JP2001321359A - 人の足底圧分布を簡易に導き出す方法とそのインソール - Google Patents
人の足底圧分布を簡易に導き出す方法とそのインソールInfo
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- JP2001321359A JP2001321359A JP2000183754A JP2000183754A JP2001321359A JP 2001321359 A JP2001321359 A JP 2001321359A JP 2000183754 A JP2000183754 A JP 2000183754A JP 2000183754 A JP2000183754 A JP 2000183754A JP 2001321359 A JP2001321359 A JP 2001321359A
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- pressure distribution
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- Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
- Orthopedics, Nursing, And Contraception (AREA)
- Footwear And Its Accessory, Manufacturing Method And Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課 題】 人それぞれの足底圧分布を足底圧解析装置
等の計測器具を使わず、基本的立位姿勢でＯ脚、Ｘ脚等
の下肢骨のアライメントの外観より簡易に導き出す方
法。および、足底圧の偏った足底圧減弱部に適応して足
底圧分布を平均化する、ある一定の形状と大きさをした
インソールを各人に提供することにある。 【解決手段】 人は直立した姿勢にてＯ脚、Ｘ脚等その
人固有の下肢骨のアライメントをもち、Ｏ脚、Ｘ脚は定
型的な足底圧分布を示す。そこで、両側の踵をつけて左
右の拇趾を４５°に開き直立した姿勢を基本的立位姿勢
とし、左右の膝関節内側顆の離開の程度から、簡易に人
の足底圧分布を導き出すことができる。また、下肢骨の
アライメントの違いによって足底圧分布は定型的にあら
われ、厚さの異なるある一定の形状と大きさの数種類の
インソールを用い、足底圧減弱部に手軽に適応でき、容
易に各人の足底圧分布を平均化することができる。
等の計測器具を使わず、基本的立位姿勢でＯ脚、Ｘ脚等
の下肢骨のアライメントの外観より簡易に導き出す方
法。および、足底圧の偏った足底圧減弱部に適応して足
底圧分布を平均化する、ある一定の形状と大きさをした
インソールを各人に提供することにある。 【解決手段】 人は直立した姿勢にてＯ脚、Ｘ脚等その
人固有の下肢骨のアライメントをもち、Ｏ脚、Ｘ脚は定
型的な足底圧分布を示す。そこで、両側の踵をつけて左
右の拇趾を４５°に開き直立した姿勢を基本的立位姿勢
とし、左右の膝関節内側顆の離開の程度から、簡易に人
の足底圧分布を導き出すことができる。また、下肢骨の
アライメントの違いによって足底圧分布は定型的にあら
われ、厚さの異なるある一定の形状と大きさの数種類の
インソールを用い、足底圧減弱部に手軽に適応でき、容
易に各人の足底圧分布を平均化することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 この発明は人の踵骨内側
部、外側部、拇趾球部、小趾球部に加わる足底圧を、足
底圧解析装置等の計測器具を使わず、両側の踵をつけて
左右の拇趾を４５°に開き、直立した基本的立位姿勢で
の下肢骨のアライメントを調べることにより、その人固
有の足底圧分布を簡易に導き出す方法。および、人それ
ぞれの下肢骨のアライメントは定型的な足底圧分布を示
し、その足底圧減弱部を補強して、足底圧を平均化する
厚さは異なるが形状、大きさが一定のインソールに関す
る。
部、外側部、拇趾球部、小趾球部に加わる足底圧を、足
底圧解析装置等の計測器具を使わず、両側の踵をつけて
左右の拇趾を４５°に開き、直立した基本的立位姿勢で
の下肢骨のアライメントを調べることにより、その人固
有の足底圧分布を簡易に導き出す方法。および、人それ
ぞれの下肢骨のアライメントは定型的な足底圧分布を示
し、その足底圧減弱部を補強して、足底圧を平均化する
厚さは異なるが形状、大きさが一定のインソールに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】 従来、人それぞれの足底圧分布を導き
出す方法として、足底圧解析装置等の計測器具を使い、
計測板上に足底を直接乗せて荷重を加え、計測板にあら
われる圧迫荷重の強い部分と弱い部分から足底圧分布を
調べている。そして、計測された足底圧分布の強弱部を
矯正、補強するため、足底各部に対応する様々な形状と
大きさのインソールが存在している。
出す方法として、足底圧解析装置等の計測器具を使い、
計測板上に足底を直接乗せて荷重を加え、計測板にあら
われる圧迫荷重の強い部分と弱い部分から足底圧分布を
調べている。そして、計測された足底圧分布の強弱部を
矯正、補強するため、足底各部に対応する様々な形状と
大きさのインソールが存在している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】 人はそれぞれ固有の
足底圧分布をもち、その足底圧分布を調べるために足底
圧解析装置等の計測器具を使い、煩雑な操作を行って足
底各部の足底圧の強弱部を導き出していた。そこで、こ
れら計測器具を使わずに人の下肢骨のアライメントの外
観を調べ、その人の足底圧分布を簡易に導き出すことを
目的とする。
足底圧分布をもち、その足底圧分布を調べるために足底
圧解析装置等の計測器具を使い、煩雑な操作を行って足
底各部の足底圧の強弱部を導き出していた。そこで、こ
れら計測器具を使わずに人の下肢骨のアライメントの外
観を調べ、その人の足底圧分布を簡易に導き出すことを
目的とする。
【０００４】 現在、人の足底各部には足底圧を平均
化、矯正するため様々な形状、大きさのインソールが用
いられているが、足底圧減弱部の補強に手軽に選び適応
することのできるインソールを得ることは困難である。
そこで、インソールを足底の特定部位に対応する形状、
大きさが一定の数種類のインソールに集約することによ
り、手軽に足底圧減弱部を補強するインソールを選び適
応することができ、容易に足底圧分布を平均化すること
を目的とする。
化、矯正するため様々な形状、大きさのインソールが用
いられているが、足底圧減弱部の補強に手軽に選び適応
することのできるインソールを得ることは困難である。
そこで、インソールを足底の特定部位に対応する形状、
大きさが一定の数種類のインソールに集約することによ
り、手軽に足底圧減弱部を補強するインソールを選び適
応することができ、容易に足底圧分布を平均化すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】 人はそれぞれ固有の下
肢骨の形状、大きさとその配列、すなわち、下肢骨のア
ライメントをもつ。大腿骨、脛骨が外側に湾曲している
Ｏ脚の場合、直立した足部への荷重は足底内側の拇趾球
部と踵骨内側部に強く加わり、足底外側の小趾球部と踵
骨外側部への足底圧が弱い足底圧分布を示す。大腿骨、
脛骨がやや内側に湾曲しているＸ脚の場合、直立した足
部への荷重は足底外側の小趾球部と踵骨外側部に強く加
わり、足底内側の拇趾球部と踵骨内側部への足底圧が弱
い足底圧分布を示す。これら下肢骨のアライメントの特
徴から、両側の踵をつけて左右の拇趾を４５°に開き直
立した基本的立位姿勢を、足底圧分布を簡易に導き出す
基本肢位とする。Ｏ脚では左右の膝関節内側顆の接触が
みられず、膝関節内側顆間の間隙が広くなればなるほど
拇趾球部、踵骨内側部への足底圧も強くなり、小趾球
部、踵骨外側部への足底圧は弱くなって行く。Ｘ脚では
左右の膝関節内側顆が接触すると共に、大腿部、下腿部
の内側の筋肉も接触して小趾球部、踵骨外側部への荷重
が強く、拇趾球部、踵骨内側部への足底圧が弱い足底圧
分布を示すこととなる。左右の膝関節内側顆のみ接触し
た基本肢位では拇趾球部、小趾球部、踵骨部に足底圧が
平均的に分散する。基本的立位姿勢を基準にした下肢骨
のアライメンから、左右の膝関節内側顆の間隙の程度を
調べることにより、人それぞれの定型的な足底圧分布を
導き出すことできる。
肢骨の形状、大きさとその配列、すなわち、下肢骨のア
ライメントをもつ。大腿骨、脛骨が外側に湾曲している
Ｏ脚の場合、直立した足部への荷重は足底内側の拇趾球
部と踵骨内側部に強く加わり、足底外側の小趾球部と踵
骨外側部への足底圧が弱い足底圧分布を示す。大腿骨、
脛骨がやや内側に湾曲しているＸ脚の場合、直立した足
部への荷重は足底外側の小趾球部と踵骨外側部に強く加
わり、足底内側の拇趾球部と踵骨内側部への足底圧が弱
い足底圧分布を示す。これら下肢骨のアライメントの特
徴から、両側の踵をつけて左右の拇趾を４５°に開き直
立した基本的立位姿勢を、足底圧分布を簡易に導き出す
基本肢位とする。Ｏ脚では左右の膝関節内側顆の接触が
みられず、膝関節内側顆間の間隙が広くなればなるほど
拇趾球部、踵骨内側部への足底圧も強くなり、小趾球
部、踵骨外側部への足底圧は弱くなって行く。Ｘ脚では
左右の膝関節内側顆が接触すると共に、大腿部、下腿部
の内側の筋肉も接触して小趾球部、踵骨外側部への荷重
が強く、拇趾球部、踵骨内側部への足底圧が弱い足底圧
分布を示すこととなる。左右の膝関節内側顆のみ接触し
た基本肢位では拇趾球部、小趾球部、踵骨部に足底圧が
平均的に分散する。基本的立位姿勢を基準にした下肢骨
のアライメンから、左右の膝関節内側顆の間隙の程度を
調べることにより、人それぞれの定型的な足底圧分布を
導き出すことできる。
【０００６】 人の下肢骨のアライメントは定型的な足
底圧分布を示し、偏った足底圧分布は足の運動機能を障
害し易く、インソールを用い足底圧減弱部を補強しなけ
ればならない。Ｘ脚での足底圧減弱部は拇趾球部と踵骨
内側部、Ｏ脚での足底圧減弱部は小趾球部と踵骨外側部
に区別することができ、Ｏ脚かＸ脚かにより厚さは異な
るが、形状と大きさが一定の拇趾球部、小趾球部、踵骨
内側部と外側部に適応する３種類のインソールを２組に
組み合わせることで、人それぞれの足底圧分布を容易に
平均化することができる。
底圧分布を示し、偏った足底圧分布は足の運動機能を障
害し易く、インソールを用い足底圧減弱部を補強しなけ
ればならない。Ｘ脚での足底圧減弱部は拇趾球部と踵骨
内側部、Ｏ脚での足底圧減弱部は小趾球部と踵骨外側部
に区別することができ、Ｏ脚かＸ脚かにより厚さは異な
るが、形状と大きさが一定の拇趾球部、小趾球部、踵骨
内側部と外側部に適応する３種類のインソールを２組に
組み合わせることで、人それぞれの足底圧分布を容易に
平均化することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】 この発明は人それぞれの下肢骨
のアライメントから、人の足底圧分布を簡易に導き出す
方法と、導き出された足底圧分布に手軽に適応し、容易
に足底圧分布を平均化するインソールである。両側の踵
をつけて左右の拇趾を４５°に開き直立した基本的立位
姿勢にて、左右の膝関節内側顆の間隙の広さを調べ、人
の足底圧分布を計測器具を使わず下肢骨のアライメント
の外観から導き出す。さらに、下肢骨のアライメントが
示す定型的な足底圧の強弱部とその程度から、足底圧減
弱部の拇趾球部、小趾球部、踵骨内側部と外側部に適応
する厚さが異なり形状、大きさが一定の３種類のインソ
ールを用い、容易に人の足底圧分布を平均化する。
のアライメントから、人の足底圧分布を簡易に導き出す
方法と、導き出された足底圧分布に手軽に適応し、容易
に足底圧分布を平均化するインソールである。両側の踵
をつけて左右の拇趾を４５°に開き直立した基本的立位
姿勢にて、左右の膝関節内側顆の間隙の広さを調べ、人
の足底圧分布を計測器具を使わず下肢骨のアライメント
の外観から導き出す。さらに、下肢骨のアライメントが
示す定型的な足底圧の強弱部とその程度から、足底圧減
弱部の拇趾球部、小趾球部、踵骨内側部と外側部に適応
する厚さが異なり形状、大きさが一定の３種類のインソ
ールを用い、容易に人の足底圧分布を平均化する。
【０００８】
【実施例】 以下、この発明の図面を参照し実施例によ
り説明する。両側の踵（３）をつけて左右の拇趾（１
０）を４５°に開き直立した基本的立位姿勢を、人の足
底圧分布を導き出す基本肢位とする。
り説明する。両側の踵（３）をつけて左右の拇趾（１
０）を４５°に開き直立した基本的立位姿勢を、人の足
底圧分布を導き出す基本肢位とする。
【図１】。この計測肢位から左右の膝関節内側顆（２）
の接触、離開の程度を調べることにより、人の足底圧分
布が簡易に導き出される。Ｘ脚（５）の下肢骨のアライ
メントは左右の膝関節内側顆（２）、左右の大腿部、下
腿部の内側の筋肉が接触した状態で、踵骨（１４）内側
部（１５）、拇趾球部（１２）に足底圧減弱部がみられ
る。
の接触、離開の程度を調べることにより、人の足底圧分
布が簡易に導き出される。Ｘ脚（５）の下肢骨のアライ
メントは左右の膝関節内側顆（２）、左右の大腿部、下
腿部の内側の筋肉が接触した状態で、踵骨（１４）内側
部（１５）、拇趾球部（１２）に足底圧減弱部がみられ
る。
【図２】。左右の膝関節内側顆（２）のみ接触する基本
脚（６）の下肢骨のアライメントは、足底（１３）の拇
趾球部（１２）、小趾球部（１１）、踵骨（１４）内側
部（１５）、外側部（１６）への足底圧分布が平均化し
ている。
脚（６）の下肢骨のアライメントは、足底（１３）の拇
趾球部（１２）、小趾球部（１１）、踵骨（１４）内側
部（１５）、外側部（１６）への足底圧分布が平均化し
ている。
【図３】。軽度Ｏ脚（７）の下肢骨のアライメントは左
右の膝関節内側顆（２）、大腿部、下腿部の内側の筋肉
が接触していない状態で、踵骨（１４）外側部（１
６）、小趾球部（１１）に足底圧減弱部がみられる。
右の膝関節内側顆（２）、大腿部、下腿部の内側の筋肉
が接触していない状態で、踵骨（１４）外側部（１
６）、小趾球部（１１）に足底圧減弱部がみられる。
【図４】。左右の膝関節内側顆（２）の離開が広い強度
Ｏ脚（８）ほど、踵骨（１４）外側部（１６）、小趾球
部（１１）の足底圧が減弱して行く。
Ｏ脚（８）ほど、踵骨（１４）外側部（１６）、小趾球
部（１１）の足底圧が減弱して行く。
【図５】。踵骨（１４）内側部（１５）と外側部（１
６）には最大縦径１１０ｍｍ、最大横径２６ｍｍ、外側
（２１）の最大の厚さ２ｍｍのインソール。
６）には最大縦径１１０ｍｍ、最大横径２６ｍｍ、外側
（２１）の最大の厚さ２ｍｍのインソール。
【図７】。
【図１０】。拇趾球部（１２）には最大縦径１４０ｍ
ｍ、最大横径４４ｍｍ、外側（２１）の最大の厚さ２ｍ
ｍのインソール。
ｍ、最大横径４４ｍｍ、外側（２１）の最大の厚さ２ｍ
ｍのインソール。
【図９】。
【図１２】。小趾球部（１１）には最大縦径１３３ｍ
ｍ、最大横径３４ｍｍ、外側（２１）の最大の厚さ２ｍ
ｍのシリコン等の素材で形成された流線型のインソール
を製作した。
ｍ、最大横径３４ｍｍ、外側（２１）の最大の厚さ２ｍ
ｍのシリコン等の素材で形成された流線型のインソール
を製作した。
【図８】。
【図１１】。踵骨（１４）内側部（１５）、外側部（１
６）に対応するインソール（１７）を
６）に対応するインソール（１７）を
【図２】の足底（１３）の踵骨（１４）内側部（１５）
に当て、拇趾球部（１２）に対応するインソール（１
９）を
に当て、拇趾球部（１２）に対応するインソール（１
９）を
【図２】の足底（１３）の拇趾球部（１２）に当て、Ｘ
脚（５）の足底圧分布を平均化する。
脚（５）の足底圧分布を平均化する。
【図１４】。踵骨（１４）内側部（１５）、外側部（１
６）に対応するインソール（１７）を
６）に対応するインソール（１７）を
【図４】の足底（１３）の踵骨（１４）外側部（１６）
に当て、小趾球部（１１）に対応するインソール（１
８）を
に当て、小趾球部（１１）に対応するインソール（１
８）を
【図４】の足底（１３）の小趾球部（１１）に当て、軽
度Ｏ脚（７）の足底圧分布を平均化する。
度Ｏ脚（７）の足底圧分布を平均化する。
【図１３】。ただし、膝関節内側顆（２）間の離開の広
い強度Ｏ脚（８）は踵骨（１４）内側部（１５）、外側
部（１６）に対応するインソール（１７）、小趾球部
（１１）に対応するインソール（１８）の外側（２１）
をより厚くして対応する。
い強度Ｏ脚（８）は踵骨（１４）内側部（１５）、外側
部（１６）に対応するインソール（１７）、小趾球部
（１１）に対応するインソール（１８）の外側（２１）
をより厚くして対応する。
【０００９】
【発明の効果】 両側の踵をつけて左右の拇趾を４５°
に開き直立した基本的立位姿勢において、左右の膝関節
内側顆が接触したり離開している下肢骨のアライメント
から、人の足底圧分布とその強弱の程度を計測器具を使
わず、いつでも、どこでも、誰でも簡易に導き出すこと
ができる。
に開き直立した基本的立位姿勢において、左右の膝関節
内側顆が接触したり離開している下肢骨のアライメント
から、人の足底圧分布とその強弱の程度を計測器具を使
わず、いつでも、どこでも、誰でも簡易に導き出すこと
ができる。
【００１０】 Ｘ脚、Ｏ脚の下肢骨のアライメントは定
型的な足底圧分布を示し、左右の膝関節内側顆の離開の
広いＯ脚ほど小趾球部、踵骨外側部の足底圧が減弱す
る。そこで、足底圧減弱部に厚さの異なる一定の形状、
大きさをした３種類のインソールを手軽に選び適応する
ことにより、足底圧の偏った足底圧分布を容易に平均化
することができる。
型的な足底圧分布を示し、左右の膝関節内側顆の離開の
広いＯ脚ほど小趾球部、踵骨外側部の足底圧が減弱す
る。そこで、足底圧減弱部に厚さの異なる一定の形状、
大きさをした３種類のインソールを手軽に選び適応する
ことにより、足底圧の偏った足底圧分布を容易に平均化
することができる。
【００１１】 歩行用靴には履用者の足本来の運動機能
を損うことなく、下肢骨のアライメントを保つ靴が求め
られている。足底圧の偏った履用者の足底圧分布を３種
類のインソールで平均化してくれる靴は、Ｘ脚、Ｏ脚に
起こり易い膝関節の変形が進行する変形性膝関節症、Ｏ
脚に起こり易い第１中足趾節関節の変形から拇趾が外側
に曲がってしまう外反拇趾等の下肢の運動器疾患の発生
を予防してくれる。また、靴のかかと部分の摩耗をも抑
制し、足本来の運動機能を充分発揮できる履ごこちのよ
い靴となる。
を損うことなく、下肢骨のアライメントを保つ靴が求め
られている。足底圧の偏った履用者の足底圧分布を３種
類のインソールで平均化してくれる靴は、Ｘ脚、Ｏ脚に
起こり易い膝関節の変形が進行する変形性膝関節症、Ｏ
脚に起こり易い第１中足趾節関節の変形から拇趾が外側
に曲がってしまう外反拇趾等の下肢の運動器疾患の発生
を予防してくれる。また、靴のかかと部分の摩耗をも抑
制し、足本来の運動機能を充分発揮できる履ごこちのよ
い靴となる。
【図１】 足底圧分布を導き出す基本的立位姿勢
【図２】 Ｘ脚の基本的立位姿勢
【図３】 Ｘ脚でもＯ脚でもない基本的立位姿勢
【図４】 軽度Ｏ脚の基本的立位姿勢
【図５】 強度Ｏ脚の基本的立位姿勢
【図６】 左足の足底図
【図７】 踵骨内側部、外側部に対応するインソール
の平面図
の平面図
【図８】 小趾球部に対応するインソールの平面図
【図９】 拇趾球部に対応するインソールの平面図
【図１０】 踵骨内側部、外側部に対応するインソール
の上が中央の縦断面図。下が側面図。
の上が中央の縦断面図。下が側面図。
【図１１】 小趾球部に対応するインソールの上が中央
の縦断面図。下が側面図。
の縦断面図。下が側面図。
【図１２】 拇趾球部に対応するインソールの上が中央
の縦断面図。下が側面図。
の縦断面図。下が側面図。
【図１３】 Ｏ脚の足底にインソールを当てた図
【図１４】 Ｘ脚の足底にインソールを当てた図
１．基本的立位姿勢 ２．膝関節内側顆 ３．踵 ４．４５° ５．Ｘ脚 ６．基本脚 ７．軽度Ｏ脚 ８．強度Ｏ脚 ９．小趾 １０．拇趾 １１．小趾球部 １２．拇趾球部 １３．足底 １４．踵骨 １５．内側部 １６．外側部 １７．踵骨内側部、外側部のインソール １８．小趾球部のインソール １９．拇趾球部のインソール ２０．内側 ２１．外側
Claims (2)
- 【請求項１】 人の足底圧分布を調べる計測器具を使わ
ず、両側の踵をつけて左右の拇趾を４５°に開き、直立
した基本的立位姿勢での下肢骨のアライメントを基準に
し、左右の膝関節内側顆の間隙の程度を調べることによ
り、人それぞれ固有の足底圧分布を簡易に導き出す方
法。 - 【請求項２】 人の下肢骨のアライメントはＯ脚、Ｘ脚
の違いから、拇趾球部、小趾球部、踵骨内側部、外側部
に足底圧の強弱部があらわれる。この定型的な足底圧分
布を示す足底圧減弱部を補強し、偏った足底圧分布を平
均化する、外側の厚さが異なり内側が薄く、形状、大き
さが一定の流線型をした３種類のインソール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000183754A JP2001321359A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 人の足底圧分布を簡易に導き出す方法とそのインソール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000183754A JP2001321359A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 人の足底圧分布を簡易に導き出す方法とそのインソール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001321359A true JP2001321359A (ja) | 2001-11-20 |
Family
ID=18684289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000183754A Pending JP2001321359A (ja) | 2000-05-16 | 2000-05-16 | 人の足底圧分布を簡易に導き出す方法とそのインソール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001321359A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1844709B1 (en) * | 2006-04-10 | 2015-03-11 | currex GmbH | A method and an arrangement for determining an inner sole structure adapted to a user's foot |
| JP2015091311A (ja) * | 2013-10-24 | 2015-05-14 | 歐立達股▲ふん▼有限公司 | 自転車サイクリングの膝関節の運動軌道を分析するために用いる測定システム及びその方法 |
| CN110051078A (zh) * | 2019-05-09 | 2019-07-26 | 瑞昌芯迈科技有限公司 | 一种定制鞋垫设计方法及其制造方法 |
| JP2021115245A (ja) * | 2020-01-27 | 2021-08-10 | 株式会社Gold Gravity Japan | インナーソール |
| US11918085B2 (en) | 2018-08-30 | 2024-03-05 | Digital Foot Spa | Method for design of insoles |
-
2000
- 2000-05-16 JP JP2000183754A patent/JP2001321359A/ja active Pending
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