JP2001313470A - Capacitor including wiring board - Google Patents

Capacitor including wiring board

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JP2001313470A
JP2001313470A JP2000187101A JP2000187101A JP2001313470A JP 2001313470 A JP2001313470 A JP 2001313470A JP 2000187101 A JP2000187101 A JP 2000187101A JP 2000187101 A JP2000187101 A JP 2000187101A JP 2001313470 A JP2001313470 A JP 2001313470A
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JP
Japan
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mass
crystal
capacitor
wiring board
built
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Application number
JP2000187101A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidetoshi Mizutani
秀俊 水谷
Tsutomu Sakai
努 境
Shinji Suzumura
真司 鈴村
Junichi Ito
淳一 伊藤
Motohiko Sato
元彦 佐藤
Satoshi Iio
聡 飯尾
Kazue Obayashi
和重 大林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitor including wiring board which uses low temperature baked porcelain composition which can be made dense at a low temperature equal to or lower than 1000 deg.C and has both stable low permittivity and low dielectric loss, as an insulating layer. SOLUTION: The low temperature baked porcelain composition containing Sr2MgSi2O7 crystal as main crystal is used for the insulating layer. For a dielectrics layer, a dielectrics layer whose main component is barium titanate having high permittivity and to which a small quantity (<=20 mass %, preferably <=10 mass %) of sintering auxiliary is added is used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、1000℃以下の低温
で焼成が可能で、高周波領域において優れた誘電特性を
有し、高強度な低温焼成磁器組成物を絶縁体層に用いた
コンデンサ内蔵配線基板に関する。Ag、Cu等の低抵
抗金属を配線層に用いたコンデンサ内蔵配線基板として
好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a built-in capacitor which can be fired at a low temperature of 1000.degree. C. or less, has excellent dielectric properties in a high frequency range, and uses a high-strength low-temperature fired porcelain composition for an insulator layer. Related to a wiring board. It is suitable as a wiring board with a built-in capacitor using a low-resistance metal such as Ag or Cu for the wiring layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の信号処理速度の高速化や配線の高
密度化に対応するためには、コンデンサ等の受動回路素
子を配線基板内部に内蔵することが必要とされる。しか
も、配線基板としての電気信号の伝送損失を少しでも低
減するため、より低抵抗のAg、Cu等の低融点金属か
らなる配線と1000℃以下の焼成温度で同時焼成可能
であることが要求される。更には、絶縁層自体は誘電損
失を抑えるために、より誘電率の低いものが必要とされ
る。このような市場の要求に応えるために、特定結晶相
を含む低誘電損失ガラスセラミック組成物を絶縁体層に
用いた低温焼成配線基板が種々検討されている。
2. Description of the Related Art In order to cope with recent increases in signal processing speed and wiring density, it is necessary to incorporate passive circuit elements such as capacitors inside a wiring board. In addition, in order to reduce the transmission loss of electric signals as a wiring board, it is required that the wiring can be simultaneously fired at a firing temperature of 1000 ° C. or lower with a wiring made of a low-resistance metal such as Ag or Cu having a lower resistance. You. Further, the insulating layer itself needs to have a lower dielectric constant in order to suppress dielectric loss. In order to meet such market demands, various studies have been made on low-temperature fired wiring boards using a low dielectric loss glass-ceramic composition containing a specific crystal phase for an insulator layer.

【0003】絶縁体層がフォルステライト、モンチセラ
イト、アカーマナイト、エンスタタイト等の結晶相を含
むコンデンサ内蔵配線基板が、特開平2−305490
号公報、特開平3−241724号公報、特開平4−1
67412号公報、特開平5−55079号公報に開示
されている。
A wiring board with a built-in capacitor in which an insulator layer contains a crystal phase such as forsterite, monticelite, akermanite, enstatite, etc. is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-305490.
JP, JP-A-3-241724, JP-A-4-1
No. 67412 and JP-A-5-55079.

【0004】1000℃以下の低温焼成により特定結晶
相を析出させた絶縁体層用途のガラスセラミック組成物
も種々検討されている。アノーサイト、ガーナイト等の
結晶を含む低温焼成基板用組成物が特開平7−1113
72号公報に開示されている。フォルステライト、コー
ジェライト等の結晶を含む低誘電損失ガラス組成物が特
表平11−511719号公報に開示されている。ま
た、主結晶にジオプサイトを含むガラスセラミック組成
物が特開平10−120436号公報、特開平11−4
9531号公報に開示されている。尚、これまでにSr
2MgSi27結晶の低温焼成磁器組成物及びコンデン
サ内蔵配線基板としての利用は知られていない。
[0004] Various studies have been made on glass-ceramic compositions for use as an insulator layer in which a specific crystal phase is precipitated by firing at a low temperature of 1000 ° C or lower. JP-A-7-11313 discloses a composition for a low-temperature fired substrate containing crystals such as anorthite and garnite.
No. 72 is disclosed. A low dielectric loss glass composition containing a crystal such as forsterite or cordierite is disclosed in Japanese Patent Publication No. 11-511719. Further, glass ceramic compositions containing diopsite in the main crystal are disclosed in JP-A-10-120436 and JP-A-11-4104.
No. 9531. In addition, so far Sr
The use of 2 MgSi 2 O 7 crystal as a low-temperature fired porcelain composition and a wiring board with a built-in capacitor is not known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、絶縁体層
に特定結晶を析出させて、配線基板の高周波での誘電損
失の増加等を解決したコンデンサ内蔵配線基板は知られ
ている。しかし、結晶を効率よく析出させるためには1
200℃以上の温度で焼成する必要がある。そのため、
融点が1100℃以下の低抵抗金属であるAgやCuを
用いて同時焼成することができなかった。代わりにAg
/Pd等の高融点、高抵抗金属を用いるため、配線抵抗
による電気信号の伝送損失を低減することができなかっ
た。
As described above, there is known a wiring board with a built-in capacitor in which a specific crystal is deposited on an insulator layer to solve an increase in dielectric loss at a high frequency of the wiring board. However, in order to precipitate crystals efficiently, 1
It is necessary to fire at a temperature of 200 ° C. or higher. for that reason,
Simultaneous firing was not possible using Ag or Cu, which are low resistance metals having a melting point of 1100 ° C. or less. Ag instead
Since a high melting point and high resistance metal such as / Pd is used, transmission loss of an electric signal due to wiring resistance could not be reduced.

【0006】上記問題を解消するために、前述したよう
に、1000℃以下の低温焼成により特定結晶を析出さ
せて、安定した低誘電率及び低誘電損失を兼備した低温
焼成磁器組成物が種々検討されている。しかし、出発原
料として結晶化ガラスを用いているため、ガラス原料の
粉砕状態や不純物等の影響により、結晶化の度合いにバ
ラツキが発生しやすく、安定した特定の配線基板が得難
い問題がある。
In order to solve the above-mentioned problems, as described above, low-temperature fired porcelain compositions having stable low dielectric constant and low dielectric loss by depositing specific crystals by firing at a low temperature of 1000 ° C. or less have been studied. Have been. However, since crystallized glass is used as a starting material, there is a problem that the degree of crystallization is likely to vary due to the influence of the pulverized state of the glass material, impurities, and the like, and it is difficult to obtain a stable specific wiring substrate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、絶縁
体層が、Sr2MgSi27結晶を主結晶として含有す
る低温焼成磁器組成物を絶縁体層に用いたコンデンサ内
蔵配線基板を要旨とする。絶縁体層にSr2MgSi2
7結晶を主結晶として含有することにより、高周波領域
において優れた誘電特性を発揮することができるととも
に、コンデンサ部への余剰のガラス成分の拡散を抑え
て、性能の安定したコンデンサ部を形成できる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a wiring board with a built-in capacitor, wherein the insulator layer comprises a low-temperature fired ceramic composition containing Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal for the insulator layer. Is the gist. Sr 2 MgSi 2 O for the insulator layer
By containing seven crystals as the main crystal, it is possible to exhibit excellent dielectric properties in a high frequency region, suppress excessive glass component diffusion into the capacitor part, and form a capacitor part with stable performance.

【0008】本発明の低温焼成配線基板の絶縁体層は、
通常、60〜99.7重量%の結晶相を有する。上記
「Sr2MgSi27結晶」は、「主結晶相」として含
有され、全結晶相のうち、20重量%以上含有され、2
0〜100重量%含有されることが好ましく、特に、3
0〜70重量%含有されることがより好ましい。このS
2MgSi27結晶は、高周波領域における誘電特性
に優れ、熱膨張係数が大きく、その融点は1560℃と
高いため、1000℃以下での焼成においては安定に存
在することができる。
[0008] The insulator layer of the low-temperature fired wiring board of the present invention comprises:
Usually, it has a crystal phase of 60 to 99.7% by weight. The above “Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal” is contained as a “main crystal phase” and accounts for at least 20% by weight of all crystal phases.
It is preferably contained in an amount of 0 to 100% by weight.
More preferably, it is contained in an amount of 0 to 70% by weight. This S
The r 2 MgSi 2 O 7 crystal has excellent dielectric properties in a high frequency range, has a large coefficient of thermal expansion, and has a high melting point of 1560 ° C., so that it can stably exist when fired at 1000 ° C. or lower.

【0009】特に、絶縁体層100質量%に対してSr
2MgSi27結晶を30〜99.7質量%(好ましく
は40〜80重量%、より好ましくは50〜70重量
%)含有すると誘電特性が向上してよい。また、酸化物
換算でセラミック成分を0.1〜10重量%(好ましく
は0.1〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重量
%)、酸化物換算でホウ素成分を0.1〜10重量%
(好ましくは0.1〜5重量%、より好ましくは0.1
〜3重量%)、酸化物換算でアルカリ金属成分を0.1
〜10重量%(好ましくは0.1〜5重量%、より好ま
しくは0.1〜3重量%)、各々含有するとよい。焼結
性や機械的強度を向上することができる。尚、これら以
外にも40重量%以下の他の成分を含有してもよい
In particular, Sr with respect to 100% by mass of the insulator layer
2 MgSi 2 O 7 crystal 30 to 99.7% by weight (preferably 40 to 80 wt%, more preferably 50 to 70 wt%) dielectric properties may be enhanced to contain. Further, the ceramic component is 0.1 to 10% by weight (preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight) in terms of oxide, and the boron component is 0.1 to 10% in terms of oxide. 10% by weight
(Preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
-3% by weight), and 0.1% of alkali metal component in terms of oxide.
To 10% by weight (preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight). Sinterability and mechanical strength can be improved. In addition, other components may be contained in an amount of 40% by weight or less.

【0010】ここでは、出発原料にはガラス粉末を用い
ないで、主結晶としてSr2MgSi27結晶を含有す
る仮焼粉末を用いる。この仮焼粉末に焼結助剤を少量添
加することにより、ガラス粉末を用いた場合に発生する
前記諸問題を解決できる。焼結助剤には、B23やアル
カリ金属酸化物(特にはLi2O)を用いるのがよい。
主結晶相の析出を阻害することなく焼結性を向上できる
からである。「仮焼物」とは、所定の成分を含有する原
料粉末を1000〜1200℃(好ましくは1000〜
1150℃、より好ましくは1000〜1100℃)で
焼成し、急冷(1分間に20℃以上降温させること)せ
ずに室温まで冷却したものをいう。この仮焼物の80重
量%以上(更には90重量%以上、特に95〜100重
量%)は結晶であることが誘電特性上好ましい。
Here, a glass powder is not used as a starting material, but a calcined powder containing Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal is used. By adding a small amount of a sintering aid to the calcined powder, the above-mentioned problems that occur when glass powder is used can be solved. It is preferable to use B 2 O 3 or an alkali metal oxide (particularly Li 2 O) as the sintering aid.
This is because sinterability can be improved without inhibiting the precipitation of the main crystal phase. The term “calcined product” refers to a raw material powder containing a predetermined component at 1000 to 1200 ° C. (preferably 1000 to
Baking at 1150 ° C., more preferably 1000 to 1100 ° C., and cooling to room temperature without quenching (decreasing the temperature by 20 ° C. or more per minute). 80% by weight or more (more preferably 90% by weight or more, particularly 95 to 100% by weight) of the calcined product is preferably crystalline in view of dielectric properties.

【0011】誘電体層は、1000℃以下で焼成できる
ものであればよい。例えば、BaTiO3、、BaTi4
9、SrTiO3、BaZrO3、CaZrO3、SrZ
rO 3、BaSnO3、CaSnO3、SrSnO3等を主
成分とするとともに、焼結助剤を少量添加(20質量%
以下、好ましくは10質量%以下)した誘電体層を用い
るのがよい。また、副成分としてNd、Nb等の希土類
元素等を含んでいるのがよい。焼結助剤には、B23
アルカリ金属酸化物(特にはLi2O)、ZnO、Si
2、CuO、Bi23、MgO、MnO等を用いるの
がよい。焼結助剤の添加を少量に抑えることで、絶縁体
層へのガラス成分の拡散を抑えて、Sr 2MgSi27
結晶相の析出を阻害することが無くなる。
The dielectric layer can be fired at 1000 ° C. or less.
Anything should do. For example, BaTiOThree,, BaTiFour
O9, SrTiOThree, BaZrOThree, CaZrOThree, SrZ
rO Three, BaSnOThree, CaSnOThree, SrSnOThreeMainly
And a small amount of sintering aid (20% by mass)
Below, preferably 10% by mass or less)
Is good. Rare earth elements such as Nd and Nb
It preferably contains an element or the like. B as a sintering aidTwoOThreeAnd
Alkali metal oxide (particularly LiTwoO), ZnO, Si
OTwo, CuO, BiTwoOThree, MgO, MnO, etc.
Is good. By minimizing the addition of sintering aids, insulation
Sr by suppressing the diffusion of the glass component into the layer TwoMgSiTwoO7
The precipitation of the crystal phase is not hindered.

【0012】この誘電体層は、1000℃以下(850
〜1000℃)の低温焼成が可能なため、前記絶縁体層
及びAgやCuからなる配線層と同時焼成が可能であ
る。本発明のコンデンサ内蔵配線基板の誘電体層は、容
量が500pF以上(好ましくは600pF、より好ま
しくは700pF)、誘電率εが1000以上(好まし
くは1200以上、より好ましくは1500以上、より
好ましくは2000以上)であるとよい。
This dielectric layer has a temperature of 1000 ° C. or less (850
(Up to 1000 ° C.), it is possible to fire simultaneously with the insulator layer and the wiring layer made of Ag or Cu. The dielectric layer of the wiring board with a built-in capacitor of the present invention has a capacitance of 500 pF or more (preferably 600 pF, more preferably 700 pF) and a dielectric constant ε of 1000 or more (preferably 1200 or more, more preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more). Above).

【0013】本発明のコンデンサ内蔵配線基板の誘電体
層は、高い誘電率を有するチタン酸バリウムを主成分と
するとともに、焼結助剤を少量添加(20質量%以下、
好ましくは10質量%以下)したものを用いるのが特に
よい。焼結助剤には、B23やアルカリ金属酸化物(特
にはLi2O)、ZnO、SiO2、CuO、Bi23
MgO、MnO等を用いるのがよい。この誘電体層は、
1000℃以下(850〜1000℃)の低温焼成が可
能なため、前記絶縁体層及びAgやAuからなる配線層
と同時焼成が可能であるとともに、工業的に安定して入
手可能な市販のチタン酸バリウムを利用して製品の安定
化を図ることができる。また、BaTi 49を主成分或
いは副成分として含むものを用いても良い。添加物等に
ついては前述したものを用いることができる。
The dielectric of the wiring board with a built-in capacitor of the present invention
The layer is based on barium titanate with a high dielectric constant
While adding a small amount of a sintering aid (20% by mass or less,
(Preferably 10% by mass or less).
Good. B as a sintering aidTwoOThreeAnd alkali metal oxides (special
LiTwoO), ZnO, SiOTwo, CuO, BiTwoOThree,
It is preferable to use MgO, MnO, or the like. This dielectric layer
Can be fired at low temperatures below 1000 ° C (850-1000 ° C)
The insulating layer and the wiring layer made of Ag or Au
Can be fired at the same time as
Product stability using available commercially available barium titanate
Can be achieved. In addition, BaTi FourO9The main component or
Alternatively, those containing as accessory components may be used. For additives
As for the above, those described above can be used.

【0014】これらの原料を公知のドクターブレード法
を用いてそれぞれグリーンシート化する。添加成分は、
各成分の粉末を混合して用いてもよいし、各成分を含む
ガラス粉末を用いてもよい。また、焼成により各成分と
なる有機酸塩等を用いてもよい。この場合は、粉末状物
でもナフテン酸塩のような液状物でもよい。グリーンシ
ート上には、Ag、Au等の低抵抗金属を含む導電ペー
ストを用いてスクリーン印刷法により配線層が印刷形成
されている。このグリーンシートを所定の構成に圧着し
て、焼成によりコンデンサ内蔵配線基板となる積層体を
形成する。この積層体を1000℃以下(850〜10
00℃)で低温焼成して、目的とするコンデンサ内蔵配
線基板を得る。
Each of these raw materials is formed into a green sheet using a known doctor blade method. The additional components are
The powder of each component may be used as a mixture, or a glass powder containing each component may be used. Further, an organic acid salt or the like which becomes each component by firing may be used. In this case, a powdery substance or a liquid substance such as a naphthenate may be used. A wiring layer is formed on the green sheet by screen printing using a conductive paste containing a low-resistance metal such as Ag or Au. The green sheet is pressed into a predetermined configuration and fired to form a laminate that becomes a wiring board with a built-in capacitor. This laminate is kept at 1000 ° C. or less (850 to 10
(00 ° C.) to obtain a desired wiring board with a built-in capacitor.

【0015】本発明のコンデンサ内蔵配線基板の絶縁体
層には、20μm以下の長径を有するSr2MgSi2
7結晶粒子が分散しているのがよい。好ましい長径は1
5μm以下、より好ましい長径は10μm以下、更に好
ましくは5μm以下である。下限値は0.1μm以上で
ある。また、この所定の粒径を有する結晶の含有量は、
30〜99.7重量%であることが好ましく、30〜7
0重量%であることがより好ましい。粒径及び含有量が
上記範囲であれば、低誘電率であり、誘電損失が小さ
く、且つ高熱膨張である低温焼成磁器組成物となる。
The insulating layer of the wiring board with a built-in capacitor according to the present invention has Sr 2 MgSi 2 O having a long diameter of 20 μm or less.
It is good that 7 crystal particles are dispersed. Preferred major axis is 1
The major axis is preferably 5 μm or less, more preferably 5 μm or less, and still more preferably 5 μm or less. The lower limit is 0.1 μm or more. The content of the crystal having the predetermined particle size is
30 to 99.7% by weight, preferably 30 to 7% by weight.
More preferably, it is 0% by weight. When the particle size and the content are in the above ranges, a low-temperature fired porcelain composition having a low dielectric constant, a small dielectric loss, and a high thermal expansion is obtained.

【0016】長径の測定は、焼結体のラップ断面(いわ
ゆる鏡面研磨面)の組織観察するのがよい。例えば、倍
率2000倍のSEM像を撮影した写真を用いて確認す
るのが簡便でよい。長径は、一つのSr2MgSi27
結晶粒子の最も離れた2点間を直線で結び、その長さを
採るのがよい。上記のSEM像の写真1枚あたりから任
意に10のSr2MgSi27結晶粒子を抽出し、その
平均値を採る。一つの試料については、少なくとも3個
所以上の場所について同様の作業を行い、その総合平均
値をSr2MgSi27結晶粒子の長径として採る。
For measuring the major axis, it is preferable to observe the structure of the lap section (so-called mirror-polished surface) of the sintered body. For example, it is convenient and easy to confirm using a photograph of a SEM image of 2000 times magnification. The major axis is one Sr 2 MgSi 2 O 7
It is preferable to connect the two farthest points of the crystal grains with a straight line and take the length. Ten Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal particles are arbitrarily extracted from each photograph of the SEM image, and the average value is taken. For one sample, the same operation is performed for at least three or more locations, and the total average value is taken as the major axis of the Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal particles.

【0017】Sr2MgSi27結晶の融点は1560
℃と高いため、主結晶としてSr2MgSi27結晶を
含有する仮焼粉末を用いる絶縁体層を有する本発明のコ
ンデンサ内蔵配線基板の焼成温度(1000℃以下)で
は安定している。したがって、誘電特性を効果的に安定
化できる。また、絶縁体層中のガラス成分の含有量が少
ないため、焼成中のガラス成分の誘電体層への拡散によ
ってコンデンサ特性を劣化させることがない。
The melting point of the Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal is 1560.
Because of the high temperature of 1000 ° C., it is stable at the firing temperature (1000 ° C. or lower) of the wiring board with a built-in capacitor of the present invention having an insulator layer using a calcined powder containing Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal. Therefore, the dielectric characteristics can be effectively stabilized. In addition, since the content of the glass component in the insulator layer is small, the capacitor characteristics do not deteriorate due to the diffusion of the glass component into the dielectric layer during firing.

【0018】本発明のコンデンサ内蔵配線基板の絶縁体
層は、その誘電率εが7以下、好ましくは6.5以下、
特には6.0以下(通常、4以上)になるように調製す
るとよい。誘電損失を低く押さえることができるからで
ある。好ましくは、そのQ×f値(無負荷品質係数と共
振周波数の積)が3000GHz以上、好ましくは50
00GHz以上(通常、20000GHz以下)になる
ように調製するのがよい。具体的には、組成比に応じて
焼成条件や粉末の状態を適宜最適化することで実現でき
る。通常、出発原料にはガラス粉末を用いた場合、その
誘電率εは7を越えてしまう。本発明では、出発原料に
主結晶としてSr2MgSi27結晶を含有する仮焼粉
末を用いることで、その誘電率εを7以下に低減すると
ともに、3000GHz以上の優れたQ×f値を実現で
きる。この誘電率、無負荷品質係数及び共振周波数はJ
IS R 1627に従い測定することができ、Qu×
fは無負荷品質係数と共振周波数から算出することがで
きる。
The insulator layer of the wiring board with a built-in capacitor of the present invention has a dielectric constant ε of 7 or less, preferably 6.5 or less.
In particular, it is preferable to adjust the pH to 6.0 or less (usually 4 or more). This is because the dielectric loss can be kept low. Preferably, the Q × f value (product of the no-load quality factor and the resonance frequency) is 3000 GHz or more, preferably 50 GHz or more.
It is preferable to prepare so as to be 00 GHz or more (usually, 20,000 GHz or less). Specifically, it can be realized by appropriately optimizing the firing conditions and powder state according to the composition ratio. Usually, when glass powder is used as a starting material, its dielectric constant ε exceeds 7. In the present invention, by using a calcined powder containing Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal as a starting material, the dielectric constant ε is reduced to 7 or less, and an excellent Q × f value of 3000 GHz or more is obtained. realizable. The dielectric constant, unloaded quality factor and resonance frequency are J
It can be measured according to IS R 1627,
f can be calculated from the no-load quality factor and the resonance frequency.

【0019】本発明のコンデンサ内蔵配線基板の絶縁体
層や誘電体層は、その吸水率が0.1質量%以下になる
ように調製するのがよい。AgやAu等の低抵抗金属材
料を配線に用いた場合においても、イオンマイグレーシ
ョン等の不具合の発生を効果的に抑えることができるか
らである。上記「吸水率」は、0.1%以下とすること
ができ、更に、0.05%以下とすることができる。こ
の吸水率は、JISC 2141に従い測定することが
できる。上記「熱膨張係数」は、8〜15ppm/℃と
することができ、更に、10〜15ppm/℃とするこ
とができる。この熱膨張係数は、示差膨張式熱機械分析
装置等により測定することができる。
The insulator layer and the dielectric layer of the wiring board with a built-in capacitor of the present invention are preferably prepared so that the water absorption is 0.1% by mass or less. This is because, even when a low-resistance metal material such as Ag or Au is used for the wiring, the occurrence of problems such as ion migration can be effectively suppressed. The “water absorption” can be 0.1% or less, and can be 0.05% or less. This water absorption can be measured according to JISC 2141. The “thermal expansion coefficient” can be 8 to 15 ppm / ° C., and can be 10 to 15 ppm / ° C. This coefficient of thermal expansion can be measured by a differential expansion type thermomechanical analyzer or the like.

【0020】また、絶縁体層の抗折強度が150MPa
以上になるように調製するのがよい。実装等において配
線の密着強度を確保したり、基板自体の強度を確保する
ためには、180MPa以上がよい。組成比に応じて焼
成条件や粉末の状態を適宜最適化して吸水率や抗折強度
をも調整することで、配線基板にした際の信頼性を効果
的に高めることができる。この抗折強度は、JIS R
1601に従い測定することができる。
The flexural strength of the insulator layer is 150 MPa.
It is better to prepare it as described above. In order to ensure the adhesion strength of the wiring and the strength of the substrate itself in mounting and the like, the pressure is preferably 180 MPa or more. By appropriately optimizing the sintering conditions and the state of the powder in accordance with the composition ratio and also adjusting the water absorption and the bending strength, it is possible to effectively increase the reliability of the wiring board. This flexural strength is measured according to JIS R
1601 can be measured.

【0021】本発明の低温焼成配線基板の絶縁体層は、
Sr2MgSi27結晶以外の結晶を副結晶として含ん
でもよい。副結晶としては、SiO2系結晶(特にはα
−石英、クリストバライト)がよい。更に、Li2Si2
5結晶が含まれているとよい。
The insulator layer of the low-temperature fired wiring board according to the present invention comprises:
A crystal other than the Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal may be included as a sub crystal. As the sub-crystal, a SiO 2 crystal (particularly α
-Quartz, cristobalite). Further, Li 2 Si 2
It is preferable that O 5 crystals be contained.

【0022】請求項2の発明は、絶縁体層が、SiO2
系結晶(特には、α−石英、クリストバライト)を副結
晶として含有するコンデンサ内蔵配線基板を要旨とす
る。SiO2系結晶を同時に含むことで、配線基板の誘
電特性の安定化と低誘電率化を効果的に促進できる。ま
た、絶縁体層中のSi成分をSiO2系結晶として析出
させるため、Si成分のコンデンサ部への拡散量を極力
抑えてコンデンサ特性を安定化できる。かかるコンデン
サ内蔵配線基板を得る方法としては、焼成により絶縁体
層を形成するグリーンシートに添加する仮焼粉末の組成
比をSiO2リッチな組成にするのが効果的である。
According to a second aspect of the present invention, the insulating layer is made of SiO 2
The gist is a wiring board with a built-in capacitor containing a system crystal (particularly, α-quartz, cristobalite) as a sub crystal. By simultaneously containing the SiO 2 -based crystal, stabilization of the dielectric characteristics of the wiring board and lowering of the dielectric constant can be effectively promoted. In addition, since the Si component in the insulator layer is precipitated as SiO 2 -based crystals, the amount of diffusion of the Si component into the capacitor portion can be minimized to stabilize the capacitor characteristics. As a method for obtaining such a wiring board with a built-in capacitor, it is effective to make the composition ratio of the calcined powder added to the green sheet forming the insulator layer by firing a composition rich in SiO 2 .

【0023】SiO2系結晶の含有率としては、絶縁体
層100質量%に対して、69.7質量%以下であるこ
とが好ましく、20〜60質量%であることがより好ま
しい。この石英結晶を含有することにより、比誘電率を
更に低下させ、熱膨張係数を大きくする(プリント配線
板等の熱膨張係数に近付ける)ことができる。
The content of the SiO 2 -based crystal is preferably 69.7% by mass or less, more preferably 20 to 60% by mass, based on 100% by mass of the insulator layer. By containing this quartz crystal, the relative dielectric constant can be further reduced, and the coefficient of thermal expansion can be increased (closer to the coefficient of thermal expansion of a printed wiring board or the like).

【0024】請求項3の発明は、前記絶縁体層に含まれ
る前記Sr2MgSi27結晶に対する前記SiO2系結
晶の重量比が2.33以下(より好ましくは0.4〜
1.4)であるコンデンサ内蔵配線基板を要旨とする。
SiO2系結晶の重量比を最適化することで、絶縁体層
中のSi成分をSiO2系結晶として効果的に析出させ
るため、Si成分のコンデンサ部への拡散量を極力抑え
てコンデンサ特性をより効果的に安定化できる。
According to a third aspect of the present invention, the weight ratio of the SiO 2 -based crystal to the Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal contained in the insulator layer is 2.33 or less (more preferably 0.4 to 0.43).
The gist is the wiring board with a built-in capacitor of 1.4).
By optimizing the weight ratio of the SiO 2 -based crystal, the Si component in the insulator layer is effectively precipitated as the SiO 2 -based crystal. It can be more effectively stabilized.

【0025】請求項4の発明は、絶縁体層が、セラミッ
ク成分と、ホウ素成分と、アルカリ金属成分とを副成分
として含有するコンデンサ内蔵配線基板を要旨とする。
セラミック成分としては、アルミナ、ジルコニア、スピ
ネル、ガーナイト、アノーサイト、フォルステライトが
よい。配線基板の強度の向上、誘電特性の安定化を図る
ことができる。特には、アルミナを用いるのがよい。ホ
ウ素成分は、焼成温度の低温化、緻密化に寄与するもの
である。焼成過程で酸化物になるものであればよいが、
特にはB23がよい。1000℃以下で分解してB23
を放出するBや金属ホウ化物を用いることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a wiring board with a built-in capacitor in which an insulator layer contains a ceramic component, a boron component, and an alkali metal component as subcomponents.
As the ceramic component, alumina, zirconia, spinel, garnite, anorthite, and forsterite are preferable. It is possible to improve the strength of the wiring board and stabilize the dielectric characteristics. In particular, alumina is preferably used. The boron component contributes to lowering the firing temperature and increasing the density. Any material that can be converted into an oxide during the firing process may be used.
Particularly, B 2 O 3 is preferable. Decomposes below 1000 ° C and B 2 O 3
B or a metal boride that emits hydrogen can be used.

【0026】アルカリ金属成分は、焼結体の緻密化を促
進する効果がある。特にはLi成分が有効である。仮焼
粉末の組成比がSiO2リッチな組成の場合に効果的で
ある。焼成過程で酸化物になるものであればよいが、特
にはLi2Oがよい。他に、有機酸リチウムを用いるこ
とができる。このアルカリ金属成分は、結晶相として含
有されてもよいが、粒界等にガラス相として含有されて
もよい。
The alkali metal component has the effect of promoting the densification of the sintered body. In particular, the Li component is effective. This is effective when the composition ratio of the calcined powder is SiO 2 rich. Any material may be used as long as it becomes an oxide during the firing process, and particularly, Li 2 O is preferable. Alternatively, lithium organic acid can be used. The alkali metal component may be contained as a crystal phase, but may be contained as a glass phase at a grain boundary or the like.

【0027】Li以外には、Na成分、K成分を用いる
とよい。焼成過程で酸化物になるものであればよいが、
特にはNa2O、K2Oがよい。他に、有機酸塩を用いる
ことができる。特には、Li成分と併用するのが最も効
果的である。より少ない添加量で焼結体を緻密化できる
ため、配線材料たるAgやCu等の金属イオンのマイグ
レーションを一層低減することができ、また、誘電損失
も低下できる。
Other than Li, it is preferable to use a Na component and a K component. Any material that can be converted into an oxide during the firing process may be used.
Particularly, Na 2 O and K 2 O are preferable. Alternatively, an organic acid salt can be used. In particular, it is most effective to use it together with the Li component. Since the sintered body can be densified with a smaller amount of addition, migration of metal ions such as Ag and Cu as wiring materials can be further reduced, and dielectric loss can be reduced.

【0028】請求項5の発明は、絶縁体層を構成する低
温焼成磁器組成物100質量%に含まれる主結晶たるS
2MgSi27結晶、副結晶たるSiO2系結晶(α−
石英、クリストバライト)、セラミック成分、ホウ素成
分、アルカリ金属成分それぞれの含有量(質量%)を規
定したコンデンサ内蔵配線基板を要旨とする。組成比を
最適化することで、低誘電率化と誘電特性の向上を図る
とともに、コンデンサ特性をより効果的に安定化したコ
ンデンサ内蔵配線基板を得ることができる。
According to a fifth aspect of the present invention, the main crystal, S, contained in 100% by mass of the low-temperature fired porcelain composition constituting the insulator layer is provided.
r 2 MgSi 2 O 7 crystal, SiO 2 -based crystal (α-
The gist is a wiring board with a built-in capacitor in which the contents (% by mass) of the quartz component, the cristobalite component, the ceramic component, the boron component, and the alkali metal component are specified. By optimizing the composition ratio, it is possible to obtain a wiring board with a built-in capacitor in which the dielectric constant is reduced and the dielectric characteristics are improved, and the capacitor characteristics are more effectively stabilized.

【0029】Sr2MgSi27結晶の含有量(V)
は、30〜99.7質量%(好ましくは40〜80質量
%、より好ましくは50〜70質量%)がよい。誘電特
性、コンデンサ特性、強度、同時焼結性に優れたコンデ
ンサ内蔵配線基板を得ることができる。Sr2MgSi2
7結晶の含有量が30質量%未満になると、誘電特性
が低下していく。また、99.7質量%を越えると、1
000℃以下での焼成が困難になるため、配線材料たる
Ag、Cu等の低抵抗配線との同時焼成が難しくなる。
Sr 2 MgSi 2 O 7 Crystal Content (V)
Is preferably 30 to 99.7% by mass (preferably 40 to 80% by mass, more preferably 50 to 70% by mass). It is possible to obtain a wiring board with a built-in capacitor excellent in dielectric characteristics, capacitor characteristics, strength, and simultaneous sinterability. Sr 2 MgSi 2
When the content of the O 7 crystal is less than 30% by mass, the dielectric properties decrease. Also, if it exceeds 99.7% by mass, 1
Since firing at 000 ° C. or lower becomes difficult, simultaneous firing with low-resistance wiring such as Ag or Cu as a wiring material becomes difficult.

【0030】前記副結晶の含有量(W)は、69.7質
量%以下(好ましくは20〜60質量%、より好ましく
は30〜50質量%)がよい。副結晶の含有量が0.1
質量%未満になると、誘電率が7付近と高めになりがち
である。また、69.7質量%を越えると、1000℃
以下での焼成が困難になるため、配線材料たるAg、C
u等の低抵抗配線との同時焼成が難しくなる。
The content (W) of the subcrystal is preferably 69.7% by mass or less (preferably 20 to 60% by mass, more preferably 30 to 50% by mass). The content of the subcrystal is 0.1
If it is less than mass%, the dielectric constant tends to be as high as around 7. On the other hand, if the content exceeds 69.7% by mass,
Since it becomes difficult to bake below, Ag, C
Simultaneous firing with low resistance wiring such as u becomes difficult.

【0031】セラミック成分の酸化物換算における含有
量(X)は、0.1〜10質量%がよい。配線基板の誘
電特性の安定化を促進できる。セラミック成分として
は、アルミナ、ジルコニア、スピネル、ガーナイト、ア
ノーサイト、フォルステライトがよい。特にはアルミナ
がよい。この含有量が0.1質量%未満の場合、誘電特
性の安定化を効果的には促進できなくなる。また、この
含有量が10質量%を越えると、他の結晶相が析出しや
すくなり、誘電損失が大きくなっていく。より好ましい
範囲は0.1〜5質量%である。更に好ましくは0.1
〜3質量%である。
The content (X) of the ceramic component in terms of oxide is preferably 0.1 to 10% by mass. Stabilization of the dielectric properties of the wiring board can be promoted. As the ceramic component, alumina, zirconia, spinel, garnite, anorthite, and forsterite are preferable. In particular, alumina is preferred. When the content is less than 0.1% by mass, the stabilization of the dielectric properties cannot be effectively promoted. On the other hand, if the content exceeds 10% by mass, another crystal phase tends to precipitate, and the dielectric loss increases. A more preferred range is from 0.1 to 5% by mass. More preferably 0.1
33% by mass.

【0032】ホウ素成分の酸化物換算における含有量
(Y)は、0.1〜10質量%がよい。焼成温度の低温
化、緻密化を効果的に図ることができる。特にはB23
がよい。この含有量が0.1質量%未満の場合、絶縁体
層の緻密化を効果的には促進できない。また、この含有
量が10質量%を越えると、誘電特性(特には、誘電損
失)が大きくなるとともに、コンデンサ特性を低下させ
る。より好ましい範囲は0.1〜4質量%である。更に
好ましくは0.1〜3質量%である。
The content (Y) of the boron component in terms of oxide is preferably 0.1 to 10% by mass. The firing temperature can be lowered and densification can be effectively achieved. Especially B 2 O 3
Is good. If this content is less than 0.1% by mass, the densification of the insulator layer cannot be effectively promoted. On the other hand, if the content exceeds 10% by mass, the dielectric properties (particularly, dielectric loss) increase and the capacitor properties deteriorate. A more preferred range is from 0.1 to 4% by mass. More preferably, the content is 0.1 to 3% by mass.

【0033】アルカリ金属成分の酸化物換算における含
有量(Z)は、0.1〜10質量%がよい。焼成温度の
低温化、緻密化を効果的に図ることができる。特には、
Li 2Oを必須にするのがよい。この含有量が0.1質
量%未満の場合、絶縁体層の緻密化を効果的には促進で
きない。また、この含有量が10質量%を越えると、配
線基板を作製した際にイオンマイグレーションが発生し
やすくなるとともに、コンデンサ特性を低下させる。よ
り好ましい範囲は0.1〜5質量%である。更に好まし
くは0.1〜3質量%である。
The content of alkali metal components in terms of oxides
The content (Z) is preferably 0.1 to 10% by mass. Firing temperature
Low temperature and densification can be effectively achieved. in particular,
Li TwoO should be required. This content is 0.1 quality
If the amount is less than the amount%, the densification of the insulator layer can be effectively promoted.
I can't. If the content exceeds 10% by mass,
Ion migration occurs when manufacturing wire substrates
And the capacitor characteristics are degraded. Yo
A more preferable range is 0.1 to 5% by mass. More preferred
Or 0.1 to 3% by mass.

【0034】請求項6の発明は、前記絶縁体層が、長径
が0.1〜20μmのSr2MgSi27結晶粒子を3
0質量%以上含有するコンデンサ内蔵配線基板を要旨と
する。この長径は0.1〜10μmであることが好まし
く、0.1〜5μmであることがより好ましい。また、
この所定の長径を有する結晶の含有量は、30〜99.
7重量%であることが好ましく、30〜70重量%であ
ることがより好ましい。長径及び含有量が上記範囲であ
れば、低誘電率で、誘電損失が小さく、且つ高熱膨張な
絶縁体層が得られるとともに、配線基板にした際の配線
材料のイオンマイグレーションをより効果的に抑えるこ
とができる。また、より安定化したコンデンサ特性を有
するコンデンサ内蔵配線基板を得ることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, the insulator layer is made of Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal particles having a major axis of 0.1 to 20 μm.
The gist is a wiring board with a built-in capacitor containing 0% by mass or more. The major axis is preferably from 0.1 to 10 μm, and more preferably from 0.1 to 5 μm. Also,
The content of the crystal having the predetermined major axis is from 30 to 99.
It is preferably 7% by weight, more preferably 30 to 70% by weight. When the major axis and the content are in the above ranges, an insulator layer having a low dielectric constant, a small dielectric loss, and a high thermal expansion can be obtained, and ion migration of a wiring material when formed into a wiring board is more effectively suppressed. be able to. Further, a wiring board with a built-in capacitor having more stabilized capacitor characteristics can be obtained.

【0035】請求項7の発明は、絶縁体層が、Sr2
gSi27結晶、SrSiO3結晶及びMgSiO3結晶
のうちの少なくとも1種を主成分とする仮焼粉末70〜
99.7重量%と、前記セラミック成分0.1〜10重
量%(酸化物換算)と、前記ホウ素成分0.1〜10質
量%(酸化物換算)及び前記アルカリ金属成分0.1〜
10質量%(酸化物換算)を混合、成形してなる成形体
を、850〜1000℃の範囲で焼成した低温焼成磁器
組成物からなるコンデンサ内蔵配線基板を要旨とする。
絶縁体層中の仮焼粉末量及び酸化物換算における各添加
物の量を特定することで、絶縁体層の低誘電率化と誘電
体層のコンデンサ特性の一層の向上を図るとともに、A
g、Cu等の配線材料のイオンマイグレーションをより
効果的に抑えることができる。
According to a seventh aspect of the present invention, the insulating layer is made of Sr 2 M
A calcined powder 70 or more containing at least one of gSi 2 O 7 crystal, SrSiO 3 crystal and MgSiO 3 crystal as a main component
99.7% by weight, 0.1 to 10% by weight of the ceramic component (in terms of oxide), 0.1 to 10% by weight of the boron component (in terms of oxide), and 0.1 to 0.1% of the alkali metal component.
The gist is a wiring board with a built-in capacitor made of a low-temperature fired porcelain composition obtained by firing a molded body obtained by mixing and molding 10% by mass (in terms of oxide) at 850 to 1000 ° C.
By specifying the amount of the calcined powder in the insulator layer and the amount of each additive in terms of oxide, the dielectric constant of the insulator layer is reduced and the capacitor characteristics of the dielectric layer are further improved.
Ion migration of wiring materials such as g and Cu can be more effectively suppressed.

【0036】これら原材料を公知のドクターブレード法
でシート化して圧着積層体にしたり、ペースト状にして
厚膜印刷技術を用いて多層体にしたりできる。この仮焼
物は、その平均粒径が0.1〜20μm(より好ましく
は0.1〜10μm、更に好ましくは0.1〜5μm)
の粉末であることが好ましい。この平均粒径が0.1μ
m未満であると、製造工程において飛散し易い等取り扱
いが不便となり、20μmを超えると成形成、特にドク
ターブレード法等における成形性が低下し易く好ましく
ない。
These raw materials can be formed into a sheet by a known doctor blade method to form a pressure-bonded laminate, or can be made into a paste to form a multilayer using a thick film printing technique. This calcined product has an average particle size of 0.1 to 20 μm (more preferably 0.1 to 10 μm, and still more preferably 0.1 to 5 μm).
Is preferred. This average particle size is 0.1μ
If it is less than m, handling becomes inconvenient, such as easy scattering in the manufacturing process, and if it exceeds 20 μm, the formation, especially the moldability in the doctor blade method or the like is liable to deteriorate, which is not preferable.

【0037】この成形体を脱バインダー化した後、85
0〜1000℃の範囲で焼成する。配線にAgを用いる
場合は大気雰囲気下、Cuを用いる場合は還元雰囲気下
で焼成する。必要に応じてAu、Pt、Pdを使用或い
は併用する。
After demolding this molded product, 85
Baking is performed in the range of 0 to 1000 ° C. When Ag is used for the wiring, firing is performed in an air atmosphere, and when Cu is used, firing is performed in a reducing atmosphere. Au, Pt, and Pd are used or used in combination as necessary.

【0038】結晶化ガラスを用いる従来の場合と異な
り、主結晶としてSr2MgSi27結晶を含有する仮
焼粉末を焼結助剤で焼結させる方法を用いて絶縁体層を
形成するため、拡散金属による結晶化のバラツキが抑制
できる。その結果、メタライズ面とその他の部分との焼
結度合いに差が出ないため、基板の反りの問題がない利
点がある。また、絶縁体層中のガラス成分の含有量が少
ないため、焼成中のガラス成分の誘電体層への拡散によ
ってコンデンサ特性を劣化させることがない。
Unlike the conventional case using crystallized glass, an insulating layer is formed by a method of sintering a calcined powder containing Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal with a sintering aid. In addition, variation in crystallization due to the diffusion metal can be suppressed. As a result, there is no difference in the degree of sintering between the metallized surface and the other portions, and there is an advantage that there is no problem of substrate warpage. In addition, since the content of the glass component in the insulator layer is small, the capacitor characteristics do not deteriorate due to the diffusion of the glass component into the dielectric layer during firing.

【0039】[0039]

【実施例】以下に本発明のコンデンサ内蔵配線基板を、
特性評価用基板(実施例1)及び図1に示す実施例(実
施例2)を用いて説明する。図1は、本発明のコンデン
サ内蔵配線基板(1)の一実施例を示す断面図である。
2は絶縁体層、3はコンデンサ部、4は配線層、5はビ
アホール導体、6は誘電体層、7はコンデンサ用電極で
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a wiring board with a built-in capacitor of the present invention will be described.
A description will be given using the substrate for characteristic evaluation (Example 1) and the example (Example 2) shown in FIG. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a wiring board (1) with a built-in capacitor according to the present invention.
2 is an insulator layer, 3 is a capacitor part, 4 is a wiring layer, 5 is a via hole conductor, 6 is a dielectric layer, and 7 is a capacitor electrode.

【0040】(実施例1) (1)仮焼物A〜Eの作製 まず、本発明の絶縁体層単体での特性評価を行う。表1
に示す割合で、シリカ粉末、マグネシア粉末、酸化スト
ロンチウム粉末を混合する。この粉末を表1に示す仮焼
温度において2時間仮焼する。
(Example 1) (1) Preparation of calcined products A to E First, characteristics of the insulator layer of the present invention are evaluated. Table 1
The silica powder, the magnesia powder, and the strontium oxide powder are mixed in the ratio shown in the following. This powder is calcined at the calcining temperature shown in Table 1 for 2 hours.

【0041】得られた仮焼物は粉末状であり、CuKα
線を用いてX線回折測定したところ仮焼物A、B及びD
は、Sr2MgSi27結晶、SrSiO3結晶、α-石
英結晶を含有することが分かった。また、仮焼物C及び
Eは、Sr2MgSi27結晶、MgSiO3結晶、Mg
3SiO4結晶、α‐石英結晶を含有することが分かっ
た。
The obtained calcined product is in the form of powder, and CuKα
X-ray diffraction measurement using X-rays revealed that calcined products A, B and D
Was found to contain Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal, SrSiO 3 crystal and α-quartz crystal. Further, the calcined products C and E are made of Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal, MgSiO 3 crystal, Mg
It was found to contain 3 SiO 4 crystal and α-quartz crystal.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】(2)絶縁体の作製及び評価 (1)で作製した仮焼物A〜Eに表2に示す割合で、ア
ルミナ粉末(Al23)、酸化ホウ素粉末(B23)、
酸化リチウム粉末(Li2O)、酸化ナトリウム粉末
(Na2O)及び酸化カリウム粉末(K2O)を混合し、
更に、バインダ、エタノールを加えた後、造粒し、80
MPaで加圧し成形する。その後、150MPaで等方
静水圧プレス(CIP)処理を行い、次いで、大気雰囲
気において表2に示す焼成温度で焼成する。
(2) Preparation and Evaluation of Insulator The calcined products A to E prepared in (1) were mixed with alumina powder (Al 2 O 3 ), boron oxide powder (B 2 O 3 )
Mixing lithium oxide powder (Li 2 O), sodium oxide powder (Na 2 O) and potassium oxide powder (K 2 O),
Further, after adding a binder and ethanol, the mixture is granulated, and
Pressing and molding with MPa. Thereafter, isotropic isostatic pressing (CIP) treatment is performed at 150 MPa, and then firing is performed at a firing temperature shown in Table 2 in an air atmosphere.

【0044】[0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】吸水率、熱膨張係数、抗折強度、比誘電率
及び無負荷品質係数と共振周波数の積の5つの特性を以
下のようにして測定する。この結果を表3に示す。 ・吸水率:JIS C 2141により測定する。 ・熱膨張係数:(2)で得られた焼結体を直径4mm、
長さ20mmに加工し、30〜400℃において示差膨
張式熱機械分析装置(株式会社リガク社製、型式「TM
A8140C」)を用いて測定する。 ・抗折強度:(2)で得られた焼結体を長さ40mm、
厚さ3mm、幅4mmに研削し、JIS R 1601
に準ずる3点曲げ強さにより測定する。 ・誘電特性:JIS R 1627に準ずる平行導体板
型誘電体共振器法のTE 011モードにより共振周波数8
〜9GHzにおいて測定する。
Water absorption, coefficient of thermal expansion, bending strength, relative permittivity
And the five characteristics of the product of the no-load quality factor and the resonance frequency.
Measure as below. Table 3 shows the results. -Water absorption: Measured according to JIS C 2141. Coefficient of thermal expansion: The sintered body obtained in (2) has a diameter of 4 mm,
Processed to a length of 20 mm, differential expansion at 30-400 ° C
Thermo-mechanical analyzer (Model “TM” manufactured by Rigaku Corporation)
A8140C "). -Bending strength: The sintered body obtained in (2) is 40 mm in length,
Grind to a thickness of 3mm and a width of 4mm, JIS R 1601
It is measured by a three-point bending strength according to. -Dielectric properties: Parallel conductor plate according to JIS R 1627
-Type dielectric resonator method TE 011Resonance frequency 8 depending on the mode
Measure at ~ 9 GHz.

【0046】[0046]

【表3】 [Table 3]

【0047】(2)で得られた実験例1〜12の焼結体
をCuKα線を用いてX線回折測定したところ、いずれ
においても主結晶相としてSr2MgSi27結晶が観
察された。このうち、実験例8のX線回折チャートを図
3に示した。また、いずれも焼成温度が1000℃以下
で吸水率は0.1%以下にまで緻密化されており、低温
で十分に焼結されている低温焼成磁器組成物であること
が分かった。
When the sintered bodies of Experimental Examples 1 to 12 obtained in (2) were subjected to X-ray diffraction measurement using CuKα ray, Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal was observed as a main crystal phase in each case. . Among them, the X-ray diffraction chart of Experimental Example 8 is shown in FIG. In each case, the sintering temperature was 1000 ° C. or less and the water absorption was reduced to 0.1% or less, and it was found that these were low-temperature sintering porcelain compositions which were sufficiently sintered at a low temperature.

【0048】このX線回折測定で、実験例3、6及び1
0を除く各実験例からはSr2MgSi27結晶の他、
石英結晶及びLi2Si25結晶が検出された。一方、
実験例3、6及び10からはSr2MgSi27結晶の
他、石英結晶が検出された。
In the X-ray diffraction measurement, Experimental Examples 3, 6 and 1
From each experimental example except for 0, in addition to the Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal,
Quartz crystals and Li 2 Si 2 O 5 crystals were detected. on the other hand,
In Experimental Examples 3, 6, and 10, quartz crystals were detected in addition to Sr 2 MgSi 2 O 7 crystals.

【0049】更に、各焼結体の表面を鏡面研磨し、走査
型電子顕微鏡によりその表面を観察したところ、0.5
〜5μmのSr2MgSi27結晶粒子が実験例1〜1
2のいずれにおいても認められた。
Further, the surface of each sintered body was mirror-polished, and the surface was observed with a scanning electron microscope.
Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal grains Experimental example 5 .mu.m 1 to 1
2 were observed.

【0050】また、表1〜3によると、配線基板に好適
な特性を有する実験例1〜10において、比誘電率は
5.6〜6.4であり、低誘電率であることが分かる。
特に、実験例7〜10においては5.6〜5.9と優れ
ている。また、Qu×fは3900〜5500GHzと
大きく、特に、実験例5、6、8及び9では5100〜
5500GHzと優れている。更に、抗折強度は150
〜190MPaと大きく、特に、実験例2、4、5、7
〜10では170〜190MPaと優れている。また、
熱膨張係数は10.2〜11.4ppm/℃と大きく
(プリント配線板等の熱膨張係数に近い)、特に、実験
例4〜5では12.1〜12.4ppm/℃と優れてい
る。
Further, according to Tables 1 to 3, in Experimental Examples 1 to 10 having characteristics suitable for a wiring board, the relative dielectric constant is 5.6 to 6.4, indicating that the dielectric constant is low.
Particularly, in Experimental Examples 7 to 10, it is excellent at 5.6 to 5.9. Further, Qu × f is as large as 3900 to 5500 GHz, and in particular, in Experimental Examples 5, 6, 8 and 9, 5100 to 5500 GHz.
It is excellent at 5500 GHz. Furthermore, the bending strength is 150
190190 MPa, and particularly, Experimental Examples 2, 4, 5, and 7
At 10 to 10, it is excellent at 170 to 190 MPa. Also,
The coefficient of thermal expansion is as large as 10.2 to 11.4 ppm / ° C. (close to the coefficient of thermal expansion of a printed wiring board or the like), and particularly excellent in Experimental Examples 4 to 5 as 12.1 to 12.4 ppm / ° C.

【0051】尚、実験例11及び12は、抗折強度及び
熱膨張係数ともに、十分に実用的であるが、(3)の測
定方法においては共振が微弱であり、測定できないが、
RFインピーダンス法により比誘電率の測定は可能であ
る。その値は実験例1〜10とほぼ同等であり、これら
の材料は使用周波数が1GHz以下と比較的低い周波数
での使用が好ましいものと考えられる。これは、実験例
11では、Li、Na及びKの含有量が10重量%を超
えているために、また、実験例12では、Bの含有量が
10重量%を超えているためであると考えられる。
In Experimental Examples 11 and 12, both the transverse rupture strength and the coefficient of thermal expansion are sufficiently practical. However, in the measurement method (3), resonance is weak and measurement cannot be performed.
The relative permittivity can be measured by the RF impedance method. The values are almost the same as those in Experimental Examples 1 to 10, and it is considered that these materials are preferably used at a relatively low frequency of 1 GHz or less. This is because, in Experimental Example 11, the contents of Li, Na and K exceeded 10% by weight, and in Experimental Example 12, the B content exceeded 10% by weight. Conceivable.

【0052】(3)誘電体の作製及び評価 次に、本発明の誘電体層単体での特性評価を行う。市販
のBaTiO3粉末、B23粉末、Li2CO3粉末を表
4に示す組成になるように混合する。この混合粉末に樹
脂バインダーとエタノールを加えてポットミルを用いて
混合してスラリを得る。このスラリを噴霧乾燥して造粒
粉末を得る。
(3) Fabrication and Evaluation of Dielectric Next, the characteristics of the dielectric layer of the present invention are evaluated. Commercially available BaTiO 3 powder, B 2 O 3 powder, and Li 2 CO 3 powder are mixed to have the composition shown in Table 4. A resin binder and ethanol are added to the mixed powder and mixed using a pot mill to obtain a slurry. The slurry is spray-dried to obtain a granulated powder.

【0053】この造粒粉末をプレス機を用いて80MP
aの圧力で板状に成形する。この成形板を150MPa
の圧力でCIP法(冷間静水圧プレス法)を用いて成形
体を得る。この成形体を表5に示す焼成条件(900〜
950℃)で焼成し、目的とする焼結体を得る。
The granulated powder was subjected to 80MP using a press machine.
Form into a plate at the pressure of a. This molded plate is 150 MPa
A molded product is obtained by a CIP method (cold isostatic pressing method) at a pressure of. This molded body was fired under the firing conditions (900 to
(950 ° C.) to obtain a target sintered body.

【0054】この焼結体を以下のように評価する。ま
ず、焼結体を58mm角の板状試料にする。その表面に
φ38mmの円板状電極及びその周りにφ40mmのリ
ング状のガード電極を形成し、一方、その裏面の全面に
も電極を形成する。インピーダンスアナライザー(ヒュ
ーレットパッカード社製 HP4194A)及びテスト
治具(ヒューレットパッカード社製 HP16451)
を用いて、周波数1MHz、基準温度25℃にて静電容
量を測定する。得られた静電容量及び試料寸法から誘電
率εを算出する。結果を表5に示す。
This sintered body is evaluated as follows. First, the sintered body is made into a 58 mm square plate-shaped sample. A disc-shaped electrode having a diameter of 38 mm and a ring-shaped guard electrode having a diameter of 40 mm are formed on the surface of the electrode, and the electrode is also formed on the entire back surface. Impedance analyzer (HP4194A manufactured by Hewlett-Packard) and test jig (HP16451 manufactured by Hewlett-Packard)
Is used to measure the capacitance at a frequency of 1 MHz and a reference temperature of 25 ° C. The dielectric constant ε is calculated from the obtained capacitance and the sample size. Table 5 shows the results.

【0055】[0055]

【表4】 [Table 4]

【0056】[0056]

【表5】 [Table 5]

【0057】いずれの試料も、静電容量が600pF以
上(試料番号14で755pF、試料番号15で620
pF)、誘電率εが1000以上(試料番号14で20
30、試料番号15で1360)と良好な結果である。
組成の差はあるが、焼成温度が高い方が特性が良くな
る。
Each sample had a capacitance of 600 pF or more (755 pF for sample No. 14, and 620 pF for sample No. 15).
pF) and a dielectric constant ε of 1000 or more (20 for sample No. 14).
30 and sample number 15 and 1360), which is a good result.
Although the composition is different, the higher the firing temperature, the better the characteristics.

【0058】(4)絶縁体が誘電体に及ぼす影響の調査 次に、誘電体層を絶縁体層で挟着した状態で焼成した場
合の誘電体層のコンデンサ特性への影響の有無を評価す
る。絶縁体層と誘電体層の組合わせは、表6に示す通り
である。表6の試料番号16〜試料番号20の組合わせ
となる組成比の混合粉末にアクリル系バインダ、可塑
剤、分散剤、トルエン、メチルエチルケトンを添加して
スラリを調製する。このスラリを公知のドクターブレー
ド法を用いて厚み300μmのグリーンシートに成形す
る。
(4) Investigation of the Influence of the Insulator on the Dielectric Next, it is evaluated whether or not the dielectric layer has any effect on the capacitor characteristics when the dielectric layer is fired in a state where the dielectric layer is sandwiched between the dielectric layers. . Combinations of the insulator layer and the dielectric layer are as shown in Table 6. An acrylic binder, a plasticizer, a dispersant, toluene, and methyl ethyl ketone are added to a mixed powder having a composition ratio corresponding to a combination of Sample Nos. 16 to 20 in Table 6 to prepare a slurry. This slurry is formed into a green sheet having a thickness of 300 μm using a known doctor blade method.

【0059】誘電体層のグリーンシートを、焼成後に厚
み3.4〜4mmの範囲になるように積層して積層体を
形成する。この積層体の両面に、同じく焼成後に厚み
3.4〜4mmの範囲になる絶縁体層のグリーンシート
を積層する。250℃にて大気雰囲気下で脱バインダ処
理を行う。その後大気窒素雰囲気下900〜950℃
(2時間保持)で焼成する。その後、誘電体層を残して
絶縁体層を研磨除去して、目的とする特性評価用基板を
得る。
The green sheets of the dielectric layer are laminated so as to have a thickness of 3.4 to 4 mm after firing to form a laminate. A green sheet of an insulator layer having a thickness of 3.4 to 4 mm after firing is also laminated on both surfaces of the laminate. A binder removal treatment is performed at 250 ° C. in an air atmosphere. Then 900-950 ° C under nitrogen atmosphere
(Hold for 2 hours). Thereafter, the insulator layer is polished and removed while leaving the dielectric layer, to obtain a target substrate for property evaluation.

【0060】この特性評価用基板を以下のように評価す
る。まず、焼結体を58mm角の板状試料にする。その
表面にφ38mmの円板状電極及びその周りにφ40m
mのリング状のガード電極を形成し、一方、その裏面の
全面にも電極を形成する。インピーダンスアナライザー
(ヒューレットパッカード社製 HP4194A)及び
テスト治具(ヒューレットパッカード社製 HP164
51)を用いて、周波数1MHz、基準温度25℃にて
静電容量を測定する。得られた静電容量及び試料寸法か
ら誘電率εを算出する。結果を表6に示す。
The substrate for characteristic evaluation is evaluated as follows. First, the sintered body is made into a 58 mm square plate-shaped sample. Φ38mm disk-shaped electrode on its surface and φ40m around it
An m-shaped guard electrode is formed, and an electrode is also formed on the entire back surface. Impedance analyzer (HP4194A, Hewlett-Packard) and test jig (HP164, Hewlett-Packard)
51), the capacitance is measured at a frequency of 1 MHz and a reference temperature of 25 ° C. The dielectric constant ε is calculated from the obtained capacitance and the sample size. Table 6 shows the results.

【0061】[0061]

【表6】 [Table 6]

【0062】表6の結果より、絶縁体層を挟着して焼成
した場合においても、誘電体層のコンデンサ特性は殆ど
影響を受けていないことがわかる。組成の差はあるが、
焼成温度が高い方が特性が良くなることは、誘電体層単
味で行った場合と同様である。
From the results shown in Table 6, it can be seen that even when the insulating layer is sandwiched and fired, the capacitor characteristics of the dielectric layer are hardly affected. Although there is a difference in composition,
The higher the firing temperature, the better the characteristics, as in the case where the dielectric layer was used alone.

【0063】(実施例2)表7の試料番号21〜試料番
号26の組合わせの組成比の混合粉末にアクリル系バイ
ンダ、可塑剤、分散剤、トルエン、メチルエチルケトン
を添加してスラリを調製する。このスラリを公知のドク
ターブレード法を用いてグリーンシートに成形する。絶
縁体層の厚みは120μm、誘電体層の厚みは60μm
とする。
Example 2 A slurry was prepared by adding an acrylic binder, a plasticizer, a dispersant, toluene, and methyl ethyl ketone to a mixed powder having a composition ratio of a combination of Sample Nos. 21 to 26 in Table 7. This slurry is formed into a green sheet using a known doctor blade method. The thickness of the insulator layer is 120 μm and the thickness of the dielectric layer is 60 μm
And

【0064】比較例(試料番号26)として、最終的な
焼結体になった段階ではSr2MgSi27結晶を析出
する仮焼粉末(酸化ストロンチウム粉末を33.93重
量%、マグネシア粉末を7.22重量%、、シリカ粉末
を53.73重量%、アルミナ粉末を0.85重量%、
酸化ホウ素粉末を2.56重量%及び酸化リチウム粉末
を1.71重量%を混合し、850℃、900℃及び9
50℃で仮焼)を用いる。そして、同様に公知のドクタ
ーブレード法を用いて厚み120μmのグリーンシート
に成形する。
As a comparative example (sample No. 26), a calcined powder (33.93% by weight of strontium oxide powder and magnesia powder) which precipitates Sr 2 MgSi 2 O 7 crystals at the stage of finally forming a sintered body was used. 7.22% by weight, silica powder 53.73% by weight, alumina powder 0.85% by weight,
A mixture of 2.56% by weight of boron oxide powder and 1.71% by weight of lithium oxide powder was mixed at 850 ° C, 900 ° C and 9%.
(Calcination at 50 ° C.). Then, similarly, a green sheet having a thickness of 120 μm is formed by using a known doctor blade method.

【0065】これらのグリーンシートの所定の位置に金
型を用いて直径250μmのビアホールを形成する。ビ
アホール内にAgペーストを充填印刷して、ビアホール
導体を形成する。その後、グリーンシート上に公知のス
クリーン印刷法を用いてAgペーストを所定のパターン
に印刷して、配線層及びコンデンサ電極を形成する。印
刷厚みは20μmである。印刷済のグリーンシートを図
1に示す構成になるように、表7の組合わせに従って圧
着、積層して、積層体を形成する。250℃にて大気雰
囲気下で脱バインダ処理を行う。その後大気雰囲気下9
00〜950℃(2時間保持)で焼成して、目的とする
基板を得る。
A via hole having a diameter of 250 μm is formed at a predetermined position of these green sheets using a mold. An Ag paste is filled in the via hole and printed to form a via hole conductor. Thereafter, an Ag paste is printed in a predetermined pattern on the green sheet using a known screen printing method to form a wiring layer and a capacitor electrode. The printing thickness is 20 μm. The printed green sheets are pressure-bonded and laminated according to the combinations shown in Table 7 so as to have the configuration shown in FIG. 1 to form a laminate. A binder removal treatment is performed at 250 ° C. in an air atmosphere. Then under the air atmosphere 9
Baking at 00 to 950 ° C. (holding for 2 hours) to obtain a target substrate.

【0066】得られた各基板の反り量(基板の基準面か
らの盛り上がり量の最大値;図2を参照。)を表面粗度
計を用いて測定する。結果を表7に併記する。
The amount of warpage of each of the obtained substrates (the maximum value of the amount of protrusion from the reference surface of the substrate; see FIG. 2) is measured using a surface roughness meter. The results are also shown in Table 7.

【0067】[0067]

【表7】 [Table 7]

【0068】Sr2MgSi27結晶を析出する仮焼粉
末を用いた実施例である試料番号21〜26では、反り
量は50μm以下と良好である。一方、最終的な焼結体
になった段階ではSr2MgSi27結晶を析出する仮
焼粉末を用いた比較例である試料番号26では、反り量
は1000μm以上である。
In the sample Nos. 21 to 26 which are examples using the calcined powder that precipitates Sr 2 MgSi 2 O 7 crystals, the warpage amount is as good as 50 μm or less. On the other hand, in the sample No. 26, which is a comparative example using a calcined powder that precipitates Sr 2 MgSi 2 O 7 crystals at the stage when the final sintered body is formed, the warpage amount is 1000 μm or more.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明によれば、1000℃以下の温度
で緻密化可能で、高周波領域において優れた誘電特性を
有するコンデンサ内蔵配線基板が得られる。また、A
g、Cu等の低抵抗金属と同時焼成しても、基板の反り
が発生しにくい利点がある。液相成分の含有量が少ない
ため、配線表面に液相成分が浮き上がることがなく、優
れたハンダ濡れ性を確保できる。
According to the present invention, it is possible to obtain a wiring board with a built-in capacitor which can be densified at a temperature of 1000 ° C. or less and has excellent dielectric characteristics in a high frequency range. Also, A
There is an advantage that warping of the substrate hardly occurs even when co-firing with a low-resistance metal such as g or Cu. Since the content of the liquid phase component is small, the liquid phase component does not float on the wiring surface, and excellent solder wettability can be secured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例で用いたコンデンサ内蔵配線基
板の断面図。
FIG. 1 is a sectional view of a wiring board with a built-in capacitor used in an embodiment of the present invention.

【図2】コンデンサ内蔵配線基板の反り量の測定方法の
説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a method for measuring the amount of warpage of a wiring board with a built-in capacitor.

【図3】実施例である試料番号8のX線回折チャート
(横軸2θの単位は[deg]を[rad]に変換し
た)。
FIG. 3 is an X-ray diffraction chart of Sample No. 8 as an example (unit of horizontal axis 2θ is [deg] converted to [rad]).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンデンサ内蔵配線基板 2 絶縁体層 3 コンデンサ部 4 配線層 5 ビアホール導体 6 誘電体層 7 コンデンサ用電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Built-in capacitor wiring board 2 Insulator layer 3 Capacitor part 4 Wiring layer 5 Via hole conductor 6 Dielectric layer 7 Electrode for capacitor

フロントページの続き (72)発明者 伊藤 淳一 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (72)発明者 佐藤 元彦 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (72)発明者 飯尾 聡 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (72)発明者 大林 和重 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 Fターム(参考) 4G030 AA01 AA07 AA09 AA35 AA37 BA09 BA12 CA03 CA08 GA27 5E346 AA12 AA13 AA15 AA36 BB01 BB20 CC18 CC32 CC39 DD02 EE24 EE27 EE29 GG04 GG08 GG09 HH01 HH06 HH11 Continued on the front page (72) Inventor Junichi Ito 14-18 Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Inside Japan Special Ceramics Co., Ltd. (72) Inventor Motohiko Sato, 14-18 Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Inside the Special Ceramics Co., Ltd. (72) Inventor Satoshi Iio 14-18 Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Inside Japan Special Ceramics Co., Ltd. (72) Kazushige Obayashi 14, 14 Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture No. 18 F Term in Japan Special Ceramics Co., Ltd. (Reference) 4G030 AA01 AA07 AA09 AA35 AA37 BA09 BA12 CA03 CA08 GA27 5E346 AA12 AA13 AA15 AA36 BB01 BB20 CC18 CC32 CC39 DD02 EE24 EE27 EE29 GG04 GG08 GG09 HH11H06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体層と、該誘電体層の上下面に形成
されてコンデンサを構成するためのコンデンサ電極とか
らなるコンデンサ部と、 誘電体層及びコンデンサ部を挟着するように形成された
絶縁体層とを含むコンデンサ内蔵配線基板において、 該絶縁体層が、Sr2MgSi27結晶を主結晶として
含有する低温焼成磁器組成物からなることを特徴とする
コンデンサ内蔵配線基板。
1. A capacitor part comprising: a dielectric layer; capacitor electrodes formed on upper and lower surfaces of the dielectric layer to form a capacitor; and a capacitor formed to sandwich the dielectric layer and the capacitor part. A wiring board with a built-in capacitor, comprising: a low-temperature fired porcelain composition containing a Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal as a main crystal.
【請求項2】 前記絶縁体層が、SiO2系結晶を副結
晶として含有することを特徴とする請求項1に記載のコ
ンデンサ内蔵配線基板。
2. The wiring board with a built-in capacitor according to claim 1, wherein the insulator layer contains an SiO 2 crystal as a sub crystal.
【請求項3】 前記絶縁体層に含まれる前記Sr2Mg
Si27結晶に対する前記SiO2系結晶の重量比が
2.33以下であることを特徴とする請求項2に記載の
コンデンサ内蔵配線基板。
3. The Sr 2 Mg contained in the insulator layer
3. The wiring board with a built-in capacitor according to claim 2, wherein the weight ratio of the SiO 2 -based crystal to the Si 2 O 7 crystal is 2.33 or less.
【請求項4】 前記絶縁体層が、セラミック成分と、ホ
ウ素成分と、アルカリ金属成分とを副成分として含有す
ることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに
記載のコンデンサ内蔵配線基板。
4. The wiring with a built-in capacitor according to claim 1, wherein the insulator layer contains a ceramic component, a boron component, and an alkali metal component as subcomponents. substrate.
【請求項5】 前記絶縁体層を構成する低温焼成磁器組
成物100質量%に含まれる前記主結晶たるSr2Mg
Si27結晶の質量%をV(質量%)、 前記副結晶たるSiO2系結晶の質量%をW(質量
%)、 前記セラミック成分の酸化物換算における質量%をX
(質量%)、 前記ホウ素成分の酸化物換算における質量%をY(質量
%)、 前記アルカリ金属成分の酸化物換算における質量%をZ
(質量%)とした場合において、 上記V乃至Zが以下の関係を満たす絶縁体層を有するこ
とを特徴とする請求項4に記載のコンデンサ内蔵配線基
板。 30≦V≦99.7(質量%)、W≦69.7(質量
%)、0.1≦X≦10(質量%)、0.1≦Y≦10
(質量%)、0.1≦Z≦10(質量%)
5. The main crystal Sr 2 Mg contained in 100% by mass of a low-temperature fired porcelain composition constituting the insulator layer.
V (mass%) is the mass% of the Si 2 O 7 crystal, W (mass%) is the mass% of the SiO 2 crystal as the sub-crystal, and X is the mass% of the ceramic component in terms of oxide.
(Mass%), the mass% of the boron component in terms of oxide is Y (mass%), and the mass% of the alkali metal component in terms of oxide is Z
5. The wiring board with a built-in capacitor according to claim 4, wherein in the case of (% by mass), V to Z have an insulator layer satisfying the following relationship. 30 ≦ V ≦ 99.7 (% by mass), W ≦ 69.7 (% by mass), 0.1 ≦ X ≦ 10 (% by mass), 0.1 ≦ Y ≦ 10
(% By mass), 0.1 ≦ Z ≦ 10 (% by mass)
【請求項6】 前記絶縁体層が、長径が0.1〜20μ
mのSr2MgSi27結晶粒子を30質量%以上含有
することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか
に記載のコンデンサ内蔵配線基板。
6. The insulator layer having a major axis of 0.1 to 20 μm.
6. The wiring board with a built-in capacitor according to claim 1, comprising at least 30% by mass of Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal particles.
【請求項7】 前記絶縁体層が、Sr2MgSi27
晶、SrSiO3結晶及びMgSiO3結晶のうちの少な
くとも1種を主成分とする仮焼粉末70〜99.7重量
%と、前記セラミック成分0.1〜10重量%(酸化物
換算)と、前記ホウ素成分0.1〜10質量%(酸化物
換算)及び前記アルカリ金属成分0.1〜10質量%
(酸化物換算)を混合、成形してなるグリーンシートま
たはその積層体を、850〜1000℃の範囲で焼成し
た低温焼成磁器組成物からなることを特徴とする請求項
1乃至請求項6に記載のコンデンサ内蔵配線基板。
7. The calcined powder containing at least one of Sr 2 MgSi 2 O 7 crystal, SrSiO 3 crystal and MgSiO 3 crystal as a main component in an amount of 70 to 99.7% by weight of the calcined powder, 0.1 to 10% by weight (calculated as oxide) of the ceramic component, 0.1 to 10% by mass (calculated as oxide) of the boron component, and 0.1 to 10% by mass of the alkali metal component
7. A low-temperature fired porcelain composition obtained by mixing and molding (in terms of oxide) a green sheet or a laminate thereof, which is fired at a temperature in the range of 850 to 1000 [deg.] C. Wiring board with built-in capacitor.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012529412A (en) * 2009-12-22 2012-11-22 広東風華高新科技股▲ふん▼有限公司 Reduction-resistant high-frequency low-temperature sintered ceramic media material matching with copper inner electrode
JP2012530355A (en) * 2009-12-22 2012-11-29 広東風華高新科技股▲ふん▼有限公司 Ceramic medium material matched with nickel inner electrode and method for preparing the capacitor obtained thereby

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