JP2001322197A - Polymer resin laminate, manufacturing method therefor and molding made up of polymer resin laminate - Google Patents

Polymer resin laminate, manufacturing method therefor and molding made up of polymer resin laminate

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JP2001322197A
JP2001322197A JP2000334278A JP2000334278A JP2001322197A JP 2001322197 A JP2001322197 A JP 2001322197A JP 2000334278 A JP2000334278 A JP 2000334278A JP 2000334278 A JP2000334278 A JP 2000334278A JP 2001322197 A JP2001322197 A JP 2001322197A
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智 大森
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宏昌 峯松
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer resin laminate with high hardness, formed using a resin molding with a comparatively lower hardness such as a polycarbonate. SOLUTION: This polymer resin laminate is composed of an activated light rays-cured layer (A) having a thickness of 50-300 μm and a pencil hardness of 3 H or more and a hard coat layer (B) which is 1-20 μm thick and shows a haze increase of 10% or less by a taper abrasion test at a 4.9 N load and 1,000 cycles and a pencil hardness of 4 H or more, laminated in that order, on a polymer resin substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、表面の硬度に優
れた高分子樹脂の成形物の積層体、その中でも特に表面
の硬度に優れたポリカーボネート成形物の積層体に関
し、更にはこの積層体を用いた各種の自動車や建築物の
窓材や構造材等に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminate of a molded article of a polymer resin having an excellent surface hardness, and more particularly to a laminate of a polycarbonate molded article having an excellent surface hardness. The present invention relates to window materials and structural materials of various kinds of automobiles and buildings used.

【0002】ただし本願発明の高分子樹脂成形物は、前
記の用途の他に用いることが充分に可能であり、例えば
液晶表示装置(LCD)やプラズマディスプレー、エレ
クトロルミネセンスディスプレー、CRT等の各種の表
示装置の表面保護用フィルム、もしくは各種の携帯情報
端末、タッチパネル入力装置等で用いられる透明タブレ
ットにおける透明電極付きフィルム、ガラス板の飛散防
止用フィルム等の用途で用いられるハードコートフィル
ムとしても好適であり、ポリカーボネートフィルムを始
め、ポリアリレートフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム、ト
リアセチルセルロースフィルムおよび各種のオレフィン
系フィルム等を基板とするハードコートフィルムとして
も好ましく用いることができる。
However, the polymer resin molded article of the present invention can sufficiently be used in addition to the above-mentioned applications, and for example, various kinds of liquid crystal display (LCD), plasma display, electroluminescence display, CRT, etc. It is also suitable as a film for protecting the surface of a display device, or as a hard coat film used in applications such as a film with a transparent electrode in a transparent tablet used in various portable information terminals and touch panel input devices, and a film for preventing scattering of a glass plate. Yes, including polycarbonate film, polyarylate film, polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film, triacetyl cellulose film and various olefin-based films and various olefin-based films and the like are preferably used as a hard coat film. Door can be.

【0003】[0003]

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は透明性に優れ、
軽量で耐衝撃性が高いことから、各種の建築物、自動車
等の窓材や構造材等として、広く応用展開されてきた。
2. Description of the Related Art Polycarbonate resins have excellent transparency,
Because of its light weight and high impact resistance, it has been widely applied and developed as window materials and structural materials for various buildings, automobiles and the like.

【0004】しかしながら、硬度・耐擦傷性・耐侯性・
耐薬品性の観点でガラスに大幅に劣るという欠点があ
る。そのため、ポリカーボネート表面にハードコートを
施す(例えば特開昭48−81928号、特開昭52−
138565号、特開昭53−138476号)ことが
提案されている。
However, hardness, abrasion resistance, weather resistance,
There is a disadvantage that it is significantly inferior to glass from the viewpoint of chemical resistance. Therefore, a hard coat is applied to the polycarbonate surface (for example, JP-A-48-81928 and JP-A-52-81928).
138565, JP-A-53-138476) have been proposed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】これらのハードコート
層としては、珪素アルコキシドの加水分解縮合物もしく
は、それに加えて他種のアルコキシドや各種の超微粒子
等を適当な割合で混合した組成物を熱的に硬化してなる
層や、多官能アクリレートを紫外線や電子線等の活性光
線の照射等によって重合してなる層が多く用いられてい
る。
The hard coat layer is formed of a hydrolyzed condensate of silicon alkoxide or a composition obtained by mixing other types of alkoxides and various ultrafine particles in addition thereto in an appropriate ratio. Layers which are hardened dynamically and layers which are obtained by polymerizing a polyfunctional acrylate by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams are often used.

【0006】このようなハードコート層の硬度は一般的
に非常に高いものになる場合が多く、例えば2mm厚み
の石英板上に5μm程度の厚みで積層して鉛筆硬度を測
定した場合には9H(9Hの鉛筆でも傷が付かない)を
示すことが多い。
In general, the hardness of such a hard coat layer is often very high. For example, when a pencil hardness is measured by laminating a hard coat layer with a thickness of about 5 μm on a quartz plate having a thickness of 2 mm, the hardness is 9H. (Even a 9H pencil does not scratch).

【0007】しかしながらポリカーボネート成形物上に
これらのハードコート層を5μm程度の厚みで積層した
場合には成形物の表面硬度は充分に高いものにはならな
い。
However, when these hard coat layers are laminated with a thickness of about 5 μm on a polycarbonate molded product, the surface hardness of the molded product is not sufficiently high.

【0008】すなわち日本工業規格K5400記載の鉛
筆硬度試験に準拠して測定を行うと、ポリカーボネート
成形物そのものの鉛筆硬度は2BないしB程度である
が、ポリカーボネート成形物の表面に、こうした石英板
上では鉛筆硬度が9Hのハードコート層を積層した場合
でも鉛筆硬度はFないしH程度と充分に高い値を示さな
いことがほとんどである。
That is, when the measurement is carried out in accordance with the pencil hardness test described in Japanese Industrial Standard K5400, the pencil hardness of the polycarbonate molded product itself is about 2B to B, Even when a hard coat layer having a pencil hardness of 9H is laminated, the pencil hardness does not generally show a sufficiently high value of about F to H.

【0009】また高分子樹脂基板の鉛筆硬度が若干高
い、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレン
ナフタレートの成形物(共に鉛筆硬度Hないし2H程
度)である場合にも、こうしたハードコート層の積層後
の鉛筆硬度が3H程度と不十分な場合が多い。
Also, when the polymer resin substrate has a slightly higher pencil hardness, for example, a molded product of polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate (both having a pencil hardness of about H to 2H), the pencil hardness after laminating such a hard coat layer is also considered. Is often insufficient at about 3H.

【0010】このように表面硬度が不十分であること
は、これらの高分子樹脂/ハードコート積層体をより広
い分野で利用していく上での大きな問題となっており、
本願発明はこの問題を解決せんとするものである。
[0010] Such insufficient surface hardness is a major problem in using these polymer resin / hard coat laminates in a wider field.
The present invention is intended to solve this problem.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】すなわち、本願発明は次
の通りである。
That is, the present invention is as follows.

【0012】1. 高分子樹脂基板上に、厚みが50〜
300μmの、鉛筆硬度が3H以上である活性光線硬化
層(A)と、厚みが1〜20μmの、荷重4.9N、1
000サイクルのテーバー摩耗試験におけるヘーズの増
加が10%以下であって、鉛筆硬度が4H以上であるハ
ードコート層(B)とがこの順に積層されてなる高分子
樹脂積層体。
1. On the polymer resin substrate, the thickness is 50 ~
An actinic ray-curable layer (A) having a pencil hardness of 3H or more having a thickness of 300 µm, a load of 4.9 N having a thickness of 1 to 20 µm, and
A polymer resin laminate obtained by laminating a hard coat layer (B) having a haze increase of 10% or less in a Taber abrasion test of 000 cycles and a pencil hardness of 4H or more in this order.

【0013】2. 活性光線硬化層(A)が、ジシクロ
ペンタニルジアクリレートおよび/またはジシクロペン
タニルジメタクリレートが不揮発成分全体の50重量%
以上を占める前駆材料を硬化してなる層であることを特
徴とする上記1に記載の高分子樹脂積層体。
2. When the actinic ray-curable layer (A) contains dicyclopentanyl diacrylate and / or dicyclopentanyl dimethacrylate in an amount of 50% by weight of the total nonvolatile components
2. The polymer resin laminate according to the above item 1, wherein the polymer resin laminate is a layer formed by curing the above-mentioned precursor material.

【0014】3. 活性光線硬化層(A)が、分子内に
3個以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイ
ル基を有する多官能(メタ)アクリレートを不揮発成分
全体の50重量%以下の割合で混合した前駆材料を硬化
してなる層であることを特徴とする上記2に記載の高分
子樹脂積層体。
3. The actinic ray-curable layer (A) cures a precursor material in which a polyfunctional (meth) acrylate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in a molecule is mixed at a ratio of 50% by weight or less of the entire nonvolatile component. 3. The polymer resin laminate according to the above item 2, which is a layer made of

【0015】4. 活性光線硬化層(A)の300〜3
50nmの波長領域における光吸収率が99%以上であ
ることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載の高分
子積層体。
4. 300 to 3 of actinic ray-curable layer (A)
4. The polymer laminate according to any one of the above items 1 to 3, wherein the light absorption in a wavelength region of 50 nm is 99% or more.

【0016】5. 活性光線硬化層(A)の前駆材料の
不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量(重量%)と活性
光線硬化層(A)の膜厚(μm)との積が、30〜30
0重量%・μmの範囲にあること特徴とする上記1〜4
のいずれかに記載の高分子積層体。
5. The product of the addition amount (% by weight) of the ultraviolet absorber in the non-volatile component of the precursor of the actinic ray curable layer (A) and the thickness (μm) of the actinic ray curable layer (A) is 30 to 30.
(1) to (4), wherein the content is in the range of 0% by weight · μm
The polymer laminate according to any one of the above.

【0017】6. 活性光線硬化層(A)に混合する紫
外線吸収剤として、2−(4,6−ジフェニル−1,
3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)
オキシ]−フェノールを主として用いたことを特徴とす
る上記1〜5のいずれかに記載の高分子積層体。
6. As an ultraviolet absorber mixed with the actinic ray-curable layer (A), 2- (4,6-diphenyl-1,2
3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl)
6. The polymer laminate according to any one of the above items 1 to 5, mainly comprising [oxy] -phenol.

【0018】7. ハードコート層(B)が、珪素一原
子に3個のメトキシ基および/またはエトキシ基が結合
した3官能珪素アルコキシドによる加水分解縮合物を5
0重量%以上含有する層であることを特徴とする上記1
〜6のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
[7] The hard coat layer (B) is composed of a trifunctional silicon alkoxide having three methoxy groups and / or ethoxy groups bonded to one silicon atom.
(1) a layer containing 0% by weight or more.
7. The polymer resin laminate according to any one of items 6 to 6.

【0019】8. ハードコート層(B)が、分子内に
3個以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイ
ル基を有する多官能(メタ)アクリレートによる重合体
を50重量%以上含有する層であることを特徴とする上
記1〜7のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
8. (1) The hard coat layer (B) is a layer containing 50% by weight or more of a polyfunctional (meth) acrylate polymer having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in a molecule. 8. The polymer resin laminate according to any one of items 7 to 7.

【0020】9. ハードコート層(B)が、真空成膜
プロセスにより形成された膜厚が1.5〜10μmの層
であることを特徴とする上記1〜8の高分子樹脂積層
体。
9. The polymer resin laminate according to any one of the above 1 to 8, wherein the hard coat layer (B) is a layer formed by a vacuum film forming process and having a thickness of 1.5 to 10 µm.

【0021】10. ハードコート層(B)が、真空蒸
着法により形成された層であることを特徴とする上記1
〜9の高分子樹脂積層体。
10. (1) The hard coat layer (B) is a layer formed by a vacuum evaporation method.
9. The polymer resin laminate according to any one of Items 1 to 9.

【0022】11. ハードコート層(B)が、基板側
から、真空蒸着法により形成された層と、スパッタリン
グ法により形成された膜厚0.02〜0.5μmの層と
を、この順に積層してなる二層からなるハードコート層
であることを特徴とする上記1〜10の高分子樹脂積層
体。
11. A two-layer structure in which a hard coat layer (B) is formed by laminating a layer formed by a vacuum evaporation method and a layer having a thickness of 0.02 to 0.5 μm formed by a sputtering method in this order from the substrate side. The polymer resin laminate according to any one of the above 1 to 10, which is a hard coat layer comprising:

【0023】12. ハードコート層は、酸化珪素を少
なくとも全体の50重量%以上含む層、もしくは各々が
酸化珪素を少なくとも全体の50重量%以上含む層を積
層した二層からなる層である事を特徴とする上記1〜1
1の高分子樹脂積層体。
12. The hard coat layer described above, wherein the hard coat layer is a layer containing at least 50% by weight of silicon oxide or at least 50% by weight of silicon oxide. ~ 1
1. The polymer resin laminate of 1.

【0024】13. 高分子樹脂基板がポリカーボネー
トの成形基板であることを特徴とする上記1〜12の高
分子樹脂積層体。
13. 13. The polymer resin laminate according to any one of the above 1 to 12, wherein the polymer resin substrate is a molded substrate of polycarbonate.

【0025】14. 積層体のヘーズ値が5%以下であ
ることを特徴とする上記1〜13の高分子樹脂積層体。
14. The polymer resin laminate according to any one of the above 1 to 13, wherein the haze value of the laminate is 5% or less.

【0026】15. 高分子樹脂基板上に活性光線硬化
層の前駆材料を塗布した後に、電子線もしくは紫外線の
照射により前駆材料の塗布膜を硬化させて活性光線硬化
層(A)を形成することを特徴とする上記の高分子樹脂
積層体の製造方法。
15. The method according to the above, wherein after coating the precursor of the actinic ray curable layer on the polymer resin substrate, the actinic ray curable layer (A) is formed by curing the coating film of the precursor material by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. The method for producing a polymer resin laminate of the above.

【0027】16. 活性光線硬化層の前駆材料を塗布
した高分子樹脂基板を、50〜130℃の温度に昇温し
た後に、活性光線を照射して高分子基板上に活性光線硬
化層(A)を形成することを特徴とする上記15の高分
子樹脂積層体の製造方法。
16. After raising the temperature of the polymer resin substrate coated with the precursor of the actinic ray curable layer to a temperature of 50 to 130 ° C., irradiating with actinic light to form the actinic ray curable layer (A) on the polymer substrate. 15. The method for producing a polymer resin laminate according to the above 15, wherein

【0028】17. 樹脂の上に、請求項1〜16のい
ずれかの高分子樹脂積層体を、ハードコート層(B)の
上面を外側にして積層してなる成形物。
17. A molded product obtained by laminating the polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 16 on a resin with the upper surface of the hard coat layer (B) facing outward.

【0029】18. 成形物が、上記1〜17の高分子
樹脂積層体であることを特徴とする成形物。
18. A molded article comprising the polymer resin laminate of any one of the above 1 to 17.

【0030】19. 成形物が自動車窓もしくは建材用
窓であることを特徴とする上記17または18の成形
物。
19. 19. The molded article according to the above item 17 or 18, wherein the molded article is an automobile window or a window for building materials.

【0031】ここで、高分子樹脂基板上に活性硬化層
(A)とハードコート層(B)がこの順に積層されてい
るとは、高分子樹脂基板、活性光線硬化層、ハードコー
ト層の順に積層されていることを意味し、ハードコート
層(B)の上面とは活性光線硬化層(A)と対峙しない
側の面を意味する。
Here, that the active cured layer (A) and the hard coat layer (B) are laminated on the polymer resin substrate in this order means that the polymer resin substrate, the active light cured layer and the hard coat layer are arranged in this order. The upper surface of the hard coat layer (B) means that the surface is not opposed to the actinic ray curable layer (A).

【0032】なお、上記の「高分子樹脂基板、活性光線
硬化層、ハードコート層の順に」とは、高分子樹脂基
板、活性光線硬化層、ハードコート層のそれぞれの間に
別の層、例えばプライマー層を含む場合も含むものであ
る。
The above-mentioned “in order of the polymer resin substrate, the actinic ray cured layer, and the hard coat layer” means that another layer, for example, between the polymer resin substrate, the actinic ray cured layer, and the hard coat layer, for example, This includes the case where a primer layer is included.

【0033】また、活性光線硬化層(A)およびハード
コート層(B)の鉛筆硬度は、活性光線硬化層もしくは
ハードコート層を2mm厚みの石英板上にそれぞれ50
〜300μm、1〜20μmの膜厚で積層硬化した後、
それらの層の表面について測定したものである。上記膜
厚範囲内であれば得られるデータに差異はない。
The pencil hardness of the actinic ray-curable layer (A) and the hard coat layer (B) was determined by setting the actinic ray-curable layer or the hard coat layer on a quartz plate having a thickness of 2 mm.
~ 300μm, after lamination and curing with a film thickness of 1-20μm,
It was measured on the surface of those layers. There is no difference in the data obtained within the above film thickness range.

【0034】また、ハードコート層(B)の、荷重4.
9N、1000サイクルのテーバー摩耗性は、ハードコ
ート層を1mm厚のポリカーボネート板(例えば帝人化
成株式会社製「パンライトPC−1151」)上に1〜
20μmの膜厚で積層した後、この層の表面について測
定したものである。上記膜厚範囲内であれば得られるデ
ータに差異はない。
The load of the hard coat layer (B) is 4.
9N, Taber abrasion of 1000 cycles, the hard coat layer is 1 to 1 mm thick on a polycarbonate plate (for example, "Panlite PC-1151" manufactured by Teijin Chemicals Ltd.)
After laminating to a thickness of 20 μm, the surface of this layer was measured. There is no difference in the data obtained within the above film thickness range.

【0035】なお、これらの測定を行う際、活性光線硬
化層と石英板との間、ハードコート層と石英板との間、
ハードコート層とポリカーボネート板との間の密着性は
良好であることが好ましく、少なくとも日本工業規格K
5400記載の碁盤目テープ法試験で100/100で
あることが好ましい。
In performing these measurements, the distance between the actinic ray-curable layer and the quartz plate, the distance between the hard coat layer and the quartz plate,
It is preferable that the adhesion between the hard coat layer and the polycarbonate plate is good.
It is preferably 100/100 in the cross-cut tape test described in 5400.

【0036】このため、プライマー層を活性光線硬化層
と石英板との間、ハードコート層と石英板との間、ハー
ドコート層とポリカーボネート板との間に挟持して設け
ることが好ましい。これらのプライマー層としては、例
えばポリメチルメタクリレートや、メチルメタクリレー
トと2−ヒドロキシエチルメタクリレートとの共重合
物、メチルメタクリレートとγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシランとの共重合物による層等が好まし
く例示される。
For this reason, it is preferable that the primer layer is provided between the actinic ray cured layer and the quartz plate, between the hard coat layer and the quartz plate, and between the hard coat layer and the polycarbonate plate. Preferred examples of the primer layer include polymethyl methacrylate, a layer of a copolymer of methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate, and a layer of a copolymer of methyl methacrylate and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. You.

【0037】なお、このプライマー層の厚みは鉛筆硬度
の測定結果への影響を防ぐ観点から1〜3μmの範囲と
することが好ましい。
The thickness of the primer layer is preferably in the range of 1 to 3 μm from the viewpoint of preventing the influence of the pencil hardness on the measurement result.

【0038】また、「可視波長域」とは400〜750
nmの波長域のことを意味する。
The "visible wavelength range" is 400 to 750.
It means the wavelength range of nm.

【0039】本願発明者らは、高分子樹脂基板上に50
μm以上の厚みの、鉛筆硬度が3H以上である活性光線
硬化層、特にジシクロペンタニルジアクリレート(以下
DCPAと記す)および/またはジシクロペンタニルジ
メタアクリレート(以下DCPと記す)を主成分とする
活性光線硬化層を介してハードコート層を積層すること
によって、ハードコート層を積層した後の積層体の鉛筆
硬度について4H以上の高い値を得ることができること
を見い出した。
The inventors of the present application have shown that 50
An actinic ray-curable layer having a thickness of not less than μm and a pencil hardness of not less than 3H, particularly a dicyclopentanyl diacrylate (hereinafter referred to as DCPA) and / or dicyclopentanyl dimethacrylate (hereinafter referred to as DCP) as a main component It has been found that by laminating a hard coat layer via an actinic ray curable layer, a high value of 4H or more can be obtained for the pencil hardness of the laminate after laminating the hard coat layer.

【0040】本願発明者らは上記の理由について知見を
得るため、このような積層体表面を鉛筆の芯先により押
し込んだ場合を模したコンピューターシミュレーション
(有限要素法解析)を行った。
The inventors of the present application conducted computer simulation (finite element method analysis) to simulate the case where the surface of such a laminate was pushed in with a pencil tip in order to gain knowledge of the above reasons.

【0041】その結果、高分子樹脂基板上に剛性の高い
層(以下剛性層と記す)を積層する場合、剛性層を積層
した積層体の表面硬度は、剛性層の厚みによって大きく
変化していくことがわかった。
As a result, when a layer having high rigidity (hereinafter, referred to as a rigid layer) is laminated on a polymer resin substrate, the surface hardness of the laminate in which the rigid layers are laminated changes greatly depending on the thickness of the rigid layer. I understand.

【0042】シミュレーションでは、このような積層体
を下地層(高分子樹脂基板の部分に相当)と剛性層(活
性光線硬化層に相当)とが積層された半径2mm、厚み
2mmの円柱として考え、円柱の上面の円の中心に、
9.8Nの荷重をかけた円柱状圧子(円の面積0.1m
2。これは鉛筆押し込み時の接触面積にほぼ等しい)
を接触させて、積層体表面を押し込むといった条件を設
定した。
In the simulation, such a laminate is considered as a cylinder having a radius of 2 mm and a thickness of 2 mm in which an underlayer (corresponding to a portion of a polymer resin substrate) and a rigid layer (corresponding to an actinic ray cured layer) are laminated. In the center of the circle on the top of the cylinder,
Cylindrical indenter with a load of 9.8 N (circle area 0.1 m)
m 2 . (This is almost equal to the contact area when pushing in the pencil.)
, And the conditions such as pushing in the surface of the laminate were set.

【0043】下地層の弾性率を2.3GPa、ポアソン
比を0.3(この値はポリカーボネートの成形物の一般
的な値である)、剛性層の弾性率を6.9および23G
Paおよび、ポアソン比を0.3として、剛性層の積層
厚みを変化させた場合の積層体表面の押し込み深さの大
きさの変化を纏めたものが図1である。
The elastic modulus of the underlayer is 2.3 GPa, the Poisson's ratio is 0.3 (this value is a general value of a molded product of polycarbonate), and the elastic modulus of the rigid layer is 6.9 and 23 G.
FIG. 1 summarizes changes in the depth of the indentation depth on the surface of the laminate when Pa and the Poisson's ratio are 0.3 and the thickness of the rigid layer is varied.

【0044】この結果を観ると、剛性層の厚みが増加し
ていくと徐々に積層体表面の押し込み深さが減少してい
くことがわかり、おそらくこのことが実際の実験結果に
おける鉛筆硬度の向上と対応すると考えられる。
From the results, it can be seen that as the thickness of the rigid layer increases, the indentation depth on the surface of the laminate gradually decreases. This is probably due to the improvement in pencil hardness in the actual experimental results. It is thought to correspond.

【0045】すなわち鉛筆は芯の等級(HB、F、H
等)に応じた脆性破壊強度を有しており、鉛筆硬度試験
はこの脆性破壊強度にほぼ等しい圧力でサンプルの表面
を押し込む試験であると考えられる。一般にサンプルは
ある一定以上の大きさの押し込み変形を受けると塑性変
形を生じ、塑性変形の大きさが肉眼で確認される大きさ
になると、傷が発生したと認識されるようになる。
That is, the pencil has a core grade (HB, F, H
Etc.), and the pencil hardness test is considered to be a test in which the surface of the sample is pressed with a pressure substantially equal to the brittle fracture strength. Generally, a sample undergoes plastic deformation when subjected to indentation deformation of a certain size or more, and when the size of the plastic deformation becomes a size that can be confirmed with the naked eye, it is recognized that a scratch has occurred.

【0046】このように傷が発生する押し込み圧力の閾
値が存在することを念頭におくと、前記のシミュレーシ
ョン結果に観られた押し込み深さの減少は、傷が発生す
るために必要な押し込み圧力の増加、すなわち傷が発生
するために、より脆性破壊強度の大きい鉛筆による押し
込みが必要になるということ、すなわち鉛筆硬度の向上
と対応関係にあると考えられる。
By keeping in mind that there is a threshold value of the indentation pressure at which the flaw is generated, the decrease in the indentation depth observed in the above simulation result is due to the indentation pressure required for the flaw to be generated. It is considered that the increase, that is, the occurrence of scratches, requires the indentation with a pencil having a higher brittle fracture strength, that is, a correspondence with the improvement of the pencil hardness.

【0047】実際の実験結果はこのシミュレーションに
よく合致し、充分な鉛筆硬度の向上効果を得るためには
活性光線硬化層はある程度以上の厚みを有している必要
があり、少なくとも50μm以上が必要であることが分
かった。より好ましくは70μm以上である。なお、3
00μmを超える厚みでは層の密着性が低下し、経済性
に劣る場合が多いのであまり好ましくない。
The actual experimental results agree well with this simulation, and in order to obtain a sufficient effect of improving pencil hardness, the actinic ray-curable layer needs to have a certain thickness or more, and at least 50 μm or more. It turned out to be. More preferably, it is 70 μm or more. In addition, 3
A thickness exceeding 00 μm is not preferred because the adhesion of the layer is reduced and the economy is often inferior.

【0048】活性光線硬化層は、層自身が単独で少なく
とも3H以上の鉛筆硬度を有する層であることが重要で
あり、かつ前記厚み範囲に形成した場合にクラックや密
着性の低下を生じないために硬化収縮が小さい材料によ
る硬化層であることが好ましい。
It is important that the actinic ray-curable layer itself is a layer having a pencil hardness of at least 3H by itself and, when formed in the above-mentioned thickness range, does not cause cracks or decrease in adhesion. It is preferable that the cured layer is made of a material having a small curing shrinkage.

【0049】硬化収縮が小さく、硬化後の硬度が高い材
料として、特に前記のDCPAおよびDCPが好ましく
挙げられる。これらの層は高分子樹脂基板上に50μm
以上の厚みに形成した場合でもクラックや密着性の不良
を生じず、3H以上の鉛筆硬度を得ることができる。
As the material having a small curing shrinkage and a high hardness after curing, the above-mentioned DCPA and DCP are particularly preferred. These layers are 50 μm thick on a polymer resin substrate.
Even when it is formed in the above thickness, cracks and poor adhesion do not occur, and a pencil hardness of 3H or more can be obtained.

【0050】更に高分子樹脂フィルムを基板としてDC
PAおよび/またはDCPの硬化層を積層した積層体
は、積層体の屈曲性が優れるといった特徴を有してい
る。すなわち硬化層を外側にして積層体を屈曲(外曲
げ)した場合に、硬化層にクラックを生じることなくよ
り小さな曲率半径で曲げることができるといった特徴を
有しており、このような特徴は、高分子樹脂フィルム基
板を連続走行させながら硬化層をコーティング形成し、
ロール状に巻き取る場合において、非常に有用である。
Further, using a polymer resin film as a substrate,
The laminate in which the cured layers of PA and / or DCP are laminated has a feature that the flexibility of the laminate is excellent. That is, when the laminate is bent (outwardly bent) with the hardened layer on the outside, the hardened layer can be bent with a smaller radius of curvature without causing cracks in the hardened layer. While the polymer resin film substrate is running continuously, the cured layer is formed by coating,
It is very useful when winding in a roll.

【0051】DCPAおよび/またはDCPを主成分と
し、他の成分(以下副成分とも言う)を混合した材料を
用いる場合には、前記の特徴を維持する観点から、材料
の不揮発成分の全体の少なくとも50重量%以上、より
好ましくは70重量%以上をDCPAおよび/またはD
CPが占めていることが好ましい。
When a material containing DCPA and / or DCP as a main component and other components (hereinafter also referred to as subcomponents) is used, from the viewpoint of maintaining the above characteristics, at least the entire non-volatile component of the material is used. 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more of DCPA and / or D
Preferably, the CP occupies.

【0052】副成分としては、DCPA、DCP以外の
各種(メタ)アクリレートや、ビニル基やアリル基を有
する化合物、珪素アルコキシドを始めとする各種のアル
コキシド成分、平均粒径(直径)が3〜30nmの超微
粒子、光重合開始剤等の硬化剤もしくは硬化触媒、光重
合開始助剤(増感剤)、レベリング剤、光吸収剤、光安
定剤(酸化防止剤)、消泡剤、増粘剤等が必要に応じて
混合される。
As subcomponents, various (meth) acrylates other than DCPA and DCP, compounds having a vinyl group and an allyl group, various alkoxide components including silicon alkoxide, and an average particle diameter (diameter) of 3 to 30 nm Ultra fine particles, curing agent or curing catalyst such as photopolymerization initiator, photopolymerization initiation auxiliary agent (sensitizer), leveling agent, light absorber, light stabilizer (antioxidant), defoamer, thickener Etc. are mixed as necessary.

【0053】これらの副成分は活性光線硬化層の更なる
硬度の上昇や、基材およびハードコート層との密着性の
向上、耐候性の向上、表面性の改善等の各種の機能を付
与する目的で混合される。
These subcomponents impart various functions such as a further increase in hardness of the actinic ray-curable layer, an improvement in adhesion to a substrate and a hard coat layer, an improvement in weather resistance, and an improvement in surface properties. Mixed for purpose.

【0054】副成分としてDCPA、DCP以外の(メ
タ)アクリレートを混合する場合、これらの成分が活性
光線硬化層(A)の不揮発成分全体の50重量%以下、
より好ましくは30重量%以下の割合となるように、
(前駆材料を)混合する事が好ましい。
When DCPA and (meth) acrylates other than DCP are mixed as sub-components, these components are used in an amount of 50% by weight or less based on the total nonvolatile components of the actinic ray-curable layer (A).
More preferably, the ratio is 30% by weight or less,
It is preferable to mix (precursor materials).

【0055】50重量%を超えると主成分DCPAおよ
びまたはDCPによる硬化層の特徴である低硬化収縮
性、高硬度の性質のいずれかが失われていく場合が多
く、好ましくない。
If the content exceeds 50% by weight, one of the characteristics of the cured layer formed of the main component DCPA and / or DCP, which is one of the characteristics of low curing shrinkage and high hardness, is often lost.

【0056】前記の副成分として混合可能な(メタ)ア
クリレートについては特に大きな限定はないが、例えば
ポリオールポリ(メタ)アクリレート、変性ポリオール
(メタ)アクリレート、ポリエステルアクリレート、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミン
アクリレート等のポリ(メタ)アクリレートや、モノ
(メタ)アクリレート等が挙げられる。
There is no particular limitation on the (meth) acrylate which can be mixed as the above-mentioned auxiliary component. Examples thereof include polyol poly (meth) acrylate, modified polyol (meth) acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and melamine acrylate. And poly (meth) acrylates and mono (meth) acrylates.

【0057】具体的には例えば、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレー
ト、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレー
ト、エトキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、イソシアヌール環を含む多官能アク
リレート(官能基数4〜15程度)、アクリロイルモル
フォリン、イソボルニル(メタ)アクリレート等が好適
に挙げられる。
Specifically, for example, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane PO-modified triacrylate, trimethylolpropane EO-modified triacrylate Acrylate, ethoxylated pentaerythritol triacrylate, propoxylated pentaerythritol triacrylate, dimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyfunctional acrylate containing isocyanuric ring (functional group About 4 to 15), acryloyl morpholine, isobornyl ( Data) acrylate can be preferably used.

【0058】またこれらのうちでも特に分子内に3個以
上のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基を
有する多官能(メタ)アクリレートは、適当な割合で混
合した場合に活性光線硬化層の硬度を更に高める機能を
果たす。
Of these, polyfunctional (meth) acrylates having at least three acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule, when mixed in an appropriate ratio, further increase the hardness of the actinic ray-curable layer. Perform the function.

【0059】また前記に例示したイソボルニル(メタ)
アクリレートは、高分子樹脂基板との密着性があまり良
くないので高い割合での混合は難しいが、硬化収縮率が
非常に低いという特徴を有するので、主に硬化層の内部
応力を低減する目的のために必要に応じて適量好ましく
混合される。
The isobornyl (meth) exemplified above
Acrylates are difficult to mix at a high rate because they have poor adhesion to the polymer resin substrate, but have the characteristic of extremely low cure shrinkage, so they are mainly used to reduce the internal stress of the cured layer. For this purpose, an appropriate amount is preferably mixed as necessary.

【0060】なお、前記のビニル基もしくはアリル基を
有する化合物は、特に活性光線硬化層を電子線照射によ
って硬化させる場合に好適に用いられる。これらの例と
しては、例えばジエチレングリコールアリルカーボネー
ト等が好ましく挙げられる。
The above-mentioned compound having a vinyl group or an allyl group is preferably used particularly when the actinic ray-curable layer is cured by electron beam irradiation. Preferred examples thereof include, for example, diethylene glycol allyl carbonate.

【0061】また各種のアルコキシド成分(珪素、ジル
コニウム、チタン、ボロン等)を副成分として混合する
場合には、特に分子内にアクリロイル基、メタクリロイ
ル基、アリル基、ビニル基が結合されたアルコキシドが
特に好ましく用いられる。これらの例としては、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキ
シプロピルメチルジメトキシシラン等が好ましく挙げら
れる。
When various alkoxide components (silicon, zirconium, titanium, boron, etc.) are mixed as subcomponents, alkoxides having an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group or a vinyl group bonded in the molecule are particularly preferable. It is preferably used. Examples of these include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-
Preferred examples include methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and the like.

【0062】また層の硬度を更に高める目的で、平均粒
径が3〜30nmの超微粒子を副成分として混合するこ
とも好ましく行われる。このような超微粒子としては例
えば酸化珪素、酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化セリウ
ム、酸化錫等の無機酸化物による超微粒子や、メチルメ
タクリレートやジビニルベンゼンを酸やイミドにより架
橋した有機架橋微粒子による超微粒子等が好適である。
For the purpose of further increasing the hardness of the layer, it is also preferable to mix ultrafine particles having an average particle diameter of 3 to 30 nm as subcomponents. Such ultrafine particles include, for example, silicon oxide, aluminum oxide, aluminum chloride,
Ultrafine particles made of inorganic oxides such as titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and tin oxide, and ultrafine particles made of organic crosslinked fine particles obtained by crosslinking methyl methacrylate or divinylbenzene with an acid or imide are preferable.

【0063】活性光線硬化層は、前記の材料を必要に応
じて各種の溶剤で希釈した後に基板上にコーティング
し、電子線、紫外線(可視光を含んでいても良い)等の
活性光線を照射することによって材料の硬化を進行さ
せ、形成することができる。
The actinic ray-curable layer is prepared by diluting the above-mentioned material with various solvents as required, coating the material on a substrate, and irradiating actinic rays such as electron beams and ultraviolet rays (which may contain visible light). By doing so, the material can be cured and formed.

【0064】ここで電子線硬化法は一般に電子の加速電
圧と硬化層の密度とによって浸入深さが決まり、硬化層
自身の光吸収(主に紫外域)の影響を受けない特徴を有
しているので、本願発明のように活性光線硬化層の厚み
が50μm以上と厚い場合に有効な硬化方法である。
Here, the electron beam curing method generally has a feature that the penetration depth is determined by the electron acceleration voltage and the density of the cured layer, and is not affected by the light absorption (mainly in the ultraviolet region) of the cured layer itself. This is an effective curing method when the thickness of the actinic ray curable layer is as thick as 50 μm or more as in the present invention.

【0065】また、電子線硬化法は紫外線の吸収波長領
域を利用しないため、高分子樹脂積層体の耐候性(例え
ば紫外線老化性)を向上させる目的で硬化層内に紫外線
吸収剤を混合する場合等に特に有効な硬化方法となる。
Further, since the electron beam curing method does not use the ultraviolet absorption wavelength region, an ultraviolet absorber is mixed in the cured layer for the purpose of improving the weather resistance (for example, ultraviolet aging) of the polymer resin laminate. This is a particularly effective curing method.

【0066】紫外線硬化を行う場合には、光重合開始剤
を副成分として適量添加することが好ましく、また硬化
反応の効率を向上する目的で各種の増感剤も必要に応じ
て適量添加される。
In the case of ultraviolet curing, it is preferable to add an appropriate amount of a photopolymerization initiator as an auxiliary component, and various sensitizers are also added in an appropriate amount as needed for the purpose of improving the efficiency of the curing reaction. .

【0067】また電子線硬化、紫外線硬化のいずれの方
法においても、酸素による硬化障害を抑制する目的で、
周囲雰囲気の酸素を窒素等の不活性気体で置換すること
も必要に応じて行われる。
In any of the electron beam curing method and the ultraviolet curing method, the purpose is to suppress curing failure due to oxygen.
Replacing oxygen in the surrounding atmosphere with an inert gas such as nitrogen is also performed as necessary.

【0068】光重合開始剤としては、例えばジエトキシ
アセトフェノン、2−メチル−1−{4−(メチルチ
オ)フェニル}−2−モルフォリノプロパン、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンジルジメチ
ルケタール等のベンゾイン系化合物;ベンゾフェノン、
ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物;チオ
キサンソン、2、4−ジクロロチオキサンソン等のチオ
キサンソン系化合物等が挙げられる。またこれらの骨格
にアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニ
ル基を付与した共重合性の光重合開始剤も好ましく用い
られ、例えばα−アリルベンゾイン、α−アリルベンゾ
インアリールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン等が
例示される。
Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropane and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1 Acetophenone compounds such as -one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; benzoin compounds such as benzoin and benzyldimethylketal; benzophenone;
Benzophenone compounds such as benzoylbenzoic acid; and thioxanthone compounds such as thioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone. Further, a copolymerizable photopolymerization initiator having an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group, or a vinyl group added to these skeletons is also preferably used.Examples thereof include α-allylbenzoin, α-allylbenzoin aryl ether, and acrylated benzophenone. Is exemplified.

【0069】光重合開始剤の添加量は、活性光線硬化層
の前駆材料の不揮発成分全体の0.1〜10重量%であ
ることが好ましい。ここで紫外線照射時に周囲雰囲気の
酸素を置換しない場合には1〜10重量%、不活性気体
による置換を行う場合には0.1〜3重量%の添加量が
好ましい。
The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 10% by weight based on the entire nonvolatile components of the precursor of the actinic ray-curable layer. Here, the amount of addition is preferably 1 to 10% by weight when oxygen in the surrounding atmosphere is not replaced at the time of ultraviolet irradiation, and 0.1 to 3% by weight when replacement with an inert gas is performed.

【0070】また紫外線吸収剤を副成分として添加する
場合、少なくとも300〜350nmの波長範囲の波長
領域に大きな吸収を有する紫外線吸収剤が好ましく用い
られ、その中でも分子内にベンゾトリアゾール骨格やト
リアジン骨格等を含む化合物が特に好ましい。
When an ultraviolet absorber is added as an auxiliary component, an ultraviolet absorber having a large absorption in a wavelength region of at least 300 to 350 nm is preferably used, and among them, a benzotriazole skeleton, a triazine skeleton, etc. Compounds containing are particularly preferred.

【0071】これらの例としては、例えば、2−(2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール、
2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6
−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノー
ル、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4,6−ジ−
tert−ブチルフェノール、2−[5−クロロ(2
H)−ベンゾトリアゾール−2−イル]−4−メチル−
6−(tert−ブチル)フェノール、2,4−ジ−t
ert−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール
−2−イル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ペンチルフ
ェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フ
ェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−
フェノール、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデ
シルオキシプロピル)オキシ]−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン等が好
ましく挙げられる。
Examples of these are, for example, 2- (2H
-Benzotriazol-2-yl) -p-cresol,
2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6
-Bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-
tert-butylphenol, 2- [5-chloro (2
H) -Benzotriazol-2-yl] -4-methyl-
6- (tert-butyl) phenol, 2,4-di-t
tert-butyl-6- (5-chlorobenzotriazol-2-yl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- (2H-benzotriazole -2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl ) Oxy]-
Phenol, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -4,6-bis (2,4
-Dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and the like.

【0072】尚、これらの中でも特にトリアジン系の紫
外線吸収剤である2−(4,6−ジフェニル−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキ
シ]−フェノールは、化学的分解を受けにくく、活性光
線硬化層内で安定に存在し続けるので非常に好ましく用
いられる。またこの紫外線吸収剤を用いた場合には、活
性光線硬化層を紫外線の照射により硬化させる場合(光
重合開始剤を共存させる場合が多い)にも、硬化阻害が
少なく、層を良好に硬化させる事ができる。
Among these, 2- (4,6-diphenyl-1,3,3), which is a triazine-based ultraviolet absorber, is particularly preferred.
5-Triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol is very preferably used because it is less susceptible to chemical decomposition and remains stable in the actinic radiation-cured layer. When this ultraviolet absorber is used, even when the actinic ray-curable layer is cured by irradiation of ultraviolet rays (in many cases, a photopolymerization initiator coexists), curing inhibition is small and the layer is cured well. Can do things.

【0073】更には紫外線吸収剤として、前記のベンゾ
トリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物とメ
タクリロイル基、アクリロイル基もしくはビニル基を含
有する化合物を共重合してなる化合物(例えば2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール等が挙げられる)は活性光
線硬化層を主に形成するアクリレート成分もしくはメタ
クリレート成分と架橋反応を起こすことが可能な反応型
紫外線吸収剤と呼ばれており、活性光線硬化層内に紫外
線吸収剤を安定に固定し、耐久性を高める目的のために
好ましく用いられる。
Further, as an ultraviolet absorber, a compound obtained by copolymerizing a compound containing a benzotriazole skeleton or a triazine skeleton with a compound containing a methacryloyl group, an acryloyl group or a vinyl group (for example, 2-
(2′-hydroxy-5′-methacryloxyphenyl)
-H-benzotriazole, etc.) is called a reactive ultraviolet absorber capable of causing a crosslinking reaction with an acrylate component or a methacrylate component mainly forming the actinic ray-curable layer. It is preferably used for the purpose of stably fixing an ultraviolet absorbent to improve durability.

【0074】高分子樹脂積層体の耐候性(紫外線老化
性)を充分なものにするためには、活性光線硬化層の3
00〜350nmの波長領域のいずれの波長においても
光吸収率が少なくとも99%以上、より好ましくは9
9.9%以上とすることが好ましい。なお、上記4.に
おける「活性光線硬化層(A)の300〜350nmの
波長領域における光吸収率が99%以上である」とは、
「300〜350nmの波長領域のいずれの波長におい
ても光吸収率が少なくとも99%以上」という意味であ
る。
In order to make the weather resistance (ultraviolet aging property) of the polymer resin laminate sufficient, the active light-cured layer 3
The light absorptance is at least 99% or more, more preferably 9 at any wavelength in the wavelength range of 00 to 350 nm.
It is preferred to be 9.9% or more. Note that 4. "The light absorption of the actinic radiation-curable layer (A) in the wavelength region of 300 to 350 nm is 99% or more"
This means that "the light absorption rate is at least 99% or more at any wavelength in the wavelength range of 300 to 350 nm".

【0075】この目的のためには、活性光線硬化層の前
駆材料の不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量(重量
%)と活性光線硬化層の膜厚(μm)との積が、30〜
300重量%・μmの範囲にあることが好ましく、より
好ましくは50〜150重量%・umである。
For this purpose, the product of the addition amount (% by weight) of the ultraviolet absorber in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer and the film thickness (μm) of the actinic ray-curable layer is 30 to
It is preferably in the range of 300% by weight · μm, more preferably 50 to 150% by weight · um.

【0076】なお、活性光線硬化層の前駆材料に紫外線
吸収剤を混合し、紫外線照射により層の硬化を行う場合
には、硬化(光重合)を誘起する紫外線の波長と紫外線
吸収剤の吸収波長とが幾分相違していることが好まし
い。すなわち前述のように紫外線吸収剤としては300
〜350nmの波長領域に大きな吸収を持つものを用い
ることが好ましいので、光重合を誘起する紫外線の波長
は350nm以上もしくは300nm以下の波長とする
ことが好ましい。
In the case where an ultraviolet absorber is mixed with the precursor of the actinic ray curable layer and the layer is cured by irradiating ultraviolet rays, the wavelength of the ultraviolet light that induces curing (photopolymerization) and the absorption wavelength of the ultraviolet absorbent are used. Is preferably somewhat different from That is, as described above, the ultraviolet absorber is 300
Since it is preferable to use a material having a large absorption in a wavelength region of from 350 nm to 350 nm, it is preferable that the wavelength of the ultraviolet light for inducing photopolymerization is 350 nm or more or 300 nm or less.

【0077】この目的では、大きな光吸収を有する波長
領域が350〜400nmおよび/または220〜30
0nmであるような光重合開始剤を用いる方法がある。
これらの例としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−
1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル
(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンゾイル安息香酸、ベンゾ
イル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4’−メチルジ
フェニルサルファイド、3,3’−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン、チオキサンソン、2−クロルチオ
キサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4ジメチ
ルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,
4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピル
チオキサンソン、ジベンゾスベロン、メチルフェニルグ
リオキシレート、1−フェニル−1,2−プロパンジオ
ン−2(O−エトキシカルボニル)オキシム等が例示さ
れる。
For this purpose, the wavelength region having large light absorption is 350-400 nm and / or 220-30.
There is a method using a photopolymerization initiator having a thickness of 0 nm.
Examples of these include 2-hydroxy-2-methyl-1
-Phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-
1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoic acid, Methyl benzoylbenzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4 dimethylthioxanthone , Isopropylthioxanthone, 2,
4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, dibenzosuberone, methylphenylglyoxylate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2 (O-ethoxycarbonyl) oxime and the like are exemplified. .

【0078】また同様の目的で、220〜300nmお
よび/または350〜400nmに大きな光吸収性を有
する光重合開始助剤(増感剤)を、光重合開始剤と併用
して用いることも好ましく行われる。
For the same purpose, it is also preferable to use a photopolymerization initiator (sensitizer) having a large light absorption at 220 to 300 nm and / or 350 to 400 nm in combination with the photopolymerization initiator. Will be

【0079】このような光重合開始助剤としては、例え
ば2−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n
−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、4−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。
Examples of such a photopolymerization initiation aid include ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid (n
-Butoxy) ethyl, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone and the like.

【0080】こうした光重合開始助剤は、光重合開始剤
に対して10〜40重量%の割合で混合されることが好
ましい。
It is preferable that such a photopolymerization initiator is mixed at a ratio of 10 to 40% by weight based on the photopolymerization initiator.

【0081】さて、これら活性光線硬化層は高分子樹脂
基板上にその前駆材料を塗布(コーティング)した後
に、塗布膜に活性光線を照射することにより形成され
る。
These active light-cured layers are formed by applying (coating) the precursor material on a polymer resin substrate and then irradiating the applied film with active light.

【0082】コーティング方法としては、例えば、(ド
クター)ナイフコート法、マイクログラビヤコート法、
ダイレクトグラビヤコート法、オフセットグラビヤ法、
リバースグラビヤ法、リバースロールコート法、(マイ
ヤー)バーコート法、ダイコート法、スプレーコート
法、ディップコート法等の方法が好ましく適用できる。
Examples of the coating method include (doctor) knife coating, microgravure coating,
Direct gravure coating method, offset gravure method,
Methods such as a reverse gravure method, a reverse roll coating method, a (Meier) bar coating method, a die coating method, a spray coating method, and a dip coating method can be preferably applied.

【0083】ここで活性光線硬化層の前駆材料を塗布し
た高分子樹脂基板は、前駆材料液のレベリング性の向上
や、活性光線硬化層と高分子樹脂基板との間の密着性の
向上等の目的で活性光線の照射を行う前に50〜130
℃に昇温することが好ましい。
Here, the polymer resin substrate coated with the precursor of the actinic ray curable layer is used to improve the leveling property of the precursor material liquid and the adhesion between the actinic ray curable layer and the polymer resin substrate. 50 to 130 before irradiation with actinic rays for the purpose
Preferably, the temperature is raised to ° C.

【0084】この密着性向上効果は、昇温により高分子
樹脂基板内部に前駆材料液が一部浸透して、いわゆるア
ンカー効果をもたらすことに起因している。なお、こう
した基板内部への前駆材料の浸透の状況は走査型電子顕
微鏡(SEM)による積層体の断面観察により知ること
ができる。
This effect of improving the adhesion is caused by the fact that the precursor material liquid partially penetrates into the inside of the polymer resin substrate by raising the temperature, thereby producing a so-called anchor effect. The state of the penetration of the precursor material into the inside of the substrate can be known by observing the cross section of the laminate using a scanning electron microscope (SEM).

【0085】なお、基板をあまり長い間こうした温度に
保持すると前駆材料液が浸透しすぎて、逆に層の硬化性
が低下する場合がある。このため、前記温度で基板を保
持する時間は5〜100秒程度が最も好ましい。
If the substrate is kept at such a temperature for an excessively long time, the precursor liquid may permeate too much, and conversely, the curability of the layer may be reduced. Therefore, the time for holding the substrate at the above temperature is most preferably about 5 to 100 seconds.

【0086】また活性光線硬化層の形成方法として、適
当な賦形板(フィルム形状のものを含む)を活性光線硬
化層の前駆材料の塗布膜に密着させた状態で活性光線を
照射して層を硬化させ、しかる後に賦形板を層と剥離す
ることによって、賦形板の表面形状を活性光線硬化層上
に転写する方法を用いることも好ましく行われる。
As a method for forming the actinic ray-curable layer, a suitable shaping plate (including a film-shaped one) is irradiated with actinic light in a state in which the actinic ray-curable layer is in close contact with the coating film of the precursor of the actinic ray-curable layer. It is also preferable to use a method in which the surface shape of the shaped plate is transferred onto the actinic ray-cured layer by curing the shaped plate and then peeling the shaped plate from the layer.

【0087】賦形板としては高分子樹脂板、高分子樹脂
フィルム、ガラス板、金属板等が挙げられ、活性光線硬
化層が硬化した後には層との密着性が低く、僅かな力で
両者を剥離できるような賦形板、もしくは離型剤等によ
る表面処理の施された賦形板であることが好ましい。
Examples of the shaping plate include a polymer resin plate, a polymer resin film, a glass plate, a metal plate, and the like. It is preferably a shaped plate capable of peeling off or a shaped plate subjected to a surface treatment with a release agent or the like.

【0088】本方法の利点は、表面形状の異なる賦形板
を用いることにより、活性光線硬化層の表面形状を自由
にコントロールできるところにあり、例えば表面平滑性
に優れた賦形板を用いることにより、高分子樹脂基板の
表面平滑性の善し悪しにかかわらず表面平滑な活性光線
硬化層を形成することができることが挙げられ、積層体
の外観を更に向上する効果が得られる。
The advantage of this method is that the surface shape of the actinic ray-curable layer can be freely controlled by using shaped plates having different surface shapes. For example, a shaped plate having excellent surface smoothness is used. Thereby, an active light-cured layer having a smooth surface can be formed regardless of whether the surface smoothness of the polymer resin substrate is good or bad, and the effect of further improving the appearance of the laminate can be obtained.

【0089】なお、この方法を利用して、表面平滑性に
優れた活性光線硬化層の形成と同時に、ハードコート層
を活性光線硬化層の表面に転写(すなわち、賦形板上か
ら活性光線硬化層上に移動させること)することもでき
る。
By using this method, the hard coat layer is transferred onto the surface of the actinic ray curable layer simultaneously with the formation of the actinic ray curable layer having excellent surface smoothness (ie, the actinic ray curable layer is formed on the shaping plate). On the layer).

【0090】すなわち、賦形板上に、あらかじめ被転写
層、すなわちハードコート層またはプライマーとハード
コート層との積層体、を積層しておき、賦形板と被転写
層とは僅かな力により剥離可能としておくと、この賦形
板を前記と同様に前駆材料の塗布膜に密着した状態で活
性光線を照射して層を硬化した後、活性光線硬化層の表
面に転写層(ハードコート層またはプライマーとハード
コート層との積層体)を積層することが可能になる。
That is, a layer to be transferred, that is, a hard coat layer or a laminate of a primer and a hard coat layer, is laminated on the shaping plate in advance, and the shaping plate and the transferred layer are applied by a slight force. When the exfoliation plate is set to be releasable, the layer is cured by irradiating the shaped plate with an actinic ray in a state in which it is in close contact with the coating film of the precursor material in the same manner as described above, and then a transfer layer (hard coat layer) Or a laminate of a primer and a hard coat layer) can be laminated.

【0091】さて本願発明におけるハードコート層は、
鉛筆硬度が4H以上で、東洋精機(株)製テーバー磨耗
試験装置(磨耗輪CS−10F、垂直荷重4.9N)を
使用した、ハードコート層の1000サイクルのテーバ
ー摩耗試験におけるヘーズ値の上昇が、少なくとも10
%以下となるような耐摩耗性に優れた層である。
Now, the hard coat layer in the present invention is
With a pencil hardness of 4H or more, an increase in the haze value in a 1000-cycle Taber abrasion test of the hard coat layer using a Taber abrasion tester (wear wheel CS-10F, vertical load 4.9N) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. , At least 10
%, Which is excellent in wear resistance.

【0092】このようなハードコート層としては、例え
ば珪素一原子に3個のメトキシ基および/またはエトキ
シ基が結合した3官能珪素アルコキシドによる加水分解
縮合物を50重量%以上含有する層、もしくは分子内に
3個以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイ
ル基を有する多官能(メタ)アクリレートによる重合体
を50重量%以上含有する層が好ましく例示される。
As such a hard coat layer, for example, a layer containing 50% by weight or more of a hydrolysis-condensation product of a trifunctional silicon alkoxide in which three methoxy groups and / or ethoxy groups are bonded to one silicon atom, or a molecule containing A preferred example is a layer containing 50% by weight or more of a polyfunctional (meth) acrylate polymer having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups therein.

【0093】なお、該層は各種の無機酸化物の超微粒子
を50重量%以下の割合で含有していても良く、各種の
硬化剤(重合開始剤、重合触媒)、レベリング剤等の添
加剤を含有していて良い。
The layer may contain not more than 50% by weight of ultrafine particles of various inorganic oxides, and various additives such as curing agents (polymerization initiators, polymerization catalysts) and leveling agents. May be contained.

【0094】ここで無機酸化物による超微粒子として
は、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、塩化アルミニ
ウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化
セリウム、酸化錫等による平均粒径が3〜30nmの超
微粒子が好適である。
The ultrafine particles made of an inorganic oxide include, for example, ultrafine particles having an average particle diameter of 3 to 30 nm made of silicon oxide, aluminum oxide, aluminum chloride, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, cerium oxide, tin oxide or the like. Is preferred.

【0095】なお、珪素一原子に3個のメトキシ基およ
び/またはエトキシ基が結合した3官能珪素アルコキシ
ドによる加水分解縮合物、もしくは分子内に3個以上の
アクリロイル基および/またはメタクリロイル基を有す
る多官能(メタ)アクリレートによる重合体が、ハード
コート層中に50重量%以上含有されていないと、部分
的な剥がれ、チョーキング等の問題が発生しやすくな
る。更に好ましくは60重量%以上である。
It is to be noted that a hydrolysis condensate by a trifunctional silicon alkoxide in which three methoxy groups and / or ethoxy groups are bonded to one silicon atom, or a polycondensate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule. If the polymer of the functional (meth) acrylate is not contained in the hard coat layer in an amount of 50% by weight or more, problems such as partial peeling and chalking are likely to occur. It is more preferably at least 60% by weight.

【0096】また、該層は25重量%以下の割合で珪素
一原子に4個のメトキシ基および/またはエトキシ基が
結合した4官能珪素アルコキシドによる加水分解縮合物
を含有していても良く、また同様に25重量%以下の割
合で珪素以外の他種のアルコキシドの加水分解縮合物、
例えばアルミニウムやチタン、ジルコニウム、ボロン等
の金属アルコキシドの加水分解縮合物を含有していても
良い。
The layer may contain a hydrolysis condensate of tetrafunctional silicon alkoxide in which four methoxy groups and / or ethoxy groups are bonded to one silicon atom at a ratio of 25% by weight or less. Similarly, a hydrolysis condensate of an alkoxide other than silicon in a proportion of 25% by weight or less,
For example, it may contain a hydrolyzed condensate of a metal alkoxide such as aluminum, titanium, zirconium, and boron.

【0097】これら3官能珪素アルコキシドとしては、
例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N−β
(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、メタア
クリロイルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、
4官能珪素アルコキシドとしては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン等が挙げられる。
These trifunctional silicon alkoxides include:
For example, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β
(Aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, acryloylpropyltrimethoxysilane, methacryloylpropyltrimethoxysilane and the like,
Examples of the tetrafunctional silicon alkoxide include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane.

【0098】なお、ここで珪素アルコキシドの加水分解
縮合物とは、珪素アルコキシドと水と酸触媒(主にぎ
酸、酢酸、塩酸、硝酸、りん酸等が用いられる)とを混
合し、撹拌することにより、アルコキシ基と水との間に
脱アルコール反応が起こり水酸基(Si−OH)を生ず
る加水分解反応と、それに引き続いて起こる、水酸基同
士による脱水反応、もしくは水酸基とアルコキシ基によ
る脱アルコール反応等に基づく縮合物(Si−O−Si
結合による連鎖)のことを指している。
Here, the hydrolytic condensate of silicon alkoxide refers to a mixture of silicon alkoxide, water, and an acid catalyst (mainly formic acid, acetic acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.) and stirring. As a result, a dealcoholation reaction takes place between the alkoxy group and water to produce a hydroxyl group (Si-OH), followed by a dehydration reaction between the hydroxyl groups or a dealcoholation reaction between the hydroxyl group and the alkoxy group. Condensate based on (Si-O-Si
Concatenation).

【0099】この縮合物は一般に前記反応によって生ず
るアルコール系溶媒に溶解した状態で存在するが、縮合
反応が進行しすぎるとゲル化が起こり、コーティングが
不可となる。これらの反応速度は溶液のpH値や温度等
に大きく依存することから、これらの溶液にはpH緩衝
剤(酢酸ナトリウム等)を添加したり、冷蔵状態で保管
することが好ましい。
This condensate generally exists in a state of being dissolved in an alcoholic solvent generated by the above reaction. However, if the condensation reaction proceeds too much, gelation occurs and coating becomes impossible. Since these reaction rates greatly depend on the pH value and temperature of the solution, it is preferable to add a pH buffer (such as sodium acetate) to these solutions or store them in a refrigerated state.

【0100】これらの溶液は基材上にコーティング後、
自然乾燥(風乾)および/またはコーター乾燥炉での加
熱等によって溶剤成分が揮発乾燥され、この後、乾燥炉
で高温に加熱されることにより縮合反応が著しく進行し
て硬化層すなわちハードコート層を形成する。
After coating these solutions on a substrate,
The solvent component is volatilized and dried by natural drying (air drying) and / or heating in a coater drying oven, and thereafter, by heating to a high temperature in a drying oven, the condensation reaction remarkably progresses to form a hardened layer, that is, a hard coat layer. Form.

【0101】なお、これらの溶液もしくはこれらの溶液
をコーティングした基材面に、170〜300nmの波
長領域の紫外線(特に低圧水銀ランプの主発光波長であ
る195nm、254nm)を照射すると、アルコキシ
ドの縮合反応活性が高まることが公知となっており、本
願発明においても本方法を併用することも好ましく行わ
れる。
When these solutions or the surface of the substrate coated with these solutions are irradiated with ultraviolet rays in the wavelength range of 170 to 300 nm (especially 195 nm and 254 nm, which are the main emission wavelengths of low-pressure mercury lamps), condensation of alkoxides occurs. It is known that the reaction activity increases, and the present method is also preferably used in combination in the present invention.

【0102】ただし溶液をコーティングした基材面に紫
外線を照射する方法を用いる場合、基材の高分子樹脂成
形物が前記波長領域の紫外線によって劣化(黄変、分子
量低下等)を生じる場合があるので、前記波長領域の紫
外線を吸収する紫外線吸収剤を活性光線硬化層に適量添
加しておくことが好ましい。
However, when the method of irradiating the surface of the substrate coated with the solution with ultraviolet rays is used, the polymer resin molded product of the substrate may be deteriorated (yellowing, molecular weight decrease, etc.) by the ultraviolet rays in the above-mentioned wavelength region. Therefore, it is preferable to add an appropriate amount of an ultraviolet absorber that absorbs ultraviolet light in the above-mentioned wavelength region to the actinic ray-curable layer.

【0103】さて、ハードコート層としては、分子内に
3個以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイ
ル基を有する多官能(メタ)アクリレートによる重合体
を50重量%以上含有する層も好ましく例示される。
The hard coat layer is preferably exemplified by a layer containing a polyfunctional (meth) acrylate polymer having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in a molecule in an amount of 50% by weight or more.

【0104】これらの例としては、例えばトリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロ
ールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレー
ト、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
Examples of these are, for example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol Examples include pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.

【0105】なお、該層は50重量%以下の割合でポリ
エステル変性もしくはウレタン変性、エポキシ変性の多
官能アクリレートオリゴマーを含有していても良い。こ
れらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混合組成で
用いても良い。
The layer may contain a polyester-modified, urethane-modified, or epoxy-modified polyfunctional acrylate oligomer in a proportion of 50% by weight or less. These resins may be used in a single composition or in a mixture of several kinds.

【0106】これらの層は、紫外線(可視光を含む場合
もある)や電子線の照射により硬化が進行し、硬化物の
層(ハードコート層)を形成する。
The curing of these layers is promoted by irradiation of ultraviolet rays (which may include visible light) or an electron beam to form a cured product layer (hard coat layer).

【0107】またハードコート層としては、この他に真
空成膜プロセスにより形成された層が好ましく用いられ
る。
As the hard coat layer, a layer formed by a vacuum film forming process is preferably used.

【0108】このような真空成膜プロセスとしては、真
空蒸着法、スパッタリング法、化学的気相成長(堆積)
法(CVD)法等が挙げられるが、この中でも、一般に成
膜速度が早く経済性に優れる特長を有する真空蒸着法を
主に用いる事が好ましい。
As such a vacuum film forming process, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (deposition)
A method (CVD) method and the like can be mentioned, and among them, it is preferable to mainly use a vacuum evaporation method, which generally has a feature of high film forming speed and excellent economic efficiency.

【0109】真空蒸着法とは、通常は装置内の圧力が少
なくとも10-1Pa以下となるように真空排気した後
に、装置内において、加熱気化させた材料物質を基板上
に堆積させて層を得る方法である。尚、一般に材料の加
熱気化の方法としては、るつぼ等に充填した材料物質に
電子ビームもしくはイオンビーム等を当てて加熱する方
法、もしくは、タングステンボート等の抵抗線に充填し
た材料物質を抵抗線に電流を流して加熱する方式等が用
いられる。特に、前者の電子ビームもしくはイオンビー
ムによる加熱方式を用いた場合には、ビームのエミッシ
ョン量をコントロールすることによって、堆積速度が早
く、かつ長時間安定した真空蒸着が可能であり、数μm
を越える膜厚の層を比較的簡単に経済的に得ることがで
きるので好ましい。
[0109] The vacuum evaporation method generally means that after evacuation is performed so that the pressure in the apparatus is at least 10 -1 Pa or less, a material substance heated and vaporized is deposited on a substrate in the apparatus to form a layer. How to get. In general, as a method of heating and vaporizing a material, a material filled in a crucible or the like is heated by applying an electron beam or an ion beam, or a material filled in a resistance wire such as a tungsten boat is converted into a resistance wire. For example, a method of heating by applying an electric current is used. In particular, when the former heating method using an electron beam or an ion beam is used, by controlling the amount of emission of the beam, the deposition rate is high, and stable vacuum deposition can be performed for a long time.
Is preferable because a layer having a film thickness exceeding the above can be obtained relatively easily and economically.

【0110】尚、ここでは、真空槽内で蒸着粒子を適当
な方法でイオン化させた後、電界加速して基板上に堆積
させる方法(イオン化蒸着法、電界アシスト蒸着等の名
称で呼ばれることが多い)等の、蒸着粒子に対してその
運動エネルギーを高める工程を付与した各種の真空蒸着
法も、必要に応じて用いることができる。
Here, a method of ionizing vapor deposition particles in a vacuum chamber by an appropriate method and then accelerating the electric field to deposit the particles on a substrate (often referred to as ionization vapor deposition, electric field assisted vapor deposition, etc.). ), Etc., various kinds of vacuum deposition methods in which a step of increasing the kinetic energy of the deposited particles is applied can be used as necessary.

【0111】さてハードコート層としては、前記の真空
蒸着法により形成された層(以下蒸着層と記す)と、ス
パッタリング法により形成された層(以下スパッタ層と
記す)とを、基板側からこの順に積層した二層から成る
層を用いても良い。
As the hard coat layer, a layer formed by the above-described vacuum deposition method (hereinafter, referred to as a vapor deposition layer) and a layer formed by the sputtering method (hereinafter, referred to as a sputter layer) are formed from the substrate side. A layer composed of two layers stacked in order may be used.

【0112】スパッタリング法(一般にマグネトロンス
パッタリング法と呼ばれる)は、真空蒸着法同様に、装
置内の圧力が少なくとも10-1Pa以下になるように真
空排気した後に、装置中に不活性ガス、もしくは若干の
反応性ガスを混合した不活性ガスを導入し、材料ターゲ
ットと基板間に高い電場(交流および/または直流)と
磁場をかけてプラズマ状態を誘起させ、プラズマ内で加
速したガスが材料ターゲットに衝突した衝撃でターゲッ
トの表面にある材料物質を原子/分子状の形態で発散さ
せて基板上に付着させて層を得る方法である。
The sputtering method (generally referred to as a magnetron sputtering method) is similar to the vacuum evaporation method, except that the apparatus is evacuated so that the pressure in the apparatus becomes at least 10 -1 Pa or less, and then the inert gas or a small amount of gas is introduced into the apparatus. An inert gas mixed with a reactive gas is introduced, a high electric field (AC and / or DC) and a magnetic field are applied between the material target and the substrate to induce a plasma state, and the gas accelerated in the plasma is applied to the material target. In this method, the material on the surface of the target is scattered in the form of atoms / molecules by the impact of the collision and adheres to the substrate to obtain a layer.

【0113】一般的にスパッタリング法はより緻密で硬
度が高い層が得られやすいといった特長を有するが、先
の真空蒸着法よりもかなり堆積速度が遅く、0.5μm
を越える膜厚に層を形成するには非常に時間がかかる。
すなわち主に経済的な観点から、スパッタ層の膜厚は
0.5μm以下、より好ましくは0.25μm以下であ
る事が好ましい。
In general, the sputtering method has a feature that a denser and higher-hardness layer is easily obtained, but the deposition rate is considerably slower than that of the above-mentioned vacuum evaporation method, and 0.5 μm
It takes a very long time to form a layer having a thickness exceeding.
That is, the thickness of the sputtered layer is preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.25 μm or less, mainly from an economic viewpoint.

【0114】尚、スパッタ層の膜厚は、その積層による
特性向上効果を得るためには少なくとも0.02μm以
上必要であり、より好ましくは0.05μm以上、更に
好ましくは0.1μm以上である。
The thickness of the sputtered layer is required to be at least 0.02 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and still more preferably 0.1 μm or more in order to obtain the effect of improving the characteristics by the lamination.

【0115】このように蒸着層とスパッタ層の積層を行
う場合、真空蒸着の工程とスパッタリングの工程は、同
一の真空槽内、もしくは可動式の敷居板を隔てて連続す
る2つ以上の真空槽(真空チャンバー)中を、基板を移
動させながら連続的に行う事も可能であり、表面汚染の
防止効果、真空排気時間の短縮等の利点から好ましく行
われる。
When the deposition layer and the sputtered layer are laminated as described above, the vacuum deposition step and the sputtering step may be performed in the same vacuum chamber or in two or more vacuum chambers continuous with a movable sill plate interposed therebetween. It is also possible to perform the process continuously while moving the substrate in the (vacuum chamber), and it is preferably performed from the advantages of preventing surface contamination and shortening the vacuum evacuation time.

【0116】このようなハードコート層の材料として
は、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化セリウ
ム、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素等といった
各種酸化物、窒化物、炭化物等の無機材料による層や、
いわゆるダイヤモンドライクカーボン(DLC)と呼ば
れる炭素からなる層等を挙げる事ができるが、この中で
もハードコート層が高い透明性と優れた機械物性を有す
るようにするためには、主成分として酸化珪素を用いる
事が好ましく、酸化珪素が層全体の少なくとも50重量
%以上、より好ましくは75重量%を占めていることが
好ましい。
Examples of the material of such a hard coat layer include layers made of inorganic materials such as various oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride, aluminum nitride, and silicon carbide; nitrides and carbides; ,
A layer made of carbon called so-called diamond-like carbon (DLC) can be mentioned. Among them, in order to make the hard coat layer have high transparency and excellent mechanical properties, silicon oxide is used as a main component. It is preferable to use silicon oxide, and it is preferable that silicon oxide accounts for at least 50% by weight or more, more preferably 75% by weight of the whole layer.

【0117】尚、より高い透明性を得る目的において
は、酸化珪素の酸化数を示すSiOnのnの値はほぼ
2.0である事が好ましい。
For the purpose of obtaining higher transparency, it is preferable that the value of n of SiOn indicating the oxidation number of silicon oxide is approximately 2.0.

【0118】また、ハードコート層は、前記のように酸
化珪素を主成分として用いる事が好ましいが、必要に応
じて適当な割合で他種の無機酸化物を副成分として混合
した材料を用いる事も可能である。
The hard coat layer preferably uses silicon oxide as a main component as described above. However, if necessary, a material in which other types of inorganic oxides are mixed as an auxiliary component at an appropriate ratio may be used. Is also possible.

【0119】このような副成分としては、酸化マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が好ましく例示
され、ハードコート層の硬度上昇や脆性の改善、ならび
にハードコート層と活性光線硬化層との屈折率差に由来
する光干渉縞の低減を目的とした屈折率の調整等の目的
において混合される。
As such subcomponents, magnesium oxide, zirconium oxide, titanium oxide and the like are preferably exemplified, and the hardness increase and brittleness of the hard coat layer are improved, and the refractive index difference between the hard coat layer and the actinic ray cured layer is obtained. Are mixed for the purpose of adjusting the refractive index for the purpose of reducing the optical interference fringes derived from the above.

【0120】さて、高分子樹脂積層体が優れた耐磨耗性
を得るためには、ハードコート層の膜厚は1.5μm以
上であることが好ましく、より好ましくは2.5μm以
上、更に好ましくは3.5μm以上である。ただし膜厚
が10μmを越えると、層にクラックを生じたり、密着
性が低下する場合が多くなるので好ましくない。
In order to obtain excellent abrasion resistance of the polymer resin laminate, the thickness of the hard coat layer is preferably at least 1.5 μm, more preferably at least 2.5 μm, even more preferably. Is 3.5 μm or more. However, when the film thickness exceeds 10 μm, cracks are generated in the layer and the adhesion is often decreased, which is not preferable.

【0121】尚、必要に応じて、ハードコート層の積層
の際中に、真空槽内で基板を適度に加熱する事が好まし
い場合がある。基板の加熱方法としては、ハロゲンラン
プ等を用いることができる。加熱温度としては、およそ
50〜120℃程度の範囲が好ましく、蒸着膜の残留応
力の緩和や、蒸着膜の密着性向上、特に積層体の周囲温
度変化に対する蒸着膜の密着性の悪化を防ぐ目的におい
て好ましい場合がある。
In some cases, it is preferable to appropriately heat the substrate in a vacuum chamber during the lamination of the hard coat layer, if necessary. As a method for heating the substrate, a halogen lamp or the like can be used. The heating temperature is preferably in the range of about 50 to 120 ° C., for the purpose of alleviating the residual stress of the deposited film, improving the adhesion of the deposited film, and particularly preventing the deterioration of the adhesion of the deposited film due to a change in the ambient temperature of the laminate. May be preferred.

【0122】尚、前述したハードコート層の光干渉縞の
低減に関しては、活性光線硬化層とハードコート層との
間に挟持して、屈折率がハードコート層の屈折率と活性
光線硬化層の屈折率との幾何平均値の付近にある層を、
層の厚みと屈折率を乗じた値(光学膜厚)が100〜1
60nm程度になるように積層する事によっても、効果
が得られる場合があり、必要に応じて行われるハードコ
ート層の膜厚は目的に応じて、適宜選択できるが、1〜
20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚が1μm以
下であると繰返して摩耗を受けた場合に耐擦傷性が不十
分となる場合がある。20μmを越えるとハードコート
層の脆さが表面化して、表面にクラックを生じ易くなっ
たり、高分子樹脂フィルムとの密着性が低下する場合が
ある。更に好適には膜厚は2〜10μmの範囲である。
With respect to the reduction of the light interference fringes of the hard coat layer, the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the active light curable layer are interposed between the active light curable layer and the hard coat layer. Layers near the geometric mean with the refractive index
The value obtained by multiplying the thickness of the layer and the refractive index (optical film thickness) is 100 to 1
The effect may also be obtained by laminating so as to have a thickness of about 60 nm, and the thickness of the hard coat layer performed as needed can be appropriately selected depending on the purpose.
It is preferably in the range of 20 μm. When the film thickness is 1 μm or less, the abrasion resistance may be insufficient when repeatedly worn. If it exceeds 20 μm, the brittleness of the hard coat layer is surfaced and cracks are likely to occur on the surface, or the adhesion to the polymer resin film may be reduced. More preferably, the film thickness is in the range of 2 to 10 μm.

【0123】また必要に応じて、前記の活性光線硬化層
とハードコート層との密着性を向上させたり、積層体の
耐候性(例えば耐紫外線老化性)を向上させる目的のた
めに、活性光線硬化層の表面に適当な表面処理を施した
り、プライマー層を積層したりすることが可能である。
If necessary, actinic rays may be added for the purpose of improving the adhesion between the actinic ray-curable layer and the hard coat layer, or improving the weather resistance (for example, resistance to ultraviolet aging) of the laminate. It is possible to apply an appropriate surface treatment to the surface of the cured layer or to laminate a primer layer.

【0124】表面処理としては、例えば公知のプラズマ
処理、コロナ処理、UV−オゾン処理等の方法が好まし
く用いられ、硬化層の密着性を向上させたり、前駆材料
の塗工性を向上するといった効果を得ることができる。
As the surface treatment, for example, well-known methods such as plasma treatment, corona treatment, and UV-ozone treatment are preferably used, and the effect of improving the adhesion of the cured layer and the coating property of the precursor material is preferably used. Can be obtained.

【0125】またプライマー層としては、例えば各種の
メタクリル酸エステルやそれらと他種の成分との共重合
物による層が好ましく例示され、特にポリメチルメタク
リレートおよびポリメチルメタクリレートと他種の成分
との共重合物による層が好ましく用いられる。これら共
重合される他種成分としては、例えば分子内にアクリロ
イル基、メタクリロイル基、ビニル基等を含有する珪素
アルコキシド等が好ましく例示される。
As the primer layer, for example, a layer made of various methacrylates or a copolymer of these with other components is preferably exemplified. In particular, polymethyl methacrylate and a copolymer of polymethyl methacrylate and other components are preferably used. A layer made of a polymer is preferably used. Preferred examples of the other components to be copolymerized include silicon alkoxides containing an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group and the like in the molecule.

【0126】また前記の耐候性向上の目的で、プライマ
ー層には必要に応じて各種の紫外線吸収剤や酸化防止剤
等の成分を適量含有させることも好ましく行われる。
For the purpose of improving the weather resistance, it is also preferable that the primer layer contains an appropriate amount of components such as various ultraviolet absorbers and antioxidants, if necessary.

【0127】プライマー層の膜厚は、0.1〜15μm
の範囲で塗布されるのが好ましく、0.3〜10μmの
範囲とすることがより好ましい。
The thickness of the primer layer is 0.1 to 15 μm
Is preferably applied, and more preferably 0.3 to 10 μm.

【0128】なお、ハードコート層およびプライマー層
の高分子樹脂基板上へのコーティング方法としては、ス
ピンコート法、(ドクター)ナイフコート法、各種のグ
ラビヤコート法、マイクログラビヤコート法、(マイヤ
ー)バーコート法、リバースロールコート法、ダイコー
ト法、スプレーコート法、ディップコート法等の各種の
方法を用いることができる場合が多い。
The method of coating the hard coat layer and the primer layer on the polymer resin substrate includes spin coating, (doctor) knife coating, various types of gravure coating, micro gravure coating, and (Meier) bar coating. In many cases, various methods such as a coating method, a reverse roll coating method, a die coating method, a spray coating method, and a dip coating method can be used.

【0129】高分子樹脂基板としては特に限定はない
が、本願発明の主旨から言えば、鉛筆硬度が少なくとも
3H以下の高分子樹脂基板が対象になる。
The polymer resin substrate is not particularly limited, but, from the gist of the present invention, a polymer resin substrate having a pencil hardness of at least 3H or less is an object.

【0130】このような高分子樹脂基板としては、例え
ばポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレートや各種のポリ
オレフィイン樹脂(例えばJSR社の商品名「アート
ン」、日本ゼオン社の商品名「ゼオネックス」)等によ
る基板が挙げられる。
Examples of such a polymer resin substrate include polycarbonate, polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and various polyolefin resins (for example, the trade name “ARTON” of JSR, the trade name of “Zeon Japan” Zeonex ") and the like.

【0131】高分子樹脂基板の厚みには特に大きな限定
はないが、少なくとも塗工層の厚み、すなわち活性光線
硬化層とハードコート層、もしくは活性光線硬化層とハ
ードコート層とプライマー層との合計の厚みより大きい
ことが好ましく、およそ100μm以上である。また特
に積層体を屈曲性を必要とする用途に用いる場合には1
00〜500μm、より好ましくは150〜400μm
の範囲である。
The thickness of the polymer resin substrate is not particularly limited, but at least the thickness of the coating layer, ie, the total of the active light-curable layer and the hard coat layer, or the total of the active light-curable layer, the hard coat layer and the primer layer Is preferably greater than about 100 μm. In particular, when the laminate is used for applications requiring flexibility, 1
00 to 500 μm, more preferably 150 to 400 μm
Range.

【0132】自動車や建築物の窓材等の用途においては
耐衝撃性、透明性、成形性等の観点からポリカーボネー
トが特に好ましい。ここでポリカーボネートとは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸結合形成性化合物との重縮
合物を意味する。
In applications such as window materials for automobiles and buildings, polycarbonate is particularly preferred from the viewpoints of impact resistance, transparency, moldability, and the like. Here, the polycarbonate means a polycondensate of an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid bond-forming compound.

【0133】かかる芳香族ジヒドロキシ化合物として
は、具体的にはビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘ
プタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジク
ロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、4,4−ジヒド
ロキシフェニル−1,1’−m−ジイソプロピルベンゼ
ン、4,4’−ジヒドロキシフェニル−9,9−フルオ
レンなどのビス(4−ヒドロキシアリール)アルカン
類、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペ
ンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、1−メチル−1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−(ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メチ
ル−シクロヘキサン、4−[1−〔3−(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−メチルシクロヘキシル〕−1−メチ
ルエチル]−フェノール、4,4’−〔1−メチル−4
−(1−メチルエチル)−1,3−シクロヘキサンジイ
ル〕ビスフェノール、2,2,2’,2’−テトラヒド
ロ−3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−ス
ピロビス−〔1H−インデン〕−6,6’−ジオールな
どのビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)エーテル、4,
4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルフェニルエー
テルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、4,4’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒ
ドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルフィドな
どのジヒドロキシジアリールスルフィド類、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’−ジヒ
ドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホキシド
などのジヒドロキシジアリールスルスルホキシド類、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’
−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホ
ン、などのジヒドロキシジアリールスルホン類、4,
4’−ジヒドロキシジフェニル−3,3’−イサチンな
どのジヒドロキシジアリールイサチン類、3,6−ジヒ
ドロキシ−9,9−ジメチルキサンテンなどのジヒドロ
キシジアリールキサンテン類、レゾルシン、3−メチル
レゾルシン、3−エチルレゾルシン、3−ブチルレゾル
シン、3−t−ブチルレゾルシン、3−フェニルレゾル
シン、3−クミルレゾルシン、ヒドロキノン、2−メチ
ルヒドロキノン、2−エチルヒドロキノン、2−ブチル
ヒドロキノン、2−t−ブチルヒドロキノン、2−フェ
ニルヒドロキノン、2−クミルヒドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジヒドロキシジフ
ェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げられる。
Specific examples of the aromatic dihydroxy compound include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane,
2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl)
Propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) Propane, bis (4-
Bis (4-hydroxyaryl) alkanes such as hydroxyphenyl) phenylmethane, 4,4-dihydroxyphenyl-1,1′-m-diisopropylbenzene, and 4,4′-dihydroxyphenyl-9,9-fluorene; 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1-methyl-1- (4-hydroxyphenyl) -4- (dimethyl-4-hydroxyphenyl) methyl- Cyclohexane, 4- [1- [3- (4-hydroxyphenyl) -4-methylcyclohexyl] -1-methylethyl] -phenol, 4,4 ′-[1-methyl-4
-(1-methylethyl) -1,3-cyclohexanediyl] bisphenol, 2,2,2 ', 2'-tetrahydro-3,3,3', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobis- [ Bis (hydroxyaryl) cycloalkanes such as 1H-indene] -6,6′-diol, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) ether,
Dihydroxyaryl ethers such as 4'-dihydroxy-3,3'-dimethylphenyl ether;
Dihydroxydiaryl sulfides such as -dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfide, and 4,4'-
Dihydroxydiarylsulfoxides such as dihydroxydiphenylsulfoxide and 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethyldiphenylsulfoxide;
4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4 '
Dihydroxydiarylsulfones such as -dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenylsulfone;
Dihydroxydiarylisatins such as 4'-dihydroxydiphenyl-3,3'-isatin, dihydroxydiarylxanthenes such as 3,6-dihydroxy-9,9-dimethylxanthene, resorcinol, 3-methylresorcinol, and 3-ethylresorcinol , 3-butylresorcin, 3-t-butylresorcin, 3-phenylresorcin, 3-cumylresorcin, hydroquinone, 2-methylhydroquinone, 2-ethylhydroquinone, 2-butylhydroquinone, 2-t-butylhydroquinone, 2- Dihydroxybenzenes such as phenylhydroquinone and 2-cumylhydroquinone; and dihydroxydiphenyls such as 4,4′-dihydroxydiphenyl and 3,3′-dichloro-4,4′-dihydroxydiphenyl.

【0134】中でも2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンが好ましい。
Of these, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is preferred.

【0135】炭酸結合形成性化合物としては、具体的に
はホスゲンやトリクロロメチルクロロフォーメート、ビ
ス(トリクロロメチル)カーボネートなどのホスゲン
類、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネートな
どのジアリールカーボネート類、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネー
ト類、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカ
ーボネートなどのアルキルアリールカーボネート類など
を挙げることができる。
Specific examples of the compound capable of forming a carbonic acid bond include phosgene such as phosgene, trichloromethylchloroformate and bis (trichloromethyl) carbonate, diarylcarbonates such as diphenylcarbonate and ditolylcarbonate, dimethylcarbonate and diethylcarbonate. Examples thereof include dialkyl carbonates such as carbonate, and alkylaryl carbonates such as methylphenyl carbonate and ethylphenyl carbonate.

【0136】ホスゲン類を用いる場合はポリカーボネー
トは溶液法で製造され、カーボネート結合を有する炭酸
エステル類を用いる場合は溶融法で製造される。
When phosgenes are used, polycarbonate is produced by a solution method, and when carbonates having a carbonate bond are used, they are produced by a melting method.

【0137】炭酸エステル類の中ではジフェニルカーボ
ネートが好ましく用いられる。
Among the carbonates, diphenyl carbonate is preferably used.

【0138】これらの化合物は単独または組み合わせて
用いることができる。
These compounds can be used alone or in combination.

【0139】なお、他の成分を共重合またはブレンド成
分として含むものも上記8.のポリカーボネートの範疇
に含まれる。
It is to be noted that those containing other components as copolymerized or blended components may also be used in the above item 8. In the category of polycarbonate.

【0140】本願発明にもっとも適するものは芳香族ジ
ヒドロキシ化合物として、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンを使用し、炭酸結合形成性化合物
として、ホスゲン類やカーボネート結合を有する炭酸エ
ステル類を使用するポリカーボネートである。
The compound most suitable for the present invention uses 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane as the aromatic dihydroxy compound, and phosgenes or carbonates having a carbonate bond as the carbonate bond-forming compound. This is the polycarbonate used.

【0141】それ以外の成分の共重合率またはブレンド
率が高いとポリカーボネートの特徴が薄れるため、共重
合率またはブレンド率は20重量%以下が望ましく、1
0重量%以下が更に望ましい。
If the copolymerization ratio or the blending ratio of the other components is high, the characteristics of the polycarbonate are weakened. Therefore, the copolymerization ratio or the blending ratio is desirably 20% by weight or less.
0% by weight or less is more desirable.

【0142】高分子樹脂基板の形状に関しては特に限定
はないが、フィルム状、シート状の形状を有する成形物
は均一な層のコーティングが実現しやすいので特に好ま
しく用いられる。曲面や凹凸等の複雑な形状を有する成
形物も用いることができるが、層のコーティング方法に
制約を生じる(ディップコート法が主に用いられる)場
合もある。
The shape of the polymer resin substrate is not particularly limited, but a molded product having a film-like or sheet-like shape is particularly preferably used because a uniform layer can be easily coated. Although a molded product having a complicated shape such as a curved surface or unevenness can be used, there is a case where a method of coating a layer is restricted (a dip coating method is mainly used).

【0143】なお、これらの高分子樹脂基板は前記の活
性光線硬化層を積層するに当たり、あらかじめ基板の表
面処理を施したり、適当なプライマー層を積層すること
も必要に応じて行われる。このような表面処理として
は、公知のプラズマ処理、コロナ処理、UV−オゾン処
理等の方法が好ましく用いられ、硬化層の密着性を向上
させたり、前駆材料の塗工性を向上するといった効果を
得ることができる。
When laminating the above-mentioned actinic ray-curable layer, these polymer resin substrates may be subjected to a surface treatment of the substrate in advance or a suitable primer layer may be laminated as necessary. As such a surface treatment, a known plasma treatment, corona treatment, UV-ozone treatment, or the like is preferably used, and has an effect of improving the adhesion of the cured layer or improving the coatability of the precursor material. Obtainable.

【0144】プライマー層は、同様に硬化層の密着性を
向上させたり、積層体の耐候性(例えば耐紫外線老化
性)を向上させる機能を有するものが好ましく用いられ
る。
As the primer layer, a layer having a function of improving the adhesion of the cured layer or improving the weather resistance (for example, resistance to ultraviolet aging) of the laminate is preferably used.

【0145】このようなプライマー層としては、例えば
各種のメタクリル酸エステルやアクリル酸エステルによ
る重合物、もしくはそれらと他種成分との共重合物が好
ましく挙げられる。こうした共重合成分は分子内にアミ
ノ基、エポキシ基を有する成分であることが好ましい。
As such a primer layer, for example, polymers of various methacrylic esters and acrylic esters, or copolymers of these with other components are preferable. Such a copolymer component is preferably a component having an amino group and an epoxy group in the molecule.

【0146】また前記の耐候性向上の目的で、プライマ
ー層には必要に応じて各種の紫外線吸収剤や酸化防止剤
等の成分を適量含有させることも可能である。
For the purpose of improving the weather resistance, the primer layer may contain an appropriate amount of components such as various ultraviolet absorbers and antioxidants, if necessary.

【0147】プライマー層の膜厚は、0.1〜15μm
の範囲で塗布されるのが好ましく、0.3〜10μmの
範囲とすることがより好ましい。
The thickness of the primer layer is 0.1 to 15 μm
Is preferably applied, and more preferably 0.3 to 10 μm.

【0148】本願発明の高分子樹脂積層体は、透視性が
高いことが好ましく、具体的には積層体のヘーズ値が5
%以下であることが好ましく、より好ましくは3%以下
である。
The polymer resin laminate of the present invention preferably has high transparency, and specifically, has a haze value of 5
% Or less, and more preferably 3% or less.

【0149】積層体の光透過率は、高分子樹脂基板もし
くは活性光線硬化層等の内に可視光の吸収剤(顔料、染
料等)を混合させたり、ハードコート層に適度に光吸収
性を有する層を用いる等の方法によって、意図的に積層
体の光透過率を低下させる場合を除き、全光線透過率は
30%以上、より好ましくは50%以上である。
The light transmittance of the laminate is determined by mixing a visible light absorbing agent (eg, a pigment or a dye) in the polymer resin substrate or the active light-cured layer, or by appropriately adding light absorbing properties to the hard coat layer. The total light transmittance is 30% or more, and more preferably 50% or more, unless the light transmittance of the laminate is intentionally reduced by a method such as using a layer having the same.

【0150】なお、本願発明の高分子樹脂積層体は、樹
脂の上に、ハードコート層(B)の上面を外側にして積
層してなる成形物とすることによって、表面が高硬度の
成形物を得ることができる。
Incidentally, the polymer resin laminate of the present invention is formed by laminating a hard coat layer (B) on the resin with the upper surface facing out, so that a molded product having a high surface hardness can be obtained. Can be obtained.

【0151】その方法としては、例えば、いわゆるイン
モールド成形あるいはインサート成形におけるインサー
トフィルムまたはシートとして用いることがある。
As the method, for example, it may be used as an insert film or sheet in so-called in-mold molding or insert molding.

【0152】すなわち、高分子樹脂積層体を、ハードコ
ート層(B)の上面を金型面に対峙させて射出成形機の
金型に固定した後に、ポリカーボネートやアクリル等の
高分子樹脂を金型内に溶融状態で射出して金型内部で一
体化成形する方法により、様々な形状や大きさの成形物
を得ることができる。
That is, after the polymer resin laminate is fixed to the mold of the injection molding machine with the upper surface of the hard coat layer (B) facing the mold surface, the polymer resin such as polycarbonate or acrylic is molded. Injection in a molten state into the mold and integral molding inside the mold can produce molded articles of various shapes and sizes.

【0153】また、押出し成形や、反応射出成形等金型
を使用する成形技術ならば、本願発明に係る高分子樹脂
積層体を積層する成形物を作製できる限り、どのような
ものでも良い。
In addition, any molding technique using a mold such as extrusion molding or reaction injection molding may be used as long as a molded article for laminating the polymer resin laminate according to the present invention can be produced.

【0154】なお、本願発明は、例えば、樹脂を溶融状
態のまま板状に押出し、平行して走行する本願発明に係
る高分子樹脂積層体と接触させ、両者を押し付け合い、
連続的に板状成形物を製造する、もしくは、本願発明に
係る高分子樹脂積層体を適当な接着層(接着剤層)を介
して別途成形した樹脂成形物と一体化して板状成形物を
製造する等、金型の概念を適用できない場合にも、樹脂
積層成形物を作製できる限り、各種の既存の技術に適用
することも可能である。
In the present invention, for example, the resin is extruded into a plate shape in a molten state, brought into contact with the polymer resin laminate of the present invention running in parallel, and pressed against each other.
A plate-like molded product is manufactured by continuously manufacturing a plate-like molded product, or by integrating the polymer resin laminate according to the present invention with a separately molded resin molded product via an appropriate adhesive layer (adhesive layer). Even in the case where the concept of a mold cannot be applied, such as in the case of manufacturing, the present invention can be applied to various existing technologies as long as a resin laminate molded article can be produced.

【0155】更に、本願発明においては、「成形物が、
上記1〜13のいずれかに記載の高分子樹脂積層体であ
ることを特徴とする成形物」は、成形に要する作業を簡
略化できる利益が得られる。すなわち、高分子樹脂基板
として、適切な形状のものを使用すれば、高分子樹脂積
層体そのものを成形物として得ることができ、この場合
には、成形に要する作業を簡略化できる利益が得られ
る。
Further, in the present invention, "the molded product is
The molded article characterized in that it is the polymer resin laminate according to any one of the above items 1 to 13, has an advantage that the operation required for molding can be simplified. That is, if a polymer resin substrate having an appropriate shape is used, the polymer resin laminate itself can be obtained as a molded product, and in this case, there is an advantage that the operation required for molding can be simplified. .

【0156】上記の諸方法は自動車や建築物の窓材や透
視性を必要とする構造材等を高い生産性をもって製造す
る目的に好適であり、好ましく用いられる。
The above-mentioned methods are suitable for the purpose of producing, with high productivity, window materials for automobiles and buildings, structural materials requiring transparency, and the like, and are preferably used.

【0157】[0157]

【実施例】以下に発明の好適な実施例について説明す
る。ただし、本願発明はこれに限定されるものではな
い。また、「部」は特に断らない限り「重量部」であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to this. “Parts” are “parts by weight” unless otherwise specified.

【0158】なお、実施例における各種の特性評価は以
下の要領にて行った。
The evaluation of various characteristics in the examples was performed in the following manner.

【0159】(鉛筆硬度の測定)日本工業規格K540
0に記載されている鉛筆硬度測定法に準拠して測定を行
ったが、本実施例においては測定の再現性を高める観点
から、サンプルを厚み2mmのガラス板上にエポキシ系
の接着剤(ニチバン社製商品名「アラルダイトラピッ
ド」)を用いて固定した状態において鉛筆を平面方向に
走査した。
(Measurement of Pencil Hardness) Japanese Industrial Standard K540
The measurement was carried out in accordance with the pencil hardness measurement method described in No. 0. In this example, from the viewpoint of improving the reproducibility of the measurement, the sample was placed on a glass plate having a thickness of 2 mm with an epoxy-based adhesive (Nichiban). The pencil was scanned in the plane direction in a state where the pencil was fixed using a product name of “Araldite Rapid”).

【0160】これはサンプルをしっかり固定することに
より鉛筆走査時のサンプルの歪みや曲がり等の影響を排
除できるためであり、特にサンプルの厚みが1mm以下
であるような場合に再現性の向上に効果がある。
This is because by firmly fixing the sample, it is possible to eliminate the influence of distortion or bending of the sample when scanning with a pencil, and it is particularly effective in improving the reproducibility when the thickness of the sample is 1 mm or less. There is.

【0161】なお、サンプルの傷付きの有無の判定は、
前記規格に準拠して測定者の肉眼にて行うが、傷つきの
判定が微妙となる場合には、傷(凹部)の深さを市販の
触針式表面粗さ計により測定し、異なる5個所で測定し
た深さの平均値が0.2μm以上である場合に「傷が発
生した」と判定することとした。
The determination of the presence or absence of scratches on the sample
The measurement is performed with the naked eye of the measurer in accordance with the above standard. If the judgment of the damage is delicate, the depth of the scratch (recess) is measured with a commercially available stylus-type surface roughness meter, and measured at five different locations. When the average value of the depth measured in the step is 0.2 μm or more, it was determined that “scratch occurred”.

【0162】(テーバー摩耗性の測定)テーバー摩耗試
験機(東洋精機(株)製)を用い、摩耗輪CS−10
F、荷重4.9N、1000サイクルの条件で試験片表
面を摩耗し、次式から求められるヘーズ値の摩耗前後の
差(ΔH)で評価した。
(Measurement of Taber Abrasion) Using a Taber abrasion tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), a wear wheel CS-10 was used.
F, the surface of the test piece was abraded under the conditions of a load of 4.9 N and 1000 cycles, and the difference (ΔH) between before and after abrasion of the haze value obtained from the following equation was evaluated.

【0163】ヘーズ(%)=(拡散透過率/全光線透過
率)×100 なお、ハードコート層のテーバー磨耗性は熱硬化処理を
施した時点からの室温下の保存(エージング)により若
干向上する場合があるので、各サンプルともテーバー摩
耗試験はサンプルの作成後、温度25℃、湿度50%の
環境下で7日間保存した後に行った。
Haze (%) = (diffuse transmittance / total light transmittance) × 100 The Taber abrasion of the hard coat layer is slightly improved by storage (aging) at room temperature from the time when the heat curing treatment is performed. In some cases, the Taber abrasion test was performed for each sample after the sample was prepared and stored for 7 days in an environment at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%.

【0164】(ヘーズ値および全光線透過率の測定)日
本電色工業社製の測定器(商品名「COH−300
A」)を用いて測定を行った。
(Measurement of Haze Value and Total Light Transmittance) A measuring instrument manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (trade name “COH-300”)
A ").

【0165】(活性光線硬化層の紫外線吸収率の測定)
日立製分光光度計U−3500を用いて測定を行った。
測定にあたっては、高分子樹脂基板やハードコート層等
の活性光線硬化層以外の部分での紫外線吸収の影響を排
除するために、活性光線硬化層を2mm厚みの石英板上
に同一の膜厚で別途に積層したサンプルを用い、[(活
性光線硬化層を積層していない場合の石英板の紫外線透
過率)−(活性光線硬化層を積層した場合の石英板の紫
外線透過率)]/(活性光線硬化層を積層していない場
合の石英板の紫外線透過率)の値を持って活性光線硬化
層の紫外線吸収率とした。
(Measurement of UV Absorption of Active Light Cured Layer)
The measurement was performed using a Hitachi spectrophotometer U-3500.
In the measurement, in order to eliminate the influence of ultraviolet absorption in portions other than the actinic ray cured layer such as the polymer resin substrate and the hard coat layer, the actinic ray cured layer was formed on a 2 mm thick quartz plate with the same film thickness. Using a separately laminated sample, [(Ultraviolet transmittance of quartz plate without active light cured layer)-(UV transmittance of quartz plate with active light cured layer laminated)] / (Activity The ultraviolet light absorption of the active light-curable layer was determined by taking the value of (ultraviolet transmittance of the quartz plate when the light-curable layer was not laminated).

【0166】(密着性の測定)日本工業規格K5400
に記載されている碁盤目テープ試験法に準拠して測定を
行った。
(Measurement of Adhesion) Japanese Industrial Standard K5400
The measurement was carried out in accordance with the cross-cut tape test method described in the above section.

【0167】(耐光性の評価)岩崎電気(株)製アイス
ーパーUVテスター SUV−F11にて295〜45
0nmの紫外/可視領域の光を100mW/cm2の強
度で150時間照射する。この光照射前後でサンプルの
光透過スペクトルを測定し、この透過光の日本工業規格
Z8729号に定めるL***表色系のクロマティク
ネス指数b*値の増加、すなわち色差△ b*の値を比較
することにより、サンプルの着色の程度を評価した。
(Evaluation of light fastness) I-Super UV tester SUV-F11 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. 295-45
Irradiation with light in the ultraviolet / visible region of 0 nm is performed at an intensity of 100 mW / cm 2 for 150 hours. The light transmission spectrum of the sample was measured before and after this light irradiation, and the chromaticity index b * value of the L * a * b * color system defined by Japanese Industrial Standard Z8729 for the transmitted light was increased, that is, the color difference △ b * The degree of coloring of the sample was evaluated by comparing the values.

【0168】尚、透過スペクトルの測定は日立製分光光
度計U3500の入射角0度の積分球測定モードで行
い、 またb*値の計算では日本工業規格Z8720に規
定される標準の光Cを採用し、2度視野の条件を用い
た。
The transmission spectrum was measured in a spectrophotometer U3500 manufactured by Hitachi in an integrating sphere measurement mode at an incident angle of 0 °. In calculating the b * value, standard light C specified in Japanese Industrial Standard Z8720 was used. And the condition of twice viewing was used.

【0169】[プライマー層形成用前駆材料Pの調製]
還流冷却器および撹拌装置を備え、窒素置換したフラス
コ中に、メチルメタクリレート95.1重量部、3−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン12.4重量
部、アゾビスイソブチロニトリル0.16重量部および
1、2−ジメトキシエタン200重量部を添加し、溶解
させた。
[Preparation of Precursor Material P for Forming Primer Layer]
In a flask equipped with a reflux condenser and a stirring apparatus and purged with nitrogen, 95.1 parts by weight of methyl methacrylate, 12.4 parts by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 0.16 parts by weight of azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of 1,2-dimethoxyethane was added and dissolved.

【0170】70℃で6時間撹拌して得られた反応系を
n−ヘキサンに投入して析出させ、共重合ポリマー95
重量部を得た。
The reaction system obtained by stirring at 70 ° C. for 6 hours was poured into n-hexane to cause precipitation, and the copolymer 95
Parts by weight were obtained.

【0171】このポリマーの重量平均分子量はGPC測
定から150000であった。
The weight average molecular weight of this polymer was 150,000 as measured by GPC.

【0172】このポリマー10重量部をメチルイソブチ
ルケトン63重量部、2−ブタノール27重量部からな
る混合溶媒に溶解した後に、3μmのフィルターでろ過
しプライマー層形成用前駆材料Pを得た。
10 parts by weight of this polymer was dissolved in a mixed solvent consisting of 63 parts by weight of methyl isobutyl ketone and 27 parts by weight of 2-butanol, followed by filtration through a 3 μm filter to obtain a precursor material P for forming a primer layer.

【0173】[ハードコート層形成用前駆材料H1の調
製]メチルトリメトキシシラン30重量部中に、平均粒
径10〜20nmの酸化珪素の超微粒子の水性分散液
(触媒化成工業(株)製の商品名「カタロイドSI−3
0」固形分濃度30重量%)の20重量部と酢酸3.5
重量部とを混合した酸性分散液を、外部冷却下で激しく
撹拌しながら添加した。
[Preparation of Hard Coat Layer Precursor Material H1] An aqueous dispersion of ultrafine silicon oxide particles having an average particle diameter of 10 to 20 nm in 30 parts by weight of methyltrimethoxysilane (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) Product name "Cataloid SI-3
0 "solid content concentration 30% by weight) and 20 parts by weight of acetic acid 3.5
The acidic dispersion mixed with the parts by weight was added with vigorous stirring under external cooling.

【0174】次いで室温下3時間撹拌した後、イソプロ
ピルアルコール35重量部、酢酸ナトリウム0.2重量
部を加えた。該系のpHは約5.3であった。室温で3
日間放置した後、3μmのフィルターで濾過してハード
コート層形成用前駆材料H1を調製した。
After stirring at room temperature for 3 hours, 35 parts by weight of isopropyl alcohol and 0.2 parts by weight of sodium acetate were added. The pH of the system was about 5.3. 3 at room temperature
After standing for a day, the mixture was filtered through a 3 μm filter to prepare a hard coat layer forming precursor material H1.

【0175】この前駆材料H1では、珪素アルコキシド
の加水分解縮合物は、アルコキシドの脱アルコール反応
から生じたメタノール成分と添加したイソプロピルアル
コールとに溶解した状態のものである。
In the precursor material H1, the hydrolytic condensate of the silicon alkoxide is in a state of being dissolved in the methanol component generated by the dealcoholation reaction of the alkoxide and the added isopropyl alcohol.

【0176】なお、この前駆材料H1では酸化珪素の超
微粒子とメチルトリメトキシシランの加水分解縮合物と
が不揮発成分に相当する。すなわち、酸化珪素の超微粒
子は6重量部であり、メチルトリメトキシシランの加水
分解縮合物は、完全縮合状態を仮定すると14.6重量
部である。
In the precursor material H1, the ultrafine particles of silicon oxide and the hydrolytic condensate of methyltrimethoxysilane correspond to the non-volatile components. That is, the ultrafine particles of silicon oxide are 6 parts by weight, and the hydrolytic condensate of methyltrimethoxysilane is 14.6 parts by weight assuming a complete condensation state.

【0177】よってメチルトリメトキシシランの加水分
解縮合が完全になされた場合の、前駆材料H1の不揮発
成分中の、珪素一原子に3個のメトキシ基および/また
はエトキシ基が結合した3官能珪素アルコキシドによる
加水分解縮合物の重量比率は約71重量%である。な
お、メチルトリメトキシシランの加水分解縮合が完全に
なされていない場合にはこの重量比率は更に高くなる。
Thus, when the hydrolysis-condensation of methyltrimethoxysilane is completely performed, trifunctional silicon alkoxide in which three methoxy groups and / or ethoxy groups are bonded to one silicon atom in the nonvolatile component of precursor material H1. Is about 71% by weight. In addition, when the hydrolysis-condensation of methyltrimethoxysilane is not completely performed, this weight ratio is further increased.

【0178】なお、この前駆材料H1を使用してハード
コート層を2mm厚みの石英板上に5μmの膜厚で積層
硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm厚の
プライマー層を介して積層)した後、この層の表面につ
いて測定した鉛筆強度は9Hであり、前記と同じ前駆材
料H1を使用してハードコート層を1mm厚みのポリカ
ーボネート板上に5μmの膜厚で積層硬化(プライマー
層形成用前駆材料Pによる2μm厚のプライマー層を介
して積層)した後、この層の表面について測定したテー
バー磨耗によるヘーズ上昇は2.8%であった。
Using this precursor material H1, a hard coat layer was laminated and cured on a 2 mm-thick quartz plate with a thickness of 5 μm (laminated with a 2 μm-thick primer layer using a precursor material P for forming a primer layer). After that, the pencil strength measured on the surface of this layer was 9H, and the hard coat layer was laminated and cured to a thickness of 5 µm on a 1 mm thick polycarbonate plate using the same precursor material H1 as described above (for primer layer formation). After laminating through a 2 μm thick primer layer of precursor material P), the haze increase due to Taber abrasion measured on the surface of this layer was 2.8%.

【0179】[ハードコート層形成用前駆材料H2の調
製]ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中
村化学工業製商品名「NKエステル A−9530」)
100重量部と光重合開始剤(チバスペシャリティケミ
カルス社製「イルガキュア184」)5重量部とレベリ
ング剤(東レ・ダウシリコーン社製「SH28PA」
0.05重量部と1メトキシ2プロパノール300重量
部とを混合し、1μmのフィルターで濾過してハードコ
ート層形成用前駆材料H2を調製した。
[Preparation of precursor material H2 for forming hard coat layer] Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "NK Ester A-9530" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
100 parts by weight, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and a leveling agent (“SH28PA” manufactured by Dow Silicone Toray)
0.05 parts by weight and 300 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol were mixed and filtered through a 1 μm filter to prepare a precursor H2 for forming a hard coat layer.

【0180】なお、この前駆材料の1メトキシプロパン
ノール以外の成分は不揮発成分に当たる。よって前駆材
料の不揮発成分中の、分子内に3個以上のアクリロイル
基および/またはメタクリロイル基を有する多官能(メ
タ)アクリレートによる重合体の割合は約95重量%で
あった。
The components other than 1-methoxypropanol in this precursor correspond to non-volatile components. Therefore, the proportion of the polymer of the polyfunctional (meth) acrylate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule in the nonvolatile component of the precursor material was about 95% by weight.

【0181】なお、この前駆材料H2を使用してハード
コート層を2mm厚みの石英板上に5μmの膜厚で積層
硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm厚の
プライマー層を介して積層)した後、この層の表面につ
いて測定した鉛筆強度は9Hであり、前記と同じ前駆材
料H1を使用してハードコート層を1mm厚みのポリカ
ーボネート板上に5μmの膜厚で積層硬化(プライマー
層なし)した後、この層の表面について測定した、テー
バー磨耗によるヘーズ上昇は4.8%であった。
Using this precursor material H2, a hard coat layer was laminated and cured on a quartz plate having a thickness of 2 mm to a thickness of 5 μm (laminated with a 2 μm thick primer layer using a precursor material P for forming a primer layer). After that, the pencil strength measured on the surface of this layer was 9H, and a hard coat layer was laminated and cured to a thickness of 5 µm on a 1 mm thick polycarbonate plate using the same precursor material H1 as described above (without a primer layer). After that, the haze increase due to Taber abrasion measured on the surface of this layer was 4.8%.

【0182】[実施例1]高分子樹脂基板として、ビス
フェノールAとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂による厚み2mm、縦横350
mm×250mmの成形板(帝人化成製「パンライトP
C−1111)を用いた。
Example 1 As a polymer resin substrate, a polycarbonate resin synthesized from bisphenol A and diphenyl carbonate was 2 mm thick, 350 mm in length and width.
mm × 250 mm molded plate (“PANLITE P” manufactured by Teijin Chemicals Limited)
C-1111).

【0183】この基板上に下記の活性光線硬化層形成用
前駆材料をドクターナイフによりコーティングし、60
℃で30秒間乾燥した後に160W/cmの高圧水銀ラ
ンプにより積算光量1.2J/cm2の紫外線を照射し
て、厚み90μmの活性光線硬化層を積層した。
The following precursor for forming an actinic ray-curable layer was coated on this substrate with a doctor knife,
After drying at 30 ° C. for 30 seconds, ultraviolet rays having an integrated light amount of 1.2 J / cm 2 were irradiated from a high-pressure mercury lamp of 160 W / cm to laminate an actinic ray cured layer having a thickness of 90 μm.

【0184】なお、活性光線硬化層形成用前駆材料とし
ては、ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学
製商品名「ライトアクリレートDCP−A」)100重
量部と光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルス製
「イルガキュア184」)3重量部とレベリング剤(東
レ・ダウシリコーン製「SH28PA」0.05重量部
とノルマルプロピルアルコール30重量部とを混合して
用い、紫外線吸収剤は混合しなかった。
As the precursor for forming the actinic ray-curable layer, 100 parts by weight of dicyclopentanyl diacrylate (trade name “light acrylate DCP-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (“Ciba Specialty Chemicals”) 3 parts by weight of Irgacure 184), 0.05 parts by weight of a leveling agent ("SH28PA" manufactured by Toray Dow Silicone Co., Ltd.) and 30 parts by weight of normal propyl alcohol were used without mixing with an ultraviolet absorber.

【0185】この活性光線硬化層形成用前駆材料におけ
るノルマルプロピルアルコール以外の成分はすべて不揮
発成分に相当する。よって、この活性光線硬化層形成用
前駆材料の不揮発成分におけるジシクロペンタニルジア
クリレートの割合は約97重量%であり、分子内に3個
以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基
を有する多官能(メタ)アクリレートは混合されていな
い。
All components other than normal propyl alcohol in the precursor for forming an actinic ray cured layer correspond to non-volatile components. Therefore, the ratio of dicyclopentanyl diacrylate in the non-volatile component of the precursor for forming an actinic ray-curable layer is about 97% by weight, and is a polyfunctional compound having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule. The (meth) acrylate is not mixed.

【0186】また、上記と同じ前駆材料を使用して活性
光線硬化層を2mm厚みの石英板上に90μmの膜厚で
積層硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm
厚のプライマー層を介して積層)した後、測定した鉛筆
強度は3Hであった。
Using the same precursor material as described above, an actinic ray-cured layer was laminated and cured on a quartz plate having a thickness of 2 mm to a thickness of 90 μm (2 μm by a precursor material P for forming a primer layer).
After laminating via a thick primer layer), the measured pencil strength was 3H.

【0187】続いて前記のポリカーボネート基板に活性
光線硬化層が積層された表面を、UV−オゾン処理装置
(アイグラフィック社製OC2506タイプ)で1分間
処理した後に、該表面にプライマー層形成用前駆材料P
をバーコーターを用いてコーティングし、乾燥空気流下
で10分間自然乾燥させた後に、120℃で2分乾燥し
て膜厚が2μmのプライマー層を形成した。
Subsequently, the surface of the polycarbonate substrate on which the actinic ray-curable layer was laminated was treated with a UV-ozone treatment apparatus (OC2506 type manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.) for 1 minute, and then the precursor material for forming a primer layer was formed on the surface. P
Was coated using a bar coater, air-dried for 10 minutes in a dry air stream, and then dried at 120 ° C. for 2 minutes to form a 2 μm-thick primer layer.

【0188】続いてこのプライマー層上にハードコート
層形成用前駆材料H1をバーコーターを用いてコーティ
ングし、乾燥空気流下で10分間自然乾燥させた後に、
130℃で30分間の熱硬化処理を行い、膜厚が5μm
のハードコート層を形成した。
Subsequently, a hard coat layer forming precursor material H1 was coated on the primer layer using a bar coater, and was naturally dried for 10 minutes under a stream of dry air.
Heat cured at 130 ° C. for 30 minutes and the film thickness is 5 μm
Was formed.

【0189】こうして得られたハードコート積層体の外
観は非常に良好であり、全光線透過率は90.2%、ヘ
ーズは0.9%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨耗による
ヘーズ上昇は3.1%、密着性は100/100と良好
であった。
The appearance of the hard coat laminate thus obtained was very good, the total light transmittance was 90.2%, the haze was 0.9%, the pencil hardness was 4H, and the haze increase due to Taber abrasion was 3. 1%, and the adhesion was as good as 100/100.

【0190】しかしながら耐光性試験における△b*
は23.5であり、肉眼で明確に黄色の着色が認められ
た。
However, the Δb * value in the light resistance test was 23.5, and yellow coloring was clearly observed with the naked eye.

【0191】[実施例2]高分子樹脂基板として、ビス
フェノールAとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂による厚み0.3mm、縦横3
50mm×250mmのフィルム(帝人化成製「パンラ
イトPC−2151)を用い、活性光線硬化層形成用前
駆材料として下記の材料を用いた以外は、実施例1と全
く同様にしてハードコート積層体を作成した。
Example 2 As a polymer resin substrate, a polycarbonate resin synthesized from bisphenol A and diphenyl carbonate was 0.3 mm thick, 3 mm wide and 3 mm wide.
A hard coat laminate was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that a 50 mm × 250 mm film (“Panelite PC-2151” manufactured by Teijin Chemicals Co., Ltd.) was used and the following materials were used as precursors for forming an actinic ray-curable layer. Created.

【0192】活性光線硬化層形成用前駆材料としては、
ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学製商品
名「ライトアクリレートDCP−A」)80重量部とジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学
工業製商品名「NKエステルA−9530」20重量部
と光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルス製「イ
ルガキュア184」)3重量部とレベリング剤(東レ・
ダウシリコーン製「SH28PA」0.05重量部とノ
ルマルプロピルアルコール30重量部を混合し、紫外線
吸収剤は混合しなかった。
As the precursor for forming the actinic ray-curable layer,
Photopolymerization with 80 parts by weight of dicyclopentanyl diacrylate (trade name "light acrylate DCP-A" manufactured by Kyoeisha Chemical) and 20 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "NK Ester A-9530" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight of an initiator (“IRGACURE 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and a leveling agent (Toray
0.05 parts by weight of "SH28PA" made by Dow Silicone and 30 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed, and no ultraviolet absorber was mixed.

【0193】この活性光線硬化層形成用前駆材料におけ
るノルマルプロピルアルコール以外の成分はすべて不揮
発成分に相当する。すなわち、この活性光線硬化層形成
用前駆材料の不揮発成分におけるジシクロペンタニルジ
アクリレートの割合は約77重量%であった。また活性
光線硬化層中における、分子内に3個以上のアクリロイ
ル基および/またはメタクリロイル基を有する多官能
(メタ)アクリレートの、不揮発成分全体に対する割合
は約19重量%であった。また、上記と同じ前駆材料を
使用して活性光線硬化層を2mm厚みの石英板上に50
μmの膜厚で積層硬化(プライマー層形成用前駆材料P
による2μm厚のプライマー層を介して積層)した後、
測定した鉛筆強度は5Hであった。
All components other than normal propyl alcohol in this precursor for forming an actinic ray cured layer correspond to non-volatile components. That is, the ratio of dicyclopentanyl diacrylate in the non-volatile component of the precursor for forming an actinic ray curable layer was about 77% by weight. In the actinic ray-curable layer, the ratio of the polyfunctional (meth) acrylate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule to the entire nonvolatile component was about 19% by weight. Using the same precursor material as above, an actinic ray-cured layer was formed on a quartz plate having a thickness of 2 mm by 50 mm.
Lamination curing with a thickness of μm (Primer layer forming precursor material P
After laminating through a 2 μm thick primer layer)
The measured pencil strength was 5H.

【0194】こうして得られたハードコート層積層体の
外観は非常に良好であり、全光線透過率は90.1%、
ヘーズは1.1%、鉛筆硬度は6H、テーバー磨耗によ
るヘーズ上昇は3.3%、密着性は100/100と良
好であった。
The appearance of the thus obtained hard coat layer laminate was very good, and the total light transmittance was 90.1%.
The haze was 1.1%, the pencil hardness was 6H, the haze increase due to Taber abrasion was 3.3%, and the adhesion was 100/100, which was good.

【0195】しかしながら耐光性試験における△b*
は31.7であり、肉眼で明確に黄色の着色が認められ
た。
However, the Δb * value in the light resistance test was 31.7, and yellow coloring was clearly observed with the naked eye.

【0196】[実施例3]高分子樹脂基板として、ビス
フェノールAとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂による厚み0.3mm、縦横2
00mm×150mmのフィルム(帝人化成製「パンラ
イトPC−2151」)を用いた。
Example 3 As a polymer resin substrate, a polycarbonate resin synthesized from bisphenol A and diphenyl carbonate was 0.3 mm in thickness, 2 in length and 2 in width.
A 00 mm × 150 mm film (“Panlite PC-2151” manufactured by Teijin Chemicals Limited) was used.

【0197】この基板上に下記の活性光線硬化層形成用
前駆材料をドクターナイフによりコーティングし、10
0℃で30秒間乾燥した後にESI社製の電子線照射装
置TYPE:CB250/15/180Lにより加速電
圧150KV、照射線量300KGY・m/分の条件で
電子線を照射して、厚み90μmの活性光線硬化層を積
層した以外は、実施例1と全く同様にしてハードコート
積層体を形成した。
The following precursor for forming an actinic ray-curable layer was coated on this substrate with a doctor knife,
After drying at 0 ° C. for 30 seconds, an electron beam is irradiated by an electron beam irradiation device TYPE: CB250 / 15 / 180L manufactured by ESI under the conditions of an acceleration voltage of 150 KV and an irradiation dose of 300 KGY · m / min, and an actinic ray having a thickness of 90 μm. A hard coat laminate was formed in exactly the same manner as in Example 1 except that the cured layer was laminated.

【0198】活性光線硬化層形成用前駆材料として、ジ
シクロペンタニルジメタクリレート(新中村化学工業製
商品名「NKエステル DCP」)100重量部と紫外
線吸収剤0.9重量部(チバスペシャリティケミカルズ
製商品名「チヌビン329」)とレベリング剤(東レ・
ダウシリコーン製「SH28PA」0.05重量部とノ
ルマルプロピルアルコール30重量部を混合した。
As a precursor for forming an actinic radiation-curable layer, 100 parts by weight of dicyclopentanyl dimethacrylate (trade name “NK Ester DCP” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 0.9 parts by weight of an ultraviolet absorber (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Product name "Tinuvin 329") and leveling agent (Toray
0.05 parts by weight of "SH28PA" made by Dow Silicone and 30 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed.

【0199】この活性光線硬化層形成用前駆材料におけ
るノルマルプロピルアルコール以外の成分はすべて不揮
発成分に相当する。すなわち、この活性光線硬化層形成
用前駆材料の不揮発成分におけるジシクロペンタニルジ
メタクリレートの割合は約99重量%であった。尚、活
性光線硬化層中には分子内に3個以上のアクリロイル基
および/またはメタクリロイル基を有する多官能(メ
タ)アクリレートは混合されていない。
All components other than normal propyl alcohol in this precursor for forming an actinic ray cured layer correspond to non-volatile components. That is, the ratio of dicyclopentanyl dimethacrylate in the non-volatile component of the precursor for forming an actinic radiation-curable layer was about 99% by weight. In the actinic ray-curable layer, a polyfunctional (meth) acrylate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule is not mixed.

【0200】また、活性光線硬化層の前駆材料の不揮発
成分中の紫外線吸収剤の添加量は約0.9重量%であ
り、したがって、活性光線硬化層の膜厚(μm)との積
は81重量%・μmであった。
The addition amount of the ultraviolet absorber in the non-volatile component of the precursor of the actinic ray curable layer was about 0.9% by weight. Therefore, the product of the actinic ray curable layer and the film thickness (μm) was 81%. % By weight · μm.

【0201】また、上記と同じ前駆材料を使用して活性
光線硬化層を2mm厚みの石英板上に50μmの膜厚で
積層硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm
厚のプライマー層を介して積層)した後、測定した鉛筆
強度は5Hであり、300〜350nmの波長領域の吸
収率は99.9%以上であった。
Using the same precursor material as above, an actinic ray-cured layer was laminated and cured on a quartz plate having a thickness of 2 mm to a thickness of 50 μm (2 μm by a primer layer forming precursor material P).
After laminating through the thick primer layer), the measured pencil strength was 5H, and the absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99.9% or more.

【0202】こうして得られたハードコート層積層体の
外観は非常に良好であり、全光線透過率は90.0%、
ヘーズは1.3%、鉛筆硬度は6H、テーバー磨耗によ
るヘーズ上昇は3.6%、密着性は100/100と良
好であった。
The thus obtained hard coat layer laminate had a very good appearance, a total light transmittance of 90.0%,
The haze was 1.3%, the pencil hardness was 6H, the haze rise due to Taber abrasion was 3.6%, and the adhesion was 100/100, which was good.

【0203】また耐光性試験は△b*値が1.1で、積
層体の着色は極微であり、耐光性に優れていた。
Further, in the light resistance test, Δb * value was 1.1, the coloring of the laminated body was extremely small, and the light resistance was excellent.

【0204】[実施例4]ビスフェノールAとジフェニ
ルカーボネートとより合成されたポリカーボネート樹脂
による厚み0.3mm、幅500mmのフィルム(帝人
化成製「パンライトPC−2151」)をロールより巻
き出して連続走行させながら、フィルム面に0.2J/
cm2の積算放電量でコロナ処理を施した後に、下記の
活性光線硬化層形成用前駆材料をダイコート法によりコ
ーティングし、60℃の乾燥炉を30秒間通過させた後
に、ESI社製の電子線照射装置TYPE:CB200
/45/300により加速電圧150KV、照射線量1
00KGY・m/分の条件で電子線を照射して、厚み9
0μmの活性光線硬化層を形成した後にロールに巻き取
った。
Example 4 A 0.3 mm-thick and 500 mm-wide film ("Panlite PC-2151" manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) of a polycarbonate resin synthesized from bisphenol A and diphenyl carbonate was unwound from a roll and continuously run. While applying 0.2 J /
After performing corona treatment with an integrated discharge amount of cm 2 , the following precursor for forming an actinic ray-curable layer was coated by a die coating method, passed through a drying oven at 60 ° C. for 30 seconds, and then subjected to an electron beam manufactured by ESI. Irradiation device TYPE: CB200
Acceleration voltage 150KV, irradiation dose 1 according to / 45/300
Irradiation with an electron beam under the condition of 00KGY · m / min.
After forming an actinic ray-curable layer having a thickness of 0 μm, the layer was wound around a roll.

【0205】なお、活性光線硬化層形成用前駆材料とし
ては、ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学
製商品名「ライトアクロレートDCP−A」)100重
量部とレベリング剤(東レ・ダウシリコーン製商品名
「SH28PA」0.05重量部と反応性紫外線吸収剤
として2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシ
フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学社製
商品名「RUVA−93」)0.9重量部とノルマルプ
ロピルアルコール15重量部とを混合して用いた。
As the precursor for forming the actinic ray curable layer, 100 parts by weight of dicyclopentanyl diacrylate (trade name “Light Acrolate DCP-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and a leveling agent (trade name manufactured by Dow Silicone Toray) 0.05 parts by weight of “SH28PA” and 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole (trade name “RUVA-93” manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as a reactive ultraviolet absorber 0 9.9 parts by weight and 15 parts by weight of normal propyl alcohol were mixed and used.

【0206】この活性光線硬化層形成用前駆材料におけ
るノルマルプロピルアルコール以外の成分はすべて不揮
発成分に相当する。すなわち、この活性光線硬化層形成
用前駆材料の不揮発成分におけるジシクロペンタニルジ
アクリレートの割合は約99重量%であった。尚、活性
光線硬化層中には分子内に3個以上のアクリロイル基お
よび/またはメタクリロイル基を有する多官能(メタ)
アクリレートは混合されていない。
All components other than normal propyl alcohol in the precursor for forming an actinic ray cured layer correspond to non-volatile components. That is, the ratio of dicyclopentanyl diacrylate in the non-volatile component of the precursor for forming an actinic radiation-curable layer was about 99% by weight. The actinic ray-curable layer contains a polyfunctional (meth) having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule.
Acrylate is not mixed.

【0207】また、活性光線硬化層の前駆材料の不揮発
成分中の紫外線吸収剤の添加量は約0.9重量%であ
り、したがって、活性光線硬化層の膜厚(μm)との積
は81重量%・μmであった。
The addition amount of the ultraviolet absorber in the non-volatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer was about 0.9% by weight. Therefore, the product of the actinic ray-curable layer and the film thickness (μm) was 81%. % By weight · μm.

【0208】また、上記と同じ前駆材料を使用して活性
光線硬化層を2mm厚みの石英板上に90μmの膜厚で
積層硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm
厚のプライマー層を介して積層)した後、測定した鉛筆
強度は3Hであり、300〜350nmの波長領域の吸
収率は99.9%以上であった。
Using the same precursor material as described above, an actinic radiation-cured layer was laminated and cured on a quartz plate having a thickness of 2 mm to a thickness of 90 μm (2 μm by the precursor material P for forming a primer layer).
After laminating through a thick primer layer), the measured pencil strength was 3H, and the absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99.9% or more.

【0209】次にフィルムを再び巻き出して連続走行さ
せ、前記のジシクロペンタニルジアクリレートの硬化層
が積層されたフィルム面に0.4J/cm2の積算放電
量でコロナ処理を施した後にプライマー層形成用前駆材
料Pをマイクログラビヤ法によりコーティングし、12
0℃の乾燥炉を2分間通過させて溶剤乾燥と熱処理を施
し、厚み2μmのプライマー層を積層後、ロールに巻き
取った。
Next, the film was unwound again and allowed to run continuously, and after a corona treatment was applied to the film surface on which the cured layer of dicyclopentanyl diacrylate was laminated at an integrated discharge amount of 0.4 J / cm 2 , The precursor material P for forming a primer layer is coated by a microgravure method,
After passing through a drying oven at 0 ° C. for 2 minutes to carry out solvent drying and heat treatment, a 2 μm-thick primer layer was laminated and wound up on a roll.

【0210】更に再度フィルムを巻き出してプライマー
層の上面にハードコート層形成用前駆材料H1をマイク
ログラビヤ法によりコーティングして、130℃の乾燥
炉を5分間通過させて熱硬化処理を施し、厚み5μmの
ハードコート層を積層してロールに巻き取った。
Further, the film was unwound again, the upper surface of the primer layer was coated with a hard coat layer forming precursor material H1 by a microgravure method, passed through a drying oven at 130 ° C. for 5 minutes, subjected to a thermosetting treatment, and A 5 μm hard coat layer was laminated and wound up on a roll.

【0211】このハードコート層を積層したフィルム積
層体の外観は非常に良好であり、全光線透過率は90.
1%、ヘーズは1.2%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨
耗によるヘーズ上昇は5.4%、密着性は100/10
0と良好であった。
[0211] The appearance of the film laminate on which the hard coat layer was laminated was very good, and the total light transmittance was 90.
1%, haze 1.2%, pencil hardness 4H, haze increase due to Taber abrasion 5.4%, adhesion 100/10
0 was good.

【0212】また耐光性試験は△b*値が0.9で、積
層体の着色は極微であり、耐光性に優れていた。
Further, in the light resistance test, the Δb * value was 0.9, the coloring of the laminate was very slight, and the light resistance was excellent.

【0213】[実施例5]厚みが188μm、幅130
0mmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製
OFL−188)を用い、実施例1で用いたのと同じ活
性光線硬化層形成用前駆材料をダイコート法によりコー
ティングし、60℃の乾燥炉を30秒間通過させた後、
160W/cmの高圧水銀ランプにより積算光量1.2
J/cm2の紫外線を照射して、厚み90μmの活性光
線硬化層を形成した後にロールに巻き取った。
Example 5 The thickness was 188 μm and the width was 130
Using a 0 mm polyethylene terephthalate film (OFL-188, manufactured by Teijin), the same precursor for forming an actinic radiation-curable layer as used in Example 1 was coated by a die coating method, and passed through a drying oven at 60 ° C. for 30 seconds. rear,
Integrated light quantity of 1.2 using 160 W / cm high pressure mercury lamp
The layer was irradiated with ultraviolet rays of J / cm 2 to form a 90 μm-thick actinic ray cured layer, and then wound around a roll.

【0214】次にフィルムを再び巻き出して連続走行さ
せ、ジシクロペンタニルジアクリレートの硬化層が積層
されたフィルム面に0.6J/cm2の積算放電量でコ
ロナ処理を施した後にプライマー層形成用前駆材料Pを
マイクログラビヤ法によりコーティングし、120℃の
乾燥炉を2分間通過させて溶剤乾燥と熱処理を施し、厚
み2μmのプライマー層を積層後、ロールに巻き取っ
た。
Next, the film was unwound again and allowed to run continuously, and a corona treatment was performed on the film surface on which the cured layer of dicyclopentanyl diacrylate was laminated at an integrated discharge amount of 0.6 J / cm 2 , followed by the primer layer. The precursor material P for forming was coated by a microgravure method, passed through a drying oven at 120 ° C. for 2 minutes, subjected to solvent drying and heat treatment, and after laminating a 2 μm-thick primer layer, it was wound around a roll.

【0215】更に再度フィルムを巻き出してプライマー
層の上面にハードコート層形成用前駆材料H1をマイク
ログラビヤ法によりコーティングして、120℃の乾燥
炉を5分間通過させて熱硬化処理を施し、厚み5μmの
ハードコート層を積層してロールに巻き取った。
Further, the film was unwound again, the upper surface of the primer layer was coated with the hard coat layer forming precursor material H1 by a microgravure method, passed through a drying oven at 120 ° C. for 5 minutes, subjected to a thermosetting treatment, and A 5 μm hard coat layer was laminated and wound up on a roll.

【0216】このハードコート層を積層したフィルム積
層体の外観は非常に良好であり、全光線透過率は89.
7%、ヘーズは1.6%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨
耗によるヘーズ上昇は5.9%、密着性は100/10
0と良好であった。
The appearance of the film laminate on which the hard coat layer was laminated was very good, and the total light transmittance was 89.
7%, haze 1.6%, pencil hardness 4H, haze increase due to Taber abrasion 5.9%, adhesion 100/10
0 was good.

【0217】[実施例6]実施例5においてジシクロペ
ンタニルジアクリレートの硬化層の上面に0.6J/c
2の積算放電量でコロナ処理を施した後に、プライマ
ー層を積層せずに直接ハードコート層形成用前駆材料H
2をマイクログラビヤ法を用いてコーティングし、70
℃の乾燥炉を1分間通過させて溶剤を乾燥した後に、1
60W/cmの高圧水銀ランプにより積算光量1.0J
/cm2の紫外線を照射して、層を硬化させ厚み5μm
のハードコート層を積層した。
[Example 6] In Example 5, 0.6 J / c was applied on the upper surface of the cured layer of dicyclopentanyl diacrylate.
After performing a corona treatment with an integrated discharge amount of m 2, the precursor material H for forming a hard coat layer directly without laminating a primer layer
2 was coated using a microgravure method and 70
After drying the solvent by passing it through a drying oven at
1.0 J integrated light quantity by 60 W / cm high pressure mercury lamp
/ Cm 2 UV light to cure the layer and make it 5 μm thick
Were laminated.

【0218】このハードコート層を積層したフィルム積
層体の外観は非常に良好であり、全光線透過率89.4
%、ヘーズは1.5%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨耗
によるヘーズ上昇は5.3%、密着性は100/100
と良好であった。
The appearance of the film laminate on which the hard coat layer was laminated was very good, and the total light transmittance was 89.4.
%, Haze is 1.5%, pencil hardness is 4H, haze rise by Taber abrasion is 5.3%, and adhesion is 100/100.
And was good.

【0219】[実施例7]実施例3において、活性光線
硬化層形成用前駆材料中に添加する紫外線吸収剤を、2
−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2
−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール
(チバスペシャリティケミカルズ製商品名「チヌビン1
577FF」、0.9重量部添加)に変更し、光重合開
始剤(チバスペシャリティケミカルス製「イルガキュア
184」)の添加量を6重量部とした以外は全く実施例
3と同様にしてハードコート積層体を形成した。尚、こ
の活性光線硬化層の前駆材料の不揮発成分中の紫外線吸
収剤の添加量は約0.85重量%であり、したがって、
活性光線硬化層の膜厚(μm)との積は76重量%・μ
mであった。
[Example 7] In Example 3, the ultraviolet absorber added to the precursor for forming the actinic ray-curable layer was changed to 2
-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazine-2
-Yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol (trade name: Tinuvin 1 manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
577FF ", 0.9 parts by weight added) and hard coat lamination in exactly the same manner as in Example 3 except that the amount of the photopolymerization initiator (" Irgacure 184 "manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was changed to 6 parts by weight. Formed body. The addition amount of the ultraviolet absorber in the nonvolatile component of the precursor of the actinic ray-curable layer was about 0.85% by weight.
The product of the actinic ray-curable layer and the film thickness (μm) is 76% by weight · μ
m.

【0220】また、上記と同じ前駆材料を使用して活性
光線硬化層を2mm厚みの石英板上に90μmの膜厚で
積層硬化(プライマー層形成用前駆材料Pによる2μm
厚のプライマー層を介して積層)した後、測定した鉛筆
強度は3Hであり、300〜350nmの波長領域の吸
収率は99%以上であった。
Further, using the same precursor material as described above, an actinic ray-cured layer was laminated and cured on a quartz plate having a thickness of 2 mm to a thickness of 90 μm (2 μm by a primer layer forming precursor material P).
After laminating through a thick primer layer), the measured pencil strength was 3H, and the absorptance in the wavelength region of 300 to 350 nm was 99% or more.

【0221】尚、こうして得られたハードコート積層体
の外観は非常に良好であり、全光線透過率は90.2
%、ヘーズは1.1%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨耗
によるヘーズ上昇は5.2%、密着性は100/100
と良好であった。
Incidentally, the appearance of the hard coat laminate thus obtained was very good, and the total light transmittance was 90.2%.
%, Haze is 1.1%, pencil hardness is 4H, haze rise due to Taber abrasion is 5.2%, and adhesion is 100/100.
And was good.

【0222】また更に、耐光性は△b*値で0.2と非
常に優れていた。
Furthermore, the light resistance was as excellent as 0.2 in Δb * value.

【0223】[実施例8]実施例1と同様にしてジシク
ロペンタニルジアクリレートによる硬化層を70μmの
厚みで積層したポリカーボネートの成形板を10cm角
の大きさに切り取って(実施例1におけるプライマー層
とハードコート層はここでは積層しない)、更に140
℃で1時間の熱処理を施した後に、真空蒸着装置の真空
槽内にセットして3時間の真空排気を行い、圧力2×1
-3Paの真空度まで到達した後、電子線加熱蒸着法
(EB蒸着法)によって、るつぼ中に充填した酸化珪素
(SiO2含有率95%以上)の溶融塊を昇華させ、前
記のジシクロペンタニルジアクリレートによる硬化層上
に膜厚3.2μmの酸化珪素層を積層した。
Example 8 A molded plate of polycarbonate having a cured layer of dicyclopentanyl diacrylate having a thickness of 70 μm was cut into a 10 cm square size in the same manner as in Example 1 (primer in Example 1). The layer and the hard coat layer are not laminated here).
After performing a heat treatment at 1 ° C. for 1 hour, it was set in a vacuum chamber of a vacuum evaporation apparatus and evacuated for 3 hours, and a pressure of 2 × 1
After reaching a degree of vacuum of 0 −3 Pa, a molten mass of silicon oxide (SiO 2 content: 95% or more) filled in the crucible was sublimated by electron beam evaporation (EB evaporation), A 3.2 μm-thick silicon oxide layer was laminated on the cured layer of cyclopentanyl diacrylate.

【0224】この時、るつぼとサンプルの距離は約60
cmとし、るつぼとサンプルとの間には可動のシャッタ
ーを配置して、サンプルへの蒸着時のみシャッターを開
くようにして成膜を行った。
At this time, the distance between the crucible and the sample is about 60
cm, and a movable shutter was arranged between the crucible and the sample, and the film was formed by opening the shutter only during vapor deposition on the sample.

【0225】尚、ガラス板上に直接このハードコート層
を積層形成した場合の層の鉛筆硬度は9Hであり、荷重
4.9N、1000サイクルのテーバー摩耗試験におけ
るヘーズの増加は、2.8%であった。
When this hard coat layer was formed directly on a glass plate, the pencil hardness of the layer was 9H, and the increase in haze in a Taber abrasion test under a load of 4.9N and 1000 cycles was 2.8%. Met.

【0226】そして、このハードコート積層体の外観は
非常に良好であり、全光線透過率91.0%、ヘーズは
1.0%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨耗によるヘーズ
上昇は2.1%、密着性は100/100と良好であっ
た。
The appearance of the hard coat laminate was very good, the total light transmittance was 91.0%, the haze was 1.0%, the pencil hardness was 4H, and the haze increase due to Taber abrasion was 2.1%. , And the adhesion was as good as 100/100.

【0227】又、このハードコート積層体は、耐水性に
も優れた特長を有していた。すなわち積層体を100℃
の沸騰水中に30分浸せきする試験の後においても、外
観の変化や密着性の低下等の性能悪化は特に観られなか
った。
Further, this hard coat laminate had a feature excellent in water resistance. That is, the laminate is heated
Even after the test of immersion in boiling water for 30 minutes, no deterioration in performance such as a change in appearance or a decrease in adhesion was observed.

【0228】[実施例9]実施例8のハードコート積層
体の真空蒸着による酸化珪素層の上に、更にスパッタリ
ング法により酸化珪素層を積層した。
Example 9 A silicon oxide layer was further laminated by a sputtering method on a silicon oxide layer obtained by vacuum deposition of the hard coat laminate of Example 8.

【0229】すなわち実施例8で作成したのと全く同様
のハードコート積層体を真空槽内にセットして3時間の
真空排気を行い、圧力2×10-3Paの真空度まで到達
した後に、Ar/O2=95:5の混合ガスを導入し、
雰囲気圧力を0.27Paにした。
That is, the same hard coat laminate as that prepared in Example 8 was set in a vacuum chamber and evacuated for 3 hours, and after reaching a degree of vacuum of 2 × 10 −3 Pa, A mixed gas of Ar / O 2 = 95: 5 was introduced,
The atmospheric pressure was set to 0.27 Pa.

【0230】スパッタリングのターゲットとして酸化珪
素(SiO2含有率95%以上)のターゲットを用い、
RFマグネトロンスパッタリング法により投入電力密度
1W/cm2の条件で膜厚0.18μmの酸化珪素層を
形成した。
A silicon oxide target (SiO 2 content: 95% or more) was used as a sputtering target.
A 0.18 μm-thick silicon oxide layer was formed by RF magnetron sputtering under the conditions of a power density of 1 W / cm 2 .

【0231】尚、ガラス板上に直接このハードコート層
を積層形成した場合の層の鉛筆硬度は9Hであり、荷重
4.9N、1000サイクルのテーバー摩耗試験におけ
るヘーズの増加は、1.9%であった。
When the hard coat layer was formed directly on a glass plate, the pencil hardness of the layer was 9H, and the increase in haze in a Taber abrasion test under a load of 4.9N under 1,000 cycles was 1.9%. Met.

【0232】そして、このハードコート積層体の外観は
非常に良好であり、全光線透過率90.9%、ヘーズは
1.0%、鉛筆硬度は4H、テーバー磨耗によるヘーズ
上昇は1.4%、密着性は100/100と良好であっ
た。
The appearance of this hard coat laminate was very good, the total light transmittance was 90.9%, the haze was 1.0%, the pencil hardness was 4H, and the haze increase due to Taber abrasion was 1.4%. , And the adhesion was as good as 100/100.

【0233】また、このハードコート積層体は、耐水性
にも非常に優れた特長を有していた。すなわち積層体を
100℃の沸騰水中に1時間浸せきする試験の後におい
ても、外観の変化や密着性の低下等の性能悪化は特に観
られなかった。
Further, this hard coat laminate had very excellent water resistance. That is, even after the test in which the laminate was immersed in boiling water at 100 ° C. for one hour, no deterioration in performance such as a change in appearance or a decrease in adhesion was observed.

【0234】[比較例1]実施例1においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層せずに直接プライマ
ー層とハードコート層(前駆材料H1からなるハードコ
ート層)を積層形成した以外は全く実施例1と同様にし
て、ハードコート積層体を作成した。
[Comparative Example 1] Except that a primer layer and a hard coat layer (a hard coat layer made of the precursor material H1) were directly formed on the polycarbonate plate without laminating an actinic ray-curable layer in the same manner as in Example 1, but this was carried out at all. In the same manner as in Example 1, a hard coat laminate was prepared.

【0235】このハードコート積層体の外観は非常に良
好であり、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は2.8%と
実施例1とほぼ同等であったが、鉛筆硬度はFであっ
た。
The appearance of this hard coat laminate was very good, and the haze increase due to Taber abrasion was 2.8%, almost the same as that of Example 1, but the pencil hardness was F.

【0236】[比較例2]実施例1において、活性光線
硬化層の厚みを30μmとした以外は全く実施例1と同
様にして、ハードコート積層体を作成した。
Comparative Example 2 A hard coat laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the actinic ray-curable layer was changed to 30 μm.

【0237】このハードコート積層体の外観は非常に良
好であり、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は3.0%と
実施例1とほぼ同等であったが、鉛筆硬度はHであっ
た。
The appearance of this hard coat laminate was very good, and the haze increase due to Taber abrasion was 3.0%, which was almost the same as in Example 1, but the pencil hardness was H.

【0238】[比較例3]実施例4において、活性光線
硬化層を積層せずに直接プライマー層とハードコート層
を積層形成した以外は全く実施例4と同様にして、ハー
ドコート積層体を作成した。
Comparative Example 3 A hard coat laminate was prepared in exactly the same manner as in Example 4 except that the primer layer and the hard coat layer were formed directly without laminating the actinic ray curable layer. did.

【0239】このハードコート積層体の外観は非常に良
好であり、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は5.2%と
実施例4とほぼ同等であったが、鉛筆硬度は3Hであっ
た。
The appearance of this hard coat laminate was very good, and the haze increase due to Taber abrasion was 5.2%, almost the same as that of Example 4, but the pencil hardness was 3H.

【0240】[比較例4]実施例1において、活性光線
硬化層形成用前駆材料中のジシクロペンタニルジアクリ
レートを、分子内に3個以上のアクリロイル基を有する
多官能アクリレートであるジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートに完全に置き換えて、厚み40μmの活
性光線硬化層を積層した以外は全く実施例1と同様にし
て、ハードコート積層体を作成した。
[Comparative Example 4] In Example 1, dicyclopentanyl diacrylate in the precursor for forming an actinic ray-curable layer was replaced by dipentaerythritol which is a polyfunctional acrylate having three or more acryloyl groups in the molecule. A hard coat laminate was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that an actinic ray-curable layer having a thickness of 40 μm was laminated, completely replacing with hexaacrylate.

【0241】このハードコート積層体では、活性光線硬
化層の一面にクラックが発生して外観が不良となり、該
層上へのプライマー層、ハードコート層のコーティング
が不可能になったため、評価を中止した。
In this hard coat laminate, the cracks occurred on one surface of the actinic ray-cured layer and the appearance became poor, and the coating of the primer layer and the hard coat layer on the layer became impossible. did.

【0242】[比較例5]実施例8において、活性光線
硬化層を積層せずに、ポリカーボネート基板上に直接真
空蒸着法により酸化珪素層を形成した以外は全く実施例
8と同様にして、ハードコート積層体を作成した。
[Comparative Example 5] A hard disk was formed in the same manner as in Example 8 except that a silicon oxide layer was directly formed on a polycarbonate substrate by a vacuum evaporation method without forming an actinic ray-curable layer. A coated laminate was made.

【0243】このハードコート積層体の外観、光透過率
は非常に良好であり、密着性は100/100と良好で
あったが、鉛筆硬度はF、テーバー磨耗によるヘーズ上
昇は20.8%と実施例8に比べ著しく劣っていた。
The appearance and light transmittance of this hard coat laminate were very good, and the adhesion was good at 100/100, but the pencil hardness was F and the haze increase due to Taber abrasion was 20.8%. It was remarkably inferior to Example 8.

【0244】またこの積層体は、100℃の沸騰水中に
30分浸せきする試験の後において、蒸着膜が完全に剥
離し、耐水性に劣っていた。
Further, after the test of immersing this laminate in boiling water at 100 ° C. for 30 minutes, the deposited film was completely peeled off and was poor in water resistance.

【0245】[0245]

【発明の効果】ポリカーボネート等の比較的硬度の低い
樹脂成形物に対して、本願発明を適用することにより高
い硬度を有する高分子樹脂積層体を得ることができ、自
動車や建材等の窓材や透視性を必要とする構造材、その
他の幅広い用途に利用することができるようになった。
According to the present invention, a polymer resin laminate having a high hardness can be obtained by applying the present invention to a resin molded product having a relatively low hardness such as polycarbonate, and a window material such as an automobile or a building material can be obtained. It can be used for structural materials that require transparency and a wide range of other uses.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】剛性層の厚みによる積層体表面の押し込み深さ
の変化に関する有限要素法シミュレーションの結果を示
すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the results of a finite element method simulation on a change in the indentation depth on the surface of a laminate according to the thickness of a rigid layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 27/20 B32B 27/20 Z 27/30 27/30 A 27/36 102 27/36 102 B60J 1/00 B60J 1/00 H C08F 2/44 C08F 2/44 B 2/48 2/48 C08J 7/04 CFD C08J 7/04 CFDZ // C08L 69:00 C08L 69:00 (72)発明者 岩井 理直 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 (72)発明者 大森 智 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 (72)発明者 峯松 宏昌 山口県岩国市日の出町2番1号 帝人株式 会社岩国研究センター内 Fターム(参考) 4D075 AE03 AE27 BB23Y BB26Z BB42Y BB42Z BB46Y BB46Z BB47Y BB47Z BB85Z BB92Y BB92Z BB93Y CA02 CA13 CA32 CB06 DA04 DA06 DB33 DB36 DB48 DC01 DC13 DC24 EA21 EB22 EB24 EB33 EB35 EB38 EB43 EB56 EC03 EC47 EC54 4F006 AA36 AB63 BA02 BA03 BA16 CA04 CA08 DA04 4F100 AA20C AA20D AA20H AH06C AH06D AK01A AK01E AK25B AK25C AK25D AK45A AT00A BA05 BA07 BA10D CA02 CA07B CA07H CA18 CC02B EH46B EH66C EH66D EJ42B EJ53B EJ54B EJ65 GB07 GB32 JB14B JK09 JK09C JK09D JK12 JK12B JK12C JK12D 4J011 PA43 PB24 QA12 QA20 QA23 QA24 QA39 QA43 QA45 QB16 SA01 SA31 SA41 SA61 SA64 SA78 SA83 UA01 UA03 VA01 WA02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 27/20 B32B 27/20 Z 27/30 27/30 A 27/36 102 27/36 102 B60J 1 / 00 B60J 1/00 H C08F 2/44 C08F 2/44 B 2/48 2/48 C08J 7/04 CFD C08J 7/04 CFDZ // C08L 69:00 C08L 69:00 (72) Inventor Rina Iwai Yamaguchi No. 1, Hinode-cho, Iwakuni-shi, Iwate Prefecture Inside the Iwakuni Research Center, Teijin Co., Ltd. (72) Inventor Satoshi Omori No. 1, Hinode-machi, Iwakuni-shi, Yamaguchi Prefecture Inside, Iwakuni Research Center, Teijin Co., Ltd. (72) Hiromasa Minematsu, Iwakuni, Yamaguchi Prefecture 2-1, Hinodecho, Teijin Co., Ltd. F-term in Iwakuni Research Center, Teijin Limited 4D075 AE03 AE27 BB23Y BB26Z BB42Y BB42Z BB46Y BB46Z BB47Y BB47Z BB85Z BB92Y BB92Z BB93Y CA 02 CA13 CA32. CA07H CA18 CC02B EH46B EH66C EH66D EJ42B EJ53B EJ54B EJ65 GB07 GB32.

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子樹脂基板上に、厚みが50〜30
0μmの、鉛筆硬度が3H以上である活性光線硬化層
(A)と、厚みが1〜20μmの、荷重4.9N、10
00サイクルのテーバー摩耗試験におけるヘーズの増加
が10%以下であって、鉛筆硬度が4H以上であるハー
ドコート層(B)とがこの順に積層されてなる高分子樹
脂積層体。
1. A polymer resin substrate having a thickness of 50 to 30
An actinic ray-curable layer (A) having a pencil hardness of 3H or more having a thickness of 1 μm and a load of 4.9 N having a thickness of 1 to 20 μm;
A polymer resin laminate obtained by laminating a hard coat layer (B) having a haze increase of 10% or less and a pencil hardness of 4H or more in a 00 cycle Taber abrasion test in this order.
【請求項2】 活性光線硬化層(A)が、ジシクロペン
タニルジアクリレートおよび/またはジシクロペンタニ
ルジメタクリレートが不揮発成分全体の50重量%以上
を占める前駆材料を硬化してなる層であることを特徴と
する請求項1に記載の高分子樹脂積層体。
2. The actinic ray-curable layer (A) is a layer obtained by curing a precursor material in which dicyclopentanyl diacrylate and / or dicyclopentanyl dimethacrylate occupies 50% by weight or more of the entire nonvolatile component. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein:
【請求項3】 活性光線硬化層(A)が、分子内に3個
以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基
を有する多官能(メタ)アクリレートを不揮発成分全体
の50重量%以下の割合で混合した前駆材料を硬化して
なる層であることを特徴とする請求項2に記載の高分子
樹脂積層体。
3. The actinic ray-curable layer (A) is a mixture of a polyfunctional (meth) acrylate having at least three acryloyl groups and / or methacryloyl groups in a molecule in a proportion of not more than 50% by weight of the whole nonvolatile component. The polymer resin laminate according to claim 2, wherein the polymer resin laminate is a layer obtained by curing a precursor material.
【請求項4】 活性光線硬化層(A)の300〜350
nmの波長領域における光吸収率が99%以上であるこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高分子
積層体。
4. 300-350 of the actinic ray-curable layer (A)
The polymer laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein a light absorptivity in a wavelength region of nm is 99% or more.
【請求項5】 活性光線硬化層(A)の前駆材料の不揮
発成分中の紫外線吸収剤の添加量(重量%)と活性光線
硬化層(A)の膜厚(μm)との積が、30〜300重
量%・μmの範囲にあること特徴とする請求項1〜4の
いずれかに記載の高分子積層体。
5. The product of the addition amount (% by weight) of the ultraviolet absorber in the non-volatile component of the precursor of the actinic ray curable layer (A) and the thickness (μm) of the actinic ray curable layer (A) is 30. The polymer laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness is in the range of from about 300% by weight to about 300% by weight.
【請求項6】 活性光線硬化層(A)に混合する紫外線
吸収剤として、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5
−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキ
シ]−フェノールを主に用いたことを特徴とする請求項
1〜5のいずれかに記載の高分子積層体。
6. An ultraviolet absorber mixed with the actinic ray-curable layer (A) as 2- (4,6-diphenyl-1,3,5).
The polymer laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein -triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol is mainly used.
【請求項7】 ハードコート層(B)が、珪素一原子に
3個のメトキシ基および/またはエトキシ基が結合した
3官能珪素アルコキシドによる加水分解縮合物を50重
量%以上含有する層であることを特徴とする請求項1〜
6のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
7. The hard coat layer (B) is a layer containing at least 50% by weight of a hydrolytic condensate of a trifunctional silicon alkoxide in which three methoxy groups and / or ethoxy groups are bonded to one silicon atom. Claims 1 to
7. The polymer resin laminate according to any one of 6.
【請求項8】 ハードコート層(B)が、分子内に3個
以上のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基
を有する多官能(メタ)アクリレートによる重合体を5
0重量%以上含有する層であることを特徴とする請求項
1〜7のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
8. The hard coat layer (B) comprises a polymer of a polyfunctional (meth) acrylate having three or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in the molecule.
The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 7, which is a layer containing 0% by weight or more.
【請求項9】 ハードコート層(B)が、真空成膜プロ
セスにより形成された膜厚が1.5〜10μmの層であ
ることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の高
分子樹脂積層体。
9. The method according to claim 1, wherein the hard coat layer (B) is a layer having a thickness of 1.5 to 10 μm formed by a vacuum film forming process. Molecular resin laminate.
【請求項10】 ハードコート層(B)が、真空蒸着法
により形成された層であることを特徴とする請求項1〜
9のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
10. The hard coat layer (B) is a layer formed by a vacuum deposition method.
10. The polymer resin laminate according to any one of 9.
【請求項11】 ハードコート層(B)が、基板側か
ら、真空蒸着法により形成された層と、スパッタリング
法により形成された膜厚0.02〜0.5μmの層と
を、この順に積層してなる二層からなるハードコート層
であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記
載の高分子樹脂積層体。
11. A hard coat layer (B) is formed by laminating a layer formed by a vacuum evaporation method and a layer having a thickness of 0.02 to 0.5 μm formed by a sputtering method in this order from the substrate side. The polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein the polymer resin laminate is a hard coat layer composed of two layers.
【請求項12】 ハードコート層は、酸化珪素を少なく
とも全体の50重量%以上含む層、もしくは各々が酸化
珪素を少なくとも全体の50重量%以上含む層を積層し
た二層からなる層である事を特徴とする請求項1〜11
のいずれかに記載の高分子樹脂積層体。
12. The hard coat layer is a layer containing at least 50% by weight of silicon oxide or at least 50% by weight of silicon oxide. Claims 1 to 11 characterized by the above-mentioned.
The polymer resin laminate according to any one of the above.
【請求項13】 高分子樹脂基板がポリカーボネートの
成形基板であることを特徴とする請求項1〜12のいず
れかに記載の高分子樹脂積層体。
13. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein the polymer resin substrate is a molded polycarbonate substrate.
【請求項14】 積層体のヘーズ値が5%以下であるこ
とを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載の高分
子樹脂積層体。
14. The polymer resin laminate according to claim 1, wherein a haze value of the laminate is 5% or less.
【請求項15】 高分子樹脂基板上に活性光線硬化層の
前駆材料を塗布した後に、電子線もしくは紫外線の照射
により前駆材料の塗布膜を硬化させて活性光線硬化層
(A)を形成することを特徴とする請求項1〜14のい
ずれかに記載の高分子樹脂積層体の製造方法。
15. An actinic light-cured layer (A) is formed by applying a precursor of an actinic ray-curable layer on a polymer resin substrate and then curing the applied film of the precursor material by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. The method for producing a polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 14, wherein:
【請求項16】 活性光線硬化層の前駆材料を塗布した
高分子樹脂基板を、50〜130℃の温度に昇温した後
に、活性光線を照射して高分子基板上に活性光線硬化層
(A)を形成することを特徴とする請求項15に記載の
高分子樹脂積層体の製造方法。
16. A polymer resin substrate coated with a precursor of an actinic ray curable layer is heated to a temperature of 50 to 130 ° C., and then irradiated with actinic light to form an actinic ray curable layer (A) on the polymer substrate. 17. The method for producing a polymer resin laminate according to claim 15, wherein
【請求項17】 樹脂の上に、請求項1〜16のいずれ
かの高分子樹脂積層体を、ハードコート層(B)の上面
を外側にして積層してなる成形物。
17. A molded product obtained by laminating the polymer resin laminate according to claim 1 on a resin with the upper surface of the hard coat layer (B) facing outward.
【請求項18】 成形物が、請求項1〜17のいずれか
に記載の高分子樹脂積層体であることを特徴とする成形
物。
18. A molded article, characterized in that the molded article is the polymer resin laminate according to any one of claims 1 to 17.
【請求項19】 成形物が自動車窓もしくは建材用窓で
あることを特徴とする請求項17または18に記載の成
形物。
19. The molded product according to claim 17, wherein the molded product is an automobile window or a window for a building material.
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