JP2001320173A - Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board - Google Patents

Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board

Info

Publication number
JP2001320173A
JP2001320173A JP2000135681A JP2000135681A JP2001320173A JP 2001320173 A JP2001320173 A JP 2001320173A JP 2000135681 A JP2000135681 A JP 2000135681A JP 2000135681 A JP2000135681 A JP 2000135681A JP 2001320173 A JP2001320173 A JP 2001320173A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
prepreg
polymer film
board member
diamond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000135681A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoji Ueda
洋二 上田
Yoshihiro Kawakita
嘉洋 川北
Fumio Echigo
文雄 越後
Tsutomu Mitani
力 三谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000135681A priority Critical patent/JP2001320173A/en
Publication of JP2001320173A publication Critical patent/JP2001320173A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board member for improving the connection reliability in a via hole of the circuit board and for making the dimension of the via hole, and to provide a method of manufacturing a circuit board with high reliability by using the member for a circuit board. SOLUTION: In the circuit board member (1) formed by providing macromolecular films on both surfaces of a prepreg, a diamond-like carbon film layer (3a) is provided on both surfaces or one surface of the macromolecular film (2), and the surface of the macromolecular film (2) on the diamond-like carbon film layer side is contacted with the prepreg (4). By constituting this, there can be provided the circuit board member for improving the connection reliability of the circuit board and for making the dimension of the via hole. A through hole is formed on a prescribed position on the circuit board member, a conductive paste is applied to the through hole, and then the macromolecular film is removed from the circuit board member, thereby forming the prepreg. By using the prepreg formed in this way, the circuit board with high reliability can be manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器に使用す
る回路基板の絶縁層を形成するための回路基板用部材、
およびそれを用いて電子部品を高密度に実装することが
できる両面回路基板、多層回路基板を提供するための製
造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit board member for forming an insulating layer of a circuit board used in electronic equipment,
Also, the present invention relates to a manufacturing method for providing a double-sided circuit board and a multilayer circuit board on which electronic components can be mounted at a high density using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年電子機器の小型、軽量化および高機
能化に伴い、回路基板に対して、小型、軽量化および高
速信号処理化、さらには高密度実装化が要求されてい
る。このような要求に対して、回路基板技術は、高多層
化、ビアホールの小径化および回路パターンのファイン
化技術等を急速に進展させる必要性がある。しかし、従
来のスルーホール構造によって層間の電気接続がなされ
る多層回路基板では、もはやこれらの要求を満足させる
ことは極めて困難である。そのために新しい構造を備え
た回路基板やその製造方法が開発された。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller, lighter, and more sophisticated, circuit boards have been required to be smaller, lighter, have higher signal processing, and have a higher density. In response to such demands, it is necessary for the circuit board technology to rapidly develop a technology for increasing the number of layers, reducing the diameter of via holes, and finer circuit patterns. However, it is extremely difficult to satisfy these requirements any more with a multilayer circuit board in which electrical connection between layers is made by a conventional through-hole structure. Therefore, a circuit board having a new structure and a manufacturing method thereof have been developed.

【0003】その代表例の一つに、従来回路基板の層間
接続の主流となっていたスルーホール構造に変わって、
導電性ペーストにより層間の電気接続を確保した完全I
VH(インナービアホール)構造を有する回路基板(特
開平6−268345号公報)が開発された。
[0003] One of the representative examples is that, instead of a through-hole structure which has conventionally been the mainstream of interlayer connection of circuit boards,
Complete I with electrical connection between layers secured by conductive paste
A circuit board having a VH (inner via hole) structure has been developed (JP-A-6-268345).

【0004】この回路基板の製造方法においては、導電
性ペーストからなるビアホールを形成するための工程が
ある。この工程は、高分子フィルムを両面に備えたプリ
プレグの所定の位置にレーザー等で貫通孔を形成し、そ
の貫通孔に印刷等の方法で導電性ペースト充填するもの
である。この工程において、高分子フィルムは導電性ペ
ーストの充填時に貫通孔以外の絶縁部分に導電性ペース
トの付着を防ぐ役割と搬送時の汚染防止等の役割を担っ
ている。
In this method of manufacturing a circuit board, there is a step for forming a via hole made of a conductive paste. In this step, a through hole is formed at a predetermined position of a prepreg having a polymer film on both sides by a laser or the like, and the through hole is filled with a conductive paste by printing or the like. In this step, the polymer film has a role of preventing the conductive paste from adhering to an insulating portion other than the through holes when the conductive paste is filled, and a role of preventing contamination during transportation.

【0005】そして導電性ペーストの充填後は、この高
分子フィルムをプリプレグから剥離し、導電性ペースト
が充填されたビアホールを有するプリプレグを得ること
ができ、さらにこれを用いて従来の銅張積層板あるいは
多層基板の工法と回路のパターニングで完全IVH構造
の回路基板を提供できる。また、従来のこの工程に用い
られる高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポ
リプロピレン(PP)等であり、また、プリプレグと接
する面に離形剤が塗布されていることもある。
After the conductive paste is filled, the polymer film is peeled off from the prepreg to obtain a prepreg having via holes filled with the conductive paste. Alternatively, a circuit board having a complete IVH structure can be provided by a multilayer board method and circuit patterning. The conventional polymer film used in this step is polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polypropylene (PP), or the like, and a release agent is applied to a surface in contact with the prepreg. Sometimes.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
プリプレグに高分子フィルムを備えた回路基板用部材に
レーザー等で貫通孔を形成した場合、加工時の熱で高分
子フィルムが縮退つまり穴径が大きくなる。この現象は
回路基板のビアホールを小径化する際に不利に働く要因
の一つと考えられる。また、これらの高分子フィルムは
熱可塑的であるので、加工時の熱によりプリプレグと高
分子フィルムが融着してしまうことがある。このような
場合、導電性ペースト印刷後のフィルム剥離の工程にお
いて、そのフィルムを速やかにプリプレグから剥離でき
なくなる。
However, when a through hole is formed by a laser or the like in a circuit board member provided with a polymer film on the prepreg, the polymer film shrinks, that is, the hole diameter decreases due to heat during processing. growing. This phenomenon is considered to be one of the factors that work disadvantageously when reducing the diameter of the via hole in the circuit board. Moreover, since these polymer films are thermoplastic, the prepreg and the polymer film may be fused by heat during processing. In such a case, the film cannot be promptly peeled from the prepreg in the step of peeling the film after printing the conductive paste.

【0007】さらに、これらの現象はプリプレグの貫通
孔周囲で起こっているため、これを改善することができ
れば、回路基板のビアホール周囲の品質が向上する。す
なわち、このビアホール周囲の品質向上は、回路基板の
信頼性および性能そのものの向上につながる。
Further, since these phenomena occur around the through-hole of the prepreg, if this phenomenon can be improved, the quality around the via hole of the circuit board will be improved. That is, the improvement in quality around the via hole leads to improvement in reliability and performance of the circuit board.

【0008】そこで、本発明は上記した課題を解決し、
上述した現象を抑制あるいは防止できる回路基板用部材
を提供すること、およびこの回路基板用部材を用いて高
信頼性の回路基板を得るための製造方法を提供すること
を目的とするものである。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems,
An object of the present invention is to provide a circuit board member capable of suppressing or preventing the above-described phenomenon, and to provide a manufacturing method for obtaining a highly reliable circuit board using the circuit board member.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、プリプレグの両面に高分子フィルムを備え
た回路基板用部材を提供するものであり、その高分子フ
ィルムの両面あるいは片面にダイヤモンド状炭素膜層を
設け、かつそのダイヤモンド状炭素膜層がプリプレグに
接することを特徴とする。少なくともこの構成を有する
回路基板用部材にレーザー等で貫通孔を形成した場合、
プリプレグに設けた高分子フィルムのダイヤモンド状炭
素膜層が加工時の過剰な熱を放散させることができ、さ
らに高分子フィルムの縮退を抑制することができる。こ
の回路基板用部材を用いることで、回路基板のビアホー
ルの小径化が可能となる。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a circuit board member provided with a polymer film on both sides of a prepreg. A diamond-like carbon film layer is provided, and the diamond-like carbon film layer is in contact with the prepreg. When a through-hole is formed by a laser or the like in the circuit board member having at least this configuration,
The diamond-like carbon film layer of the polymer film provided on the prepreg can dissipate excessive heat at the time of processing, and can suppress the shrinkage of the polymer film. By using this circuit board member, the diameter of the via hole in the circuit board can be reduced.

【0010】また、上記の加工時の熱放散に加え、高分
子フィルムとプリプレグとの間にダイヤモンド状炭素膜
層が存在するため、高分子フィルムとプリプレグとの間
の融着を防ぐことができる。したがって、ダイヤモンド
状炭素膜層を備えた高分子フィルムをプリプレグから剥
離する際、融着によるトルクもなく速やかにこのフィル
ムを剥離でき、貫通孔周囲にダメージを与えることがな
い。さらにこの回路基板用部材の貫通孔周囲の穴品質は
極めて良好であるため、このプリプレグを用いることで
回路基板の信頼性を向上させることができる。
[0010] In addition to the heat dissipation during the processing described above, since the diamond-like carbon film layer exists between the polymer film and the prepreg, fusion between the polymer film and the prepreg can be prevented. . Therefore, when the polymer film having the diamond-like carbon film layer is peeled from the prepreg, the film can be quickly peeled without any torque due to fusion, and the periphery of the through hole is not damaged. Furthermore, since the hole quality around the through hole of the circuit board member is extremely good, the reliability of the circuit board can be improved by using the prepreg.

【0011】また、上記の回路基板用部材において、ダ
イヤモンド状炭素膜層はレーザー等で加工でき、かつ上
記した効果が得られる厚みが必要であり、具体的には1
00〜5000Å程度が好ましい。さらに高分子フィル
ムにダイヤモンド状炭素膜以外からなる層、例えば離形
層あるいは樹脂層等を設けてもよく、この場合も上記の
ような効果は十分に得られる。
In the above-mentioned circuit board member, the diamond-like carbon film layer needs to have a thickness which can be processed by a laser or the like, and which has the above-mentioned effect.
It is preferably about 00 to 5000 °. Further, a layer made of a material other than the diamond-like carbon film, for example, a release layer or a resin layer, may be provided on the polymer film.

【0012】また、本発明は、上記の回路基板用部材の
所定の位置に貫通孔を形成し、貫通孔に導電性ペースト
を充填し、その後、少なくともダイヤモンド状炭素膜層
を有する高分子フィルムを剥離してプリプレグを得、そ
のプリプレグを金属箔で挟持して、加圧加熱することに
より形成される両面回路基板の製造方法を提供し、この
方法により、高信頼性の両面回路基板を製造することが
できる。
Further, the present invention provides a circuit board member having a through hole formed at a predetermined position, filling the through hole with a conductive paste, and then forming a polymer film having at least a diamond-like carbon film layer. A method for manufacturing a double-sided circuit board formed by exfoliating to obtain a prepreg, sandwiching the prepreg with a metal foil, and heating under pressure is provided. By this method, a highly reliable double-sided circuit board is manufactured. be able to.

【0013】また、本発明は、上記の回路基板用部材の
所定の位置に貫通孔を形成し、貫通孔に導電性ペースト
を充填し、その後、少なくともダイヤモンド状炭素膜層
を有する高分子フィルムを剥離してプリプレグを得、そ
のプリプレグと回路パターンを有する2層以上の回路基
板とを交互に所望の枚数を配置して(金属箔が最外層に
なるように配置する)、加圧加熱することにより形成さ
れる多層回路基板の製造方法を提供し、この方法によ
り、高信頼性の多層回路基板を製造することができる。
Further, according to the present invention, a through hole is formed at a predetermined position of the circuit board member, a conductive paste is filled in the through hole, and then a polymer film having at least a diamond-like carbon film layer is formed. Peeling is obtained to obtain a prepreg, and a desired number of the prepreg and a circuit board having a circuit pattern are alternately arranged (arranged so that a metal foil is an outermost layer) and heated under pressure. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer circuit board formed by the method described above, and a highly reliable multilayer circuit board can be manufactured by this method.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の回路基板用部材につい
て、その実施の形態について図1〜図4を用いて説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the circuit board member of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0015】(実施の形態1)図1はプリプレグの両面
に高分子フィルムを備え、かつその高分子フィルムの両
面あるいは片面にダイヤモンド状炭素膜層を設けた本発
明の回路基板用部材の模式的断面図である。図1におい
て、1はダイヤモンド状炭素膜層を備えた高分子フィル
ム、2はその高分子フィルム、3aおよび3bはダイヤ
モンド状炭素膜層、そして4はプリプレグを示す。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic view of a circuit board member of the present invention in which a polymer film is provided on both sides of a prepreg, and a diamond-like carbon film layer is provided on both sides or one side of the polymer film. It is sectional drawing. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a polymer film having a diamond-like carbon film layer, reference numeral 2 denotes the polymer film, reference numerals 3a and 3b denote diamond-like carbon film layers, and reference numeral 4 denotes a prepreg.

【0016】本実施の形態の構成である回路基板用部材
にレーザー等で貫通孔を形成した場合、ダイヤモンド状
炭素膜層3aおよび3bによって、加工時の過剰な熱を
放散させることができ、さらに高分子フィルム2の縮退
を抑制することができる。また、ダイヤモンド状炭素膜
層3aは高分子フィルム2とプリプレグ4との間に位置
するため、高分子フィルム2とプリプレグ4との融着を
防ぐことができる。したがって、これらの効果を発現さ
せるためには、ダイヤモンド状炭素膜層3aだけでも十
分であり、本発明ではダイヤモンド状炭素膜層3bがな
くてもよい。
When a through hole is formed in the circuit board member having the structure of the present embodiment with a laser or the like, excessive heat during processing can be dissipated by the diamond-like carbon film layers 3a and 3b. The shrinkage of the polymer film 2 can be suppressed. Further, since the diamond-like carbon film layer 3a is located between the polymer film 2 and the prepreg 4, fusion between the polymer film 2 and the prepreg 4 can be prevented. Therefore, in order to exhibit these effects, only the diamond-like carbon film layer 3a is sufficient, and in the present invention, the diamond-like carbon film layer 3b may not be provided.

【0017】なお、このダイヤモンド状炭素膜3aおよ
び3bは、アモルファスカーボンの中に微結晶ダイヤモ
ンドを含んだ構造が好ましい。このダイヤモンド状炭素
は密度が高いもの、例えば比重が2.0g/cc以上の
ものが熱伝導が高くて好ましい。
The diamond-like carbon films 3a and 3b preferably have a structure in which microcrystalline diamond is contained in amorphous carbon. The diamond-like carbon having a high density, for example, having a specific gravity of 2.0 g / cc or more is preferable because of its high thermal conductivity.

【0018】(実施の形態2)図2は、図1の構成に離
形層が付加された構成であり、その模式的断面図であ
る。図2において、5はダイヤモンド状炭素膜層および
離形層を備えた高分子フィルム、6はその離形層を示
す。その他の番号は図1と同様である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a schematic sectional view of a configuration in which a release layer is added to the configuration of FIG. In FIG. 2, reference numeral 5 denotes a polymer film having a diamond-like carbon film layer and a release layer, and reference numeral 6 denotes the release layer. Other numbers are the same as those in FIG.

【0019】本実施の形態の構成である回路基板用部材
にレーザー等で貫通孔を形成した場合、ダイヤモンド状
炭素膜層3aおよび3bによって、加工時の過剰な熱を
放散させることができ、さらに高分子フィルム2の縮退
を抑制することができる。また、ダイヤモンド状炭素膜
層3aは高分子フィルム2とプリプレグ4との間に位置
するため、高分子フィルム2とプリプレグ4との融着を
防ぐことができる。したがって、これらの効果を発現さ
せるためには、ダイヤモンド状炭素膜層3aだけでも十
分であり、本発明ではダイヤモンド状炭素膜層3bがな
くてもよい。
In the case where a through hole is formed by a laser or the like in the circuit board member having the structure of the present embodiment, excessive heat during processing can be dissipated by the diamond-like carbon film layers 3a and 3b. The shrinkage of the polymer film 2 can be suppressed. Further, since the diamond-like carbon film layer 3a is located between the polymer film 2 and the prepreg 4, fusion between the polymer film 2 and the prepreg 4 can be prevented. Therefore, in order to exhibit these effects, only the diamond-like carbon film layer 3a is sufficient, and in the present invention, the diamond-like carbon film layer 3b may not be provided.

【0020】また、本実施の形態では、ダイヤモンド状
炭素膜層3aとプリプレグ4の間に離形層6が設けられ
ているため、高分子フィルム5をプリプレグ4から剥離
するときに、さらにその剥離が容易にできる。なお、離
形層6はフッ素系またはシリコーン系などの離形剤を塗
布して形成する、あるいはフッ素樹脂加工等の表面処理
を施して形成する、あるいはポリエチレン等の離形性を
有するフィルム等で形成することができる。
In this embodiment, since the release layer 6 is provided between the diamond-like carbon film layer 3a and the prepreg 4, when the polymer film 5 is released from the prepreg 4, the release layer 6 is further removed. Can be easily done. The release layer 6 is formed by applying a release agent such as a fluorine-based or silicone-based release agent, or is formed by applying a surface treatment such as fluororesin processing, or is formed of a film having a release property such as polyethylene. Can be formed.

【0021】(実施の形態3)図3は、図1の構成に樹
脂層が付加された構成であり、その模式的断面図であ
る。図3において、7はダイヤモンド状炭素膜層および
樹脂層を備えた高分子フィルム、8はその樹脂層を示
す。その他の番号は図1と同様である。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a schematic sectional view of a configuration in which a resin layer is added to the configuration of FIG. In FIG. 3, reference numeral 7 denotes a polymer film having a diamond-like carbon film layer and a resin layer, and reference numeral 8 denotes the resin layer. Other numbers are the same as those in FIG.

【0022】本実施の形態の構成である回路基板用部材
にレーザー等で貫通孔を形成した場合、ダイヤモンド状
炭素膜層3aおよび3bによって、加工時の過剰な熱を
放散させることができ、さらに高分子フィルム2の縮退
を抑制することができる。また、ダイヤモンド状炭素膜
層3aは高分子フィルム2とプリプレグ4との間に位置
するため、高分子フィルム2とプリプレグ4との融着を
防ぐことができる。したがって、これらの効果を発現さ
せるためには、ダイヤモンド状炭素膜層3aだけでも十
分であり、本発明ではダイヤモンド状炭素膜層3bがな
くてもよい。
When a through hole is formed in the circuit board member having the structure of the present embodiment by a laser or the like, excessive heat during processing can be dissipated by the diamond-like carbon film layers 3a and 3b. The shrinkage of the polymer film 2 can be suppressed. Further, since the diamond-like carbon film layer 3a is located between the polymer film 2 and the prepreg 4, fusion between the polymer film 2 and the prepreg 4 can be prevented. Therefore, in order to exhibit these effects, only the diamond-like carbon film layer 3a is sufficient, and in the present invention, the diamond-like carbon film layer 3b may not be provided.

【0023】なお、この樹脂層8としては、熱硬化性樹
脂が好ましく、具体的にはエポキシ樹脂、フェノール樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂およびメラミン樹脂の中から選ばれる少なくとも1種
以上からなる樹脂が好ましい。この樹脂層の厚みとして
は、通常0.01〜20μmで、好ましくは0.1〜5
μmである。
The resin layer 8 is preferably made of a thermosetting resin. Specifically, the resin layer 8 is made of at least one selected from epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, polyester resin, silicone resin and melamine resin. Is preferred. The thickness of the resin layer is usually 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 5 μm.
μm.

【0024】(実施の形態4)図4は、図2の構成に樹
脂層が付加された構成であり、その模式的断面図であ
る。図4において、9はダイヤモンド状炭素膜層、離形
層および樹脂層を備えた高分子フィルムを示す。その他
の番号は図1および図2と同様である。
(Embodiment 4) FIG. 4 is a schematic sectional view of a configuration in which a resin layer is added to the configuration of FIG. 2. In FIG. 4, reference numeral 9 denotes a polymer film provided with a diamond-like carbon film layer, a release layer, and a resin layer. Other numbers are the same as those in FIG. 1 and FIG.

【0025】本実施の形態は、実施の形態2および3を
複合化させたものであり、構成および効果についてはそ
れらと同様である。
This embodiment is a combination of the second and third embodiments, and the configuration and effects are the same.

【0026】以上の実施の形態1〜4について、これら
のダイヤモンド状炭素膜層の厚みとしては、回路基板用
部材がレーザー等で加工でき、かつ上記の効果が得られ
る厚みが好ましく、具体的には100〜5000Å程度
が好ましい。
In the first to fourth embodiments, the thickness of the diamond-like carbon film layer is preferably such that the circuit board member can be processed by a laser or the like and the above-mentioned effects can be obtained. Is preferably about 100 to 5000 °.

【0027】また、このダイヤモンド状炭素膜は、アモ
ルファスカーボンの中に微結晶ダイヤモンドを含んだ構
造が好ましい。さらに、このダイヤモンド状炭素は密度
が高いもの、例えば比重が2.0g/cc以上のものが
熱伝導が高くて好ましい。
The diamond-like carbon film preferably has a structure in which amorphous carbon contains microcrystalline diamond. Further, the diamond-like carbon having a high density, for example, having a specific gravity of 2.0 g / cc or more is preferable because of high heat conductivity.

【0028】また、実施の形態1〜4について、プリプ
レグ4は一般的に回路基板の絶縁層材料として用いられ
るプリプレグを使用することができるが、耐熱性有機繊
維あるいは無機繊維の少なくとも一方を主成分とする織
布あるいは不織布に熱硬化性樹脂を含浸させて、さらに
その含浸させた樹脂を半硬化させた複合材を用いること
が好ましい。
In the first to fourth embodiments, the prepreg 4 may be a prepreg generally used as a material for an insulating layer of a circuit board, and is mainly composed of at least one of a heat-resistant organic fiber and an inorganic fiber. It is preferable to use a composite material obtained by impregnating a woven or nonwoven fabric with a thermosetting resin and further semi-curing the impregnated resin.

【0029】また、不織布としては、耐熱性有機繊維お
よび/あるいは無機繊維をエポキシ樹脂、メラミン樹脂
等の熱硬化性樹脂でバインドさせてなるもの、あるいは
熱可塑性樹脂でバインドさせてなるもの、あるいは熱溶
融性のパルプまたは繊維でバインドさせてなるものを使
うことができる。
The non-woven fabric may be formed by binding heat-resistant organic fibers and / or inorganic fibers with a thermosetting resin such as an epoxy resin or a melamine resin, or by binding with a thermoplastic resin, or Melting pulp or fibers bound with fibers can be used.

【0030】具体的に耐熱性有機繊維としては、芳香族
ポリアミド(アラミド)、芳香族ポリエステル、ポリフ
ェニレンビスオキサゾール(PBO)、ポリフェニレン
ビスチアゾール(PBZ)等から選ばれる少なくとも1
種以上を使うことができる。
Specifically, the heat-resistant organic fiber is at least one selected from aromatic polyamide (aramid), aromatic polyester, polyphenylenebisoxazole (PBO), polyphenylenebisthiazole (PBZ) and the like.
More than seeds can be used.

【0031】また、プリプレグ4が高耐熱性高分子フィ
ルムの両面に半硬化状態の接着層を備えたものであって
もよく、具体的にはポリイミドフィルムあるいはアラミ
ドフィルムの両面に熱硬化性接着剤を塗布して半硬化状
態にしたもの、あるいはそれらのフィルム両面に接着剤
フィルムをラミネートしたものでもよい。接着剤として
は、エポキシ樹脂、あるいはポリイミド樹脂等が好まし
い。
The prepreg 4 may have a semi-cured adhesive layer on both sides of a high heat-resistant polymer film, and more specifically, a thermosetting adhesive on both sides of a polyimide film or an aramid film. May be applied to form a semi-cured state, or an adhesive film may be laminated on both surfaces of the film. As the adhesive, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like is preferable.

【0032】また、実施の形態1〜4について、高分子
フィルム2としては、ポリエチレンナフタレート、ポリ
フェニレンサルファイト、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキサイド等が使
用できる。高分子フィルム2の厚みとしては、通常4〜
100μmであり、好ましくは6〜40μmである。
In the first to fourth embodiments, as the polymer film 2, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulphite, polyethylene terephthalate, polypropylene, polyphenylene oxide and the like can be used. The thickness of the polymer film 2 is usually 4 to
It is 100 μm, preferably 6 to 40 μm.

【0033】また、実施の形態1〜4のように同一構成
のフィルムを4のプリプレグの両面に設ける必要は必ず
しも必要ではない。例えば、プリプレグ4の片面にダイ
ヤモンド状炭素膜層1を有する高分子フィルムを設け、
かつその反対側にダイヤモンド状炭素膜層5および離形
層を有する高分子フィルムを設けるといった組み合わせ
を行ってもよく、第1〜4の実施の形態に示した各構成
である高分子フィルムをそれぞれ自由に組み合わせてプ
リプレグ4に設けて使うことができる。
Further, it is not always necessary to provide films having the same structure on both surfaces of the prepreg 4 as in the first to fourth embodiments. For example, a polymer film having a diamond-like carbon film layer 1 is provided on one surface of a prepreg 4,
Further, a combination of providing a polymer film having a diamond-like carbon film layer 5 and a release layer on the opposite side may be performed, and the polymer films having the respective configurations shown in the first to fourth embodiments may be used. The prepreg 4 can be used in any combination.

【0034】なお、本発明は実施の形態1〜4に限るも
のではなく、上述した層以外の層を高分子フィルム2に
設けてもよいが、その高分子フィルムが少なくともダイ
ヤモンド状炭素膜層を備えており、かつそのダイヤモン
ド状炭素膜層がプリプレグと高分子フィルムの間に位置
することが必要である。
The present invention is not limited to the first to fourth embodiments, and a layer other than the above-described layers may be provided on the polymer film 2, but the polymer film has at least a diamond-like carbon film layer. And the diamond-like carbon film layer needs to be located between the prepreg and the polymer film.

【0035】次に、本発明の回路基板の製造方法におけ
る実施の形態について説明する。
Next, an embodiment of a method of manufacturing a circuit board according to the present invention will be described.

【0036】(実施の形態5)次に、本発明の回路基板
の製造方法の実施の形態として、両面回路基板の製造方
法について説明する。
(Embodiment 5) Next, a method for manufacturing a double-sided circuit board will be described as an embodiment of the method for manufacturing a circuit board according to the present invention.

【0037】上述した実施の形態1〜4に示される本発
明の回路基板用部材の所定の位置にレーザー等を用いて
貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性ペーストを印刷等
の方法で充填する。
A through hole is formed at a predetermined position of the circuit board member of the present invention shown in the above-described first to fourth embodiments using a laser or the like, and a conductive paste is printed in the through hole by a method such as printing. Fill.

【0038】次に、この回路基板用部材から導電性ペー
ストが充填された状態のプリプレグのみを取り出す。つ
まり、ダイヤモンド状炭素膜層等を備えた高分子フィル
ムをプリプレグから剥離することで、導電性ペーストが
充填されたプリプレグを得ることができる。
Next, only the prepreg filled with the conductive paste is taken out from the circuit board member. That is, a prepreg filled with a conductive paste can be obtained by peeling a polymer film having a diamond-like carbon film layer or the like from the prepreg.

【0039】剥離工程後、導電性ペーストが充填された
プリプレグの両面に金属箔を配置し、これを加熱加圧す
ることで、プリプレグとその両面の金属箔とを一体化
し、積層板を得ることができる。
After the peeling step, a metal foil is placed on both sides of the prepreg filled with the conductive paste, and heated and pressed to integrate the prepreg and the metal foils on both sides thereof to obtain a laminate. it can.

【0040】最後に、金属箔を加工して回路パターンを
形成することで、両面回路基板を得ることができる。
Finally, by processing the metal foil to form a circuit pattern, a double-sided circuit board can be obtained.

【0041】(実施の形態6)次に、本発明の回路基板
の製造方法の実施の形態として、多層回路基板の製造方
法について説明する。
(Embodiment 6) Next, a method for manufacturing a multilayer circuit board will be described as an embodiment of the method for manufacturing a circuit board of the present invention.

【0042】上述した実施の形態1〜4に示される本発
明の回路基板用部材の所定の位置にレーザー等を用いて
貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性ペーストを印刷等
の方法で充填する。
A through hole is formed at a predetermined position of the circuit board member of the present invention shown in the above-described first to fourth embodiments by using a laser or the like, and a conductive paste is formed in the through hole by a method such as printing. Fill.

【0043】次に、この回路基板用部材から導電性ペー
ストが充填された状態のプリプレグのみを取り出す。つ
まり、ダイヤモンド状炭素膜層等を具備した高分子フィ
ルムをプリプレグから剥離することで、導電性ペースト
が充填されたプリプレグを得ることができる。
Next, only the prepreg filled with the conductive paste is taken out from the circuit board member. That is, a prepreg filled with a conductive paste can be obtained by peeling a polymer film having a diamond-like carbon film layer or the like from the prepreg.

【0044】剥離工程後、2層以上の回路パターンを有
する回路基板を2枚の導電性ペーストが充填されたプリ
プレグで挟持し、さらにその外両側を金属箔で挟持し、
これを加熱加圧することで一体化し、積層板を得ること
ができる。
After the peeling step, a circuit board having a circuit pattern of two or more layers is sandwiched between two sheets of prepreg filled with a conductive paste, and further, both sides thereof are sandwiched between metal foils.
This is integrated by heating and pressing to obtain a laminated plate.

【0045】最後に、金属箔を加工して回路パターンを
形成することで、多層回路基板を得ることができる。な
お、この工程を複数回繰り返すことにより、回路基板の
高多層化が容易に実現できる。
Finally, a multilayer circuit board can be obtained by processing the metal foil to form a circuit pattern. Note that by repeating this step a plurality of times, it is possible to easily realize a multi-layer circuit board.

【0046】(実施の形態7)本発明の多層回路基板の
製造方法のその他の実施の形態について、以下に説明す
る。
(Embodiment 7) Another embodiment of the method for manufacturing a multilayer circuit board of the present invention will be described below.

【0047】上述した実施の形態1〜4に示される本発
明の回路基板用部材の所定の位置にレーザー等を用いて
貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性ペーストを印刷等
の方法で充填する。
A through hole is formed at a predetermined position of the circuit board member of the present invention shown in the above-described first to fourth embodiments by using a laser or the like, and a conductive paste is formed in the through hole by a method such as printing. Fill.

【0048】次に、この回路基板用部材から導電性ペー
ストが充填された状態のプリプレグのみを取り出す。つ
まり、ダイヤモンド状炭素膜層等を備えた高分子フィル
ムをプリプレグから剥離することで導電性ペーストが充
填されたプリプレグを得ることができる。
Next, only the prepreg filled with the conductive paste is taken out from the circuit board member. That is, a prepreg filled with a conductive paste can be obtained by peeling a polymer film having a diamond-like carbon film layer or the like from the prepreg.

【0049】剥離工程後、2層以上の回路パターンを有
する回路基板を2枚以上と、上記の方法でペーストが充
填されたプリプレグを、用意した回路基板の枚数より1
枚多く用意して、さらにそれらを交互に配置し、最後に
金属箔でこれらを挟持し、これを加熱加圧することで一
体化し、積層板を得ることができる。
After the peeling step, two or more circuit boards having a circuit pattern of two or more layers and a prepreg filled with the paste by the above method are reduced by one to one from the number of prepared circuit boards.
A large number of sheets are prepared, they are alternately arranged, and finally they are sandwiched between metal foils, and they are integrated by heating and pressing to obtain a laminated board.

【0050】最後に、金属箔を加工して回路パターンを
形成することで、多層回路基板を得ることができる。な
お、この工程を複数回繰り返すことにより、回路基板の
高多層化が容易にできる。
Finally, a multilayer circuit board can be obtained by processing a metal foil to form a circuit pattern. Note that by repeating this step a plurality of times, it is easy to increase the multilayer of the circuit board.

【0051】なお、実施の形態5〜7において、回路基
板用部材の所定の位置に貫通孔を形成する際、レーザー
を使用できるが、ドリルを使用してもよい。また、レー
ザーとしては炭酸ガスレーザー、あるいはYAGレーザ
ー、あるいはエキシマレーザー等が使用できる。
In the fifth to seventh embodiments, when a through hole is formed at a predetermined position of the circuit board member, a laser can be used, but a drill may be used. As a laser, a carbon dioxide laser, a YAG laser, an excimer laser, or the like can be used.

【0052】また、実施の形態5〜7において、回路基
板用部材からダイヤモンド状炭素膜層等を備えた高分子
フィルムをプリプレグから剥離する際、導電性ペースト
が充填された回路基板用部材を加熱してもよく、加熱温
度としては40〜100℃が好ましい。
In Embodiments 5 to 7, when a polymer film having a diamond-like carbon film layer or the like is peeled from a prepreg from a circuit board member, the circuit board member filled with the conductive paste is heated. The heating temperature is preferably 40 to 100 ° C.

【0053】また、実施の形態5〜7において、導電性
ペーストは少なくとも導電性粒子と熱硬化性樹脂とから
なることが好ましく、導電性粒子としては金、銀、銅、
パラジウム、インジウム等が好ましく、熱硬化性樹脂と
しては液状の熱硬化性樹脂、具体的にはエポキシ樹脂等
が好ましい。また、市販されているはんだペーストを使
用してもよい。
In Embodiments 5 to 7, the conductive paste preferably comprises at least conductive particles and a thermosetting resin, and the conductive particles include gold, silver, copper, and the like.
Palladium, indium, and the like are preferable, and the thermosetting resin is preferably a liquid thermosetting resin, specifically, an epoxy resin. Alternatively, a commercially available solder paste may be used.

【0054】また、実施の形態5〜7において、金属箔
とプリプレグとを一体化しているが、金属箔は具体的に
は銅箔が最も好ましい。また、実施の形態5〜7におい
て、支持体にあらかじめエッチングあるいはめっき等で
回路パターンが形成された金属箔、好ましくは銅箔を用
いて、加熱加圧して一体化した後、支持体を除去するこ
とで両面あるいは多層回路基板を得ることができる。支
持体としては、アルミ、ステンレス等の金属板、PPS
あるいはPPO等の耐熱性高分子フィルムが好ましい。
In Embodiments 5 to 7, the metal foil and the prepreg are integrated, but specifically, the metal foil is most preferably copper foil. Further, in Embodiments 5 to 7, using a metal foil, preferably a copper foil, on which a circuit pattern is formed in advance by etching or plating on the support, and integrating by heating and pressing, the support is removed. Thus, a double-sided or multilayer circuit board can be obtained. As a support, a metal plate such as aluminum or stainless steel, PPS
Alternatively, a heat-resistant polymer film such as PPO is preferable.

【0055】なお、本発明は、実施の形態5〜7に限る
ものではなく、本発明の製造方法によって得られる両面
あるいは多層回路基板を提供することができる。さらに
本発明の製造方法において、回路基板用部材に備えられ
た高分子フィルムは、導電性ペーストの充填時における
マスクフィルム的な役割を果たすことができる。
The present invention is not limited to the fifth to seventh embodiments, but can provide a double-sided or multilayer circuit board obtained by the manufacturing method of the present invention. Further, in the manufacturing method of the present invention, the polymer film provided on the circuit board member can serve as a mask film when filling the conductive paste.

【0056】また、導電性ペースト印刷後に本発明の回
路基板用部材から高分子フィルムを剥離する際、プリプ
レグとその高分子フィルムが貫通孔の部分で融着してい
ないため、速やかに剥離することができる。このため、
剥離時に無駄なトルクを生じないため、回路基板のビア
ホールを形成する貫通孔周囲にダメージを与えることが
ない。つまり、本発明の回路基板用部材および回路基板
の製造方法を用いることで、高信頼性のビアホールを有
する両面あるいは多層回路基板を提供することができ
る。
When the polymer film is peeled off from the circuit board member of the present invention after printing the conductive paste, the prepreg and the polymer film are not fused at the through holes, so that the polymer film is promptly peeled off. Can be. For this reason,
Since unnecessary torque is not generated at the time of peeling, there is no damage to the periphery of the through hole forming the via hole of the circuit board. That is, by using the circuit board member and the circuit board manufacturing method of the present invention, a double-sided or multilayer circuit board having highly reliable via holes can be provided.

【0057】[0057]

【実施例】本実施例の回路基板用部材に用いたプリプレ
グについて説明する。デュポン社製のケブラー繊維(繊
維径1.5デニール、繊維長3mm)を用いて、湿式法
により抄紙した後、温度300℃、圧力200kg/c
2でカレンダ処理をしてアラミド不織布(坪量72g
/m2、厚み100μm)を作製した。この不織布にF
R5相当のエポキシ樹脂を含浸して、130℃で8分乾
燥して、不織布に半硬化状態(Bステージ)のエポキシ
樹脂を含浸したプリプレグを作製した。なお、使用した
FR5樹脂の組成について以下に示し、プリプレグの樹
脂量は54±1wt%である。
EXAMPLE A prepreg used for a circuit board member of this example will be described. Papermaking is performed by a wet method using Kevlar fiber (fiber diameter: 1.5 denier, fiber length: 3 mm) manufactured by DuPont, and then, at a temperature of 300 ° C. and a pressure of 200 kg / c.
and calendered in m 2 nonwoven aramid fabric (basis weight 72g
/ M 2 , thickness 100 μm). F
An epoxy resin equivalent to R5 was impregnated and dried at 130 ° C. for 8 minutes to prepare a prepreg in which a non-woven fabric was impregnated with an epoxy resin in a semi-cured state (B stage). The composition of the used FR5 resin is shown below, and the resin amount of the prepreg is 54 ± 1 wt%.

【0058】 臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂 35重量部 (臭素量23wt%、エポキシ当量270) 3官能エポキシ樹脂 35重量部 (臭素量23wt%、エポキシ当量270) フェノールノボラック型硬化剤 30重量部 (OH当量120) 2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.2重量部 以下に本発明の回路基板用部材の実施例について説明す
る。
35 parts by weight of brominated bisphenol A type epoxy resin (23% by weight of bromine, epoxy equivalent of 270) Trifunctional epoxy resin 35 parts by weight (23% by weight of bromine, epoxy equivalent of 270) 30 parts by weight of phenol novolac type curing agent (OH) (Equivalent 120) 2-Ethyl-4-methylimidazole 0.2 part by weight Examples of the circuit board member of the present invention will be described below.

【0059】(実施例1)厚みが15μmのポリエチレ
ンテレフタレートの両面あるいは片面にプラズマ・イン
ジェクションCVD法により、厚さ500〜5000Å
のダイヤモンド状炭素膜層を形成した。これを温度12
0℃、圧力3kg/cm2で、上記のプリプレグにロー
ルラミネートして、回路基板用部材を作製した。
(Example 1) A polyethylene terephthalate having a thickness of 15 µm was coated on both surfaces or one surface thereof with a thickness of 500 to 5000 mm by a plasma injection CVD method.
Was formed. Temperature 12
Roll lamination was performed on the prepreg at 0 ° C. and a pressure of 3 kg / cm 2 to prepare a circuit board member.

【0060】(実施例2)厚みが15μmのポリエチレ
ンテレフタレートの両面あるいは片面にプラズマ・イン
ジェクションCVD法により、厚さ500〜5000Å
のダイヤモンド状炭素膜層を形成した後、その片面(ダ
イヤモンド状炭素膜層が片面の場合はそのダイヤモンド
状炭素膜面)にシリコーン系離形剤を塗布した。これを
温度120℃、圧力3kg/cm2で、離形面がプリプ
レグ側になるよう上記のプリプレグにロールラミネート
して、回路基板用部材を作製した。
(Example 2) A polyethylene terephthalate having a thickness of 15 µm was coated on both sides or one side thereof by plasma injection CVD to a thickness of 500 to 5000Å.
After the formation of the diamond-like carbon film layer, a silicone release agent was applied to one surface thereof (if the diamond-like carbon film layer is one surface, the surface of the diamond-like carbon film). This was roll-laminated at a temperature of 120 ° C. and a pressure of 3 kg / cm 2 on the above prepreg such that the release surface was on the prepreg side, thereby producing a circuit board member.

【0061】(実施例3)厚みが15μmのポリエチレ
ンテレフタレートの両面あるいは片面にプラズマ・イン
ジェクションCVD法により、厚さ500〜5000Å
のダイヤモンド状炭素膜層を形成した後、その片面(ダ
イヤモンド状炭素膜層が片面の場合はそのダイヤモンド
状炭素膜面と反対側)に乾燥時の膜厚が1μmになるよ
うエポキシ樹脂を塗布して乾燥した。これを温度120
℃、圧力3kg/cm2で、エポキシ樹脂層の面がプリ
プレグの反対側になるよう上記のプリプレグにロールラ
ミネートして、回路基板用部材を作製した。
(Example 3) A polyethylene terephthalate having a thickness of 15 µm was coated on both surfaces or one surface thereof by plasma injection CVD to a thickness of 500 to 5000Å.
After forming the diamond-like carbon film layer, an epoxy resin is applied on one surface thereof (if the diamond-like carbon film layer is one surface, on the opposite side to the diamond-like carbon film surface) so that the film thickness when dried becomes 1 μm. And dried. This is heated to
The laminate was roll-laminated on the prepreg at a temperature of 3 ° C. and a pressure of 3 kg / cm 2 so that the surface of the epoxy resin layer was on the opposite side of the prepreg, thereby producing a circuit board member.

【0062】(実施例4)実施例3のダイヤモンド状炭
素膜層およびエポキシ樹脂層を備えたフィルムを用い
て、エポキシ樹脂層と反対側のフィルム面にシリコーン
系離形剤を塗布した。これを温度120℃、圧力3kg
/cm2で、離形面がプリプレグ側になるよう上記のプ
リプレグにロールラミネートして、回路基板用部材を作
製した。
Example 4 Using the film provided with the diamond-like carbon film layer and the epoxy resin layer of Example 3, a silicone release agent was applied to the film surface opposite to the epoxy resin layer. This is at a temperature of 120 ° C and a pressure of 3 kg
/ Cm 2 was roll-laminated on the prepreg so that the release surface was on the prepreg side, to produce a circuit board member.

【0063】(比較例1)厚みが15μmのポリエチレ
ンテレフタレートの片面にシリコーン系離形剤を塗布し
た。これを温度120℃、圧力3kg/cm2で、離形
面がプリプレグ側になるよう上記のプリプレグにロール
ラミネートして、回路基板用部材を作製した。
Comparative Example 1 A silicone release agent was applied to one surface of a polyethylene terephthalate having a thickness of 15 μm. This was roll-laminated at a temperature of 120 ° C. and a pressure of 3 kg / cm 2 on the above prepreg such that the release surface was on the prepreg side, thereby producing a circuit board member.

【0064】上記実施例1〜4および比較例1の回路基
板用部材に炭酸ガスレーザーで200μm径の貫通孔を
形成した。そして、高分子フィルムの貫通孔の径とプリ
プレグの貫通孔の径を測長し、それらの比を求めた。比
較例1ではフィルムの穴径がプリプレグの穴径の1.2
倍以上あるのに対し、実施例1〜4ではフィルムの穴径
がプリプレグの穴径の1.1倍以下となった。また、高
分子フィルムの剥離性についても評価した。剥離性につ
いては、回路基板用部材を60℃に加熱して高分子フィ
ルムを剥離した後、そのプリプレグの表面を観察して高
分子フィルムとプリプレグとの融着の有無を観た。比較
例1の回路基板用部材では高分子フィルムとプリプレグ
の融着が見られたが、実施例1〜4においては高分子フ
ィルムとプリプレグの融着は見られなかった。
In the circuit board members of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, through holes having a diameter of 200 μm were formed using a carbon dioxide gas laser. Then, the diameter of the through-hole of the polymer film and the diameter of the through-hole of the prepreg were measured, and their ratio was determined. In Comparative Example 1, the hole diameter of the film was 1.2 times the hole diameter of the prepreg.
In contrast, in Examples 1 to 4, the hole diameter of the film was 1.1 times or less the hole diameter of the prepreg. The peelability of the polymer film was also evaluated. Regarding the releasability, the polymer film was peeled off by heating the circuit board member to 60 ° C., and the surface of the prepreg was observed to see whether or not the polymer film and the prepreg were fused. In the circuit board member of Comparative Example 1, fusion between the polymer film and the prepreg was observed, but in Examples 1 to 4, fusion between the polymer film and the prepreg was not observed.

【0065】また、膜厚500〜5000Åであればダ
イヤモンド状炭素膜層の厚みに関係なく効果が見られ、
さらにダイヤモンド状炭素膜層の形成面(プリプレグ側
にダイヤモンド状炭素膜層を設けることは必須)にも関
係なく効果が見られた。ただし、ダイヤモンド状炭素膜
厚100〜500Åのサンプルについては、フィルム融
着はないが、高分子フィルムの縮退の抑制効果がわずか
に減少する。さらに、ダイヤモンド状炭素膜層が両面構
造でその厚みが5000Åを超えるものは、フィルムの
縮退抑制効果およびフィルムの融着防止効果は見られる
が、回路基板用部材の貫通孔に大きなテーパがついてし
まう。したがって、本発明の回路基板用部材における高
分子フィルムが備えるダイヤモンド状炭素膜層の厚みは
500〜5000Åであることが好ましい。
When the thickness is 500 to 5000 °, the effect can be obtained regardless of the thickness of the diamond-like carbon film layer.
Further, the effect was obtained irrespective of the formation surface of the diamond-like carbon film layer (it is essential to provide the diamond-like carbon film layer on the prepreg side). However, for a sample having a diamond-like carbon film thickness of 100 to 500 °, no film fusion was performed, but the effect of suppressing the shrinkage of the polymer film was slightly reduced. Further, when the diamond-like carbon film layer has a double-sided structure and has a thickness of more than 5000 mm, the effect of suppressing film shrinkage and the effect of preventing fusion of the film are observed, but a large taper is formed in the through-hole of the circuit board member. . Therefore, the thickness of the diamond-like carbon film layer provided on the polymer film in the circuit board member of the present invention is preferably 500 to 5000 °.

【0066】また、いずれのサンプルについてもダイヤ
モンド状炭素膜層以外に設けた離形層に関係なく効果が
見られ、さらにダイヤモンド状炭素膜層の形成面(プリ
プレグ側にダイヤモンド状炭素膜層を設けることは必
須)にも関係なく効果が見られた。
In each of the samples, the effect was observed irrespective of the release layer provided other than the diamond-like carbon film layer. Further, the surface on which the diamond-like carbon film layer was formed (the diamond-like carbon film layer was provided on the prepreg side). This is essential), but the effect was seen.

【0067】以上より、本実施例において、ダイヤモン
ド状炭素膜層の厚み、形成面(プリプレグ側にダイヤモ
ンド状炭素膜層を設けることは必須)に関係なく、回路
基板用部材における高分子フィルムの縮退の抑制あるい
は防止と、高分子フィルム−プリプレグ間の融着防止の
効果を実現することができる。なお、本発明は本実施例
に記載した構成に限定されるものではなく、プリプレグ
の両面に高分子フィルムを備えた回路基板用部材であっ
て、その高分子フィルムの両面あるいは片面に少なくと
もダイヤモンド状炭素膜層を設け、かつその高分子フィ
ルムのダイヤモンド状炭素膜層側の面がプリプレグに接
している回路基板用部材であれば、どのような構成でも
よい。
As described above, in the present embodiment, regardless of the thickness and the formation surface of the diamond-like carbon film layer (the provision of the diamond-like carbon film layer on the prepreg side is essential), And the effect of preventing fusion between the polymer film and the prepreg can be realized. Note that the present invention is not limited to the configuration described in the present embodiment, but is a circuit board member having a polymer film on both sides of a prepreg, and at least a diamond-like member on both sides or one side of the polymer film. Any structure may be used as long as the carbon film layer is provided, and the polymer film has a diamond-like carbon film layer-side surface in contact with the prepreg.

【0068】次に、本発明の両面および多層回路基板の
製造方法の実施例について説明する。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a double-sided and multilayer circuit board according to the present invention will be described.

【0069】まず、本実施例および比較例に使用した導
電性ペーストについて説明する。以下に示した材料をシ
ンプソンミルで15分予備混合した後、3本ロールで5
パス混練して導電性ペーストを調整した。
First, the conductive paste used in this example and the comparative example will be described. The following materials were premixed with a Simpson mill for 15 minutes, and then
The paste was kneaded to prepare a conductive paste.

【0070】 銅粉(平均粒径5μm) 87.5重量部 ビスフェノールF型エポキシ樹脂 3.0重量部 ダイマー酸をグリシジルエステル化したエポキシ樹脂 7.0重量部 アミンアダクト型硬化剤 2.5重量部 以下に本発明の両面回路基板の実施例について示す。Copper powder (average particle size: 5 μm) 87.5 parts by weight Bisphenol F type epoxy resin 3.0 parts by weight Glycidyl esterified dimer acid epoxy resin 7.0 parts by weight Amine adduct type curing agent 2.5 parts by weight Examples of the double-sided circuit board of the present invention will be described below.

【0071】(実施例5)実施例1で作製した回路基板
用部材に炭酸ガスレーザーで200μm径の貫通孔を形
成し、上記の導電性ペーストを印刷法にてその貫通孔に
充填した。続いて、導電性ペーストが充填された回路基
板用部材を60℃に加熱し、高分子フィルムを剥離し
た。次に厚み35μmの銅箔で導電性ペーストが充填さ
れたプリプレグを挟持し、熱プレスを用いて真空中にて
温度200℃、圧力50kg/cm2で約1時間加熱加
圧して積層板を得た。この積層板の両面にドライフィル
ムを熱ロールにてラミネートし、これに所望のパターン
を有するマスクフィルムを配置し、紫外線露光して回路
パターン部のみフィルムを硬化させた。その後、未硬化
部分のフィルムを現像処理で取り除き、回路パターン部
以外の銅箔を塩化銅水溶液でエッチングした。最後に回
路パターン部のフィルムを剥離して、両面回路基板を作
製した。
Example 5 A through-hole having a diameter of 200 μm was formed in the circuit board member manufactured in Example 1 by using a carbon dioxide gas laser, and the conductive paste was filled in the through-hole by a printing method. Subsequently, the circuit board member filled with the conductive paste was heated to 60 ° C. to peel off the polymer film. Next, a prepreg filled with conductive paste is sandwiched between copper foils having a thickness of 35 μm, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 50 kg / cm 2 for about 1 hour in a vacuum using a hot press to obtain a laminate. Was. A dry film was laminated on both sides of the laminate with a hot roll, a mask film having a desired pattern was arranged on the laminate, and the film was cured by exposure to ultraviolet light only in the circuit pattern portion. Thereafter, the film in the uncured portion was removed by a development treatment, and the copper foil other than the circuit pattern portion was etched with a copper chloride aqueous solution. Finally, the film of the circuit pattern portion was peeled off to produce a double-sided circuit board.

【0072】(実施例6)実施例2で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例5と全く同一の方法で
両面回路基板を作製した。
Example 6 A double-sided circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 5 except that the circuit board member manufactured in Example 2 was used.

【0073】(実施例7)実施例3で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例5と全く同一の方法で
両面回路基板を作製した。
Example 7 A double-sided circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 5 except that the circuit board member manufactured in Example 3 was used.

【0074】(実施例8)実施例4で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例5と全く同一の方法で
両面回路基板を作製した。
Example 8 A double-sided circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 5 except that the circuit board member manufactured in Example 4 was used.

【0075】(比較例2)比較例1で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例5と全く同一の方法で
両面回路基板を作製した。
Comparative Example 2 A double-sided circuit board was produced in exactly the same manner as in Example 5, except that the circuit board member produced in Comparative Example 1 was used.

【0076】上記の実施例5〜8および比較例2で作製
した両面回路基板について、液相熱衝撃試験(−65℃
〜125℃、各5分間の温度サイクル)を1000サイ
クル行い、その時のビアホールの抵抗値を測定し評価し
た。サンプルは500穴のビアホールを有する両面回路
基板で、それぞれ50個用意して試験した。その結果、
比較例2において、50個中1個が10%以上、5個が
5〜10%の変化率を示した。一方、本実施例の両面回
路基板では、いずれのサンプルについても全数5%以下
の変化率であった。したがって、本実施例の回路基板用
部材を用いて、さらに本実施例の製造方法で両面回路基
板を作製することで高信頼性の両面回路基板を提供でき
る。
The double-sided circuit boards prepared in Examples 5 to 8 and Comparative Example 2 were subjected to a liquid phase thermal shock test (−65 ° C.).
(A temperature cycle of 125 ° C. for 5 minutes each) was performed 1000 times, and the resistance value of the via hole at that time was measured and evaluated. Samples were prepared by testing 50 double-sided circuit boards each having 500 via holes. as a result,
In Comparative Example 2, one out of 50 pieces showed a change rate of 10% or more, and 5 pieces showed a change rate of 5 to 10%. On the other hand, in the double-sided circuit board of this example, the change rate of all samples was 5% or less. Therefore, a highly reliable double-sided circuit board can be provided by using the circuit board member of the present embodiment and further manufacturing a double-sided circuit board by the manufacturing method of the present embodiment.

【0077】以下、本発明の多層回路基板用部材の実施
例について示す。まず、以下の実施例に使用したガラス
エポキシ回路基板の製造方法について説明する。
Hereinafter, examples of the member for a multilayer circuit board of the present invention will be described. First, a method for manufacturing a glass epoxy circuit board used in the following examples will be described.

【0078】ガラス織布にFR5のエポキシ樹脂を含浸
して、130℃で8分乾燥して、ガラス織布に半硬化状
態(Bステージ)のエポキシ樹脂を含浸したプリプレグ
(厚み0.6mm)を作製した。次にこのプリプレグを
厚み18μmの銅箔で挟持し、熱プレスを用いて真空中
にて温度200℃、圧力30kg/cm2で約1時間加
熱加圧して積層板を得た。この積層板の所定の位置にド
リル加工機で0.6mm径の貫通孔を形成し、銅メッキ
により、貫通孔の内壁と銅箔表面全面に銅メッキ皮膜を
形成した。
A glass woven fabric was impregnated with an epoxy resin of FR5, dried at 130 ° C. for 8 minutes, and a prepreg (thickness 0.6 mm) impregnated with a semi-cured epoxy resin in a glass woven fabric (B stage) was obtained. Produced. Next, the prepreg was sandwiched between copper foils having a thickness of 18 μm, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 30 kg / cm 2 for about 1 hour in a vacuum using a hot press to obtain a laminate. A through hole having a diameter of 0.6 mm was formed at a predetermined position of the laminate using a drilling machine, and a copper plating film was formed on the inner wall of the through hole and the entire surface of the copper foil by copper plating.

【0079】次に、この積層板の両面にドライフィルム
を熱ロールにてラミネートし、これに所望のパターンを
有するマスクフィルムを配置し、紫外線露光して回路パ
ターン部のみフィルムを硬化させた。その後、未硬化部
分のフィルムを現像処理で取り除き、回路パターン部以
外の銅箔を塩化銅水溶液でエッチングした。
Next, a dry film was laminated on both sides of the laminate by a hot roll, a mask film having a desired pattern was arranged on the laminate, and the film was cured only in the circuit pattern portion by exposing to ultraviolet light. Thereafter, the film in the uncured portion was removed by a development treatment, and the copper foil other than the circuit pattern portion was etched with a copper chloride aqueous solution.

【0080】最後に回路パターン部のフィルムを剥離し
て、ガラスエポキシ両面回路基板を作製した。なお、使
用したFR5樹脂の組成について上記に示した樹脂を使
用し、プリプレグの樹脂量は45±1wt%である。
Finally, the film of the circuit pattern portion was peeled off to produce a glass epoxy double-sided circuit board. In addition, the resin shown above was used for the composition of the used FR5 resin, and the resin amount of the prepreg was 45 ± 1 wt%.

【0081】(実施例9)実施例1で作製した回路基板
用部材に炭酸ガスレーザーで200μm径の貫通孔を形
成し、上記の導電性ペーストを印刷法にてその貫通孔に
充填した。続いて回路基板用部材を60℃に加熱し、高
分子フィルムを剥離し、導電性ペーストが充填されたプ
リプレグを作製した。
Example 9 A through hole having a diameter of 200 μm was formed in the circuit board member manufactured in Example 1 with a carbon dioxide gas laser, and the conductive paste was filled in the through hole by a printing method. Subsequently, the circuit board member was heated to 60 ° C., the polymer film was peeled off, and a prepreg filled with a conductive paste was produced.

【0082】次にこのプリプレグ2枚で上記のガラスエ
ポキシ両面回路基板を挟持し、さらにその両外側を2枚
の35μmの銅箔で挟み、熱プレスを用いて真空中にて
温度200℃、圧力50kg/cm2で約1時間加熱加
圧して積層板を得た。この積層板の両面にドライフィル
ムを熱ロールにてラミネートし、これに所望のパターン
を有するマスクフィルムを配置し、紫外線露光して回路
パターン部のみフィルムを硬化させた。
Next, the above-mentioned glass epoxy double-sided circuit board was sandwiched between the two prepregs, and both sides thereof were sandwiched between two 35 μm copper foils. The laminate was obtained by heating and pressing at 50 kg / cm 2 for about 1 hour. A dry film was laminated on both sides of the laminate with a hot roll, a mask film having a desired pattern was arranged on the laminate, and the film was cured by exposure to ultraviolet light only in the circuit pattern portion.

【0083】その後、未硬化部分のフィルムを現像処理
で取り除き、回路パターン部以外の銅箔を塩化銅水溶液
でエッチングした。最後に回路パターン部のフィルムを
剥離して、4層回路基板を作製した。
Thereafter, the uncured portion of the film was removed by a developing treatment, and the copper foil other than the circuit pattern portion was etched with a copper chloride aqueous solution. Finally, the film of the circuit pattern portion was peeled off to produce a four-layer circuit board.

【0084】なお、この製造方法において、ガラスエポ
キシ両面回路基板の代わりにこの製造方法で作製された
4層回路基板を使用することで6層回路基板を作製で
き、さらにこの製造方法を繰り返すことで所望の層数の
多層基板を得ることができる。また、ガラスエポキシ両
面回路基板の代わりに、ガラスエポキシ多層回路基板、
あるいは本発明の製造方法で得られた両面あるいは多層
回路基板を使用することができる。
In this manufacturing method, a six-layer circuit board can be manufactured by using the four-layer circuit board manufactured by this manufacturing method instead of the glass epoxy double-sided circuit board, and by repeating this manufacturing method. A multilayer substrate having a desired number of layers can be obtained. Also, instead of a glass epoxy double-sided circuit board, a glass epoxy multilayer circuit board,
Alternatively, a double-sided or multilayer circuit board obtained by the production method of the present invention can be used.

【0085】(実施例10)実施例2で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例9と全く同一の方法
で多層回路基板を作製した。
Example 10 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 9 except that the circuit board member manufactured in Example 2 was used.

【0086】(実施例11)実施例3で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例9と全く同一の方法
で多層回路基板を作製した。
Example 11 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 9 except that the circuit board member manufactured in Example 3 was used.

【0087】(実施例12)実施例4で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例9と全く同一の方法
で多層回路基板を作製した。
(Example 12) A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 9 except that the circuit board member manufactured in Example 4 was used.

【0088】(比較例3)比較例1で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例9と全く同一の方法で
多層回路基板を作製した。
Comparative Example 3 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 9 except that the circuit board member manufactured in Comparative Example 1 was used.

【0089】上記の実施例9〜12および比較例3で作
製した多層回路基板について、液相熱衝撃試験(−65
℃〜125℃、各5分間の温度サイクル)を1000サ
イクル行い、その時のビアホールの抵抗値を測定し評価
した。サンプルは500穴のビアホールを有する多層回
路基板で、それぞれ50個用意して試験した。その結
果、比較例3において、50個中3個が10%以上、8
個が5〜10%の変化率を示した。一方、本実施例の多
層回路基板では、いずれのサンプルについても全数5%
以下の変化率であった。したがって、本実施例の回路基
板用部材を用いて、さらに本実施例の製造方法で多層回
路基板を作製することで高信頼性の多層回路基板を提供
できる。
The liquid-phase thermal shock test (−65) was performed on the multilayer circuit boards prepared in Examples 9 to 12 and Comparative Example 3.
(Temperature cycle of 5 ° C. to 125 ° C., 5 minutes each), and the resistance value of the via hole at that time was measured and evaluated. The sample was a multilayer circuit board having 500 via holes, and 50 samples were prepared and tested. As a result, in Comparative Example 3, 3 out of 50 pieces were 10% or more and 8
The individual showed a change rate of 5 to 10%. On the other hand, in the multilayer circuit board of this embodiment, the total number of all the samples was 5%.
The rate of change was as follows. Therefore, a highly reliable multilayer circuit board can be provided by using the circuit board member of the present embodiment and further manufacturing a multilayer circuit board by the manufacturing method of the present embodiment.

【0090】(実施例13)実施例1で作製した回路基
板用部材に炭酸ガスレーザーで200μm径の貫通孔を
形成し、上記の導電性ペーストを印刷法にてその貫通孔
に充填した。続いて回路基板用部材を60℃に加熱し、
高分子フィルムを剥離し、導電性ペーストが充填された
プリプレグを作製した。
Example 13 A through-hole having a diameter of 200 μm was formed in the circuit board member manufactured in Example 1 using a carbon dioxide gas laser, and the conductive paste was filled in the through-hole by a printing method. Subsequently, the circuit board member is heated to 60 ° C.
The polymer film was peeled off to prepare a prepreg filled with a conductive paste.

【0091】次にこのプリプレグを上記の2枚のガラス
エポキシ両面回路基板で挟持し、その両外側を同様の2
枚のプリプレグで挟持し、さらにその両外側を2枚の3
5μmの銅箔で挟持した。熱プレスを用いて真空中にて
温度200℃、圧力50kg/cm2で約1時間加熱加
圧して積層板を得た。この積層板の両面にドライフィル
ムを熱ロールにてラミネートし、これに所望のパターン
を有するマスクフィルムを配置し、紫外線露光して回路
パターン部のみフィルムを硬化させた。
Next, this prepreg is sandwiched between the above two glass epoxy double-sided circuit boards, and both outer sides thereof are made of the same two-sided epoxy.
Sandwiched between two prepregs.
It was sandwiched between copper foils of 5 μm. The laminate was obtained by heating and pressing at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 50 kg / cm 2 for about 1 hour in a vacuum using a hot press. A dry film was laminated on both sides of the laminate with a hot roll, a mask film having a desired pattern was arranged on the laminate, and the film was cured by exposure to ultraviolet light only in the circuit pattern portion.

【0092】その後、未硬化部分のフィルムを現像処理
で取り除き、回路パターン部以外の銅箔を塩化銅水溶液
でエッチングした。最後に回路パターン部のフィルムを
剥離して、6層回路基板を作製した。
Thereafter, the uncured portion of the film was removed by a developing treatment, and the copper foil other than the circuit pattern portion was etched with a copper chloride aqueous solution. Finally, the film of the circuit pattern portion was peeled off to produce a six-layer circuit board.

【0093】なお、この製造方法により、ガラスエポキ
シ両面あるいは多層回路基板とプリプレグとを所望の数
だけ交互に配置し、最後にそれを銅箔で挟持すること
で、所望の層数を有する多層回路基板を製造することが
できる。また、本発明の製造方法で得られた両面あるい
は多層回路基板を使用することができる。
According to this manufacturing method, a desired number of glass epoxy double-sided or multi-layer circuit boards and prepregs are alternately arranged and finally sandwiched by a copper foil to obtain a multi-layer circuit having a desired number of layers. A substrate can be manufactured. Further, a double-sided or multilayer circuit board obtained by the manufacturing method of the present invention can be used.

【0094】(実施例14)実施例2で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例13と全く同一の方
法で多層回路基板を作製した。
(Example 14) A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 13 except that the circuit board member manufactured in Example 2 was used.

【0095】(実施例15)実施例3で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例13と全く同一の方
法で多層回路基板を作製した。
Example 15 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 13 except that the circuit board member manufactured in Example 3 was used.

【0096】(実施例16)実施例4で作製した回路基
板用部材を使用した以外は、実施例13と全く同一の方
法で多層回路基板を作製した。
Example 16 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 13 except that the circuit board member manufactured in Example 4 was used.

【0097】(比較例4)比較例1で作製した回路基板
用部材を使用した以外は、実施例13と全く同一の方法
で多層回路基板を作製した。
Comparative Example 4 A multilayer circuit board was manufactured in exactly the same manner as in Example 13 except that the circuit board member manufactured in Comparative Example 1 was used.

【0098】上記の実施例13〜16および比較例4で
作製した多層回路基板について、液相熱衝撃試験(−6
5℃〜125℃、各5分間の温度サイクル)を1000
サイクル行い、その時のビアホールの抵抗値を測定し評
価した。サンプルは500穴のビアホールを有する多層
回路基板で、それぞれ50個用意して試験した。その結
果、比較例4において、50個中2個が10%以上、5
個が5〜10%の変化率を示した。一方、本実施例の多
層回路基板では、いずれのサンプルについても全数5%
以下の変化率であった。したがって、本実施例の回路基
板用部材を用いて、さらに本実施例の製造方法で多層回
路基板を作製することで高信頼性の多層回路基板を提供
できる。
For the multilayer circuit boards produced in Examples 13 to 16 and Comparative Example 4, a liquid phase thermal shock test (-6
5 ° C. to 125 ° C., 5 minutes each)
The cycle was performed, and the resistance value of the via hole at that time was measured and evaluated. The sample was a multilayer circuit board having 500 via holes, and 50 samples were prepared and tested. As a result, in Comparative Example 4, 2 out of 50 pieces were 10% or more,
The individual showed a change rate of 5 to 10%. On the other hand, in the multilayer circuit board of this embodiment, the total number of all the samples was 5%.
The rate of change was as follows. Therefore, a highly reliable multilayer circuit board can be provided by using the circuit board member of the present embodiment and further manufacturing a multilayer circuit board by the manufacturing method of the present embodiment.

【0099】なお、本発明の回路基板用部材の使用は、
本実施例の製造方法に限定されるものではない。また、
本発明の両面および多層回路基板の製造方法は、本実施
例の製造方法に限定されるものではない。
The use of the circuit board member of the present invention is as follows.
The present invention is not limited to the manufacturing method of this embodiment. Also,
The method for manufacturing double-sided and multilayer circuit boards of the present invention is not limited to the manufacturing method of this embodiment.

【0100】[0100]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、プリプ
レグの両面に高分子フィルムを備えた回路基板用部材に
おいて、前記高分子フィルムの両面あるいは片面に少な
くともダイヤモンド状炭素膜層を設け、かつ前記高分子
フィルムのダイヤモンド状炭素膜層側の面をプリプレグ
側に位置させることで、この回路基板用部材にレーザー
等で貫通孔を形成した場合、プリプレグに設けた高分子
フィルムのダイヤモンド状炭素膜層が加工時の過剰な熱
を放散させることができ、さらに高分子フィルムの縮退
を抑制あるいは防止することができる。また、高分子フ
ィルムとプリプレグとの間にダイヤモンド状炭素膜層が
存在するため、高分子フィルムとプリプレグとの間の融
着を防ぐことができる。したがって、この回路基板用部
材を用いることで、回路基板のビアホールの小径化が可
能となり、さらに回路基板のビアホールの接続信頼性を
向上させることができ、ひいては回路基板の信頼性を向
上させることができる。
As described above, according to the present invention, in a circuit board member having a polymer film on both surfaces of a prepreg, at least a diamond-like carbon film layer is provided on both surfaces or one surface of the polymer film, When the through-hole is formed by a laser or the like in the circuit board member by positioning the surface of the polymer film on the diamond-like carbon film layer side on the prepreg side, the diamond-like carbon of the polymer film provided on the prepreg is formed. The film layer can dissipate excessive heat during processing, and can further suppress or prevent the shrinkage of the polymer film. Further, since the diamond-like carbon film layer exists between the polymer film and the prepreg, fusion between the polymer film and the prepreg can be prevented. Therefore, by using this circuit board member, the diameter of the via hole of the circuit board can be reduced, and the connection reliability of the via hole of the circuit board can be further improved. As a result, the reliability of the circuit board can be improved. it can.

【0101】また、本発明の回路基板用部材を用いて、
その部材の所定の位置に貫通孔を形成し、貫通孔に導電
性ペーストを充填し、その後、少なくともダイヤモンド
状炭素膜層を備えた高分子フィルムを剥離してプリプレ
グを得、そのプリプレグを金属箔で挟持して、加圧加熱
することにより形成される両面回路基板の製造方法を提
供し、この方法により、高信頼性の両面回路基板を製造
することができる。
Further, using the circuit board member of the present invention,
A through hole is formed at a predetermined position of the member, a conductive paste is filled into the through hole, and then a polymer film having at least a diamond-like carbon film layer is peeled to obtain a prepreg, and the prepreg is formed of a metal foil. And a method for manufacturing a double-sided circuit board formed by heating under pressure, whereby a highly reliable double-sided circuit board can be manufactured.

【0102】また、本発明の回路基板用部材を用いて、
その部材の所定の位置に貫通孔を形成し、貫通孔に導電
性ペーストを充填し、その後、少なくともダイヤモンド
状炭素膜層を備えた高分子フィルムを剥離してプリプレ
グを得、そのプリプレグと回路パターンを有する2層以
上の回路基板とを交互に所望の枚数だけ配置して(金属
箔が最外層になるように配置する)、加圧加熱すること
により形成される多層回路基板の製造方法を提供し、こ
の方法により、高信頼性の多層回路基板を製造すること
ができる。
Further, using the circuit board member of the present invention,
A through hole is formed at a predetermined position of the member, a conductive paste is filled into the through hole, and then a polymer film having at least a diamond-like carbon film layer is peeled to obtain a prepreg, and the prepreg and a circuit pattern are obtained. A method for manufacturing a multilayer circuit board formed by alternately arranging a desired number of circuit boards having two or more layers and arranging them so that the metal foil is the outermost layer, and by heating under pressure. In addition, a highly reliable multilayer circuit board can be manufactured by this method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における回路基板用部材
の模式的な断面図
FIG. 1 is a schematic sectional view of a circuit board member according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態2における回路基板用部材
の模式的な断面図
FIG. 2 is a schematic sectional view of a circuit board member according to Embodiment 2 of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態3における回路基板用部材
の模式的な断面図
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a circuit board member according to Embodiment 3 of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態4における回路基板用部材
の模式的な断面図
FIG. 4 is a schematic sectional view of a circuit board member according to a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイヤモンド状炭素膜層を備えた高分子フィルム 2 高分子フィルム 3a プリプレグに接したダイヤモンド状炭素膜層 3b プリプレグの反対側に位置するダイヤモンド状炭
素膜層 4 プリプレグ 5 ダイヤモンド状炭素膜層および離形層を備えた高分
子フィルム 6 離形層 7 ダイヤモンド状炭素膜層および樹脂層を備えた高分
子フィルム 8 樹脂層 9 ダイヤモンド状炭素膜層、離形層および樹脂層を備
えた高分子フィルム
Reference Signs List 1 polymer film provided with diamond-like carbon film layer 2 polymer film 3a diamond-like carbon film layer in contact with prepreg 3b diamond-like carbon film layer located on opposite side of prepreg 4 prepreg 5 diamond-like carbon film layer and mold release Polymer film provided with layer 6 Release layer 7 Polymer film provided with diamond-like carbon film layer and resin layer 8 Resin layer 9 Polymer film provided with diamond-like carbon film layer, release layer and resin layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 越後 文雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 三谷 力 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 CC25 CD21 CD27 CD32 GG17 5E346 AA42 AA43 CC08 CC16 EE09 GG15 HH07 HH17  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Fumio Echigo 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Terms (reference) 5E317 AA24 CC25 CD21 CD27 CD32 GG17 5E346 AA42 AA43 CC08 CC16 EE09 GG15 HH07 HH17

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プリプレグの両面に高分子フィルムを備え
た回路基板用部材であって、前記高分子フィルムの両面
あるいは片面にダイヤモンド状炭素膜層を設け、かつ前
記高分子フィルムに形成されたダイヤモンド状炭素膜層
側の面がプリプレグに接することを特徴とする回路基板
用部材。
1. A member for a circuit board comprising a polymer film on both surfaces of a prepreg, wherein a diamond-like carbon film layer is provided on both surfaces or one surface of the polymer film, and a diamond formed on the polymer film is provided. A member for a circuit board, wherein the surface on the side of the carbon film layer contacts the prepreg.
【請求項2】高分子フィルムのプリプレグと接する面側
の最外層に離形層を設けることを特徴とする請求項1記
載の回路基板用部材。
2. The circuit board member according to claim 1, wherein a release layer is provided on the outermost layer on the side of the polymer film in contact with the prepreg.
【請求項3】高分子フィルムのプリプレグと接する面と
反対側の面に熱硬化性樹脂を主成分とする層を設けるこ
とを特徴とする請求項1または2記載の回路基板用部
材。
3. The circuit board member according to claim 1, wherein a layer mainly composed of a thermosetting resin is provided on the surface of the polymer film opposite to the surface in contact with the prepreg.
【請求項4】熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、フェノー
ル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂およびメラミン樹脂から選ばれる少なくとも1種
以上であることを特徴とする請求項3記載の回路基板用
部材。
4. The circuit board according to claim 3, wherein the thermosetting resin is at least one selected from an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyester resin, a silicone resin and a melamine resin. Element.
【請求項5】ダイヤモンド状炭素膜層の厚さが100〜
5000Åであることを特徴とする請求項1〜4のいず
れかに記載の回路基板用部材。
5. A diamond-like carbon film layer having a thickness of 100 to 100.
The circuit board member according to any one of claims 1 to 4, wherein the angle is 5000 °.
【請求項6】プリプレグが耐熱性有機繊維あるいは無機
繊維の少なくとも一方を主成分とする織布あるいは不織
布に熱硬化性樹脂を含浸させて半硬化状態にした複合材
であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載
の回路基板用部材。
6. The prepreg is a composite material obtained by impregnating a woven or non-woven fabric containing at least one of heat-resistant organic fibers and inorganic fibers as a main component with a thermosetting resin to make a semi-cured state. Item 6. A circuit board member according to any one of Items 1 to 5.
【請求項7】耐熱性有機繊維が芳香族ポリアミド、芳香
族ポリエステル、ポリフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル、ポリフェニレンベンゾビスチアゾールから選ばれる
少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項6記
載の回路基板用部材。
7. The circuit board member according to claim 6, wherein the heat-resistant organic fiber is at least one selected from aromatic polyamide, aromatic polyester, polyphenylene benzobisoxazole, and polyphenylene benzobisthiazole. .
【請求項8】プリプレグが耐熱性高分子フィルムの両面
に接着剤層を備えており、かつ前記接着剤を半硬化状態
にした複合材であることを特徴とする請求項1〜5のい
ずれかに記載の回路基板用部材。
8. The composite material according to claim 1, wherein the prepreg is provided with an adhesive layer on both sides of a heat-resistant polymer film, and is a composite material in which the adhesive is in a semi-cured state. 4. The circuit board member according to claim 1.
【請求項9】高分子フィルムがポリエチレンナフタレー
ト、ポリフェニレンサルファイト、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキサイド
から選ばれることを特徴とする請求項1〜8のいずれか
に記載の回路基板用部材。
9. The circuit board member according to claim 1, wherein the polymer film is selected from polyethylene naphthalate, polyphenylene sulphite, polyethylene terephthalate, polypropylene, and polyphenylene oxide.
【請求項10】請求項1〜9のいずれかに記載の回路基
板用部材の所定の位置に貫通孔を形成する工程と、前記
貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、導電性ペー
ストが充填された前記回路基板用部材から高分子フィル
ムを剥離してプリプレグを得る工程と、前記プリプレグ
の両面に金属箔を配置した後、加熱加圧して積層板を得
る工程と、前記積層板に回路パターンを形成する工程を
含むことを特徴とする両面回路基板の製造方法。
10. A step of forming a through hole in a predetermined position of the circuit board member according to claim 1, a step of filling the through hole with a conductive paste, and Removing a polymer film from the filled circuit board member to obtain a prepreg, arranging metal foils on both surfaces of the prepreg, and then heating and pressing to obtain a laminate, A method for manufacturing a double-sided circuit board, comprising a step of forming a pattern.
【請求項11】請求項1〜9のいずれかに記載の回路基
板用部材の所定の位置に貫通孔を形成する工程と、前記
貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、導電性ペー
ストを充填された前記回路基板用部材から高分子フィル
ムを剥離してプリプレグを得る工程と、回路パターンを
有する少なくとも2層以上の回路基板の両面に前記プリ
プレグをそれぞれ配置し、さらに前記プリプレグの外表
面側に金属箔をそれぞれ配置した後、加熱加圧して積層
板を得る工程と、前記積層板に回路パターンを形成する
工程を少なくとも1回以上繰り返すことを特徴とする多
層回路基板の製造方法。
11. A step of forming a through hole at a predetermined position of the circuit board member according to claim 1, a step of filling the through hole with a conductive paste, and a step of filling the through hole with a conductive paste. A step of peeling a polymer film from the filled circuit board member to obtain a prepreg, arranging the prepregs on both surfaces of at least two or more circuit boards having a circuit pattern, and further, an outer surface side of the prepreg A method for manufacturing a multilayer circuit board, comprising: repeating a step of obtaining a laminated board by arranging metal foils on each of the above and heating and pressing to form a circuit pattern on the laminated board at least once or more.
【請求項12】請求項1〜9のいずれかに記載の回路基
板用部材の所定の位置に貫通孔を形成する工程と、前記
貫通孔に導電性ペーストを充填する工程と、導電性ペー
ストを充填された前記回路基板用部材から高分子フィル
ムを剥離してプリプレグを得る工程と、少なくとも2枚
以上の回路パターンを有する少なくとも2層以上の回路
基板と、前記回路基板の枚数より1枚多い枚数の前記プ
リプレグとをそれぞれ交互に配置し、さらに最外位置に
金属箔を配置した後、加熱加圧して熱圧着して積層板を
得る工程と、前記積層板に回路パターンを形成する工程
を少なくとも含むことを特徴とする多層回路基板の製造
方法。
12. A step of forming a through hole at a predetermined position of the circuit board member according to claim 1, a step of filling the through hole with a conductive paste, and a step of filling the conductive paste with the conductive paste. A step of removing a polymer film from the filled circuit board member to obtain a prepreg, at least two or more circuit boards having at least two circuit patterns, and one more than the number of the circuit boards The prepreg and the prepreg are alternately arranged, and furthermore, after arranging the metal foil at the outermost position, a step of obtaining a laminated board by heating and pressing and thermocompression, and at least a step of forming a circuit pattern on the laminated board A method for manufacturing a multilayer circuit board, comprising:
JP2000135681A 2000-05-09 2000-05-09 Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board Pending JP2001320173A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000135681A JP2001320173A (en) 2000-05-09 2000-05-09 Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000135681A JP2001320173A (en) 2000-05-09 2000-05-09 Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001320173A true JP2001320173A (en) 2001-11-16

Family

ID=18643725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000135681A Pending JP2001320173A (en) 2000-05-09 2000-05-09 Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001320173A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008502815A (en) * 2004-06-15 2008-01-31 シーメンス パワー ジェネレーション インコーポレイテッド Woven fabric with high thermal conductivity coating
CN108882569A (en) * 2018-08-31 2018-11-23 生益电子股份有限公司 A kind of production method and PCB of PCB

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008502815A (en) * 2004-06-15 2008-01-31 シーメンス パワー ジェネレーション インコーポレイテッド Woven fabric with high thermal conductivity coating
CN108882569A (en) * 2018-08-31 2018-11-23 生益电子股份有限公司 A kind of production method and PCB of PCB

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6459046B1 (en) Printed circuit board and method for producing the same
JP3197213B2 (en) Printed wiring board and method of manufacturing the same
US6996902B2 (en) Method for manufacturing a circuit board
JP4126052B2 (en) Printed circuit board manufacturing method and thin printed circuit board
US6451710B1 (en) Method of manufacturing multi-layer printed wiring board
WO2001045478A1 (en) Multilayered printed wiring board and production method therefor
US20100224395A1 (en) Multilayer wiring board and its manufacturing method
WO2006118141A1 (en) Multilayer wiring board and method for producing same
US20040214006A1 (en) Member for a circuit board, method of manufacturing the same, and methods of manufacturing circuit boards
JP4348815B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JP2004343086A (en) Member for circuit board, method of manufacturing the same, and method of manufacturing circuit board
JP3014365B2 (en) Wiring board, intermediate connector, method of manufacturing wiring board, and method of manufacturing intermediate connector
WO2002056655A1 (en) Circuit board and production method therefor
JP3297721B2 (en) Circuit board member and method of manufacturing circuit board using the same
JP2002208763A (en) Circuit board and method for manufacturing it
JPH11251703A (en) Circuit board, both-sided circuit board, multilayered circuit board, and manufacture of circuit board
JP2001320173A (en) Circuit board member, method of manufacturing both- sided circuit board and method of manufacturing multilayer circuit board
JP2000068620A (en) Circuit substrate and manufacture thereof
JP3053790B2 (en) Circuit board connecting member, circuit board manufacturing method and circuit board
JP2011222962A (en) Print circuit board and method of manufacturing the same
JP3900862B2 (en) Method for manufacturing printed circuit board
JPH1117295A (en) Manufacture of prepreg for circuit board and prepreg for circuit board and manufacture of circuit board using the same device
JPH1174640A (en) Manufacture of printed wiring board
JP2002141630A (en) Circuit board and its manufacturing method
JPH10335834A (en) Multilayered wiring board