JP2004234017A - Liquid crystal device and projection display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent incident light from a direction reverse to a distinct vision direction from becoming involved in display in a liquid crystal device and a projection display device using the same as a light valve. <P>SOLUTION: A microlens (41) of the liquid crystal device (1) has a planer plane on a light incident side and a planer plane on a light-emitting side, and is composed of a high-refractive index layer formed on the light incident side of one substrate and a low-refractive index layer formed in contact with the high-refractive index layer. The low-refractive index layer is made thicker from the central side of a pixel toward the distinct vision direction and is made thinner toward the direction reverse to the distinct vision direction and the high-refractive index layer is made thinner from the central side of the pixel toward the distinct vision direction and is made thicker toward the direction reverse to distinct vision direction. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、一対の基板間に封入された液晶が当該基板間で捩じれ配向している液晶装置、およびこの液晶液晶装置をライトバルブとして用いた投射型表示装置に関するものである。さらに詳しくは、液晶装置を用いた表示装置におけるコントラスト向上技術に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device in which liquid crystal sealed between a pair of substrates is twisted and aligned between the substrates, and to a projection display device using the liquid crystal liquid crystal device as a light valve. More specifically, the present invention relates to a technology for improving contrast in a display device using a liquid crystal device.

一対の基板間に封入された液晶(TN液晶/ツイステッドネマティックモードの液晶)が当該基板間で捩じれ配向しているタイプの液晶装置は、たとえば投射型表示装置に対してライトバルイブとして搭載される。この種の投射型表示装置では、たとえば、一般に赤、青、緑の三原色の光を各液晶装置を通してそれぞれの色毎に画像成分を形成し、これらの画像成分を合成して所望のカラー画像を作り出し、投射している。
このような表示装置に用いられる従来の液晶装置の構成について図27を用いて説明する。
A liquid crystal device in which liquid crystal (TN liquid crystal / twisted nematic mode liquid crystal) sealed between a pair of substrates is twisted and aligned between the substrates is mounted as a light valve on a projection display device, for example. . In this type of projection display device, for example, generally, light of three primary colors of red, blue, and green is formed through a liquid crystal device for each color to form an image component, and these image components are combined to form a desired color image. Producing and projecting.
The configuration of a conventional liquid crystal device used for such a display device will be described with reference to FIG.

図27は、従来の液晶装置に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を模式的に拡大して示す断面図である。   FIG. 27 is a schematic enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a conventional liquid crystal device.

図27に示すように、液晶装置1では、透明な画素電極8、配向膜46、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ(以下、TFTと称す)(図示せず)、データ線(図示せず)、走査線91および容量線92などが形成されたアクティブマトリクス基板20と、透明な対向電極32および配向膜47が形成された対向基板30と、これらの基板間に封入、挟持されている液晶39とから概略構成されている。ここに封入される液晶39としては、配向膜46、47によって基板間で90°に捩じれ配向したTN(ツイステッドネマティック)モードの液晶が広く用いられている。このように構成した液晶装置1では、アクティブマトリクス基板20において、TFTを介してデータ線から画素電極8に印加した画像信号によって、画素電極8と対向電極32との間において液晶39の配向状態を制御することができる。それ故、透過型の液晶装置1において、対向基板30側から入射された光は、入射側偏光板(図示せず。)によって所定の直線偏光光に揃えられた後、対向基板30の側から液晶39に入射し、ある領域を透過する直線偏光光は透過偏光軸が捩じられてアクティブマトリクス基板20から出射される一方、他の領域を通過した直線偏光光は透過偏光軸が捩じられることなくアクティブマトリクス基板20の側から出射する。それ故、出射側偏光板(図示せず。)を通過するのは、液晶39によって偏光軸が捩じられた方の直線偏光光、あるいは液晶39によって偏光軸が捩じられることのなかった直線偏光光のうちの一方である。よって、これらの偏光状態を画素毎に制御することにより所定の情報を表示することができる。   As shown in FIG. 27, in the liquid crystal device 1, a transparent pixel electrode 8, an alignment film 46, a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT) for pixel switching (not shown), a data line (not shown), and a scanning line An active matrix substrate 20 on which a capacitor 91 and a capacitance line 92 are formed, a counter substrate 30 on which a transparent counter electrode 32 and an alignment film 47 are formed, and a liquid crystal 39 sealed and sandwiched between these substrates. It is configured. As the liquid crystal 39 sealed therein, a TN (twisted nematic) mode liquid crystal that is twisted and aligned at 90 ° between the substrates by the alignment films 46 and 47 is widely used. In the liquid crystal device 1 configured as described above, the alignment state of the liquid crystal 39 between the pixel electrode 8 and the counter electrode 32 is changed by the image signal applied from the data line to the pixel electrode 8 via the TFT on the active matrix substrate 20. Can be controlled. Therefore, in the transmissive liquid crystal device 1, the light incident from the counter substrate 30 side is adjusted to a predetermined linearly polarized light by the incident side polarizing plate (not shown), and then the light is input from the counter substrate 30 side. The linearly polarized light that enters the liquid crystal 39 and passes through a certain region is emitted from the active matrix substrate 20 with its transmission polarization axis twisted, while the linearly polarized light that has passed through another region has its transmission polarization axis twisted. The light is emitted from the active matrix substrate 20 side without being emitted. Therefore, the light passing through the exit-side polarizing plate (not shown) is a linearly polarized light whose polarization axis is twisted by the liquid crystal 39 or a straight line whose polarization axis is not twisted by the liquid crystal 39. One of polarized light. Therefore, predetermined information can be displayed by controlling these polarization states for each pixel.

ここで、対向基板30の側から入射した光がTFTのチャネル領域に入射、あるいはTFTのチャネル領域に反射されると、このような光は表示に寄与しないだけでなく、光電変換効果により光電流が発生し、TFTのトランジスタ特性が劣化する。このため、アクティブマトリクス基板20および対向基板30には、隣接する画素電極8の間の領域に重なるように、クロムなどの金属材料や樹脂ブラックなどからなるブラックマトリクス、あるいはブラックマスクと称せられる第1の遮光膜6および第2の遮光膜7が形成されることがある。このように構成した場合に、液晶装置1では、アクティブマトリクス基板20および対向基板30のいずれにおいても、第1の遮光膜6および第2の遮光膜7で区画された第1および第2の開口領域21、31のみを光が透過し、それ以外の領域では光が第1の遮光膜6および第2の遮光膜7で遮られるので、TFT10のチャネル領域に強い光が入射し、あるいは反射してくるのを防止することができる。   Here, when light incident from the side of the counter substrate 30 enters the TFT channel region or is reflected by the TFT channel region, such light not only does not contribute to display but also causes a photoelectric current due to a photoelectric conversion effect. Occurs, and the transistor characteristics of the TFT deteriorate. For this reason, on the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30, a black matrix made of a metal material such as chromium or resin black or a first black mask called a black mask is formed so as to overlap the region between the adjacent pixel electrodes 8. Light-shielding film 6 and second light-shielding film 7 may be formed. With such a configuration, in the liquid crystal device 1, the first and second openings defined by the first light-shielding film 6 and the second light-shielding film 7 in both the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30. Light is transmitted only through the regions 21 and 31, and light is blocked by the first light-shielding film 6 and the second light-shielding film 7 in other regions, so that strong light enters or is reflected by the channel region of the TFT 10. Can be prevented.

このような構成の液晶装置1において、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向基板30の第2の遮光膜7とは、略重なる領域に形成される。   In the liquid crystal device 1 having such a configuration, the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20 and the second light-shielding film 7 of the counter substrate 30 are formed in substantially overlapping regions.

このため、アクティブマトリクス基板20の第1の開口領域31と対向基板30の第2の開口領域21とは、それらの中心位置211、311が一致する。また、別の液晶装置の従来例としては、図示を省略するが、対向基板30にマイクロレンズを形成し、液晶装置に入射される光を集光することにより光の利用効率を高めることがある。すなわち、図27に示す例では、対向基板30から入射した光の一部は、第2の遮光膜7で遮られて表示に寄与しないが、対向基板30の側にマイクロレンズを形成すれば、第2の遮光膜7で遮られていた光も液晶39に入射することになって表示に寄与する光量が増大する。   For this reason, the first opening region 31 of the active matrix substrate 20 and the second opening region 21 of the counter substrate 30 have the same center position 211, 311. As another example of the conventional liquid crystal device, although not shown, a microlens is formed on the counter substrate 30 to condense light incident on the liquid crystal device, thereby increasing the light use efficiency. . That is, in the example shown in FIG. 27, a part of the light incident from the opposing substrate 30 is blocked by the second light-shielding film 7 and does not contribute to display, but if a microlens is formed on the opposing substrate 30 side, The light blocked by the second light-shielding film 7 also enters the liquid crystal 39, so that the amount of light contributing to display increases.

このように対向基板30にマイクロレンズ(図示せず)を形成する際にも、マイクロレンズの光学的中心位置をアクティブマトリクス基板20および対向基板30の各開口領域21、31の中心位置211、311に重ねるようにマイクロレンズを形成することにより、表示に寄与する光量の減少を防止することができる。それ故、信頼性が高く、且つ明るい表示を行うことのできる液晶装置1を構成することができる。   When a microlens (not shown) is formed on the opposing substrate 30 in this manner, the optical center position of the microlens is also adjusted to the center positions 211 and 311 of the active matrix substrate 20 and the opening regions 21 and 31 of the opposing substrate 30. By forming the microlenses so as to overlap with each other, it is possible to prevent a decrease in the amount of light contributing to display. Therefore, the liquid crystal device 1 with high reliability and capable of performing bright display can be configured.

このように構成した液晶装置1において、図28に液晶の配向状態を模式的に示すように、液晶39は、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間で、90°に捩じれ配向した状態にある。ここで、図28には各基板20、30の方向を表すために、時計における時刻に相当する数字を付してある。このような90°の捩じれをもたせるには、各基板20、30の表面に配向膜46、47となるポリイミド膜などを形成した後、矢印Aおよび矢印Bでそれぞれのラビング方向を示すように、一対の基板間で互いに直角をなす方向にそれぞれラビング処理を施した後、各基板20、30を貼り合わせ、その隙間に液晶39を充填する。その結果、液晶39は、配向膜46、47へのラビング方向に長軸方向を向けて配向し、一対の基板20、30間において液晶39の長軸方向は90°捩じれる。   In the liquid crystal device 1 configured as described above, the liquid crystal 39 is twisted at 90 ° between the active matrix substrate 20 and the opposing substrate 30, as schematically shown in FIG. is there. Here, in FIG. 28, in order to represent the directions of the substrates 20 and 30, numerals corresponding to the times on a clock are given. In order to impart such a 90 ° twist, after forming a polyimide film or the like to be the alignment films 46 and 47 on the surfaces of the substrates 20 and 30, the rubbing directions are indicated by arrows A and B, respectively, as shown in FIG. After performing a rubbing process in a direction perpendicular to each other between the pair of substrates, the substrates 20 and 30 are attached to each other, and a liquid crystal 39 is filled in a gap therebetween. As a result, the liquid crystal 39 is oriented with its major axis directed in the rubbing direction to the alignment films 46 and 47, and the major axis of the liquid crystal 39 is twisted by 90 ° between the pair of substrates 20 and 30.

このようにして捩じれ配向させた液晶39を用いた液晶装置1では、基板20、30間の中央に位置する液晶39の配向状態(長軸方向および長軸の傾き)によりコントラスト特性が方向性を示す。すなわち、図28に示すように液晶39を配向させたときは、図29(A)に示すように、この液晶装置1の3時−9時方向におけるコントラスト特性は、6時−12時を中心に左右対称の特性を示す。これに対して、図29(B)に示すように、この液晶装置1の6時−12時方向におけるコントラスト特性は、6時の方向においてコントラストが高い一方、それから外れると大幅に低下する。従って、12時の方向では著しくコントラストが低下する。このようなとき、6時の方向を明視方向といい、それとは反対の方向を逆明視方向という。   In the liquid crystal device 1 using the liquid crystal 39 twisted and aligned as described above, the contrast characteristic has a directivity depending on the alignment state (major axis direction and major axis tilt) of the liquid crystal 39 located at the center between the substrates 20 and 30. Show. That is, when the liquid crystal 39 is oriented as shown in FIG. 28, as shown in FIG. 29A, the contrast characteristic in the 3 o'clock and 9 o'clock directions of the liquid crystal device 1 is centered at 6 o'clock and 12 o'clock. Shows symmetrical characteristics. On the other hand, as shown in FIG. 29B, the contrast characteristic of the liquid crystal device 1 in the direction of 6 o'clock to 12 o'clock has a high contrast in the direction of 6 o'clock, but drops significantly when it deviates therefrom. Therefore, in the direction of 12 o'clock, the contrast is significantly reduced. In such a case, the direction at 6 o'clock is called the clear viewing direction, and the opposite direction is called the reverse clear viewing direction.

それ故、図30に示すように、液晶装置1に対しては明視方向からの光のみが入射し、逆明視方向からの光が入射しないようにすれば、コントラストの高い表示を行うことができるが、投射型表示装置などにおいては、光源から出射された光を導光系において平行光束にしているものの、それでも液晶装置1に対しては、法線方向に対して逆明視方向に斜めに傾いた方向から光が入射するのを防止することができない。その結果、従来の液晶装置1では、図27にそれぞれ示すように、対向基板30の側から入射した光のうち、逆明視方向に傾いた方向から入射した光も、明視方向に傾いた方向から入射した光と同様に、液晶39の層を透過した後、アクティブマトリクス基板20の第1の開口領域21から出射されてしまう。それ故、従来の液晶装置1を用いた投射型表示装置では、逆明視方向から入射した光も表示に関与するので、コントラストが低いという問題点がある。   Therefore, as shown in FIG. 30, if only light from the clear visual direction is incident on the liquid crystal device 1 and light from the reverse clear visual direction is not incident on the liquid crystal device 1, a display with high contrast can be performed. Although, in a projection display device or the like, the light emitted from the light source is converted into a parallel light beam in the light guide system, the liquid crystal device 1 is still directed in a direction opposite to the normal direction to the clear visual direction. It is impossible to prevent light from entering from an obliquely inclined direction. As a result, in the conventional liquid crystal device 1, as shown in FIG. 27, of the light incident from the counter substrate 30 side, the light incident from the direction inclined in the reverse clear viewing direction also inclined in the clear viewing direction. Similarly to the light incident from the direction, the light passes through the layer of the liquid crystal 39 and is emitted from the first opening region 21 of the active matrix substrate 20. Therefore, in the projection type display device using the conventional liquid crystal device 1, there is a problem that the contrast is low because the light incident from the reverse clear viewing direction is also involved in the display.

また、対向基板30に半球状のマイクロレンズを形成して、液晶装置に入射される光を増大させた構成では、明視方向側から入射する光量を増やすことができるが、逆明視方向側から入射する光量も多くなってしまう。このため、対向基板30にマイクロレンズを形成すると、コントラスト特性が低下する。   In a configuration in which a hemispherical microlens is formed on the counter substrate 30 to increase the light incident on the liquid crystal device, the amount of light incident from the clear viewing direction can be increased. The amount of light incident from the light source increases. For this reason, when micro lenses are formed on the counter substrate 30, the contrast characteristics are reduced.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、逆明視方向に傾いた方向から入射した光が表示に関与することを防止することにより、コントラスト特性を向上することのできる液晶装置、およびそれをライトバルブとして用いた投射型表示装置を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of improving contrast characteristics by preventing light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction from participating in display. An object of the present invention is to provide a projection type display device using the same as a light valve.

また、本発明の課題は、逆明視方向に傾いた方向から入射した光が表示に関与することを防止するとともに、光の利用効率を向上することのできる液晶装置、およびそれをライトバルブとして用いた投射型表示装置を提供することにある。   Further, an object of the present invention is to provide a liquid crystal device that can prevent light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction from participating in display and improve light use efficiency, and to use the liquid crystal device as a light valve. An object of the present invention is to provide a projection display device using the same.

上記課題を解決するため、本発明は、第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、前記マイクロレンズは、光入射側の面及び出射側の面は平面であり、さらに、前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射面側に形成された高屈折率層、および前記高屈折率層に接して形成された低屈折率層からなり、前記低屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて厚く、逆明視方向側に向けて薄くなると共に、前記高屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて薄く、逆明視方向側に向けて厚くなることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a liquid crystal having a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates. In the apparatus, one of the first and second substrates on which light is incident is provided with a microlens corresponding to a pixel, and the microlens has a plane on a light incident side and a plane on an emission side. Further, the microlens comprises a high refractive index layer formed on the light incident surface side of the one substrate, and a low refractive index layer formed in contact with the high refractive index layer; The refractive index layer is thicker from the pixel center side toward the clear viewing direction side and thinner toward the reverse clear viewing direction side, and the high refractive index layer is thinner from the pixel center side toward the clear viewing direction side, and It is characterized in that it becomes thicker toward the direction side.

また、本発明は、第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、前記マイクロレンズは、光入射側の面及び出射側の面は平面であり、さらに、前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射側に形成された低屈折率層、および前記低屈折率層に接して基板の光出射側に形成された高屈折率層からなり、前記高屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて薄く、逆明視方向側に向けて厚くなると共に、前記低屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて厚く、逆明視方向側に向けて薄くなることを特徴とする。   Further, according to the present invention, in a liquid crystal device including a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates, One of the first and second substrates to be incident is provided with a microlens corresponding to a pixel, and the microlens has a plane on a light incident side and a plane on an emission side, and further, The microlens comprises a low-refractive-index layer formed on the light-incident side of the one substrate, and a high-refractive-index layer formed on the light-exiting side of the substrate in contact with the low-refractive-index layer. The refractive index layer is thinner from the pixel center side toward the clear viewing direction side and thicker toward the reverse clear viewing direction side, and the low refractive index layer is thicker from the pixel center side toward the clear viewing direction side, and It is characterized in that it becomes thinner toward the direction side.

さらにまた、基板の光入射側に形成された中間屈折率層、当該基板の光出射側の明視方向側に形成された高屈折率層、および当該基板の光出射側で前記高屈折率層に対して逆明視方向側で隣接する低屈折率層のうち、前記高屈折率層および前記低屈折率層がそれぞれ画素中心側から明視方向側および逆明視方向側に向かって薄くなっているマイクロレンズを用いることができる。なお、本願明細書における「低屈折率層、中間屈折率層および高屈折率層」とは、各層の屈折率の相対的な大小関係が、低屈折率層<中間屈折率層<高屈折率層になっていることを意味する。   Furthermore, an intermediate refractive index layer formed on the light incident side of the substrate, a high refractive index layer formed on the light emitting side of the substrate in the clear viewing direction, and the high refractive index layer formed on the light emitting side of the substrate. The high refractive index layer and the low refractive index layer, which are adjacent to each other on the reverse clear viewing direction side, become thinner from the pixel center side toward the clear viewing direction side and the reverse clear viewing direction side, respectively. Microlenses can be used. In the specification of the present application, “low-refractive-index layer, intermediate-refractive-index layer, and high-refractive-index layer” means that the relative magnitude relation of the refractive index of each layer is as follows: low-refractive-index layer <intermediate-refractive-index layer <high-refractive-index layer. It means that it is in layers.

上記のいずれの構成を用いても、明視方向側からの光を多く入射させ、逆明視方向側からの光を少なく入射させることができるため、光の利用効率を高め、かつコントラスト特性の良好な表示を行うことができる。   With any of the above configurations, more light from the clear viewing direction side can be made incident, and less light from the reverse clear viewing direction side can be made incident, thereby increasing light use efficiency and improving contrast characteristics. Good display can be performed.

この場合に、前記第1および第2の基板の一方の基板上には各画素に対向する領域に凸部の形状を備え、且つ各画素の中心側に対向する領域に平坦面を備えたマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板と、前記マイクロレンズ基板上に接着剤を介して貼り合わされた薄板とを有し、前記マイクロレンズの平坦面は前記薄板に当接されてなることが好ましい。   In this case, on one of the first and second substrates, there is provided a microstructure having a convex shape in a region facing each pixel and a flat surface in a region facing the center side of each pixel. It is preferable that a microlens substrate having a lens and a thin plate bonded to the microlens substrate with an adhesive be provided, and that a flat surface of the microlens be in contact with the thin plate.

すなわち、前記一方の基板は、前記マイクロレンズが形成されたマイクロレンズ基板と、該マイクロレンズ基板に接着剤を介して貼り合わされた薄板とを有し、前記マイクロレンズは、前記画素の中心側に前記非レンズ領域を形成する平坦面をもつ凸形状を有し、前記マイクロレンズ基板と前記薄板とは、該薄板が前記平坦面に当接した状態で貼り合わされていることが好ましい。このような構成によれば、画素周辺領域の遮光膜あるいは配線等に向かう光を画素中心に向けることができるため、光の利用効率を高めることができるとともに逆明視方向側から入射する光を少なくできるのでコントラストの高い表示を行うことができる。   That is, the one substrate has a microlens substrate on which the microlens is formed, and a thin plate bonded to the microlens substrate with an adhesive, and the microlens is provided on the center side of the pixel. It is preferable that the microlens substrate and the thin plate have a convex shape having a flat surface forming the non-lens region, and the microlens substrate and the thin plate are bonded together in a state where the thin plate is in contact with the flat surface. According to such a configuration, it is possible to direct light toward the light-shielding film or the wiring or the like in the pixel peripheral region to the center of the pixel, so that it is possible to increase the light use efficiency and to reduce light incident from the reverse clear viewing direction. Since the number can be reduced, a display with high contrast can be performed.

また、画素中心領域は平坦面を有し、画素周辺領域だけにマイクロレンズが形成されているため、画素中心領域に入射される照射光は液晶の画素中心の1点で集光することなく、ある程度の広がりをもった状態で画素を通過することが可能である。従って、入射光が液晶に局部的に照射されるのを防ぐことができるので、液晶の寿命を延ばすことができる。さらに、画素中心領域の平坦面は接着剤を介して薄板に当接されるため、薄板とマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板とのギャップ制御を均一にすることが可能となる。それ故、マイクロレンズアレイ基板と薄板とを精度よく貼り合わせることができる。   Further, since the pixel central region has a flat surface and the microlens is formed only in the pixel peripheral region, the irradiation light incident on the pixel central region is not focused at one point at the pixel center of the liquid crystal, It is possible to pass through the pixel with a certain degree of spread. Therefore, it is possible to prevent the incident light from being locally applied to the liquid crystal, and it is possible to extend the life of the liquid crystal. Furthermore, since the flat surface of the pixel central region is in contact with the thin plate via the adhesive, the gap control between the thin plate and the microlens substrate provided with the microlens can be made uniform. Therefore, the microlens array substrate and the thin plate can be accurately bonded.

本発明において、前記第1の基板には、複数の走査線および複数のデータ線が形成されているとともに、前記画素電極は、画素スイッチング素子を介して前記走査線およびデータ線に接続していることがある。   In the present invention, a plurality of scanning lines and a plurality of data lines are formed on the first substrate, and the pixel electrodes are connected to the scanning lines and the data lines via pixel switching elements. Sometimes.

本発明において、前記一方の基板は、たとえば前記第2の基板である。この場合に、前記第1の基板には、複数の走査線および複数のデータ線が形成されているとともに、前記画素電極は、画素スイッチング素子を介して前記走査線およびデータ線に接続し、前記画素スイッチング素子は、前記画素において前記画素電極に対して明視方向側に形成されていることが好ましい。また、前記画素の各々では、該画素に対応する前記走査線および蓄積容量形成用の容量線が明視方向側に形成されていることが好ましい。   In the present invention, the one substrate is, for example, the second substrate. In this case, a plurality of scanning lines and a plurality of data lines are formed on the first substrate, and the pixel electrodes are connected to the scanning lines and the data lines via pixel switching elements. It is preferable that the pixel switching element is formed on the pixel in the clear viewing direction with respect to the pixel electrode. In each of the pixels, it is preferable that the scanning line and the capacitance line for forming a storage capacitor corresponding to the pixel are formed on the clear viewing direction side.

第1の基板において、開口領域は、基本的には、データ線、走査線および容量線によって区画された領域から画素スイッチング用素子の形成領域を除いた領域として構成されるので、画素スイッチング用素子が形成されている側ではその分だけ、光が遮断される領域が幅広に形成される。   In the first substrate, the opening region is basically configured as a region excluding a region for forming a pixel switching element from a region defined by a data line, a scanning line, and a capacitor line. On the side where is formed, the region where light is blocked is made wider by that much.

すなわち、画素スイッチング用素子が形成されている側ではその分だけ、光が通らない領域が広いことになるので、画素スイッチング素子が画素電極に対して明視方向側に形成されていれば、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を画素スイッチング素子を形成した領域を利用して遮ることができる。   That is, on the side where the pixel switching element is formed, the area through which light does not pass is widened by that much, so if the pixel switching element is formed on the clear viewing direction side with respect to the pixel electrode, the reverse occurs. Light incident from a direction inclined in the clear viewing direction can be blocked by using the region where the pixel switching element is formed.

また、スイッチング素子に加えて、走査線や容量線も明視方向側に形成すれば、逆明視方向に傾いた方向から入射した光がスイッチング素子、走査線、容量線を形成した領域を利用して遮ることができる。逆に、明視方向側から入射した光が遮光膜あるいは配線、画素スイッチング用素子等で遮られるのを防ぐことができるので、明視方向側から入射光の利用効率を高めることができる。   Also, in addition to the switching elements, if scanning lines and capacitance lines are formed on the clear viewing direction side, light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction uses the area where the switching elements, scanning lines, and capacitance lines are formed. Can be blocked. Conversely, light incident from the clear viewing direction side can be prevented from being blocked by the light-shielding film, the wiring, the pixel switching element, and the like, so that the efficiency of use of the incident light from the clear viewing direction side can be increased.

本発明を適用した液晶装置はコントラスト特性が高いので、投射型表示装置のライトバルブとして用いることが好ましい。すなわち、本発明に係る液晶装置を用いた投射型表示装置には、光源と、該光源から出射された光を前記液晶装置に導く集光光学系と、当該液晶装置で光変調した光を拡大投射する拡大投射光学系とを設ける。   Since a liquid crystal device to which the present invention is applied has high contrast characteristics, it is preferably used as a light valve of a projection display device. That is, a projection display device using the liquid crystal device according to the present invention includes a light source, a condensing optical system that guides light emitted from the light source to the liquid crystal device, and a light that is light-modulated by the liquid crystal device. And an enlarged projection optical system for projection.

本発明の投射型表示装置の液晶装置は、前記液晶装置の法線方向に対して光軸が明視方向側に傾いた光が前記液晶装置に入射されることが好ましい。このような構成によれば、明視方向側に傾いた光が基板に入射されるため、よりコントラストを高めることができる。   In the liquid crystal device of the projection display device according to the present invention, it is preferable that light whose optical axis is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device is incident on the liquid crystal device. According to such a configuration, since light inclined in the clear viewing direction is incident on the substrate, the contrast can be further increased.

このように投射型表示装置を構成した場合には、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾けることが好ましい。   When the projection display device is configured as described above, it is preferable that the optical axis of the light incident on the liquid crystal device is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device.

本発明において、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾けるにあたっては、たとえば、前記液晶装置を、当該液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置する。また、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾けるにあたっては、前記集光光学系に用いた集光レンズを、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置してもよい。さらに、前記集光光学系に用いた反射ミラーを、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置してもよい。すなわち、マイクロレンズあるいは液晶装置の内部構造だけでは、液晶に明視方向側からのみ光を入射させるという点で不十分であっても、このような不足分については、液晶装置の傾き、あるいは集光光学系の集光レンズ若しくは反射ミラーの傾きによって補ってもよい。   In the present invention, when the optical axis of light incident on the liquid crystal device is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device, for example, the liquid crystal device may be tilted toward the light beam incident on the liquid crystal device. The axes are arranged in an oblique posture in which the axes are inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device. Further, when the optical axis of the light incident on the liquid crystal device is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device, the condensing lens used for the condensing optical system is incident on the liquid crystal device. The liquid crystal device may be arranged in an oblique posture in which the optical axis of the light is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device. Further, the reflection mirror used in the light-collecting optical system may be disposed in an oblique posture in which the optical axis of light incident on the liquid crystal device is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal direction of the liquid crystal device. . In other words, even if the microlens or the internal structure of the liquid crystal device alone is not sufficient in that light is allowed to enter the liquid crystal only from the clear viewing direction, such a shortage is caused by tilting or collecting the liquid crystal device. The correction may be made by the inclination of the condenser lens or the reflection mirror of the optical optical system.

本発明において、投射型表示装置では前記液晶装置が複数枚用いられることがある。この場合には、該複数枚の液晶装置毎に、入射する光の光軸が液晶装置の法線方向に対して傾いている角度がそれぞれ最適な値に設定されていることが好ましい。   In the present invention, a plurality of liquid crystal devices may be used in a projection display device. In this case, it is preferable that the angle at which the optical axis of the incident light is inclined with respect to the normal direction of the liquid crystal device is set to an optimum value for each of the plurality of liquid crystal devices.

以上のとおり、本発明に係る液晶装置では、明視方向および逆明視方向に傾いた方向から入射した光のうち、逆明視方向に傾いた方向から入射した光が表示に寄与するのを抑えてあるので、コントラストの高い表示を行うことができる。それ故、投射型表示装置などにおいて、品位の高い画像を表示することができる。   As described above, in the liquid crystal device according to the present invention, of the light incident from the direction oblique to the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction, the light incident from the direction oblique to the reverse clear viewing direction contributes to display. Since it is suppressed, display with high contrast can be performed. Therefore, a high-quality image can be displayed on a projection display device or the like.

図面を参照して、本発明の各実施の形態を説明する。なお、以下に説明する各実施の形態に係る液晶装置は、先に説明した従来の液晶装置と基本的な構成が同一なので、共通する機能を有する部分には同じ符号を付して説明する。また、以下に各実施の形態を説明するが、各形態において共通する構成について先に説明しておく。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the liquid crystal device according to each embodiment described below has the same basic configuration as the above-described conventional liquid crystal device, and therefore, portions having common functions are denoted by the same reference numerals. In addition, each embodiment will be described below, and a configuration common to each embodiment will be described first.

[液晶装置の全体構成]
図1および図2はそれぞれ、本形態に係る液晶装置1を対向基板の側からみた平面図、および図1のH−H′線で切断したときの液晶装置1の断面図である。
[Overall configuration of liquid crystal device]
1 and 2 are a plan view of the liquid crystal device 1 according to the present embodiment as viewed from the counter substrate side and a cross-sectional view of the liquid crystal device 1 taken along the line HH 'in FIG.

図1および図2において、液晶装置1は、画素電極8がマトリクス状に形成されたアクティブマトリクス基板20と、対向電極32が形成された対向基板30と、これらのアクティブマトリクス基板20と、対向基板30間に封入、挟持されている液晶39とから概略構成されている。アクティブマトリクス基板20と対向基板30とは、対向基板30の外周縁に沿って形成されたギャップ材含有のシール材52によって所定の間隙を介して貼り合わされている。また、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間には、ギャップ材含有のシール材52によって液晶封入領域が区画形成され、この内側に液晶39が封入されている。シール材52としては、エポキシ樹脂や各種の紫外線硬化樹脂などを用いることができる。また、ギャップ材としては、約2μm〜約10μmの無機あるいは有機質のファイバ若しくは球を用いることができる。   1 and 2, the liquid crystal device 1 includes an active matrix substrate 20 on which pixel electrodes 8 are formed in a matrix, a counter substrate 30 on which a counter electrode 32 is formed, an active matrix substrate 20, The liquid crystal 39 is enclosed and sandwiched between the liquid crystal devices 30. The active matrix substrate 20 and the opposing substrate 30 are bonded together with a predetermined gap therebetween by a sealing material 52 containing a gap material formed along the outer peripheral edge of the opposing substrate 30. A liquid crystal sealing region is defined between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30 by a sealing material 52 containing a gap material, and a liquid crystal 39 is sealed inside the region. As the sealing material 52, an epoxy resin, various ultraviolet curable resins, or the like can be used. Further, as the gap material, an inorganic or organic fiber or sphere of about 2 μm to about 10 μm can be used.

対向基板30はアクティブマトリクス基板20よりも小さく、アクティブマトリクス基板20の周辺部分は、対向基板30の外周縁よりはみ出た状態に貼り合わされる。従って、アクティブマトリクス基板20の駆動回路(走査線駆動回路70やデータ線駆動回路60)や入出力端子45は対向基板30から露出した状態にある。ここで、シール材52は部分的に途切れて液晶注入口241が構成されている。対向基板30とアクティブマトリクス基板20とを貼り合わせた後、液晶注入口241から液晶39を液晶39を封入した後、液晶注入口241を封止剤242で塞ぐ。なお、対向基板30には、シール材52の内側において画像表示領域4を見切りするための表示見切り用の遮光膜55も形成されている。また、対向基板30のコーナー部のいずれにも、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間で電気的導通をとるための上下導通材56が形成されている。   The opposing substrate 30 is smaller than the active matrix substrate 20, and the peripheral portion of the active matrix substrate 20 is bonded so as to protrude from the outer peripheral edge of the opposing substrate 30. Therefore, the drive circuits (the scan line drive circuit 70 and the data line drive circuit 60) and the input / output terminals 45 of the active matrix substrate 20 are exposed from the counter substrate 30. Here, the sealing material 52 is partially interrupted to form a liquid crystal injection port 241. After the opposing substrate 30 and the active matrix substrate 20 are bonded to each other, the liquid crystal 39 is sealed from the liquid crystal injection port 241, and the liquid crystal injection port 241 is closed with a sealant 242. The opposing substrate 30 is also provided with a light-shielding film 55 for parting the display for cutting off the image display area 4 inside the sealant 52. In each of the corners of the counter substrate 30, a vertical conductive material 56 for establishing electrical connection between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30 is formed.

[アクティブマトリクス基板の構成]
図3は、液晶装置1の構成を模式的に示すブロック図、図4は、この液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板の画素領域の一部を抜き出して示す平面図(遮光膜の図示を省略してある。)、図5は、図4におけるA−A′線におけるアクティブマトリクス基板の断面図(遮光膜の図示を省略してある。)である。
[Configuration of active matrix substrate]
FIG. 3 is a block diagram schematically showing the configuration of the liquid crystal device 1, and FIG. 4 is a plan view showing a part of a pixel region of an active matrix substrate used in the liquid crystal device 1 (illustration of a light shielding film is omitted). FIG. 5 is a cross-sectional view of the active matrix substrate taken along the line AA 'in FIG. 4 (illustration of a light-shielding film is omitted).

図3において、液晶装置1の画像表示領域4を構成するマトリクス状に形成された複数の画素は、画素電極8および画素電極8を制御するための画素スイッチング素子としてのTFT10とからなり、画像信号が供給されるデータ線90は、このTFT10のソースに電気的接続されている。データ線90に書き込む画像信号S1、S2、…、Snが順次供給される。また、TFT10の走査線91を介してゲート電極にはパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmが、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9は、TFT10のドレインに電気的接続されており、TFT10を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線90から供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。画素電極8を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板30(図1などを参照)に形成された対向電極32(図1などを参照)との間で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極8と対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量40を付加する。なお、このように蓄積容量95を形成する方法としては、容量を形成するための配線である容量線92を設けても良いし、前段の走査線91との間で容量を形成しても良い。   In FIG. 3, a plurality of pixels formed in a matrix and constituting an image display area 4 of the liquid crystal device 1 are composed of a pixel electrode 8 and a TFT 10 as a pixel switching element for controlling the pixel electrode 8, and an image signal. Is electrically connected to the source of the TFT 10. Image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 90 are sequentially supplied. The scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the gate electrode of the TFT 10 in a line-sequential manner in this order via the scanning line 91. The pixel electrodes 9 are electrically connected to the drains of the TFTs 10. By closing the switches of the TFTs 10 for a certain period, the image signals S1, S2,..., Sn supplied from the data lines 90 are written at predetermined timings. . The image signals S1, S2,..., Sn of a predetermined level written in the liquid crystal via the pixel electrode 8 are connected to the counter electrode 32 (see FIG. 1 and the like) formed on the counter substrate 30 (see FIG. 1 and the like). For a certain period. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 40 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 8 and the counter electrode. As a method of forming the storage capacitor 95 in this manner, a capacitor line 92 which is a wiring for forming a capacitor may be provided, or a capacitor may be formed between the storage line 95 and a preceding scanning line 91. .

図4に示すように、いずれの画素においても、複数の透明な画素電極8がマトリクス状に形成されており、画素電極9の縦横の境界に沿って、データ線90、走査線91および容量線92が形成されている。データ線90は、ポリシリコン膜等の半導体層のうち、ソース領域16にコンタクトホールを介して電気的に接続している。画素電極8は、ドレイン領域17にコンタクトホールを介して電気的に接続している。また、チャネル領域15に対向するように走査線91が延びている。なお、蓄積容量40は、画素スイッチング用のTFT10を形成するためのシリコン膜10a(半導体膜/図4に斜線を付した領域)の延設部分に相当するシリコン膜40a(半導体膜/図4に斜線を付した領域)を導電化したものを下電極41とし、この下電極41に対して容量線92が上電極として重なった構造になっている。   As shown in FIG. 4, in each pixel, a plurality of transparent pixel electrodes 8 are formed in a matrix, and data lines 90, scanning lines 91, and capacitance lines are formed along the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrodes 9. 92 are formed. The data line 90 is electrically connected to the source region 16 of the semiconductor layer such as a polysilicon film via a contact hole. The pixel electrode 8 is electrically connected to the drain region 17 via a contact hole. The scanning line 91 extends so as to face the channel region 15. The storage capacitor 40 is a silicon film 40a (semiconductor film / FIG. 4) corresponding to an extended portion of the silicon film 10a (semiconductor film / region shaded in FIG. 4) for forming the pixel switching TFT 10. A region in which the conductive region is shaded is defined as a lower electrode 41, and a capacitance line 92 overlaps the lower electrode 41 as an upper electrode.

このように構成した画素領域のA−A′線における断面は、基本的には図5に示すように表される。まず、アクティブマトリクス基板2の表面には下地絶縁膜201の上に島状のシリコン膜10a、40aが形成されている。また、シリコン膜10aの表面にはゲート絶縁膜13が形成され、このゲート絶縁膜13の上に走査線91(ゲート電極)が形成されている。シリコン膜10aのうち、走査線91に対してゲート絶縁膜13を介して対峙する領域がチャネル領域15になっている。このチャネル領域15に対して一方側には、低濃度ソース領域161および高濃度ソース領域162を備えるソース領域16が形成され、他方側には低濃度ドレイン領域171および高濃度ドレイン領域172を備えるドレイン領域17が形成されている。このように構成された画素スイッチング用のTFT10の表面側には、第1層間絶縁膜18および第2層間絶縁膜19が形成され、第1層間絶縁膜18の表面に形成されたデータ線90は、第1層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ソース領域162に電気的に接続している。また、画素電極8は、第1層間絶縁膜18および第2層間絶縁膜19に形成されたコンタクトホールを介して高濃度ドレイン領域162に電気的に接続している。また、高濃度ドレイン領域172から延設されたシリコン膜40aには低濃度領域からなる下電極41が形成され、この下電極41に対しては、ゲート絶縁膜13と同時形成された絶縁膜(誘電体膜)を介して容量線92が対向している。このようにして蓄積容量40が形成されている。   A cross section taken along line AA ′ of the pixel region thus configured is basically represented as shown in FIG. First, on the surface of the active matrix substrate 2, island-shaped silicon films 10a and 40a are formed on a base insulating film 201. A gate insulating film 13 is formed on the surface of the silicon film 10a, and a scanning line 91 (gate electrode) is formed on the gate insulating film 13. In the silicon film 10a, a region facing the scanning line 91 via the gate insulating film 13 is a channel region 15. A source region 16 having a low-concentration source region 161 and a high-concentration source region 162 is formed on one side of the channel region 15, and a drain region having a low-concentration drain region 171 and a high-concentration drain region 172 is formed on the other side. A region 17 is formed. A first interlayer insulating film 18 and a second interlayer insulating film 19 are formed on the surface side of the pixel switching TFT 10 configured as described above. The data line 90 formed on the surface of the first interlayer insulating film 18 is , Is electrically connected to the high-concentration source region 162 via a contact hole formed in the first interlayer insulating film 18. Further, the pixel electrode 8 is electrically connected to the high-concentration drain region 162 via contact holes formed in the first interlayer insulating film 18 and the second interlayer insulating film 19. A lower electrode 41 made of a low-concentration region is formed on the silicon film 40 a extending from the high-concentration drain region 172, and an insulating film (formed simultaneously with the gate insulating film 13) is formed on the lower electrode 41. The capacitance lines 92 face each other via a dielectric film). Thus, the storage capacitor 40 is formed.

ここで、TFT10は、好ましくは上述のようにLDD構造をもつが、オフセット構造であってもよいし、走査線91をマスクとして高濃度で不純物イオンを打ち込み自己整合的に高濃度ソースおよびドレイン領域を形成したセルフアライン型のTFTであってもよい。   Here, the TFT 10 preferably has the LDD structure as described above, but may have an offset structure. Alternatively, the impurity ions may be implanted at a high concentration using the scanning line 91 as a mask, and the high-concentration source and drain regions may be self-aligned. May be a self-aligned TFT.

[実施の形態1]
図6は、本発明の実施の形態1に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。図7および図8はそれぞれ、液晶装置1のアクティブマトリクス基板20に形成した第1の遮光膜6と、対向基板30に形成した第2の遮光膜7との位置関係を示す平面図および説明図である。なお、図6に示す断面は、図7および図8のB−B′線における断面に相当する。
[Embodiment 1]
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 1 of the present invention. 7 and 8 are a plan view and an explanatory view showing the positional relationship between the first light-shielding film 6 formed on the active matrix substrate 20 of the liquid crystal device 1 and the second light-shielding film 7 formed on the counter substrate 30. It is. The cross section shown in FIG. 6 corresponds to the cross section taken along line BB ′ in FIGS. 7 and 8.

図6に示すように、本実施形態の液晶装置1において、アクティブマトリクス基板20の側には、下地保護膜201の下層側にクロムなどの金属膜からなる第1の遮光膜6が形成され、この第1の遮光膜6は、図7に左下がりの斜線領域として示すように、隣接する画素電極8の間に相当する領域にマトリクス状に形成されている。このため、第1の遮光膜6は、図4を参照して説明したデータ線90、走査線91、容量線92、TFT10および蓄積容量40と平面的に重なる領域に形成され、かつ、この第1の遮光膜6によってアクティブマトリクス基板20の各画素には第1の開口領域21が区画形成されている。
また、対向基板30の側には、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向するようにクロムなどの金属膜からなる第2の遮光膜7がマトリクス状に形成され、この第2の遮光膜7によって第2の開口領域31が形成されている。この第2の遮光膜7の形成領域は、図7に右下がりの斜線領域として示してある。さらに、対向基板30の側には、対向電極32および配向膜47が形成されている。
As shown in FIG. 6, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, a first light-shielding film 6 made of a metal film such as chromium is formed below the base protective film 201 on the active matrix substrate 20 side, The first light-shielding film 6 is formed in a matrix in a region corresponding to a region between adjacent pixel electrodes 8 as shown as a hatched region on the lower left in FIG. For this reason, the first light-shielding film 6 is formed in a region that overlaps the data line 90, the scanning line 91, the capacitance line 92, the TFT 10, and the storage capacitor 40 described with reference to FIG. The first light-shielding film 6 defines a first opening region 21 in each pixel of the active matrix substrate 20.
A second light-shielding film 7 made of a metal film such as chromium is formed in a matrix on the side of the counter substrate 30 so as to face the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20. The light-shielding film 7 forms a second opening region 31. The formation region of the second light-shielding film 7 is shown in FIG. Further, the counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed on the side of the counter substrate 30.

このように構成した対向基板30およびアクティブマトリクス基板20については、それぞれ互いに直交する方向にラビング処理が施された後、所定の隙間を介して貼り合わされ、しかる後に、この隙間内に液晶39が封入される。その結果、液晶39は、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間で90°に捩じれ配向した状態になる。従って、液晶装置1には、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じ、逆明視方向に傾いた方向から液晶装置1に入射した光が表示に関与すると、コントラストを低下させる。ここに示す例では、各画素において、画素電極8に対して画素スイッチング用のTFT10が位置する方(図面下側)明視方向になっており、それとは反対側(図面上側)が逆明視方向になっている。   The counter substrate 30 and the active matrix substrate 20 configured as described above are each subjected to rubbing processing in a direction orthogonal to each other, and then bonded through a predetermined gap. Thereafter, the liquid crystal 39 is sealed in the gap. Is done. As a result, the liquid crystal 39 is twisted and oriented at 90 ° between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30. Therefore, in the liquid crystal device 1, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated according to the alignment state of the liquid crystal 39, and when light incident on the liquid crystal device 1 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction participates in display, Decrease contrast. In the example shown here, in each pixel, the direction in which the pixel switching TFT 10 is located with respect to the pixel electrode 8 (the lower side in the drawing) is in the clear viewing direction, and the opposite side (the upper side in the drawing) is the opposite clear viewing direction. Direction.

そこで、本形態では、図7および図8に示すように、第1および第2の遮光膜6、7のうち、光が入射する対向基板30(一方の基板)の側に形成されている第2の遮光膜7が、光が出射するアクティブマトリクス基板20(他方の基板)の側に形成されている第1の開口領域21に対して明視方向側と比較して逆明視方向側で幅広に重なるように形成されている。このため、対向基板30の側に形成された第2の開口領域31の中心位置311は、アクティブマトリクス基板20の側に形成された第1の開口領域21の中心位置211に対して明視方向側にずれている。すなわち、各画素において、第2の遮光膜7の縁は、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側(明視方向の側)では第1の遮光膜6の縁と略重なっているので、第2の遮光膜7と第1の開口領域21とは明視方向の側でほとんど重なっていないが、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側と反対側(逆明視方向の側)において、第2の遮光膜7の縁は、第1の遮光膜6の縁よりも第1の開口領域21の方に幅Lに相当する分だけ、張り出している。また、容量線と走査線も明視方向側に形成されている。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIGS. 7 and 8, of the first and second light-shielding films 6 and 7, the first and second light-shielding films 6 and 7 are formed on the side of the opposing substrate 30 (one substrate) on which light is incident. The second light-shielding film 7 has a first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20 (the other substrate) from which light is emitted, on the reverse clear viewing direction side compared to the clear viewing direction side. It is formed so as to overlap widely. For this reason, the center position 311 of the second opening region 31 formed on the side of the counter substrate 30 is in the clear viewing direction with respect to the center position 211 of the first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20. It is off to the side. That is, in each pixel, the edge of the second light-shielding film 7 substantially overlaps with the edge of the first light-shielding film 6 on the side where the pixel switching TFT 10 is formed (the side in the clear viewing direction). The second light-shielding film 7 and the first opening region 21 hardly overlap each other in the clear viewing direction, but on the side opposite to the side on which the pixel switching TFTs 10 are formed (the side in the reverse clear viewing direction). The edge of the second light-shielding film 7 extends toward the first opening region 21 more than the edge of the first light-shielding film 6 by an amount corresponding to the width L. Further, the capacitance lines and the scanning lines are also formed on the clear viewing direction side.

このため、本形態の液晶装置1においては、図6および図8に示すように、対向基板30の側から入射した光のうち、明視方向に傾いた方向から入射した光はアクティブマトリクス基板20の第1の開口領域21から出射され、表示に関与するが、逆明視方向に傾いた方向から対向基板30に入射した光は、アクティブマトリクス基板20に対して第1の開口領域21からずれた位置に照射され、各画素において明視方向に位置する部分の第1の遮光膜6によって遮られる、アクティブマトリクス基板20から出射されるのを防ぐことができる。それ故、対向基板30側から入射する光に明視方向および逆明視方向に傾いた光が含まれていたとしても、コントラストを低下させる原因となる逆明視方向に傾いた光は、アクティブマトリクス基板20から出射されるのを抑えることができるので、表示に関与しない。よって、本発明を適用した液晶装置1によれば、コントラストの高い表示を行うことができる。   For this reason, in the liquid crystal device 1 of this embodiment, as shown in FIGS. 6 and 8, of the light incident from the counter substrate 30 side, the light incident from the direction inclined in the clear viewing direction is the active matrix substrate 20. The light emitted from the first opening area 21 and involved in display, but incident on the counter substrate 30 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is shifted from the first opening area 21 with respect to the active matrix substrate 20. Of the active matrix substrate 20, which is blocked by the first light-shielding film 6 in a portion of each pixel located in the clear viewing direction in each pixel, can be prevented. Therefore, even if the light incident from the counter substrate 30 includes light tilted in the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction, the light tilted in the reverse clear viewing direction that causes a decrease in contrast is active. Since emission from the matrix substrate 20 can be suppressed, it is not involved in display. Therefore, according to the liquid crystal device 1 to which the present invention is applied, a display with high contrast can be performed.

また、本形態の液晶装置1では、各画素において、画素スイッチング用のTFT10が画素電極8に対して明視方向側に形成されているので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を効果的に遮ることができる。すなわち、アクティブマトリクス基板20において、第1の開口領域21は、基本的には、データ線90、走査線91および容量線92によって矩形に区画された領域から画素スイッチング用のTFT10および蓄積容量40の形成領域を除いた領域として構成されるので、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、第1の遮光膜6が張り出している。このため、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、光が通らない領域が広いことになるので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を画素スイッチング用のTFT10を形成した領域を利用して遮ることができる。   Further, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, in each pixel, the pixel switching TFT 10 is formed on the clear viewing direction side with respect to the pixel electrode 8, so that light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is emitted. Can be effectively blocked. That is, in the active matrix substrate 20, the first opening region 21 is basically formed from a region rectangularly defined by the data line 90, the scanning line 91, and the capacitance line 92 from the pixel switching TFT 10 and the storage capacitance 40. Since it is configured as a region excluding the formation region, the first light shielding film 6 protrudes by that amount on the side where the pixel switching TFT 10 is formed. For this reason, on the side where the pixel switching TFT 10 is formed, the area through which light does not pass is widened by that much, so that light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is transmitted to the pixel switching TFT 10. Blocking can be performed using the formed area.

なお、本実施形態において、後述する実施の形態3ないし実施の形態8と同様に、対向基板30にマイクロレンズを設けてもよい。この場合、マイクロレンズの光学中心位置を対向基板30の開口領域21の中心位置211に一致させれば、光の利用効率が高められるため、コントラストの良い表示が可能となる。これに対して、マイクロレンズの光学中心位置を開口領域21の中心位置211から明視方向側にずらし、好ましくは開口領域31の中心位置311にほぼ一致するようにすれば、コントラストの良い表示を行うことができるとともに、逆明視方向側からの光の入射を防ぐために効果的である。   In the present embodiment, a microlens may be provided on the counter substrate 30 as in Embodiments 3 to 8 described later. In this case, if the optical center position of the microlens is made to coincide with the center position 211 of the opening region 21 of the counter substrate 30, the light use efficiency is improved, and a display with good contrast is possible. On the other hand, if the optical center position of the microlens is shifted from the center position 211 of the opening area 21 toward the clear viewing direction and preferably substantially coincides with the center position 311 of the opening area 31, a display with good contrast can be obtained. In addition to this, it is effective for preventing light from entering from the reverse clear vision direction side.

なお、対向基板30の側に形成された第2の開口領域31の中心位置311を、アクティブマトリクス基板20の側に形成された第1の開口領域21の中心位置211に対して明視方向側にずらすにあたっては、実施の形態1のように、対向基板30の側に形成されている第2の遮光膜7が、アクティブマトリクス基板20の側に形成されている第1の開口領域21に対して明視方向側と比較して逆明視方向側で幅広に重なっている構成の他、アクティブマトリクス基板20の側に形成されている第1の遮光膜6が、対向基板30の側に形成されている第2の開口領域31に対して逆明視方向側と比較して明視方向側で幅広に重なっている構成、あるいは、以下に説明する実施の形態2のように、これらの構成を組み合わせた構成であってもよい。   Note that the center position 311 of the second opening region 31 formed on the side of the counter substrate 30 is positioned on the side in the clear viewing direction with respect to the center position 211 of the first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20. In the case of the first embodiment, the second light-shielding film 7 formed on the side of the counter substrate 30 is different from the first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20 as in the first embodiment. The first light-shielding film 6 formed on the side of the active matrix substrate 20 is formed on the side of the opposing substrate 30 in addition to the configuration in which the first light-shielding film 6 is wider on the side of the opposite clear view than on the side of the clear visual direction. A configuration in which the second opening region 31 is overlapped with the second opening region 31 in the clear viewing direction side wider than in the reverse clear viewing direction side, or these configurations as in a second embodiment described below. Even if the configuration is a combination of There.

[実施の形態2]
図9は、本発明の実施の形態2に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。図10および図11はそれぞれ、液晶装置1のアクティブマトリクス基板20に形成した第1の遮光膜6と、対向基板30に形成した第2の遮光膜7との位置関係を示す平面図および説明図である。なお、図9に示す断面は、図10および図11のB−B′線における断面に相当する。
[Embodiment 2]
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 2 of the present invention. FIGS. 10 and 11 are a plan view and an explanatory view, respectively, showing the positional relationship between the first light-shielding film 6 formed on the active matrix substrate 20 of the liquid crystal device 1 and the second light-shielding film 7 formed on the counter substrate 30. It is. The cross section shown in FIG. 9 corresponds to the cross section taken along the line BB 'in FIGS.

図9において、本形態の液晶装置1は、基本的な構成が実施の形態1と同様であるので、異なる点のみ詳述する。本実施の形態では、下地保護膜201の下層側に第1の遮光膜6が形成され、この第1の遮光膜6は、図10に左下がりの斜線領域として示すように、隣接する画素電極8の間に相当する領域にマトリクス状に形成されている。このため、第1の遮光膜6は、図4を参照して説明したデータ線90、走査線91、容量線92、TFT10および蓄積容量40と平面的に重なる領域に形成され、かつ、この第1の遮光膜6によってアクティブマトリクス基板20の各画素には第1の開口領域21が区画形成されている。   In FIG. 9, the liquid crystal device 1 of the present embodiment has the same basic configuration as that of the first embodiment, and thus only different points will be described in detail. In the present embodiment, a first light-shielding film 6 is formed below the base protective film 201, and the first light-shielding film 6 is adjacent to the adjacent pixel electrode as shown in FIG. 8 are formed in a matrix in a region corresponding to the area between the two. For this reason, the first light-shielding film 6 is formed in a region that overlaps the data line 90, the scanning line 91, the capacitance line 92, the TFT 10, and the storage capacitor 40 described with reference to FIG. The first light-shielding film 6 defines a first opening region 21 in each pixel of the active matrix substrate 20.

また、対向基板30の側には、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向するように第2の遮光膜7がマトリクス状に形成され、この第2の遮光膜7によって第2の開口領域31が形成されている。この第2の遮光膜7の形成領域は、図10に右下がりの斜線領域として示してある。さらに、対向基板30の側には、対向電極32および配向膜47が形成されている。
このように構成した対向基板30およびアクティブマトリクス基板20間において、液晶39は捩じれ配向した状態にある。従って、液晶装置1には、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じ、逆明視方向に傾いた方向から液晶装置1に入射した光が表示に関与すると、コントラストを低下させる。ここに示す例においても、各画素において、画素電極8に対して画素スイッチング用のTFT10が位置する方が明視方向になっており、それとは反対側が逆明視方向になっている。
On the side of the opposing substrate 30, a second light-shielding film 7 is formed in a matrix so as to face the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20, and a second light-shielding film 7 is formed by the second light-shielding film 7. An opening region 31 is formed. The formation region of the second light-shielding film 7 is shown in FIG. Further, the counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed on the side of the counter substrate 30.
The liquid crystal 39 is in a twisted state between the opposing substrate 30 and the active matrix substrate 20 configured as described above. Therefore, in the liquid crystal device 1, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated according to the alignment state of the liquid crystal 39, and when light incident on the liquid crystal device 1 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction participates in display, Decrease contrast. Also in the example shown here, in each pixel, the direction in which the pixel switching TFT 10 is located with respect to the pixel electrode 8 is the clear viewing direction, and the opposite side is the reverse clear viewing direction.

そこで、本形態では、まず、実施の形態1と同様、各画素において、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側と反対側(逆明視方向の側)では、対向基板30に形成されている第2の遮光膜7の縁が、第1の遮光膜6の縁よりも画素内側に向かって幅L1に相当する分だけ、張り出している。このため、対向基板30の側に形成されている第2の遮光膜7は、光が出射するアクティブマトリクス基板20の側に形成されている第1の開口領域21に対して明視方向側と比較して逆明視方向側で幅広に重なっている。
また、本形態では、各画素において、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側では、アクティブマトリクス基板20に形成されている第1の遮光膜6の縁が、第2の遮光膜7の縁よりも画素内側に向かって幅L2に相当する分だけ、張り出している。このため、アクティブマトリクス基板20の側に形成されている第1の遮光膜6は、対向基板30の側に形成されている第2の開口領域31に対して逆明視方向側と比較して明視方向側で幅広に重なっている。
Therefore, in the present embodiment, similarly to the first embodiment, in each pixel, on the side opposite to the side where the pixel switching TFT 10 is formed (the side in the reverse clear viewing direction), the pixel is formed on the counter substrate 30. The edge of the second light-shielding film 7 extends toward the inside of the pixel from the edge of the first light-shielding film 6 by an amount corresponding to the width L1. For this reason, the second light-shielding film 7 formed on the side of the counter substrate 30 is located on the side of the clear viewing direction with respect to the first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20 from which light is emitted. In comparison, they are broadly overlapped in the reverse clear vision direction.
In this embodiment, the edge of the first light-shielding film 6 formed on the active matrix substrate 20 corresponds to the edge of the second light-shielding film 7 on the side where the pixel switching TFT 10 is formed in each pixel. Overhangs by an amount corresponding to the width L2 toward the inside of the pixel. For this reason, the first light-shielding film 6 formed on the active matrix substrate 20 side is compared with the second opening region 31 formed on the counter substrate 30 side as compared with the reverse clear viewing direction side. Widely overlaps in the clear vision direction.

従って、本形態の液晶装置1において、第1および第2の開口領域21、31のうち、光が入射する対向基板30の側に形成された第2の開口領域31の中心位置311は、光が出射するアクティブマトリクス基板20の側に形成された第1の開口領域21の中心位置211に対して明視方向側にずれている。
このため、本形態の液晶装置1においては、図9および図11に示すように、対向基板30の側から入射した光のうち、明視方向に傾いた方向から入射した光はアクティブマトリクス基板20の第1の開口領域21から出射され、表示に関与するが、逆明視方向に傾いた方向から対向基板30に入射した光は、アクティブマトリクス基板20に対して第1の開口領域21からずれた位置に照射され、各画素において明視方向に位置する部分の第1の遮光膜6によって遮られるので、アクティブマトリクス基板20から出射されない。それ故、対向基板30側から入射する光に明視方向および逆明視方向に傾いた光が含まれていたとしても、コントラストを低下させる原因となる逆明視方向に傾いた光は、アクティブマトリクス基板20から出射されないので、表示に関与しない。よって、本発明を適用した液晶装置1によれば、コントラストの高い表示を行うことができる。
Therefore, in the liquid crystal device 1 according to the present embodiment, the center position 311 of the second opening region 31 formed on the side of the counter substrate 30 on which light is incident among the first and second opening regions 21 and 31 is light. Are shifted to the clear viewing direction side with respect to the center position 211 of the first opening region 21 formed on the side of the active matrix substrate 20 from which the light exits.
Therefore, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, as shown in FIGS. 9 and 11, of the light incident from the counter substrate 30 side, the light incident from the direction inclined in the clear viewing direction is the active matrix substrate 20. The light emitted from the first opening area 21 and involved in display, but incident on the counter substrate 30 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is shifted from the first opening area 21 with respect to the active matrix substrate 20. The light is radiated to the position, and is blocked by the first light-shielding film 6 in the portion located in the clear viewing direction in each pixel, so that the light is not emitted from the active matrix substrate 20. Therefore, even if the light incident from the counter substrate 30 includes light tilted in the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction, the light tilted in the reverse clear viewing direction that causes a decrease in contrast is active. Since the light is not emitted from the matrix substrate 20, it does not participate in the display. Therefore, according to the liquid crystal device 1 to which the present invention is applied, a display with high contrast can be performed.

また、本形態の液晶装置1でも、各画素において、画素スイッチング用のTFT10が画素電極8に対して明視方向側に形成されているので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を効果的に遮ることができる。すなわち、アクティブマトリクス基板20において、第1の開口領域21は、基本的には、データ線90、走査線91および容量線92によって矩形に区画された領域から画素スイッチング用のTFT10および蓄積容量40の形成領域を除いた領域として構成されるので、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、第1の遮光膜6が張り出している。このため、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、光が通らない領域が広いことになるので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を画素スイッチング用のTFT10を形成した領域を利用して遮ることができる。   Also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, in each pixel, the pixel switching TFT 10 is formed on the clear viewing direction side with respect to the pixel electrode 8, so that the light incident from the direction inclined in the reverse clear viewing direction. Can be effectively blocked. That is, in the active matrix substrate 20, the first opening region 21 is basically formed from a region rectangularly defined by the data line 90, the scanning line 91, and the capacitance line 92 from the pixel switching TFT 10 and the storage capacitance 40. Since it is configured as a region excluding the formation region, the first light shielding film 6 protrudes by that amount on the side where the pixel switching TFT 10 is formed. For this reason, on the side where the pixel switching TFT 10 is formed, the area through which light does not pass is widened by that much, so that light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is transmitted to the pixel switching TFT 10. Blocking can be performed using the formed area.

[実施の形態3]
図12は、本発明の実施の形態3に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。図13および図14はそれぞれ、この液晶装置1の対向基板30に形成したマイクロレンズと、アクティブマトリクス基板20に形成した画素電極8との位置関係を示す平面図および説明図である。なお、図12に示す断面は、図13および図14のB−B′線における断面に相当する。
[Embodiment 3]
FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 3 of the present invention. FIGS. 13 and 14 are a plan view and an explanatory view, respectively, showing the positional relationship between the microlenses formed on the opposing substrate 30 of the liquid crystal device 1 and the pixel electrodes 8 formed on the active matrix substrate 20. The cross section shown in FIG. 12 corresponds to the cross section taken along line BB ′ in FIGS.

図12において、本形態の液晶装置1では、アクティブマトリクス基板20上には、下地保護膜201の下層側にクロムなどの金属膜からなる第1の遮光膜6が形成され、この第1の遮光膜6は、図13に左下がりの斜線領域として示すように、隣接する画素電極8の間に相当する領域にマトリクス状に形成されている。このため、第1の遮光膜6は、図4および図5を参照して説明したデータ線90、走査線91、容量線92、TFT10および蓄積容量40と平面的に重なる領域に形成され、かつ、この第1の遮光膜6によってアクティブマトリクス基板20の各画素には第1の開口領域21がマトリクス状に区画形成されている。   In FIG. 12, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, a first light-shielding film 6 made of a metal film such as chromium is formed on the active matrix substrate 20 below the base protective film 201, and this first light-shielding film 6 is formed. The film 6 is formed in a matrix in a region corresponding to a region between the adjacent pixel electrodes 8 as shown by a hatched region falling left in FIG. Therefore, the first light-shielding film 6 is formed in a region that planarly overlaps the data line 90, the scanning line 91, the capacitor line 92, the TFT 10, and the storage capacitor 40 described with reference to FIGS. The first light-shielding film 6 defines a first opening region 21 in each pixel of the active matrix substrate 20 in a matrix.

また、対向基板30の側には、図13に右下がりの斜線領域として示すように、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向するように第2の遮光膜7がマトリクス状に形成され、この第2の遮光膜7によって第2の開口領域31がマトリクス状に区画形成されている。また、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。このような構造の対向基板30は、たとえば、マイクロレンズ41が形成されたレンズアレイ基板40に対して接着剤48によって薄板ガラス49を貼り合わせ、この薄板ガラス49に対して第2の遮光膜7、透明な対向電極32、および配向膜47を形成することにより製造できる。   Further, on the side of the counter substrate 30, a second light-shielding film 7 is formed in a matrix so as to face the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20, as shown by a hatched area falling to the right in FIG. The second light-shielding film 7 defines the second opening region 31 in a matrix. Further, the microlenses 41 (microlenses) are formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. In the counter substrate 30 having such a structure, for example, a thin glass 49 is adhered to the lens array substrate 40 on which the microlenses 41 are formed with an adhesive 48, and the second light shielding film 7 is attached to the thin glass 49. And the transparent counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed.

このように構成した対向基板30およびアクティブマトリクス基板20については、それぞれ互いに直交する方向にラビング処理が施された後、所定の隙間を介して貼り合わされ、しかる後に、この隙間内に液晶39が封入される。その結果、液晶39は、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間で90°に捩じれ配向した状態になる。従って、液晶装置1には、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じ、逆明視方向に傾いた方向から液晶装置1に入射した光が表示に関与すると、コントラストを低下させる。ここに示す例では、各画素において、画素電極8に対して画素スイッチング用のTFT10が位置する方(図面下側)明視方向になっており、それとは反対側(図面上側)が逆明視方向になっている。   The counter substrate 30 and the active matrix substrate 20 configured as described above are each subjected to rubbing processing in a direction orthogonal to each other, and then bonded through a predetermined gap. Thereafter, the liquid crystal 39 is sealed in the gap. Is done. As a result, the liquid crystal 39 is twisted and oriented at 90 ° between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30. Therefore, in the liquid crystal device 1, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated according to the alignment state of the liquid crystal 39, and when light incident on the liquid crystal device 1 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction participates in display, Decrease contrast. In the example shown here, in each pixel, the direction in which the pixel switching TFT 10 is located with respect to the pixel electrode 8 (the lower side in the drawing) is in the clear viewing direction, and the opposite side (the upper side in the drawing) is the opposite clear viewing direction. Direction.

そこで、本形態では、図12、図13および図14に示すように、対向基板30に形成したマイクロレンズ41の焦点位置411をアクティブマトリクス基板20の第1の開口領域21の中心位置に対して、明視方向側にずらしてある。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIGS. 12, 13 and 14, the focal position 411 of the microlens 41 formed on the counter substrate 30 is set with respect to the center position of the first opening region 21 of the active matrix substrate 20. , Shifted toward the clear vision direction.

このため、本形態の液晶装置1においては、図12および図14に示すように、対向基板30の側から入射した光のうち、明視方向側に傾いた方向から入射した光は、マイクロレンズ41で屈折してもアクティブマトリクス基板20の第1の開口領域21から出射され、表示に関与する。これに対して、逆明視方向側に傾いた方向から対向基板30に入射した光は、マイクロレンズ41で屈折した後、アクティブマトリクス基板20に対しては第1の開口領域21からずれた位置に照射され、各画素において明視方向側に位置する第1の遮光膜6によって遮られるので、アクティブマトリクス基板20から出射されるのを抑えることができる。それ故、対向基板30側から入射する光に明視方向および逆明視方向に傾いた光が含まれていたとしても、コントラストを低下させる原因となる逆明視方向に傾いた光は、アクティブマトリクス基板20から出射されるのを抑えることができるので、表示に関与しない。よって、本発明を適用した液晶装置1によれば、コントラストの高い表示を行うことができる。   Therefore, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, as shown in FIGS. 12 and 14, of the light incident from the counter substrate 30 side, the light incident from the direction inclined toward the clear viewing direction is a micro lens. Even if the light is refracted at 41, it is emitted from the first opening region 21 of the active matrix substrate 20 and participates in display. On the other hand, light incident on the counter substrate 30 from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is refracted by the microlens 41 and then shifted from the first opening region 21 with respect to the active matrix substrate 20. , And is blocked by the first light shielding film 6 located on the clear viewing direction side in each pixel, so that emission from the active matrix substrate 20 can be suppressed. Therefore, even if the light incident from the counter substrate 30 includes light tilted in the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction, the light tilted in the reverse clear viewing direction that causes a decrease in contrast is active. Since emission from the matrix substrate 20 can be suppressed, it is not involved in display. Therefore, according to the liquid crystal device 1 to which the present invention is applied, a display with high contrast can be performed.

また、本形態の液晶装置1では、各画素において、画素スイッチング用のTFT10が画素電極8に対して明視方向側に形成されているので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を効果的に遮ることができる。すなわち、アクティブマトリクス基板20において、第1の開口領域21は、基本的には、データ線90、走査線91および容量線92によって矩形に区画された領域から画素スイッチング用のTFT10および蓄積容量40の形成領域を除いた領域として構成されるので、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、第1の遮光膜6が張り出している。このため、画素スイッチング用のTFT10が形成されている側ではその分だけ、光が通らない領域が広いことになるので、逆明視方向に傾いた方向から入射した光を画素スイッチング用のTFT10を形成した領域を利用して遮ることができる。   Further, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, in each pixel, the pixel switching TFT 10 is formed on the clear viewing direction side with respect to the pixel electrode 8, so that light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is emitted. Can be effectively blocked. That is, in the active matrix substrate 20, the first opening region 21 is basically formed from a region rectangularly defined by the data line 90, the scanning line 91, and the capacitance line 92 from the pixel switching TFT 10 and the storage capacitance 40. Since it is configured as a region excluding the formation region, the first light shielding film 6 protrudes by that amount on the side where the pixel switching TFT 10 is formed. For this reason, on the side where the pixel switching TFT 10 is formed, the area through which light does not pass is widened by that much, so that light incident from a direction inclined in the reverse clear viewing direction is transmitted to the pixel switching TFT 10. Blocking can be performed using the formed area.

本実施形態では、対向基板30側にマイクロレンズを形成する場合を説明したが、アクティブマトリクス基板20の各画素に対応してマイクロレンズを設けてもよい。また、対向基板30とアクティブマトリクス基板20の両方にマイクロレンズを設けても良い。その場合、アクティブマトリクス基板20に形成するマイクロレンズは液晶装置に明視方向側から傾いて入射された光を平行光、あるいは拡散光とすることが可能となるため、画素の光の開口率を実質的に高めることができる。また用途に応じて拡大させたり、収束させたりしてもかまわない。また、対向基板30に形成するマイクロレンズの光学的中心位置を明視方向側にずらし、さらにアクティブマトリクス基板に形成するマイクロレンズの光学的中心位置を明視方向側にずらし、互いの焦点位置を一致させるようにすれば、光の利用効率を高めることができる。   In the present embodiment, the case where the microlens is formed on the counter substrate 30 side has been described. However, a microlens may be provided corresponding to each pixel of the active matrix substrate 20. Further, microlenses may be provided on both the opposing substrate 30 and the active matrix substrate 20. In that case, the microlenses formed on the active matrix substrate 20 can convert the light obliquely incident on the liquid crystal device from the clear viewing direction side into parallel light or diffused light. Can be substantially increased. Further, it may be expanded or converged depending on the application. Further, the optical center position of the microlenses formed on the counter substrate 30 is shifted toward the clear viewing direction, and the optical center position of the microlenses formed on the active matrix substrate is shifted toward the clear viewing direction, so that the focal positions of each other are shifted. If they are made to match, the light use efficiency can be increased.

[実施の形態4]
図15は、本発明の実施の形態4に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図であり、図4のB−B′線における断面図に相当する。
[Embodiment 4]
FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 4 of the present invention. This corresponds to a cross-sectional view taken along line.

図15において、本実施形態の液晶装置1では、アクティブマトリクス基板20上には、下地保護膜201の下層側にクロムなどの金属膜からなる第1の遮光膜6が形成され、この第1の遮光膜6は、隣接する画素電極8の間に相当する領域にマトリクス状に形成されている。このため、第1の遮光膜6は、図4を参照して説明したデータ線90、走査線91、容量線92、TFT10および蓄積容量40と平面的に重なる領域に形成され、かつ、この第1の遮光膜6によってアクティブマトリクス基板20の各画素には第1の開口領域21がマトリクス状に区画形成されている。   In FIG. 15, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, a first light-shielding film 6 made of a metal film such as chromium is formed on the active matrix substrate 20 below the base protective film 201. The light shielding films 6 are formed in a matrix in a region corresponding to a region between the adjacent pixel electrodes 8. For this reason, the first light-shielding film 6 is formed in a region that overlaps the data line 90, the scanning line 91, the capacitance line 92, the TFT 10, and the storage capacitor 40 described with reference to FIG. The first light-shielding film 6 defines a first opening region 21 in each pixel of the active matrix substrate 20 in a matrix.

対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向するように第2の遮光膜7がマトリクス状に形成され、この第2の遮光膜7によって第2の開口領域31がマトリクス状に区画形成されている。また、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。このため、マイクロレンズ41は、対向基板30に入射した光源からの光Lを集光しながら液晶39に入射させるので、第1の遮光膜6で遮られる光を減らすことができる。それ故、光の利用効率が高いので、明るい表示を行うことができる。   On the opposing substrate 30, a second light-shielding film 7 is formed in a matrix shape so as to face the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20, and the second opening region 31 is formed by the second light-shielding film 7. The sections are formed in a matrix. Further, the microlenses 41 (microlenses) are formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. For this reason, since the microlens 41 condenses the light L from the light source incident on the counter substrate 30 and makes the light L incident on the liquid crystal 39, the light blocked by the first light shielding film 6 can be reduced. Therefore, since the light use efficiency is high, a bright display can be performed.

このような構造の対向基板30は、たとえば、フォトリソグラフィ技術を利用してマイクロレンズ41を形成した透明なレンズアレイ基板40に対して接着剤48によって薄板ガラス49を貼り合わせ、この薄板ガラス49に対して第2の遮光膜7、透明な対向電極32、および配向膜47を形成することにより製造できる。   In the counter substrate 30 having such a structure, for example, a thin glass 49 is attached to a transparent lens array substrate 40 on which the microlenses 41 are formed by using a photolithography technique, using an adhesive 48. On the other hand, it can be manufactured by forming the second light shielding film 7, the transparent counter electrode 32, and the alignment film 47.

このように構成した対向基板30およびアクティブマトリクス基板20については、それぞれ互いに直交する方向にラビング処理が施された後、所定の隙間を介して貼り合わされ、しかる後に、この隙間内に液晶39が封入される。その結果、液晶39は、アクティブマトリクス基板20と対向基板30との間で90°に捩じれ配向した状態になる。従って、液晶装置1には、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39の層に明視方向側から光が入射するとコントラストが向上する。ここに示す例では、図面に向かって左側が明視方向になっており、右側が逆明視方向になっている。   The counter substrate 30 and the active matrix substrate 20 configured as described above are each subjected to rubbing processing in a direction orthogonal to each other, and then bonded through a predetermined gap. Thereafter, the liquid crystal 39 is sealed in the gap. Is done. As a result, the liquid crystal 39 is twisted and oriented at 90 ° between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30. Therefore, in the liquid crystal device 1, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, so that when light enters the layer of the liquid crystal 39 from the clear viewing direction, the contrast is improved. In the example shown here, the left side in the drawing is the clear viewing direction, and the right side is the reverse clear viewing direction.

そこで、本実施形態では、レンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2としたときに、
n1 > n2
を満たすような材質でレンズアレイ基板40および接着剤48を構成し、かつ、マイクロレンズ41に相当する部分では、接着剤48の厚さが明視方向側から逆明視方向側に向けて連続的に薄くなるように、レンズアレイ基板40に凹凸を形成してある。すなわち、マイクロレンズ41が形成された対向基板30の光入射側に高屈折率層(レンズアレイ基板40)を配置し、かつ、対向基板30の光出射側に低屈折率層(接着剤48の層)を形成するとともに、マイクロレンズ41は、低屈折率層(接着剤48の層)の厚さを画素中心311側から明視方向側に向けては連続的に厚く、逆明視方向側に向けては連続的に薄くし、隣接する画素との境界領域(遮光膜7が形成されている領域)で再び、明視方向側の厚さにまで急峻に厚くなるような構成にしてある。
Therefore, in the present embodiment, when the refractive index of the lens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1> n2
The lens array substrate 40 and the adhesive 48 are made of a material that satisfies the above condition, and the thickness of the adhesive 48 is continuously changed from the clear viewing direction side to the reverse clear viewing direction side in a portion corresponding to the microlens 41. Irregularities are formed on the lens array substrate 40 so that the thickness becomes thinner. That is, a high refractive index layer (lens array substrate 40) is disposed on the light incident side of the counter substrate 30 on which the microlenses 41 are formed, and a low refractive index layer (adhesive 48 The microlens 41 is formed such that the thickness of the low-refractive index layer (the layer of the adhesive 48) is continuously increased from the pixel center 311 side to the clear viewing direction side, and is increased in the reverse clear viewing direction side. , The thickness is continuously reduced, and the thickness is sharply increased again to the thickness in the clear viewing direction in the boundary region (region where the light shielding film 7 is formed) with the adjacent pixel. .

従って、本実施形態の液晶装置1では、アクティブマトリクス基板20および対向基板30のうち、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41にこの第1の遮光膜6を避ける方向に屈曲してこの第1の遮光膜6でほとんど遮られることなく液晶39に出射されるのに対して、逆明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して逆明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41によってこの第1の遮光膜6に向けて屈曲し、一部がこの第1の遮光膜6で遮られる。このため、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Therefore, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, the microlens 41 is formed on the counter substrate 30 on which light is incident, of the active matrix substrate 20 and the counter substrate 30, so that the light use efficiency can be improved. Can be. In addition, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, of the light incident on the opposing substrate 30 from the clear viewing direction side, the light is directed to the first light shielding film 6 positioned on the clear viewing direction side with respect to the pixel. The reflected light is bent by the microlens 41 in a direction avoiding the first light-shielding film 6 and is emitted to the liquid crystal 39 almost without being blocked by the first light-shielding film 6, whereas the light is directed in the reverse clear viewing direction. Out of the light incident on the counter substrate 30 from the side, the light going to the first light shielding film 6 located on the side opposite to the clear viewing direction with respect to the pixel is applied to the first light shielding film 6 by the microlens 41. The first light-shielding film 6 partially bends. For this reason, with respect to the light incident on the liquid crystal 39, the light incident from the clear viewing direction side can be increased, and the light incident from the reverse clear viewing direction side can be reduced. Thus, a display with high contrast can be performed.

[実施の形態4の変形例]
図16は、本発明の実施の形態4の変形例に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板20、対向基板30およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。なお、本実施形態および後述するいずれの形態も、基本的な構成が実施の形態4と共通するので、対応する部分には同符号を付して図示することとし、それらの詳細な説明を省略する。
[Modification of Fourth Embodiment]
FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate 20, a counter substrate 30, and a bonding structure of these substrates used in a liquid crystal device 1 according to a modification of the fourth embodiment of the present invention. In this embodiment and in any of the embodiments described later, the basic configuration is common to that of the fourth embodiment. Corresponding portions are denoted by the same reference numerals and illustration thereof, and detailed description thereof will be omitted. I do.

図16において、本実施形態の液晶装置1でも、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。   In FIG. 16, also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, microlenses 41 (microlenses) are formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20.

また、この液晶装置1でも、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39に明視方向側から多く光を入射させるとコントラストが向上する。   Also in this liquid crystal device 1, since the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction occur in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, the contrast is improved when a large amount of light enters the liquid crystal 39 from the clear viewing direction side.

そこで、本実施形態でも、実施の形態4と同様、レンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2としたときに、
n1 > n2
を満たすようなレンズアレイ基板40(高屈折率層)および接着剤48(低屈折率層)を用い、かつ、マイクロレンズ41に相当する部分では、接着剤48の厚さを画素中心311から明視方向側に向けては連続的に厚くし、逆明視方向側に向けて連続的に薄くなるように、レンズアレイ基板40に凹凸を形成してあるが、実施の形態4と違って、マイクロレンズ41の部分では、接着剤48(低屈折率層)の厚さを明視方向側から逆明視方向側に向けて連続的に薄くしていき、隣接する画素との境界領域(遮光膜7が形成されている領域)付近から徐々に、明視方向側の厚さに戻るように構成されている。
Therefore, in the present embodiment, as in Embodiment 4, when the refractive index of the lens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1> n2
The lens array substrate 40 (high-refractive-index layer) and the adhesive 48 (low-refractive-index layer) satisfying the above conditions are used, and in a portion corresponding to the microlens 41, the thickness of the adhesive 48 is clearly measured from the pixel center 311. Irregularities are formed on the lens array substrate 40 so as to be continuously thicker toward the viewing direction side and continuously thinner toward the reverse clear viewing direction side, but unlike the fourth embodiment, In the microlens 41 portion, the thickness of the adhesive 48 (low-refractive index layer) is continuously reduced from the clear viewing direction side to the reverse clear viewing direction side, so that the boundary region between adjacent pixels (light-shielded region) It is configured to gradually return to the thickness in the clear viewing direction side from the vicinity of the (area where the film 7 is formed).

このように構成した場合でも、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、実施の形態4と同様、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Even in such a configuration, since the microlens 41 is formed on the counter substrate 30 on which light is incident, the light use efficiency can be improved. Further, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, the light incident on the liquid crystal 39 is increased from the clear viewing direction side and the light incident on the liquid crystal 39 is increased from the reverse clear viewing direction side, as in the fourth embodiment. Since the amount of light to be emitted can be reduced, the liquid crystal device 1 of the present embodiment can perform display with high contrast.

また、マイクロレンズ41においてレンズアレイ基板40(高屈折率層)と接着剤48(低屈折率層)との境界面は、逆明視方向側でも湾曲している形状を有しているので、逆明視方向側の光も少しは含むが、実施の形態4と比較して、より多くの光を液晶39に向けて出射できる。それ故、明るい表示を行うことができる。   Further, since the boundary surface between the lens array substrate 40 (high-refractive-index layer) and the adhesive 48 (low-refractive-index layer) in the microlens 41 has a shape that is curved even in the reverse clear vision direction side, Although a little light in the reverse clear vision direction side is included, more light can be emitted toward the liquid crystal 39 than in the fourth embodiment. Therefore, a bright display can be performed.

[実施の形態5]
図17は、本発明の実施の形態5に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。実施の形態5の基本的な構成は実施の形態と共通であり、同様な構成については同符号を付して、その説明は省略する。
[Embodiment 5]
FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 5 of the present invention. The basic configuration of the fifth embodiment is the same as that of the embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

図17において、本実施形態の液晶装置1でも、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。このような構造の対向基板30も、たとえば、マイクロレンズ41が形成されたレンズアレイ基板40に対して接着剤48によって薄板ガラス49を貼り合わせ、この薄板ガラス49に対して第2の遮光膜7、透明な対向電極32、および配向膜47を形成することにより製造できる。また、この液晶装置1でも、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39の層に明視方向側から光が入射するとコントラストが向上する。   In FIG. 17, also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, micro lenses 41 (micro lenses) are formed in a matrix on the opposing substrate 30 so as to oppose the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. In the counter substrate 30 having such a structure, for example, a thin glass 49 is bonded to the lens array substrate 40 on which the microlenses 41 are formed with an adhesive 48, and the second light shielding film 7 is attached to the thin glass 49. And the transparent counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed. Also in this liquid crystal device 1, since the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction are generated in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, the contrast is improved when light enters the layer of the liquid crystal 39 from the clear viewing direction side.

そこで、本実施形態では、レンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2としたときに、
n1 < n2
を満たすようなレンズアレイ基板40および接着剤48を用い、かつ、マイクロレンズ41に相当する部分では、接着剤48の厚さを明視方向側から逆明視方向側に向けて連続的に厚くなるように、レンズアレイ基板40に凹凸を形成してある。
Therefore, in the present embodiment, when the refractive index of the lens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1 <n2
In a portion corresponding to the microlens 41 using the lens array substrate 40 and the adhesive 48 satisfying the above condition, the thickness of the adhesive 48 is continuously increased from the clear viewing direction side to the reverse clear viewing direction side. Thus, the lens array substrate 40 is formed with irregularities.

すなわち、マイクロレンズ41が形成された対向基板30の光入射側に低屈折率層(レンズアレイ基板40)を配置し、かつ、対向基板30の光出射側に高屈折率層(接着剤48の層)を形成するとともに、マイクロレンズ41の部分では、高屈折率層の厚さを画素中心311から明視方向側に向けては連続的に薄くし、逆明視方向側に向けて連続的に厚くし、隣接する画素との境界領域(遮光膜7が形成されている領域)では再び、明視方向側の厚さにまで急峻に厚くなるような構成になっている。   That is, a low-refractive-index layer (lens array substrate 40) is arranged on the light-incident side of the opposing substrate 30 on which the microlenses 41 are formed, and a high-refractive-index layer (adhesive 48) is disposed on the light-exiting side of the opposing substrate 30. Layer), and at the microlens 41 portion, the thickness of the high refractive index layer is continuously reduced from the pixel center 311 toward the clear viewing direction side, and is continuously reduced toward the reverse clear viewing direction side. In the boundary region between the adjacent pixels (the region where the light-shielding film 7 is formed), the thickness is sharply increased again to the thickness in the clear viewing direction.

従って、本実施形態でも、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41にこの第1の遮光膜6を避ける方向に屈曲してこの第1の遮光膜6でほとんど遮られることなく液晶39に出射されるのに対して、逆明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して逆明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41によってこの第1の遮光膜6に向けて屈曲し、一部がこの第1の遮光膜6で遮られる。このため、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Therefore, also in the present embodiment, since the microlenses 41 are formed on the counter substrate 30 on which light is incident, the light use efficiency can be improved. In addition, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, of the light incident on the opposing substrate 30 from the clear viewing direction side, the light is directed to the first light shielding film 6 positioned on the clear viewing direction side with respect to the pixel. The reflected light is bent by the microlens 41 in a direction avoiding the first light-shielding film 6 and is emitted to the liquid crystal 39 almost without being blocked by the first light-shielding film 6, whereas the light is directed in the reverse clear viewing direction. Out of the light incident on the counter substrate 30 from the side, the light going to the first light shielding film 6 located on the side opposite to the clear viewing direction with respect to the pixel is applied to the first light shielding film 6 by the microlens 41. The first light-shielding film 6 partially bends. For this reason, with respect to the light incident on the liquid crystal 39, the light incident from the clear viewing direction side can be increased, and the light incident from the reverse clear viewing direction side can be reduced. Thus, a display with high contrast can be performed.

[実施の形態5の変形例]
図18は、本発明の実施の形態5の変形例に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。
[Modification of Embodiment 5]
FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a liquid crystal device 1 according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.

図18において、本実施形態の液晶装置1でも、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。また、この液晶装置1でも、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39の層に明視方向側から光が入射するとコントラストが向上する。   In FIG. 18, also in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, micro lenses 41 (micro lenses) are formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. Also in this liquid crystal device 1, since the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction are generated in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, the contrast is improved when light enters the layer of the liquid crystal 39 from the clear viewing direction side.

そこで、本実施形態でも、実施の形態5と同様、レンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2としたときに、
n1 < n2
を満たすようなレンズアレイ基板40(低屈折率層)および接着剤48(高屈折率層)を用い、かつ、マイクロレンズ41では、接着剤48の厚さを明視方向側から逆明視方向側に向けて連続的に厚くなるように、レンズアレイ基板40に凹凸を形成してある。従って、実施の形態5と異なり、マイクロレンズ41は、接着剤48(高屈折率層)の厚さを明視方向側から逆明視方向側に向けて連続的に厚くしていき、隣接する画素との境界領域(遮光膜7が形成されている領域)付近から徐々に、明視方向側の厚さに戻るように構成されている。
Therefore, in this embodiment, as in Embodiment 5, when the refractive index of the lens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1 <n2
The lens array substrate 40 (low-refractive-index layer) and the adhesive 48 (high-refractive-index layer) satisfying the above conditions are used. In the microlens 41, the thickness of the adhesive 48 is changed from the clear viewing direction to the reverse clear viewing direction. Irregularities are formed on the lens array substrate 40 so that the thickness increases continuously toward the side. Therefore, different from the fifth embodiment, the microlens 41 continuously increases the thickness of the adhesive 48 (high refractive index layer) from the clear viewing direction side to the reverse clear viewing direction side, and is adjacent to the micro lens 41. The thickness gradually increases from the vicinity of the boundary region with the pixel (the region where the light shielding film 7 is formed) to the thickness in the clear viewing direction.

このように構成した場合でも、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、実施の形態5と同様、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Even in such a configuration, since the microlens 41 is formed on the counter substrate 30 on which light is incident, the light use efficiency can be improved. Further, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, the light incident on the liquid crystal 39 is increased from the clear viewing direction side and the light incident on the liquid crystal 39 is increased from the reverse clear viewing direction side, as in the fifth embodiment. Since the amount of light to be emitted can be reduced, the liquid crystal device 1 of the present embodiment can perform display with high contrast.

また、マイクロレンズ41においてレンズアレイ基板40(低屈折率層)と接着剤48(高屈折率層)との境界面は、逆明視方向側でも湾曲している形状を有しているので、逆明視方向側の光も少しは含むが、実施の形態5と比較して、より多くの光を液晶39に向けて出射できる。それ故、明るい表示を行うことができる。   In addition, since the boundary surface between the lens array substrate 40 (low-refractive-index layer) and the adhesive 48 (high-refractive-index layer) in the microlens 41 has a shape that is curved even in the reverse clear vision direction side, Although a little light in the reverse clear viewing direction side is included, more light can be emitted toward the liquid crystal 39 than in the fifth embodiment. Therefore, a bright display can be performed.

[実施の形態6]
図19は、本発明の実施の形態6に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。実施の形態6は実施の形態4と基本構造は共通するので、同様な構成は同符号を付してその説明は省略する。
Embodiment 6
FIG. 19 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in the liquid crystal device 1 according to Embodiment 6 of the present invention. Since the sixth embodiment has the same basic structure as the fourth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

図19において、本実施形態の液晶装置1でも、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の第1の遮光膜6と対向するように第2の遮光膜7がマトリクス状に形成され、この第2の遮光膜7によって第2の開口領域31がマトリクス状に区画形成されている。また、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。このような構造の対向基板30は、たとえば、マイクロレンズ41が形成されたレンズアレイ基板40に対して接着剤48によって薄板ガラス49を貼り合わせ、この薄板ガラス49に対して第2の遮光膜7、透明な対向電極32、および配向膜47を形成することにより製造できる。この液晶装置1でも、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39の層に明視方向側から光が入射するとコントラストが向上する。   In FIG. 19, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment as well, a second light-shielding film 7 is formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate 20. The second light-shielding film 7 defines the second opening region 31 in a matrix. Further, the microlenses 41 (microlenses) are formed in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. In the counter substrate 30 having such a structure, for example, a thin glass 49 is adhered to the lens array substrate 40 on which the microlenses 41 are formed with an adhesive 48, and the second light shielding film 7 is attached to the thin glass 49. And the transparent counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed. In this liquid crystal device 1 as well, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, so that when light enters the layer of the liquid crystal 39 from the clear viewing direction, the contrast is improved.

そこで、本実施形態では、対向基板30のレンズアレイ基板40には、光入射側にその基体たる透明基板からなる中間屈折率層40Aを配置し、この透明基板の光出射側の明視方向側および逆明視方向側にそれぞれ低屈折率層40Bおよび高屈折率層40Cが隣接している構成にしてある。ここで、低屈折率層40Bおよび高屈折率層40Cは、レンズアレイ基板40の基体たる透明基板(中間屈折率層40A)の凹凸が形成されている面に積層された透明樹脂層である。また、マイクロレンズ41の部分では、低屈折率層40Bおよび高屈折率層40Cを画素中心側311から明視方向側および逆明視方向側に向かってそれぞれ連続的に、かつ、対称の形状をもって厚くしてある。   Therefore, in the present embodiment, the lens array substrate 40 of the opposing substrate 30 is provided with an intermediate refractive index layer 40A made of a transparent substrate, which is a base thereof, on the light incident side. The low refractive index layer 40B and the high refractive index layer 40C are adjacent to each other on the opposite clear viewing direction side. Here, the low-refractive-index layer 40B and the high-refractive-index layer 40C are transparent resin layers laminated on the surface of the transparent substrate (intermediate refractive index layer 40A), which is the base of the lens array substrate 40, on which the irregularities are formed. In the micro lens 41, the low-refractive-index layer 40B and the high-refractive-index layer 40C are continuously and symmetrically formed from the pixel center side 311 toward the clear viewing direction and the reverse clear viewing direction. It is thick.

すなわち、レンズアレイ基板40を構成する中間屈折率層40A、低屈折率層40Bおよび高屈折率層40Cの屈折率をそれぞれn11 、n12 、n13としたときに、
n12 < n11< n13
を満たすようにレンズアレイ基板40を構成し、かつ、マイクロレンズ41に相当する部分では、画素中心側311から明視方向側に向かって低屈折率層40Bをなだらかに厚くしていき、画素中心側311から逆明視方向側に向かって高屈折率層40Cをなだらかに厚くしてある。
That is, when the refractive indices of the intermediate refractive index layer 40A, the low refractive index layer 40B, and the high refractive index layer 40C that constitute the lens array substrate 40 are n11, n12, and n13, respectively,
n12 <n11 <n13
In the portion corresponding to the microlens 41, the low-refractive-index layer 40B is gradually thickened from the pixel center side 311 toward the clear viewing direction, and the pixel center is gradually increased. The high refractive index layer 40C is gently thickened from the side 311 toward the reverse clear viewing direction.

このように構成した液晶装置1でも、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41にこの第1の遮光膜6を避ける方向に屈曲してこの第1の遮光膜6でほとんど遮られることなく液晶39に出射されるのに対して、逆明視方向側から対向基板30に入射した光のうち、画素に対して逆明視方向側に位置する第1の遮光膜6に向かおうとする光は、マイクロレンズ41によってこの第1の遮光膜6に向けて屈曲し、一部がこの第1の遮光膜6で遮られる。このため、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Even in the liquid crystal device 1 configured as described above, since the microlenses 41 are formed on the counter substrate 30 on which light is incident, the light use efficiency can be improved. In addition, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, of the light incident on the opposing substrate 30 from the clear viewing direction side, the light is directed to the first light shielding film 6 positioned on the clear viewing direction side with respect to the pixel. The reflected light is bent by the microlens 41 in a direction avoiding the first light-shielding film 6 and is emitted to the liquid crystal 39 almost without being blocked by the first light-shielding film 6, whereas the light is directed in the reverse clear viewing direction. Out of the light incident on the counter substrate 30 from the side, the light going to the first light shielding film 6 located on the side opposite to the clear viewing direction with respect to the pixel is applied to the first light shielding film 6 by the microlens 41. The first light-shielding film 6 partially bends. For this reason, with respect to the light incident on the liquid crystal 39, the light incident from the clear viewing direction side can be increased, and the light incident from the reverse clear viewing direction side can be reduced. Thus, a display with high contrast can be performed.

[実施の形態7]
図20は、本発明の実施の形態7に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。実施の形態7は実施の形態4と基本構造は共通するので、同様な構成は同符号を付してその説明は省略する。
Embodiment 7
FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in liquid crystal device 1 according to Embodiment 7 of the present invention. Since the seventh embodiment has the same basic structure as the fourth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図20において、本実施形態の液晶装置1でも、実施の形態6と同様、対向基板30には、アクティブマトリクス基板20の画素電極8と対向するようにマイクロレンズ41(微少レンズ)がマトリクス状に形成されている。このような構造の対向基板30は、たとえば、マイクロレンズ41が形成されたレンズアレイ基板40に対して接着剤48によって薄板ガラス49を貼り合わせ、この薄板ガラス49に対して第2の遮光膜7、透明な対向電極32、および配向膜47を形成することにより製造できる。この液晶装置1でも、液晶39の配向状態に対応して明視方向および逆明視方向が生じるので、液晶39の層に明視方向側から光が入射するとコントラストが向上する。   In FIG. 20, in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, similarly to the sixth embodiment, the microlenses 41 (microlenses) are arranged in a matrix on the counter substrate 30 so as to face the pixel electrodes 8 of the active matrix substrate 20. Is formed. In the counter substrate 30 having such a structure, for example, a thin glass 49 is adhered to the lens array substrate 40 on which the microlenses 41 are formed with an adhesive 48, and the second light shielding film 7 is attached to the thin glass 49. And the transparent counter electrode 32 and the alignment film 47 are formed. In this liquid crystal device 1 as well, a clear viewing direction and a reverse clear viewing direction are generated in accordance with the alignment state of the liquid crystal 39, so that when light enters the layer of the liquid crystal 39 from the clear viewing direction, the contrast is improved.

そこで、本実施形態では、対向基板30のレンズアレイ基板40には、光入射側に中間屈折率層40Aを形成し、この基板の光出射側の明視方向側および逆明視方向側に高屈折率層40Cおよび低屈折率層40Bを隣接するように形成するとともに、マイクロレンズ41の部分では、高屈折率層40Cおよび低屈折率層40Bを画素中心側311から明視方向側および逆明視方向側に向かってそれぞれ連続的に、かつ、対称の形状をもって薄くする。   Therefore, in the present embodiment, an intermediate refractive index layer 40A is formed on the light incident side of the lens array substrate 40 of the opposing substrate 30, and the height of the intermediate refractive index layer 40A is increased on the light emitting side and the reverse clear viewing direction side of the substrate. The refractive index layer 40C and the low refractive index layer 40B are formed so as to be adjacent to each other, and in the microlens 41, the high refractive index layer 40C and the low refractive index layer 40B are shifted from the pixel center side 311 to the clear viewing direction and to the reverse light. The thickness is reduced continuously and symmetrically toward the viewing direction.

すなわち、レンズアレイ基板40を構成する中間屈折率層40A、低屈折率層40Bおよび高屈折率層40Cの屈折率をそれぞれn11 、n12 、n13としたときに、
n12 < n11< n13
を満たすようにレンズアレイ基板40を構成し、かつ、マイクロレンズ41に相当する部分では、画素中心側311から明視方向側に向かって高屈折率層40Cをなだらかに薄くし、画素中心側311から逆明視方向側に向かって低屈折率層40Bをなだらかに薄くしてある。
That is, when the refractive indices of the intermediate refractive index layer 40A, the low refractive index layer 40B, and the high refractive index layer 40C that constitute the lens array substrate 40 are n11, n12, and n13, respectively,
n12 <n11 <n13
In the portion corresponding to the microlens 41, the high-refractive-index layer 40C is gently thinned from the pixel center side 311 to the clear viewing direction side, and the pixel center side 311 is formed. , The low-refractive-index layer 40B is gently thinned in the reverse clear vision direction.

従って、本実施形態でも、光が入射する方の対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率を高めることができる。また、マイクロレンズ41は光学特性が非対称であるため、実施の形態6と同様、液晶39に入射する光に対して、明視方向側から入射する光を多くし、逆明視方向側から入射する光を少なくすることができるので、本実施形態の液晶装置1では、コントラストの高い表示を行うことができる。   Therefore, also in the present embodiment, since the microlenses 41 are formed on the counter substrate 30 on which light is incident, the light use efficiency can be improved. Further, since the microlenses 41 have asymmetric optical characteristics, light incident on the liquid crystal 39 from the clear viewing direction side is increased with respect to light incident on the liquid crystal 39 and incident on the reverse clear viewing direction side, as in the sixth embodiment. Since the amount of light to be emitted can be reduced, the liquid crystal device 1 of the present embodiment can perform display with high contrast.

[実施の形態8]
図21は、本発明の実施の形態8に係る液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。実施の形態8は実施の形態4と基本構造は共通するので、同様な構成は同符号を付してその説明は省略する。
Embodiment 8
FIG. 21 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a liquid crystal device 1 according to Embodiment 8 of the present invention. Since the eighth embodiment has the same basic structure as the fourth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

図21に示す例は、図20に示す液晶装置1をベースに、マイクロレンズ41の構成を変えたものである。すなわち、この液晶装置1でも、実施の形態6と同様、対向基板30にはマイクロレンズ41が形成されているので、光の利用効率が高い。   In the example shown in FIG. 21, the configuration of the microlens 41 is changed based on the liquid crystal device 1 shown in FIG. That is, also in the liquid crystal device 1, as in the sixth embodiment, since the microlenses 41 are formed on the counter substrate 30, the light use efficiency is high.

マイクロレンズ41は、対向基板30に入射した光のうち、第1の遮光膜6に向かおうとする光の進行方向を画素の開口領域に屈曲させることにより、光の利用効率を高めるものである。従って、もともと画素中心311に向かおうとする光は、マイクロレンズ41を設けなくても画素開口領域に入射されるため、画素の中心領域に対応してマイクロレンズを形成しなくてもよい。そこで、本実施形態では、画素の中心領域には、対向基板30に対して直角に入射した光を液晶39に対して直進させるためにマイクロレンズを形成しない、すなわち非レンズ領域400が形成され、画素の周辺領域には、画素中心311に近い側から周辺部に向かって接着剤48が厚くなるような形状のマイクロレンズ41を構成する。   The microlens 41 enhances the light use efficiency by bending the traveling direction of the light incident on the opposing substrate 30 toward the first light shielding film 6 into the opening region of the pixel. . Therefore, the light that is originally going to the pixel center 311 is incident on the pixel opening region without providing the micro lens 41, so that the micro lens need not be formed corresponding to the central region of the pixel. Therefore, in the present embodiment, a microlens is not formed in the central region of the pixel in order to make light incident at right angles to the counter substrate 30 go straight to the liquid crystal 39, that is, a non-lens region 400 is formed. In the peripheral region of the pixel, a microlens 41 having a shape in which the adhesive 48 becomes thicker from the side closer to the pixel center 311 toward the peripheral portion is formed.

なお、本実施形態では、マイクロレンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2とした時に、
n1> n2
を満たすような材質でマイクロレンズアレイ基板40および接着剤48を構成すれば、画素周辺の遮光膜あるいは配線等に向かう光を画素中心に向けることができるため、光の利用効率を高めることができるとともに、逆明視方向から入射する光を少なくできるので、コントラストの高い表示を行うことができる。
In this embodiment, when the refractive index of the microlens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1> n2
If the microlens array substrate 40 and the adhesive 48 are made of a material that satisfies the above condition, light directed to a light-shielding film or wiring around the pixel can be directed to the center of the pixel, so that the light use efficiency can be improved. At the same time, light incident from the reverse clear viewing direction can be reduced, so that a display with high contrast can be performed.

このように画素の中心領域を非レンズ領域400とする形状は、図21のように画素中心領域を平坦化して画素周辺を所定の曲率を持つように形成されているが、その場合、画素の中心領域の非レンズ領域400と薄板ガラス49との間にわずかに接着剤48を設けてもよい。薄板ガラス49とマイクロレンズアレイ基板40との間に中心領域では薄く、周辺領域では厚くして、マイクロレンズアレイ基板40の全面に接着剤48が塗布されていれば、薄板ガラス49とマイクロレンズアレイ基板40との密着性を高めることができる。また、画素中心領域は平坦面を有し、画素周辺領域だけにマイクロレンズが形成されているため、画素中心領域に入射される照射光は液晶の画素中心の1点で集光することなく、ある程度の広がりをもった状態で画素を通過することが可能である。従って入射光が液晶に局部的に照射されるのを防ぐことができ、液晶の寿命を延ばすことができる。   As described above, the shape in which the central region of the pixel is set as the non-lens region 400 is such that the central region of the pixel is flattened and the periphery of the pixel has a predetermined curvature as shown in FIG. The adhesive 48 may be slightly provided between the non-lens area 400 in the central area and the thin glass 49. If the adhesive 48 is applied to the entire surface of the microlens array substrate 40, the thickness between the thin glass 49 and the microlens array substrate 40 is thin in the central region and thick in the peripheral region. Adhesion with the substrate 40 can be improved. Further, since the pixel central region has a flat surface and the microlens is formed only in the pixel peripheral region, the irradiation light incident on the pixel central region is not focused at one point at the pixel center of the liquid crystal, It is possible to pass through the pixel with a certain degree of spread. Accordingly, it is possible to prevent the incident light from being locally irradiated on the liquid crystal, and it is possible to extend the life of the liquid crystal.

[実施の形態8の第1変形例]
図22は実施の形態8の第1変形例に係わる液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。第1変形例は実施の形態8と基本構造は共通するので、同様な構成は同符号を付してその説明は省略する。
[First Modification of Eighth Embodiment]
FIG. 22 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a liquid crystal device 1 according to a first modification of the eighth embodiment. Since the first modification has the same basic structure as that of the eighth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

本変形例と実施の形態8との違いは、本変形例においては、凸形状を有するマイクロレンズ41において、画素の中心側に形成された非レンズ領域400が薄板ガラス49に接着剤48を介することなく接している点であり、その他の構成は実施の形態8と同じである。   The difference between the present modification and the eighth embodiment is that, in the present modification, in the microlens 41 having a convex shape, the non-lens area 400 formed on the center side of the pixel is provided on the thin glass 49 via the adhesive 48. The other configuration is the same as that of the eighth embodiment.

図22に示される構成を有することにより、画素の中心領域の非レンズ領域400に入射される光は、接着剤48を介することなく液晶に入射させることができるため、画素中心側に入射される光は接着剤48により屈曲させることなく液晶に向かうことが可能となり、光の利用効率を高めることができるとともに、逆明視方向から入射する光を少なくできるので、コントラストの高い表示を行うことができる。   With the configuration shown in FIG. 22, light incident on the non-lens region 400 in the central region of the pixel can be incident on the liquid crystal without the intervention of the adhesive 48, and thus is incident on the pixel center side. The light can be directed to the liquid crystal without being bent by the adhesive 48, so that the light use efficiency can be increased and the light incident from the reverse clear viewing direction can be reduced, so that a display with high contrast can be performed. it can.

また、マイクロレンズアレイ基板40は非レンズ領域400の平坦な面が薄板ガラス49に接して固着されるため、マイクロレンズアレイ基板40と薄板ガラス49とのギャップを一定に保つことが可能となる。それ故、マイクロレンズアレイ基板40と薄板ガラス49とを精度よく貼り合わせることができる。   Further, the flat surface of the non-lens area 400 of the microlens array substrate 40 is fixed in contact with the thin glass 49, so that the gap between the microlens array substrate 40 and the thin glass 49 can be kept constant. Therefore, the microlens array substrate 40 and the thin glass 49 can be bonded with high accuracy.

[実施の形態8の第2変形例]
また、図23は実施の形態8の第2変形例に係わる液晶装置1に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼りあわせ構造を拡大して示す断面図である。第2変形例は実施の形態8と基本構造は共通するので、同様な構成は同符号を付してその説明は省略する。本変形例と実施の形態8との違いは、本変形例においては、マイクロレンズ41は画素の中心領域は薄く平坦な形状を有するか、あるいは画素の中心領域はマイクロレンズを全く有さず、画素周辺部はは中心領域側から外周に向けて接着剤が厚く形成されるような形状となっている。
[Second Modification of Embodiment 8]
FIG. 23 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a liquid crystal device 1 according to a second modification of the eighth embodiment. Since the second modification has the same basic structure as that of the eighth embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. The difference between this modification and the eighth embodiment is that, in this modification, the micro lens 41 has a thin and flat shape in the central region of the pixel, or the central region of the pixel has no micro lens at all, The periphery of the pixel is shaped such that the adhesive is formed thicker from the center region toward the outer periphery.

この場合、マイクロレンズアレイ基板40の屈折率をn1とし、接着剤48の屈折率をn2としたときに、
n1> n2
を満たすような材質でマイクロレンズアレイ基板40および接着剤48を構成すれば、画素周辺の遮光膜あるいは配線等に向かう光を画素中心に向けることができるため、光の利用効率を高めることができるとともに、逆明視方向から入射する光を少なくできるので、コントラストの高い表示を行うことができる。
本実施形態およびその変形例はいずれも画素の中心領域はマイクロレンズを形成せずに周辺領域のみに形成されているため、光の利用効率を高めることができるとともに、逆明視方向から入射する光を少なくできるので、コントラストの高い表示を行うことができる。
In this case, when the refractive index of the microlens array substrate 40 is n1 and the refractive index of the adhesive 48 is n2,
n1> n2
If the microlens array substrate 40 and the adhesive 48 are made of a material that satisfies the above condition, light directed to a light-shielding film or wiring around the pixel can be directed to the center of the pixel, so that the light use efficiency can be improved. At the same time, light incident from the reverse clear viewing direction can be reduced, so that a display with high contrast can be performed.
In each of the present embodiment and its modifications, the central region of the pixel is formed only in the peripheral region without forming a microlens, so that the light use efficiency can be increased and light is incident from the reverse clear viewing direction. Since light can be reduced, display with high contrast can be performed.

なお、このような非レンズ領域400の形成は、上記の実施形態4乃至実施形態7に対して組み合わせて適用することもできる。   It should be noted that such formation of the non-lens region 400 can be applied in combination with the above-described fourth to seventh embodiments.

[その他の実施形態]
なお、上述の実施形態を組み合わせて構成すればよりコントラストのよい表示が可能となる。また、上述の実施形態は、6時明視の場合を例として説明したが、これに限るものではない。また、たとえば1時半明視、あるいは10時半明視というように基板の斜め方向に明視方向がある場合には、たとえば、実施の形態1ないし実施の形態3で説明したように、画素の開口率の中心位置あるいはマイクロレンズの光学的中心位置を明視方向にずらすことによりコントラストを向上させることができるが、上下左右の明視方向に近い側にずらすことによってもコントラストを向上させることができる。
[Other embodiments]
It should be noted that a display with better contrast can be realized by combining the above-described embodiments. Further, in the above-described embodiment, the case of clear view at 6:00 has been described as an example, but the present invention is not limited to this. In addition, when there is a clear viewing direction in the oblique direction of the substrate such as clear viewing at half past 1:30 or clear viewing at half past 10:30, for example, as described in Embodiments 1 to 3, The contrast can be improved by shifting the center position of the aperture ratio or the optical center position of the microlens in the clear viewing direction, but the contrast can also be improved by shifting the center position closer to the upper, lower, left and right clear viewing directions. Can be.

また、液晶装置に光が入射される際に、液晶装置の法線に対して光軸が明視方向側に傾いた光を液晶装置に入射するようにすれば、逆明視方向側からの光の入射を防ぐために効果的となりさらにコントラストの高い表示が可能となる。   Further, when light is incident on the liquid crystal device, light whose optical axis is inclined toward the clear viewing direction with respect to the normal line of the liquid crystal device is incident on the liquid crystal device. This is effective for preventing the incidence of light, so that a display with higher contrast can be realized.

さらに、上述の実施の形態では、アクティブマトリクス基板の第1の遮光膜6はTFTの下層に形成されているが、これに限るものではなく、たとえば、TFTの上層あるいは遮光性を有する配線を利用して、第1の遮光膜6をアクティブマトリクス基板に形成しても良い。   Further, in the above-described embodiment, the first light-shielding film 6 of the active matrix substrate is formed in the lower layer of the TFT. However, the present invention is not limited to this. For example, an upper layer of the TFT or a light-shielding wiring may be used. Then, the first light shielding film 6 may be formed on the active matrix substrate.

さらにまた、上記形態では、光が入射する対向基板30にのみマイクロレンズを形成したが、光が出射するアクティブマトリクス基板20の側にも各画素に対向するようにマイクロレンズを形成してもよい。この場合に、アクティブマトリクス基板20に形成されたマイクロレンズの光学的中心位置は、対向基板30の開口領域31の中心位置311に対して明視方向側にずれていることが好ましい。このような構成によれば、対向基板に形成されたマイクロレンズを介して入射されたコントラストの高い光を、アクティブマトリクス基板20に形成されたマイクロレンズによって効率よく出射することができる。また、出射される光を光学系に合わせて収束光、平行光、あるいは拡散光とすることができるので、実質的に画素の開口率を向上させることができ、光の利用効率を高めることができる。   Furthermore, in the above embodiment, the microlens is formed only on the opposing substrate 30 on which light is incident, but a microlens may be formed on the active matrix substrate 20 side on which light is emitted so as to oppose each pixel. . In this case, it is preferable that the optical center position of the microlens formed on the active matrix substrate 20 is shifted toward the clear viewing direction with respect to the center position 311 of the opening region 31 of the counter substrate 30. According to such a configuration, high-contrast light incident through the microlenses formed on the opposing substrate can be efficiently emitted by the microlenses formed on the active matrix substrate 20. Further, since the emitted light can be converged light, parallel light, or diffused light according to the optical system, the aperture ratio of the pixel can be substantially improved, and the light use efficiency can be improved. it can.

[液晶装置1の電子機器への適用]
次に、本実施形態の液晶装置1を備えた電子機器の一例を、図24、図25を参照して説明する。図24は、電子機器のブロック図である。図25は、本発明を適用した電子機器の一例としての投射型表示装置の要部(光学系)を示す説明図である。
[Application of Liquid Crystal Device 1 to Electronic Equipment]
Next, an example of an electronic apparatus including the liquid crystal device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 24 is a block diagram of an electronic device. FIG. 25 is an explanatory diagram illustrating a main part (optical system) of a projection display device as an example of an electronic apparatus to which the invention is applied.

図24において、表示情報出力源1000、表示情報処理回路1002、表示駆動回路1004、本実施形態の液晶装置1、クロック発生回路1008および電源回路1010を含んで構成される。表示情報出力源1000は、ROM、RAMなどのメモリ、テレビ信号を同調して出力する同調回路などを含んで構成され、クロック発生回路1008からのクロックに基づいて、ビデオ信号などの表示情報を出力する。表示情報処理回路1002は、クロック発生回路1008からのクロックに基づいて表示情報を処理して出力する。この表示情報処理回路1002は、たとえば増幅・極性反転回路、シリアル−パラレル変換回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路あるいはクランプ回路等を含むことができる。表示駆動回路1004は、走査側駆動回路およびデータ側駆動回路を含んで構成され、液晶装置1を表示駆動する。電源回路1010は、上述の各回路に電力を供給する。   24, a display information output source 1000, a display information processing circuit 1002, a display drive circuit 1004, the liquid crystal device 1, a clock generation circuit 1008, and a power supply circuit 1010 of the present embodiment are included. The display information output source 1000 includes a memory such as a ROM and a RAM, a tuning circuit for tuning and outputting a television signal, and the like, and outputs display information such as a video signal based on a clock from a clock generation circuit 1008. I do. The display information processing circuit 1002 processes and outputs display information based on the clock from the clock generation circuit 1008. The display information processing circuit 1002 can include, for example, an amplification / polarity inversion circuit, a serial-parallel conversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like. The display driving circuit 1004 includes a scanning side driving circuit and a data side driving circuit, and drives the liquid crystal device 1 for display. The power supply circuit 1010 supplies power to each of the above-described circuits.

(投射型表示装置の構成例1)
このような構成の電子機器の一例として、投射型表示装置を図25を用いて説明する。図25に示す投射型表示装置1100は、図25に示す投射型表示装置2001では、そのハウジング内には光学ユニットが搭載され、この光学ユニット内には、光源ランプ2011(光源)と、微小なレンズの集合体からなるインテグレータレンズ2012、2014、および偏光分離膜とλ/4波長板との集合体からなる偏光変換素子2016を備える照明用光学系2015と、この照明用光学系2015から出射される白色光束を、赤、緑、青の各色光束R、G、Bに分離する色分離光学系2020と、各色光束を変調するライトバルブとして本実施形態の液晶装置1によって構成した3枚の液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030Bと、変調された色光束を再合成する色合成光学系としてのダイクロイックプリズムからなるプリズムユニット2042と、合成された光束をスクリーン上に拡大投射する投射レンズユニット2050(拡大投射光学系)とが構成されている。光源ランプ2011としては、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。この光学ユニットでは、偏光変換素子2016において各プリズム体で分離されたP偏光およびS偏光のうち、P偏光の出射位置にλ/2板を配置した構成に相当するため、光束をS偏光に揃えることができる。
(Configuration Example 1 of Projection Display Device)
As an example of an electronic device having such a configuration, a projection display device will be described with reference to FIG. In the projection display device 1100 shown in FIG. 25, an optical unit is mounted in a housing of the projection display device 2001 shown in FIG. 25, and a light source lamp 2011 (light source) and a minute light source are provided in the optical unit. An illumination optical system 2015 including integrator lenses 2012 and 2014 formed of an aggregate of lenses, and a polarization conversion element 2016 formed of an assembly of a polarization separation film and a λ / 4 wavelength plate, and light emitted from the illumination optical system 2015. Separation optical system 2020 that separates a white light beam into red, green, and blue light beams R, G, and B, and three liquid crystals configured by the liquid crystal device 1 of the present embodiment as light valves that modulate each color light beam. Light valves 2030R, 2030G, 2030B and a dichroic prism as a color synthesizing optical system for re-synthesizing modulated color light flux That a prism unit 2042, a projection lens unit 2050 and the (enlarged projection optical system) is configured for enlarging and projecting the synthesized light beam onto a screen. As the light source lamp 2011, a halogen lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. In this optical unit, of the P-polarized light and the S-polarized light separated by each prism in the polarization conversion element 2016, this optical unit is equivalent to a configuration in which a λ / 2 plate is disposed at the position where P-polarized light is emitted. be able to.

照明用光学系2015は反射ミラー2017を備えており、照明用光学系2015の中心光軸を装置前方向に向けて直角に折り曲げるようにしている。色分離光学系2020には、赤緑反射ダイクロックミラー2022と、緑反射ダイクロイックミラー2024と、反射ミラー2026とが配置されている。光源ランプ2011から出射された白色光束は、照明用光学系2015を経て、まず、赤緑反射ダイクロイックミラー2022において、そこに含まれている赤色光束Rおよび緑色光束Gが直角に反射されて、緑反射ダイクロイックミラー2024の側に向かう。青色光束Bはこの赤緑反射ダイクロイックミラー2022を通過して、後方の反射ミラー2026で直角に反射されて、青色光束の出射部からプリズムユニット2042の側に出射される。赤緑反射ダイクロックミラー2022において反射された赤および緑の光束R、Gは、緑反射ダイクロイックミラー2024において、緑色光束Gのみが直角に反射されて、緑色光束の出射部からプリズムユニット2042の側に出射される。これに対して、緑反射ダイクロイックミラー2024を通過した赤色光束Rは、赤色光束の出射部から導光系2044の側に出射される。色分離光学系2020における各色光束の出射側には、それぞれ集光レンズ2027R、2027G、2027Bが配置されている。したがって、各出射部から出射した各色光束は、これらの集光レンズ2027R、2027G、2027Bに入射して各液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030Bに集光される。このようにして、本実施形態では、照明用光学系2015、色分離光学系2020、集光レンズ2027R、2027G、2027Bおよび導光系2044によって、光源ランプ2011から出射された光を集光しながら各液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030Bに導く導光光学系が構成されている。   The illumination optical system 2015 includes a reflection mirror 2017 so that the central optical axis of the illumination optical system 2015 is bent at a right angle toward the front of the apparatus. In the color separation optical system 2020, a red-green reflection dichroic mirror 2022, a green reflection dichroic mirror 2024, and a reflection mirror 2026 are arranged. The white light beam emitted from the light source lamp 2011 passes through the illumination optical system 2015, and firstly, the red light beam R and the green light beam G contained therein are reflected at right angles by the red-green reflection dichroic mirror 2022, and the green light beam is reflected by the green light. It goes to the side of the reflection dichroic mirror 2024. The blue light flux B passes through the red-green reflecting dichroic mirror 2022, is reflected at a right angle by the rear reflecting mirror 2026, and is emitted from the emission part of the blue light flux toward the prism unit 2042. The red and green luminous fluxes R and G reflected by the red-green reflective dichroic mirror 2022 are reflected by the green reflective dichroic mirror 2024 so that only the green luminous flux G is reflected at a right angle to the prism unit 2042 from the emission part of the green luminous flux. Is emitted. On the other hand, the red light beam R that has passed through the green reflection dichroic mirror 2024 is emitted from the emission portion of the red light beam to the light guide system 2044 side. Condensing lenses 2027R, 2027G, and 2027B are arranged on the emission side of each color light beam in the color separation optical system 2020, respectively. Therefore, each color light beam emitted from each emission part is incident on these condenser lenses 2027R, 2027G, 2027B and is condensed on each liquid crystal light valve 2030R, 2030G, 2030B. As described above, in the present embodiment, the light emitted from the light source lamp 2011 is condensed by the illumination optical system 2015, the color separation optical system 2020, the condenser lenses 2027R, 2027G, 2027B, and the light guide system 2044. A light guiding optical system for guiding the liquid crystal light valves 2030R, 2030G, and 2030B is configured.

このように集光された各色光束R、G、Bのうち、青色および緑色の光束B、Gは液晶ライトバルブ2030B、2030Gに入射して変調され、各色光に対応した画像情報(映像情報)が付加される。すなわち、これらのライトバルブは、不図示の駆動手段によって画像情報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここを通過する各色光の変調が行われる。このような駆動手段は公知の手段をそのまま使用することができる。   Of the light beams R, G, and B thus collected, the light beams B and G of blue and green are incident on the liquid crystal light valves 2030B and 2030G, modulated, and image information (video information) corresponding to each color light beam. Is added. That is, these light valves are switching-controlled by driving means (not shown) in accordance with image information, and thereby each color light passing therethrough is modulated. As such a driving unit, a known unit can be used as it is.

一方、赤色光束Rは、導光系2044を介して液晶ライトバルブ2030Rに導かれて、ここにおいて、同様に画像情報に応じて変調が施される。なお、導光系2044としては、入射側レンズ2045と、入射側反射ミラー2046と、出射側反射ミラー2047と、これらの間に配置した中間レンズ2048とが配置されている。   On the other hand, the red light flux R is guided to the liquid crystal light valve 2030R via the light guide system 2044, where it is similarly modulated according to image information. In addition, as the light guide system 2044, an incident side lens 2045, an incident side reflecting mirror 2046, an emitting side reflecting mirror 2047, and an intermediate lens 2048 arranged therebetween are arranged.

次に、各液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030Bを通って変調された各色光束は、プリズムユニット2042に入射され、ここで再合成される。ここで再合成されたカラー画像は、投射レンズユニット2050を介して、所定の位置にあるスクリーン(投射面)上に拡大投射される。
(投射型表示装置におけるコントラスト向上対策)
図25に示すように構成した投射型表示装置2001を例にして、液晶装置(液晶ライトバルブ)の視角特性に合わせて、液晶ライトバルブ、およびこの液晶ライトバルブに対して光を導く光学部品の姿勢を適正化することにより、コントラストを向上する構成を説明する。
Next, each color light flux modulated through each liquid crystal light valve 2030R, 2030G, 2030B is incident on the prism unit 2042, where it is recombined. The recombined color image is enlarged and projected through a projection lens unit 2050 onto a screen (projection surface) at a predetermined position.
(Measures to improve contrast in projection display devices)
Taking the projection display device 2001 configured as shown in FIG. 25 as an example, a liquid crystal light valve and an optical component for guiding light to the liquid crystal light valve according to the viewing angle characteristics of the liquid crystal device (liquid crystal light valve). A configuration for improving the contrast by optimizing the posture will be described.

図26に一点鎖線で示すように、液晶ライトバルブ2030B、反射ミラー2026および集光レンズ2027Bは、従来、プリズムユニット2042の端面に対して直立した姿勢で配置されている。   26, the liquid crystal light valve 2030B, the reflection mirror 2026, and the condenser lens 2027B are conventionally arranged in an upright posture with respect to the end face of the prism unit 2042.

しかるに本実施形態では、図26に実線で示すように、液晶ライトバルブ2030Bが光軸L0(装置光軸)方向で前後にずれた斜め姿勢で配置されている。   However, in the present embodiment, as shown by the solid line in FIG. 26, the liquid crystal light valve 2030B is disposed in an oblique posture that is shifted back and forth in the direction of the optical axis L0 (device optical axis).

このため、液晶ライトバルブ2030Bに入射する光の光軸L0は、液晶装置1の光入射面の法線方向Mに対して所定の角度θ1だけ明視方向側(6時の側)に傾いている。従って、液晶ライトバルブ2030Bに対しては明視方向側から入射される光を多くし、逆明視方向からの光を少なくすることができるので、液晶ライトバルブ2030Bにおいてコントラストの高い表示を行うことができる。   Therefore, the optical axis L0 of the light incident on the liquid crystal light valve 2030B is inclined toward the clear viewing direction (side at 6:00) by a predetermined angle θ1 with respect to the normal direction M of the light incident surface of the liquid crystal device 1. I have. Therefore, it is possible to increase the light incident on the liquid crystal light valve 2030B from the clear viewing direction side and reduce the light from the reverse clear viewing direction, so that a display with high contrast can be performed in the liquid crystal light valve 2030B. Can be.

但し、液晶ライトバルブ2030Bを傾けすぎると、光源ランプ2011からの光を液晶ライトバルブ2030Bで合焦させようとしても、その焦点位置から液晶ライトバルブ2030Bが大きくずれることになる。その結果、液晶ライトバルブ2030Bの画像表示領域7のうち、焦点位置から大きくずれた部分では、画像の品位が低下する。   However, if the liquid crystal light valve 2030B is tilted too much, even if the light from the light source lamp 2011 is focused by the liquid crystal light valve 2030B, the liquid crystal light valve 2030B will be largely displaced from its focal position. As a result, in the image display area 7 of the liquid crystal light valve 2030B, the quality of the image is degraded in a portion largely shifted from the focal position.

そこで、本実施形態では、集光光学系(導光系2044)に用いた集光レンズ2027B(図25参照)については、液晶ライトバルブ2030Bに入射する光の光軸Lが液晶ライトバルブ2030Bの法線M方向に対してさらに明視方向側に傾くように、一点鎖線で示す直立姿勢からやや後方に倒して、実線で示すような斜め上向き姿勢にしてある。さらに、本実施形態では、集光光学系(導光系2044)に用いた反射ミラー2026(図25参照)についても、液晶ライトバルブ2030Bに入射する光の光軸Lが液晶ライトバルブ2030Bの法線M方向に対してさらに明視方向側に傾くように、一点鎖線で示す直立姿勢からやや後方に倒して、実線で示すような斜め上向き姿勢にしてある。このため、本実施形態では、焦点位置と液晶ライトバルブ2030Bの位置関係のずれに起因する画像の品位の低下を抑えるという観点から液晶ライトバルブ2030Bを傾ける角度に限界があって、実施の形態1ないし8などで説明した構成で光の方向を最適化するのを補いきれなくても、このような傾きの不足分を導光光学系の反射ミラー2026や集光レンズ2027Bの傾きによって補うことができる。よって、本実施形態によれば、液晶に入射する光の傾きを明視方向側に最適な条件にまで傾けることができる。   Therefore, in the present embodiment, regarding the condenser lens 2027B (see FIG. 25) used for the condenser optical system (light guide system 2044), the optical axis L of the light incident on the liquid crystal light valve 2030B is equal to that of the liquid crystal light valve 2030B. It is tilted slightly backward from the upright posture shown by the alternate long and short dash line so as to be inclined further upward with respect to the normal M direction, as shown by the solid line. Further, in the present embodiment, also with respect to the reflection mirror 2026 (see FIG. 25) used in the light collecting optical system (light guide system 2044), the optical axis L of the light incident on the liquid crystal light valve 2030B is the same as that of the liquid crystal light valve 2030B. It is tilted slightly backward from the upright posture shown by the alternate long and short dash line so as to be further inclined to the clear visual direction side with respect to the direction of the line M, so as to have an obliquely upward posture shown by the solid line. For this reason, in the present embodiment, there is a limit to the angle at which the liquid crystal light valve 2030B can be tilted from the viewpoint of suppressing deterioration in image quality due to a shift in the positional relationship between the focal position and the liquid crystal light valve 2030B. Even if it is not possible to compensate for optimizing the direction of the light with the configuration described in the paragraphs 8 to 8, etc., such a shortage of the inclination can be compensated for by the inclination of the reflection mirror 2026 and the condenser lens 2027B of the light guide optical system. it can. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to incline the light incident on the liquid crystal toward the clear viewing direction to an optimum condition.

なお、液晶ライトバルブ2030Bに対する光軸の傾きは、上記のように集光レンズ2027Bや反射ミラー2026によって最適化することができるが、液晶ライトバルブ2030Rに対する光軸の傾きは、たとえば、集光レンズ2027Rや反射ミラー2047などよって行うことができ、液晶ライトバルブ2030Gに対する光軸の傾きは、たとえば、集光レンズ2027Gや緑反射ダイクロイックミラー2024などよって行うことができる。   The inclination of the optical axis with respect to the liquid crystal light valve 2030B can be optimized by the condenser lens 2027B and the reflection mirror 2026 as described above. 2027R, a reflection mirror 2047, or the like, and the inclination of the optical axis with respect to the liquid crystal light valve 2030G can be performed, for example, by a condenser lens 2027G, a green reflection dichroic mirror 2024, or the like.

また、本実施形態の投射型表示装置のように、液晶ライトバルブ(液晶装置)が複数枚用いられている場合には、各液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030B毎に、入射する光の光軸が各液晶ライトバルブの法線方向に対して傾く角度が最適な角度に設定されていることが好ましい。このように構成する際には、各液晶ライトバルブ2030R、2030G、2030B自身の傾きについては同等とし、対応する集光レンズや反射ミラーの傾きを各色毎に最適化することが好ましい。   Further, when a plurality of liquid crystal light valves (liquid crystal devices) are used as in the projection type display device of the present embodiment, the optical axis of the incident light is set for each of the liquid crystal light valves 2030R, 2030G, and 2030B. It is preferable that the angle of inclination of the liquid crystal light valve with respect to the normal direction of each liquid crystal light valve is set to an optimum angle. In such a configuration, it is preferable that the inclination of each of the liquid crystal light valves 2030R, 2030G, and 2030B be the same, and the inclination of the corresponding condenser lens and reflection mirror be optimized for each color.

本発明を適用した液晶装置を対向基板の側からみた平面図である。1 is a plan view of a liquid crystal device to which the present invention is applied, as viewed from a counter substrate side. 図1に示す液晶装置をH−H′線で切断したときの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal device shown in FIG. 1 taken along the line HH ′. 図1に示す液晶装置の構成を模式的に示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating a configuration of the liquid crystal device illustrated in FIG. 1. 図1に示す液晶装置の画素領域の一部を抜き出して示す平面図である。FIG. 2 is a plan view illustrating a part of a pixel region of the liquid crystal device illustrated in FIG. 1. 図4におけるA−A′線におけるアクティブマトリクス基板の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of the active matrix substrate taken along line AA ′ in FIG. 4. 本発明の実施の形態1に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view illustrating an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates in the liquid crystal device according to Embodiment 1 of the present invention. 図6に示す液晶装置のアクティブマトリクス基板および対向基板のそれぞれに形成した第1および第2の遮光膜の位置関係を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view illustrating a positional relationship between first and second light-shielding films formed on an active matrix substrate and a counter substrate of the liquid crystal device illustrated in FIG. 6. 図6に示す液晶装置のアクティブマトリクス基板および対向基板のそれぞれに形成した第1および第2の遮光膜の位置関係を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a positional relationship between first and second light shielding films formed on an active matrix substrate and a counter substrate of the liquid crystal device illustrated in FIG. 6. 本発明の実施の形態2に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 2 of the present invention. 図9に示す液晶装置のアクティブマトリクス基板および対向基板のそれぞれに形成した第1および第2の遮光膜の位置関係を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view illustrating a positional relationship between first and second light-shielding films formed on an active matrix substrate and a counter substrate of the liquid crystal device illustrated in FIG. 9. 図9に示す液晶装置のアクティブマトリクス基板および対向基板のそれぞれに形成した第1および第2の遮光膜の位置関係を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating a positional relationship between first and second light-shielding films formed on an active matrix substrate and a counter substrate of the liquid crystal device illustrated in FIG. 9. 本発明の実施の形態3に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 3 of the present invention. 図12に示す液晶装置の対向基板に形成したマイクロレンズと、アクティブマトリクス基板に形成した画素電極との位置関係を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view illustrating a positional relationship between microlenses formed on a counter substrate of the liquid crystal device shown in FIG. 12 and pixel electrodes formed on an active matrix substrate. 図12に示す液晶装置の対向基板に形成したマイクロレンズと、アクティブマトリクス基板に形成した画素電極との位置関係を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram illustrating a positional relationship between microlenses formed on a counter substrate of the liquid crystal device shown in FIG. 12 and pixel electrodes formed on an active matrix substrate. 本発明の実施の形態4に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 4 of the present invention. 本発明の実施の形態4の変形例に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to a modification of the fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態5に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 5 of the present invention. 本発明の実施の形態5の変形例に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 21 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to a modification of the fifth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態6に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 6 of the present invention. 本発明の実施の形態7に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 19 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 7 of the present invention. 本発明の実施の形態8に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 19 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to Embodiment 8 of the present invention. 本発明の実施の形態8の第1変形例に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 25 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a structure for bonding these substrates in a liquid crystal device according to a first modification of the eighth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態8の第2変形例に係る液晶装置におけるアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 21 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates in a liquid crystal device according to a second modification of the eighth embodiment of the present invention. 本発明を適用した液晶装置の使用例を示す表示装置の回路構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating a circuit configuration of a display device illustrating an example of use of a liquid crystal device to which the present invention is applied. 本発明を適用した液晶装置の使用例を示す投射型表示装置の全体構成図である。1 is an overall configuration diagram of a projection display device showing an example of use of a liquid crystal device to which the present invention is applied. 図25に示す投射型表示装置における液晶装置、集光レンズ、および反射ミラーの姿勢を改良した例を示す説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram showing an example in which the orientations of a liquid crystal device, a condenser lens, and a reflection mirror in the projection display device shown in FIG. 25 are improved. 従来の液晶装置に用いたアクティブマトリクス基板、対向基板およびこれらの基板の貼り合わせ構造を拡大して示す断面図である。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view showing an active matrix substrate, a counter substrate, and a bonding structure of these substrates used in a conventional liquid crystal device. 液晶装置において基板間で液晶の長軸方向が90°捩じれていく様子を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which the major axis direction of liquid crystal is twisted by 90 ° between substrates in a liquid crystal device. (A)、(B)はそれぞれ、液晶装置の3時−9時方向におけるコントラスト変化を示すグラフ、および液晶装置の6時−12時方向におけるコントラスト変化を示すグラフである。(A) and (B) are a graph showing a contrast change in the 3 o'clock and 9 o'clock directions of the liquid crystal device, and a graph showing a contrast change in the 6 o'clock and 12 o'clock direction of the liquid crystal device, respectively. 液晶装置に斜め方向から光が入射する様子を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a state in which light is incident on a liquid crystal device from an oblique direction.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 液晶装置
4 画像表示領域
6 アクティブマトリクス基板側の第1の遮光膜
7 対向基板側の第2の遮光膜
8 画素電極
10 画素スイッチング用のTFT
20 アクティブマトリクス基板(第1の基板/他方の基板)
21 アクティブマトリクス基板側の第1の開口領域
30 対向基板(第2の基板/一方の基板)
31 対向基板側の第2の開口領域
32 対向電極
39 液晶
40 レンズアレイ基板
40A 中間屈折率層
40B 低屈折率層
40C 高屈折率層
41 マイクロレンズ
48 接着剤
49 薄板ガラス
52 シール材
81 画素電極の中心位置
90 データ線
91 走査線
211 第1の開口領域の中心位置
311 第2の開口領域の中心位置
411 マイクロレンズの光学的中心位置
Reference Signs List 1 liquid crystal device 4 image display area 6 first light-shielding film 7 on active matrix substrate side second light-shielding film 8 on opposite substrate side 8 pixel electrode 10 pixel switching TFT
20 Active matrix substrate (first substrate / other substrate)
21 First opening area 30 on active matrix substrate side Opposing substrate (second substrate / one substrate)
31 second opening region on the counter substrate side 32 counter electrode 39 liquid crystal 40 lens array substrate 40A intermediate refractive index layer 40B low refractive index layer 40C high refractive index layer 41 micro lens 48 adhesive 49 thin glass 52 sealing material 81 pixel electrode Center position 90 Data line 91 Scan line 211 Center position 311 of first opening region Center position 411 of second opening region Optical center position of microlens

Claims (10)

第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、
光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、
前記マイクロレンズは、光入射側の面及び出射側の面は平面であり、
さらに、前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射面側に形成された高屈折率層、および前記高屈折率層に接して形成された低屈折率層からなり、前記低屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて厚く、逆明視方向側に向けて薄くなると共に、前記高屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて薄く、逆明視方向側に向けて厚くなることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device having a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates,
One of the first and second substrates on which light is incident includes a microlens corresponding to a pixel,
The microlens has a plane on the light incident side and a plane on the emission side,
Further, the microlens comprises a high refractive index layer formed on the light incident surface side of the one substrate, and a low refractive index layer formed in contact with the high refractive index layer, and the low refractive index layer is It is thicker from the pixel center side toward the clear viewing direction side and thinner toward the reverse clear viewing direction side, and the high refractive index layer is thinner from the pixel center side toward the clear viewing direction side and is closer to the reverse clear viewing direction side. A liquid crystal device characterized by being thicker toward the surface.
第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、
光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、
前記マイクロレンズは、光入射側の面及び出射側の面は平面であり、
さらに、前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射側に形成された低屈折率層、および前記低屈折率層に接して基板の光出射側に形成された高屈折率層からなり、前記高屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて薄く、逆明視方向側に向けて厚くなると共に、前記低屈折率層は画素中心側から明視方向側に向けて厚く、逆明視方向側に向けて薄くなることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device having a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates,
One of the first and second substrates on which light is incident includes a microlens corresponding to a pixel,
The microlens has a plane on the light incident side and a plane on the emission side,
Further, the microlens comprises a low refractive index layer formed on the light incident side of the one substrate, and a high refractive index layer formed on the light emitting side of the substrate in contact with the low refractive index layer, The high refractive index layer is thinner from the pixel center side toward the clear viewing direction side and thicker toward the reverse clear viewing direction side, and the low refractive index layer is thicker from the pixel center side toward the clear viewing direction side, A liquid crystal device characterized by being thinner toward a clear viewing direction.
第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、
光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、
前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射側に形成された中間屈折率層、当該基板の光出射側の明視方向側に形成された低屈折率層、および当該基板の光出射側で前記低屈折率層に対して逆明視方向側で隣接する高屈折率層からなり、前記低屈折率層および前記高屈折率層がそれぞれ画素中心側から明視方向側および逆明視方向側に向かって厚くなっていることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device having a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates,
One of the first and second substrates on which light is incident includes a microlens corresponding to a pixel,
The microlens has an intermediate refractive index layer formed on the light incident side of the one substrate, a low refractive index layer formed on the light emitting side of the substrate in the clear viewing direction, and a light emitting side of the substrate. The high-refractive-index layer adjacent to the low-refractive-index layer on the reverse clear-vision direction side, wherein the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer are respectively located on the clear-vision direction side and the reverse clear-vision direction side from the pixel center side. A liquid crystal device, characterized in that the thickness of the liquid crystal device increases.
第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板と、前記第1および第2の基板の間に挟持された液晶とを有する液晶装置において、
光が入射される前記第1および第2の基板のうち一方の基板には、画素に対応したマイクロレンズを備え、
前記マイクロレンズは、前記一方の基板の光入射側に形成された中間屈折率層、当該基板の光出射側の明視方向側に形成された高屈折率層、および当該基板の光出射側で前記高屈折率層に対して逆明視方向側で隣接する低屈折率層からなり、前記高屈折率層および前記低屈折率層がそれぞれ画素中心側から明視方向側および逆明視方向側に向かって薄くなっていることを特徴とする液晶装置。
In a liquid crystal device having a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal sandwiched between the first and second substrates,
One of the first and second substrates on which light is incident includes a microlens corresponding to a pixel,
The microlens includes an intermediate refractive index layer formed on the light incident side of the one substrate, a high refractive index layer formed on the light emitting side of the substrate in the clear viewing direction, and a light emitting side of the substrate. The low refractive index layer adjacent to the high refractive index layer on the reverse clear viewing direction side, wherein the high refractive index layer and the low refractive index layer are respectively from the pixel center side to the clear viewing direction side and the reverse clear viewing direction side. A liquid crystal device characterized by being thinner toward.
請求項1ないし4のいずれか一項に規定する液晶装置を用いた投射型表示装置であって、光源と、該光源から出射された光を前記液晶装置に導く集光光学系と、当該液晶装置で光変調した光を拡大投射する拡大投射光学系とを有することを特徴とする投射型表示装置。   A projection type display device using the liquid crystal device defined in any one of claims 1 to 4, comprising a light source, a light-collecting optical system for guiding light emitted from the light source to the liquid crystal device, and the liquid crystal. And a magnifying projection optical system for magnifying and projecting light modulated by the device. 請求項5において、前記液晶装置に入射する光の光軸が当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾くように構成されていることを特徴とする投射型表示装置。   6. The projection display device according to claim 5, wherein an optical axis of light incident on the liquid crystal device is inclined toward a clear viewing direction with respect to a normal direction of the liquid crystal device. 請求項6において、前記液晶装置は、当該液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置されていることを特徴とする投射型表示装置。   7. The liquid crystal device according to claim 6, wherein the liquid crystal device is disposed in an oblique posture in which an optical axis of light incident on the liquid crystal device is inclined toward a clear viewing direction with respect to a normal direction of the liquid crystal device. Projection display device. 請求項6または7において、前記集光光学系に用いた集光レンズは、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置されていることを特徴とする投射型表示装置。   9. The condensing lens according to claim 6, wherein the condensing lens used in the condensing optical system tilts an optical axis of light incident on the liquid crystal device toward a clear viewing direction with respect to a normal direction of the liquid crystal device. A projection type display device characterized by being arranged in: 請求項6ないし8のいずれか一項において、前記集光光学系に用いた反射ミラーは、前記液晶装置に入射する光の光軸を当該液晶装置の法線方向に対して明視方向側に傾かせる斜め姿勢で配置されていることを特徴とする投射型表示装置。   9. The reflection mirror according to claim 6, wherein the reflection mirror used in the condensing optical system is configured such that an optical axis of light incident on the liquid crystal device is in a clear viewing direction side with respect to a normal direction of the liquid crystal device. A projection-type display device, wherein the projection-type display device is disposed in an oblique posture. 請求項6ないし8のいずれか一項において、前記液晶装置が複数枚用いられているとともに、該複数枚の液晶装置毎に、入射する光の光軸が液晶装置の法線方向に対して傾いている角度がそれぞれ所定の値に設定されていることを特徴とする投射型表示装置。
9. The liquid crystal device according to claim 6, wherein a plurality of the liquid crystal devices are used, and an optical axis of incident light is inclined with respect to a normal direction of the liquid crystal device for each of the plurality of liquid crystal devices. The projection type display device, wherein the respective angles are set to predetermined values.
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