in FIG. 15, the electrode arrangement partition wall 17, and the electrode 18 can be formed collectively. Spaces sandwiched between the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 are formed as divided discharge cells 16A and 16B, respectively.
A pair of divided discharge cells 16 which are spaces on both sides of the boundary 7
The discharge cells 16 are constituted by A and 16B. Thereafter, as described in the first embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by forming the dielectric layer 19 and the phosphor 20, and the plasma display of the first embodiment is further manufactured from the substrate glass 12. Can be manufactured.
【0068】本実施の形態の製造方法によれば、第1〜
第4の実施の形態と同様の効果を得ることができる。す
なわち、本実施の形態の製造方法によれば、隔壁材料を
塗布及び切削する従来の製造方法のように、各隔壁15
及び電極配置用隔壁17を硬化させるための焼成を元基
板ガラス12Aに加える必要がなく、また、隔壁15の
形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極18及び
誘電体層19の形成にスクリーン印刷法が適用可能であ
る。さらに、本実施の形態によれば、全隔壁形成工程と
電極形成工程を共通の工程として一括して行うことがで
きるので、第1〜第4の実施の形態のプラズマディスプ
レイの製造方法に比較して、製造工程の短縮化と製造コ
ストの低減を図ることができる。According to the manufacturing method of the present embodiment, first to first
The same effect as in the fourth embodiment can be obtained. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, each partition 15
It is not necessary to add baking for curing the partition wall 17 for disposing the electrode to the original substrate glass 12A, a baking process is not required for forming the partition wall 15, and screen printing is performed for forming the electrode 18 and the dielectric layer 19. The law is applicable. Further, according to the present embodiment, since the entire partition wall forming step and the electrode forming step can be performed collectively as a common step, the present embodiment is compared with the plasma display manufacturing methods of the first to fourth embodiments. Thus, the manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.
【0069】[第6の実施の形態]図21〜図23に基
づいて、上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイ
を製造する方法を例として、本発明のプラズマディスプ
レイの製造方法の第6の実施の形態について説明する。
上記第5の実施の形態の製造方法では、全隔壁形成工程
と電極形成工程とを一括して同時に行う方法を採用した
のに対し、本実施形態では、さらに、全隔壁形成工程と
電極形成工程と誘電体層形成工程とを一括して同時に行
うことを特徴としている。なお、本実施の形態におい
て、蛍光体形成工程、及び基板ガラス12を製造してか
ら第1の実施の形態のプラズマディスプレイを製造する
方法については第1の実施の形態と同一であるので、説
明は省略する。また、本実施の形態において、第1の実
施の形態と同じ構成要素については同じ参照符号を付
し、説明は省略する。[Sixth Embodiment] Referring to FIGS. 21 to 23, an example of the method of manufacturing the plasma display according to the first embodiment will be described. An embodiment will be described.
In the manufacturing method of the fifth embodiment, the method of simultaneously performing the all-partition forming step and the electrode forming step at the same time is employed. In the present embodiment, however, the all-partition forming step and the electrode forming step are further performed. And the step of forming a dielectric layer is performed simultaneously and collectively. In the present embodiment, the phosphor forming step and the method of manufacturing the plasma display of the first embodiment after manufacturing the substrate glass 12 are the same as those of the first embodiment, and therefore will be described. Is omitted. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0070】はじめに、元基板ガラス12Aを洗浄して
乾燥させた後、元基板ガラス12Aの全面に銀ペースト
を塗布し、その後、第5の実施の形態と同様に、乾燥、
焼成することにより、元基板ガラス12Aの全面に電極
材18Bを形成する。次いで、電極材18Bを形成した
元基板ガラス12Aの全面に誘電体ペーストを塗布し、
その後、例えば150℃の加熱条件で10分間保持して
乾燥させ、さらに550℃の加熱条件で10分間の焼成
を加えることで、図21に示すように、元基板ガラス1
2Aの全面に電極材18Bと誘電体19Aを形成する。
なお、電極ペーストを形成した後、乾燥、焼成せずに、
誘電体ペーストを形成し、電極ペーストと誘電体ペース
トとを同時に乾燥、焼成して、図21に示すように、元
基板ガラス12Aの全面に電極材18Bと誘電体19A
を形成してもよい。First, after cleaning and drying the original substrate glass 12A, a silver paste is applied to the entire surface of the original substrate glass 12A, and then dried and dried in the same manner as in the fifth embodiment.
By baking, the electrode material 18B is formed on the entire surface of the original substrate glass 12A. Next, a dielectric paste is applied to the entire surface of the original substrate glass 12A on which the electrode material 18B is formed,
Thereafter, for example, the film is held at a heating condition of 150 ° C. for 10 minutes, dried, and further baked at a heating condition of 550 ° C. for 10 minutes, as shown in FIG.
An electrode material 18B and a dielectric 19A are formed on the entire surface of 2A.
After forming the electrode paste, without drying and firing,
A dielectric paste is formed, and the electrode paste and the dielectric paste are simultaneously dried and fired. As shown in FIG. 21, an electrode material 18B and a dielectric 19A are formed on the entire surface of the original substrate glass 12A.
May be formed.
【0071】次いで、誘電体19Aを形成した元基板ガ
ラス12Aの上面全体に、耐サンドブラスト性を有する
ドライフィルムレジスト等のシート状のフォトレジスト
を圧着し、このフォトレジストをマスク等によって露光
現像することにより、図22に示すように、隔壁15及
び電極配置用隔壁17の位置及び形状に対応させて、所
定のパターンのフォトレジスト12Pを形成する。Next, a sheet-like photoresist such as a dry film resist having sand blast resistance is pressed on the entire upper surface of the original substrate glass 12A on which the dielectric 19A is formed, and the photoresist is exposed and developed using a mask or the like. Thereby, as shown in FIG. 22, a photoresist 12P having a predetermined pattern is formed corresponding to the positions and shapes of the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17.
【0072】この後、元基板ガラス12A表面、電極材
18B、誘電体19Aのフォトレジスト12Pが形成さ
れていない部分をサンドブラストにより切削し、その
後、フォトレジスト12Pを剥離することで、図23に
示すように、隔壁15、電極配置用隔壁17、電極1
8、誘電体層19を一括形成することができる。そし
て、これら隔壁15及び電極配置用隔壁17間に挟み込
まれる空間がそれぞれ分割放電セル16A,16Bとし
て形成され、電極配置用隔壁17を境とする両側の空間
である一対の分割放電セル16A,16Bで、放電セル
16が構成される。この後、第1の実施の形態で説明し
たように、蛍光体20を形成することにより基板ガラス
12が製造され、さらにこの基板ガラス12から第1の
実施の形態のプラズマディスプレイを製造することがで
きる。Thereafter, portions of the surface of the original substrate glass 12A, the electrode material 18B, and the dielectric 19A where the photoresist 12P is not formed are cut by sandblasting, and thereafter, the photoresist 12P is peeled off, as shown in FIG. As described above, the partition 15, the electrode arrangement partition 17, the electrode 1
8. The dielectric layer 19 can be formed at once. Spaces sandwiched between the partition wall 15 and the electrode arrangement partition wall 17 are formed as divided discharge cells 16A and 16B, respectively, and a pair of divided discharge cells 16A and 16B which are spaces on both sides of the electrode arrangement partition wall 17 as boundaries. Thus, the discharge cells 16 are configured. Thereafter, as described in the first embodiment, the substrate glass 12 is manufactured by forming the phosphors 20, and the plasma display of the first embodiment can be manufactured from the substrate glass 12. it can.
【0073】本実施の形態の製造方法によれば、第1〜
第5の実施の形態と同様の効果を得ることができる。す
なわち、本実施の形態の製造方法によれば、隔壁材料を
塗布及び切削する従来の製造方法のように、各隔壁15
及び電極配置用隔壁17を硬化させるための焼成を元基
板ガラス12Aに加える必要がなく、また、隔壁15の
形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極18及び
誘電体層19の形成にスクリーン印刷法が適用可能であ
る。さらに、本実施の形態によれば、全隔壁形成工程と
電極形成工程と誘電体層形成工程を共通の工程として一
括して行うことができるので、第1〜第5の実施の形態
のプラズマディスプレイの製造方法に比較して、製造工
程の短縮化と製造コストの低減を図ることができる。According to the manufacturing method of the present embodiment, first to
The same effect as in the fifth embodiment can be obtained. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, each partition 15
It is not necessary to add baking for curing the partition wall 17 for disposing the electrode to the original substrate glass 12A, a baking process is not required for forming the partition wall 15, and screen printing is performed for forming the electrode 18 and the dielectric layer 19. The law is applicable. Further, according to the present embodiment, since the entire partition wall forming step, the electrode forming step, and the dielectric layer forming step can be collectively performed as a common step, the plasma displays of the first to fifth embodiments can be collectively performed. The manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced as compared with the manufacturing method of (1).
【0074】[第7の実施の形態]次に、本発明のプラ
ズマディスプレイ及びその製造方法の第7の実施の形態
について説明する。なお、図24は、同実施の形態のプ
ラズマディスプレイを示す図であって、その一部を分解
した斜視図である。また、図25は、同プラズマディス
プレイを図24の矢印D方向から見た断面図である。ま
た、図26は、同プラズマディスプレイを図25のE−
E断面から見た断面図である。また、図27〜図35
は、同プラズマディスプレイの製造工程を示す図であっ
て、図24の矢印D方向から見た図に相当する断面図で
ある。[Seventh Embodiment] Next, a description will be given of a seventh embodiment of the plasma display and the method of manufacturing the same according to the present invention. FIG. 24 is a diagram showing the plasma display of the same embodiment, and is a partially exploded perspective view. FIG. 25 is a cross-sectional view of the plasma display viewed from the direction of arrow D in FIG. FIG. 26 shows the plasma display of FIG.
It is sectional drawing seen from E section. 27 to 35
24 is a view showing a manufacturing process of the plasma display, and is a cross-sectional view corresponding to a view seen from the direction of arrow D in FIG. 24.
【0075】本実施の形態のプラズマディスプレイは、
上記第1の実施の形態のプラズマディスプレイに比較し
て、前記基板ガラス11(前面板)は同様の構造である
が、前記基板ガラス12(背面板)の構造が特に異なっ
ているので、以降の説明における前面板としては同じ符
号11を用いた基板ガラス11とし、背面板には新たな
符号32を用いた基板ガラス32として説明を行う。The plasma display of this embodiment is
Compared with the plasma display of the first embodiment, the substrate glass 11 (front plate) has the same structure, but the structure of the substrate glass 12 (back plate) is particularly different. In the description, the front glass will be described as a substrate glass 11 using the same reference numeral 11 and the rear plate will be described as a substrate glass 32 using a new reference numeral 32.
【0076】本実施の形態のプラズマディスプレイは、
図24〜図26に示すように、互いに対向する2枚の基
板ガラス11,32により構成され、この基板ガラス1
1の、基板ガラス32に対向する一面には、MgO等か
らなる保護膜13aを有する透明な誘電体層13で覆わ
れた複数組の電極14が構成されている。また、他方の
基板ガラス32の対向面には、基板ガラス32と一体に
構成された複数の隔壁35によって区画形成された溝状
の放電セル36が複数設けられて、各隔壁35間には、
電極配置用隔壁37がそれぞれ配設されている。さら
に、これら各隔壁35と各電極配置用隔壁37の内、各
電極配置用隔壁37の上端にのみ電極38が設けられる
と共に、この電極38の上端及び各隔壁35上端の両方
に、誘電体層39が設けられた構成となっている。The plasma display of this embodiment is
As shown in FIGS. 24 to 26, the substrate glass 1 is composed of two substrate glasses 11 and 32 facing each other.
On one surface facing the substrate glass 32, a plurality of sets of electrodes 14 covered with a transparent dielectric layer 13 having a protective film 13a made of MgO or the like are formed. In addition, a plurality of groove-shaped discharge cells 36 defined by a plurality of partition walls 35 integrally formed with the substrate glass 32 are provided on the opposite surface of the other substrate glass 32, and between the partition walls 35,
The electrode arrangement partition walls 37 are respectively provided. Further, an electrode 38 is provided only at the upper end of each of the partition walls 37 and each of the electrode arrangement partition walls 37, and a dielectric layer is provided on both the upper end of each of the electrode 38 and each of the partition walls 35. 39 is provided.
【0077】基板ガラス32における上記各構成要素の
配置関係は、以下の通りとなっている。すなわち、各隔
壁35及び各放電セル36及び各電極配置用隔壁37及
び各電極38及び各誘電体層39は、互いに平行をな
し、かつ、前記基板ガラス11側の各電極14に対して
直交する方向に延在形成されている。そして、各電極配
置用隔壁37は、各隔壁35間の溝幅方向の略中央に位
置し、かつ、基板ガラス32と一体に構成されている。
そして、各電極配置用隔壁37の上端には、これに沿っ
た線状の前記電極38が形成され、さらに、これら電極
38上端を覆うように同じく線状の前記各誘電体層39
が形成されている。一方、各隔壁35の上端には、これ
に沿った線状の各誘電体層39が形成されている。The arrangement relationship of each of the above components in the substrate glass 32 is as follows. That is, each partition 35, each discharge cell 36, each electrode arrangement partition 37, each electrode 38, and each dielectric layer 39 are parallel to each other, and are orthogonal to each electrode 14 on the substrate glass 11 side. It extends in the direction. Each of the partition walls 37 for electrode arrangement is located substantially at the center of the partition wall 35 in the groove width direction, and is formed integrally with the substrate glass 32.
On the upper end of each electrode arrangement partition 37, there is formed a linear electrode 38 along the same. Further, each of the linear dielectric layers 39 is formed so as to cover the upper end of the electrode 38.
Are formed. On the other hand, at the upper end of each partition 35, each linear dielectric layer 39 along the same is formed.
【0078】上述したように、本実施の形態では、各隔
壁35と各電極配置用隔壁37の内、各電極配置用隔壁
37の上端にのみ電極38が設けられている。また、各
隔壁35と各電極配置用隔壁37が同一高さに設定され
ており、かつ、各隔壁35上の誘電体層39が、各電極
配置用隔壁37上の誘電体層39よりも電極38の膜厚
だけ厚く形成されている。このような構成を採用するこ
とにより、各隔壁15上の誘電体層39上端と、各電極
配置用隔壁37上の誘電体層39上端が同一高さに設定
されている。そして、このような構成を採用することに
より、基板ガラス11(前面板)に基板ガラス32(背
面板)を貼り合わせた際に、貼り合わせ面に隙間を生じ
ることのないようになっている。As described above, in the present embodiment, the electrode 38 is provided only at the upper end of each of the electrode arrangement partitions 37 among the respective partition walls 35 and each of the electrode arrangement partitions 37. Further, each partition wall 35 and each electrode arrangement partition wall 37 are set at the same height, and the dielectric layer 39 on each partition wall 35 is more electrode than the dielectric layer 39 on each electrode arrangement partition wall 37. It is formed thicker by a thickness of 38. By adopting such a configuration, the upper end of the dielectric layer 39 on each partition 15 and the upper end of the dielectric layer 39 on each electrode arrangement partition 37 are set at the same height. By adopting such a configuration, when the substrate glass 32 (back plate) is bonded to the substrate glass 11 (front plate), no gap is generated in the bonding surface.
【0079】前記各電極配置用隔壁37は、各隔壁35
間に位置する前記各放電セル36を、均等な2つの空間
である分割放電セル36A,36Bに区画している。こ
れら分割放電セル36A,36B(放電セル36)は、
ガス放電を行う空間として用いられ、その底部部分に、
それぞれRGB(赤、緑、青)に対応する蛍光体40が
配置されている。なお、これら蛍光体40は、各隔壁3
5間毎にR(赤),G(緑),B(青)のいずれかに対
応して配置されるが、電極配置用隔壁37を境とする両
側の分割放電セル36A,36B間では、同色の蛍光体
40が配置されるようになっている。Each of the electrode arrangement partition walls 37 is provided with a corresponding one of the partition walls 35.
Each of the discharge cells 36 located therebetween is divided into divided discharge cells 36A and 36B, which are two equal spaces. These divided discharge cells 36A and 36B (discharge cells 36)
It is used as a space for gas discharge, and at the bottom,
Phosphors 40 corresponding to RGB (red, green, blue) are arranged. Note that these phosphors 40 are provided on each partition 3.
Each of the divided discharge cells 36A and 36B on both sides of the partition wall 37 for electrode placement is arranged corresponding to any one of R (red), G (green), and B (blue) every 5 spaces. Phosphors 40 of the same color are arranged.
【0080】以上説明の対向する2枚の基板ガラス1
1,32は、互いに重ね合わされた後、各放電セル36
内部にNe,He等の希ガスを封入した状態で、周囲を
シールガラス等により封着される構成となっている。前
記電極14および電極38は、それぞれ外部に引き出さ
れており、これらに接続された端子に選択的に電圧を印
加することで、選択的に放電セル36内の各電極14,
38間に放電を発生させ、この放電によって放電セル3
6内(分割放電セル36A,36B内)の蛍光体40か
らの励起光を外部に表示するようになっている。The two glass substrates 1 facing each other as described above
1, 32 are superimposed on each other, each discharge cell 36
A structure in which a rare gas such as Ne or He is sealed in the inside and the periphery is sealed with a seal glass or the like. The electrode 14 and the electrode 38 are respectively drawn out to the outside, and by selectively applying a voltage to the terminals connected to the electrodes 14 and 38, the electrodes 14 and 38 in the discharge cell 36 are selectively selected.
38, a discharge is generated between the discharge cells 3.
The excitation light from the phosphors 40 in 6 (in the divided discharge cells 36A and 36B) is externally displayed.
【0081】上記説明のプラズマディスプレイの基板ガ
ラス32は、以下に概略説明する方法によって製造され
る。すなわち、元基板ガラス上面に電極38を形成する
電極形成工程と、各電極38の上端及び、前記元基板ガ
ラス上面の、隔壁35の上端が形成される位置のそれぞ
れに誘電体層39を形成する誘電体層形成工程と、前記
元基板ガラスを切削してこれと一体に隔壁35を形成す
る隔壁形成工程と、同じく元基板ガラスを切削して各隔
壁35間位置に電極配置用隔壁37を元基板ガラスと一
体に形成する電極配置用隔壁形成工程と、各放電セル3
6内(分割放電セル36A,36B内)に蛍光体40を
形成する蛍光体形成工程とを経て製造される。ここで、
前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔壁形成工程とは、
一括して同時に行われるものであり、以下、まとめて全
隔壁形成工程と呼ぶ。The substrate glass 32 of the plasma display described above is manufactured by the method outlined below. That is, an electrode forming step of forming the electrodes 38 on the upper surface of the original substrate glass, and forming the dielectric layers 39 on the upper ends of the respective electrodes 38 and the positions on the upper surface of the original substrate glass where the upper ends of the partition walls 35 are formed. A dielectric layer forming step, a partition wall forming step of cutting the original substrate glass to form the partition wall 35 integrally therewith, and a similar process of cutting the original substrate glass to form the electrode arrangement partition 37 at a position between the partition walls 35. A step of forming a partition for electrode arrangement integrally formed with the substrate glass;
6 (in the divided discharge cells 36A and 36B) and a phosphor forming step of forming the phosphor 40. here,
The partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step,
This is performed collectively and simultaneously, and is hereinafter collectively referred to as an all partition wall forming step.
【0082】上記各工程を詳細に説明すると、まず電極
形成工程では、元基板ガラスを洗浄して乾燥させた後、
図27に示すように、この元基板ガラス32A上面の全
面にCr,Cu,Crの順序で電極シート38Aを圧着
させる。その後、図28に示すように、これから形成す
る電極38の形状及びピッチ間隔に合わせたパターンを
有するエッチングレジスト32Pを電極シート38A上
面に貼り付けてマスキングを施す。このとき、電極配置
用隔壁37の上端のみに電極38を形成するようにエッ
チングレジスト32Pをパターニングする。この後、電
極シート38Aの、エッチングレジスト32Pで覆われ
た部分を残してその他の部分を除去することで、図29
に示すように電極38の形成が完了する。The above steps will be described in detail. First, in the electrode forming step, after cleaning and drying the original substrate glass,
As shown in FIG. 27, an electrode sheet 38A is pressed on the entire surface of the upper surface of the original substrate glass 32A in the order of Cr, Cu, and Cr. Thereafter, as shown in FIG. 28, an etching resist 32P having a pattern corresponding to the shape and the pitch interval of the electrode 38 to be formed is stuck on the upper surface of the electrode sheet 38A to perform masking. At this time, the etching resist 32P is patterned so that the electrode 38 is formed only on the upper end of the electrode arrangement partition 37. Thereafter, by removing the remaining portion of the electrode sheet 38A except for the portion covered with the etching resist 32P, FIG.
The formation of the electrode 38 is completed as shown in FIG.
【0083】次に、前記誘電体層形成工程に移る。この
工程においては、誘電体ペースト(例えば住友金属鉱山
社製の商品名「GLP−86087」等)をスクリーン
印刷法により、この後形成する隔壁35、及び電極配置
用隔壁37の上端の位置及び形状に対応させて印刷す
る。このとき、隔壁35上の誘電体ペーストが電極配置
用隔壁37上のペーストよりも電極38の膜厚だけ厚く
なるように形成する。なお、誘電体ペーストを隔壁35
上と電極配置用隔壁37上とに分けて印刷することによ
り、誘電体ペーストの膜厚を、隔壁35上と電極配置用
隔壁37上とで変えることができる。Next, the process proceeds to the dielectric layer forming step. In this step, the position and shape of the upper end of the partition wall 35 and the electrode-arranging partition wall 37 which are to be subsequently formed by a screen printing method using a dielectric paste (eg, “GLP-86087” manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.). Print according to. At this time, the dielectric paste on the partition wall 35 is formed so as to be thicker than the paste on the electrode arrangement partition wall 37 by the thickness of the electrode 38. Note that the dielectric paste is applied to the partition walls 35.
By printing separately on the upper side and on the electrode arrangement partition 37, the thickness of the dielectric paste can be changed between the partition 35 and the electrode arrangement partition 37.
【0084】なお、電極38の厚みが誘電体層39の厚
みに比較して無視できる程度に薄い場合には、誘電体ペ
ーストを隔壁35上と電極配置用隔壁37上とに分けて
印刷する必要はなく、同時に略同じ膜厚で形成すればよ
い。以上のようにして誘電体ペーストを形成した後、例
えば150℃の加熱条件で10分間保持して乾燥させ、
さらに550℃の加熱条件で10分間の焼成を加えるこ
とで、図30、図31に示すように誘電体層39の形成
が完了する。If the thickness of the electrode 38 is negligibly small compared to the thickness of the dielectric layer 39, it is necessary to print the dielectric paste separately on the partition wall 35 and the electrode arrangement partition wall 37. However, they may be formed at substantially the same thickness at the same time. After forming the dielectric paste as described above, for example, it is dried by holding it at a heating condition of 150 ° C. for 10 minutes,
Further, by baking for 10 minutes under the heating condition of 550 ° C., the formation of the dielectric layer 39 is completed as shown in FIGS.
【0085】次に、前記全隔壁形成工程に移る。この工
程においては、まず、耐サンドブラスト性を有するドラ
イフィルムレジスト等のシート状のフォトレジストを圧
着する(図示せず)。そして、このフォトレジストをマ
スク等によって露光現像することにより、図32に示す
ように、前記各放電セル36の位置及び形状に対応した
所定のパターンのフォトレジスト32Qを形成する。Next, the process proceeds to the all-partitioning-wall forming step. In this step, first, a sheet-shaped photoresist such as a dry film resist having sandblast resistance is pressure-bonded (not shown). The photoresist is exposed and developed using a mask or the like, thereby forming a photoresist 32Q having a predetermined pattern corresponding to the position and shape of each of the discharge cells 36, as shown in FIG.
【0086】この後、元基板ガラス32Aのフォトレジ
スト32Qが形成されていない部分をサンドブラストに
より切削することで、図33に示す状態となる。さらに
この後、フォトレジスト32Qを剥離して乾燥させるこ
とで、図34に示すように、隔壁35及び電極配置用隔
壁37の形成が完了する。そして、これら隔壁35及び
電極配置用隔壁37間に挟み込まれる空間がそれぞれ分
割放電セル36A,36Bとして形成され、電極配置用
隔壁37を境とする両側の空間の一対の分割放電セル3
6A,36Bで、放電セル36が構成される。Thereafter, the portion of the original substrate glass 32A, on which the photoresist 32Q is not formed, is cut by sandblasting to obtain the state shown in FIG. Thereafter, the photoresist 32Q is peeled off and dried to complete the formation of the partition wall 35 and the electrode arrangement partition wall 37, as shown in FIG. Spaces sandwiched between the partition wall 35 and the electrode arrangement partition wall 37 are formed as divided discharge cells 36A and 36B, respectively.
The discharge cells 36 are composed of 6A and 36B.
【0087】上記サンドブラストにおいて、炭酸カルシ
ウム、あるいは、ガラスビーズ等を使用する場合には、
ソーダライムガラス等の材質からなる元基板ガラス32
Aに対して切削力が弱く、切削が充分に行われない恐れ
があるので、充分な切削力を有する炭化ケイ素粉末また
はアルミナを使用することが好ましい。この場合、元基
板ガラス32Aに対する接着力および耐サンドブラスト
性の高さから、ドライフィルムレジストを選択するのが
好ましい。なお、上記全隔壁形成工程では、サンドブラ
スト法によって元基板ガラス32Aと一体になるように
隔壁35及び電極配置用隔壁37を形成するものとした
が、これに限らず、ケミカルエッチング法によって形成
する方法なども採用可能である。In the above sandblasting, when calcium carbonate or glass beads are used,
Original substrate glass 32 made of a material such as soda lime glass
It is preferable to use silicon carbide powder or alumina having a sufficient cutting force because the cutting force is weaker than that of A and cutting may not be performed sufficiently. In this case, it is preferable to select a dry film resist in consideration of the adhesive strength to the original substrate glass 32A and the high sandblast resistance. In the above-mentioned all-partition forming step, the partition 35 and the electrode-arranging partition 37 are formed so as to be integrated with the original substrate glass 32A by a sand blast method. However, the present invention is not limited to this. Etc. can also be adopted.
【0088】次に、前記蛍光体形成工程に移る。この工
程においては、図24に示した赤、緑、青(R,G,
B)に対応して各放電セル36内底部(すなわち各分割
放電セル36A,36B内の各底部)に、スクリーン、
マスク等を利用してそれぞれ赤、緑、青(R,G,B)
に対応した3種類の蛍光体ペーストを選択的に印刷す
る。このとき、各電極配置用隔壁37を境とする両側の
分割放電セル36A,36Bの色が同色となるように蛍
光体ペーストの塗布を行うようにする。Next, the process proceeds to the phosphor forming step. In this step, red, green, and blue (R, G,
B), a screen is provided on the bottom inside each discharge cell 36 (that is, each bottom inside each divided discharge cell 36A, 36B).
Red, green, blue (R, G, B) respectively using a mask
Are selectively printed with three types of phosphor pastes corresponding to. At this time, the phosphor paste is applied such that the colors of the divided discharge cells 36A and 36B on both sides of each electrode arrangement partition 37 become the same.
【0089】なお、蛍光体粉末には、例えば化成オプト
ニクス社製の緑色蛍光体(商品名「P1G1」)、赤色
蛍光体(商品名「KX504A」)、青色蛍光体(商品
名「KX501A」)をそれぞれスクリーン印刷用ビヒ
クル(例えば奥野製薬社製)に適量混合したものを使用
し、スクリーン印刷法により所定のパターンで形成する
ようにする。その後、例えば150℃の加熱条件で10
分間保持して乾燥させ、さらに450℃のピーク加熱条
件で10分間の焼成を加えることで、図35に示すよう
に蛍光体40の形成が完了する。The phosphor powder includes, for example, a green phosphor (trade name “P1G1”), a red phosphor (trade name “KX504A”), and a blue phosphor (trade name “KX501A”) manufactured by Kasei Optonics. Are mixed in an appropriate amount with a vehicle for screen printing (for example, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), and are formed in a predetermined pattern by a screen printing method. Then, for example, under heating conditions of 150 ° C., 10
After drying for about 10 minutes under the peak heating condition of 450 ° C., the formation of the phosphor 40 is completed as shown in FIG.
【0090】以上の各工程を経て製造された基板ガラス
32は、別途製造された前記基板ガラス11との間で、
これらの図示しないターミナル部において電極14と電
極38とをそれぞれ外部に引き出して接続するととも
に、放電セル36内部をNe,He等の希ガスで置換し
て、基板ガラス11,32同士を互いに貼り合わせ、そ
の周囲を図示しないシールガラス等により封着すること
で、図24に示したプラズマディスプレイが完成する。The substrate glass 32 manufactured through the above-described steps is separated from the substrate glass 11 manufactured separately.
In these terminal portions (not shown), the electrode 14 and the electrode 38 are respectively drawn out and connected, and the inside of the discharge cell 36 is replaced with a rare gas such as Ne or He, so that the substrate glasses 11 and 32 are bonded to each other. Then, the plasma display shown in FIG. 24 is completed by sealing the periphery with a sealing glass or the like (not shown).
【0091】本実施の形態のプラズマディスプレイで
は、上記第1の実施の形態と同様に、基板ガラス32に
おいて、各隔壁35が元基板ガラス32Aと一体に構成
され、これら各隔壁35間には、電極配置用隔壁37が
元基板ガラス32Aと一体に形成され、これら電極配置
用隔壁37の各上端に、電極38及び誘電体層39が形
成されている構成を採用した。In the plasma display of the present embodiment, similarly to the first embodiment, in the substrate glass 32, each partition 35 is formed integrally with the original substrate glass 32A. An electrode arrangement partition 37 is formed integrally with the original substrate glass 32A, and an electrode 38 and a dielectric layer 39 are formed on each upper end of the electrode arrangement partition 37.
【0092】また、その製造方法においては、元基板ガ
ラス32Aの上面に電極38を形成する電極形成工程
と、これら電極38の上端及び、元基板ガラス32A上
面の、隔壁35の上端が形成される位置に誘電体層39
を形成する誘電体層形成工程と、元基板ガラス32Aを
切削してこれと一体に隔壁35を形成する隔壁形成工程
と、同じく元基板ガラス32Aを切削して各隔壁35間
位置に電極配置用隔壁37を元基板ガラス32Aと一体
に形成する電極配置用隔壁形成工程と、各放電セル36
内に蛍光体40を形成する蛍光体形成工程と、を有する
方法を採用した。In the manufacturing method, an electrode forming step of forming the electrodes 38 on the upper surface of the original substrate glass 32A, and the upper ends of the electrodes 38 and the upper ends of the partition walls 35 on the upper surface of the original substrate glass 32A are formed. Dielectric layer 39 in place
Forming the dielectric layer, cutting the original substrate glass 32A to form the partition wall 35 integrally therewith, and cutting the original substrate glass 32A to form an electrode at a position between the respective partition walls 35. An electrode arrangement partition wall forming step of forming the partition wall 37 integrally with the original substrate glass 32A;
And a phosphor forming step of forming the phosphor 40 therein.
【0093】したがって、本実施の形態のプラズマディ
スプレイ及びその製造方法によれば、隔壁35及び電極
配置用隔壁37は、元基板ガラス32Aを切削する方法
によって元基板ガラス32A上に一体形成させることが
できるので、前記隔壁材料を塗布及び切削する従来の製
造方法のように、各隔壁35及び電極配置用隔壁37を
硬化させるための焼成を元基板ガラス32Aに加える必
要がない。Therefore, according to the plasma display and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, the partition wall 35 and the electrode arrangement partition wall 37 can be integrally formed on the original substrate glass 32A by a method of cutting the original substrate glass 32A. Since it is possible, unlike the conventional manufacturing method of applying and cutting the partition wall material, it is not necessary to apply baking for hardening the partition walls 35 and the electrode arrangement partition walls 37 to the original substrate glass 32A.
【0094】しかも、各電極38及び誘電体層39は、
従来のように各隔壁35間位置の奥深い底部に配設され
るのではなく、この底部より突出した各電極配置用隔壁
37の上端に配設される構成であるので、スクリーン印
刷法によって電極38や誘電体層39を形成するにあた
り、従来のようにこれらの材料を各隔壁35間の奥深く
まで送り込まなくて済む。したがって、隔壁35の形成
にあたり焼成工程を必要とせず、かつ電極38及び誘電
体層39の形成にスクリーン印刷法を容易に適用するこ
とが可能である。Further, each electrode 38 and the dielectric layer 39 are
Instead of being disposed at the deep bottom of the position between the partitions 35 as in the conventional case, the electrodes 38 are disposed at the upper ends of the electrode placement partitions 37 protruding from the bottom. In forming the dielectric layer 39 and the dielectric layer 39, it is not necessary to feed these materials deep between the partition walls 35 as in the related art. Therefore, a baking process is not required for forming the partition wall 35, and the screen printing method can be easily applied to the formation of the electrode 38 and the dielectric layer 39.
【0095】また、本実施の形態のプラズマディスプレ
イは、基板ガラス32において、各電極配置用隔壁37
上にのみ電極38を設け、各隔壁35上の誘電体層39
が、各電極配置用隔壁37上の誘電体層39よりも電極
38の膜厚だけ厚くなるように、誘電体層39を形成す
ることにより、各隔壁35上の誘電体層39上端と、各
電極配置用隔壁37上の誘電体層39上端とを同一高さ
とする構成を採用した。この構成によれば、各隔壁35
が設けられる側の基板ガラス32である背面板を、他方
の基板ガラス11である前面板に重ねて貼り合わせた際
に、背面板と前面板との貼り合わせ面に隙間が形成され
ることなく容易にシールすることができる。すなわち、
隣接する放電セル36間や、分割放電セル36A,36
B間を容易にシールすることが可能となる。Further, in the plasma display according to the present embodiment, the electrode
The electrode 38 is provided only on the upper surface, and the dielectric layer 39 on each partition 35 is provided.
Is formed by forming the dielectric layer 39 so as to be thicker by the thickness of the electrode 38 than the dielectric layer 39 on each of the electrode arrangement partition walls 37. A configuration was adopted in which the upper end of the dielectric layer 39 on the electrode arrangement partition 37 was flush with the upper end. According to this configuration, each partition 35
When the back plate, which is the substrate glass 32 on the side where is provided, is superimposed on and bonded to the front plate, which is the other substrate glass 11, no gap is formed on the bonding surface between the back plate and the front plate. It can be easily sealed. That is,
Between adjacent discharge cells 36 or divided discharge cells 36A, 36A
B can be easily sealed.
【0096】また、本実施の形態のプラズマディスプレ
イは、基板ガラス32において、各隔壁35と各電極配
置用隔壁37の内、各電極配置用隔壁37の上端にの
み、電極38が設けられている構成を採用した。この構
成によれば、各隔壁35上にはダミーとしての電極を形
成しなくて済むので、電極材料(電極シート)を節約し
て製造コストを低減させることが可能となる。In the plasma display of the present embodiment, the electrodes 38 are provided only on the upper end of each of the partition walls 37 and each of the partition walls 37 in the substrate glass 32. The configuration was adopted. According to this configuration, since it is not necessary to form an electrode as a dummy on each partition 35, it is possible to save the electrode material (electrode sheet) and reduce the manufacturing cost.
【0097】また、本実施の形態のプラズマディスプレ
イの製造方法は、前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔
壁形成工程とを同時に行う方法を採用した。この製造方
法によれば、これら隔壁形成工程と電極配置用隔壁形成
工程とを共通の全隔壁形成工程として行うことができ、
工数を減らして製造コストを削減させることが可能とな
る。さらには、各隔壁35の高さと各電極形成用隔壁3
7の高さとを、同じ高さ寸法に容易に精度良く揃えて形
成させることも可能である。The method of manufacturing a plasma display according to the present embodiment employs a method in which the partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step are performed simultaneously. According to this manufacturing method, the partition wall forming step and the electrode arrangement partition wall forming step can be performed as a common all partition wall forming step,
It is possible to reduce the man-hour and the manufacturing cost. Furthermore, the height of each partition 35 and each electrode forming partition 3
It is also possible to easily and accurately align the height 7 with the same height.
【0098】なお、本実施の形態の製造方法では、電極
形成工程、誘電体層形成工程、全隔壁形成工程、蛍光体
形成工程、の順序で製造加工を行うものとしたが、順番
はこれに限らず、電極形成工程後に誘電体層形成工程を
行うことと、全隔壁形成工程後に蛍光体形成工程を行う
こととが規定されていれば良く、例えば、上記第1の実
施の形態のように、全隔壁形成工程後に電極形成工程、
誘電体層形成工程、蛍光体形成工程、という順序で製造
加工を行っても良い。In the manufacturing method according to the present embodiment, the manufacturing process is performed in the order of the electrode forming step, the dielectric layer forming step, the entire partition wall forming step, and the phosphor forming step. The present invention is not limited to this. It is only necessary to define that the dielectric layer forming step is performed after the electrode forming step and that the phosphor forming step is performed after the entire partition wall forming step. For example, as in the first embodiment, An electrode forming step after the entire partition forming step,
The manufacturing process may be performed in the order of the dielectric layer forming step and the phosphor forming step.
【0099】また、本発明は、全隔壁形成工程、電極形
成工程、誘電体層形成工程、蛍光体形成工程を別工程と
して製造加工を行う場合に限定されるものではなく、第
5、6の実施の形態で説明したように、全隔壁形成工程
と電極形成工程、あるいは全隔壁形成工程と電極形成工
程と誘電体層形成工程を同時に行う方法を採用してもよ
い。Further, the present invention is not limited to the case where the manufacturing process is performed by separately performing the entire partition wall forming step, the electrode forming step, the dielectric layer forming step, and the phosphor forming step. As described in the embodiment, a method of performing the entire partition forming step and the electrode forming step, or the method of performing the entire partition forming step, the electrode forming step, and the dielectric layer forming step at the same time may be employed.
【0100】なお、第1、第7の実施の形態では、各隔
壁上誘電体層上端と、各電極配置用隔壁上の誘電体層上
端とを同一高さとする構成を採用したが、本発明はこれ
に限定されるものではない。各隔壁上の誘電体層上端
と、各電極配置用隔壁上の誘電体層上端とを非同一高さ
としても、各色を表示する放電セル間に放電漏れが生じ
ないように、各放電セルを区画する隔壁上の誘電体層上
端の高さを均一化できる場合には、各隔壁上の誘電体層
上端が、各電極配置用隔壁上の誘電体層上端よりも10
μm〜50μm程度高くなるように、誘電体層を形成す
ることが望ましい。In the first and seventh embodiments, the structure is adopted in which the upper end of the dielectric layer on each partition and the upper end of the dielectric layer on each partition for electrode arrangement are the same height. Is not limited to this. Even if the upper end of the dielectric layer on each partition and the upper end of the dielectric layer on each partition for electrode placement are not at the same height, each discharge cell is formed so that discharge leakage does not occur between discharge cells displaying each color. In the case where the height of the upper end of the dielectric layer on the partitioning partition can be made uniform, the upper end of the dielectric layer on each partition is 10 times higher than the upper end of the dielectric layer on each partition for electrode arrangement.
It is desirable to form the dielectric layer so as to be about 50 μm higher.
【0101】このように、各隔壁上の誘電体層上端を、
各電極配置用隔壁上の誘電体層上端よりも高くすること
により、背面板と前面板とを貼り合わせた際に、背面板
の各電極配置用隔壁上の誘電体層上端と前面板との間に
隙間が形成されるため、各放電セルを構成する2個の分
割放電セルがこの隙間を介して接続される。その結果、
各放電セルを構成する2個の分割放電セルを一緒に放電
させることができ、放電効率を向上できるので、駆動電
圧を低減することができる。なお、第7の実施の形態で
説明したように、誘電体ペーストを隔壁上と電極配置用
隔壁上とに分けて印刷することにより、誘電体層の膜厚
を、隔壁上と電極配置用隔壁上とで変えることができ
る。As described above, the upper end of the dielectric layer on each partition is
By making it higher than the upper end of the dielectric layer on each electrode arrangement partition, when the back plate and the front plate are bonded together, the upper end of the dielectric layer on each electrode arrangement partition of the back plate and the front plate Since a gap is formed between the two cells, two divided discharge cells constituting each discharge cell are connected through the gap. as a result,
Since two divided discharge cells constituting each discharge cell can be discharged together, and the discharge efficiency can be improved, the driving voltage can be reduced. As described in the seventh embodiment, the dielectric paste is divided and printed on the partition and the electrode-arranging partition so that the thickness of the dielectric layer is reduced on the partition and the electrode-arranging partition. Can be changed with above.
【0102】[0102]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイによれば、各隔壁が、これらが設けられる
方の基板ガラスと一体に構成され、これら各隔壁間に
は、電極配置用隔壁が配設され、これら電極配置用隔壁
上端に、電極及び誘電体層が設けられている構成を採用
した。この構成によれば、各隔壁は、基板ガラスを切削
するなどの方法によって基板ガラス上に一体形成させる
ことができるので、隔壁材料を塗布及び切削する従来の
製造方法のように、各隔壁を硬化させるための焼成を基
板ガラスに加える必要がない。As described above, according to the plasma display of the present invention, each partition is formed integrally with the substrate glass on which the partition is provided, and between each partition, the partition for electrode arrangement is provided. A configuration in which an electrode and a dielectric layer are provided on the upper end of the electrode arrangement partition wall is adopted. According to this configuration, since each partition can be integrally formed on the substrate glass by a method such as cutting the substrate glass, each partition is hardened as in the conventional manufacturing method of applying and cutting the material of the partition. There is no need to apply firing to the substrate glass.
【0103】しかも、各電極及び誘電体層は、従来のよ
うに各隔壁間位置の奥深い底部に配設されるのではな
く、この底部より突出した各電極配置用隔壁上端に配設
される構成であるので、スクリーン印刷法によって電極
や誘電体層を設けるにあたり、従来のようにこれらの材
料を各隔壁間の奥深くまで送り込まなくて済む。したが
って、隔壁の形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ
電極及び誘電体層の形成にスクリーン印刷法が適用可能
である。Further, the respective electrodes and the dielectric layer are not provided at the deep bottom between the respective partitions as in the prior art, but are provided at the upper end of each electrode arrangement partition protruding from this bottom. Therefore, when the electrodes and the dielectric layer are provided by the screen printing method, it is not necessary to feed these materials deep between the partition walls as in the related art. Therefore, a baking process is not required for forming the partition, and the screen printing method can be applied to the formation of the electrode and the dielectric layer.
【0104】また、本発明のプラズマディスプレイの製
造方法は、各隔壁が設けられる方の基板ガラス上に各隔
壁を一体に形成する隔壁形成工程と、各隔壁間位置に電
極配置用隔壁を設ける電極配置用隔壁形成工程と、各電
極配置用隔壁上端に電極を設ける電極形成工程と、各電
極上に誘電体層を設ける誘電体層形成工程と、を有する
方法を採用した。The method of manufacturing a plasma display according to the present invention includes a partition wall forming step of integrally forming the partition walls on the substrate glass on which the partition walls are provided, and an electrode for providing a partition for electrode arrangement at a position between the partition walls. A method including an arrangement partition formation step, an electrode formation step of providing an electrode on the upper end of each electrode arrangement partition, and a dielectric layer formation step of providing a dielectric layer on each electrode was employed.
【0105】この製造方法によれば、上記本発明のプラ
ズマディスプレイと同様の効果を得ることができる。す
なわち、各隔壁は、基板ガラスを切削するなどの方法に
よって基板ガラス上に一体形成させることができるの
で、隔壁材料を塗布及び切削する従来の製造方法のよう
に、各隔壁を硬化させるための焼成を基板ガラスに加え
る必要がない。しかも、各電極及び誘電体層は、従来の
ように各隔壁間位置の奥深い底部に配設されるのではな
く、この底部より突出した各電極配置用隔壁上端に配設
される構成であるので、スクリーン印刷法によって電極
や誘電体層を設けるにあたり、従来のようにこれらの材
料を各隔壁間の奥深くまで送り込まなくて済む。したが
って、隔壁の形成にあたり焼成工程を必要とせず、かつ
電極及び誘電体層の形成にスクリーン印刷法が適用可能
である。また、本発明のプラズマディスプレイの製造方
法において、隔壁形成工程、電極配置用隔壁形成工程、
電極形成工程、誘電体層形成工程の内、複数の工程を同
時に行うことより、工数を減らして製造コストを削減さ
せることが可能となる。According to this manufacturing method, the same effects as those of the plasma display of the present invention can be obtained. That is, since each partition can be integrally formed on the substrate glass by a method such as cutting the substrate glass, baking for hardening each partition as in the conventional manufacturing method of applying and cutting the material of the partition. Need not be added to the substrate glass. In addition, since the electrodes and the dielectric layer are not disposed at the deep bottom between the partitions as in the related art, they are disposed at the upper ends of the electrode placement partitions protruding from the bottom. In providing the electrodes and the dielectric layer by the screen printing method, it is not necessary to feed these materials deep between the partition walls as in the related art. Therefore, a baking process is not required for forming the partition, and the screen printing method can be applied to the formation of the electrode and the dielectric layer. In the method of manufacturing a plasma display according to the present invention, a partition wall forming step, a partition wall forming step for electrode arrangement,
By simultaneously performing a plurality of steps of the electrode forming step and the dielectric layer forming step, it is possible to reduce the number of steps and the manufacturing cost.
【図1】 本発明の第1の実施の形態のプラズマディ
スプレイを示す図であって、その一部を分解した斜視図
である。FIG. 1 is a view showing a plasma display according to a first embodiment of the present invention, and is a partially exploded perspective view.
【図2】 同プラズマディスプレイを図1の矢印A方
向から見た断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the plasma display as viewed from the direction of arrow A in FIG.
【図3】 同プラズマディスプレイを図2のB−B断
面から見た断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the plasma display as viewed from a cross section BB of FIG. 2;
【図4】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、始めの工程を示す図であって、図1の矢印A方向か
ら見た図に相当する断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a first step in the method of manufacturing the plasma display and corresponding to a view seen from the direction of arrow A in FIG. 1;
【図5】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図6】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図7】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、図6のC部拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of a portion C of FIG. 6 in the method of manufacturing the plasma display.
【図8】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図9】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a next step in the plasma display manufacturing method.
【図10】 本発明の第2の実施の形態のプラズマディ
スプレイの製造方法において、始めの工程を示す図であ
る。FIG. 10 is a diagram showing a first step in the method for manufacturing a plasma display according to the second embodiment of the present invention.
【図11】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図12】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図13】 本発明の第3の実施の形態のプラズマディ
スプレイの製造方法において、始めの工程を示す図であ
る。FIG. 13 is a diagram illustrating a first step in the method for manufacturing a plasma display according to the third embodiment of the present invention.
【図14】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 14 is a view showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図15】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 15 is a view showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図16】 本発明の第4の実施の形態のプラズマディ
スプレイの製造方法において、始めの工程を示す図であ
る。FIG. 16 is a diagram illustrating a first step in the method for manufacturing a plasma display according to the fourth embodiment of the present invention.
【図17】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 17 is a view showing a next step in the method of manufacturing the plasma display.
【図18】 本発明の第5の実施の形態のプラズマディ
スプレイの製造方法において、始めの工程を示す図であ
る。FIG. 18 is a diagram illustrating a first step in the method for manufacturing a plasma display according to the fifth embodiment of the present invention.
【図19】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図20】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 20 is a diagram showing the next step in the method for manufacturing the plasma display.
【図21】 本発明の第6の実施の形態のプラズマディ
スプレイの製造方法において、始めの工程を示す図であ
る。FIG. 21 is a diagram illustrating a first step in the method of manufacturing a plasma display according to the sixth embodiment of the present invention.
【図22】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a next step in the plasma display manufacturing method.
【図23】 同プラズマディスプレイの製造方法におい
て、次の工程を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing the next step in the plasma display manufacturing method.
【図24】 本発明の第7の実施の形態のプラズマデ
ィスプレイを示す図であって、その一部を分解した斜視
図である。FIG. 24 is a view showing a plasma display according to a seventh embodiment of the present invention, and is a partially exploded perspective view.
【図25】 同プラズマディスプレイを図24の矢印
D方向から見た断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view of the same plasma display as viewed from the direction of arrow D in FIG. 24.
【図26】 同プラズマディスプレイを図25のE−
E断面から見た断面図である。FIG. 26 shows the same plasma display as E- of FIG.
It is sectional drawing seen from E section.
【図27】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、始めの工程を示す図であって、図24の矢印D方
向から見た図に相当する断面図である。FIG. 27 is a view showing the first step in the method of manufacturing the plasma display, and is a cross-sectional view corresponding to the view seen from the direction of arrow D in FIG. 24.
【図28】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 28 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図29】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 29 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図30】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 30 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図31】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、図30のF部拡大図である。FIG. 31 is an enlarged view of a portion F in FIG. 30 in the same method for manufacturing a plasma display.
【図32】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 32 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図33】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 33 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図34】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 34 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図35】 同プラズマディスプレイの製造方法にお
いて、次の工程を示す断面図である。FIG. 35 is a cross-sectional view showing a next step in the manufacturing method of the plasma display.
【図36】 従来のプラズマディスプレイを示す図で
あって、その一部を分解した斜視図である。FIG. 36 is a view showing a conventional plasma display, and is a partially exploded perspective view.
11,12,32・・・基板ガラス 15,35・・・隔壁 16,36・・・放電セル 17,37・・・電極配置用隔壁 18,38・・・電極 19・・・誘電体層 11, 12, 32 ... substrate glass 15, 35 ... partition 16, 36 ... discharge cell 17, 37 ... electrode arrangement partition 18, 38 ... electrode 19 ... dielectric layer
フロントページの続き (72)発明者 呉 済煥 神奈川県横浜市鶴見区菅沢町2−7 株式 会社サムスン横浜研究所電子研究所内 Fターム(参考) 5C027 AA01 AA09 5C040 FA01 FA04 GA03 GB03 GB12 GC12 GC19 GF08 GF19 JA12 JA15 JA17 MA22 MA26 Continuing from the front page (72) Inventor Wu Ji-Hwan 2-7 Sugasawa-cho, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture F-term in Samsung Electronics Research Laboratories Co., Ltd. 5C027 AA01 AA09 5C040 FA01 FA04 GA03 GB03 GB12 GC12 GC19 GF08 GF19 JA12 JA15 JA17 MA22 MA26
Claims (8)
区画形成された放電セルを複数有するプラズマディスプ
レイにおいて、 前記各隔壁は、これらが設けられる方の前記基板ガラス
と一体に構成され、 これら各隔壁間には、電極配置用隔壁が配設され、 これら電極配置用隔壁上端に、電極及び誘電体層が設け
られたことを特徴とするプラズマディスプレイ。1. A plasma display having a plurality of discharge cells defined by a plurality of partitions between opposing substrate glasses, wherein each of the partitions is integrally formed with the substrate glass on which they are provided. A plasma display, comprising a partition for electrode arrangement disposed between partitions, and an electrode and a dielectric layer provided on the upper end of the partition for electrode arrangement.
イにおいて、 さらに、前記各隔壁上端に誘電体層が設けられるととも
に、 前記各隔壁上の前記誘電体層上端と、前記各電極配置用
隔壁上の前記誘電体層上端とが同一高さとされたことを
特徴とするプラズマディスプレイ。2. The plasma display according to claim 1, further comprising: a dielectric layer provided on an upper end of each of the partition walls; an upper end of the dielectric layer on each of the partition walls; A plasma display, wherein the upper end of the dielectric layer is flush with the upper end.
イにおいて、 さらに、前記各隔壁上端に誘電体層が設けられるととも
に、 前記各隔壁上の前記誘電体層上端が、前記各電極配置用
隔壁上の前記誘電体層上端より高くされたことを特徴と
するプラズマディスプレイ。3. The plasma display according to claim 1, further comprising: a dielectric layer provided on an upper end of each of the partition walls; and an upper end of the dielectric layer on each of the partition walls being provided on each of the electrode arrangement partition walls. A plasma display, wherein the height is higher than the upper end of the dielectric layer.
1項に記載のプラズマディスプレイにおいて、 前記各隔壁上端と、前記各電極配置用隔壁上端との両方
に、前記電極が設けられたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ。4. The plasma display according to claim 1, wherein the electrodes are provided on both the upper ends of the partition walls and the upper ends of the partition walls for disposing the electrodes. A plasma display characterized by the following.
1項に記載のプラズマディスプレイにおいて、 前記各隔壁と前記各電極配置用隔壁の内、前記各電極配
置用隔壁上端にのみ、前記電極が設けられたことを特徴
とするプラズマディスプレイ。5. The plasma display according to claim 1, wherein the electrode is provided only at an upper end of each of the electrode arrangement partitions among the partition and the electrode arrangement partitions. A plasma display comprising:
区画形成された放電セルを複数有するプラズマディスプ
レイの製造方法において、 前記各隔壁が設けられる方の前記基板ガラス上に前記各
隔壁を一体に形成する隔壁形成工程と、 前記各隔壁間位置に電極配置用隔壁を設ける電極配置用
隔壁形成工程と、 前記各電極配置用隔壁上端に電極を設ける電極形成工程
と、 前記各電極上に誘電体層を設ける誘電体層形成工程と、
を有することを特徴とするプラズマディスプレイの製造
方法。6. A method of manufacturing a plasma display having a plurality of discharge cells defined by a plurality of partitions between opposed substrate glasses, wherein each of the partitions is integrally formed on the substrate glass on which each of the partitions is provided. A partition forming step of forming; an electrode disposing partition forming step of providing an electrode disposing partition at a position between the respective partitions; an electrode forming step of providing an electrode on an upper end of each electrode disposing partition; and a dielectric material on each of the electrodes. A dielectric layer forming step of providing a layer,
A method for manufacturing a plasma display, comprising:
イの製造方法において、 前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔壁形成工程とを、
同時に行うことを特徴とするプラズマディスプレイの製
造方法。7. The method for manufacturing a plasma display according to claim 6, wherein the step of forming the partition wall and the step of forming the electrode arrangement partition wall are performed.
A method for manufacturing a plasma display, which is performed simultaneously.
の製造方法において、 前記隔壁形成工程と前記電極配置用隔壁形成工程と前記
電極形成工程、若しくは、前記隔壁形成工程と前記電極
配置用隔壁形成工程と前記電極形成工程と前記誘電体層
形成工程を、同時に行うことを特徴とするプラズマディ
スプレイの製造方法。8. The method for manufacturing a plasma display according to claim 7, wherein the partition forming step, the electrode forming partition forming step and the electrode forming step, or the partition forming step and the electrode forming partition forming step. And performing the electrode forming step and the dielectric layer forming step at the same time.
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