JP2001318126A - Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuit - Google Patents
Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuitInfo
- Publication number
- JP2001318126A JP2001318126A JP2000135610A JP2000135610A JP2001318126A JP 2001318126 A JP2001318126 A JP 2001318126A JP 2000135610 A JP2000135610 A JP 2000135610A JP 2000135610 A JP2000135610 A JP 2000135610A JP 2001318126 A JP2001318126 A JP 2001318126A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory element
- nonvolatile memory
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、不揮発性記憶素
子を含む半導体集積回路において、不揮発性素子部分と
その周辺回路の加速試験の同時実施する技術に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for simultaneously performing an acceleration test of a nonvolatile element portion and a peripheral circuit thereof in a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に半導体集積回路においては、品質
を安定させかつ性能不安定な製品を除去(スクリーニン
グ)するために、高温・高電圧による加速ストレスを印
加して故障発生を加速し、短時間で不良品を取り除くバ
ーンイン試験が行われている。このときの加速試験の温
度条件・電圧条件は、保証する条件を基準として温度加
速係数・電圧加速係数から導出している。2. Description of the Related Art In general, in a semiconductor integrated circuit, in order to stabilize the quality and remove (screen) a product having unstable performance, an acceleration stress is applied by a high temperature and a high voltage to accelerate the occurrence of a failure, and a short time. A burn-in test is conducted to remove defective products. The temperature condition and voltage condition of the acceleration test at this time are derived from the temperature acceleration coefficient and the voltage acceleration coefficient on the basis of the guaranteed condition.
【0003】一方、フラッシュメモリ等の不揮発性記憶
素子を含む半導体集積回路では、不揮発性記憶素子以外
の周辺部分に印加する電圧に比較して、不揮発性記憶素
子の部分に印加する電圧は一般に高いという特徴があ
る。従って、不揮発性記憶素子を含む半導体集積回路で
は、その動作を保証するために不揮発性記憶素子の部分
には他の部分よりも高い電圧を印加する加速試験を実施
する必要がある。On the other hand, in a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element such as a flash memory, a voltage applied to a nonvolatile memory element is generally higher than a voltage applied to a peripheral portion other than the nonvolatile memory element. There is a feature. Therefore, in a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile storage element, it is necessary to perform an acceleration test in which a higher voltage is applied to a part of the nonvolatile storage element than to other parts in order to guarantee its operation.
【0004】この場合、単純に半導体集積回路全体にか
かる印加電圧を上げることも考えられるが、耐圧の限界
内で電圧加速試験を実施し、かつ必要な動作保証レベル
まで満足させるためには、別々の加速条件とする必要が
ある。In this case, it is conceivable to simply increase the applied voltage to the entire semiconductor integrated circuit. However, in order to perform the voltage acceleration test within the limit of the withstand voltage and to satisfy the required operation guarantee level, it is necessary to separately increase the voltage. Acceleration conditions.
【0005】従来の不揮発性記憶素子を含む半導体集積
回路における加速試験は、図9のフローチャートのよう
であった。すなわち、(a)のように不揮発性記憶素子
部分(メモリセル部)に高々電圧を静的に印加して一定
時間待つ、不揮発性記憶素子の電圧加速試験と、(b)
のように半導体集積回路のVccを高電圧にしてファン
クション動作を一定時間だけ動作させる、不揮発性記憶
素子部分(メモリセル部)以外の周辺回路の電圧加速試
験を別々に実施していた。[0005] The acceleration test of a conventional semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element is as shown in the flowchart of FIG. That is, as shown in (a), a voltage accelerating test of a nonvolatile memory element, in which a voltage is statically applied to a nonvolatile memory element portion (memory cell portion) at a maximum and a predetermined time is waited, and (b)
As described above, voltage acceleration tests of peripheral circuits other than the non-volatile memory element portion (memory cell portion) in which Vcc of the semiconductor integrated circuit is set to a high voltage and the function operation is performed for a fixed time are separately performed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
不揮発性記憶素子を含む半導体集積回路においては、半
導体集積回路全体に対しての加速試験と、不揮発性記憶
素子部分のみの加速試験とを別々に実施していた。この
2段階の手法は半導体集積回路の動作を保証する上では
十分な試験ではあるが、加速試験にかかる時間が長くな
るという問題がある。As described above, in a conventional semiconductor integrated circuit including a nonvolatile storage element, an acceleration test for the entire semiconductor integrated circuit and an acceleration test for only the nonvolatile storage element are performed. Was performed separately. Although the two-stage method is a sufficient test for guaranteeing the operation of the semiconductor integrated circuit, it has a problem that the time required for the accelerated test becomes long.
【0007】特に、半導体集積回路の耐圧が低い場合
は、加速試験において十分に電圧を上げられない代わり
に試験の時間が長くなる。その結果、加速試験を2回実
施する手法は検査時間が更に長くなり大きな問題とな
る。In particular, when the withstand voltage of the semiconductor integrated circuit is low, the voltage cannot be sufficiently increased in the accelerated test, but the test time becomes longer. As a result, the method of performing the accelerated test twice causes a longer test time, which is a serious problem.
【0008】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたものであり、不揮発性記憶素子を含む
半導体集積回路の試験において、不揮発性記憶素子に対
する加速試験を実施しながら、同時に不揮発性記憶素子
以外の周辺部分の加速試験を実施することにより、加速
試験に要する検査時間を短縮させることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems. In a test of a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element, an accelerated test for the nonvolatile memory element is performed while performing an accelerated test. An object of the present invention is to reduce an inspection time required for an acceleration test by performing an acceleration test on a peripheral portion other than the nonvolatile memory element.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、不揮
発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備
えた半導体集積回路の試験方法において、不揮発性記憶
素子の全メモリセルに高々電圧を印加する第1のステッ
プと、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印
加しながら試験パターンを付与する第2のステップとを
有し、上記両ステップを同時に実施することを特徴とす
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a test method for a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit section other than the nonvolatile memory element. The method includes a first step of applying a voltage at most and a second step of applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element. Features.
【0010】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加
する際に、不揮発性記憶素子の全てのワードラインとビ
ットラインを多重選択することを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, when a voltage is applied to all the memory cells of the nonvolatile memory element at most, all the word lines and the bit lines of the nonvolatile memory element are multiple-selected. It is characterized by the following.
【0011】請求項3の発明は、請求項1又は請求項2
の発明において、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に
揮発性記憶素子部を含むことを特徴とする。[0011] The invention of claim 3 is claim 1 or claim 2.
According to the invention, the peripheral circuit section other than the nonvolatile storage element includes a volatile storage element section.
【0012】請求項4の発明は、不揮発性記憶素子と不
揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備えた半導体集積回
路を試験する半導体試験装置において、不揮発性記憶素
子の全メモリセルに高々電圧を印加する第1の手段と、
不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印加しな
がら試験パターンを付与する第2の手段を備え、上記両
手段により同時に半導体集積回路を試験することを特徴
とする。According to a fourth aspect of the present invention, in a semiconductor test apparatus for testing a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element, a voltage is applied to all memory cells of the nonvolatile memory element at most. First means for applying;
A second means for applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element is provided, and the semiconductor integrated circuit is tested simultaneously by the two means.
【0013】請求項5の発明は、不揮発性記憶素子と不
揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備えた半導体集積回
路において、不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電
圧を印加する手段と、不揮発性記憶素子以外の周辺回路
部に高電圧を印加しながら試験パターンを付与する手段
を備え、上記両手段により同時に加速試験が行なえるこ
とを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element, means for applying a voltage to all memory cells of the nonvolatile memory element at most is provided. Means for applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit portion other than the memory element, and the acceleration test can be performed simultaneously by the two means.
【0014】請求項6の発明は、請求項5の発明におい
て、半導体試験装置からの信号を入力してそのコマンド
を解析する制御回路と、不揮発性記憶素子の全てのワー
ドライン及びビットラインを多重選択する多重選択回路
と、高電圧発生器からの電圧を入力し不揮発性記憶素子
に高々電圧を印加する高圧源切替回路を有することを特
徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, a control circuit for inputting a signal from a semiconductor test apparatus and analyzing a command thereof is multiplexed with all word lines and bit lines of a nonvolatile memory element. A multi-selection circuit for selecting a voltage; and a high-voltage source switching circuit for inputting a voltage from a high-voltage generator and applying a voltage at most to a nonvolatile memory element.
【0015】請求項7の発明は、請求項5又は請求項6
の発明において、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に
揮発性記憶素子部を含むことを特徴とする。[0015] The invention of claim 7 is the invention of claim 5 or claim 6.
According to the invention, the peripheral circuit section other than the nonvolatile storage element includes a volatile storage element section.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1はこの発明に
よる半導体集積回路の試験方法を示す概略フローチャー
ト図である。図に示すように、この発明では不揮発性記
憶素子を含む半導体集積回路において、不揮発性記憶素
子(メモリセル部)の電圧加速試験と、不揮発性記憶素
子以外の周辺回路部の電圧加速試験とを同時に実施す
る。それにより、半導体集積回路の加速試験に要する検
査時間を短縮させることができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 FIG. 1 is a schematic flowchart showing a method for testing a semiconductor integrated circuit according to the present invention. As shown in the figure, in the present invention, in a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element, a voltage acceleration test of a nonvolatile memory element (memory cell section) and a voltage acceleration test of a peripheral circuit section other than the nonvolatile memory element are performed. Perform at the same time. Thereby, the inspection time required for the accelerated test of the semiconductor integrated circuit can be reduced.
【0017】図2はこの発明による半導体集積回路3と
それを試験する半導体試験装置10を示す概略ブロック
図である。図において、半導体試験装置10は、試験装
置全体を制御するCPU等から構成される制御部11
と、試験用の周期信号(クロックパルス)を発生するタ
イミング発生器12と、試験用のパターン信号を発生す
るパターン発生器13と、パターン発生器13からの試
験パターンをタイミング発生器12からのタイミングエ
ッジによって所定の波形モードに整形するフォーマット
コントローラ14と、フォーマットコントローラ14で
整形されたパターンの電圧レベルを定めるドライバを介
して半導体集積回路3の入力ピンに印加すると共に半導
体集積回路3からの出力信号が高レベルか低レベルかの
比較を行なうピンエレクトロニクス15と、ピンエレク
トロニクス15での比較結果の信号を入力しパターン発
生器13から発生する期待値パターンとの論理比較を行
なうパターン比較器16から構成されている。また、半
導体試験装置10は、不揮発性記憶素子1の電圧加速試
験を行なうために半導体集積回路3の外部ピンに高々電
圧を印加することができる高電圧発生器17及び18を
備えている。FIG. 2 is a schematic block diagram showing a semiconductor integrated circuit 3 according to the present invention and a semiconductor test apparatus 10 for testing the same. In the figure, a semiconductor test apparatus 10 includes a control unit 11 including a CPU for controlling the entire test apparatus.
A timing generator 12 for generating a test periodic signal (clock pulse), a pattern generator 13 for generating a test pattern signal, and a test pattern from the pattern generator 13 An output signal from the semiconductor integrated circuit 3 while being applied to an input pin of the semiconductor integrated circuit 3 via a format controller 14 for shaping into a predetermined waveform mode by an edge and a driver for determining a voltage level of the pattern shaped by the format controller 14 And a pattern comparator 16 for inputting a signal of the comparison result from the pin electronics 15 and performing a logical comparison with an expected value pattern generated from the pattern generator 13. Have been. Further, the semiconductor test apparatus 10 includes high voltage generators 17 and 18 that can apply a voltage to external pins of the semiconductor integrated circuit 3 at most to perform a voltage acceleration test of the nonvolatile memory element 1.
【0018】また、半導体集積回路3は、フラッシュメ
モリ等の不揮発性記憶素子1と、不揮発性記憶素子1以
外の周辺回路部2を備えている。そして、周辺回路部2
は、少なくとも、上記ピンエレクトロニクス15からの
試験信号を入力してそのコマンドを解析する制御回路5
と、不揮発性記憶素子1の全てのワードライン及びビッ
トラインを多重選択する多重選択回路6と、上記高電圧
発生器17及び18からの電圧を入力し不揮発性記憶素
子1に高々電圧を印加することが可能な高圧源切替回路
7を有している。The semiconductor integrated circuit 3 includes a nonvolatile memory element 1 such as a flash memory, and a peripheral circuit unit 2 other than the nonvolatile memory element 1. And the peripheral circuit section 2
Is a control circuit 5 which receives at least a test signal from the pin electronics 15 and analyzes the command.
A multi-select circuit 6 for multi-selecting all word lines and bit lines of the nonvolatile memory element 1; and inputting voltages from the high voltage generators 17 and 18 to apply a voltage at most to the nonvolatile memory element 1. And a high-voltage source switching circuit 7 capable of performing such operations.
【0019】図3はこの発明による半導体集積回路の試
験方法を示す詳細フローチャート図であり、図4〜図8
は図3のステップ1からステップ5における半導体試験
の動作状態を示すブロック図である。以下、本発明によ
る不揮発性記憶素子を含む半導体集積回路の加速試験に
ついて詳しく説明する。FIG. 3 is a detailed flowchart showing a method of testing a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
FIG. 4 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in steps 1 to 5 of FIG. Hereinafter, the accelerated test of the semiconductor integrated circuit including the nonvolatile memory element according to the present invention will be described in detail.
【0020】まず、ステップ1において、半導体試験装
置10により半導体集積回路3を制御して、不揮発性記
憶素子1の全てのワードライン及びビットラインを多重
選択し、半導体記憶素子1の全メモリセルに同時に電圧
が加わるようにする。すなわち、図4に示すように、半
導体試験装置10のピンエレクトロニクス15から制御
回路5に対して半導体記憶素子1の全てのワードライン
及びビットラインを多重選択するようにコマンドを出力
し、制御回路5は当該コマンドを受けて多重選択回路6
を制御し、半導体記憶素子1の全メモリセルに同時に電
圧が加わるように用意する。First, in step 1, the semiconductor test circuit 10 controls the semiconductor integrated circuit 3 to multi-select all word lines and bit lines of the nonvolatile memory element 1 and to select all the memory cells of the semiconductor memory element 1. Apply voltage at the same time. That is, as shown in FIG. 4, a command is output from the pin electronics 15 of the semiconductor test apparatus 10 to the control circuit 5 so that all the word lines and bit lines of the semiconductor memory element 1 are multi-selected. Is a multi-selection circuit 6
Is prepared so that a voltage is simultaneously applied to all the memory cells of the semiconductor memory element 1.
【0021】次に、ステップ2において、半導体試験装
置10からの外部印加電圧が不揮発性記憶素子1にかか
るように制御する。すなわち、図5に示すように、高圧
源切替回路7を制御して、半導体試験装置10の高電圧
発生器17及び18からの高々電圧が多重選択回路6を
介して不揮発性記憶素子1に加わるように用意する。Next, in step 2, control is performed so that an externally applied voltage from the semiconductor test apparatus 10 is applied to the nonvolatile memory element 1. That is, as shown in FIG. 5, the high voltage source switching circuit 7 is controlled, and at most the voltages from the high voltage generators 17 and 18 of the semiconductor test apparatus 10 are applied to the nonvolatile memory element 1 via the multiple selection circuit 6. Prepare as follows.
【0022】次に、ステップ3において、半導体集積回
路3の外部印加ピンに高々電圧を印加して、不揮発性記
憶素子1の部分に対する静的な電圧加速試験を開始す
る。すなわち、図6に示すように、多重選択回路6によ
り半導体記憶素子1の全てのワードライン及びビットラ
インが選択され(ステップ1)、高圧源切替回路7によ
り高電圧発生器17及び18からの高々電圧が不揮発性
記憶素子1に加わるように用意(ステップ2)されてい
るのを受けて、半導体試験装置10のピンエレクトロニ
クス15から制御回路5に高々電圧印加のコマンドを出
力し、当該コマンドにより高圧源切替回路7を介して不
揮発性記憶素子1の全セルに対して高々電圧の印加を開
始する。Next, in step 3, a voltage is applied at most to the external application pin of the semiconductor integrated circuit 3 to start a static voltage acceleration test for the nonvolatile memory element 1. That is, as shown in FIG. 6, all the word lines and bit lines of the semiconductor memory element 1 are selected by the multiple selection circuit 6 (step 1), and at most the high voltage generators 17 and 18 output the high voltage from the high voltage generators 17 and 18 by the high voltage source switching circuit 7. In response to the voltage being prepared to be applied to the nonvolatile memory element 1 (step 2), a command for applying a voltage at most is output from the pin electronics 15 of the semiconductor test apparatus 10 to the control circuit 5, and the high voltage is applied by the command. The application of voltage at most to all the cells of the nonvolatile memory element 1 via the source switching circuit 7 is started.
【0023】次に、ステップ4において、不揮発性記憶
素子1の部分の電圧加速試験を行ないながら、不揮発性
記憶素子1以外の周辺回路部2の加速試験を実施する。
すなわち、図7に示すように、半導体集積回路3の電源
ピン・信号ピンに高電圧を印加し、かつ信号ピンにパタ
ーン発生器13で生成した“H”と“L”の2値の信号
の種々の組み合わせを順に与え続け、不揮発性記憶素子
1以外の周辺回路部2の電圧加速試験を実施する。Next, in step 4, an acceleration test of the peripheral circuit unit 2 other than the nonvolatile memory element 1 is performed while performing a voltage acceleration test of a portion of the nonvolatile memory element 1.
That is, as shown in FIG. 7, a high voltage is applied to a power supply pin / signal pin of the semiconductor integrated circuit 3 and a binary signal of “H” and “L” generated by the pattern generator 13 is applied to the signal pin. Various combinations are successively given, and a voltage acceleration test of the peripheral circuit unit 2 other than the nonvolatile memory element 1 is performed.
【0024】そして、ステップ5において、加速試験に
要する所定時間経過後、半導体集積回路3に印加した信
号・電圧を切り、不揮発性記憶素子1部分の加速試験と
その他周辺回路部2の加速試験を終了させる(図8参
照)。In step 5, after a lapse of a predetermined time required for the acceleration test, the signals and voltages applied to the semiconductor integrated circuit 3 are cut off, and the acceleration test of the nonvolatile memory element 1 and the acceleration test of the peripheral circuit section 2 are performed. The process is terminated (see FIG. 8).
【0025】以上のように、この発明の実施の形態によ
れば、不揮発性記憶素子を含む半導体集積回路におい
て、不揮発性記憶素子に対する加速試験を実施しなが
ら、同時に不揮発性記憶素子以外の部分の加速試験を実
施することにより、加速試験に要する検査時間を短縮さ
せることができる。As described above, according to the embodiment of the present invention, in a semiconductor integrated circuit including a nonvolatile memory element, an acceleration test is performed on the nonvolatile memory element, and at the same time, parts other than the nonvolatile memory element are tested. By performing the accelerated test, the inspection time required for the accelerated test can be reduced.
【0026】また、長い時間を消費する加速試験につい
て、複数試験を同時に実施するという本実施の形態の方
法では、検査時間の短縮効果が大きい。In the method of the present embodiment in which a plurality of tests are simultaneously performed for an accelerated test that consumes a long time, the effect of reducing the inspection time is great.
【0027】特に、半導体集積回路の微細化が進み耐圧
が低くなる場合は、十分に電圧を上げられなく代わりに
加速試験の時間を長くすることになるので、加速試験を
同時に実施する本実施の形態の時間短縮効果は、より大
きなものとなる。In particular, in the case where the miniaturization of the semiconductor integrated circuit advances and the breakdown voltage becomes low, the voltage cannot be increased sufficiently and the time of the acceleration test is lengthened instead. The time saving effect of the form is greater.
【0028】その他の実施の形態.上記実施の形態にお
いては、不揮発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周
辺回路部を備えた半導体集積回路の試験方法について説
明したが、不揮発性記憶素子部と、揮発性記憶素子部
と、その他の周辺回路部分の3部構成の半導体集積回路
の試験方法についても同様に適用できる。Other Embodiments In the above embodiment, the method of testing the semiconductor integrated circuit including the nonvolatile memory element and the peripheral circuit unit other than the nonvolatile memory element has been described. However, the nonvolatile memory element unit, the volatile memory element unit, The same can be applied to a method for testing a three-part semiconductor integrated circuit including the peripheral circuit portion.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、不揮
発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備
えた半導体集積回路において、不揮発性記憶素子の全メ
モリセルに高々電圧を印加する加速試験と、不揮発性記
憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印加しながら試験パ
ターンを付与する加速試験の、両加速試験を同時に実施
するようにしたので、半導体集積回路の加速試験に要す
る検査時間を短縮させることができる。As described above, according to the present invention, in a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit section other than the nonvolatile memory element, a voltage of at most is applied to all memory cells of the nonvolatile memory element. The acceleration test, which applies a test pattern while applying a high voltage to peripheral circuits other than the non-volatile storage element, and the acceleration test to apply a high voltage to the peripheral circuit section are performed simultaneously. The required inspection time can be reduced.
【0030】また、長い時間を消費する加速試験につい
て、複数試験を同時に実施するという本発明の方法で
は、検査時間の短縮効果が大きい。In the method of the present invention in which a plurality of tests are simultaneously performed for an accelerated test that consumes a long time, the effect of shortening the inspection time is great.
【0031】特に、半導体集積回路の微細化が進み耐圧
が低くなる場合は、十分に電圧を上げられなく代わりに
加速試験の時間を長くすることになるので、加速試験を
同時に実施する本発明の時間短縮効果は、より大きなも
のとなる。In particular, when the semiconductor integrated circuit is miniaturized and the breakdown voltage is reduced, the voltage cannot be sufficiently increased, and the time required for the acceleration test is lengthened instead. The time saving effect is greater.
【図1】 この発明による半導体集積回路の試験方法を
示す概略フローチャート図である。FIG. 1 is a schematic flowchart showing a method for testing a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
【図2】 この発明による半導体集積回路と半導体試験
装置を示す概略ブロック図である。FIG. 2 is a schematic block diagram showing a semiconductor integrated circuit and a semiconductor test device according to the present invention.
【図3】 この発明による半導体集積回路の試験方法を
示す詳細フローチャート図である。FIG. 3 is a detailed flowchart showing a test method of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.
【図4】 図3のステップ1における半導体試験の動作
状態を示すブロック図である。4 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in step 1 of FIG.
【図5】 図3のステップ2における半導体試験の動作
状態を示すブロック図である。5 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in step 2 of FIG.
【図6】 図3のステップ3における半導体試験の動作
状態を示すブロック図である。6 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in step 3 of FIG.
【図7】 図3のステップ4における半導体試験の動作
状態を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in step 4 of FIG.
【図8】 図3のステップ5における半導体試験の動作
状態を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing an operation state of a semiconductor test in step 5 of FIG.
【図9】 従来の半導体集積回路の試験方法を示す概略
フローチャート図である。FIG. 9 is a schematic flowchart illustrating a conventional method for testing a semiconductor integrated circuit.
1 不揮発性記憶素子、2 不揮発性記憶素子以外の周
辺回路部、3 半導体集積回路、5 制御回路、6 多
重選択回路、7 高圧源切替回路、10 半導体試験装
置、11 制御部、12 タイミング発生器、13 パ
ターン発生器、14 フォーマットコントローラ、15
ピンエレクトロニクス、16 パターン比較器、1
7,18 高電圧発生器。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Non-volatile memory element, 2 Peripheral circuit parts other than a non-volatile memory element, 3 Semiconductor integrated circuit, 5 Control circuit, 6 Multiple selection circuit, 7 High voltage source switching circuit, 10 Semiconductor test apparatus, 11 Control section, 12 Timing generator , 13 pattern generator, 14 format controller, 15
Pin electronics, 16 pattern comparators, 1
7,18 High voltage generator.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 29/00 673 G01R 31/28 H G11C 17/00 601Z Fターム(参考) 2G003 AA07 AA08 AC01 AE06 AE09 AH01 AH04 2G032 AA08 AB01 AC03 AE07 AE08 AE12 AF10 AG07 AG10 AK03 AK15 AL00 5B025 AD00 AE09 AF00 5L106 AA10 DD21 DD36 FF01 GG00──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11C 29/00 673 G01R 31 / 28H G11C 17/00 601Z F-term (Reference) 2G003 AA07 AA08 AC01 AE06 AE09 AH01 AH04 2G032 AA08 AB01 AC03 AE07 AE08 AE12 AF10 AG07 AG10 AK03 AK15 AL00 5B025 AD00 AE09 AF00 5L106 AA10 DD21 DD36 FF01 GG00
Claims (7)
外の周辺回路部を備えた半導体集積回路の試験方法にお
いて、 不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する
第1のステップと、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部
に高電圧を印加しながら試験パターンを付与する第2の
ステップとを有し、上記両ステップを同時に実施するこ
とを特徴とする半導体集積回路の試験方法。1. A method for testing a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element, wherein a first step of applying a voltage to all memory cells of the nonvolatile memory element at most. A second step of applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit unit other than the nonvolatile memory element, wherein both steps are performed simultaneously.
電圧を印加する際に、不揮発性記憶素子の全てのワード
ラインとビットラインを多重選択することを特徴とする
請求項1に記載の半導体集積回路の試験方法。2. The semiconductor according to claim 1, wherein, when a voltage is applied to all the memory cells of the nonvolatile memory element at most, all the word lines and bit lines of the nonvolatile memory element are multiply selected. Test method for integrated circuits.
発性記憶素子部を含むことを特徴とする請求項1又は請
求項2に記載の半導体集積回路の試験方法。3. The test method for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a peripheral storage unit other than the nonvolatile storage element includes a volatile storage element unit.
外の周辺回路部を備えた半導体集積回路を試験する半導
体試験装置において、 不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する
第1の手段と、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高
電圧を印加しながら試験パターンを付与する第2の手段
を備え、上記両手段により同時に半導体集積回路を試験
することを特徴とする半導体試験装置。4. A semiconductor test apparatus for testing a semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element, wherein a first voltage is applied to all memory cells of the nonvolatile memory element. And a second means for applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit portion other than the nonvolatile memory element, wherein the semiconductor integrated circuit is tested simultaneously by the two means. .
外の周辺回路部を備えた半導体集積回路において、 不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する
手段と、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を
印加しながら試験パターンを付与する手段を備え、上記
両手段により同時に加速試験が行なえることを特徴とす
る半導体集積回路。5. A semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit section other than the nonvolatile memory element, wherein means for applying a voltage to all memory cells of the nonvolatile memory element at most is provided. A semiconductor integrated circuit, comprising: means for applying a test pattern while applying a high voltage to a peripheral circuit part, wherein an acceleration test can be performed simultaneously by the two means.
外の周辺回路部を備えた半導体集積回路において、 半導体試験装置からの信号を入力してそのコマンドを解
析する制御回路と、不揮発性記憶素子の全てのワードラ
イン及びビットラインを多重選択する多重選択回路と、
高電圧発生器からの電圧を入力し不揮発性記憶素子に高
々電圧を印加する高圧源切替回路を有することを特徴と
する請求項5に記載の半導体集積回路。6. A semiconductor integrated circuit having a nonvolatile memory element and a peripheral circuit section other than the nonvolatile memory element, a control circuit for inputting a signal from a semiconductor test device and analyzing a command thereof, and a nonvolatile memory element A multi-select circuit for multi-selecting all word lines and bit lines of
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, further comprising a high-voltage source switching circuit that inputs a voltage from a high-voltage generator and applies a voltage to a nonvolatile memory element at most.
発性記憶素子部を含むことを特徴とする請求項5又は請
求項6に記載の半導体集積回路。7. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the peripheral circuit section other than the nonvolatile storage element includes a volatile storage element section.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000135610A JP2001318126A (en) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000135610A JP2001318126A (en) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001318126A true JP2001318126A (en) | 2001-11-16 |
Family
ID=18643663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000135610A Pending JP2001318126A (en) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001318126A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013145545A (en) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device, inspection method of nonvolatile semiconductor memory and program |
-
2000
- 2000-05-09 JP JP2000135610A patent/JP2001318126A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013145545A (en) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device, inspection method of nonvolatile semiconductor memory and program |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20010021988A1 (en) | Semiconductor testing apparatus for testing semiconductor device including built in self test circuit | |
KR20000070402A (en) | Sdram clocking test mode | |
KR100715953B1 (en) | Synchronous semiconductor device and inspection system | |
KR20010020427A (en) | Single pass doublet mode integrated circuit tester | |
US20080052584A1 (en) | Test apparatus and test method | |
JP2008084461A (en) | Test control circuit | |
KR100486310B1 (en) | Aparatus for testing memory and method of testing memory | |
US6031786A (en) | Operation control circuits and methods for integrated circuit memory devices | |
US7558993B2 (en) | Test apparatus for semiconductor memory device | |
US7366967B2 (en) | Methods of testing semiconductor memory devices in a variable CAS latency environment and related semiconductor test devices | |
JP2001318126A (en) | Method for testing semiconductor integrated circuit, equipment for testing semiconductor, and semiconductor integrated circuit | |
KR100671752B1 (en) | Method of generating a wafer burn-in test current in semiconductor memory devices and semiconductor devices using the same | |
JP2002083499A (en) | Data write-in device, data write-in method, test device, and test method | |
US6507801B1 (en) | Semiconductor device testing system | |
JP2000322899A (en) | Semiconductor device, its test apparatus and its test method | |
JP2002243808A (en) | Test system for analogue/digital hybrid ic | |
KR100273209B1 (en) | Voltage level changeable supply apparatus | |
US8120977B2 (en) | Test method for nonvolatile memory device | |
JPH1019984A (en) | Testing method and testing equipment of semiconductor device | |
JP3156870B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and method for testing electrical characteristics thereof | |
JP2000081467A (en) | Method for controlling procedure of execution in semiconductor testing device | |
JP2001013217A (en) | Timing calibrating method and ic test device to which phase correcting circuit to operate for calibration through the use of the same is mounted | |
JP2002062340A (en) | Semiconductor testing apparatus | |
JPH10239393A (en) | Measuring terminal switch for integrated circuit device | |
JPH04351797A (en) | Burn-in system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060123 |