JP2001289915A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JP2001289915A
JP2001289915A JP2000109100A JP2000109100A JP2001289915A JP 2001289915 A JP2001289915 A JP 2001289915A JP 2000109100 A JP2000109100 A JP 2000109100A JP 2000109100 A JP2000109100 A JP 2000109100A JP 2001289915 A JP2001289915 A JP 2001289915A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
speed
test
pattern
semiconductor device
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000109100A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiya Yamazaki
俊哉 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000109100A priority Critical patent/JP2001289915A/en
Publication of JP2001289915A publication Critical patent/JP2001289915A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Test And Diagnosis Of Digital Computers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device capable of testing its own circuit operating at a high speed by using a general low speed LSI tester. SOLUTION: This semiconductor device 1 having a testing circuit 2 operating at a high speed, internally stores a high speed pattern generating circuit 3 for coverting a low speed test pattern of a reference clock, an input signal and an output expected value signal inputted from the low speed LSI tester into a test pattern of a speed adapted to the testing circuit 2 operating at a high speed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高速動作する自己
の回路を試験するための回路を有する半導体装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a circuit for testing its own circuit operating at high speed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、試験回路の動作保証が高速の半導
体装置の試験は、低速動作の半導体試験装置(以下低速
LSIテスターという)のクロックを半導体装置に内蔵
したPLLによって逓倍したクロックに基づき、試験回
路と、高速論理パターンを自己生成する複雑な構成の回
路(一般的にBIST回路という)とを高速動作させて
行っていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a test of a semiconductor device whose operation of a test circuit is guaranteed at a high speed is performed based on a clock obtained by multiplying a clock of a semiconductor test device of a low-speed operation (hereinafter referred to as a low-speed LSI tester) by a PLL built in the semiconductor device. A test circuit and a circuit having a complicated configuration (generally called a BIST circuit) that generates a high-speed logic pattern by itself are operated at a high speed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、近年、半導
体回路の動作クロックが高速化されるのに伴って、従来
から使用している低速LSIテスターの動作保証限界を
超えて高速動作する半導体装置が増えている。
However, in recent years, as the operation clock of the semiconductor circuit has been accelerated, a semiconductor device which operates at a high speed exceeding the operation guarantee limit of a conventionally used low-speed LSI tester has been developed. is increasing.

【0004】このため、試験回路の動作保証が高速の半
導体装置を試験するときには、高価な高速動作のLSI
テスターを導入したり、低速LSIテスターが高速化さ
れるように改造したりして対応しているものの、テスト
コストが上昇するという課題があった。
Therefore, when testing a semiconductor device whose operation of the test circuit is guaranteed at a high speed, an expensive high-speed LSI is required.
Although a tester has been introduced or a low-speed LSI tester has been modified so as to be faster, the test cost has been increased.

【0005】本発明は、前述の課題を解決するもので、
一般的な低速LSIテスターを用いて、高速動作する自
己の回路を試験できる半導体装置を提供することを目的
とする。
[0005] The present invention solves the above-mentioned problems.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of testing its own circuit operating at high speed using a general low-speed LSI tester.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、外部の低速L
SIテスターから入力する基準クロック,入力信号,出
力期待値信号(以下テストパターンという)に基づい
て、高速テストパターンを生成する高速テストパターン
発生回路を実装して、高速論理回路を高速試験できるよ
うにしたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an external low speed L.
A high-speed test pattern generation circuit that generates a high-speed test pattern based on a reference clock, input signal, and expected output signal (hereinafter referred to as a test pattern) input from an SI tester is implemented to enable high-speed testing of high-speed logic circuits. It was done.

【0007】本発明によれば、高速論理回路を実装した
半導体装置の高速試験を、従来のように高速論理パター
ンを自己生成するBIST回路を内蔵させることなく、
従来の試験方法の論理パターンを用いて試験をすること
ができるようになり、高価な高速LSIテスターを用意
したり、低速LSIテスターが高速化されるように改造
する必要もなくなる。
According to the present invention, a high-speed test of a semiconductor device on which a high-speed logic circuit is mounted can be performed without incorporating a BIST circuit for self-generating a high-speed logic pattern as in the prior art.
The test can be performed using the logic pattern of the conventional test method, so that there is no need to prepare an expensive high-speed LSI tester or to modify a low-speed LSI tester to increase the speed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】図1は本発明の半導体装置の一実施の形態
における構成を示すブロック図、図2は本発明の半導体
装置の一実施の形態における高速パターン発生回路の具
体的構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing a specific configuration of a high-speed pattern generating circuit according to one embodiment of the semiconductor device of the present invention. is there.

【0010】高速動作する半導体装置1には、試験回路
2,高速パターン発生回路3,比較器4,テスト端子
5,6,7及び遅延セレクタ制御端子8が実装されてい
る(図1参照)。
A test circuit 2, a high-speed pattern generation circuit 3, a comparator 4, test terminals 5, 6, 7 and a delay selector control terminal 8 are mounted on the semiconductor device 1 which operates at high speed (see FIG. 1).

【0011】また、動作保証限界が低速の半導体試験装
置(以下低速LSIテスターという)12には、入力信
号ドライバー(以下DRという)9,テストパターン発
生器(以下PGという)10及び出力信号コンパレータ
(以下CPという)11が実装されている(図1参
照)。
A semiconductor test apparatus (hereinafter referred to as a low-speed LSI tester) 12 whose operation guarantee limit is low is provided with an input signal driver (hereinafter referred to as DR) 9, a test pattern generator (hereinafter referred to as PG) 10, and an output signal comparator (hereinafter referred to as PG). (Hereinafter referred to as CP) 11 is mounted (see FIG. 1).

【0012】更に、低速LSIテスター12の低速テス
トパターンを高速化する高速パターン発生回路3には、
PLL13,遅延制御セレクター14,第1のテストパ
ターンメモリ15,第2のテストパターンメモリ16,
遅延調整回路17,バス18,バス19,バス20,バ
ス21及びバス22が実装されている(図2参照)。
Further, the high-speed pattern generation circuit 3 for accelerating the low-speed test pattern of the low-speed LSI tester 12 includes:
PLL 13, delay control selector 14, first test pattern memory 15, second test pattern memory 16,
The delay adjustment circuit 17, the bus 18, the bus 19, the bus 20, the bus 21, and the bus 22 are mounted (see FIG. 2).

【0013】前述の半導体装置1及び低速LSIテスタ
ー12の構成を更に詳細に説明すると、低速LSIテス
ター12は、PG10が出力した基準クロック,入力信
号及び出力期待値信号(以下テストパターンという)
を、DR9から半導体装置1のテスト端子5に、CP1
1から半導体装置1のテスト端子6にそれぞれ出力する
と共に、半導体装置1の比較器4からテスト端子7を介
して出力されるデータを試験結果判別機能によって処理
する。
The configurations of the semiconductor device 1 and the low-speed LSI tester 12 will be described in more detail. The low-speed LSI tester 12 includes a reference clock, an input signal, and an expected output signal (hereinafter referred to as a test pattern) output by the PG 10.
From the DR 9 to the test terminal 5 of the semiconductor device 1,
1 to the test terminal 6 of the semiconductor device 1 and the data output from the comparator 4 of the semiconductor device 1 via the test terminal 7 are processed by the test result determination function.

【0014】半導体装置1のPLL13は、テスト端子
5を介してバス18に入力した低速LSIテスター12
の基準クロックを試験回路2の動作速度に対応する周波
数に逓倍して、第1のテストパターンメモリ15及び第
2のテストパターンメモリ16に動作クロックとして出
力する。
The PLL 13 of the semiconductor device 1 is connected to a low-speed LSI tester 12 input to a bus 18 via a test terminal 5.
Is multiplied to a frequency corresponding to the operation speed of the test circuit 2 and output to the first test pattern memory 15 and the second test pattern memory 16 as an operation clock.

【0015】半導体装置1の第1のテストパターンメモ
リ15は、テスト端子5を介してバス18に入力した低
速LSIテスター12の入力信号パターンを一時メモリ
に格納した上、PLL13が出力した動作クロックに同
期した高速の入力信号パターンとしてバス20から試験
回路2に出力する。
The first test pattern memory 15 of the semiconductor device 1 stores, in a temporary memory, an input signal pattern of the low-speed LSI tester 12 input to the bus 18 via the test terminal 5, and stores an operation clock output by the PLL 13. The signal is output from the bus 20 to the test circuit 2 as a synchronized high-speed input signal pattern.

【0016】半導体装置1の第2のテストパターンメモ
リ16は、テスト端子6を介してバス22に入力した低
速LSIテスター12の低速の出力期待値パターンを一
時メモリに格納した上、PLL13が出力した動作クロ
ックに同期した高速の比較期待値パターンとして出力す
る。
The second test pattern memory 16 of the semiconductor device 1 temporarily stores the low-speed output expected value pattern of the low-speed LSI tester 12 input to the bus 22 via the test terminal 6 in a temporary memory, and outputs the pattern from the PLL 13. It is output as a high-speed expected comparison pattern synchronized with the operation clock.

【0017】半導体装置1の遅延調整回路17は、n
(n=1,2,3,・・・)段目にn個のトライステー
トバッファーを直列に接続し、かつこれ等の各段を第2
のテストパターンメモリ16の出力端に並列に接続する
と共に、各段のn列目のトライステートバッファーの制
御端子を遅延制御セレクター14の各列の出力端に並列
に接続したものである。
The delay adjustment circuit 17 of the semiconductor device 1 has n
(N = 1, 2, 3,...), N tristate buffers are connected in series at the stage, and these stages are connected to the second stage.
Are connected in parallel to the output terminals of the test pattern memory 16 and the control terminals of the tri-state buffers in the n-th column of each stage are connected in parallel to the output terminals of each column of the delay control selector 14.

【0018】半導体装置1の遅延制御セレクタ14は、
遅延セレクタ制御端子8を介してバス19に入力した低
速LSIテスター12のテストパターンに応じてトライ
ステートバッファーの動作段数を制御することにより、
第2のテストパターンメモリ16が出力した比較期待値
パターンの通過経路を選択して、比較期待値パターンの
バス21からの出力タイミングを制御する。
The delay control selector 14 of the semiconductor device 1
By controlling the number of operating stages of the tri-state buffer according to the test pattern of the low-speed LSI tester 12 input to the bus 19 via the delay selector control terminal 8,
The path of the comparison expected value pattern output from the second test pattern memory 16 is selected, and the output timing of the comparison expected value pattern from the bus 21 is controlled.

【0019】半導体装置1の比較器4は、第1のテスト
パターンメモリ15が出力した高速化された入力信号パ
ターンに基づいて試験回路2から出力された出力値パタ
ーンと、バス21から出力された比較期待値パターンと
を比較して、試験回路2の動作が正常なときはL信号
を、試験回路2に故障箇所が存在するときはH信号を出
力する。
The comparator 4 of the semiconductor device 1 outputs an output value pattern output from the test circuit 2 based on the accelerated input signal pattern output from the first test pattern memory 15 and an output value pattern output from the bus 21. By comparing the pattern with the expected comparison value pattern, an L signal is output when the operation of the test circuit 2 is normal, and an H signal is output when the test circuit 2 has a failure.

【0020】次に、本発明の半導体装置1の動作につい
て説明する。
Next, the operation of the semiconductor device 1 of the present invention will be described.

【0021】低速LSIテスター12のDR9から半導
体装置1のテスト端子5に入力した低速のテストパター
ンは、バス18を介して第1のテストパターンメモリ1
5に一時格納され、また、低速LSIテスター12のC
P11から半導体装置1のテスト端子6に入力した低速
のテストパターンは、バス22を介して第2のテストパ
ターンメモリ16に一時格納される。
The low-speed test pattern input from the DR 9 of the low-speed LSI tester 12 to the test terminal 5 of the semiconductor device 1 is transferred to the first test pattern memory 1 via the bus 18.
5 and temporarily stored in C of the low-speed LSI tester 12.
The low-speed test pattern input to the test terminal 6 of the semiconductor device 1 from P11 is temporarily stored in the second test pattern memory 16 via the bus 22.

【0022】そして、PLL13において、バス18か
ら入力する低速のテストパターンに基づいて試験回路2
の動作速度に適合するように逓倍されて高速化されたク
ロックが、第1のテストパターンメモリ15及び第2の
テストパターンメモリ16の動作クロックとして出力さ
れると、第1のテストパターンメモリ15及び第2のテ
ストパターンメモリ16はそれぞれ高速動作して、第1
のテストパターンメモリ15は高速化された入力信号パ
ターンを出力し、第2のテストパターンメモリ16は高
速化された比較期待値パターンを出力する。
In the PLL 13, the test circuit 2 based on the low-speed test pattern input from the bus 18 is used.
When the clock multiplied and speeded up so as to match the operation speed of the first test pattern memory 15 and the second test pattern memory 16 is output as the operation clock of the first test pattern memory 15 and the second test pattern memory 16, The second test pattern memories 16 operate at high speed, respectively,
The test pattern memory 15 outputs the accelerated input signal pattern, and the second test pattern memory 16 outputs the accelerated comparison expected value pattern.

【0023】ところで、論理パターン記述に基づいて高
速動作する試験回路2に第1のテストパターンメモリ1
5から入力した入力信号パターンが試験回路2から出力
値パターンとして出力されるまでに遅延するため、試験
回路2の出力値パターンと第2のテストパターンメモリ
16の比較期待値パターンとをそのまま比較すると、比
較結果が不安定になる。
Incidentally, the first test pattern memory 1 is stored in the test circuit 2 which operates at a high speed based on the description of the logical pattern.
5 is delayed until the input signal pattern input from the test circuit 2 is output from the test circuit 2 as an output value pattern. , The comparison result becomes unstable.

【0024】そこで、半導体装置1の遅延セレクタ制御
端子8を介してセレクタ遅延制御14に入力する制御信
号に基づいて、第2のテストパターンメモリ16から出
力される比較期待値パターンの遅延調整回路17での通
過経路を選択して、トライステートバッファーの段数を
切り替えることにより、比較期待値パターンのバス21
からの出力タイミングを所望の時間だけ遅延させる。
Therefore, based on a control signal input to the selector delay control 14 via the delay selector control terminal 8 of the semiconductor device 1, the delay adjustment circuit 17 for the comparison expected value pattern output from the second test pattern memory 16 , And by switching the number of stages of the tristate buffer, the bus 21 of the comparison expected value pattern
Is delayed by a desired time.

【0025】そこで、試験回路2から出力された出力値
パターンとバス21から出力された比較期待値パターン
とを比較器4で比較して、試験回路2の動作が正常なと
きはL信号を、試験回路2に故障箇所が存在するときは
H信号を、テスト端子7からそれぞれ出力する。そし
て、低速LSIテスター12は、テスト端子7から出力
される信号を試験結果判別機能により判別して、試験回
路2の良否判定(PASS/FAIL判定)を行う。
Therefore, the comparator 4 compares the output value pattern output from the test circuit 2 with the expected comparison value pattern output from the bus 21. When the operation of the test circuit 2 is normal, the L signal is output. When a fault location exists in the test circuit 2, an H signal is output from the test terminal 7. Then, the low-speed LSI tester 12 determines the signal output from the test terminal 7 by the test result determination function, and determines whether the test circuit 2 is good or not (PASS / FAIL determination).

【0026】以上のように、本実施の形態によれば、低
速LSIテスター12の動作保証を超える周波数で動作
させる必要のある試験回路2を試験するときでも、従来
の試験方法の論理パターンを活用して試験をすることが
可能になって、高速論理パターンを自己生成するBIS
T回路を被測定半導体装置に内蔵する必要がない上、別
途高価な高速LSIテスターを用意したり、低速LSI
テスター12が高速化されるように改造する必要もなく
なるため、高速論理回路を内蔵した半導体装置の高速試
験が低速LSIテスターにより行えるようになって、新
規の設備投資が不要となり、低コストの試験を実現する
ことができる。
As described above, according to the present embodiment, even when testing the test circuit 2 which needs to operate at a frequency exceeding the guaranteed operation of the low-speed LSI tester 12, the logic pattern of the conventional test method is utilized. BIS that enables self-generation of high-speed logic patterns
It is not necessary to incorporate a T circuit into the semiconductor device to be measured. In addition, an expensive high-speed LSI
Since there is no need to modify the tester 12 to increase the speed, a high-speed test of a semiconductor device having a built-in high-speed logic circuit can be performed by a low-speed LSI tester. Can be realized.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、高速論
理回路を内蔵した半導体装置の高速試験を、従来のよう
に高速論理パターンを自己生成するBIST回路を内蔵
させることなく、従来の試験方法の論理パターンを用い
て試験できるようになって、高価な高速LSIテスター
を用意したり、低速LSIテスターが高速化されるよう
に改造する必要もなくなるため、高速論理回路を内蔵し
た半導体装置の高速試験が低速LSIテスターにより行
えるようになって、新規の設備投資が不要となり、低コ
ストの試験が実現できるという効果を奏する。
As described above, according to the present invention, a high-speed test of a semiconductor device having a built-in high-speed logic circuit can be performed without using a BIST circuit for generating a high-speed logic pattern by itself. Since a test can be performed using a logic pattern of a test method, there is no need to prepare an expensive high-speed LSI tester or to modify a low-speed LSI tester to increase the speed. The high-speed test can be performed by a low-speed LSI tester, so that a new capital investment is not required, and an effect that a low-cost test can be realized is achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体装置の一実施の形態における構
成を示すブロック図
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention;

【図2】本発明の半導体装置の一実施の形態における高
速パターン発生回路の具体的構成を示すブロック図
FIG. 2 is a block diagram showing a specific configuration of a high-speed pattern generation circuit in one embodiment of the semiconductor device of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 試験回路 3 高速パターン発生回路 4 比較器 5,6,7 テスト端子 8 遅延セレクタ制御端子 9 入力信号ドライバー 10 テストパターン発生器(DR) 11 出力信号コンパレータ(PG) 12 低速LSIテスター(CP) 13 PLL 14 遅延制御セレクター 15 第1のテストパターンメモリ 16 第2のテストパターンメモリ 17 遅延調整回路 18,19,20,21,22 バス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Test circuit 3 High-speed pattern generation circuit 4 Comparator 5, 6, 7 Test terminal 8 Delay selector control terminal 9 Input signal driver 10 Test pattern generator (DR) 11 Output signal comparator (PG) 12 Low-speed LSI tester ( CP) 13 PLL 14 Delay control selector 15 First test pattern memory 16 Second test pattern memory 17 Delay adjustment circuit 18, 19, 20, 21, 22 bus

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/66 G01R 31/28 Q Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H01L 21/66 G01R 31/28 Q

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高速論理回路を試験回路とした半導体装
置において、 外部の低速LSIテスターから入力する低速のテストパ
ターンに基づいて高速のテストパターンを生成する高速
パターン発生回路が実装されていることを特徴とする半
導体装置。
In a semiconductor device using a high-speed logic circuit as a test circuit, a high-speed pattern generation circuit that generates a high-speed test pattern based on a low-speed test pattern input from an external low-speed LSI tester is mounted. Characteristic semiconductor device.
【請求項2】 前記高速パターン発生回路は、前記低速
LSIテスターから入力する低速のテストパターンに基
づいて前記高速論理回路の試験速度に適合した高速のテ
ストパターンを発生することを特徴とする請求項1記載
の半導体装置。
2. The high-speed pattern generation circuit generates a high-speed test pattern adapted to a test speed of the high-speed logic circuit based on a low-speed test pattern input from the low-speed LSI tester. 2. The semiconductor device according to 1.
【請求項3】 前記高速論理回路から出力された出力値
パターンを遅延させて、前記高速パターン発生回路から
出力された比較期待値パターンとのタイミングを調整す
る遅延調整回路が更に実装されていることを特徴とする
請求項1記載の半導体装置。
3. A delay adjustment circuit for delaying an output value pattern output from the high-speed logic circuit and adjusting timing with a comparison expected value pattern output from the high-speed pattern generation circuit is further mounted. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記高速論理回路から出力される出力値
パターンと前記高速パターン発生回路から出力される比
較期待値パターンとを比較する比較器が更に実装されて
いることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
4. A comparator for comparing an output value pattern output from the high-speed logic circuit with a comparison expected value pattern output from the high-speed pattern generation circuit. 13. The semiconductor device according to claim 1.
JP2000109100A 2000-04-11 2000-04-11 Semiconductor device Pending JP2001289915A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000109100A JP2001289915A (en) 2000-04-11 2000-04-11 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000109100A JP2001289915A (en) 2000-04-11 2000-04-11 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001289915A true JP2001289915A (en) 2001-10-19

Family

ID=18621840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000109100A Pending JP2001289915A (en) 2000-04-11 2000-04-11 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001289915A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7555686B2 (en) 2005-07-11 2009-06-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device, test board for testing the same, and test system and method for testing the same
US7610530B2 (en) 2005-08-24 2009-10-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Test data generator, test system and method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7555686B2 (en) 2005-07-11 2009-06-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device, test board for testing the same, and test system and method for testing the same
US7610530B2 (en) 2005-08-24 2009-10-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Test data generator, test system and method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004145999A (en) Timing adjustment circuit and semiconductor device provided with it
JP3703241B2 (en) Semiconductor memory device
US6031786A (en) Operation control circuits and methods for integrated circuit memory devices
KR970051415A (en) Method of selecting merge data output mode of semiconductor memory device
JP2001289915A (en) Semiconductor device
US6172544B1 (en) Timing signal generation circuit for semiconductor test system
JP2962213B2 (en) Test circuit and test method for semiconductor integrated circuit
US6335645B1 (en) Semiconductor integrated circuit having built-in self-test circuit
KR100267782B1 (en) Chip having time checking function
JP2598580Y2 (en) IC test equipment
US6163874A (en) Apparatus and method for doubling speed of random events generator
JPH1019984A (en) Testing method and testing equipment of semiconductor device
JP4192429B2 (en) IC test apparatus, control method thereof, and storage medium
JP3891913B2 (en) Semiconductor integrated circuit and test method thereof
KR100807116B1 (en) Delay locked loop
JP2001215260A (en) Integrated circuit tester and integrated circuit testing method
JP3150032B2 (en) Delay fault test pattern generation method
JPH04361179A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2000097996A (en) Semiconductor tester
JPH11223658A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2003255024A (en) Semiconductor device
JPH08146102A (en) Test pattern device for semiconductor ic test device
JPH11344534A (en) Semiconductor integrated circuit capable of full scan test and test data generating method
JPH11101855A (en) Testing circuit and testing method for semiconductor integrated circuit and semiconductor device
JPH05288808A (en) Built-in type self-test circuit