JP2001312868A - Head supporting mechanism for disk device - Google Patents

Head supporting mechanism for disk device

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JP2001312868A
JP2001312868A JP2000131746A JP2000131746A JP2001312868A JP 2001312868 A JP2001312868 A JP 2001312868A JP 2000131746 A JP2000131746 A JP 2000131746A JP 2000131746 A JP2000131746 A JP 2000131746A JP 2001312868 A JP2001312868 A JP 2001312868A
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head
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秀樹 桑島
Kaoru Matsuoka
薫 松岡
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To slightly displace a heat highly accurately and efficiently for tracking correction or the like. SOLUTION: A slider 2 provided with a head 1 for performing at least data reproducing for a disk to be rotary-driven is disposed to be slightly rotated in all of a pitch direction, a rolling direction and yawing direction by a dimple 4g. The dimple 4g as the rotational center of the slider 2 is matched with the center of gravity of a very small movement part including the slider 2 and a slider holding plate 3 for holding the slider 2, or this part is positioned between the center of gravity and the head 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピューターの
記憶装置等として用いられる磁気ディスク装置等の磁気
ディスクに対する情報の記憶および再生に使用されるヘ
ッドの支持機構に関し、特に、磁気ディスク装置に設け
られた磁気ディスクに対する情報の記録を高密度化する
ために最適なヘッド支持機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a head support mechanism used for storing and reproducing information on a magnetic disk such as a magnetic disk device used as a storage device of a computer, and more particularly, to a head support mechanism provided in the magnetic disk device. The present invention relates to an optimal head support mechanism for increasing the density of information recording on a magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、磁気ディスク装置に設けられた磁
気ディスクの記録密度は、日を追う毎に高密度化が進で
いる。磁気ディスクに対するデータの記録および再生に
使用される磁気ヘッドは、通常、スライダに搭載されて
おり、磁気ヘッドが搭載されたスライダは、磁気ディス
ク装置内に設けられたヘッド支持機構によって支持され
ている。ヘッド支持機構は、スライダが取り付けられた
ヘッドアクチュエーターアームを有しており、このヘッ
ドアクチュエータアームが、ボイスコイルモータ(VC
M)によって回動されるようになっている。そして、ボ
イスコイルモーターを制御することにより、スライダに
搭載されたヘッドが、磁気ディスク上の任意の位置に位
置決めされる。
2. Description of the Related Art In recent years, the recording density of a magnetic disk provided in a magnetic disk device has been increasing with each passing day. A magnetic head used for recording and reproducing data on and from a magnetic disk is usually mounted on a slider, and the slider on which the magnetic head is mounted is supported by a head support mechanism provided in the magnetic disk device. . The head support mechanism has a head actuator arm to which a slider is attached, and this head actuator arm is connected to a voice coil motor (VC
M). Then, by controlling the voice coil motor, the head mounted on the slider is positioned at an arbitrary position on the magnetic disk.

【0003】磁気ディスクに対してデータをさらに高密
度で記録するためには、磁気ディスクに対して磁気ヘッ
ドをさらに高精度に位置決めする必要がある。しかしな
がら、このように、VCMにてヘッドアクチュエータア
ームを回動させて磁気ヘッドを位置決めする構成では、
磁気ヘッドを、より高精度に位置決めできないという問
題がある。このために、磁気ヘッドを高精度に位置決め
するヘッド支持機構が既に提案されている。
In order to record data on a magnetic disk at a higher density, it is necessary to position the magnetic head with respect to the magnetic disk with higher precision. However, in such a configuration in which the head actuator arm is rotated by the VCM to position the magnetic head,
There is a problem that the magnetic head cannot be positioned with higher accuracy. To this end, a head support mechanism for positioning the magnetic head with high accuracy has already been proposed.

【0004】図18は、従来の磁気ディスク装置のヘッ
ド支持機構の一例を示す平面図である。回転駆動される
図示しない磁気ディスクに対するデータの記録/再生を
行うヘッド102は、サスペンションアーム104の一
方の端部に支持されている。サスペンションアーム10
4の他方の端部は、キヤリッジ106の先端部に設けら
れた突起108に対して、この突起108を中心に微小
角度の範囲内で回動可能に支持されている。キャリッジ
106の基端部は、磁気ディスク装置のハウジングに対
して固定される軸部材110によって、回動可能に支持
されている。
FIG. 18 is a plan view showing an example of a head support mechanism of a conventional magnetic disk drive. A head 102 for recording / reproducing data on a magnetic disk (not shown) driven to rotate is supported by one end of a suspension arm 104. Suspension arm 10
The other end of 4 is rotatably supported by a projection 108 provided at the tip of the carriage 106 within a small angle range around the projection 108. The base end of the carriage 106 is rotatably supported by a shaft member 110 fixed to the housing of the magnetic disk drive.

【0005】キヤリッジ106には、永久磁石(図示せ
ず)が固定されており、ハウジング側に固定された磁気
回路112の一部である駆動コイル114に流れる励磁
電流を制御することによって、この永久磁石に対して、
キヤリッジ106が、軸部材110に対して回動するよ
うになっている。これにより、ヘッド102が、磁気デ
ィスクの実質的な半径方向に沿って移動する。
A permanent magnet (not shown) is fixed to the carriage 106. The permanent magnet is controlled by controlling an exciting current flowing through a drive coil 114 which is a part of a magnetic circuit 112 fixed to the housing. For magnets,
The carriage 106 rotates with respect to the shaft member 110. As a result, the head 102 moves in a substantially radial direction of the magnetic disk.

【0006】キャリッジ106とサスペンションアーム
104との間には、一対の圧電素子116、116が設
けられている。各圧電素子116は、キャリッジ106
の長手方向に対して、それぞれの長手方向が相反する方
向に若干傾斜した状態で取り付けられている。そして、
各圧電素子116を、それぞれ、図18に矢印A14に
示す方向に伸縮させることによって、サスペンションア
ーム104が、キャリッジ106に対して突起108を
中心に、キャリッジ106の表面に沿って、微小角度の
範囲で回動する。これにより、サスペンションアーム1
04の先端部に取り付けられたヘッド102は、磁気デ
ィスクの表面に沿って、微小な範囲で変位され、磁気デ
ィスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることが
できる。
A pair of piezoelectric elements 116, 116 are provided between the carriage 106 and the suspension arm 104. Each piezoelectric element 116 is
Are attached in such a manner that the respective longitudinal directions are slightly inclined in directions opposite to each other. And
Each of the piezoelectric elements 116 is expanded and contracted in a direction indicated by an arrow A14 in FIG. 18, so that the suspension arm 104 is moved in a small angle range along the surface of the carriage 106 around the projection 108 with respect to the carriage 106. To rotate. Thereby, the suspension arm 1
The head 102 attached to the tip of the magnetic disk 04 is displaced in a minute range along the surface of the magnetic disk, and can be positioned at an arbitrary position on the magnetic disk with high accuracy.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】図18に示す従来のヘ
ッド支持機構では、各圧電素子116が、サスペンショ
ンアーム104およびキャリッジ106にそれぞれ設け
られた部材の間にそれぞれ挟まれた状態になっており、
各圧電素子116の長手方向(矢印A14で示す)に沿
ったそれぞれの側部が、サスペンションアーム104と
キャリッジ106の各部材に当接されている。そして、
各圧電素子116のバルク変形によって、サスペンショ
ンアーム104を回動させて、ヘッド102を微小に変
位させるようになっている。このように、各圧電素子1
16への印加電圧に対して、サスペンションアーム10
4を回動させ、ヘッド102を微小に変位させているた
めに、各圧電素子116にそれぞれ印加される電圧に対
して、ヘッド102が必ずしも高精度に追従するもので
はなく、ヘッド102を高精度で位置決めすることがで
きないおそれがある。
In the conventional head support mechanism shown in FIG. 18, each piezoelectric element 116 is sandwiched between members provided on the suspension arm 104 and the carriage 106, respectively. ,
Each side of each piezoelectric element 116 along the longitudinal direction (indicated by an arrow A14) is in contact with each member of the suspension arm 104 and the carriage 106. And
Due to the bulk deformation of each piezoelectric element 116, the suspension arm 104 is rotated, and the head 102 is slightly displaced. Thus, each piezoelectric element 1
16, the suspension arm 10
4, the head 102 does not always follow the voltage applied to each piezoelectric element 116 with high precision because the head 102 is displaced minutely. May not be able to be positioned.

【0008】本発明は、このような問題を解決するもの
であり、その目的は、磁気ディスク等に対するトラッキ
ング補正等のために、ヘッドを高精度で微小変位させる
ことができるディスク装置のヘッド支持機構を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a head support mechanism for a disk drive capable of finely displacing a head with high precision for tracking correction of a magnetic disk or the like. Is to provide.

【0009】本発明の他の目的は、電圧の制御によっ
て、ヘッドを高精度で微小変位させることができるディ
スク装置のヘッド支持機構を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a head support mechanism of a disk drive capable of minutely displacing a head with high precision by controlling a voltage.

【0010】本発明のさらに他の目的は、このようなヘ
ッド支持機構に対して好適に使用される薄膜圧電体アク
チュエータを提供することにある。
A further object of the present invention is to provide a thin film piezoelectric actuator suitably used for such a head support mechanism.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明のディスク装置の
ヘッド支持機構は、回転駆動されるディスクに対して少
なくともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライ
ダと、該スライダを少なくともヨー方向への微小変位角
度で回動し得るように支持する支持手段と、前記スライ
ダをヨー方向へ微小変位角度で回動させる駆動手段とを
具備し、前記スライダのヨー方向の回動中心位置が、前
記スライダを含む微小回動部分の重心位置に一致する
か、或いは、該重心位置と前記ヘッドとの間に位置する
ことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a head supporting mechanism for a disk drive, comprising: a slider provided with a head for reproducing at least data from a rotationally driven disk; and moving the slider at least in a yaw direction. A supporting means for supporting the slider so as to be rotatable at a small displacement angle; and a driving means for rotating the slider at a small displacement angle in the yaw direction. Or a position between the center of gravity of the minute rotating portion and the head.

【0012】前記スライダのヨー方向の回動中心位置
は、前記スライダの前記ディスクとの対向面に形成され
たエアーベアリング面の中心位置に一致する。
[0012] The center of rotation of the slider in the yaw direction coincides with the center of the air bearing surface formed on the surface of the slider facing the disk.

【0013】前記支持手段は、前記スライダをピッチ方
向、ロール方向およびヨー方向の全方向へ回動可能に点
支持するディンプルである。
[0013] The supporting means is a dimple for supporting the slider pointwise so as to be rotatable in all directions of a pitch direction, a roll direction and a yaw direction.

【0014】前記駆動手段は、先端部上に、前記スライ
ダをヨー方向への回動可能な状態で支持する操作基板
と、該操作基板の両側部分を、前記ディスクの表面に対
して、実質的に垂直な方向へ異なる位相で変形させる駆
動部材とを有する。
[0014] The driving means includes an operation board for supporting the slider rotatably in the yaw direction on a tip end thereof, and both side portions of the operation board substantially with respect to the surface of the disk. And a driving member for deforming in different directions in a direction perpendicular to the driving direction.

【0015】前記駆動部材は、前記操作基板の両側部分
に積層状態でそれぞれ設けられた薄膜圧電体である。
The driving members are thin-film piezoelectric members provided on both sides of the operation board in a laminated state.

【0016】また、本発明のディスク装置のヘッド支持
機構は、回転駆動されるディスクに対して少なくともデ
ータの再生を行うヘッドが設けられたスライダと、該ス
ライダを少なくともヨー方向へ微小変位角度で回動可能
に支持する支持手段と、前記スライダをヨー方向へ微小
変位角度で回動させる駆動手段とを具備し、該駆動手段
は、先端部上に、前記スライダをヨー方向への回動可能
な状態で支持する操作基板と、該操作基板の両側部分
を、前記ディスクの表面に対して、実質的に垂直な方向
へ異なる位相で変形させる駆動部材とを有することを特
徴とする。
Further, the head supporting mechanism of the disk drive of the present invention comprises a slider provided with a head for reproducing at least data on a rotationally driven disk, and rotating the slider at least by a small displacement angle in the yaw direction. Movably supporting means, and driving means for rotating the slider at a slight displacement angle in the yaw direction, the driving means being capable of rotating the slider in the yaw direction on the tip end. An operation board supported in a state, and a driving member for deforming both side portions of the operation board at different phases in a direction substantially perpendicular to the surface of the disk.

【0017】前記駆動部材は、前記操作基板の両側部分
に積層状態でそれぞれ設けられた薄膜圧電体である。
The driving members are thin-film piezoelectric members provided on both sides of the operation board in a laminated state.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明の実施形態におけるディス
ク装置のヘッド支持機構100の全体構造を示すディス
ク側からの斜視図、図2は、図1のヘッド支持機構10
0を分解して示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view from the disk side showing the entire structure of a head support mechanism 100 of a disk drive according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a head support mechanism 10 of FIG.
FIG.

【0020】本実施形態におけるディスク装置のヘッド
支持機構100は、ヘッド1が搭載されたスライダ2
と、スライダ2を保持するスライダ保持板3と、スライ
ダ2およびスライダ保持板3を先端部上に回動可能に支
持するロードビーム4と、ロードビーム4の上でスライ
ダ2を先端部上に支持して、スライダ2を回動させる操
作基板としての薄膜圧電体基板8と、薄膜圧電体基板8
の上方からその基端側にかけて設けられた第1の配線パ
ターン12と、第1の配線パターン12に沿って設けら
れた第2の配線パターン7とを具備している。
The head support mechanism 100 of the disk drive according to this embodiment includes a slider 2 on which a head 1 is mounted.
A slider holding plate 3 for holding the slider 2; a load beam 4 for rotatably supporting the slider 2 and the slider holding plate 3 on the distal end; and supporting the slider 2 on the load beam 4 on the distal end. Then, the thin film piezoelectric substrate 8 as an operation substrate for rotating the slider 2 and the thin film piezoelectric substrate 8
And a second wiring pattern 7 provided along the first wiring pattern 12 from the upper side to the base end side.

【0021】ロードビーム4は、正方形状をした基端部
4aと、基端部4aから先端側へ先細状に延出したネッ
ク部4bと、ネック部4bから更に先端側に延出した先
細形状のビーム部4cとを有している。
The load beam 4 has a square base portion 4a, a neck portion 4b extending from the base portion 4a toward the distal end, and a tapered shape extending further from the neck portion 4b toward the distal end. Beam portion 4c.

【0022】ロードビーム4における基端部4aの下面
には、この基端部4aに対応する正方形状のベースプレ
ート5がビーム溶接等によって取り付けられている。ベ
ースプレート5は、ヘッドアクチュエータ(図示せず)
に浅海可能に取り付けられており、ロードビーム4は、
ヘッドアクチュエータによって、ビーム部4cの先端部
が、磁気ディスク(図示せず)における実質的な半径方
向に沿って移動するように、基端部4aを中心として旋
回駆動される。従って、ロードビーム4がこのように旋
回駆動されることによって、ヘッド1は、磁気ディスク
における実質的な半径方向に沿って移動される。
On the lower surface of the base end 4a of the load beam 4, a square base plate 5 corresponding to the base end 4a is attached by beam welding or the like. The base plate 5 is a head actuator (not shown)
Is installed in a shallow sea, and the load beam 4
The head actuator rotates the distal end of the beam portion 4c about the proximal end 4a so as to move along a substantially radial direction of the magnetic disk (not shown). Accordingly, the head 1 is moved substantially in the radial direction of the magnetic disk by the turning drive of the load beam 4 in this manner.

【0023】ロードビーム4におけるネック部4bの中
央部には、開口部4dが設けられており、ネック部4b
における開口部4dの両側部分が、それぞれ板バネ部4
e、4eになっている。ビーム部4cは、各板バネ部4
eによって、磁気ディスクの表面に対して垂直方向へ弾
性的に変位するようになっており、ビーム部4cが弾性
的に変位することによって、ビーム部4cの先端部に設
けられたスライダ2にロード荷重が付加される。
An opening 4d is provided at the center of the neck 4b of the load beam 4, and the opening 4d is provided.
The two side portions of the opening portion 4d are leaf spring portions 4 respectively.
e, 4e. The beam part 4c is provided for each leaf spring part 4
As a result, the beam portion 4c is elastically displaced in a direction perpendicular to the surface of the magnetic disk, and the beam portion 4c is elastically displaced to load the slider 2 provided at the tip end of the beam portion 4c. A load is applied.

【0024】ビーム部4cの先端部には、上面側へ半球
形状に突出したディンプル4gが一体的に形成されてい
る。ビーム部4cの先端部には、また、ビーム部4cの
先端から基端部側に向かって直線状に延出した一対の規
制部4f、4fが設けられている。各規制部4fは、ビ
ーム部4cの上面に対して上方に適当な間隙をあけて、
基端部側に延出している。
A dimple 4g projecting hemispherically toward the upper surface is integrally formed at the tip of the beam portion 4c. A pair of regulating portions 4f, 4f linearly extending from the distal end of the beam portion 4c toward the base end side are provided at the distal end portion of the beam portion 4c. Each restricting portion 4f is provided with an appropriate gap above the upper surface of the beam portion 4c,
It extends toward the base end.

【0025】ビーム部4c先端部上には、スライダ保持
板3が配置されている。スライダ保持板3上には、薄膜
圧電体基板8の先端部を介して、スライダ2が保持され
ている。スライダ保持板3には、図2に示すように、薄
膜圧電体基板8の先端部下面に接合される基板接合部3
bが先端部に設けられている。基板接合部3bの各側部
には、基端側へ延出する一対のバランスウエイト部3c
および3cが設けられており、また、基板接合部3bの
中央部には、基端側へ半円形状に小さく突出した突起部
3aが、各バランスウエイト部3cの間に設けられてい
る。
The slider holding plate 3 is arranged on the tip of the beam portion 4c. The slider 2 is held on the slider holding plate 3 via the tip of the thin-film piezoelectric substrate 8. As shown in FIG. 2, the slider holding plate 3 has a substrate bonding portion 3 bonded to the lower surface of the front end portion of the thin film piezoelectric substrate 8.
b is provided at the tip. A pair of balance weights 3c extending toward the base end is provided on each side of the board joint 3b.
And 3c are provided, and at the center of the substrate joining portion 3b, a small protruding portion 3a protruding in a semicircular shape toward the base end is provided between the balance weight portions 3c.

【0026】スライダ保持板3は、突起部3aの下面
が、下方からロードビーム4のビーム部4c先端部に設
けられたディンプル4gに、点接触で支持されて、各バ
ランスウエイト部3cが、ビーム部4cの先端部に設け
られた各規制部4fとは適当な微小間隔をあけた状態で
規制されている。これにより、スライダ保持板3は、そ
の上に設けられたスライダ2と共に、微小の変位角度で
全方向へ回動し得るように支持されている。そして、ス
ライダが設けられたスライダ保持板3の微小回動の重心
位置は、回動中心であるディンプル4gに一致してい
る。
The slider holding plate 3 has the lower surface of the projection 3a supported from below by dimples 4g provided at the tip of the beam portion 4c of the load beam 4 in point contact with each other. Each of the regulating portions 4f provided at the tip of the portion 4c is regulated with an appropriate minute interval. Thus, the slider holding plate 3 is supported so as to be able to rotate in all directions at a small displacement angle together with the slider 2 provided thereon. The position of the center of gravity of the minute rotation of the slider holding plate 3 provided with the slider coincides with the dimple 4g which is the center of rotation.

【0027】図3は、スライダ2の斜視図である。スラ
イダ2の先端面には、MR素子を含むヘッド1が、上縁
部中央に配置されている。スライダ2の先端面の下縁部
には、4つの端子2a〜2dが横方向に並んだ状態で設
けられている。スライダ2の上面は、磁気ディスクの表
面に対向するディスク対向面になっている。この上面に
は、回転駆動される磁気ディスクによって生じる空気流
を、磁気ディスクの接線方向に沿って通流させて、磁気
ディスクとの間にエア潤滑膜を形成するエアーベアリン
グ面2eが設けられている。
FIG. 3 is a perspective view of the slider 2. The head 1 including the MR element is arranged at the center of the upper edge of the slider 2 at the tip end surface. Four terminals 2a to 2d are provided on the lower edge of the front end surface of the slider 2 in a state of being arranged in the horizontal direction. The upper surface of the slider 2 is a disk facing surface facing the surface of the magnetic disk. The upper surface is provided with an air bearing surface 2e that allows an air flow generated by the magnetic disk driven in rotation to flow along the tangential direction of the magnetic disk to form an air lubricating film with the magnetic disk. I have.

【0028】エアーベアリング面2eの中心は、スライ
ダ保持板3の微小回動部分の回動中心(重心位置)であ
るディンプル4gに一致している。従って、スライダ2
は、エアーベアリング面2eの中心に対して、ヘッド1
を通るビーム部4cの長手方向に沿った軸を中心とした
回動方向であるピッチ方向、ビーム4cの長手方向に沿
った軸に直交するエアーベアリング面2eに沿った軸を
中心とした回動方向であるロール方向、および、ピッチ
方向およびロール方向の各中心軸に対してそれぞれ直交
する軸を中心とした回動方向であるヨー方向の全方向に
微小回動し得るようになっている。スライダ2は、ヨー
方向へ微小変位角度で回動することにより、ヘッド1
は、磁気ディスクにおける実質的な半径方向に沿って微
小移動する。
The center of the air bearing surface 2e coincides with the dimple 4g, which is the center of rotation (position of the center of gravity) of the minutely rotating portion of the slider holding plate 3. Therefore, slider 2
Is the head 1 with respect to the center of the air bearing surface 2e.
The pitch direction, which is the rotation direction about the axis along the longitudinal direction of the beam portion 4c passing through the beam, and the rotation about the axis along the air bearing surface 2e orthogonal to the axis along the longitudinal direction of the beam 4c It is possible to make small rotations in all directions in the yaw direction, which is the rotation direction about the roll direction and the center axes of the pitch direction and the roll direction. The slider 2 is rotated at a slight displacement angle in the yaw direction, so that the head 1 is moved.
Moves minutely along the substantially radial direction of the magnetic disk.

【0029】なお、ヘッド1は、磁気ディスクの表面、
より具体的には、磁気ディスクの接線方向を向くように
配置されている。
The head 1 has a surface of a magnetic disk,
More specifically, they are arranged so as to face the tangential direction of the magnetic disk.

【0030】図4および図5は、それぞれ、ロードビー
ム4上に配置される薄膜圧電体用基板8およびその周辺
部の平面囲および底面図、図6は、図2のX−X線にお
ける断面図、図7は、図5のY−Y線における断面図で
ある。
FIGS. 4 and 5 are a plan view and a bottom view of the thin film piezoelectric substrate 8 disposed on the load beam 4 and its periphery, respectively. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. FIG. 7 and FIG. 7 are cross-sectional views taken along line YY in FIG.

【0031】薄膜圧電体用基板8は、ロードビーム4の
先端部から基端部に沿って延びる長板形状をしており、
磁気ディスクの表面に沿うように配置されている。薄膜
圧電体用基板8の材質としては、可撓性を有する薄いス
テンレス鋼板等が使用される。
The thin film piezoelectric substrate 8 has a long plate shape extending from the distal end to the proximal end of the load beam 4.
It is arranged along the surface of the magnetic disk. As the material of the thin film piezoelectric substrate 8, a thin stainless steel plate having flexibility is used.

【0032】薄膜圧電体用基板8の先端部には、スライ
ダ2が上面に取り付けられて、下面がスライダ保持板3
の基板接合部3bに接合されるスライダ支持部8aが設
けられている。スライダ2は、その先端側のほぼ半分
が、スライダ支持部8aの上面に載置されて、スライダ
支持部8aの上面に貼り付けられている。
The slider 2 is attached to the top of the thin film piezoelectric substrate 8 at the top, and the bottom is the slider holding plate 3.
Is provided with a slider supporting portion 8a joined to the substrate joining portion 3b. The slider 2 is mounted on the upper surface of the slider support portion 8a with approximately half of the distal end thereof being attached to the upper surface of the slider support portion 8a.

【0033】スライダ支持部8aの基端側には、磁気デ
ィスクの表面に対して垂直方向へ異なる位相で変形する
一対の変形動作部8dおよび8eが、それぞれ、弾性ヒ
ンジ部8fおよび8gを介して、一体的に設けられてい
る。変形動作部8dおよび8eのさらに基端側には、ロ
ードビーム4におけるビーム部4cの上面に固定される
固定部8cが設けられている。
On the base end side of the slider supporting portion 8a, a pair of deforming operation portions 8d and 8e that deform in different phases in the direction perpendicular to the surface of the magnetic disk via elastic hinge portions 8f and 8g, respectively. , Are provided integrally. A fixing portion 8c fixed to the upper surface of the beam portion 4c of the load beam 4 is provided on the base end side of the deforming operation portions 8d and 8e.

【0034】一対の変形動作部8dおよび8eは、薄膜
圧電体用基板8の幅方向中間部に設けられたスリットに
よって、、所定の間隔をあけた平行状態になるように、
相互に分離している。一対の弾性ヒンジ部8fおよび8
gは、変形動作部8dおよび8eの先端部分の幅寸法を
それぞれ小さくすることによって形成されている。スラ
イダ支持部8aは、各弾性ヒンジ部8fおよび8gによ
って、ヨー方向を除く方向へ回動可能になっており、従
って、スライダ支持部8a上に配置されたスライダ2お
よびスライダ支持部8aの下方に配置されたスライダ保
持板3が、ヨー方向に回動しない状態で固定している。
The pair of deforming operation portions 8d and 8e are arranged in parallel at a predetermined interval by slits provided in the widthwise intermediate portion of the substrate 8 for thin film piezoelectric material.
Separated from each other. A pair of elastic hinge portions 8f and 8
g is formed by reducing the width dimension of the distal end portions of the deformable operation portions 8d and 8e. The slider supporting portion 8a is rotatable in directions other than the yaw direction by the elastic hinge portions 8f and 8g. Therefore, the slider 2 and the slider supporting portion 8a disposed on the slider supporting portion 8a are located below the slider supporting portion 8a. The placed slider holding plate 3 is fixed without rotating in the yaw direction.

【0035】薄膜圧電体用基板8の下面には、第1およ
び第2の薄膜圧電体11aおよび11bが設けられてい
る。第1および第2の薄膜圧電体は、薄膜圧電体用基板
8の一対の変形動作部8dおよび8eの下面から固定部
8cの下面にかけて積層状態で配置されて、これらを覆
う柔軟材6によって薄膜圧電体用基板8と一体化されて
いる。各薄膜圧電体11aおよび11bは、上面および
下面の間に電圧を印加することによって、その電圧量に
対応した長手方向に延びが発生し、各薄膜圧電体11a
および11bに発生する延びによって、変形動作部8d
および8eにそれぞれ板厚方向への反りが発生する。こ
れにより、薄膜圧電体用基板8には、磁気ディスクの表
面に対して垂直方向の変位が発生する。
On the lower surface of the thin film piezoelectric substrate 8, first and second thin film piezoelectric members 11a and 11b are provided. The first and second thin film piezoelectric members are arranged in a stacked state from the lower surface of the pair of deforming operation portions 8d and 8e of the thin film piezoelectric substrate 8 to the lower surface of the fixed portion 8c, and the thin film is formed by the flexible material 6 covering these. It is integrated with the piezoelectric substrate 8. When a voltage is applied between the upper surface and the lower surface, each of the thin film piezoelectric members 11a and 11b is elongated in a longitudinal direction corresponding to the amount of the voltage.
And 11b, the deformation operation part 8d
And 8e are each warped in the thickness direction. This causes a displacement in the direction perpendicular to the surface of the magnetic disk on the thin film piezoelectric substrate 8.

【0036】第1の薄膜圧電体11aの上面および下面
には、白金によって構成された上面電極9aおよび下面
電極9bがそれぞれ設けられている。また、第2の薄膜
圧電体11bの上面および下面にも、同様に、白金によ
って構成された上面電極9aおよび下面電極9bがそれ
ぞれ設けられている。
An upper electrode 9a and a lower electrode 9b made of platinum are provided on the upper and lower surfaces of the first thin film piezoelectric member 11a, respectively. Similarly, upper and lower electrodes 9a and 9b made of platinum are provided on the upper and lower surfaces of the second thin film piezoelectric member 11b, respectively.

【0037】薄膜圧電体用基板8における固定部8cの
下面には、3つの端子部13a、13b、13cが、そ
れぞれ、柔軟材6から露出した状態で設けられている。
一対の端子部13aおよび13bは、両側の下面電極9
bおよび9bの各基端部に、電気的に接触した状態で、
それぞれ取り付けられている。また、他の端子部13c
は、これらの端子部13aおよび13bの基端側に配置
されており、この端子部13cが、上面電極9aおよび
9aの基端部同士を電気的に短絡する短絡部材14に接
続されて、両側の上面電極9aおよび9aとそれぞれ短
絡している。
On the lower surface of the fixing portion 8c of the thin film piezoelectric substrate 8, three terminal portions 13a, 13b and 13c are provided in a state of being exposed from the flexible material 6, respectively.
The pair of terminal portions 13a and 13b are connected to the lower surface electrodes 9 on both sides.
b and 9b, in electrical contact with the base end,
Each is attached. In addition, another terminal 13c
Are arranged on the base end side of these terminal portions 13a and 13b, and this terminal portion 13c is connected to a short-circuit member 14 for electrically short-circuiting the base end portions of the upper surface electrodes 9a and 9a. With the upper surface electrodes 9a and 9a.

【0038】薄膜圧電体用基板8の上面には、ヘッド1
に対する記録再生信号を転送するための第1の配線パタ
ーン12が設けられている。この第1配線パターン12
は、4本の配線ライン12a〜12dにより構成されて
いる。各配線ライン12a〜12dの一方の端部は、薄
膜圧電体用基板8のスライダ支持部8a上にて、スライ
ダ支持部8aの上面に設けられたスライダ2の各端子2
a〜2dに、それぞれ接続されている。
The head 1 is provided on the upper surface of the thin film piezoelectric substrate 8.
Is provided with a first wiring pattern 12 for transferring a recording / reproducing signal with respect to the first wiring pattern. This first wiring pattern 12
Is composed of four wiring lines 12a to 12d. One end of each of the wiring lines 12 a to 12 d is connected to each terminal 2 of the slider 2 provided on the upper surface of the slider support 8 a on the slider support 8 a of the thin film piezoelectric substrate 8.
a to 2d, respectively.

【0039】第1配線パターン12の一対の配線ライン
12aおよび12bは、薄膜圧電体用基板8の一方の変
形動作部8d上、固定部8c上を通って、それぞれ基端
側へ引き出されている。他の一対の配線ライン12cお
よび12dは、薄膜圧電体用基板8の他方の変形動作部
8e上、固定部8c上を通って、それぞれ基端側へ引き
出されている。
The pair of wiring lines 12a and 12b of the first wiring pattern 12 are drawn out to the base end side through the one deforming operation part 8d and the fixing part 8c of the thin film piezoelectric substrate 8, respectively. . The other pair of wiring lines 12c and 12d pass through the other deformation operation section 8e and the fixed section 8c of the thin-film piezoelectric substrate 8 and are drawn out toward the base end.

【0040】薄膜圧電体用基板8の基端側へ引き出され
た4本の配線ライン12a〜12dは、第1配線パター
ン12の配線部12eを通って、端子保持部12f上に
達して、端子保持部12f上にて外部接続用端子12
a′〜12d′と、それぞれ接続されている。
The four wiring lines 12a to 12d drawn to the base end side of the thin film piezoelectric substrate 8 pass through the wiring portion 12e of the first wiring pattern 12, reach the terminal holding portion 12f, and are External connection terminal 12 on holding portion 12f
a 'to 12d'.

【0041】なお、4本の配線ライン12a〜12d
は、薄膜圧電体用基板8の上面に対しては、柔軟材6に
よって固定されている。
The four wiring lines 12a to 12d
Are fixed to the upper surface of the thin film piezoelectric substrate 8 by the flexible material 6.

【0042】第2の配線パターン7は、薄膜圧電体用基
板8の下面に配置された第1および第2の薄膜圧電体1
1aおよび11bの駆動に使用される。この配線パター
ン7は、3本の配線ラインを有しており、各配線ライン
の一方の端部は、端子保持部7aにて、内部接続用端子
15a〜15cにそれぞれ接続されている。そして、3
つの内部接続用端子15a〜15cが、薄膜圧電体用基
板8における固定部8cの下面に設けられた3つの端子
部13a〜13cにそれぞれ接続されて、その固定部8
cが、端子保持部7aを介して、ロードビーム4のビー
ム部4cの上面に固定されている。
The second wiring pattern 7 is composed of the first and second thin film piezoelectric members 1 disposed on the lower surface of the thin film piezoelectric substrate 8.
Used for driving 1a and 11b. The wiring pattern 7 has three wiring lines, and one end of each wiring line is connected to the internal connection terminals 15a to 15c by a terminal holding portion 7a. And 3
The three internal connection terminals 15a to 15c are connected to three terminal portions 13a to 13c provided on the lower surface of the fixed portion 8c of the thin film piezoelectric substrate 8, respectively.
c is fixed to the upper surface of the beam portion 4c of the load beam 4 via the terminal holding portion 7a.

【0043】配線パターン7に設けられた3本の配線ラ
インは、第2の配線パターン7の配線部7c上わ通っ
て、端子保持部7b上に達しており、端子保持部7b上
にて、外部接続用端子16a、16b、16cに、それ
ぞれ接続されている。
The three wiring lines provided on the wiring pattern 7 pass over the wiring portion 7c of the second wiring pattern 7 and reach the terminal holding portion 7b. They are connected to the external connection terminals 16a, 16b, 16c, respectively.

【0044】第1の配線パターン12の端子保持部12
fおよび第2の配線パターン7の端子保持部7bは、ロ
ードビーム4の基端部4aにおける一方の側縁部に、ロ
ードビーム4の長手方向に並んで取り付けられている。
Terminal holding portion 12 of first wiring pattern 12
f and the terminal holding portion 7b of the second wiring pattern 7 are attached to one side edge of the base end portion 4a of the load beam 4 in the longitudinal direction of the load beam 4.

【0045】このような構成のディスク装置のヘッド支
持機構100の動作について、図8〜図16を用いて説
明する。
The operation of the head support mechanism 100 of the disk device having such a configuration will be described with reference to FIGS.

【0046】第1および第2の薄膜圧電体11aおよび
11bの各上面に設けられた上面電極9aおよび9a
は、短絡部材14、端子部13c、第2の配線パターン
7の内部接続用端子15cおよび外部接続用端子16c
を介して、それぞれ、グランドレベルとされる。
Upper surface electrodes 9a and 9a provided on the upper surfaces of first and second thin film piezoelectric members 11a and 11b, respectively.
Are the short-circuit member 14, the terminal portion 13c, the internal connection terminal 15c and the external connection terminal 16c of the second wiring pattern 7.
, Respectively, to the ground level.

【0047】また、第1の薄膜圧電体11aの下面に接
合された下面電極9bには、第2の配線パターン7の外
部接続用端子16aおよび内部接続用端子15a、並び
に端子部13aを介して、電圧Vが印加される。さら
に、第2の薄膜圧電体11bの下面に設けられた下面電
極9bには、第2の配線パターン7の外部接続用端子1
6bおよび内部接続用端子15b、並びに端子部13b
を介して、電圧0が印加される。
The lower electrode 9b joined to the lower surface of the first thin film piezoelectric member 11a is connected to the external connection terminal 16a and the internal connection terminal 15a of the second wiring pattern 7 and the terminal portion 13a. , A voltage V is applied. Further, the lower surface electrode 9b provided on the lower surface of the second thin film piezoelectric body 11b is connected to the external connection terminal 1 of the second wiring pattern 7.
6b, internal connection terminal 15b, and terminal portion 13b
A voltage 0 is applied via.

【0048】これにより、上面電極9aと下面電極9b
との間の電圧Vが、第1の薄膜圧電体11aに印加され
る。その結果、第1の薄膜圧電体11aは、図8に示す
ように、その長手方向(図8に矢印A1で示す方向)に
伸びを生じる。
Thus, the upper electrode 9a and the lower electrode 9b
Is applied to the first thin-film piezoelectric element 11a. As a result, as shown in FIG. 8, the first thin-film piezoelectric element 11a elongates in its longitudinal direction (the direction indicated by arrow A1 in FIG. 8).

【0049】この場合、第1の薄膜圧電体11aと積層
状態になった薄膜圧電体用基板8の一方の変形動作部8
dは、ステンレス鋼板等で構成されているために、伸び
方向(矢印A1で示す方向)に対して剛性が高くなって
いる。このため、第1の薄膜圧電体11aおよび薄膜圧
電体基板8の一方の変形動作部8dは、パイモルフ効果
により、図8に示すように、磁気ディスクの表面から離
れる方向、すなわち薄膜圧電体11aおよび11b側へ
突出するように反りを生じる。
In this case, one deformation operation section 8 of the thin film piezoelectric substrate 8 laminated with the first thin film piezoelectric body 11a is formed.
Since d is made of a stainless steel plate or the like, its rigidity is high in the elongation direction (the direction indicated by the arrow A1). For this reason, as shown in FIG. 8, the first thin film piezoelectric member 11a and one of the deforming portions 8d of the thin film piezoelectric substrate 8 move away from the surface of the magnetic disk by the pie morph effect as shown in FIG. Warpage occurs so as to protrude toward the 11b side.

【0050】これに対して、第2の薄膜圧電体11bに
は電圧が印加されない。このため、図9に示すように、
第2の薄膜圧電体11bおよびこれと積層状態になった
薄膜圧電体用基板8の他方の変形動作部8eには、特に
反りは生じない。
On the other hand, no voltage is applied to the second thin film piezoelectric body 11b. For this reason, as shown in FIG.
The second thin-film piezoelectric body 11b and the other deformable operation portion 8e of the thin-film piezoelectric body substrate 8 laminated with the second thin-film piezoelectric body 11b are not particularly warped.

【0051】このように、変形動作部8dに反りが生じ
ると、反りを生じていない変形動作部8eと同一平面に
投影される変形動作部8dの長手方向の長さが、反りを
生じていない変形動作部8eよりも、微小変位δ1だけ
短くなる(図10)。従って、薄膜圧電体用基板8のス
ライダ支持部8aは、図10に矢印A2で示すヨー方向
へ微小回動し、スライダ2およびスライタ保持板3も、
ディンプル4gを中心として同方向へ微小回動すること
になる。
As described above, when the deformation operation portion 8d is warped, the length in the longitudinal direction of the deformation operation portion 8d projected on the same plane as the deformation operation portion 8e that does not warp does not warp. It is shorter than the deforming operation part 8e by the minute displacement δ1 (FIG. 10). Therefore, the slider supporting portion 8a of the thin film piezoelectric substrate 8 slightly rotates in the yaw direction indicated by the arrow A2 in FIG. 10, and the slider 2 and the slicing plate 3 also move.
It will be slightly rotated in the same direction around the dimple 4g.

【0052】反対に、第1の薄膜圧電体11aの下面に
設けられた下面電極9bに電圧0が印加され、第2の薄
膜圧電体11bの下面に設けられた下面電極9bに電圧
Vが印加されると、第1の薄膜圧電体11aおよびこれ
と積層状態になった薄膜圧電体用基板8の一方の変形動
作部8dに反りは生じず、第2の薄膜圧電体11bおよ
びこれと積層状態になった薄膜圧電体用基板8の他方の
変形動作部8eに反りが生じる。
Conversely, a voltage 0 is applied to the lower surface electrode 9b provided on the lower surface of the first thin film piezoelectric member 11a, and a voltage V is applied to the lower electrode 9b provided on the lower surface of the second thin film piezoelectric member 11b. Then, the first thin-film piezoelectric body 11a and one of the deforming portions 8d of the thin-film piezoelectric body substrate 8 laminated with the first thin-film piezoelectric body 11a do not warp, and the second thin-film piezoelectric body 11b and the laminated state with the second thin-film piezoelectric body 11b The other deformation operation portion 8e of the thin film piezoelectric substrate 8 becomes warped.

【0053】これにより、薄膜圧電体用基板8のスライ
ダ支持部8aは、図10に矢印A2で示す方向とは反対
のヨー方向に微小回動する。その結果、スライダ2およ
びスライダ保持板3は、ディンプル4gを中心として同
方向へ微小回動することになる。
As a result, the slider supporting portion 8a of the thin film piezoelectric substrate 8 slightly rotates in the yaw direction opposite to the direction indicated by the arrow A2 in FIG. As a result, the slider 2 and the slider holding plate 3 slightly rotate around the dimple 4g in the same direction.

【0054】このように、第1および第2の薄膜圧電体
11aおよび11bに逆位相の駆動電圧を印加すること
により、スライダ2に搭載されたヘッド1は、磁気ディ
スクの半径方向、すなわち磁気ディスクに同心状態で設
けられた各トラックの幅方向に沿って、印加電圧に対応
した微小の変形量だけ、高精度で移動することになる。
これにより、ヘッド1のトラックに追従させるオントラ
ック操作を高精度で実施することができる。
As described above, the head 1 mounted on the slider 2 is moved in the radial direction of the magnetic disk, that is, by applying the driving voltages of opposite phases to the first and second thin film piezoelectric members 11a and 11b. In the width direction of each track provided concentrically with the track, it moves with a high degree of precision by a minute deformation amount corresponding to the applied voltage.
Thus, an on-track operation for following the track of the head 1 can be performed with high accuracy.

【0055】なお、薄膜圧電体用基板8のスライダ支持
部8aと変形動作部8dおよび8eとの各接続部分であ
る弾性ヒンジ部8gおよび8fは、配線パターン12の
配線ライン12aおよび12b、配線ライン12cおよ
び12dがそれぞれ配置される必要最小限の幅寸法に、
それぞれ設計されている。このために、スライダ支持部
8aが回動させるために必要な負荷が軽減されて、スラ
イダ支持部8aを小さな負荷によって、確実に回動させ
ることができる。
The elastic hinges 8g and 8f, which are the connecting portions between the slider supporting portion 8a and the deformable operating portions 8d and 8e of the thin film piezoelectric substrate 8, are connected to the wiring lines 12a and 12b of the wiring pattern 12 and the wiring lines. 12c and 12d to the minimum required width dimension respectively arranged,
Each is designed. Therefore, the load required for rotating the slider supporting portion 8a is reduced, and the slider supporting portion 8a can be reliably rotated with a small load.

【0056】また、スライダ2には、ロードビーム4の
板バネ部4eおよび4eにより、ロード荷重(20〜3
0mN)が加えられており、スライダ保持板3が回動さ
れる場合には、このロード荷重が、ディンプル4gとス
ライダ保持板3との間に作用する。このため、スライダ
保持板3には、スライダ保持板3とデインプル4gとの
摩擦係数にて決定される摩擦力が作用する。従って、ス
ライダ保持板3の突出部3aとディンプル4gとは、回
転可能ではあるが、摩擦力によってズレが生じるおそれ
がない。
Further, the load load (20 to 3) is applied to the slider 2 by the leaf spring portions 4e and 4e of the load beam 4.
0 mN) is applied, and when the slider holding plate 3 is rotated, this load load acts between the dimple 4 g and the slider holding plate 3. Therefore, a frictional force determined by the friction coefficient between the slider holding plate 3 and the dimple 4g acts on the slider holding plate 3. Therefore, although the protrusion 3a and the dimple 4g of the slider holding plate 3 are rotatable, there is no possibility that a displacement occurs due to frictional force.

【0057】第1の薄膜圧電体11aと第2の薄膜圧電
体11bは、同じ電圧が印加されることによって等しく
動作するようになっている。従って、電圧を印加しない
ときに薄膜圧電体11aおよび11bが反るように構成
して、第1の薄膜圧電体11aおよび第2の薄膜圧電体
11bに相互に逆位相の電圧を印加することにより、第
1の薄膜圧電体11aおよび変形動作部8dと、第2の
薄膜圧電体11bおよび変形動作部8eとを駆動するよ
うにしてもよい。
The first thin film piezoelectric member 11a and the second thin film piezoelectric member 11b operate equally when the same voltage is applied. Accordingly, the thin film piezoelectric members 11a and 11b are configured to bend when no voltage is applied, and by applying voltages of opposite phases to the first thin film piezoelectric member 11a and the second thin film piezoelectric member 11b. The first thin-film piezoelectric element 11a and the deformation operation section 8d may be driven, and the second thin-film piezoelectric substance 11b and the deformation operation section 8e may be driven.

【0058】また、本実施形態では、薄膜圧電体11a
および11bに電圧を印加したとき、薄膜圧電体11a
および11b側に突出するように変位させる構成である
が、電圧印加時に薄膜圧電体11aおよび11b側とは
反対側に突出するように変位させるようにしてもよい。
In this embodiment, the thin film piezoelectric member 11a
When a voltage is applied to the thin film piezoelectric body 11a
In this configuration, the piezoelectric element is displaced so as to protrude toward the thin film piezoelectric bodies 11a and 11b when voltage is applied.

【0059】なお、弾性ヒンジ部8gおよび8fは、そ
れぞれ、スライダ2のロール方向およびピッチ方向に回
動し得る柔軟な構成となっているため、エアーベアリン
グ面2eによるエアーベアリングによって、磁気ディス
クに対するスライダ2の浮上特性が向上する。
Since the elastic hinge portions 8g and 8f have a flexible structure that can be rotated in the roll direction and the pitch direction of the slider 2, respectively, the slider with respect to the magnetic disk is formed by the air bearing by the air bearing surface 2e. 2 is improved.

【0060】次に、本発明のディスク装置のヘッド支持
機構の動特性について説明する。
Next, the dynamic characteristics of the head support mechanism of the disk drive according to the present invention will be described.

【0061】図11および図12は、それぞれ、2種類
のヘッド支持機構をモデル化して示した模式図である。
図11は、スライダ2およびスライダ保持板3を含む微
小回転部における重心Gが、ディンプル4gとヘッド1
との間に位置したヘッド支持機構を示している。図12
は、スライダ2およびスライダ保持板3を含む微小回転
部における重心Gの位置が、ディンプル4gの位置に一
致した、本発明におけるヘッド支持機構100を示して
いる。
FIGS. 11 and 12 are schematic views showing models of two types of head support mechanisms.
FIG. 11 shows that the center of gravity G in the minute rotating portion including the slider 2 and the slider holding plate 3 is the dimple 4 g and the head 1.
And a head support mechanism located between the head support mechanism and the head. FIG.
Shows the head support mechanism 100 of the present invention in which the position of the center of gravity G in the minute rotating portion including the slider 2 and the slider holding plate 3 matches the position of the dimple 4g.

【0062】薄膜圧電体11aおよび薄膜圧電体11b
にそれぞれ逆位相で電圧が印加され、一方の変形動作部
8dが収縮し、他方の変形動作部8eが伸長する場合、
重心Gの位置によって、ヘッド1の磁気ディスク上の目
標トラックに対する追従特性は大きく影響を受ける。
The thin film piezoelectric member 11a and the thin film piezoelectric member 11b
When voltages are applied in opposite phases to each other, one deformation operation unit 8d contracts and the other deformation operation unit 8e expands,
The follow-up characteristics of the head 1 with respect to the target track on the magnetic disk are greatly affected by the position of the center of gravity G.

【0063】まず、スライダ2およびスライダ保持板3
を含む微小回転部における重心Gが、ディンプル4gと
ヘッド1との間に位置した図11の場合について説明す
る。
First, the slider 2 and the slider holding plate 3
The case of FIG. 11 in which the center of gravity G in the micro-rotational portion including the above is located between the dimple 4g and the head 1 will be described.

【0064】図11(a)に示すように、変形動作部8
dおよび8eのそれぞれの収縮および伸長により、弾性
ヒンジ部8gおよび8fには、それぞれ、図示するよう
に、相反する方向の作用力f1およびf2がそれぞれ生
じる。このとき、スライダ保持板3は、ロードビーム4
に形成されたディンプル4gによって、変形動作部8d
および8eの伸縮方向に対しては自由に変位することが
できるのに対して、変形動作部8dおよび8eが反る方
向には摩擦力で拘束された状態になっている。その結
果、スライダ2およびスライダ保持板3には、作用力f
1およびf2によって、重心Gを中心とした回転モーメ
ントMaが作用する。
As shown in FIG. 11A, the deforming operation unit 8
Due to the contraction and extension of d and 8e, acting forces f1 and f2 in opposing directions are generated in the elastic hinge portions 8g and 8f, respectively, as shown in the figure. At this time, the slider holding plate 3 holds the load beam 4
The deformation operation portion 8d is formed by the dimple 4g formed in
And 8e can be freely displaced in the direction of expansion and contraction, while the deforming portions 8d and 8e are restrained by a frictional force in the warping direction. As a result, the action force f is applied to the slider 2 and the slider holding plate 3.
The rotation moment Ma about the center of gravity G acts by 1 and f2.

【0065】図11に示すように、重心Gとディンプル
4gとが、ロードービーム4のビーム部4cの長手方向
に対して、距離Saだけ離れている場合には、ディンプ
ル4gには、Ra=Ma/Saなる反力Raが発生す
る。この反力Raにより、ロードービーム4のビーム部
4cに変形が生じることになる。図11(b)はこの変
形の様子を示した模式図である。
As shown in FIG. 11, when the center of gravity G and the dimple 4g are separated by a distance Sa with respect to the longitudinal direction of the beam portion 4c of the load beam 4, the dimple 4g has Ra = Ma / A reaction force Ra of Sa is generated. Due to this reaction force Ra, the beam portion 4c of the load beam 4 is deformed. FIG. 11B is a schematic diagram showing the state of this deformation.

【0066】図11(b)に示すように、スライダ2が
反時計回りに回転しても、変形動作部8dおよび8eが
反力Raによって変形するため、ヘッド1は所定量にわ
たって移動しないことになる。また、スライダ2および
スライダ保持板3は、質量を有しているために、変形動
作部8dおよび8eの変形に対する応答に遅れを生じる
ことになる。
As shown in FIG. 11 (b), even if the slider 2 rotates counterclockwise, since the deforming portions 8d and 8e are deformed by the reaction force Ra, the head 1 does not move over a predetermined amount. Become. In addition, since the slider 2 and the slider holding plate 3 have mass, a response to the deformation of the deformation operation units 8d and 8e is delayed.

【0067】図14は、図11に示すヘッド支持機構に
おけるヘッドの目標トラックに対する追従特性を示した
グラフであり、図14(a)はゲイン特性、図14
(b)は位相特性をそれぞれ示している。
FIG. 14 is a graph showing the follow-up characteristics of the head with respect to the target track in the head support mechanism shown in FIG. 11, and FIG.
(B) shows the phase characteristics.

【0068】図14(a)および(b)において、J1
〜J5は、図11に示すヘッド支持機構における薄膜圧
電体11aおよび11bを駆動した場合の共振点をそれ
ぞれ示している。J1は、図13(a)に示すロードビ
ーム4におけるビーム部4cのねじれ1次モード、J2
は、図13(b)に示したロードビーム4におけるビー
ム部4cのねじれ2次モード、J3は、図13(c)に
示したロードビーム4におけるビーム部4cの平面振動
モード(Sway)における共振点をそれぞれ示してお
り、また、J4およびJ5は、薄膜圧電体基板8におけ
る変形動作部8dおよび8eの共振モードにおける共振
点をそれぞれ示している。
In FIGS. 14A and 14B, J1
J5 indicate resonance points when the thin film piezoelectric members 11a and 11b in the head support mechanism shown in FIG. 11 are driven. J1 is a torsional primary mode of the beam portion 4c in the load beam 4 shown in FIG.
Is the torsional secondary mode of the beam part 4c in the load beam 4 shown in FIG. 13B, and J3 is the resonance in the plane vibration mode (Sway) of the beam part 4c in the load beam 4 shown in FIG. In addition, J4 and J5 indicate resonance points in the resonance mode of the deformation operation units 8d and 8e in the thin film piezoelectric substrate 8, respectively.

【0069】ヘッド支持機構の動特性の点からは、これ
らの共振モードの周波数を、ヘッド位置決め制御に影響
しない十分に高い周波数領域まで高めることが望まれ
る。しかしながら、J1〜J3は、それぞれ、ロードビ
ーム4の構造に起因する特性であるため、大幅に共振周
波数を高めることには必然的に限界がある。そこで、こ
れらJ1〜J3の共振点における応答性の位相遅れを改
善することが必要になる。
From the viewpoint of the dynamic characteristics of the head support mechanism, it is desirable to increase the frequencies of these resonance modes to a sufficiently high frequency range that does not affect the head positioning control. However, since each of J1 to J3 is a characteristic caused by the structure of the load beam 4, there is necessarily a limit to greatly increasing the resonance frequency. Therefore, it is necessary to improve the phase delay of the responsiveness at the resonance points of J1 to J3.

【0070】図12は、スライダ2およびスライダ保持
板3における微小回動部分の重心Gの位置が、ディンプ
ル4gの位置に一致する、本発明のヘッド支持機構10
0の動作説明のための模式図である。図12(a)に示
すように、重心Gの位置とディンプル4gの位置とが一
致しているために、回転モーメントMbによる反力Rb
が発生しない。そのため、図12(b)に示すように、
変形動作部8dおよび8eによる変位量が、スライダ2
のヨー方向の回転動作に変換される。このときの応答特
性を図15に示す。
FIG. 12 shows a head support mechanism 10 according to the present invention in which the position of the center of gravity G of the minutely rotating portion of the slider 2 and the slider holding plate 3 matches the position of the dimple 4g.
FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the operation of No. 0. As shown in FIG. 12A, since the position of the center of gravity G and the position of the dimple 4g match, the reaction force Rb due to the rotational moment Mb
Does not occur. Therefore, as shown in FIG.
The amount of displacement by the deforming operation units 8d and 8e is
In the yaw direction. FIG. 15 shows the response characteristics at this time.

【0071】図15に示すように、スライダ2およびス
ライダ保持板3の微小回動部分における重心Gの位置
を、ディンプル4gの位置に一致させることにより、ね
じれ2次モードJ2の共振の振幅特性および位相特性が
改善されると共に、平行振動J3がほとんど現れない状
態になる。
As shown in FIG. 15, the position of the center of gravity G in the minute rotation portion of the slider 2 and the slider holding plate 3 is made to coincide with the position of the dimple 4g, so that the resonance amplitude characteristic of the torsional secondary mode J2 and The phase characteristics are improved, and the parallel vibration J3 hardly appears.

【0072】このように、本発明のヘッド支持機構10
0では、スライダ2およびスライダ保持板3の微小回転
部における重心Gの位置が、ディンプル4gの位置に一
致することにより、高い周波数にて薄膜圧電体11aお
よび11bを駆動する場合に、応答性に優れた特性を得
ることができる。
As described above, the head support mechanism 10 of the present invention
At 0, the position of the center of gravity G in the minute rotating portion of the slider 2 and the slider holding plate 3 coincides with the position of the dimple 4g, so that when driving the thin film piezoelectric members 11a and 11b at a high frequency, the response is improved. Excellent characteristics can be obtained.

【0073】また、スライダ2およびスライダ保持板3
を、デインプル4gによって、ヨー方向だけでなく、全
方向へ回動可能に支持することにより、スライダ保持板
3の回動時における摩擦ロスを非常小さくすることがで
きる。これにより、小さな駆動力によって、ヘッド1の
変位量を大きくすることが可能になる。
The slider 2 and the slider holding plate 3
Is supported by the dimple 4g so as to be rotatable not only in the yaw direction but also in all directions, so that the friction loss when the slider holding plate 3 rotates can be extremely reduced. This makes it possible to increase the displacement of the head 1 with a small driving force.

【0074】また、スライダ2は、そのエアーベアリン
グ面2bの中心位置が回動中心と一致するように保持さ
れているために、例えば、空気粘性摩擦力等の外乱の影
響によって、スライダ2上のヘッド1の位置が変化する
おそれがない。
Since the slider 2 is held so that the center position of the air bearing surface 2b coincides with the center of rotation, for example, the slider 2 is affected by disturbance such as air viscous friction force. There is no possibility that the position of the head 1 changes.

【0075】さらに、薄膜圧電体用基板8および薄膜圧
電体11aおよび11bで構成された梁構造は、図8に
示したA1方向において高い剛性を生じるため、構造的
に、ヘッド支持機構100の振動共振点を高くできる。
Further, the beam structure composed of the thin film piezoelectric substrate 8 and the thin film piezoelectric members 11a and 11b has high rigidity in the direction A1 shown in FIG. The resonance point can be raised.

【0076】図16は、本発明の他の実施形態における
ディスク装置のヘッド支持機構をモデル化して示す模式
図である。なお、基本構成は、上記実施形態と同様であ
るので、各部の説明は省略する。
FIG. 16 is a schematic view showing a modeled head support mechanism of a disk drive according to another embodiment of the present invention. Note that the basic configuration is the same as that of the above embodiment, and the description of each unit will be omitted.

【0077】本実施形態の特徴は、図16(a)に示す
ように、回転中心となるディンプル4gが、スライダ2
およびスライダ保持板3の微小回転部における重心Gと
ヘッド1との間に位置することにある。
The feature of the present embodiment is that, as shown in FIG.
And between the center of gravity G and the head 1 in the minute rotating portion of the slider holding plate 3.

【0078】ヘッド1を目標のトラック位置に対して微
小変位させるために、薄膜圧電体11aおよび薄膜圧電
体11bにそれぞれ逆位相で電圧を印加し、薄膜圧電体
用基板8の一方の変形動作部8dが収縮し、他方の変形
動作部8eが伸長する。各変形動作部8dおよび8eそ
れぞれの収縮および伸長により、弾性ヒンジ部8gおよ
び8fには、それぞれ作用力f1およびf2が、図16
(a)に示す方向にそれぞれ作用する。
In order to slightly displace the head 1 with respect to the target track position, voltages are applied to the thin-film piezoelectric members 11a and 11b in opposite phases, respectively, and one of the deforming operation portions of the thin-film piezoelectric substrate 8 is applied. 8d contracts, and the other deforming operation part 8e expands. Due to the contraction and extension of each of the deforming operation portions 8d and 8e, the acting forces f1 and f2 are applied to the elastic hinge portions 8g and 8f, respectively, as shown in FIG.
Acts in the directions shown in FIG.

【0079】このとき、スライダ保持板3は、ロードビ
ーム4に形成されたディンプル4gによって、各変形動
作部8dおよび8eの伸縮方向には変位可能になってい
るが、各変形動作部8dおよび8eの反りの方向には摩
擦力によって拘束されているために、スライダ2および
スライダ保持板3には、作用力f1およびf2によって
重心Gを中心としたヨー方向の回転モーメントMcが作
用する。そして、重心Gとディンプル4gとは距離Sc
離れた状態になっているために、ディンプル4gには、
Rc=Mc/Scなる反力Rcが発生する。
At this time, the slider holding plate 3 can be displaced in the direction of expansion and contraction of each of the deforming operation portions 8d and 8e by the dimples 4g formed on the load beam 4, but each of the deforming operation portions 8d and 8e Is restrained by the frictional force in the direction of the warpage, and a rotational moment Mc in the yaw direction about the center of gravity G acts on the slider 2 and the slider holding plate 3 by the acting forces f1 and f2. The distance Sc is between the center of gravity G and the dimple 4g.
Because it is in a separated state, 4 g of dimples
A reaction force Rc of Rc = Mc / Sc is generated.

【0080】この反力Rcは、ロードービーム4のビー
ム部4cに変形を与えるが、図11の場合と異なり、ヘ
ッド1が変位する方向に作用するために、スライダ2の
回動によるヘッド1の移動を助長することになる。図1
6(b)はこの様子を示す模式図である。
This reaction force Rc deforms the beam portion 4c of the load beam 4 but, unlike the case of FIG. 11, acts in the direction in which the head 1 is displaced. Will be encouraged. FIG.
FIG. 6B is a schematic diagram showing this state.

【0081】スライダ2およびスライダ保持板3は、質
量を有しているために、ヘッド1の移動を指令する入力
信号に対して、位相が進む特性を呈することになる。
Since the slider 2 and the slider holding plate 3 have mass, the phase of the slider 2 and the slider holding plate 3 is advanced with respect to the input signal for commanding the movement of the head 1.

【0082】図17は、図16のヘッド支持機構におけ
るヘッドの目標トラックに対する追従特性を示したグラ
フであり、図17(a)はゲイン特性、17(b)は位
相特性をそれぞれ示している。
FIG. 17 is a graph showing the follow-up characteristics of the head with respect to the target track in the head support mechanism of FIG. 16. FIG. 17 (a) shows the gain characteristics and FIG. 17 (b) shows the phase characteristics.

【0083】図17のJ1〜J5は、ヘッド支持機構に
おける薄膜圧電体11aおよび11bを駆動したときの
共振点をそれぞれ示している。J1は、図13(a)に
示したねじれ1次モード、J2は、図13(b)に示し
たねじれ2次モード、J3は、図13(c)に示した平
面振動モード(Sway)における共振点をそれぞれ示
しており、J4およびJ5は、薄膜圧電体基板8におけ
る変形動作部8dおよび8eの共振モードにおける共振
点をそれぞれ示している。
J1 to J5 in FIG. 17 indicate resonance points when the thin film piezoelectric members 11a and 11b in the head support mechanism are driven, respectively. J1 is the first-order torsion mode shown in FIG. 13A, J2 is the second-order torsion mode shown in FIG. 13B, and J3 is the plane vibration mode (Sway) shown in FIG. 13C. Resonance points are indicated, and J4 and J5 indicate resonance points in the resonance mode of the deformation operation portions 8d and 8e in the thin-film piezoelectric substrate 8, respectively.

【0084】図17におけるJ2およびJ3の位相特性
は、ともに位相が進む方向になるために、制御の安定性
を得る上で有利となる。また、J2およびJ3における
ゲイン特性のピーク値を図外のダンパー等により減衰さ
せると、さらに良好な制御特性を得ることが可能にな
る。
The phase characteristics of J2 and J3 in FIG. 17 are both advantageous in obtaining the stability of control since the phases are both advanced. Further, when the peak values of the gain characteristics at J2 and J3 are attenuated by a damper or the like not shown, it is possible to obtain better control characteristics.

【0085】このように、本実施形態によれば、回動中
心となるディンプル4gが、スライダ2およびスライダ
保持板3の微小回動分部における重心Gとヘッド1との
間に位置することにより、高い周波数によって薄膜圧電
体を駆動する場合に、動作の応答性に優れた特性を得る
ことができる。また、重心位置のばらつきを考慮したよ
り安定した制御特性を実現できる。
As described above, according to the present embodiment, the dimple 4g serving as the center of rotation is located between the center of gravity G and the head 1 in the minute rotation portion of the slider 2 and the slider holding plate 3. When the thin-film piezoelectric body is driven at a high frequency, it is possible to obtain characteristics excellent in operation responsiveness. Further, more stable control characteristics can be realized in consideration of variations in the position of the center of gravity.

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明のディスク装置のヘッド支持機構
は、トラッキング補正等のために、ヘッドを高精度でな
微小に変位させることができるとともに、印加電圧に対
して効果的にヘッドを微小変位させることができる。特
に、スライダを含む微小回転部の重心位置を最適化する
ことにより、ロードビームが潜在的に有している有害な
共振特性を大幅に改善することが可能となる。また、ヘ
ッドの微小変位のために、薄膜圧電体を基板の片面上に
設けるという簡潔な構成を採用することにより、製造コ
ストの大幅な削減も可能である。
The head support mechanism of the disk drive of the present invention can precisely and minutely displace the head for tracking correction and the like, and can effectively displace the head with respect to the applied voltage. Can be done. In particular, by optimizing the position of the center of gravity of the minute rotating portion including the slider, it is possible to greatly improve the harmful resonance characteristics that the load beam potentially has. Further, by adopting a simple configuration in which a thin film piezoelectric body is provided on one side of the substrate for minute displacement of the head, it is possible to greatly reduce the manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のヘッド支持機構の実施の形態の一例を
示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a head support mechanism of the present invention.

【図2】そのヘッド支持機構を分解して示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is an exploded perspective view showing the head support mechanism.

【図3】そのヘッド支持機構に使用されるスライダの斜
視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a slider used for the head support mechanism.

【図4】そのヘッド支持機構に使用される薄膜圧電体用
基板および近傍の平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a thin film piezoelectric substrate used in the head support mechanism and the vicinity thereof.

【図5】その薄膜圧電体基板およびその近傍の底面図で
ある。
FIG. 5 is a bottom view of the thin film piezoelectric substrate and its vicinity.

【図6】図2のX−X線における断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line XX of FIG. 2;

【図7】図5のY−Y線における断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line YY of FIG. 5;

【図8】そのヘッド支持機構の動作を説明するための要
部の側面図である。
FIG. 8 is a side view of a main part for explaining the operation of the head support mechanism.

【図9】そのヘッド支持機構の動作を説明するための要
部の側面図である。
FIG. 9 is a side view of a main part for explaining the operation of the head support mechanism.

【図10】そのヘッド支持機構の動作を説明するための
要部の平面図である。
FIG. 10 is a plan view of a main part for explaining the operation of the head support mechanism.

【図11】(a)および(b)は、それぞれ、本発明の
ヘッド支持機構の動作を説明するために、比較例として
示すヘッド支持機構の概略構成図である。
FIGS. 11A and 11B are schematic diagrams of a head support mechanism shown as a comparative example for explaining the operation of the head support mechanism of the present invention.

【図12】(a)および(b)は、それぞれ、本発明の
ヘッド支持機構の動作を説明するための概略構成図であ
る。
FIGS. 12A and 12B are schematic configuration diagrams for explaining the operation of the head support mechanism of the present invention.

【図13】(a)〜(c)は、それぞれ、ロードビーム
の振動モード形態を示す斜視図である。
13 (a) to 13 (c) are perspective views each showing a vibration mode of a load beam.

【図14】(a)および(b)は、それぞれ、比較例と
して示した図11のヘッド支持機構の応答特性を示すグ
ラフである。
FIGS. 14A and 14B are graphs each showing a response characteristic of the head support mechanism of FIG. 11 shown as a comparative example.

【図15】(a)および(b)は、それぞれ、本発明の
実施の形態として示した図12のヘッド支持機構の応答
特性を示すグラフである。
FIGS. 15A and 15B are graphs respectively showing response characteristics of the head support mechanism of FIG. 12 shown as an embodiment of the present invention.

【図16】(a)および(b)は、それぞれ、本発明の
他の実施の形態として示したヘッド支持機構の動作を説
明するための概略構成図である。
FIGS. 16A and 16B are schematic configuration diagrams for explaining the operation of a head support mechanism shown as another embodiment of the present invention.

【図17】(a)および(b)は、それぞれ、そのヘッ
ド支持機構の応答特性を示すグラフである。
FIGS. 17A and 17B are graphs each showing a response characteristic of the head support mechanism.

【図18】従来のディスク装置のヘッド支持機構の一例
を示す平面図である。
FIG. 18 is a plan view showing an example of a head support mechanism of a conventional disk drive.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ヘッド 2 スライダ 2e エア−ベアリング面 3 スライダ保持板 4 ロードビーム 4g ディンプル 8 薄膜圧電体用基板(操作基板) 7,12 配線パターン 8d、8e 変形動作部 8g、8f 弾性ヒンジ部 11a、11b 薄膜圧電体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Head 2 Slider 2e Air-bearing surface 3 Slider holding plate 4 Load beam 4g Dimple 8 Thin film piezoelectric substrate (operation substrate) 7, 12 Wiring pattern 8d, 8e Deformation operation part 8g, 8f Elastic hinge part 11a, 11b Thin film piezoelectric body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D042 LA01 MA15 5D059 AA01 BA01 CA14 DA19 DA26 EA08 5D096 NN03 NN07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5D042 LA01 MA15 5D059 AA01 BA01 CA14 DA19 DA26 EA08 5D096 NN03 NN07

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転駆動されるディスクに対して少なく
ともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダ
と、 該スライダを少なくともヨー方向への微小変位角度で回
動し得るように支持する支持手段と、 前記スライダをヨー方向へ微小変位角度で回動させる駆
動手段とを具備し、 前記スライダのヨー方向の回動中心位置が、前記スライ
ダを含む微小回動部分の重心位置に一致するか、或い
は、該重心位置と前記ヘッドとの間に位置することを特
徴とするディスク装置のヘッド支持機構。
1. A slider provided with a head for at least reproducing data on a disk driven to rotate, and a support means for supporting the slider so as to be able to rotate at least at a small displacement angle in the yaw direction. Driving means for rotating the slider at a minute displacement angle in the yaw direction, wherein the center of rotation of the slider in the yaw direction coincides with the position of the center of gravity of the minute rotating portion including the slider, or A head support mechanism for a disk drive, which is located between the position of the center of gravity and the head.
【請求項2】 前記スライダのヨー方向の回動中心位置
は、前記スライダの前記ディスクとの対向面に形成され
たエアーベアリング面の中心位置に一致する請求項1記
載のディスク装置のヘッド支持機構。
2. A head support mechanism for a disk drive according to claim 1, wherein the center of rotation of the slider in the yaw direction coincides with the center of an air bearing surface formed on the surface of the slider facing the disk. .
【請求項3】 前記支持手段は、前記スライダをピッチ
方向、ロール方向およびヨー方向の全方向へ回動可能に
点支持するディンプルである請求項1記載のディスク装
置のヘッド支持機構。
3. The head support mechanism according to claim 1, wherein said support means is a dimple for point-supporting said slider rotatably in all directions of a pitch direction, a roll direction and a yaw direction.
【請求項4】 前記駆動手段は、先端部上に、前記スラ
イダをヨー方向への回動可能な状態で支持する操作基板
と、該操作基板の両側部分を、前記ディスクの表面に対
して、実質的に垂直な方向へ異なる位相で変形させる駆
動部材とを有する請求項1記載のディスク装置のヘッド
支持機構。
4. An operation board, which supports the slider in a rotatable state in the yaw direction, on a distal end portion, and both side portions of the operation board, with respect to a surface of the disk. 2. A head support mechanism for a disk drive according to claim 1, further comprising: a driving member that deforms in a substantially perpendicular direction at a different phase.
【請求項5】 前記駆動部材は、前記操作基板の両側部
分に積層状態でそれぞれ設けられた薄膜圧電体である請
求項4記載のディスク装置のヘッド支持機構。
5. The head support mechanism for a disk drive according to claim 4, wherein said driving members are thin-film piezoelectric members provided on both sides of said operation board in a stacked state.
【請求項6】 回転駆動されるディスクに対して少なく
ともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダ
と、 該スライダを少なくともヨー方向へ微小変位角度で回動
可能に支持する支持手段と、 前記スライダをヨー方向へ微小変位角度で回動させる駆
動手段とを具備し、 該駆動手段は、先端部上に、前記スライダをヨー方向へ
の回動可能な状態で支持する操作基板と、該操作基板の
両側部分を、前記ディスクの表面に対して、実質的に垂
直な方向へ異なる位相で変形させる駆動部材とを有する
ことを特徴とするディスク装置のヘッド支持機構。
6. A slider provided with a head that reproduces at least data on a disk that is driven to rotate, a supporter that rotatably supports the slider at least in a yaw direction at a small displacement angle, and the slider. A driving means for rotating the slider at a slight displacement angle in the yaw direction, the driving means comprising, on a tip end thereof, an operation board for supporting the slider so as to be rotatable in the yaw direction; And a driving member for deforming both side portions of the disk at different phases in a direction substantially perpendicular to the surface of the disk.
【請求項7】 前記駆動部材は、前記操作基板の両側部
分に積層状態でそれぞれ設けられた薄膜圧電体である請
求項6記載のディスク装置のヘッド支持機構。
7. The head support mechanism of a disk drive according to claim 6, wherein said driving members are thin-film piezoelectric members provided on both sides of said operation board in a stacked state.
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