JP2001318026A - Method of inspecting lens array substrate, method of manufacturing electro-optical device, and method of manufacturing projection type display - Google Patents

Method of inspecting lens array substrate, method of manufacturing electro-optical device, and method of manufacturing projection type display

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JP2001318026A
JP2001318026A JP2000135918A JP2000135918A JP2001318026A JP 2001318026 A JP2001318026 A JP 2001318026A JP 2000135918 A JP2000135918 A JP 2000135918A JP 2000135918 A JP2000135918 A JP 2000135918A JP 2001318026 A JP2001318026 A JP 2001318026A
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lens array
array substrate
light
lens
liquid crystal
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Hiromi Saito
広美 斉藤
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inspect a lens array substrate without trouble. SOLUTION: A light beam is made to get incident into the lens array substrate 20 of a liquid crystal device used as a light bulb in the projection type display, using a light source unit 1201 or an optical unit 1301 similar to that of a projection type display. The beam transmitted through the array substrate 20 is magnifiedly projected on a projected screen by a projection lens 1401, and the substrate 20 is inspected based on light quantity of the beam projected onto the projected screen.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数のマイクロレ
ンズが形成されたレンズアレイ基板の検査方法、電気光
学装置の製造方法、および投射型表示装置の製造方法に
関するものである。さらに詳しくは、レンズアレイ基板
に対する検査技術に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for inspecting a lens array substrate on which a plurality of microlenses are formed, a method for manufacturing an electro-optical device, and a method for manufacturing a projection display device. More specifically, the present invention relates to an inspection technique for a lens array substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気光学物質に電場をかけたときにその
配向状態などが変わって光学特性が変化するのを利用し
た各種の電気光学装置のうち、最も代表的なものとして
は液晶装置があげられる。この液晶装置は、たとえば、
一対の基板の間に透過偏光軸がねじれ配向した液晶(T
N液晶/ツイステッドネマティックモードの液晶)が電
気光学物質として挟持されている。また、液晶装置にお
いて、画素電極および画素スイッチング素子を備える画
素がマトリクス状に配置されたものはアクティブマトリ
クス型液晶装置として、直視型の表示装置、あるいは、
図1に示す投射型表示装置のライトバルブなどとして用
いられる。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device is the most typical of various types of electro-optical devices which utilize the fact that an electric field is applied to an electro-optical material to change its orientation state and change optical characteristics. Can be This liquid crystal device, for example,
A liquid crystal (T) in which the transmission polarization axis is twisted between a pair of substrates.
N liquid crystal / twisted nematic mode liquid crystal) is interposed as an electro-optical material. In a liquid crystal device, a device in which pixels each including a pixel electrode and a pixel switching element are arranged in a matrix is an active matrix liquid crystal device, a direct-view display device, or
It is used as a light valve of the projection display device shown in FIG.

【0003】図1に示す投射型表示装置1では、光源2
01から出射された非偏光な光は、インテグレータ光学
系300において1種類の直線偏光光に変換され出射さ
れた後、色光分離光学系380において、赤、緑、青の
3色の色光に分離され、各色光毎に液晶ライトバルブ4
10R、410G、410B(液晶装置/電気光学装
置)に入射する。各液晶ライトバルブ410R、410
G、410Bに入射した各色光は、各液晶ライトバルブ
410R、410G、410Bで変調され、出射された
後、クロスダイクロイックプリズム420に入射し、ク
ロスダイクロイックプリズム420において合成された
後、投射レンズ401から投射スクリーン(図示せ
ず。)上にカラー画像として投射される。
[0003] In a projection display device 1 shown in FIG.
The non-polarized light emitted from 01 is converted into one type of linearly polarized light by the integrator optical system 300 and emitted, and then separated by the color light separation optical system 380 into three color lights of red, green, and blue. , A liquid crystal light valve 4 for each color light
10R, 410G, 410B (liquid crystal device / electro-optical device). Each liquid crystal light valve 410R, 410
G, 410B are respectively modulated by the liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B, emitted, and then incident on the cross dichroic prism 420, synthesized by the cross dichroic prism 420, and then transmitted from the projection lens 401. The image is projected as a color image on a projection screen (not shown).

【0004】このような投射型表示装置1において、液
晶装置(液晶ライトバルブ410R、410G、410
B)には、図8に示すように、表示品位の向上を目的に
レンズアレイ基板20(対向基板)の側には各画素の境
界領域に、クロムなどの金属材料や樹脂ブラックなどか
らなるブラックマトリクス、あるいはブラックマスクと
称せられる遮光膜6が形成されるのが一般的である。
In such a projection display device 1, a liquid crystal device (liquid crystal light valves 410R, 410G, 410)
As shown in FIG. 8, as shown in FIG. 8, on the lens array substrate 20 (opposite substrate) side, black made of a metal material such as chrome or resin black is provided on the side of the lens array substrate 20 (opposite substrate) for the purpose of improving display quality. Generally, a light-shielding film 6 called a matrix or a black mask is formed.

【0005】また、レンズアレイ基板20の側から入射
した強い光が画素スイッチング用のTFT10のチャネ
ル形成領域(図示せず。)に入射すると、この領域にお
いて光電変換効果により光電流が発生し、TFT10の
トランジスタ特性が劣化するため、遮光膜6はTFT1
0に対向する領域にまで形成される。
When strong light incident from the lens array substrate 20 side enters a channel forming region (not shown) of the pixel switching TFT 10, a photocurrent is generated by a photoelectric conversion effect in this region, and a photocurrent is generated. Since the transistor characteristics of the TFT 1 are deteriorated,
It is formed up to the region facing 0.

【0006】従って、投射型表示装置1の投射画像の品
位を向上させることを目的に画素を小さくして画素数を
増やしていくと、遮光膜6などといった画素以外の部分
が占める面積割合が相対的に増大し、表示に直接、寄与
する面積割合(開口率)が低下してしまう。また、投射
型表示装置1では、強い光が液晶装置に入射するので、
遮光膜6によってTFT10のチャネル形成領域への光
の入射を確実に防止するには遮光膜6を幅広に形成する
必要があるが、このような幅広の遮光膜6を形成する
と、その分、表示に寄与する光量が減少してしまう。ま
た、幅広の遮光膜6を形成しても、斜めに入射した光ま
では確実に遮ることができない。
Therefore, when the number of pixels is increased by reducing the size of the pixels for the purpose of improving the quality of the projected image of the projection display device 1, the area ratio occupied by portions other than the pixels such as the light shielding film 6 becomes relatively large. And the area ratio (aperture ratio) directly contributing to the display decreases. In the projection display device 1, since strong light enters the liquid crystal device,
In order to reliably prevent light from entering the channel forming region of the TFT 10 by the light-shielding film 6, it is necessary to form the light-shielding film 6 wide. The amount of light contributing to the light is reduced. Further, even if the wide light-shielding film 6 is formed, it is not possible to reliably block light obliquely incident.

【0007】そこで、レンズアレイ基板20の側にマイ
クロレンズ22(小さな集光レンズ)を面内方向に配列
した構造が案出されている。このような構造によれば、
レンズアレイ基板20の側に入射した光を各マイクロレ
ンズ22によって各画素電極8に向けて効率よく集光す
ることができる。また、レンズアレイ基板20の側に形
成した遮光膜6の幅が狭くても、あるいはレンズアレイ
基板20の側に遮光膜6がなくても、TFT10のチャ
ネル形成領域に光が入射することを防止することができ
る。それ故、TFT10のトランジスタ特性の劣化、お
よび表示に寄与する光量の減少を防止することができる
ので、信頼性が高く、かつ、明るい表示を行うことので
きる液晶装置を構成することができる。
Therefore, a structure has been devised in which micro lenses 22 (small condenser lenses) are arranged in the in-plane direction on the side of the lens array substrate 20. According to such a structure,
Light incident on the lens array substrate 20 side can be efficiently condensed toward each pixel electrode 8 by each microlens 22. In addition, even if the width of the light shielding film 6 formed on the lens array substrate 20 side is small or the light shielding film 6 is not provided on the lens array substrate 20 side, light is prevented from entering the channel forming region of the TFT 10. can do. Therefore, deterioration of the transistor characteristics of the TFT 10 and reduction of the amount of light contributing to display can be prevented, so that a liquid crystal device which has high reliability and can perform bright display can be configured.

【0008】このようなマイクロレンズ付きのレンズア
レイ基板20は、フォトリソグラフィ技術を用いて透明
基板の表面をエッチングすることにより複数のマイクロ
レンズ22が形成されたレンズアレイ21を製造した
後、このレンズアレイ21に対して薄板ガラス49を接
着剤48により貼り合わせ、しかる後に、薄板ガラス4
9を研磨して厚さ調整することにより製造される。
The lens array substrate 20 having such microlenses is manufactured by etching a surface of a transparent substrate using a photolithography technique to produce a lens array 21 having a plurality of microlenses 22 formed thereon. A thin glass 49 is attached to the array 21 with an adhesive 48, and thereafter, the thin glass 4
9 is manufactured by polishing and adjusting the thickness.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このようにして製造し
たレンズアレイ基板20の品質は、マイクロレンズ22
の曲率、接着剤48の厚さ、薄板ガラス49の厚さ、各
層の屈折率によって決まる。また、レンズアレイ基板2
0の側に形成されている遮光膜6とマイクロレンズ22
との位置ずれもレンズアレイ基板20の品質を低下させ
る。そこで、レンズアレイ基板20の不具合に起因する
液晶装置あるいは投射型表示装置の不良率を低減するこ
とを目的に、レンズアレイ基板20を製造する際に、レ
ンズアレイ基板20を前記の要因毎に検査していく方法
が考えられるが、これらの検査には多大な工数がかかる
ため、実際の製造現場で採用できる方法ではない。
The quality of the lens array substrate 20 manufactured as described above depends on the quality of the microlenses 22.
, The thickness of the adhesive 48, the thickness of the thin glass plate 49, and the refractive index of each layer. Also, the lens array substrate 2
The light shielding film 6 and the micro lens 22 formed on the 0 side
Misalignment also degrades the quality of the lens array substrate 20. Therefore, when manufacturing the lens array substrate 20, the lens array substrate 20 is inspected for each of the above factors in order to reduce the defect rate of the liquid crystal device or the projection display device due to the defect of the lens array substrate 20. However, these inspections require a lot of man-hours, and are not methods that can be adopted in actual manufacturing sites.

【0010】また、特許第2710257号公報には、
レンズアレイ基板と、複数の開口が形成された基準マス
クとを対向するように配置し、この状態でレンズアレイ
基板に平行光を照射したときに基準マスクの各開口を透
過してくる光の光量を検出することにより、レンズアレ
イ基板を検査する技術が開示されている。
[0010] Also, Japanese Patent No. 2710257 discloses that
A lens array substrate and a reference mask having a plurality of openings are arranged so as to face each other, and in this state, when the lens array substrate is irradiated with parallel light, the amount of light transmitted through each opening of the reference mask There is disclosed a technology for inspecting a lens array substrate by detecting the.

【0011】しかしながら、この特許公報に開示の検査
技術では、レンズアレイ基板と基準マスクとの位置関係
にわずかなずれがあっても、基準マスクの各開口を透過
してくる光の光量が著しく低下して、レンズアレイ基板
が良品であっても不良品と判定されてしまうなど、検査
精度が低いという問題点がある。また、レンズアレイ基
板に形成されるマイクロレンズのサイズや数は、使用さ
れる液晶装置のタイプによって相違するため、検査する
レンズアレイ基板の種類が変わる度に基準マスクを交換
する必要があるため、段取りに手間がかかる。しかも、
レンズアレイ基板と基準マスクとの位置関係がわずかで
もずれると、検査精度が低下するので、このような検査
技術は、実際の製造に組み入れることは不可能である。
さらに、投射型表示装置で液晶装置に入射する光は、完
全な平行光ではないにもかかわらず、レンズアレイ基板
を平行光で検査すると、検査結果と投射型表示装置に組
み込んだときの特性とが一致しないことが多いという問
題点もある。
However, according to the inspection technique disclosed in this patent publication, even if there is a slight shift in the positional relationship between the lens array substrate and the reference mask, the amount of light transmitted through each opening of the reference mask is significantly reduced. In addition, there is a problem that the inspection accuracy is low, for example, even if the lens array substrate is non-defective, it is determined to be defective. Also, since the size and number of microlenses formed on the lens array substrate differ depending on the type of liquid crystal device used, it is necessary to replace the reference mask each time the type of the lens array substrate to be inspected changes. It takes time to set up. Moreover,
Even if the positional relationship between the lens array substrate and the reference mask is slightly deviated, the inspection accuracy is reduced, so that such an inspection technology cannot be incorporated into actual manufacturing.
Furthermore, although the light incident on the liquid crystal device in the projection display device is not perfectly parallel light, when the lens array substrate is inspected with parallel light, the inspection results and the characteristics when incorporated into the projection display device are obtained. There is also a problem that often does not match.

【0012】また、詳しくは後述するが、液晶装置で
は、基板間において液晶の長軸方向が捩じれていること
に起因して、光の入射角度によってはコントラストが低
下する。このような問題点を解消するため、本願出願人
は、投射型表示装置において、マイクロレンズの中心を
画素の中心からずらすという技術、および液晶装置への
光の入射方向を法線方向から明視方向に傾けるという技
術を案出し、これらの技術に係る発明について特許出願
している。
As will be described in detail later, in the liquid crystal device, the contrast is reduced depending on the incident angle of light due to the fact that the long axis direction of the liquid crystal is twisted between the substrates. In order to solve such a problem, the applicant of the present application has proposed a technique of displacing the center of a microlens from the center of a pixel in a projection display device, and a technique of clearly viewing a light incident direction on a liquid crystal device from a normal direction. He has devised techniques for tilting in the direction, and has applied for patents for inventions related to these techniques.

【0013】しかしながら、このような発明を適用した
投射型表示装置に用いるレンズアレイ基板では、光がい
ずれの方向から入射するかによってレンズアレイ基板に
対する検査結果が大きく変わるため、レンズアレイ基板
を平行光で検査すると、検査結果と投射型表示装置に組
み込んだときの特性とが一致しないという問題点があ
る。
However, in the lens array substrate used in the projection type display device to which the invention is applied, since the inspection result for the lens array substrate greatly changes depending on the direction from which the light is incident, the parallel light is applied to the lens array substrate. However, there is a problem in that the inspection result does not match the characteristic when incorporated into the projection display device.

【0014】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
手間をかけずにレンズアレイ基板を検査することのでき
るレンズアレイ基板の検査方法、電気光学装置の製造方
法、および投射型表示装置の製造方法を提供することに
ある。
[0014] In view of the above problems, an object of the present invention is to provide:
An object of the present invention is to provide a method for inspecting a lens array substrate, a method for manufacturing an electro-optical device, and a method for manufacturing a projection display device, which can inspect a lens array substrate without trouble.

【0015】また、本発明の課題は、レンズアレイ基板
を投射型表示装置などの電気光学装置に搭載したときの
特性と高い相関性を有する検査結果を得ることのできる
レンズアレイ基板の検査方法、電気光学装置の製造方
法、および投射型表示装置の製造方法を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide a method of inspecting a lens array substrate which can obtain an inspection result having a high correlation with characteristics when the lens array substrate is mounted on an electro-optical device such as a projection display device. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electro-optical device and a method of manufacturing a projection display device.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るマイクロレンズの検査方法は、複数の
マイクロレンズが形成されたレンズアレイ基板に対して
光源から出射された光を照射するとともに、前記マイク
ロレンズを透過した光を投射光学系を介して被投射面に
投射し、該被投射面に投射された光の光量に基づいて前
記レンズアレイ基板を検査することを特徴とする。
In order to solve the above problems, a method for inspecting a microlens according to the present invention irradiates a lens array substrate on which a plurality of microlenses are formed with light emitted from a light source. In addition, light transmitted through the microlens is projected onto a projection surface via a projection optical system, and the lens array substrate is inspected based on the amount of light projected on the projection surface.

【0017】本発明では、レンズアレイ基板の品質を検
査する際に、マイクロレンズの曲率、接着剤の厚さ、薄
板ガラスの厚さ、各層の屈折率などといった要因毎では
なく、レンズアレイ基板として仕上がった状態でレンズ
アレイ基板に対して光を照射するとともに、マイクロレ
ンズを透過した光を投射光学系を介して被投射面に投射
し、そのときのレンズアレイ基板を透過してきた光の強
弱などを、目視あるいは受光素子などを用いて検査す
る。また、個々のマイクロレンズというよりは、複数の
マイクロレンズを透過したきた光の光量が大か小かによ
って、レンズアレイ基板全体の品質を検査する。それ
故、マイクロレンズに合わせた基準マスクを用いなくて
もよいので、基準マスクとレンズアレイ基板とを正確に
位置合わせをするなどといった手間のかかる段取り作業
を省略することができる。また、基準マスクとの対比を
行う方法と違って、検査すべきレンズアレイ基板の仕様
が変わっても検査装置の光学系を変更する必要がないの
で、この点からいっても、検査に要する手間を省くこと
ができる。
In the present invention, when inspecting the quality of the lens array substrate, the quality of the lens array substrate is not determined by factors such as the curvature of the microlens, the thickness of the adhesive, the thickness of the thin glass, and the refractive index of each layer. While irradiating the lens array substrate with light in the finished state, the light transmitted through the microlens is projected on the projection surface via the projection optical system, and the intensity of the light transmitted through the lens array substrate at that time. Is inspected visually or using a light receiving element. The quality of the entire lens array substrate is inspected based on whether the amount of light transmitted through the plurality of microlenses is large or small, rather than individual microlenses. Therefore, since it is not necessary to use a reference mask matched to the microlens, a troublesome setup operation such as accurately aligning the reference mask with the lens array substrate can be omitted. Also, unlike the method of comparing with the reference mask, even if the specification of the lens array substrate to be inspected changes, it is not necessary to change the optical system of the inspection apparatus. Can be omitted.

【0018】本発明においては、たとえば、前記被投射
面上の互いに離間した複数箇所、たとえば3段おいび3
列に並んだ9箇所で光量を計測し、この計測結果に基づ
いて前記レンズアレイ基板を検査する。
In the present invention, for example, at a plurality of places separated from each other on the projection surface, for example, a three-step
The amount of light is measured at nine places in a line, and the lens array substrate is inspected based on the measurement result.

【0019】本発明において、前記レンズアレイ基板に
対しては、実際の投射型表示装置と同様、たとえば、前
記光源から出射された光を略平行光束に揃えて照射する
ことが好ましい。
In the present invention, it is preferable to irradiate the lens array substrate with light emitted from the light source, for example, so as to be substantially parallel light beams, as in an actual projection display device.

【0020】本発明において、前記レンズアレイ基板に
対しては、実際の投射型表示装置と同様、当該レンズア
レイ基板の基板面に対する法線に対して光軸が傾いた光
を照射することが好ましい。
In the present invention, it is preferable to irradiate the lens array substrate with light whose optical axis is inclined with respect to the normal to the substrate surface of the lens array substrate, as in an actual projection display device. .

【0021】本発明では、前記レンズアレイ基板に対し
て当該レンズアレイ基板の基板面に対する法線に対して
光軸が傾いた光を照射するために、実際の投射型表示装
置と同様、たとえば、前記レンズアレイ基板の姿勢を傾
ける。
In the present invention, in order to irradiate the lens array substrate with light whose optical axis is inclined with respect to the normal to the substrate surface of the lens array substrate, for example, as in an actual projection display device, The lens array substrate is tilted.

【0022】本発明では、前記レンズアレイ基板に対し
て当該レンズアレイ基板の基板面に対する法線に対して
光軸が傾いた光を照射するために、実際の投射型表示装
置と同様、前記光源、あるいは該光源から前記レンズア
レイ基板に至る光路上に配置された光学部品の姿勢を傾
けてもよい。
According to the present invention, in order to irradiate the lens array substrate with light whose optical axis is inclined with respect to the normal to the substrate surface of the lens array substrate, the light source is provided similarly to an actual projection display device. Alternatively, the posture of an optical component disposed on an optical path from the light source to the lens array substrate may be inclined.

【0023】本発明において、前記レンズアレイ基板に
対しては、実際の投射型表示装置と同様、前記光源から
出射された光を所定の直線偏光光に揃えて照射すること
が好ましい。
In the present invention, it is preferable that the light emitted from the light source is aligned with predetermined linearly polarized light and irradiated onto the lens array substrate, as in an actual projection display device.

【0024】本発明において、前記レンズアレイ基板に
対しては、光源から出射された光が白色色であっても、
フィルターあるいは色分離光学系を通すことにより、投
射型表示装置において実際に入射する赤色光、青色光ま
たは緑色光を照射することが好ましい。
In the present invention, even if the light emitted from the light source has a white color with respect to the lens array substrate,
It is preferable to irradiate red light, blue light or green light which is actually incident on the projection display device by passing through a filter or a color separation optical system.

【0025】本発明において、前記レンズアレイ基板に
対しては、1枚につき複数の色光を順次、照射してもよ
い。この場合に、前記レンズアレイ基板に照射する光の
色は、所定のタイミングで自動的に切り換わることが好
ましい。
In the present invention, the lens array substrate may be sequentially irradiated with a plurality of color lights per sheet. In this case, it is preferable that the color of the light applied to the lens array substrate be automatically switched at a predetermined timing.

【0026】本発明において、前記被照射面に照射され
る光の光量に基づいて、前記レンズアレイ基板の良否を
判定してもよいが、前記レンズアレイ基板を光学特性の
ランク別に分けしてもよい。
In the present invention, the quality of the lens array substrate may be determined based on the amount of light applied to the surface to be irradiated, but the lens array substrate may be classified according to the rank of the optical characteristics. Good.

【0027】このような検査方法は、電気光学装置を製
造する場合、さらには、製造した電気光学装置を光変調
手段として用いて投射型表示装置を製造する場合に行わ
れる。この投射型表示装置の製造方法では、検査を終え
たレンズアレイ基板のうち、光学特性のランクが低いレ
ンズアレイ基板を用いて製造した電気光学装置について
は、青色光用の光変調手段として用いることが好まし
い。投射型表示装置において、3枚の電気光学装置をそ
れぞれ赤色光用、緑色光用、青色光用に使った際に、青
色光が最もコントラストに対する影響が少ない。従っ
て、レンズアレイ基板の検査において、ランクが低いと
判定されたものについては、不良品として廃棄するので
はなく、青色光専用として用いれば、レンズアレイ基板
の歩留まりが向上する。
Such an inspection method is performed when an electro-optical device is manufactured, and further when a projection display device is manufactured by using the manufactured electro-optical device as a light modulator. In this method of manufacturing a projection display device, among the lens array substrates which have been inspected, an electro-optical device manufactured using a lens array substrate having a low optical characteristic rank is used as a light modulating means for blue light. Is preferred. In a projection display device, when three electro-optical devices are used for red light, green light, and blue light, respectively, blue light has the least effect on contrast. Therefore, in the inspection of the lens array substrate, a lens array substrate determined to have a low rank is not discarded as a defective product but is used exclusively for blue light, thereby improving the yield of the lens array substrate.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0029】[実施の形態1] (投射型表示装置の構成)図1は、本発明が適用される
投射型表示装置の光学系の構成を示す概略平面図であ
る。なお、以下の説明では、特に説明のない限り、光の
進行方向をz軸の正方向、z軸の正方向側からみて12
時の方向をy軸の正方向、3時の方向をx軸の正方向と
する。
[First Embodiment] (Configuration of Projection Display Device) FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of an optical system of a projection display device to which the present invention is applied. In the following description, unless otherwise specified, the light traveling direction is 12 when viewed from the positive z-axis direction and from the positive z-axis direction.
The direction of the hour is defined as the positive direction of the y-axis, and the direction of 3 o'clock is defined as the positive direction of the x-axis.

【0030】図1に示すように、投射型表示装置1は、
光源ユニット201と、光学ユニット301と、投射レ
ンズ401とを有している。
As shown in FIG. 1, the projection type display device 1 comprises:
It has a light source unit 201, an optical unit 301, and a projection lens 401.

【0031】光学ユニット301は、第1の光学要素3
20、第2の光学要素330、および重畳レンズ370
を備えたインテグレータ光学系300を有している。ま
た、光学ユニット301は、ダイクロイックミラー38
2、386、および反射ミラー384を含む色光分離光
学系380を有している。さらに、光学ユニット301
は、入射側レンズ392、リレーレンズ396、および
反射ミラー394、398を含む導光光学系390を有
している。さらにまた、光学ユニット301は、3枚の
フィールドレンズ400、402、404、3枚の液晶
ライトバルブ410R、410G、410B、およびク
ロスダイクロイックプリズム420を有している。
The optical unit 301 includes the first optical element 3
20, second optical element 330, and superimposing lens 370
Is provided. The optical unit 301 includes a dichroic mirror 38.
2, 386, and a color light separation optical system 380 including a reflection mirror 384. Further, the optical unit 301
Has a light guide optical system 390 including an incident side lens 392, a relay lens 396, and reflection mirrors 394 and 398. Further, the optical unit 301 has three field lenses 400, 402, 404, three liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B, and a cross dichroic prism 420.

【0032】光源ユニット201は、光学ユニット30
1の第1の光学要素320の入射面側に配置されてい
る。投射レンズ401は、光学ユニット301のクロス
ダイクロイックプリズム420の出射面側に配置されて
いる。
The light source unit 201 includes the optical unit 30
The first optical element 320 is arranged on the incident surface side. The projection lens 401 is arranged on the exit surface side of the cross dichroic prism 420 of the optical unit 301.

【0033】図2は、図1に示す投射型表示装置1の照
明領域である3枚の液晶ライトバルブを照明するインテ
グレータ照明光学系について示す説明図である。図3
(A)、(B)、(C)はそれぞれ、第1の光学要素3
20の外観を示す正面図、側面図およびこの第1の光学
要素320の微小レンズが形成されている側の一部を拡
大して示す斜視図である。図4(A)、(B)はそれぞ
れ、偏光変換素子アレイの外観を示す斜視図、およびこ
の偏光変換素子アレイの機能を示す説明図である。な
お、図2は、説明を容易にするため、インテグレータ照
明光学系の機能を説明するための主要な構成要素のみを
示している。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an integrator illumination optical system for illuminating three liquid crystal light valves which are illumination areas of the projection display apparatus 1 shown in FIG. FIG.
(A), (B) and (C) respectively show the first optical element 3
20 is a front view, a side view, and a perspective view showing an enlarged view of a part of the first optical element 320 on the side where the microlenses are formed. FIG. 4A and 4B are a perspective view showing the appearance of the polarization conversion element array and an explanatory view showing the function of the polarization conversion element array. Note that FIG. 2 shows only main components for explaining the function of the integrator illumination optical system for ease of explanation.

【0034】図2示すインテグレータ照明光学系は、光
源ユニット201に備えられた光源200と、光学ユニ
ット301に備えられたインテグレータ光学系300と
を有している。インテグレータ光学系300は、第1の
光学要素320、第2の光学要素330、および第3の
光学要素である重畳レンズ370を備えている。第2の
光学要素330は、集光レンズ340、遮光板350お
よび偏光変換素子アレイ360を備えている。
The integrator illumination optical system shown in FIG. 2 has a light source 200 provided in a light source unit 201 and an integrator optical system 300 provided in an optical unit 301. The integrator optical system 300 includes a first optical element 320, a second optical element 330, and a superimposing lens 370 that is a third optical element. The second optical element 330 includes a condenser lens 340, a light blocking plate 350, and a polarization conversion element array 360.

【0035】光源200は、光源ランプ210および凹
面鏡212を備えている。光源ランプ210から出射さ
れた放射状の光源(放射光)は、凹面鏡212によって
反射されて略平行な光線束として第1の光学要素320
の方向に出射される。光源ランプ210としては、ハロ
ゲンランプやメタルハライドランプ、高圧水銀ランプが
用いられることが多い。凹面鏡212としては、放物面
鏡を用いることが好ましい。
The light source 200 includes a light source lamp 210 and a concave mirror 212. The radial light source (radiated light) emitted from the light source lamp 210 is reflected by the concave mirror 212 and becomes a first optical element 320 as a substantially parallel light beam.
In the direction of. As the light source lamp 210, a halogen lamp, a metal halide lamp, or a high-pressure mercury lamp is often used. As the concave mirror 212, a parabolic mirror is preferably used.

【0036】図3(A)、(B)、(C)において、第
1の光学要素320は、矩形状の輪郭を有する微小な小
レンズ321が、縦方向にM行、横方向に2N列のマト
リクス状に配列されたレンズアレイである。レンズ横方
向中心からは、左方向にN列、右方向にN列存在する。
この例では、M=10、N=4である。各小レンズ32
1をz方向から見た外形形状は、液晶ライトバルブ41
0の形状と略相似系をなすように設定されている。例え
ば、液晶ライトバルブの画像形成領域のアスペクト比
(横と縦の寸法の比率)が4:3であるならば、各小レ
ンズ321のアスペクト比も4:3に設定される。ま
た、図2に示すように、第2の光学要素330にも集光
レンズ340が形成されているが、この集光レンズ34
0は、図3を参照して説明した第1の光学要素320と
同様な構成のレンズアレイである。なお、第1の光学要
素320および集光レンズ340のレンズの向きは、+
z方向あるいは−z方向のどちらを向いていてもよい。
また、図2に示すように互いに反対の方向を向いていて
も良い。
In FIGS. 3A, 3B and 3C, the first optical element 320 is composed of a small lens 321 having a rectangular outline, which is composed of M rows in the vertical direction and 2N columns in the horizontal direction. Are lens arrays arranged in a matrix. From the center in the lateral direction of the lens, there are N rows to the left and N rows to the right.
In this example, M = 10 and N = 4. Each small lens 32
1 when viewed from the z direction is a liquid crystal light valve 41.
It is set so as to form a substantially similar system to the shape of 0. For example, if the aspect ratio (the ratio between the horizontal and vertical dimensions) of the image forming area of the liquid crystal light valve is 4: 3, the aspect ratio of each small lens 321 is also set to 4: 3. As shown in FIG. 2, a condenser lens 340 is also formed on the second optical element 330.
Reference numeral 0 denotes a lens array having the same configuration as the first optical element 320 described with reference to FIG. Note that the directions of the lenses of the first optical element 320 and the condenser lens 340 are +
It may be oriented in either the z direction or the −z direction.
Moreover, as shown in FIG. 2, they may face in opposite directions.

【0037】再び図2において、偏光変換素子アレイ3
60は、2つの偏光変換素子アレイ361、362が光
軸を挟んで対称な向きに配置されている。
Referring again to FIG. 2, the polarization conversion element array 3
In 60, two polarization conversion element arrays 361 and 362 are arranged symmetrically with respect to the optical axis.

【0038】この偏光変換素子アレイ361は、図4
(A)に示すように、偏光ビームスプリッタアレイ36
3と、偏光ビームスプリッタアレイ363の光出射面の
一部に選択的に配置されたλ/2位相差板364(図中
斜線で示す。)とを備えている。偏光ビームスプリッタ
アレイ363は、それぞれ断面が平行四辺形の柱状の複
数の透光性部材365が、順次貼り合わされた形状を有
している。透光性部材365の界面には、偏光分離膜3
66と反射膜367とが交互に形成されている。λ/2
位相差板364は、偏光分離膜366あるいは反射膜3
67の光の出射面のx方向の写像部分に、選択的に貼り
つけられる。この例では、偏光分離膜366の光の出射
面のx方向に写像部分にλ/2位相差板364を貼りつ
けている。
This polarization conversion element array 361 is the same as that shown in FIG.
As shown in (A), the polarization beam splitter array 36
3 and a λ / 2 retardation plate 364 (shown by oblique lines in the figure) selectively disposed on a part of the light exit surface of the polarizing beam splitter array 363. The polarizing beam splitter array 363 has a shape in which a plurality of columnar translucent members 365 each having a parallelogram cross section are sequentially bonded. The polarization separating film 3 is provided at the interface of the light transmitting member 365.
66 and reflection films 367 are formed alternately. λ / 2
The phase difference plate 364 is formed of the polarization separation film 366 or the reflection film 3.
It is selectively affixed to the mapping part in the x direction of the light emitting surface of 67. In this example, a λ / 2 retardation plate 364 is attached to a portion of the polarization separation film 366 that is mapped in the x direction on the light exit surface.

【0039】このように構成した偏光変換素子アレイ3
61は、入射された光束を1種類の直線偏光光(例え
ば、s偏光光やp偏光光)に変換して出射する機能を有
する。
The polarization conversion element array 3 configured as described above
Reference numeral 61 has a function of converting an incident light beam into one type of linearly polarized light (for example, s-polarized light or p-polarized light) and emitting the same.

【0040】すなわち、図4(B)に示すように、偏光
変換素子アレイ361の入射面に、s偏光成分とp偏光
成分とを含む非偏光光(ランダムな偏光方向を有する入
射光)が入射すると、この入射光は、まず、偏光分離膜
366によってs偏光光とp偏光光に分離される。s偏
光光は、偏光分離膜366によって略垂直に反射され、
反射膜367によってさらに反射されてから出射され
る。一方、p偏光光は、偏光分離膜366をそのまま透
過する。偏光分離膜を透過したp偏光光の出射領域には
λ/2位相差板364が配置されており、このp偏光光
は、s偏光光に変換されて出射される。従って、偏光変
換素子アレイ361を透過した光は、そのほとんどがs
偏光光となって出射される。また、偏光変換素子アレイ
361から出射される光をp偏光光としたい場合には、
λ/2位相差板364を、反射膜367によって反射さ
れたs偏光光が出射する出射面に配置するようにすれば
よい。
That is, as shown in FIG. 4B, unpolarized light (incident light having a random polarization direction) including an s-polarized component and a p-polarized component is incident on the incident surface of the polarization conversion element array 361. Then, this incident light is first separated by the polarization separation film 366 into s-polarized light and p-polarized light. The s-polarized light is reflected almost vertically by the polarization separation film 366,
The light is emitted after being further reflected by the reflection film 367. On the other hand, the p-polarized light passes through the polarization separation film 366 as it is. A λ / 2 retardation plate 364 is disposed in an emission region of the p-polarized light transmitted through the polarization separation film, and the p-polarized light is converted into s-polarized light and emitted. Therefore, most of the light transmitted through the polarization conversion element array 361 is s.
The light is emitted as polarized light. When light emitted from the polarization conversion element array 361 is to be p-polarized light,
The λ / 2 retardation plate 364 may be arranged on the exit surface from which the s-polarized light reflected by the reflection film 367 exits.

【0041】このように、偏光変換素子アレイ361
は、隣り合う1つの偏光分離膜366および1つの反射
膜367を含み、さらに1つのλ/2位相差板364で
構成される1つのブロックを、1つの偏光変換素子36
8とみなすことができる。従って、偏光変換素子アレイ
361は、このような偏光変換素子368が、x方向に
複数列配列されたものといえる。ここの示す例では、4
列の偏光変換素子368で構成されている。なお、偏光
変換素子アレイ362は偏光変換素子アレイ361と全
く同様であるので説明を省略する。
As described above, the polarization conversion element array 361
Includes one polarization separation film 366 and one reflection film 367 adjacent to each other, and further converts one block constituted by one λ / 2 retardation plate 364 into one polarization conversion element 36.
8 can be considered. Therefore, it can be said that the polarization conversion element array 361 is such that such polarization conversion elements 368 are arranged in a plurality of rows in the x direction. In the example shown here, 4
It is composed of a row of polarization conversion elements 368. Since the polarization conversion element array 362 is exactly the same as the polarization conversion element array 361, the description is omitted.

【0042】このように構成した投射型表示装置1にお
いて、図2に示す光源200から出射された非偏光な光
は、インテグレータ光学系300を構成する第1の光学
要素320の複数の小レンズ321および第2の光学要
素330に含まれる集光レンズ340の複数の小レンズ
341によって複数の部分光束202に分割されるとと
もに、2つの偏光変換素子アレイ361、362の偏光
分離膜366の近傍に集光される。ここで、集光レンズ
340は、第1の光学要素320から出射された複数の
部分光束が2つの偏光変換素子アレイ361、362の
偏光分離膜366上に集光されるように導く機能を有し
ている。従って、2つの偏光変換素子アレイ361、3
62に入射した複数の部分光束は、図4(B)を参照し
て説明したように、1種類の直線偏光光に変換され出射
される。2つの偏光変換素子アレイ361、362から
出射された複数の部分光束は、重畳レンズ370によっ
て後述する液晶ライトバルブ上で重畳される。従って、
このインテグレータ照明光学系は液晶ライトバルブを均
一に照明することができる。
In the projection display apparatus 1 configured as described above, the unpolarized light emitted from the light source 200 shown in FIG. 2 is transmitted to the plurality of small lenses 321 of the first optical element 320 constituting the integrator optical system 300. The light is divided into a plurality of partial light beams 202 by a plurality of small lenses 341 of a condenser lens 340 included in the second optical element 330, and is collected near the polarization separation film 366 of the two polarization conversion element arrays 361 and 362. Be lighted. Here, the condenser lens 340 has a function of guiding a plurality of partial light beams emitted from the first optical element 320 to be condensed on the polarization separation films 366 of the two polarization conversion element arrays 361 and 362. are doing. Therefore, the two polarization conversion element arrays 361, 3
The plurality of partial light beams incident on 62 are converted into one type of linearly polarized light and emitted as described with reference to FIG. The plurality of partial light beams emitted from the two polarization conversion element arrays 361 and 362 are superimposed on a liquid crystal light valve described later by the superimposing lens 370. Therefore,
This integrator illumination optical system can uniformly illuminate the liquid crystal light valve.

【0043】再び図1において、投射型表示装置1にお
いて、反射ミラー372は、照明光学系の構成によって
は必ずしも必要としないが、本形態では、重畳レンズ3
70から出射された光束を色光分離光学系380の方向
に導くために設けられている。
Referring again to FIG. 1, in the projection type display device 1, the reflecting mirror 372 is not necessarily required depending on the configuration of the illumination optical system.
It is provided to guide the light beam emitted from 70 toward the color light separation optical system 380.

【0044】色光分離光学系380は、2枚のダイクロ
イックミラー382、386を備え、重畳レンズ370
から出射される光を、赤、緑、青の3色の色光に分離す
る機能を有している。第1のダイクロイックミラー38
2は、重畳レンズ370から出射される光のうち赤色光
成分を透過させるとともに、青色光成分と緑色光成分と
を反射する。第1のダイクロイックミラー382を透過
した赤色光は、反射ミラー384で反射され、フィール
ドレンズ400を通って赤光用の液晶ライトバルブ41
0Rに達する。このフィールドレンズ400は、重畳レ
ンズ370から出射された各部分光束をその中心軸(主
光線)に対して平行な光束に変換する。他の液晶ライト
バルブ410G、410Bの前に設けられたフィールド
レンズ402、404も同様である。第1のダイクロイ
ックミラー382で反射された青色光と緑色光のうち
で、緑色光は第2のダイクロイックミラー386によっ
て反射され、フィールドレンズ402を通って緑色光用
の液晶ライトバルブ410Gに達する。一方、青色光
は、第2のダイクロイックミラー386を透過し、導光
光学系390、すなわち、入射側レンズ392、反射ミ
ラー394、リレーレンズ396、および反射ミラー3
98を通り、さらにフィールドレンズ404を通って青
色光用の液晶ライトバルブ410Bに達する。なお、青
色光に導光光学系390が用いられているのは、青色光
の光路の長さが他の色光の光路の長さよりも長いため、
光の拡散等による光の利用効率の低下を防止するためで
ある。すなわち、入射側レンズ392に入射した部分光
束をそのまま、フィールドレンズ404に伝えるためで
ある。
The color light separation optical system 380 includes two dichroic mirrors 382 and 386, and a superimposing lens 370.
Has a function of separating the light emitted from the light into three color lights of red, green, and blue. First dichroic mirror 38
2 transmits the red light component of the light emitted from the superimposing lens 370 and reflects the blue light component and the green light component. The red light transmitted through the first dichroic mirror 382 is reflected by the reflection mirror 384, passes through the field lens 400, and the liquid crystal light valve 41 for red light.
Reaches 0R. The field lens 400 converts each partial light beam emitted from the superimposing lens 370 into a light beam parallel to its central axis (principal ray). The same applies to the field lenses 402 and 404 provided in front of the other liquid crystal light valves 410G and 410B. Of the blue light and the green light reflected by the first dichroic mirror 382, the green light is reflected by the second dichroic mirror 386, passes through the field lens 402, and reaches the liquid crystal light valve 410G for green light. On the other hand, the blue light is transmitted through the second dichroic mirror 386, and the light guide optical system 390, that is, the incident side lens 392, the reflection mirror 394, the relay lens 396, and the reflection mirror 3
98, and further through a field lens 404 to a liquid crystal light valve 410B for blue light. Note that the light guide optical system 390 is used for blue light because the optical path length of blue light is longer than the optical path lengths of other color lights.
This is for preventing a decrease in light use efficiency due to light diffusion or the like. That is, this is for transmitting the partial light beam incident on the incident side lens 392 to the field lens 404 as it is.

【0045】3つの液晶ライトバルブ410R、410
G、410Bに入射した3色の光は、それぞれ液晶ライ
トバルブ410R、410G、410Bによって光変調
された後、クロスダイクロイックプリズム420に入射
する。このクロスダイクロイックプリズム420は、3
色の変調光を合成してカラー画像を形成する色光合成光
学系としての機能を有している。クロスダイクロイック
プリズム420には、赤光を反射する誘電体多層膜と、
青光を反射する誘電体多層膜とが、4つの直角プリズム
の界面に略X字状に形成されている。これらの誘電体多
層膜によって3色の変調光が合成されて、カラー画像を
投射するための合成光が形成される。クロスダイクロイ
ックプリズム420で生成された合成光は、投射レンズ
401の方向に出射される。投射レンズ401は、この
合成光を投射スクリーン上に投射する機能を有し、投射
スクリーン上にカラー画像を表示する。
Three liquid crystal light valves 410R, 410
The three colors of light that have entered the G and 410B are respectively modulated by the liquid crystal light valves 410R, 410G and 410B, and then enter the cross dichroic prism 420. This cross dichroic prism 420
It has a function as a color light combining optical system that forms a color image by combining color modulated light. The cross dichroic prism 420 has a dielectric multilayer film that reflects red light,
A dielectric multilayer film that reflects blue light is formed in an approximately X-shape at the interface between the four right-angle prisms. The modulated light of three colors is combined by these dielectric multilayer films to form combined light for projecting a color image. The combined light generated by the cross dichroic prism 420 is emitted toward the projection lens 401. The projection lens 401 has a function of projecting the synthesized light on a projection screen, and displays a color image on the projection screen.

【0046】(液晶装置/液晶ライトバルブの構成)3
つの液晶ライトバルブ410R、410G、410Bは
いずれも、図5、図6および図7に示す構成を有してい
る。
(Structure of Liquid Crystal Device / Liquid Crystal Light Valve)
Each of the liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B has the configuration shown in FIGS. 5, 6, and 7.

【0047】図5および図6はそれぞれ、液晶ライトバ
ルブ410R、410G、410Bとして用いられる液
晶装置100をレンズアレイ基板の側からみた平面図、
および図5のH−H′線で切断したときの液晶装置10
0の断面図である。図7は、液晶装置100の構成を模
式的に示すブロック図である。
FIGS. 5 and 6 are plan views of the liquid crystal device 100 used as the liquid crystal light valves 410R, 410G and 410B, respectively, as viewed from the lens array substrate side.
And the liquid crystal device 10 when cut along the line HH 'in FIG.
0 is a sectional view. FIG. 7 is a block diagram schematically illustrating the configuration of the liquid crystal device 100.

【0048】図5および図6において、液晶装置100
(液晶ライトバルブ410R、410G、410B)
は、画素電極8がマトリクス状に形成されたアクティブ
マトリクス基板30と、対向電極25が形成されたレン
ズアレイ基板20と、これらの基板20、30間に封
入、挟持されている液晶39とから概略構成されてい
る。アクティブマトリクス基板30とレンズアレイ基板
20とは、レンズアレイ基板20の外周縁に沿って形成
されたギャップ材含有のシール材52によって所定の間
隙を介して貼り合わされている。また、アクティブマト
リクス基板30とレンズアレイ基板20との間には、ギ
ャップ材含有のシール材52によって液晶封入領域40
が区画形成され、この内側に液晶39が封入されてい
る。シール材52としては、エポキシ樹脂や各種の紫外
線硬化樹脂などを用いることができる。また、ギャップ
材としては、約2μm〜約10μmの無機あるいは有機
質のファイバ若しくは球を用いることができる。
Referring to FIG. 5 and FIG.
(Liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B)
Is roughly composed of an active matrix substrate 30 on which pixel electrodes 8 are formed in a matrix, a lens array substrate 20 on which counter electrodes 25 are formed, and a liquid crystal 39 sealed and sandwiched between these substrates 20 and 30. It is configured. The active matrix substrate 30 and the lens array substrate 20 are bonded to each other via a predetermined gap by a sealing material 52 including a gap material formed along the outer peripheral edge of the lens array substrate 20. In addition, a sealing material 52 containing a gap material is provided between the active matrix substrate 30 and the lens array substrate 20 by using a liquid crystal sealing region 40.
Are formed, and a liquid crystal 39 is sealed inside. As the sealing material 52, an epoxy resin, various ultraviolet curable resins, or the like can be used. Further, as the gap material, an inorganic or organic fiber or sphere of about 2 μm to about 10 μm can be used.

【0049】レンズアレイ基板20はアクティブマトリ
クス基板30よりも小さく、アクティブマトリクス基板
30の周辺部分は、レンズアレイ基板20の外周縁より
はみ出た状態に貼り合わされる。従って、アクティブマ
トリクス基板30の駆動回路(走査線駆動回路70やデ
ータ線駆動回路60)や入出力端子45はレンズアレイ
基板20から露出した状態にある。ここで、シール材5
2は部分的に途切れて液晶注入口241が構成されてい
る。レンズアレイ基板20とアクティブマトリクス基板
30とを貼り合わせた後、液晶注入口241から液晶3
9を液晶39を封入した後、液晶注入口241を封止剤
242で塞ぐ。なお、レンズアレイ基板20には、シー
ル材52の内側において横長の長方形に画像表示領域7
を見切りするための表示見切り用の遮光膜55も形成さ
れている。また、レンズアレイ基板20のコーナー部の
いずれにも、アクティブマトリクス基板30とレンズア
レイ基板20との間で電気的導通をとるための上下導通
材56が形成されている。
The lens array substrate 20 is smaller than the active matrix substrate 30, and the peripheral portion of the active matrix substrate 30 is bonded so as to protrude from the outer peripheral edge of the lens array substrate 20. Therefore, the drive circuits (the scan line drive circuit 70 and the data line drive circuit 60) and the input / output terminals 45 of the active matrix substrate 30 are exposed from the lens array substrate 20. Here, the sealing material 5
2 is partially interrupted to form a liquid crystal injection port 241. After bonding the lens array substrate 20 and the active matrix substrate 30, the liquid crystal 3
9 is filled with a liquid crystal 39, and the liquid crystal injection port 241 is closed with a sealing agent 242. Note that the lens array substrate 20 has a horizontally long rectangular image display area 7 inside the sealing material 52.
A light-shielding film 55 for parting the display for parting is also formed. In each of the corners of the lens array substrate 20, a vertical conductive member 56 for establishing electrical conduction between the active matrix substrate 30 and the lens array substrate 20 is formed.

【0050】このように構成した液晶装置100におい
て、画像表示領域7を構成するマトリクス状に形成され
た複数の画素は、図7に示すように、画素電極8、およ
びこの画素電極8を制御するためのTFT10とから構
成され、画像信号が供給されるデータ線90がTFT1
0のソースに電気的接続されている。このデータ線90
には、画像信号S1、S2、…、Snが順次供給され
る。また、走査線91を介してTFT10のゲート電極
にはパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmが、この
順に線順次で印加するように構成されている。画素電極
8は、TFT10のドレインに電気的接続されており、
TFT10を一定期間だけそのスイッチを閉じることに
より、データ線90から供給される画像信号S1、S
2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。画素電極
8を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S
1、S2、…、Snは、レンズアレイ基板20に形成さ
れた対向電極25との間で一定期間保持される。ここ
で、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、
画素電極8と対向電極との間に形成される液晶容量と並
列に蓄積容量40が付加されてる。このように蓄積容量
40を形成する方法としては、容量を形成するための配
線である容量線92を設けても良いし、前段の走査線9
1との間で容量を形成しても良い。
In the liquid crystal device 100 configured as described above, the plurality of pixels formed in a matrix forming the image display area 7 control the pixel electrode 8 and the pixel electrode 8 as shown in FIG. And a data line 90 to which an image signal is supplied is connected to the TFT 1.
0 is electrically connected to the source. This data line 90
, Are sequentially supplied with image signals S1, S2,..., Sn. The scanning signals G1, G2,..., Gm are applied in a pulsed manner to the gate electrode of the TFT 10 via the scanning line 91 in this order. The pixel electrode 8 is electrically connected to the drain of the TFT 10,
By closing the switch of the TFT 10 for a certain period, the image signals S1 and S
2, ..., Sn are written at a predetermined timing. The image signal S of a predetermined level written in the liquid crystal through the pixel electrode 8
, Sn are held for a certain period between the counter electrodes 25 formed on the lens array substrate 20. Here, in order to prevent the held image signal from leaking,
A storage capacitor 40 is added in parallel with a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 8 and the counter electrode. As a method of forming the storage capacitor 40 in this manner, a capacitor line 92 which is a wiring for forming a capacitor may be provided, or the scanning line 9 in the preceding stage may be provided.
A capacitance may be formed between the capacitor and the capacitor.

【0051】このように構成した液晶装置100では、
画素毎に液晶に印加する電場を制御することにより、液
晶の配向状態を画素毎に制御できる。従って、液晶装置
100では、入射した光が透過するか否かを画素毎に制
御できるので、与えられた画像情報(画像信号)に基づ
いて変調する光変調手段として機能する。それ故、3つ
の液晶ライトバルブ410R、410G、410Bに入
射した各色光は、与えられた画像情報に従って変調され
て液晶ライトバルブ410R、410G、410Bから
出射される。
In the liquid crystal device 100 configured as described above,
By controlling the electric field applied to the liquid crystal for each pixel, the alignment state of the liquid crystal can be controlled for each pixel. Therefore, in the liquid crystal device 100, whether or not the incident light is transmitted can be controlled for each pixel, so that the liquid crystal device 100 functions as a light modulation unit that modulates based on given image information (image signal). Therefore, each color light that has entered the three liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B is modulated according to the given image information and emitted from the liquid crystal light valves 410R, 410G, 410B.

【0052】(レンズアレイ基板20の構成)また、レ
ンズアレイ基板20は、図8に示すように、アクティブ
マトリクス基板30の画素電極8の各々に向けて盛り上
がった凸型の複数のマイクロレンズ22(小さな集光レ
ンズ)がマトリクス状に形成されたレンズアレイ21
と、このレンズアレイ21に対してマイクロレンズ22
を覆うように接着剤48により貼り合わされた透明な薄
板ガラス49とを有している。薄板ガラス49の表面に
は、対向電極25が形成され、この対向電極25の表面
のうち、マイクロレンズ22の境界領域に対応する領域
には遮光膜6が形成されている。また、薄板ガラス49
の表面において、対向電極25および遮光膜6の表面に
は配向膜となるポリイミド樹脂47の層が形成されてい
る。
(Structure of Lens Array Substrate 20) As shown in FIG. 8, the lens array substrate 20 has a plurality of convex microlenses 22 (see FIG. 8) raised toward each of the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 30. Lens array 21 in which small condenser lenses are formed in a matrix
And a micro lens 22 with respect to the lens array 21.
And a transparent thin glass 49 bonded with an adhesive 48 so as to cover The counter electrode 25 is formed on the surface of the thin glass 49, and the light-shielding film 6 is formed in a region of the surface of the counter electrode 25 corresponding to the boundary region of the microlens 22. In addition, the thin glass 49
A layer of a polyimide resin 47 serving as an alignment film is formed on the surface of the counter electrode 25 and the light-shielding film 6.

【0053】このような構成のレンズアレイ基板20を
用いた液晶装置100では、レンズアレイ基板20の側
から入射した光のうち、TFT10のチャネル形成領域
などに照射される光は遮光膜6によって遮られるととも
に、斜めに入射した光などは各マイクロレンズ22によ
って各画素電極8に向けて集光される。
In the liquid crystal device 100 using the lens array substrate 20 having such a configuration, of the light incident from the lens array substrate 20, the light irradiated to the channel forming region of the TFT 10 is shielded by the light shielding film 6. At the same time, obliquely incident light and the like are collected by the microlenses 22 toward the pixel electrodes 8.

【0054】このようなレンズアレイ基板20は、フォ
トリソグラフィ技術を用いてレンズアレイ21を製造し
た後、このレンズアレイ21に対して薄板ガラス49を
接着剤48により貼り合わせ、しかる後に、薄板ガラス
49を研磨して厚さ調整することにより製造される。そ
して、製造したレンズアレイ基板20は、以下の説明す
る検査装置において、光学特性が検査される。
After the lens array 21 is manufactured by using the photolithography technique, a thin glass 49 is attached to the lens array 21 with an adhesive 48. It is manufactured by polishing and adjusting the thickness. Then, optical characteristics of the manufactured lens array substrate 20 are inspected by an inspection apparatus described below.

【0055】(レンズアレイ基板検査装置および検査方
法)図9および図10は、本発明に係るレンズアレイ基
板の検査方法を実施するための検査装置の要部を示す斜
視図、およびこの検査装置においてレンズアレイ基板を
透過した光が拡大投射される被投射面の説明図である。
(Lens Array Substrate Inspection Apparatus and Inspection Method) FIGS. 9 and 10 are perspective views showing a main part of an inspection apparatus for performing the lens array substrate inspection method according to the present invention, and FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram of a projection surface on which light transmitted through a lens array substrate is enlarged and projected.

【0056】図9に示すように、検査装置1000は、
図1を参照して説明した投射型表示装置1と共通した構
成を有しており、直線的に延びた装置光軸上に、光源ユ
ニット1201、光学ユニット1301、および投射レ
ンズ1401(投射光学系)がこの順に配置されてい
る。
As shown in FIG. 9, the inspection apparatus 1000
It has the same configuration as the projection display device 1 described with reference to FIG. 1, and has a light source unit 1201, an optical unit 1301, and a projection lens 1401 (projection optical system) on the device optical axis extending linearly. ) Are arranged in this order.

【0057】検査装置1000において、光源1200
は、図1ないし図4を参照して説明した投射型表示装置
1の光源200と同様、光源ランプ1210および凹面
鏡1212を備えている。光源ランプ1210から出射
された放射状の光源(放射光)は、凹面鏡1212によ
って反射されて略平行な光線束として出射される。光源
ランプ1210としては、ハロゲンランプやメタルハラ
イドランプ、高圧水銀ランプが用いられることが多い。
凹面鏡1212としては、放物面鏡を用いることが好ま
しい。すなわち、検査装置1000では、投射型表示装
置1と同一の構成のものが用いられ、かつ、ここから出
射される光に対する光学系の絞り角およびF値などは、
投射型表示装置1と同一の値となるように構成されてい
る。
In the inspection apparatus 1000, the light source 1200
Includes a light source lamp 1210 and a concave mirror 1212, similarly to the light source 200 of the projection display apparatus 1 described with reference to FIGS. The radial light source (radiated light) emitted from the light source lamp 1210 is reflected by the concave mirror 1212 and emitted as a substantially parallel light beam. As the light source lamp 1210, a halogen lamp, a metal halide lamp, or a high-pressure mercury lamp is often used.
As the concave mirror 1212, it is preferable to use a parabolic mirror. In other words, the inspection apparatus 1000 has the same configuration as the projection display apparatus 1, and the aperture angle and the F value of the optical system with respect to the light emitted therefrom are as follows:
It is configured to have the same value as the projection display device 1.

【0058】光学ユニット1301も、図1ないし図4
を参照して説明した投射型表示装置1の光学ユニット3
01と同様、第1の光学要素1320、第2の光学要素
1330、および重畳レンズ1370を備えたインテグ
レータ光学系1300を有している。また、光学ユニッ
ト1301は、入射側レンズ1392、ホルダー139
3に保持された偏光板1394およびガラスブロック1
395を有している。なお、光学ユニット1301で
は、第1の光学要素1320と第2の光学要素1330
との間に偏光板1394などを保護するためのフィルタ
1309が配置されることもある。
The optical unit 1301 is also shown in FIGS.
Optical unit 3 of projection display device 1 described with reference to
As in the case of 01, an integrator optical system 1300 including a first optical element 1320, a second optical element 1330, and a superimposing lens 1370 is provided. The optical unit 1301 includes an incident side lens 1392, a holder 139,
Polarizing plate 1394 and glass block 1 held in 3
395. In the optical unit 1301, the first optical element 1320 and the second optical element 1330
In some cases, a filter 1309 for protecting the polarizing plate 1394 and the like may be arranged between the two.

【0059】光源ユニット1201は、光学ユニット3
01の第1の光学要素320の入射面側に配置されてい
る。投射レンズ1401は、光学ユニット1301のガ
ラスブロック1395の出射面側に配置されている。
The light source unit 1201 includes the optical unit 3
01 is disposed on the incident surface side of the first optical element 320. The projection lens 1401 is arranged on the emission surface side of the glass block 1395 of the optical unit 1301.

【0060】ここで、インテグレータ光学系1300
は、図2、図3(A)、(B)、(C)、および図4
(A)、(B)を参照して説明した投射型表示装置1の
インテグレータ光学系300と同様な構成を有するの
で、このインテグレータ光学系1300の詳細な構成、
および機能については、図2、図3(A)、(B)、
(C)および図4(A)、(B)を参照して簡単に説明
する。
Here, the integrator optical system 1300
2A, 2B, 2C, and 4
Since it has the same configuration as the integrator optical system 300 of the projection display device 1 described with reference to (A) and (B), the detailed configuration of this integrator optical system 1300,
2 and 3 (A), (B),
(C) and FIGS. 4 (A) and 4 (B).

【0061】検査装置1000でも、光源1200から
は、非偏光な光が出射されるが、この非偏光な光は、図
2、図3(A)、(B)、(C)および図4(A)、
(B)に説明したように、インテグレータ光学系130
0を構成する第1の光学要素1320の複数の小レンズ
321および第2の光学要素1330に含まれる集光レ
ンズ340の複数の小レンズ341によって複数の部分
光束202に分割されるとともに、2つの偏光変換素子
アレイ361、362の偏光分離膜366の近傍に集光
される。ここで、集光レンズ340は、第1の光学要素
1320から出射された複数の部分光束が2つの偏光変
換素子アレイ361、362の偏光分離膜366上に集
光されるように導く機能を有している。従って、2つの
偏光変換素子アレイ361、362に入射した複数の部
分光束は、1種類の直線偏光光に変換され出射される。
The inspection apparatus 1000 also emits non-polarized light from the light source 1200. This non-polarized light is emitted from the light source 1200 as shown in FIGS. 2, 3A, 3B, 4C and 4C. A),
As described in (B), the integrator optical system 130
In addition to being divided into a plurality of partial light beams 202 by a plurality of small lenses 321 of the first optical element 1320 and a plurality of small lenses 341 of the condenser lens 340 included in the second optical element 1330, two light beams 202 Light is condensed near the polarization separation films 366 of the polarization conversion element arrays 361 and 362. Here, the condenser lens 340 has a function of guiding the plurality of partial light beams emitted from the first optical element 1320 to be condensed on the polarization separation films 366 of the two polarization conversion element arrays 361 and 362. are doing. Therefore, the plurality of partial light beams incident on the two polarization conversion element arrays 361 and 362 are converted into one type of linearly polarized light and emitted.

【0062】再び図9において、検査装置1000で
は、入射側レンズ1392と偏光板1394との間に、
検査対象となるレンズアレイ基板20がスライド搬送機
構(図示せず。)によって一枚ずつ、自動的に供給され
てくる。従って、図2に示す2つの偏光変換素子アレイ
361、362から出射された複数の部分光束は、重畳
レンズ1370および入射側レンズ1392によって、
レンズアレイ基板20上で重畳され、レンズアレイ基板
20を均一に照明する。また、レンズアレイ基板20を
透過した光は、偏光板1394およびガラスブロック1
394を透過した後、投射レンズ1401によって、図
10に示す被照射面1450に照射される。
Referring to FIG. 9 again, in the inspection apparatus 1000, between the incident side lens 1392 and the polarizing plate 1394,
The lens array substrate 20 to be inspected is automatically supplied one by one by a slide transport mechanism (not shown). Therefore, a plurality of partial light beams emitted from the two polarization conversion element arrays 361 and 362 shown in FIG.
The light is superimposed on the lens array substrate 20 to uniformly illuminate the lens array substrate 20. The light transmitted through the lens array substrate 20 is reflected by the polarizing plate 1394 and the glass block 1.
After passing through 394, the light is radiated by the projection lens 1401 onto the irradiation surface 1450 shown in FIG.

【0063】ここで、被照射面1450上には、互いに
離間した9箇所の各々に光検出器1451が配置され、
レンズアレイ基板20を透過した光が投射レンズ140
1によって拡大投射されてくる光の光量を検出する。従
って、光検出器1451での検出結果によれば、レンズ
アレイ基板20を透過した光の強度を9箇所のそれぞれ
の位置で計測でき、かつ、これらの9箇所における光量
のばらつきを測定できる。
Here, on the irradiated surface 1450, photodetectors 1451 are arranged at nine positions separated from each other.
The light transmitted through the lens array substrate 20 is transmitted to the projection lens 140.
1 detects the amount of light that is enlarged and projected. Therefore, according to the detection result of the photodetector 1451, the intensity of the light transmitted through the lens array substrate 20 can be measured at each of the nine locations, and the variation in the light amount at these nine locations can be measured.

【0064】そこで、本形態では、この測定結果に基づ
いてレンズアレイ基板20の良否を判定する。すなわ
ち、レンズアレイ基板20において、光学特性は、図8
に示すマイクロレンズ22の曲率、接着剤48の厚さ、
薄板ガラス49の厚さ、各層の屈折率によって決まる
が、本形態では、これらの要因毎ではなく、レンズアレ
イ基板20として仕上がった状態で、レンズアレイ基板
20に対して光を照射するとともに、マイクロレンズ2
2を透過した光を投射レンズ1401によって被投射面
1450に拡大投射し、レンズアレイ基板20を透過し
てきた光の強弱やばらつきを検査する。従って、個々の
マイクロレンズ22というよりは、複数のマイクロレン
ズ22を透過したきた光の光量が大か小かによって、レ
ンズアレイ基板20全体の品質を検査する。それ故、マ
イクロレンズ22に合わせた基準マスクを用いた検査方
法と違って、基準マスクとレンズアレイ基板20とを正
確に位置合わせをするなどといった手間のかかる工程を
行う必要がない。また、基準マスクとの対比を行う構成
と違って、検査すべきレンズアレイ基板20の仕様が変
わっても検査装置1000の光学系を変更する必要がな
いので、この点からいっても、検査に要する手間を省く
ことができる。それ故、量産ラインの中での検査方法と
して有効である。
Therefore, in this embodiment, the quality of the lens array substrate 20 is determined based on the measurement result. That is, the optical characteristics of the lens array substrate 20 are as shown in FIG.
The curvature of the micro lens 22 shown in FIG.
The thickness is determined by the thickness of the thin glass 49 and the refractive index of each layer. In the present embodiment, light is applied to the lens array substrate 20 in a finished state as the lens array substrate 20 instead of each factor. Lens 2
The light transmitted through the lens array substrate 20 is enlarged and projected on the projection surface 1450 by the projection lens 1401, and the intensity and variation of the light transmitted through the lens array substrate 20 are inspected. Therefore, the quality of the entire lens array substrate 20 is inspected based on whether the amount of light transmitted through the plurality of microlenses 22 is large or small, rather than the individual microlenses 22. Therefore, unlike the inspection method using the reference mask matched to the microlens 22, there is no need to perform a troublesome process such as accurately aligning the reference mask with the lens array substrate 20. Also, unlike the configuration in which comparison with the reference mask is performed, it is not necessary to change the optical system of the inspection apparatus 1000 even if the specification of the lens array substrate 20 to be inspected changes. The time and effort required can be saved. Therefore, it is effective as an inspection method in a mass production line.

【0065】また、本形態の検査装置1000は、光学
系の基本的な構成が投射型表示装置1と同様になってい
るので、検査装置1000では、投射型表示装置1にお
いて中心光軸から±10°〜12°傾いた光成分を含む
光が液晶装置100(ライトバルブ)に入射するのと同
様、中心光軸から±10°〜12°傾いた光成分を含
み、かつ、その角度分布も投射型表示装置1と同様な検
査用の光がレンズアレイ基板20に入射する。それ故、
本形態によれば、検査工程で得たマイクレンズ基板20
に対する評価と、液晶装置100として投射型表示装置
1に組込んだ状態での検査結果との間に高い相関性を有
する。
In the inspection apparatus 1000 of the present embodiment, the basic configuration of the optical system is the same as that of the projection display apparatus 1. Similarly to the case where the light including the light component inclined at 10 ° to 12 ° is incident on the liquid crystal device 100 (light valve), the light component includes the light component inclined at ± 10 ° to 12 ° from the central optical axis, and the angular distribution thereof is also included. Inspection light similar to that of the projection display device 1 is incident on the lens array substrate 20. Therefore,
According to the present embodiment, the microphone lens substrate 20 obtained in the inspection process
Has a high correlation between the evaluation of the liquid crystal device 100 and the inspection result when the liquid crystal device 100 is incorporated in the projection display device 1.

【0066】(その他のマイクロレンズ基板への対応)
図11は、図8に示す液晶装置とは別のアクティブマト
リクス基板、レンズアレイ基板およびこれらの基板の貼
り合わせ構造を示す断面図である。
(Correspondence to other microlens substrates)
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an active matrix substrate, a lens array substrate, and a bonding structure of these substrates, which are different from the liquid crystal device shown in FIG.

【0067】液晶装置10では、基板間において液晶の
長軸方向が捩じれていることに起因して、光の入射角度
によってコントラストが低下する。このような問題点を
解消するため、本願出願人は、投射型表示装置1におい
て、マイクロレンズ22の中心を画素の中心からずらす
という技術を案出して特許出願したが、このような発明
を適用したレンズアレイ基板20に対しても、本形態に
係る検査方法および検査装置を用いれば、レンズアレイ
基板20の良否を手間をかけずに正確に検査できる。
In the liquid crystal device 10, the contrast is lowered depending on the incident angle of light due to the major axis direction of the liquid crystal being twisted between the substrates. In order to solve such a problem, the applicant of the present application devised a technique of shifting the center of the microlens 22 from the center of the pixel in the projection display apparatus 1 and applied for a patent, but applied such an invention. By using the inspection method and the inspection apparatus according to the present embodiment, the quality of the lens array substrate 20 can be accurately inspected for the lens array substrate 20 without trouble.

【0068】すなわち、本願発明者は、図11に示すよ
うに、レンズアレイ基板20に形成したマイクロレンズ
22の中心位置23をアクティブマトリクス基板30の
開口領域31の中心位置33に対して、明視方向側にず
らした構成の液晶装置100を提案している。この液晶
装置100においては、レンズアレイ基板20の側から
入射した光のうち、明視方向側に傾いた方向から入射し
た光は、マイクロレンズ22で屈折してもアクティブマ
トリクス基板30の開口領域31から出射され、表示に
関与する。これに対して、逆明視方向側に傾いた方向か
らレンズアレイ基板20に入射した光は、マイクロレン
ズ22で屈折した後、アクティブマトリクス基板30に
対して開口領域31からずれた位置に照射され、アクテ
ィブマトリクス基板30の各画素において明視方向側に
形成されている遮光膜66によって遮られるので、アク
ティブマトリクス基板30から出射されるのを抑えるこ
とができる。それ故、レンズアレイ基板20側から入射
する光に明視方向および逆明視方向に傾いた光が含まれ
ていたとしても、コントラストを低下させる原因となる
逆明視方向に傾いた光は、アクティブマトリクス基板3
0から出射されるのを抑えることができるので、表示に
関与しない。よって、この液晶装置100によれば、コ
ントラストの高い表示を行うことができる。
That is, as shown in FIG. 11, the inventor of the present invention clearly views the center position 23 of the micro lens 22 formed on the lens array substrate 20 with respect to the center position 33 of the opening region 31 of the active matrix substrate 30. A liquid crystal device 100 having a configuration shifted in the direction is proposed. In the liquid crystal device 100, of the light incident from the lens array substrate 20 side, the light incident from the direction inclined toward the clear viewing direction is refracted by the microlens 22, and And is involved in the display. On the other hand, the light incident on the lens array substrate 20 from the direction inclined in the reverse clear viewing direction is refracted by the microlenses 22 and then applied to a position shifted from the opening region 31 with respect to the active matrix substrate 30. In addition, since each pixel of the active matrix substrate 30 is shielded by the light shielding film 66 formed on the clear viewing direction side, it is possible to suppress emission from the active matrix substrate 30. Therefore, even if the light incident from the lens array substrate 20 includes light inclined in the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction, the light inclined in the reverse clear viewing direction, which causes a decrease in contrast, Active matrix substrate 3
Since emission from 0 can be suppressed, it is not involved in display. Therefore, according to the liquid crystal device 100, a display with high contrast can be performed.

【0069】このような液晶装置100に用いられるレ
ンズアレイ基板20では、入射する光の方向によってレ
ンズアレイ基板20から出射される光の量が大きく変化
するので、完全な平行光束をレンズアレイ基板20に照
射してもレンズアレイ基板20の良否を正確に判定でき
ないが、図9および図10を参照して説明した検査装置
1000およびこの装置を用いた検査方法によれば、実
際の投射型表示装置1と同様な光源ユニット1201お
よび光学ユニット1301を用いているので、レンズア
レイ基板20に平行光束が照射されるといっても、完全
な平行光束ではなく、レンズアレイ基板20の基板面に
対する法線方向から斜めに傾いた方向から入射する光も
含んでいる。それ故、本形態に係る検査方法でレンズア
レイ基板20を検査すると、その検査結果は、投射型表
示装置1に組込んだ状態で行った検査での結果と一致す
る。
In the lens array substrate 20 used in such a liquid crystal device 100, the amount of light emitted from the lens array substrate 20 changes greatly depending on the direction of the incident light. Although the quality of the lens array substrate 20 cannot be accurately determined by irradiating the lens array substrate 20, according to the inspection apparatus 1000 described with reference to FIGS. 9 and 10 and the inspection method using this apparatus, an actual projection display apparatus is used. 1 uses a light source unit 1201 and an optical unit 1301 similar to those of FIG. Includes light incident from a direction oblique to the direction. Therefore, when the lens array substrate 20 is inspected by the inspection method according to the present embodiment, the inspection result matches the result of the inspection performed in a state where the lens array substrate 20 is incorporated in the projection display device 1.

【0070】[実施の形態2]図1を参照して説明した
ように、投射型表示装置1では、3枚の液晶装置100
をそれぞれ赤色光用、緑色光用、青色光用のライトバル
ブとして使う。従って、いずれの波長の光が入射するか
によって屈折率が変化することを鑑みて、本形態では、
図12に示すように、検査対象となるレンズアレイ基板
20の前に3色分のフィルター1100R、1100
G、1100Bを備えた色フィルター装置1100を配
置するとともに、検査対象であるレンズアレイ基板20
に入射する検査用の光を赤色光、緑色光、青色光に自動
的に切り換えながら検査を行う。その他の構成は、実施
の形態1で説明したのと同様であるので、説明を省略す
る。
[Embodiment 2] As described with reference to FIG. 1, in the projection display device 1, three liquid crystal devices 100 are used.
Are used as light valves for red light, green light, and blue light, respectively. Therefore, in view of the fact that the refractive index changes depending on which wavelength of light is incident, in the present embodiment,
As shown in FIG. 12, filters 1100R and 1100 for three colors are provided in front of the lens array substrate 20 to be inspected.
G, 1100B, and the lens array substrate 20 to be inspected.
The inspection is performed while automatically switching the inspection light incident on the red light, the green light, and the blue light. Other configurations are the same as those described in the first embodiment, and a description thereof will not be repeated.

【0071】このように構成した検査装置1000によ
れば、実際に入射する色光を用いて検査を行うので、そ
の検査結果は、投射型表示装置1に組込んだ状態で行っ
た検査での結果とより一致するという利点がある。
According to the inspection apparatus 1000 configured as described above, the inspection is performed using the actually incident color light, and the inspection result is the result of the inspection performed in a state where the inspection apparatus 1000 is incorporated in the projection display apparatus 1. There is an advantage that it matches more.

【0072】[実施の形態2の変形例]また、図示を省
略するが、赤色光、緑色光、青色光の色フィルターのう
ちの一つの色フィルター、たとえば青色用の色フィルタ
ー1100R(図12を参照。)を、検査対象となるレ
ンズアレイ基板20の前に固定して配置し、この3色の
なかで屈折率の最も大きな青色光を用いてレンズアレイ
基板20を検査してもよい。
[Modification of Second Embodiment] Although not shown, one of red, green, and blue light color filters, for example, a blue color filter 1100R (see FIG. 12) May be fixed and arranged in front of the lens array substrate 20 to be inspected, and the lens array substrate 20 may be inspected using blue light having the largest refractive index among the three colors.

【0073】[実施の形態3]図13は、図1に示す投
射型表示装置とは別の投射型表示装置に配置した液晶装
置(液晶ライトバルブ)および入射側レンズの姿勢を示
す説明図である。
[Embodiment 3] FIG. 13 is an explanatory view showing the attitude of a liquid crystal device (liquid crystal light valve) and an incident side lens arranged in a projection type display device different from the projection type display device shown in FIG. is there.

【0074】液晶装置10では、基板間において液晶の
長軸方向が捩じれていることに起因して、光の入射角度
によってコントラストが低下する。このような問題点を
解消するため、本願出願人は、投射型表示装置1におい
て、液晶装置10の法線方向に対して明視方向側に斜め
に傾いた方向から液晶装置10に光を入射するという技
術を案出して特許出願したが、このような発明を適用し
た投射型表示装置1に用いるレンズアレイ基板20に対
しては、本形態に係る検査方法および検査装置を用いれ
ば、レンズアレイ基板20の良否を手間をかけずに正確
に検査できる。
In the liquid crystal device 10, the contrast is reduced depending on the incident angle of light due to the long axis direction of the liquid crystal being twisted between the substrates. In order to solve such a problem, the applicant of the present application has disclosed that in the projection display device 1, light is incident on the liquid crystal device 10 from a direction inclined obliquely toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device 10. However, the lens array substrate 20 used in the projection display device 1 to which the present invention is applied can be applied to the lens array substrate 20 by using the inspection method and the inspection apparatus according to the present embodiment. The quality of the substrate 20 can be accurately inspected without trouble.

【0075】すなわち、図1を参照して説明した投射型
表示装置1において、図13に示すように、液晶装置1
00、たとえば液晶ライトバルブ410Rを光軸L(装
置光軸)方向で前後にずれた斜め姿勢で配置することに
より、液晶ライトバルブ410Rに入射する光の光軸
を、光入射面の法線方向Mに対して所定の角度θ1だけ
明視方向側に傾けることにより、液晶ライトバルブ41
0Rに入射する光の光軸Lを明視方向側に傾かせる。ま
た、フィールドレンズ400については、一点鎖線で示
す直立姿勢からやや後方に倒してやや後方に倒した姿勢
にすることにより、液晶ライトバルブ410Rに入射す
る光の光軸を、光入射面の法線方向Mに対して所定の角
度だけ明視方向側に傾ける。その他の液晶装置100
(ライトバルブ)に対しても同様である。
That is, in the projection type display device 1 described with reference to FIG. 1, as shown in FIG.
For example, by arranging the liquid crystal light valve 410R in an oblique posture shifted back and forth in the direction of the optical axis L (device optical axis), the optical axis of the light incident on the liquid crystal light valve 410R is changed in the direction normal to the light incident surface. The liquid crystal light valve 41 is tilted toward the clear viewing direction by a predetermined angle θ1 with respect to M.
The optical axis L of the light incident on 0R is inclined toward the clear viewing direction. In addition, the field lens 400 is tilted slightly backward from the upright position shown by the dashed line, so that the optical axis of light incident on the liquid crystal light valve 410R is normal to the light incident surface. It is inclined toward the clear viewing direction by a predetermined angle with respect to the direction M. Other liquid crystal device 100
(Light valve).

【0076】このように構成した投射型表示装置1のう
ち、液晶装置100を傾かせる場合には、それに用いる
レンズアレイ基板20を検査する際には、図14に矢印
Aで示すように、レンズアレイ基板20を前後方向に斜
めに傾けた姿勢で検査装置1000に供給することによ
り、検査装置1000において、レンズアレイ基板20
に入射する光の光軸を、その光入射面の法線方向から所
定の角度だけ傾けた状態で検査を行う。
When the liquid crystal device 100 of the projection display device 1 having the above structure is tilted, when the lens array substrate 20 used for the liquid crystal device 100 is inspected, as shown by an arrow A in FIG. By supplying the array substrate 20 to the inspection device 1000 in a posture inclined obliquely in the front-rear direction, the inspection device 1000
The inspection is performed in a state where the optical axis of the light incident on the light source is inclined at a predetermined angle from the normal direction of the light incident surface.

【0077】また、フィールドレンズ400をやや後方
に倒した姿勢にした場合には、図14に矢印Bで示すよ
うに、入射側レンズ1392を前後方向に斜めに傾けた
姿勢で検査装置1000に配置することにより、検査装
置1000において、レンズアレイ基板20に入射する
光の光軸を、その光入射面の法線方向から所定の角度だ
け傾けた状態で検査を行う。
When the field lens 400 is tilted slightly backward, as shown by the arrow B in FIG. 14, the incident side lens 1392 is arranged in the inspection apparatus 1000 in a tilted oblique direction in the front-rear direction. Thus, the inspection is performed in the inspection apparatus 1000 in a state where the optical axis of the light incident on the lens array substrate 20 is inclined at a predetermined angle from the normal direction of the light incident surface.

【0078】このように検査を行うと、その検査結果
は、図13を参照して説明した投射型表示装置1に、レ
ンズアレイ基板20を用いた液晶装置100を実際に組
込んだ状態で行った検査での結果と一致する。
When the inspection is performed as described above, the inspection result is obtained in a state where the liquid crystal device 100 using the lens array substrate 20 is actually incorporated in the projection display device 1 described with reference to FIG. Test results.

【0079】[その他の実施の形態]なお、被照射面1
450に照射される光の光量に基づいてレンズアレイ基
板20を検査する具体的な方法としては、レンズアレイ
基板20の良否を判定して不良品を除去してもよいが、
レンズアレイ基板20を光学特性毎にランク分けしても
よい。この場合に、光学特性のランクが低いレンズアレ
イ基板20を用いて製造した液晶装置100について
は、青色光用のライトバルブ410B(光変調手段)と
して用いればよい。すなわち、投射型表示装置1におい
て、3枚のライトバルブをそれぞれ赤色光用、緑色光
用、青色光用に使った際に、青色光が最もコントラスト
に対する影響が少ない。従って、レンズアレイ基板20
の検査結果において、ランクが低いと判定されたものに
ついては、不良品として廃棄するのではなく、青色光専
用として用いれば、レンズアレイ基板20の歩留まりが
向上することになる。
[Other Embodiments] The irradiated surface 1
As a specific method of inspecting the lens array substrate 20 based on the amount of light applied to the light 450, the quality of the lens array substrate 20 may be determined and defective products may be removed.
The lens array substrate 20 may be ranked for each optical characteristic. In this case, the liquid crystal device 100 manufactured using the lens array substrate 20 having a low optical characteristic rank may be used as the light valve 410B (light modulation unit) for blue light. That is, in the projection display device 1, when three light valves are used for red light, green light, and blue light, respectively, blue light has the least effect on contrast. Therefore, the lens array substrate 20
As a result of the inspection described above, the lens array substrate 20 having a low rank is not discarded as a defective product but is used exclusively for blue light, thereby improving the yield of the lens array substrate 20.

【0080】また、上記形態では、対向基板に相当する
側にマイクロレンズ22を形成した場合を説明したが、
アクティブマトリクス基板30の各画素に対応してマイ
クロレンズを設けた場合には、このアクティブマトリク
ス基板をマイクレロレンズ基板として検査すればよい。
また、対向基板とアクティブマトリクス基板の両方にマ
イクロレンズを設け、これらのいずれの基板もレンズア
レイ基板として検査してもよい。
In the above embodiment, the case where the microlenses 22 are formed on the side corresponding to the counter substrate has been described.
When a microlens is provided for each pixel of the active matrix substrate 30, the active matrix substrate may be inspected as a microlens lens substrate.
Microlenses may be provided on both the opposing substrate and the active matrix substrate, and any of these substrates may be inspected as a lens array substrate.

【0081】[0081]

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、レン
ズアレイ基板の品質を検査する際に、マイクロレンズの
曲率、接着剤の厚さ、薄板ガラスの厚さ、各層の屈折率
などといった要因毎ではなく、レンズアレイ基板として
仕上がった状態で、レンズアレイ基板に対して光を照射
するとともに、マイクロレンズを透過した光を投射した
結果で検査を行う。それ故、マイクロレンズに合わせた
基準マスクを用いなくてもよいので、基準マスクとレン
ズアレイ基板とを正確に位置合わせをするなどといった
手間のかかる段取り作業を省略することができる。ま
た、基準マスクとの対比を行う構成と違って、検査すべ
きレンズアレイ基板の仕様が変わっても検査を行うため
の光学系を変更する必要がないので、この点からいって
も、検査に要する手間を省くことができる。
As described above, according to the present invention, when inspecting the quality of the lens array substrate, factors such as the curvature of the micro lens, the thickness of the adhesive, the thickness of the thin glass, and the refractive index of each layer, etc. Not every time, in a state where the lens array substrate is finished, light is irradiated to the lens array substrate, and an inspection is performed based on a result of projecting light transmitted through the microlens. Therefore, since it is not necessary to use a reference mask matched to the microlens, a troublesome setup operation such as accurately aligning the reference mask with the lens array substrate can be omitted. Also, unlike the configuration that performs comparison with the reference mask, it is not necessary to change the optical system for performing inspection even if the specifications of the lens array substrate to be inspected change. The time and effort required can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】投射型表示装置の光学系の構成を示す概略平面
図である。
FIG. 1 is a schematic plan view illustrating a configuration of an optical system of a projection display device.

【図2】図1に示す投射型表示装置の照明領域である3
枚の液晶ライトバルブを照明するインテグレータ照明光
学系について示す説明図である。
FIG. 2 shows an illumination area 3 of the projection display device shown in FIG.
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an integrator illumination optical system that illuminates a sheet of liquid crystal light valves.

【図3】(A)、(B)、(C)はそれぞれ、投射型表
示装置のインテグレータ照明光学系に用いた第1の光学
要素の外観を示す正面図、側面図、および第1の光学要
素の微小レンズが形成されている側の一部を拡大して示
す斜視図である。
FIGS. 3A, 3B, and 3C are a front view, a side view, and a first optical view, respectively, showing the appearance of a first optical element used in an integrator illumination optical system of a projection display device. It is a perspective view which expands and shows a part on the side where the micro lens of the element is formed.

【図4】(A)、(B)はそれぞれ、図2に示すインテ
グレータ照明光学系に用いた偏光変換素子アレイの外観
を示す斜視図、およびこの偏光変換素子アレイの機能を
示す説明図である。
4A and 4B are a perspective view showing an appearance of a polarization conversion element array used in the integrator illumination optical system shown in FIG. 2 and an explanatory view showing functions of the polarization conversion element array. .

【図5】液晶装置(ライトバルブ)をレンズアレイ基板
(対向基板)の方からみたときの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of the liquid crystal device (light valve) when viewed from a lens array substrate (counter substrate).

【図6】図5のH−H′線で切断したときの液晶装置の
断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal device taken along the line HH ′ in FIG.

【図7】液晶装置の構成を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration of a liquid crystal device.

【図8】液晶装置に用いたアクティブマトリクス基板、
レンズアレイ基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造
を示すパネル端部の断面図である。
FIG. 8 shows an active matrix substrate used for a liquid crystal device,
It is sectional drawing of the panel end part which shows a lens array board | substrate and the bonding structure of these boards.

【図9】本発明の実施の形態1に係るレンズアレイ基板
検査装置の要部の構成を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a main part of the lens array substrate inspection device according to the first embodiment of the present invention.

【図10】図9に示すレンズアレイ基板検査装置から検
査光が照射される被照射面、およびこの照射面上に配置
される受光部の説明図である。
10 is an explanatory diagram of a surface to be irradiated with inspection light from the lens array substrate inspection device shown in FIG. 9, and a light receiving unit disposed on the surface to be irradiated;

【図11】図8に示す液晶装置とは別のアクティブマト
リクス基板、レンズアレイ基板およびこれらの基板の貼
り合わせ構造を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating an active matrix substrate, a lens array substrate, and a bonding structure of these substrates, which are different from the liquid crystal device illustrated in FIG.

【図12】本発明の実施の形態2に係るレンズアレイ基
板検査装置の要部の構成を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a configuration of a main part of a lens array substrate inspection device according to a second embodiment of the present invention.

【図13】図1に示す投射型表示装置とは別の投射型表
示装置において液晶装置および入射側レンズを傾けた状
態を示す説明図である。
FIG. 13 is an explanatory view showing a state in which the liquid crystal device and the incident side lens are tilted in a projection type display device different from the projection type display device shown in FIG.

【図14】本発明の実施の形態3に係るレンズアレイ基
板検査装置の要部の構成を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a configuration of a main part of a lens array substrate inspection device according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 投射型表示装置 20 レンズアレイ基板 21 レンズアレイ 22 マイクロレンズ 23 マイクロレンズの中心位置 25 対向電極 30 アクティブマトリクス基板 39 液晶(電気光学物質) 48 接着剤 49 薄板ガラス 100 液晶装置(電気光学装置) 200 光源 201 光源ユニット 210 光源ランプ 212 凹面鏡 300 インテグレータ光学系 301 光学ユニット 320 第1の光学要素(集光レンズ、レンズアレイ) 321 小レンズ 330 第2の光学要素 340 集光レンズ 341 小レンズ 360 偏光変換素子アレイ 361、362 偏光変換素子アレイ 363 偏光ビームスプリッタアレイ 364 λ/2位相差板 366 偏光分離膜 367 反射膜 368 偏光変換素子 370 重畳レンズ 372 反射ミラー 380 色光分離光学系 382 第1のダイクロイックミラー 384 反射ミラー 386 第2のダイクロイックミラー 390 導光光学系 392 入射側レンズ 394、398 反射ミラー 396 リレーレンズ 400、402、404 フィールドレンズ 401 投射レンズ 410R、410G、410B 液晶ライトバルブ 420 クロスダイクロイックプリズム 1000 検査装置 1201 検査装置の光源ユニット 1300 検査装置のインテグレータ光学系 1301 検査装置の光学ユニット 1320 検査装置の第1の光学要素 1330 検査装置の第2の光学要素 1370 検査装置の重畳レンズ 1394 検査装置の偏光板 1394 検査装置のガラスブロック 1401 検査装置の投射レンズ 1450 検査装置の被投射面 1451 光検出器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Projection display apparatus 20 Lens array substrate 21 Lens array 22 Micro lens 23 Center position of micro lens 25 Counter electrode 30 Active matrix substrate 39 Liquid crystal (electro-optical material) 48 Adhesive 49 Thin glass 100 Liquid crystal device (electro-optical device) 200 Light source 201 Light source unit 210 Light source lamp 212 Concave mirror 300 Integrator optical system 301 Optical unit 320 First optical element (condensing lens, lens array) 321 Small lens 330 Second optical element 340 Condensing lens 341 Small lens 360 Polarization conversion element Arrays 361, 362 Polarization conversion element array 363 Polarization beam splitter array 364 λ / 2 phase difference plate 366 Polarization separation film 367 Reflection film 368 Polarization conversion element 370 Superposition lens 372 Reflection mirror 380 Color light Separating optical system 382 First dichroic mirror 384 Reflecting mirror 386 Second dichroic mirror 390 Light guiding optical system 392 Incident side lens 394, 398 Reflecting mirror 396 Relay lens 400, 402, 404 Field lens 401 Projection lens 410R, 410G, 410B Liquid crystal light valve 420 Cross dichroic prism 1000 Inspection device 1201 Light source unit of inspection device 1300 Integrator optical system of inspection device 1301 Optical unit of inspection device 1320 First optical element of inspection device 1330 Second optical element of inspection device 1370 Inspection device Superimposed lens 1394 Polarizing plate of inspection device 1394 Glass block of inspection device 1401 Projection lens of inspection device 1450 Projected surface of inspection device 1451 Photodetector

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のマイクロレンズが形成されたレン
ズアレイ基板に対して光源から出射された光を照射する
とともに、前記マイクロレンズを透過した光を投射光学
系を介して被投射面に投射し、該被投射面に投射された
光の光量に基づいて前記レンズアレイ基板を検査するこ
とを特徴とするレンズアレイ基板の検査方法。
1. A lens array substrate on which a plurality of microlenses are formed is irradiated with light emitted from a light source, and the light transmitted through the microlenses is projected onto a projection surface via a projection optical system. Inspecting the lens array substrate based on the amount of light projected on the projection surface.
【請求項2】 請求項1において、前記被投射面上の互
いに離間した複数箇所で光量を計測し、この計測結果に
基づいて前記レンズアレイ基板を検査することを特徴と
するレンズアレイ基板の検査方法。
2. The inspection of a lens array substrate according to claim 1, wherein the amount of light is measured at a plurality of locations on the projection surface that are separated from each other, and the lens array substrate is inspected based on a result of the measurement. Method.
【請求項3】 請求項1または2において、前記レンズ
アレイ基板に対しては、前記光源から出射された光を略
平行光束に揃えて照射することを特徴とするレンズアレ
イ基板の検査方法。
3. The inspection method of a lens array substrate according to claim 1, wherein the light emitted from the light source is irradiated on the lens array substrate so as to be substantially parallel.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記レンズアレイ基板に対しては、当該レンズアレイ基
板の基板面に対する法線に対して光軸が傾いた光を照射
することを特徴とするレンズアレイ基板の検査方法。
4. The method according to claim 1, wherein
A method for inspecting a lens array substrate, comprising irradiating the lens array substrate with light whose optical axis is inclined with respect to a normal to a substrate surface of the lens array substrate.
【請求項5】 請求項4において、前記レンズアレイ基
板に対して当該レンズアレイ基板の基板面に対する法線
に対して光軸が傾いた光を照射するために、前記レンズ
アレイ基板の姿勢を傾けることを特徴とするレンズアレ
イ基板の検査方法。
5. The lens array substrate according to claim 4, wherein the lens array substrate is tilted to irradiate the lens array substrate with light whose optical axis is tilted with respect to a normal to the substrate surface of the lens array substrate. A method for inspecting a lens array substrate, comprising:
【請求項6】 請求項4において、前記レンズアレイ基
板に対して当該レンズアレイ基板の基板面に対する法線
に対して光軸が傾いた光を照射するために、前記光源、
あるいは該光源から前記レンズアレイ基板に至る光路上
に配置された光学部品の姿勢を傾けることを特徴とする
レンズアレイ基板の検査方法。
6. The light source according to claim 4, wherein the light source is configured to irradiate the lens array substrate with light whose optical axis is inclined with respect to a normal to a substrate surface of the lens array substrate.
Alternatively, a method of inspecting a lens array substrate, comprising tilting an attitude of an optical component disposed on an optical path from the light source to the lens array substrate.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかにおいて、
前記レンズアレイ基板に対しては、前記光源から出射さ
れた光を所定の直線偏光光に揃えて照射することを特徴
とするマイクロレンズアレイの検査方法。
7. The method according to claim 1, wherein
A method for inspecting a microlens array, comprising irradiating the light emitted from the light source with predetermined linearly polarized light to the lens array substrate.
【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
前記レンズアレイ基板に対しては、色光を照射すること
を特徴とするレンズアレイ基板の検査方法。
8. The method according to claim 1, wherein
A method for inspecting a lens array substrate, wherein the lens array substrate is irradiated with colored light.
【請求項9】 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
前記レンズアレイ基板に対しては、1枚につき複数の色
光を順次、照射することを特徴とするレンズアレイ基板
の検査方法。
9. The method according to claim 1, wherein
A method for inspecting a lens array substrate, comprising sequentially irradiating the lens array substrate with a plurality of color lights per sheet.
【請求項10】 請求項9において、前記レンズアレイ
基板に照射する光の色は、所定のタイミングで自動的に
切り換わることを特徴とするレンズアレイ基板の検査方
法。
10. The method for inspecting a lens array substrate according to claim 9, wherein the color of light applied to the lens array substrate is automatically switched at a predetermined timing.
【請求項11】 請求項1ないし10のいずれかにおい
て、前記被照射面への照射光量に基づいて、前記レンズ
アレイ基板の良否を判定することを特徴とするレンズア
レイ基板の検査方法。
11. The method for inspecting a lens array substrate according to claim 1, wherein the quality of the lens array substrate is determined based on the amount of light applied to the surface to be irradiated.
【請求項12】 請求項1ないし10のいずれかにおい
て、前記被照射面への照射光量に基づいて、前記レンズ
アレイ基板をランク分けすることを特徴とするレンズア
レイ基板の検査方法。
12. The lens array substrate inspection method according to claim 1, wherein the lens array substrates are ranked based on the amount of light applied to the surface to be irradiated.
【請求項13】 請求項1ないし12のいずれかに規定
する方法で検査を終えたレンズアレイ基板を用いて電気
光学装置を製造することを特徴とする電気光学装置の製
造方法。
13. A method of manufacturing an electro-optical device, comprising manufacturing an electro-optical device using a lens array substrate that has been inspected by the method defined in any one of claims 1 to 12.
【請求項14】 請求項1ないし12のいずれかに規定
する方法で検査を終えたレンズアレイ基板を用いて電気
光学装置を製造し、しかる後に、該電気光学装置を光変
調手段として用いて投射型表示装置を製造することを特
徴とする投射型表示装置の製造方法。
14. An electro-optical device is manufactured by using a lens array substrate that has been inspected by the method defined in claim 1, and then the electro-optical device is used as a light modulating means for projection. A method for manufacturing a projection type display device, characterized by manufacturing a type display device.
【請求項15】 請求項12に規定する方法で検査を行
なってレンズアレイ基板のうち、光学特性のランクが低
いレンズアレイ基板を用いて製造した電気光学装置につ
いては、青色光用の光変調手段として用いて投射型表示
装置を製造することを特徴とする投射型表示装置の製造
方法。
15. An electro-optical device manufactured by using a lens array substrate having a low optical characteristic rank among the lens array substrates by performing an inspection according to the method defined in claim 12, and a light modulating means for blue light. A method of manufacturing a projection display device, wherein the method is used to manufacture a projection display device.
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