JP2001287164A - ブラストマスク形成用インキ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷パターンからなる皮膜型のブラストマス
クを利用したサンドブラスト法でプラズマディスプレイ
パネルのリブを形成するに際し、所望形状のリブを形成
すること。 【解決手段】 リブ材料層１４の上に印刷し、皮膜型の
ブラストマスク１５を形成するインキとして、粘度が回
転粘度計によるシェアレート０．１Ｓ^-1において３００
０００ｃｐｓ以上であり、かつリブの焼成工程において
焼失性を有するブラストマスク形成用インキを使用す
る。剥離工程を必要とせず、リブ材料のリブとなる部分
の頂上角部が欠け落ちて形状不良を生じることがなく、
歩留りを著しく向上させることができる。さらに、ブラ
ストマスクの形成工程でフォトリソグラフィー法を用い
ないので、工程を著しく簡略化できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、気体放電を用いた
自発光形式のフラットディスプレイとしてのプラズマデ
ィスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の技術分野に
属し、詳しくはＰＤＰを構成するリブの形成技術に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ＰＤＰは、２枚の対向するガラ
ス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、
その間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とする希ガスを封入した構
造になっている。そしてこれらの電極間に電圧を印加
し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることに
より各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報を表示するためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層に覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方式の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式に分類される。

【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体１０が設けられている。この
ＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電極
間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そして
この放電により生じる紫外線により蛍光体１０を発光さ
せ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっ
ている。

【０００４】このようなＰＤＰにおける背面板上のリブ
は、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されて
いたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法に
より形成されることが多くなっている。このサンドブラ
スト方法でリブを形成する場合、低融点ガラス粉末、耐
火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、こ
れに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリブ
ペーストを基板上に塗布して乾燥させることでリブ材料
層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光性
樹脂組成物の層を設けた後、フォトリソグラフィー法で
セル画定用のブラストマスクにパターニングし、そのブ
ラストマスクの上方の噴射ノズルから研削材を含む混合
エアーを噴射することにより、リブ材料層の不要部分を
除去し、次いでブラストマスクを剥離してから焼成する
手順が採られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のサンドブラスト
法によりＰＤＰのリブを形成する方法では、ブラストマ
スクを剥離する前のリブは図２（ａ）に示すような断面
形状になっている。すなわち、ブラストマスクＭは断面
矩形状をなし、その直下のリブＲの側面はえぐれてお
り、リブＲにおける上面と側面とのなす角度は鋭角とな
っている。これはリブＲの頂上角部において、ブラスト
マスクＭの強度が大きいため応力を集中させるのに対
し、その部分におけるリブＲの強度は小さいことに原因
している。この状態でブラストマスクＭの剥離処理を行
うと、図２（ｂ）に示すように、リブＲの頂上角部が欠
け落ちて形状不良（剥離不良）を生じ、歩留りが著しく
低下することとなる。

【０００６】そこで、ブラストマスクの剥離工程でリブ
の頂上角部が欠け落ちないようにするため、難研削性か
つ焼失性の組成物からなる印刷インキにより皮膜を形成
することで、所望パターンのブラストマスクを形成する
ことが新たに考えられている。この方法によれば、サン
ドブラスト処理後の焼成工程においてブラストマスクが
焼失するとともに、所望パターンのリブ材料が焼成され
て基板上にリブが固着形成される。すなわち、焼失性を
有するブラストマスクの使用により剥離工程が不要とな
る。したがって、リブの頂上角部が欠け落ちて形状不良
（剥離不良）を生じるようなことがなく、歩留りが著し
く向上する。さらに印刷法を適用してブラストマスクを
形成するから、露光工程、現像工程等も必要とせず、リ
ブを形成する過程が著しく簡略化する。そして、このよ
うなサンドブラスト法においては、ブラストマスクを形
成するインキ組成物の選択がリブ形成の良否を決定する
ことになる。

【０００７】本発明は、上記のような背景に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、印刷パター
ンからなる皮膜型のブラストマスクを利用したサンドブ
ラスト法でＰＤＰのリブを形成するに際し、所望形状の
リブを形成することのできるブラストマスク形成用イン
キを提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のブラストマスク形成用インキは、ＰＤＰの
リブをサンドブラスト法により形成する際のブラストマ
スクを形成するのに用いられるインキであって、粘度が
回転粘度計によるシェアレート０．１Ｓ^-1において３０
００００ｃｐｓ以上であり、かつリブの焼成工程におい
て焼失性を有することを特徴としている。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明のブラストマスク形成用イ
ンキは、基本的に、基板上に形成したリブ材料層に対し
て浸透しない、或いは極端に浸透しにくいことが必要で
ある。そのため、上記のような極端に高い粘度を有す
る。

【００１０】そして、リブ材料層上に印刷でパターニン
グするため、印刷適性が良好であることが必要である。
そのため、チキソ性、すなわちシェアレート０．１Ｓ^-1
と１００Ｓ^-1の粘度比（η^(0.1) ／η⁽¹⁰⁰⁾ ）が１０以
上であるように設定される。ブラストマスク形成用イン
キのパターニング法として現時点で最適とされるスクリ
ーン印刷では、シェアレート１００Ｓ^-1で、粘度１００
０００以下、好ましくは３００００ｃｐｓ以下である。

【００１１】本発明のブラストマスク形成用インキは、
難研削性でしかも焼失性の組成物からなる。ここで、ブ
ラストマスク形成用インキの難研削性とは、リブ材料層
上にパターニングした状態で、サンドブラスト処理に対
して十分に耐え得る研削され難い性質のことである。ま
た、ブラストマスク形成用インキの焼失性とは、そのブ
ラストマスク形成用インキを使用して形成したブラスト
マスクの焼失性である。すなわち、焼失性とは、焼成工
程においてリブ及び基板における残留分が問題とならな
い量まで減少し、かつ焼成工程においてリブ中に気泡な
どの物理的・化学的問題を発生させないブラストマスク
形成用インキの特性のことである。

【００１２】本発明のブラストマスク形成用インキは、
電離放射線硬化型であっても構わない。このタイプのイ
ンキを使用した場合、リブ材料層上に印刷した後、紫外
線照射により膜硬化させて、実質的に粘度を上げること
ができる。

【００１３】本発明のブラストマスク形成用インキは、
有機成分１００重量部に対して無機成分１〜６０重量部
であるインキ組成物からなることが好ましい。なぜな
ら、無機成分が６０重量部を越えると耐ブラスト性が悪
くなり、逆に無機成分が５重量部に満たないと印刷適性
が悪くなるからである。

【００１４】そして、インキ組成物を構成する無機成分
がガラスフリットからなることが好ましい。すなわち、
無機成分がガラスフリットの場合、焼成するとリブと一
体化するので疑似欠陥が少なくなる。さらに、強度およ
び密着性が向上する。アルミナなどのフィラー単独の場
合、粉状に残ってリブの形状が不均一となる。例えば、
アルミナが残った場合、リブの欠陥検査で疑似欠陥が多
く検出される。

【００１５】また、インキ組成物を構成する無機成分が
ガラスフリット、無機フィラー、着色顔料からなること
が好ましい。このように、無機成分がリブと類似する成
分の場合、疑似欠陥がさらに少なくなる。

【００１６】また、インキ組成物を構成する無機成分の
軟化点がリブ材料層の軟化点の±２０℃の範囲内にある
のが好ましい。すなわち、＋２０℃を越えると、焼結が
甘く強度が小さくなり、−２０℃より低いと、だれるた
め形状が悪くなる。

【００１７】また、インキ組成物を構成する無機成分の
平均粒径が０．０１〜５μｍであることが好ましい。平
均粒径が５μｍを越えると、リブ材料層の無機成分との
サイズ違いが大きく、焼成工程で不都合が生じる。

【００１８】また、インキ組成物の溶剤が有機成分中５
０％以下であることが好ましい。すなわち、リブ材料層
への浸透を防止するため、溶剤は入れない方がよいが、
入れる場合にも５０％以下にする。

【００１９】ブラストマスク形成用インキを構成する有
機成分は、樹脂、可塑剤、モノマー、オリゴマーのうち
の１種類以上からなる。

【００２０】ブラストマスク形成用インキを構成する有
機成分の樹脂としては、ポリブテン、エステル樹脂、ア
クリル樹脂、（無水）マレイン酸樹脂、アルキッド樹
脂、（アリル）エーテル樹脂、ウレタン樹脂、シリコン
樹脂、シリコンオイルなどが挙げられるが、これらに限
定されるものではなく、これらのオリゴマーでもよい。
形態としては、液状または粘調液状樹脂が好ましく、ま
た焼成工程で焼失するものを使用する。

【００２１】ブラストマスク形成用インキに使用するイ
ンキ組成物は、上記した有機成分と無機成分の他に、分
散剤、増粘剤、チキソ剤、消泡剤、重合開始剤、増感
剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。

【００２２】これらのうちチキソ剤としては、平均粒径
０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０１〜０．１μ
ｍのシリカ、アルミナ、チタニアなどを使用することが
できる。

【００２３】ブラストマスク形成用インキのリブ材料層
上へのパターニング方法としては、スクリーン印刷が好
ましいが、オフセット印刷、ディスペンス方式、グラビ
ア印刷、電界をかけたディスペンス方式、ベタ膜の紫外
線によるパターニング方式など任意の方法を採用しても
構わない。

【００２４】上記したブラストマスク形成用インキを用
いたリブ形成方法について図３を参照して説明する。

【００２５】図３（ａ）において、１１はガラス基板、
１２は電極、１３は誘電体層、１４はリブ材料層、１５
はブラストマスクであり、ガラス基板１１の上に電極１
２と誘電体層１３を周知の方法により形成し、その上に
リブ材料層１４を形成し、さらにその上にブラストマス
ク１５を形成した状態である。

【００２６】ブラストマスク１５は、リブの側面となる
側において薄く、リブの中央において厚い断面形状の皮
膜として形成される。具体的には、ブラストマスク形成
用インキを用い、スクリーン印刷により所定のパターン
に印刷し、乾燥硬化してブラストマスク１５を形成す
る。

【００２７】図３（ｂ）はサンドブラスト処理の工程を
示している。ブラストマスク１５を介してリブ材料層１
４に対してノズル１６から研削材を噴射することによ
り、リブ材料層１４のリブとなる部分が残り、その他の
不要部分が研削除去される。

【００２８】図３（ｃ）は焼成工程を示している。サン
ドブラスト処理に続くこの焼成工程によりリブ頂部に付
いたブラストマスク１５が焼失し、基板上にリブ１７が
形成される。

【００２９】図４は皮膜形成性のブラストマスクを介し
てサンドブラスト処理を行って得たリブの断面形状を示
している。同図に示すように、ブラストマスク１５は、
リブの側面となる側において薄く、リブの中央において
厚い断面形状の皮膜として形成されているので、耐サン
ドブラストマスクとしての働きはリブの頂部端部（図４
のＡの部分）おいて弱くなり、サンドブラスト処理を行
うとその部分におけるリブ材料の研削が進行しやすくな
る。これを焼成すると、図５に示すように、リブ１７の
頂上端部（図５のＡの部分）には丸みが形成される。こ
のように、リブ１７の頂上端部に丸みが形成されると、
丸みのない場合に比べてこの部分の強度が大きくなり、
欠け落ちるようなことがなくなる。

【００３０】リブ材料層を形成するリブペーストは、少
なくともガラスフリットを有する無機成分と焼成により
除去される樹脂成分とからなる。

【００３１】リブペーストを構成するガラスフリットと
しては、その軟化点が４００〜６００℃であり、熱膨張
係数（α₃₀₀ ）が６０〜９５×１０^-7／℃のものを使用
する。軟化点が６００℃を越えるガラスフリットを使用
すると焼成温度を高くする必要があり、その積層対象に
よっては熱変形したりするので好ましくなく、また軟化
点が４００℃より低いガラスフリットを使用すると樹脂
等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中
に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨
張係数が上記の範囲外であると、ガラス基板の熱膨張係
数との差が大きく、歪等を生じるので好ましくない。ガ
ラス転移温度は３５０〜５００℃のものを使用する。

【００３２】リブペーストを構成するガラスフリットの
具体的なものとしては、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂ −Ｂ₂ Ｏ
₃ 系、Ｂｉ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系、ＺｎＯ−Ｂ
₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ −アルカリ土類金属酸化物系、Ｂｉ₂
Ｏ₃ −ＺｎＯ−Ｂ₂ Ｏ₃ 系が挙げられる。これらのガラ
スフリットで、平均粒径が０．１〜１０μｍ、好ましく
は０．５〜５μｍのものが使用される。

【００３３】また、リブペーストには、無機成分とし
て、上記のガラスフリットの他に無機フィラーを加え
る。さらに無機顔料を加えてもよい。

【００３４】リブペーストの無機成分としての無機フィ
ラーは、焼成に際しての流延防止、緻密性向上を目的と
するもので、ガラスフリットより軟化点が高いものであ
り、本発明では、例えば、チタニア、アルミナ、ジルコ
ニア、シリカ、酸化スズ、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＲｕＯ等が
挙げられ、またアンチモンドープ酸化スズなどの不純物
をドープした上記酸化物が用いられる。これらのうち平
均粒径が０．０１〜５μｍで、形状としては球状、不定
形、塊状、針状、棒状のものが使用される。無機フィラ
ーの使用割合は、ガラスフリット１００重量部に対して
無機フィラー５〜５０重量部とするとよい。

【００３５】リブペーストの無機成分としての無機顔料
は、外光反射を低減し、実用上のコントラストを向上さ
せるために必要に応じて添加されるものであり、暗色に
する場合には、耐火性の黒色顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−
Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等の複合酸化物が挙げられる。ま
た、耐火性の白色顔料としては、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。使
用する無機顔料の平均粒径は０．０１〜５μｍが好まし
い。

【００３６】リブペーストを構成する樹脂成分として
は、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、メチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロー
ス誘導体、ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等の
ポリエステル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢
酸、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルメタク
リレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキ
シルメタクリレート、２−ヘキシルアクリレート、ラウ
リルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリ
ルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ドデシル
メタクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタ
クリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリ
レート、オクチルアクリレート、セチルメタクリレー
ト、セチルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニ
ルアクリレート、デシルメタクリレート、デシルアクリ
レート、シクロシキシルメタクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチル
アミノエチルメタクリレート、２−メトキシアクリレー
ト、２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、イソプロ
ピルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート、ｔ−ブチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
クリルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニル
トルエン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のモノマーか
らなるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された
２種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アク
リル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹
脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が
例示される。

【００３７】リブペーストの溶剤としては、α−、β
−、γ−テルピネオールのようなテルペン類、エチレン
グリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコー
ルジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルア
セテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルア
セテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエー
テルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキル
エーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテ
ート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセ
テート類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、２−エチルヘキサノール、１−ブトキシ−２−プロ
パノール等のアルコール類等が例示され、これらを単独
または２種類以上を混合して使用してもよい。

【００３８】さらに、リブペーストには、可塑剤、沈降
防止剤、分散剤、消泡剤、染料、シランカップリング
剤、モノマー開始剤、増感剤、紫外線吸収剤等を必要に
応じて適宜使用することができる。

【００３９】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を詳細に説明す
る。図１に示したようなストライプ構造のリブを持つ背
面板を作製し、またそれを用いてパネル化を行った。

【００４０】（実施例１）まず、ガラス基板の上にアド
レス電極とそれを覆って誘電体層を形成し、さらにその
上に下記組成のリブペーストをダイコーターで一括コー
ティングし、１８０℃で３０分間乾燥して、膜厚１７０
μｍのリブ材料層を形成した。なお、下記組成における
ガラスフリットは、ＺｎＯ、Ｂ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、アル
カリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物を含むもの
で、ガラス転移点：４６０℃、軟化点：５５６℃、熱膨
張係数：８０×１０^-7／℃であり、リブペーストは下記
の各成分を３本ロールで混練することで作製した。

【００４１】 ＜リブペーストの組成＞ ・ガラスフリット １００重量部 ・アルミナ（大明化学工業製「タイミクロンＴＭ−ＤＡＲ」）１５重量部 ・エチルセルロース ３重量部 ・ターピネオール １５重量部 ・ブチルカルビトールアセテート １５重量部

【００４２】次に、ベタ膜状のリブ形成材料層の上に下
記組成のブラストマスク形成用インキを用いてスクリー
ン印刷によりパターニングした。ここでは、幅：１００
μｍ、ピッチ：３６０μｍのラインパターンを有するス
クリーン版を使用し、基板とスクリーン版とのギャッ
プ：２．５ｍｍ、スクレーパー速度：３０ｍｍ／ｓｅ
ｃ、スキージ速度：１０ｍｍ／ｓｅｃの条件で印刷し
た。なお、下記組成におけるリブフリットは、Ｐｂ系ガ
ラスとＢｉ系ガラスの混合物７０部とアルミナ３０部か
らなるガラスフリットで、軟化点：５７０℃、ガラス転
移点：４８５℃、熱膨張係数（α₃₀₀ ）：８０×１０^-7
／℃であり、ブラストマスク形成用インキは下記の各成
分を混合、攪拌、分散することで作製した。得られたイ
ンキ組成物の粘度は、回転粘度計によるシェアレート
０．１Ｓ^-1にて４５００００ｃｐｓ、シェアレート１０
０Ｓ^-1にて１５０００ｃｐｓであった。

【００４３】 ＜ブラストマスク形成用インキの組成＞ ・n-フ゛チルメタクリレート／ヒト゛ロキシエチルヘキシルメタクリレート 共重合体（８／２） ３５重量部 ・ベンジルブチルフタレート ４０重量部 ・リブフリット ２０重量部 ・シリカ（中心粒径０．０５μｍ） ５重量部 ・消泡剤（ジメチルポリシロキサン） １重量部

【００４４】次いで、サンドブラスト加工を行うため、
基板を多数のローラ上を移動させてブラスト加工室内に
搬入した。そして、基板におけるサンドブラストマスク
側に向けて噴射ノズルから研削材を噴射した。本実施例
では、溶融アルミナ（フジミインコーポレーテッド製
「溶融アルミナＡ−＃８００」）を研削材として、噴射
圧１ｋｇ／ｃｍ² でサンドブラスト加工を行った。

【００４５】サンドブラスト加工後、ピーク温度５７５
℃、保持時間２０分、全焼成時間３時間で焼成を行った
ところ、ストライプ構造のリブが形成された。リブのサ
イズは、焼成前において、頂部幅が１０５μｍ、底部幅
が１５０μｍ、高さが１７０μｍであり、焼成後では、
頂部幅が７０μｍ、底部幅が１０５μｍ、高さが１２０
μｍであった。

【００４６】このリブまでを形成した後、スクリーン印
刷機によりセル空間への蛍光体ペーストの充填を行っ
た。具体的には、緑色の発光色の蛍光体を含むペースト
（蛍光体：化成オプトニクス社製「Ｐ１−Ｇ１Ｓ」３５
ｗｔ％、樹脂固形分６．８ｗｔ％、溶剤５８．２ｗｔ
％）を所定のセル空間に充填し、１２０℃で３０分間乾
燥させた。同様に青色の発光色の蛍光体を含むペースト
（蛍光体：化成オプトニクス社製「ＫＸ−５０１Ａ」２
７ｗｔ％、樹脂固形分７．８ｗｔ％、溶剤６５．２ｗｔ
％）、赤色の発光色の蛍光体を含むペースト（蛍光体：
化成オプトニクス社製「ＫＸ−５０４Ａ」３５ｗｔ％、
樹脂固形分４．１ｗｔ％、溶剤５７．９ｗｔ％）を、そ
れぞれ所定のリブ空間に充填し、同様に乾燥させた。こ
のようにして蛍光体ペーストの充填工程を行った後、最
後に焼成工程を経てセル空間に蛍光面を形成した。

【００４７】上記の如くセル空間に蛍光面を形成した背
面板に対し、別途作製した前面板を貼り合わせることに
より、ＲＧＢの３原色が視認される面放電型のＡＣ型カ
ラーＰＤＰを作製した。パネル化したＰＤＰを点灯した
ところ、特に異常放電もなく品質は良好であった。

【００４８】

【発明の効果】本発明のブラストマスク形成用インキ
は、サンドブラスト法でＰＤＰのリブを形成するに際
し、皮膜型のブラストマスクを形成することができる。
そして、剥離工程を必要とせず、リブ材料のリブとなる
部分の頂上角部が欠け落ちて形状不良を生じることがな
く、歩留りを著しく向上させることができる。さらに、
ブラストマスクの形成工程でフォトリソグラフィー法を
用いないので、工程を著しく簡略化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。

【図２】従来のサンドブラスト法で行うリブ形成方法に
おけるリブの剥離工程を示す説明図である。

【図３】本発明のブラストマスク形成用インキを用いた
リブ形成法を説明するための工程図である。

【図４】皮膜形成性のブラストマスクを介してサンドブ
ラスト処理を行って得たリブを説明するための断面図で
ある。

【図５】図４のリブを焼成した後の形状を説明するため
の断面図である。

【符号の説明】

１，２ ガラス基板 ３ 障壁 ４ 維持電極 ５ バス電極 ６ 誘電体槽 ７ 保護槽 ８ アドレス電極 ９ 誘電体槽 １０ 蛍光体 １１ ガラス基板 １２ 電極 １３ 誘電体層 １４ リブ材料層 １５ ブラストマスク １６ ノズル １７ リブ

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J039 AB02 AD01 AD07 AD10 AD14 AD23 AE04 AE06 AE11 BA06 BA13 BA16 BA21 BA25 BA31 BA32 BA33 BA35 BA39 BE01 BE12 BE13 CA07 EA04 EA08 EA27 EA36 EA37 EA48 GA15 5C027 AA09 5C040 GF19 JA12 JA17 JA32 KA15 KB03 MA23 MA26

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルのリブをサ
   ンドブラスト法により形成する際のブラストマスクを形
   成するのに用いられるインキであって、粘度が回転粘度
   計によるシェアレート０．１Ｓ^-1にて３０００００ｃｐ
   ｓ以上であり、かつリブの焼成工程において焼失性を有
   することを特徴とするブラストマスク形成用インキ。
2. 【請求項２】 シェアレート０．１Ｓ^-1と１００Ｓ^-1の
   粘度比（η^(0.1) ／η⁽¹⁰⁰⁾ ）が１０以上であることを
   特徴とする請求項１に記載のブラストマスク形成用イン
   キ。
3. 【請求項３】 電離放射線硬化型である請求項１又２に
   記載のブラストマスク形成用インキ。
4. 【請求項４】 有機成分１００重量部に対して無機成分
   １〜６０重量部であるインキ組成物からなる請求項１〜
   ３のいずれかに記載のブラストマスク形成用インキ。
5. 【請求項５】 無機成分がガラスフリットからなる請求
   項４に記載のブラストマスク形成用インキ。
6. 【請求項６】 無機成分がガラスフリット、無機フィラ
   ー、着色顔料からなる請求項４に記載のブラストマスク
   形成用インキ。
7. 【請求項７】 無機成分の軟化点が下層リブの軟化点の
   ±２０℃の範囲内にある請求項４〜６のいずれかに記載
   のブラストマスク形成用インキ。
8. 【請求項８】 無機成分の平均粒径が０．０１〜５μｍ
   である請求項４〜７のいずれかに記載のブラストマスク
   形成用インキ。
9. 【請求項９】 インキ組成物の溶剤が有機成分中５０％
   以下である請求項４〜８のいずれかに記載のブラストマ
   スク形成用インキ。